JP2007012518A - ガス遮断器 - Google Patents
ガス遮断器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007012518A JP2007012518A JP2005193900A JP2005193900A JP2007012518A JP 2007012518 A JP2007012518 A JP 2007012518A JP 2005193900 A JP2005193900 A JP 2005193900A JP 2005193900 A JP2005193900 A JP 2005193900A JP 2007012518 A JP2007012518 A JP 2007012518A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- contact
- fixed
- gas
- fixed contact
- expansion chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Arc-Extinguishing Devices That Are Switches (AREA)
- Circuit Breakers (AREA)
Abstract
【課題】 遮断部の固定接触子と可動接触子の開離時に発生するアークを回転させる磁界が強くなる位置に環状磁石を配置する。
【解決手段】 一方の通電部に接続された固定接触子と、他方の通電部に接続され、固定接触子と接離する可動接触子と、固定接触子と可動接触子の接触部周囲に所定容積のガス空間を形成し、一端側が固定接触子の支持部に支持された膨張室と、中心部に可動接触子が挿通する貫通口を有し、膨張室の他端側に設けられた絶縁ノズルと、固定接触子と可動接触子が開離したときに発生するアークに直交する磁界を与える固定接触子の接触部外周に固定側環状磁石を配置した。
【選択図】 図1
【解決手段】 一方の通電部に接続された固定接触子と、他方の通電部に接続され、固定接触子と接離する可動接触子と、固定接触子と可動接触子の接触部周囲に所定容積のガス空間を形成し、一端側が固定接触子の支持部に支持された膨張室と、中心部に可動接触子が挿通する貫通口を有し、膨張室の他端側に設けられた絶縁ノズルと、固定接触子と可動接触子が開離したときに発生するアークに直交する磁界を与える固定接触子の接触部外周に固定側環状磁石を配置した。
【選択図】 図1
Description
この発明は、電気回路の遮断時に発生するアークに直交する磁界を与えて接触子端部の周囲を周回させるアーク磁気駆動形の熱パッファ消弧方式のガス遮断器に関するものである。
熱パッファ消弧方式で、遮断時に発生するアークに直交する磁界を与えて接触子端部の周囲を周回させるアーク磁気駆動形を併用した熱パッファ消弧方式のガス遮断器としては、例えば、特許文献1に開示されている。
特許文献1のガス遮断器の遮断部は、開極状態を示した特許文献1の第1図に示されているように、第1の端子板に固定された固定接触子と、第2の端子板に設けられた集電子に摺動接触して固定接触子と接離する可動接触子と、固定接触子と可動接触子の接触部周囲にガス貯留室を形成する固定外筒と、この固定外筒の端部に装着され、固定外筒側の内面が円錐状に形成され、中心部に可動接触子が挿通する貫通口を有する絶縁ノズルと、絶縁ノズルの外周に、軸方向に着磁された環状磁石を備えた構成である。環状磁石は固定接触子と可動接触子が開離したときに発生するアークに直交する磁界を与える。
この構成では、固定接触子と可動接触子が開離したときに発生したアークが、環状磁石による磁界により駆動されて接触子端部を周回して貯留室内ガスの加熱を促進し、加熱されたガスは、可動接触子の開離状態で絶縁ノズルの開口部から噴出してアークを消弧するものである。
特許文献1のガス遮断器の遮断部は、開極状態を示した特許文献1の第1図に示されているように、第1の端子板に固定された固定接触子と、第2の端子板に設けられた集電子に摺動接触して固定接触子と接離する可動接触子と、固定接触子と可動接触子の接触部周囲にガス貯留室を形成する固定外筒と、この固定外筒の端部に装着され、固定外筒側の内面が円錐状に形成され、中心部に可動接触子が挿通する貫通口を有する絶縁ノズルと、絶縁ノズルの外周に、軸方向に着磁された環状磁石を備えた構成である。環状磁石は固定接触子と可動接触子が開離したときに発生するアークに直交する磁界を与える。
