JP2006343756A - 集積化検証および製造適応ツール - Google Patents
集積化検証および製造適応ツール Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006343756A JP2006343756A JP2006161662A JP2006161662A JP2006343756A JP 2006343756 A JP2006343756 A JP 2006343756A JP 2006161662 A JP2006161662 A JP 2006161662A JP 2006161662 A JP2006161662 A JP 2006161662A JP 2006343756 A JP2006343756 A JP 2006343756A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- verification
- integrated
- layout
- tool
- component
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F30/00—Computer-aided design [CAD]
- G06F30/30—Circuit design
- G06F30/39—Circuit design at the physical level
- G06F30/398—Design verification or optimisation, e.g. using design rule check [DRC], layout versus schematics [LVS] or finite element methods [FEM]
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/26—Phase shift masks [PSM]; PSM blanks; Preparation thereof
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Evolutionary Computation (AREA)
- Geometry (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
【解決手段】この検証は、いくつかの異なる検証ツールを用いる。集積化検証および製造適応ツールは、複数の検証ツールコンポーネント(例えば、レイアウト対回路図440、設計ルールチェック450、光学プロセス修正430、位相マスクシフト割り当て420)によってアクセスされる設計データを格納する階層型データベースを含む。検査コンポーネントは、レイアウト対回路図(LVS)コンポーネントを含む。
【選択図】図4
Description
本出願は、2000年6月13日に出願された米国特許出願シリアル番号09/593,923の一部継続出願であり、35U.S.C.§120章に基づいてその優先権を主
張する。同出願は、本明細書中で参考として援用される。
本発明は、集積デバイスのレイアウトに関する設計ツールに関する。より詳細には、本発明は、集積デバイスのレイアウトを修正かつ検証する際に用いられる集積ツールに関する。
大規模集積回路または他の集積デバイスは、元の性能仕様書を特定の回路構造に変換する一連の複雑な変換を介して設計される。現在、自動ソフトウェアツールが、これらの多くの設計変換のために用いられる。回路の通常の高レベルな説明は、VHDLおよびVerilog(登録商標)のような言語で見られる。VHDLの一実施形態は、1994年6月6日に発行された「IEEE Standard VHDL Language Reference Manual」ANSI Std. 1076−1993においてよ
り詳細に説明されている。Verilog(登録商標)の一実施形態は、IEEE Standard 1364−1995においてより詳細に説明されている。この段階における回路の説明は「ネットリスト」と呼ばれることが多い。
販されているCALIBRE(登録商標)を含む。異常またはエラーがこれらの検査ツールによって発見されると、設計者は、レイアウトが、マスク製作およびウェハ製造のためにマスク工場へ送られる前に、欠陥を修復しなければならない。
Determination of CAD Layout Failures Through Focus: Experiment and Simulation」 Optical/Laser Microlithography VII、Proc.
SPIE2197、p.302ff.(1994)、および、E. Barouchらによ
る「OPTIMASK: An OPC Algorithm for Chrome and Phase−shift Mask Design」 Optical/Laser Microlithography VIII、Proc. SPIE2440、
p.192ff.(1995)において見つけられ得る。上述された従来技術は、全ての必要な工程を次から次へと実行する一続きの別個のソフトウェアツールによってレイアウトに演算するステップを含む。
階層型または平らな様態の集積デバイスレイアウトの少なくとも一部を表す階層型データベースを有する、集積化検証および製造適応ツールである。この集積化検証および製造適応ツールは、標準のDRCおよびLVS検証だけでなく、光学的プロセス修正(OPC)を実行することが可能であり、そして、位相シフトマスク(PSM)割り当てならびに光学およびプロセスルールチェック(ORC)のためのシリコンシミュレーションを含む、他のデータ操作技術を実行することが可能である。さらに、集積化ソフトウェアツールは、データベース内の検証された機械語のデータをエクスポートする。このデータは、一以上のフォトリソグラフィックマスクを製作するマスクライタによって読み出され得る。
集積化検証および製造適応ツールが説明される。以下の説明において、説明を目的として、本発明を十分に理解させるために多くの特定の詳細を記述する。しかし、本発明がこれらの特定の詳細なしで実行され得ることは、当業者に明らかである。他の例では、本発明の不明瞭にしないために、構造および装置はブロック図の形式で示される。
実行され、所望の出力レイヤは満たされる。検証プロセスが完了した後、階層型データベース410に格納される情報はデータエクスポートプロセス480によってエクスポートされる。エクスポートデータは、IC製作プロセス395に用いられ、ICの設計図を製作し得る。
、次いで、新しく、より相互作用の少ないセル構造を再び導入する。
CELLS INJECTION INTO AN INTEGRATED CIRCUIT DESIGN」と称され、1999年1月19日に出願されたLaurence
W. Groddによる米国特許出願第09/234,030号でより詳細に説明される。同出願を本明細書中で参考として援用する。
よび階層的投入は、より効率の良い様態で、冗長するコンテクストを減少させる、または、排除さえもする。これにより、検証プロセスが、クローンに基づいた技術を用いるよりもより早く完了し得る。
よって修正され、修正されたデータベース510の一以上の中間レイヤに格納された、エッジ集合体に対して演算する。OPCコンポーネント430はまた、例えば、PSMがレイアウトに対して実行されない場合、元のレイアウトを表すエッジ集合体に対して演算し得る。
び、Nicholas B. Cobbによる「Fast Optical and P
rocess Proximity Correction Algorithms for Integrated Circuit Manufacturing」博士論文、Univ. Cal. Berkely(1998)。
には、標準フォーマットを特定機械向けのフォーマットに変換するために、レイアウトデータ(典型的にはGDSII)を独立型の翻訳ツールにインポートすることを含む。
るツール、独立変調レーザビーム、走査プローブ顕微鏡素子、あるいは、フォトリソグラフマスクまたはレチクルを製造する他のメカニズムを含む。
Claims (8)
- 集積化検証および製造適応ツールであって、
階層状の集積デバイスレイアウトの少なくとも一部分を表す階層型データベースと、
該階層型データベースにアクセスし、該集積デバイスレイアウト内の一以上のエッジフラグメントに対する修正を決定し、該階層型データベースに該修正を格納することによって、該集積デバイスレイアウト上で動作するモデルベースの光学的プロセス修正(OPC)コンポーネントと、
該階層型データベースに格納されている該OPC修正にアクセスし、シミュレーションエンジンを用いてそれらを分析することにより、該集積デバイス設計のエッジフラグメントが所望されるように印刷されることを確実にするように、該モデルベースのOPCコンポーネントによって修正されたデータの検証を実行する光学的ルールチェック(ORC)コンポーネントと
を備えた、集積化検証および製造適応ツール。 - 前記集積化検証および製造適応ツールは、前記階層型データベースにアクセスするレイアウト対回路図(LVS)コンポーネントをさらに備えている、請求項1に記載の集積化検証および製造適応ツール。
- 前記集積化検証および製造適応ツールは、前記階層型データベースにアクセスする設計ルールチェック(DRC)コンポーネントをさらに備えている、請求項1に記載の集積化検証および製造適応ツール。
- 前記集積化検証および製造適応ツールは、前記階層型データベースにアクセスする位相シフトマスク(PSM)コンポーネントをさらに備えている、請求項1に記載の集積化検証および製造適応ツール。
- 前記ORCは、前記シミュレーションエンジンにより印刷適応性エラーを有すると予測される、レイアウト内のエッジにフラグを立てる、請求項1に記載の集積化検証および製造適応ツール。
- 前記DRCは、シミュレートされたシリコンの形状に対して実行される、請求項5に記載の集積化検証および製造適応ツール。
- 命令のシーケンスを格納した機械読み取り可能な媒体であって、該命令のシーケンスは、実行されると、請求項1に記載の集積化検証および製造適応ツールとして一以上の電子システムを動作させる、媒体。
- データ通信媒体上で送信される命令のシーケンスを符号化するコンピュータデータ信号であって、該命令のシーケンスは、一以上の電子システムによって実行されると、請求項1に記載の集積化検証および製造適応ツールとして該一以上の電子システムを動作させる、コンピュータデータ信号。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/593,923 | 2000-06-13 | ||
US09/593,923 US6425113B1 (en) | 2000-06-13 | 2000-06-13 | Integrated verification and manufacturability tool |
US09/747,190 US6415421B2 (en) | 2000-06-13 | 2000-12-22 | Integrated verification and manufacturability tool |
US09/747,190 | 2000-12-22 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002511227A Division JP2004503879A (ja) | 2000-06-13 | 2001-05-25 | 集積化検証および製造適応ツール |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006343756A true JP2006343756A (ja) | 2006-12-21 |
JP2006343756A5 JP2006343756A5 (ja) | 2008-12-18 |