この構成では、固定接触子と可動接触子が開離したときに発生したアークが、環状磁石による磁界により駆動されて接触子端部を周回して貯留室内ガスの加熱を促進し、加熱されたガスは、可動接触子の開離状態で絶縁ノズルの開口部から噴出してアークを消弧するものである。
この特許文献1の構成では、環状磁石がつくる磁界により接触子の開離時にアークが固定接触子端部を周回することにより、アークは引き伸ばされてガスが加熱され易くなり、小電流遮断時にも必要な消弧作用が得られるというものである。
特許文献1に開示された磁気駆動形のガス遮断器では、環状磁石が絶縁ノズルの外周に配置され、固定接触子の端部に対して離れた位置にあり、必要な磁界の強さを得るためには、強力な磁力を有する環状磁石が必要である。
しかし、磁石材料の磁力には限度があり、必要な磁界の強さを得るためには寸法を大きくする必要があるが、装着部分のスペースには限度があり、アーク発生部に所望の磁界の強さが与えられる環状磁石が使用できないという問題点があった。
また、所望の磁界の強さが得られないということは、接触子の開離時に発生するアークが接触子の端部に停滞し易く、接触子の損耗が早くなるという問題点もあった。
しかし、磁石材料の磁力には限度があり、必要な磁界の強さを得るためには寸法を大きくする必要があるが、装着部分のスペースには限度があり、アーク発生部に所望の磁界の強さが与えられる環状磁石が使用できないという問題点があった。
また、所望の磁界の強さが得られないということは、接触子の開離時に発生するアークが接触子の端部に停滞し易く、接触子の損耗が早くなるという問題点もあった。
この発明は、上記問題点を解消するためになされたものであり、環状磁石を固定接触子と可動接触子の開離時に発生するアークの回転に必要な磁界の強さが与えられる位置に配置した構成とし、消弧性能の確保と接触子の損耗が少ない遮断部を備えたガス遮断器を提供することを目的とする。
この発明にかかるガス遮断器は、一方の通電部に接続された固定接触子と、他方の通電部に接続され、固定接触子と接離する可動接触子と、固定接触子と可動接触子の接触部周囲に所定容積のガス空間を形成し、一端側が固定接触子の支持部に支持された膨張室と、中心部に可動接触子が挿通する貫通口を有し、膨張室の他端側に設けられた絶縁ノズルと、固定接触子と可動接触子が開離したときに発生するアークに直交する磁界を与える固定接触子の接触部外周に配置された固定側環状磁石とからなる遮断部を備えたものである。
固定接触子と可動接触子の接触部周囲に所定容積のガス空間を形成する膨張室を配置し、固定接触子と可動接触子とが開離したときに発生するアークに対し、直交する磁界を与える固定側環状磁石を固定接触子の接触部外周に配置したことにより、従来の絶縁ノズルの外周に環状磁石を配置する構成と比較すると、アーク発生部に強い磁界を与えることができ、固定接触子と可動接触子が開離したときに発生するアークは、固定側環状磁石がつくる強い磁界により、固定側接触子の先端部で周回する回転速度が早くなり、膨張室内部のガスを効率よく加熱し、接触子開離時の絶縁ノズル貫通口からのガス噴出量が多くなって良好な消弧性能が得られる。また、アークが早く周転することにより、固定接触子の端部で滞留することがなくなり、固定接触子および可動接触子の損耗が抑制される。
実施の形態1.
図1は、実施の形態1の遮断器の遮断部の構成を示す断面図であり、固定接触子と可動接触子が開離した状態を示している。
この遮断部10の構成は、遮断器の一方の端子(図示しない)に接続された固定接触子11と、他方の端子に接続され、固定接触子11と接離する可動接触子12と、固定接触子11と可動接触子12の接触部周囲に所定容積のガス空間Gを形成し、一端側が固定接触子11の支持部に支持された膨張室13と、中心部に上記可動接触子12が挿通する貫通口14aを有し、膨張室13の他端側に設けられた絶縁ノズル14と、固定接触子11の接触部外周に配置され、固定接触子11と可動接触子12とが開離したときに発生するアークAに対し、直交する磁界を与える固定側環状磁石17を備えている。
図1は、実施の形態1の遮断器の遮断部の構成を示す断面図であり、固定接触子と可動接触子が開離した状態を示している。