JP4822330B2 JP4822330B2 (ja) | 2011-11-24 |
Family
ID=27081833
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002511227A Pending JP2004503879A (ja) | 2000-06-13 | 2001-05-25 | 集積化検証および製造適応ツール |
JP2006004195A Pending JP2006134356A (ja) | 2000-06-13 | 2006-01-11 | 集積化検証および製造適応ツール |
JP2006161662A Expired - Lifetime JP4822330B2 (ja) | 2000-06-13 | 2006-06-09 | 集積化検証および製造適応ツール |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002511227A Pending JP2004503879A (ja) | 2000-06-13 | 2001-05-25 | 集積化検証および製造適応ツール |
JP2006004195A Pending JP2006134356A (ja) | 2000-06-13 | 2006-01-11 | 集積化検証および製造適応ツール |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7017141B2 (ja) |
EP (1) | EP1330742B1 (ja) |
JP (3) | JP2004503879A (ja) |
WO (1) | WO2001097096A1 (ja) |
Families Citing this family (59)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6425113B1 (en) | 2000-06-13 | 2002-07-23 | Leigh C. Anderson | Integrated verification and manufacturability tool |
US7412676B2 (en) | 2000-06-13 | 2008-08-12 | Nicolas B Cobb | Integrated OPC verification tool |
US6978436B2 (en) * | 2000-07-05 | 2005-12-20 | Synopsys, Inc. | Design data format and hierarchy management for phase processing |
US6430737B1 (en) | 2000-07-10 | 2002-08-06 | Mentor Graphics Corp. | Convergence technique for model-based optical and process correction |
US6622288B1 (en) * | 2000-10-25 | 2003-09-16 | Numerical Technologies, Inc. | Conflict sensitive compaction for resolving phase-shift conflicts in layouts for phase-shifted features |
US6901575B2 (en) | 2000-10-25 | 2005-05-31 | Numerical Technologies, Inc. | Resolving phase-shift conflicts in layouts using weighted links between phase shifters |
US6584610B1 (en) | 2000-10-25 | 2003-06-24 | Numerical Technologies, Inc. | Incrementally resolved phase-shift conflicts in layouts for phase-shifted features |
JP2002203757A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-19 | Toshiba Corp | 境界条件表示プログラムおよび半導体装置の製造方法 |
US6904575B2 (en) * | 2002-06-11 | 2005-06-07 | International Business Machines Corporation | Method for improving chip yields in the presence of via flaring |
US6931613B2 (en) | 2002-06-24 | 2005-08-16 | Thomas H. Kauth | Hierarchical feature extraction for electrical interaction calculations |
US6769103B2 (en) * | 2002-07-19 | 2004-07-27 | Micron Technology, Inc. | Line width check in layout database |
US20040083475A1 (en) * | 2002-10-25 | 2004-04-29 | Mentor Graphics Corp. | Distribution of operations to remote computers |
US6898780B2 (en) * | 2002-12-20 | 2005-05-24 | Lsi Logic Corporation | Method and system for constructing a hierarchy-driven chip covering for optical proximity correction |
US7363236B2 (en) * | 2003-03-14 | 2008-04-22 | Chartered Semiconductor Manufacturing Ltd. | System, apparatus and method for reticle grade and pricing management |
US7069533B2 (en) * | 2003-03-14 | 2006-06-27 | Chatered Semiconductor Manufacturing, Ltd | System, apparatus and method for automated tapeout support |
US20050234684A1 (en) * | 2004-04-19 | 2005-10-20 | Mentor Graphics Corp. | Design for manufacturability |
US20050015740A1 (en) * | 2003-07-18 | 2005-01-20 | Mentor Graphics Corp. | Design for manufacturability |
US7069534B2 (en) | 2003-12-17 | 2006-06-27 | Sahouria Emile Y | Mask creation with hierarchy management using cover cells |
US7536660B2 (en) | 2004-02-24 | 2009-05-19 | Konstantinos Adam | OPC simulation model using SOCS decomposition of edge fragments |
US7539954B2 (en) | 2004-02-24 | 2009-05-26 | Konstantinos Adam | OPC simulation model using SOCS decomposition of edge fragments |
US7861207B2 (en) | 2004-02-25 | 2010-12-28 | Mentor Graphics Corporation | Fragmentation point and simulation site adjustment for resolution enhancement techniques |
US7275226B2 (en) * | 2004-04-21 | 2007-09-25 | International Business Machines Corporation | Method of performing latch up check on an integrated circuit design |
EP1747520B1 (en) * | 2004-05-07 | 2018-10-24 | Mentor Graphics Corporation | Integrated circuit layout design methodology with process variation bands |
JP2007536673A (ja) * | 2004-05-09 | 2007-12-13 | メンター・グラフィクス・コーポレーション | 見込み欠陥位置同定方法、見込み欠陥位置同定ツール |
US7240305B2 (en) | 2004-06-02 | 2007-07-03 | Lippincott George P | OPC conflict identification and edge priority system |
US7281222B1 (en) * | 2004-06-02 | 2007-10-09 | Advanced Micro Devices, Inc. | System and method for automatic generation of optical proximity correction (OPC) rule sets |
JP4904034B2 (ja) * | 2004-09-14 | 2012-03-28 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | レチクル・レイアウト・データを評価するための方法、システム及び搬送媒体 |
US7459248B2 (en) | 2005-02-24 | 2008-12-02 | James Word | Performing OPC on structures with virtual edges |
JP2006235327A (ja) * | 2005-02-25 | 2006-09-07 | Toshiba Corp | マスクパターンデータ・マスク検査データ作成方法、及びフォトマスクの製造・検査方法 |
JP4389222B2 (ja) | 2005-05-02 | 2009-12-24 | エルピーダメモリ株式会社 | マスクデータ作成方法 |
US20060253813A1 (en) * | 2005-05-03 | 2006-11-09 | Dan Rittman | Design rule violations check (DRC) of IC's (integrated circuits) mask layout database, via the internet method and computer software |
JP4761859B2 (ja) * | 2005-07-14 | 2011-08-31 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体集積回路のレイアウト設計方法 |
US7406671B2 (en) * | 2005-10-05 | 2008-07-29 | Lsi Corporation | Method for performing design rule check of integrated circuit |
US7712068B2 (en) * | 2006-02-17 | 2010-05-04 | Zhuoxiang Ren | Computation of electrical properties of an IC layout |
US20090077506A1 (en) * | 2007-05-16 | 2009-03-19 | Eugene Anikin | Simultaneous Multi-Layer Fill Generation |
US20080168410A1 (en) * | 2006-10-09 | 2008-07-10 | Mentor Graphics Corporation | Properties In Electronic Design Automation |
US8056022B2 (en) | 2006-11-09 | 2011-11-08 | Mentor Graphics Corporation | Analysis optimizer |
US7617475B2 (en) * | 2006-11-13 | 2009-11-10 | United Microelectronics Corp. | Method of manufacturing photomask and method of repairing optical proximity correction |
US7966585B2 (en) | 2006-12-13 | 2011-06-21 | Mentor Graphics Corporation | Selective shielding for multiple exposure masks |
US7802226B2 (en) * | 2007-01-08 | 2010-09-21 | Mentor Graphics Corporation | Data preparation for multiple mask printing |
US7799487B2 (en) * | 2007-02-09 | 2010-09-21 | Ayman Yehia Hamouda | Dual metric OPC |
US7739650B2 (en) * | 2007-02-09 | 2010-06-15 | Juan Andres Torres Robles | Pre-bias optical proximity correction |