この遮断部10の構成は、遮断器の一方の端子(図示しない)に接続された固定接触子11と、他方の端子に接続され、固定接触子11と接離する可動接触子12と、固定接触子11と可動接触子12の接触部周囲に所定容積のガス空間Gを形成し、一端側が固定接触子11の支持部に支持された膨張室13と、中心部に上記可動接触子12が挿通する貫通口14aを有し、膨張室13の他端側に設けられた絶縁ノズル14と、固定接触子11の接触部外周に配置され、固定接触子11と可動接触子12とが開離したときに発生するアークAに対し、直交する磁界を与える固定側環状磁石17を備えている。
図1のように固定接触子11と可動接触子12の開離時に発生するアークAに対し、磁界を与える固定側環状磁石17がアーク発生部に対して最も近い位置の固定接触子11の接触部の外周に配置したことにより、従来の絶縁ノズルの外周に環状磁石を配置する構成と比較すると、アーク発生部に強い磁界を与えることができる。
固定接触子11の接触部外周に配置された固定側環状磁石17は、破線で示したように固定接触子11の先端部に内径部から外径部に向う放射方向の強力な磁界を形成する。固定接触子11と可動接触子12が閉極状態から開離すると、固定接触子11と可動接触子12との間に発生したアークAが、固定側環状磁石17がつくる磁界により、固定接触子11の端部を周回する駆動力が与えられて固定接触子11の先端部を周回し、固定接触子11と可動接触子12の開離距離が大きくなるにしたがってアークAが外周側へ引き伸ばされ、アークAの熱エネルギーがガス空間Gのガスの加熱を促進する。
開離動作中で、可動接触子12が絶縁ノズル14の貫通口14aを閉塞している間は、ガス空間Gのガス圧力が上昇し、可動接触子12がさらに開離して、可動接触子12が絶縁ノズル14の貫通口14aから抜け出すと、ガス空間G内の高圧になったガスが絶縁ノズル14の貫通口14aから噴出し、アークAが吹き消されて、開極動作が完了する。
開離動作中で、可動接触子12が絶縁ノズル14の貫通口14aを閉塞している間は、ガス空間Gのガス圧力が上昇し、可動接触子12がさらに開離して、可動接触子12が絶縁ノズル14の貫通口14aから抜け出すと、ガス空間G内の高圧になったガスが絶縁ノズル14の貫通口14aから噴出し、アークAが吹き消されて、開極動作が完了する。
膨張室13の内容積は遮断容量が確保できる容積とし、固定接触子11の先端部とこの先端部に対向する絶縁ノズル14の内面との離隔距離Lは、固定接触子11と可動接触子12の開離時に発生するアークAの熱エネルギーが、膨張室13内のガスを効率よく加熱し、可動接触子12が開離して絶縁ノズル14の貫通口14aが開口したときには、加熱されたガスが勢いよく噴出されるように設定する必要がある。
ここで、固定接触子11の先端部と、この先端部に対向する絶縁ノズル14の内面との離隔距離Lと、絶縁ノズル14の貫通口14aの断面積Szに対するガス空間Gのガスが貫通口14aから噴出する通路となる部分の断面積Sgの断面積比Sg/Szとの関係を説明する。
絶縁ノズル14の貫通口14a内径をDとし、固定接触子11の先端部と絶縁ノズル14の固定接触子11の先端部に対向する内面との離隔距離をLとすると、絶縁ノズル14の噴出口14aの貫通口14aの断面積Szは(式1)で与えられ、ガス空間G内のガスが噴出口14aから噴出する通路となる噴出通路断面積Sgは、(式2)で与えられる。
Sz=(π/4)×D2・・・・・・・・・・・・・・・・・・・(式1)
Sg=π×D×L・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・(式2)
絶縁ノズル14の噴出口14aの断面積Szとガス空間G内のガスが噴出口14aから噴出する通路となる噴出通路断面積Sgの関係を求めると(式3)の関係となる。
Sg/Sz=(π×D×L)/{(π/4)×D2}
=L/(D/4)・・・・・・・・・・・・・・・・・(式3)
(式3)を固定接触子11の先端部と絶縁ノズル14の固定接触子11の先端部に対向する内面との離隔距離Lを求めるように変形すると(式4)のようになる。
L=(D/4)×(Sg/Sz)・・・・・・・・・・・・・・・(式4)
絶縁ノズル14の貫通口14a内径をDとし、固定接触子11の先端部と絶縁ノズル14の固定接触子11の先端部に対向する内面との離隔距離をLとすると、絶縁ノズル14の噴出口14aの貫通口14aの断面積Szは(式1)で与えられ、ガス空間G内のガスが噴出口14aから噴出する通路となる噴出通路断面積Sgは、(式2)で与えられる。
Sz=(π/4)×D2・・・・・・・・・・・・・・・・・・・(式1)
Sg=π×D×L・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・(式2)
絶縁ノズル14の噴出口14aの断面積Szとガス空間G内のガスが噴出口14aから噴出する通路となる噴出通路断面積Sgの関係を求めると(式3)の関係となる。
Sg/Sz=(π×D×L)/{(π/4)×D2}
=L/(D/4)・・・・・・・・・・・・・・・・・(式3)
(式3)を固定接触子11の先端部と絶縁ノズル14の固定接触子11の先端部に対向する内面との離隔距離Lを求めるように変形すると(式4)のようになる。
L=(D/4)×(Sg/Sz)・・・・・・・・・・・・・・・(式4)
図2は膨張室13のガス空間Gの容積を定格遮断容量が得られる容量とし、その場合の離隔距離Lを変化させて、絶縁ノズル14の貫通口14aの断面積Szに対するガス空間Gのガスが貫通口14aから噴出する通路となる断面積Sgの断面積比Sg/Szを変化させて遮断容量の関係を調査した結果である。
図2は縦軸を遮断容量とし、横軸を固定接触子11の先端部と、これに対向する絶縁ノズル14の内面との離隔距離Lとし、Lを絶縁ノズルの貫通口14aの内径Dに対する倍率で表現した目盛りと、絶縁ノズル14の貫通口14aの断面積Szに対するガス空間Gのガスが絶縁ノズル14の貫通口から噴出する通路となる部分の断面積Sgの断面積比Sg/Szとした目盛りを並記している。
図2は縦軸を遮断容量とし、横軸を固定接触子11の先端部と、これに対向する絶縁ノズル14の内面との離隔距離Lとし、Lを絶縁ノズルの貫通口14aの内径Dに対する倍率で表現した目盛りと、絶縁ノズル14の貫通口14aの断面積Szに対するガス空間Gのガスが絶縁ノズル14の貫通口から噴出する通路となる部分の断面積Sgの断面積比Sg/Szとした目盛りを並記している。
この結果、絶縁ノズル14の貫通口14aの断面積Szに対するガス空間Gのガスが貫通口14aから噴出する通路となる部分の断面積Sgの断面積比Sg/Szが2倍程度になると定格遮断容量が得られる結果となっている。
断面積比Sg/Szが2倍となるのは、上記(式4)から、離隔距離Lを絶縁ノズル14の貫通口14aの内径Dの少なくとも1/2とすることで確保されることを示している。
断面積比Sg/Szが2倍となるのは、上記(式4)から、離隔距離Lを絶縁ノズル14の貫通口14aの内径Dの少なくとも1/2とすることで確保されることを示している。
以上のように、図1の遮断部10は、膨張室13の内容積を遮断容量に適する容積とし、固定側環状磁石17を固定接触子11の先端部の外周に配置し、固定接触子11の先端部と、これに対向する絶縁ノズル14の内面との離隔距離Lは、貫通口14aの内径Dの少なくとも1/2または加熱されたガスが噴出する噴出通路断面積Sgを貫通口14aの断面積Szに対して少なくとも2倍とすることで、固定接触子11と可動接触子12の開離時に発生したアークAは、固定側環状磁石17による固定側接触子11の先端部の磁界により、固定側接触子11の先端部を周回して膨張室13内のガスが効率良く加熱されて圧力が上昇し、開極時の貫通口14aからガス噴出量が適度に多くなって良好な消弧性能が得られる。
また、アークが回転することにより、固定接触子11および可動接触子12の損耗が抑制される。
また、アークが回転することにより、固定接触子11および可動接触子12の損耗が抑制される。
実施の形態2.
実施の形態1では、遮断部10の固定接触子11の接触部外周に固定側環状磁石17を配置した構成としたが、この実施の形態2は、可動接触子12の先端接触部の内部にも軸方向に着磁された可動側磁石18を埋設した構成である。その構成を図3に示す。
図3の遮断部20は、可動接触子12の先端接触部の内部に可動側磁石18を埋設した以外は、実施の形態1の図1と同一であるので、構成の具体的な説明は省略する。
実施の形態1では、遮断部10の固定接触子11の接触部外周に固定側環状磁石17を配置した構成としたが、この実施の形態2は、可動接触子12の先端接触部の内部にも軸方向に着磁された可動側磁石18を埋設した構成である。その構成を図3に示す。
図3の遮断部20は、可動接触子12の先端接触部の内部に可動側磁石18を埋設した以外は、実施の形態1の図1と同一であるので、構成の具体的な説明は省略する。
図3のように遮断部20を構成すると、固定接触子11と可動接触子12が開離したときに発生するアークAにさらに強い磁界を与えることができ、アークAは可動接触子12の先端部を周回する回転力が与えられて高速で回転し、特定点に滞留することがなくなり可動接触子12の損耗も抑制することができる。
実施の形態3.
実施の形態1の遮断部10および実施の形態2の遮断部20では、固定接触子11接触部の外周に配置した固定側環状磁石17は軸方向に着磁した場合であったが、実施の形態3は、実施の形態1の固定側環状磁石を径方向に着磁した構成である。図4に実施の形態3の遮断部30の構成を示す。
図4の構成は、固定接触子11の外周先端部に径方向に着磁した固定側環状磁石37を配置した以外は、実施の形態1の図1と同一であるので具体的な説明は省略する。
実施の形態1の遮断部10および実施の形態2の遮断部20では、固定接触子11接触部の外周に配置した固定側環状磁石17は軸方向に着磁した場合であったが、実施の形態3は、実施の形態1の固定側環状磁石を径方向に着磁した構成である。図4に実施の形態3の遮断部30の構成を示す。
図4の構成は、固定接触子11の外周先端部に径方向に着磁した固定側環状磁石37を配置した以外は、実施の形態1の図1と同一であるので具体的な説明は省略する。
固定接触子11の先端部外周に径方向に着磁した固定側環状磁石37を配置すると、図4に示すように、固定側環状磁石37による磁界は、内径側から外径部に向かって分布するので、磁極からでる磁束の1/2が必ず固定側接触子11の先端部に分布するので、軸方向に着磁した場合に比較して固定接触子11の先端部の磁界が強くすることができる。
遮断時の動作およびアークの挙動については、実施の形態1と同一であり、同様の効果が得られる。
遮断時の動作およびアークの挙動については、実施の形態1と同一であり、同様の効果が得られる。
実施の形態4.
実施の形態1〜実施の形態4では、膨張室13の形状を円筒形とした場合を示したが、固定側接触子11の先端部に固定側環状磁石17または固定側環状磁石37を配置しているので、膨張室13内ガス空間Gの支持側は、絶縁ノズル14に対して遠く、アークAによって加熱されないので、消弧作用にあまり寄与しない。
実施の形態4は、膨張室の形状を固定接触子11の先端部の周囲の容積を大きくしてアークAにより加熱され易くした実施の形態である。図5は実施の形態4の遮断部40の構成図である。
図5の遮断部40の構成は、固定接触子11、可動接触子12、絶縁ノズル14、固定側環状磁石17は、実施の形態1の図1と同一である。
この構成では、膨張室43を固定接触子11の先端部と絶縁ノズル14の固定接触子11の先端部と対向する内面との間のガス空間GのアークAにより加熱される部分(図中の間隔の広いハッチングを施した部分)の容積が大きくなるように形成している。
実施の形態1〜実施の形態4では、膨張室13の形状を円筒形とした場合を示したが、固定側接触子11の先端部に固定側環状磁石17または固定側環状磁石37を配置しているので、膨張室13内ガス空間Gの支持側は、絶縁ノズル14に対して遠く、アークAによって加熱されないので、消弧作用にあまり寄与しない。
実施の形態4は、膨張室の形状を固定接触子11の先端部の周囲の容積を大きくしてアークAにより加熱され易くした実施の形態である。図5は実施の形態4の遮断部40の構成図である。
図5の遮断部40の構成は、固定接触子11、可動接触子12、絶縁ノズル14、固定側環状磁石17は、実施の形態1の図1と同一である。
この構成では、膨張室43を固定接触子11の先端部と絶縁ノズル14の固定接触子11の先端部と対向する内面との間のガス空間GのアークAにより加熱される部分(図中の間隔の広いハッチングを施した部分)の容積が大きくなるように形成している。
この図5の構成では、絶縁ノズル14の固定接触子11に対向する内面にアブレーション材49も添着している。このアブレーション材49は、発生したアークAにより加熱されると消弧性ガスのフッ素を放出するものであり、例えばフッ素系ポリマーで構成されているものであり、アークAを発生する部分の内壁にアブレーション材を添着することで消弧性能の向上に寄与する。
膨張室43内部のガス空間Gの全ガス空間容積をVoとし、固定接触子11の先端部と絶縁ノズル14の固定接触子11の先端部と対向する内面との間のアーク発生部ガス空間容積をVgとし、Voに対するVgの容積比Vg/Voを変化させて遮断部40の遮断容量を調査した結果、図6に示すようになっている。その結果は、膨張室43内の全ガス空間容積Voに対してアークAが発生するガス空間容積Vgを60%以上となるようにガス空間を形成することで、ガス空間Gが効率よく遮断容量の向上に寄与することを示すものである。
この構成においても、固定側環状磁石17に換え、実施の形態3で使用した径方向に着磁された固定側環状磁石37を使用すると、固定側接触子11の先端部の磁界が強くなってアークAの周回が早くなり、膨張室43内のガスが加熱され易くなる。
実施の形態5.
実施の形態4では、膨張室43内の全ガス空間容積Voに対するアークAが発生する部分の空間容積Vgを60%以上とする構成としたが、固定接触子11の支持部周囲の空間はアークAの消弧に寄与していない。実施の形態5は、膨張室43内のガス空間Gの全容積がアークAの消弧作用に寄与するようにしたものである。
図7は実施の形態5の遮断部50の構成図である。
図7の遮断部50の構成は、可動接触子12、絶縁ノズル14、固定側環状磁石17、膨張室43は、実施の形態4の図5と同一である。
この構成では、固定接触子51の構成を実施の形態4の図5の固定接触子11の支持部の近くに、固定接触子51の内径部と外径部との間をガスが自由に流通できるように流通口51aを設けたものである。その他の構成は実施の形態4の図5と同一であり、詳細な構造説明は省略する。
実施の形態4では、膨張室43内の全ガス空間容積Voに対するアークAが発生する部分の空間容積Vgを60%以上とする構成としたが、固定接触子11の支持部周囲の空間はアークAの消弧に寄与していない。実施の形態5は、膨張室43内のガス空間Gの全容積がアークAの消弧作用に寄与するようにしたものである。
図7は実施の形態5の遮断部50の構成図である。
図7の遮断部50の構成は、可動接触子12、絶縁ノズル14、固定側環状磁石17、膨張室43は、実施の形態4の図5と同一である。
この構成では、固定接触子51の構成を実施の形態4の図5の固定接触子11の支持部の近くに、固定接触子51の内径部と外径部との間をガスが自由に流通できるように流通口51aを設けたものである。その他の構成は実施の形態4の図5と同一であり、詳細な構造説明は省略する。
この図7の構成では、固定接触子51と可動接触子12の開離時のアークAにより、周囲のガスが加熱されて圧力が上昇した場合に、高圧になったガスが固定接触子51の内径部から固定接触子51の外周に流出して、固定接触子51の外周部の圧力も上昇し、可動接触子12がさらに開離して絶縁ノズル14の貫通口14aから抜けると、固定接触子51先端部周囲の高圧になったガスとともに、膨張室43の固定接触子51の支持部外周のガスも絶縁ノズル14の貫通口14aから噴出することになり、実質的にガス空間の容積を大きくした場合と同様の効果を奏する。
したがって、必要とするガス空間の容積を確保する場合に、固定接触子51の外周部も消弧に寄与するガス空間として利用できるので、膨張室43の容積を縮小することができる。
したがって、必要とするガス空間の容積を確保する場合に、固定接触子51の外周部も消弧に寄与するガス空間として利用できるので、膨張室43の容積を縮小することができる。
この構成においても、固定側環状磁石17に換え、実施の形態3で使用した径方向に着磁された固定側環状磁石37を使用すると、固定側接触子51の先端部の磁界が強くなってアークAの周回が早くなり、膨張室43内のガスが加熱され易くなる。
実施の形態6.
実施の形態1〜実施の形態5では、膨張室内のガス空間を一定の容積に設定しているので、遮断電流が小電流から大電流まで広範囲に対応する必要があり、大電流を対象に設定すると、小電流遮断時のアークエネルギーが不足する場合があり、中電流を対象に設定すると、大電流遮断時に膨張室内容積が不足して膨張室内ガス圧力が高くなりすぎることが懸念される。
この実施の形態6では、膨張室内のガス空間容積を、中程度以下の電流の遮断時に消弧能力が高くなるように設定し、大電流域の遮断には所定の圧力で膨張室内ガスが膨張室外部に放出するように構成したものである。
図8は実施の形態6の遮断部60の構成図である。
図8の遮断部60の構成は、可動接触子12、絶縁ノズル14、固定側環状磁石17、膨張室43は、実施の形態4の図5と同一である。
実施の形態1〜実施の形態5では、膨張室内のガス空間を一定の容積に設定しているので、遮断電流が小電流から大電流まで広範囲に対応する必要があり、大電流を対象に設定すると、小電流遮断時のアークエネルギーが不足する場合があり、中電流を対象に設定すると、大電流遮断時に膨張室内容積が不足して膨張室内ガス圧力が高くなりすぎることが懸念される。
この実施の形態6では、膨張室内のガス空間容積を、中程度以下の電流の遮断時に消弧能力が高くなるように設定し、大電流域の遮断には所定の圧力で膨張室内ガスが膨張室外部に放出するように構成したものである。
図8は実施の形態6の遮断部60の構成図である。
図8の遮断部60の構成は、可動接触子12、絶縁ノズル14、固定側環状磁石17、膨張室43は、実施の形態4の図5と同一である。
この構成では、固定接触子61の構成を実施の形態4の図5の固定接触子11の内径部が膨張室43の外部に開放した構成とし、その部分に加圧ガス放出弁69を設けたものである。加圧ガス放出弁69は、弁座69aと、この弁座69aを所定の圧力で押し付ける押圧ばね69bと、弁座69a、押圧ばね69bを支持する支持部材69cで構成され、膨張室内のガスが所定の圧力を越えると弁座69aが開放して膨張室43内ガスを放出し、所定の圧力以下になると閉止するように構成されている。
加圧ガス放出弁69は、膨張室43内ガス圧力が例えば2.5MPaとなったときに弁座69aが開放するように設定し、膨張室43内圧力が2.5MPaよりも低くなったときに閉じるように設定しておくと、大電流遮断時で膨張室43内の圧力が2.5MPaを越えたときに高圧力のガスは放出され、設定圧力以下になったときに閉じて、膨張室43内圧力が2.5MPaに抑えられる構成となる。
この構成において、膨張室43内のガス空間Gの容積を中電流領域の電流遮断に対して適正な膨張室43内のガス空間容積に設定しておくことで、中電流以下の領域と大電流領域の全領域において遮断性能が向上した遮断部を有する遮断器が構成できる。
この構成においても、固定側環状磁石17に換え、実施の形態3で使用した径方向に着磁された固定側環状磁石37を使用すると、固定側接触子61の先端部の磁界が強くなってアークAの周回が早くなり、膨張室43内のガスが加熱され易くなる。
10 遮断部、11 固定接触子、12 可動接触子、13 膨張室、
14 絶縁ノズル、17 固定側環状磁石、20 遮断部、28 可動側磁石、
30 遮断部、37 固定側環状磁石、40 遮断部、43 膨張室、
49 アブレーション材、50 遮断部、51 固定接触子、51a 流通口、
60 遮断部、61 固定接触子、69 加圧ガス放出弁。
14 絶縁ノズル、17 固定側環状磁石、20 遮断部、28 可動側磁石、
30 遮断部、37 固定側環状磁石、40 遮断部、43 膨張室、
49 アブレーション材、50 遮断部、51 固定接触子、51a 流通口、
60 遮断部、61 固定接触子、69 加圧ガス放出弁。
Claims (9)
- 一方の通電部に接続された固定接触子と、他方の通電部に接続され、上記固定接触子と接離する可動接触子と、上記固定接触子と上記可動接触子の接触部周囲に所定容積のガス空間を形成し、一端側が上記固定接触子の支持部に支持された膨張室と、中心部に上記可動接触子が挿通する貫通口を有し、上記膨張室の他端側に設けられた絶縁ノズルと、上記固定接触子と上記可動接触子が開離したときに発生するアークに直交する磁界を与える上記固定接触子の接触部外周に配置された固定側環状磁石とからなる遮断部を備えたことを特徴とするガス遮断器。
- 一方の通電部に接続された固定接触子と、他方の通電部に接続され、上記固定接触子と接離する可動接触子と、上記固定接触子と上記可動接触子の接触部周囲に所定容積のガス空間を形成し、一端側が上記固定接触子の支持部に支持された膨張室と、中心部に上記可動接触子が挿通する貫通口を有し、上記膨張室の他端側に設けられた絶縁ノズルと、上記固定接触子と上記可動接触子が開離したときに発生するアークに直交する磁界を与える上記固定接触子の接触部外周に配置された固定側環状磁石と、上記可動接触子の接触部の内部に埋設され、軸方向に着磁された可動側磁石とを備えたことを特徴とするガス遮断器。
- 上記固定側環状磁石は軸方向に着磁されていることを特徴とする請求項1または請求項2記載のガス遮断器。
- 上記固定側環状磁石は径方向に着磁されていることを特徴とする請求項1または請求項2記載のガス遮断器。
- 上記固定接触子の先端部と上記絶縁ノズルの上記固定接触子先端部に対向する内面との間の間隔は、上記可動接触子外径の1/2よりも広く設定されていることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれかに記載のガス遮断器。
- 上記膨張室内の上記固定接触子先端部と、上記絶縁ノズルの上記固定接触子先端部に対向する内面との間のガス空間容積は、上記膨張室内全容積の少なくとも60%が確保されていることを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれかに記載のガス遮断器。
- 上記絶縁ノズルの上記固定接触子に対向する内面に、アークが発生したときに消弧性ガスを放出するアブレーション材を添着したことを特徴とする請求項1〜請求項6いずれかに記載のガス遮断器。
- 上記固定接触子の上記膨張室支持部近傍に、上記固定接触子の内径部と外径部にガスが流通する流通口を設けたことを特徴とする請求項1〜請求項7のいずれかに記載のガス遮断器。
- 上記固定接触子の上記膨張室が支持された部分の内径部に、上記膨張室内のガスが所定の圧力を超えたときに、絶縁ガスを上記膨張室の外部に放出し、上記所定の圧力に低下したときに閉止する加熱ガス放出弁を設けたことを特徴とする請求項1〜請求項8いずれかに記載のガス遮断器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005193900A JP2007012518A (ja) | 2005-07-01 | 2005-07-01 | ガス遮断器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005193900A JP2007012518A (ja) | 2005-07-01 | 2005-07-01 | ガス遮断器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007012518A true JP2007012518A (ja) | 2007-01-18 |
Family
ID=37750715
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005193900A Pending JP2007012518A (ja) | 2005-07-01 | 2005-07-01 | ガス遮断器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007012518A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014174917A1 (ja) * | 2013-04-22 | 2014-10-30 | 株式会社日立製作所 | 開閉装置 |
JP2017027704A (ja) * | 2015-07-17 | 2017-02-02 | 日新電機株式会社 | ガス遮断器 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53117758A (en) * | 1977-03-24 | 1978-10-14 | Mitsubishi Electric Corp | Switch |
JPS53117785A (en) * | 1977-03-24 | 1978-10-14 | Mitsubishi Electric Corp | Switch |
JPS5763733A (en) * | 1980-10-01 | 1982-04-17 | Yaskawa Denki Seisakusho Kk | Gas sealed breaker |
JPH05298967A (ja) * | 1992-04-24 | 1993-11-12 | Mitsubishi Electric Corp | 開閉器 |
JPH0950742A (ja) * | 1995-08-08 | 1997-02-18 | Mitsubishi Electric Corp | 直流遮断装置 |
JP2000067717A (ja) * | 1998-08-19 | 2000-03-03 | Toshiba Corp | ガス遮断器 |
JP2003346611A (ja) * | 2002-05-23 | 2003-12-05 | Mitsubishi Electric Corp | ガス絶縁開閉器 |
-
2005
- 2005-07-01 JP JP2005193900A patent/JP2007012518A/ja active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53117758A (en) * | 1977-03-24 | 1978-10-14 | Mitsubishi Electric Corp | Switch |
JPS53117785A (en) * | 1977-03-24 | 1978-10-14 | Mitsubishi Electric Corp | Switch |
JPS5763733A (en) * | 1980-10-01 | 1982-04-17 | Yaskawa Denki Seisakusho Kk | Gas sealed breaker |
JPH05298967A (ja) * | 1992-04-24 | 1993-11-12 | Mitsubishi Electric Corp | 開閉器 |
JPH0950742A (ja) * | 1995-08-08 | 1997-02-18 | Mitsubishi Electric Corp | 直流遮断装置 |
JP2000067717A (ja) * | 1998-08-19 | 2000-03-03 | Toshiba Corp | ガス遮断器 |
JP2003346611A (ja) * | 2002-05-23 | 2003-12-05 | Mitsubishi Electric Corp | ガス絶縁開閉器 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014174917A1 (ja) * | 2013-04-22 | 2014-10-30 | 株式会社日立製作所 | 開閉装置 |
JP2014212088A (ja) * | 2013-04-22 | 2014-11-13 | 株式会社日立製作所 | 開閉装置 |
JP2017027704A (ja) * | 2015-07-17 | 2017-02-02 | 日新電機株式会社 | ガス遮断器 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4643634B2 (ja) | サーキット・ブレーカ | |
JP6478836B2 (ja) | ガス遮断器 | |
RU2665694C1 (ru) | Автоматическая дугогасительная камера для повышения эффекта теплового расширения | |
WO2014069195A1 (ja) | ガス遮断器 | |
JP2012069348A (ja) | ガス遮断器 | |
EP0483123B1 (en) | Switchgear | |
JP2007012518A (ja) | ガス遮断器 | |
JP2013164994A (ja) | ガス遮断器 | |
WO2013175565A1 (ja) | ガス遮断器 | |
CN108987152A (zh) | 一种灭弧室和断路器 | |
JP2012079601A (ja) | ガス遮断器 | |
JP2015002142A (ja) | ガス遮断器 | |
JP4621378B2 (ja) | 特にスイッチや回路遮断器等の電気的保護装置用の真空カートリッジ | |
JP2005332745A (ja) | ガス遮断器 | |
CN101238534A (zh) | 具有控制体的自吹断路器 | |
JP2010244742A (ja) | ガス遮断器 | |
JP2004039440A (ja) | ガス遮断器 | |
JP2015011911A (ja) | ガス遮断器 | |
JP2007141679A (ja) | ガス遮断器 | |
JP6334175B2 (ja) | ガス遮断器 | |
JP2015011942A (ja) | 電力用ガス遮断器 | |
JP6733369B2 (ja) | ガス遮断器 | |
JP6536248B2 (ja) | ガス遮断器 | |
JP2009054481A (ja) | ガス遮断器 | |
JP4818400B2 (ja) | 電力用ガス遮断器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080409 |
|
A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20091029 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20091124 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100406 |