US8713483B2 (en) | 2007-06-05 | 2014-04-29 | Mentor Graphics Corporation | IC layout parsing for multiple masks |
US8001503B2 (en) * | 2007-12-13 | 2011-08-16 | International Business Machines Corporation | Method and system for automatically accessing internal signals or ports in a design hierarchy |
US7873936B2 (en) * | 2008-01-04 | 2011-01-18 | International Business Machines Corporation | Method for quantifying the manufactoring complexity of electrical designs |
US20100023905A1 (en) * | 2008-02-20 | 2010-01-28 | Pikus Fedor G | Critical Area Deterministic Sampling |
US10089432B2 (en) * | 2008-11-03 | 2018-10-02 | Mentor Graphics Corporation | Rule-check waiver |
US20110145772A1 (en) * | 2009-05-14 | 2011-06-16 | Pikus Fedor G | Modular Platform For Integrated Circuit Design Analysis And Verification |
US20100306720A1 (en) * | 2009-05-28 | 2010-12-02 | Pikus F G | Programmable Electrical Rule Checking |
JP2011124423A (ja) * | 2009-12-11 | 2011-06-23 | Toshiba Corp | セルライブラリ、レイアウト方法およびレイアウト装置 |
US20120011480A1 (en) * | 2010-05-25 | 2012-01-12 | Sridhar Srinivasan | Logic-Driven Layout Verification |
US9158883B2 (en) * | 2012-08-08 | 2015-10-13 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | System for designing a semiconductor device, device made, and method of using the system |
JP2014107383A (ja) * | 2012-11-27 | 2014-06-09 | Renesas Electronics Corp | マスクおよびその製造方法、ならびに半導体装置 |
US8975195B2 (en) * | 2013-02-01 | 2015-03-10 | GlobalFoundries, Inc. | Methods for optical proximity correction in the design and fabrication of integrated circuits |
US8751985B1 (en) * | 2013-03-12 | 2014-06-10 | Globalfoundries Inc. | Hierarchical layout versus schematic (LVS) comparison with extraneous device elimination |
JP6362716B2 (ja) * | 2017-02-03 | 2018-07-25 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | マスクおよび半導体装置 |
US10628550B2 (en) * | 2017-05-19 | 2020-04-21 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method for designing an integrated circuit, and method of manufacturing the integrated circuit |
US20190146847A1 (en) * | 2017-11-10 | 2019-05-16 | Mentor Graphics Corporation | Dynamic distributed resource management |
US11023648B2 (en) | 2017-12-12 | 2021-06-01 | Siemens Industry Software Inc. | Puzzle-based pattern analysis and classification |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05313345A (ja) * | 1992-05-06 | 1993-11-26 | Nitto Denko Corp | フォトマスクの製法 |
JPH09319067A (ja) * | 1995-12-22 | 1997-12-12 | Toshiba Corp | 光近接効果補正方法 |
WO1999014637A1 (en) * | 1997-09-17 | 1999-03-25 | Numerical Technologies, Inc. | Data hierarchy layout correction and verification method and apparatus |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5031111C1 (en) * | 1988-08-08 | 2001-03-27 | Trw Inc | Automated circuit design method |
US5182718A (en) * | 1989-04-04 | 1993-01-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method and apparatus for writing a pattern on a semiconductor sample based on a resist pattern corrected for proximity effects resulting from direct exposure of the sample by a charged-particle beam or light |
US5663893A (en) * | 1995-05-03 | 1997-09-02 | Microunity Systems Engineering, Inc. | Method for generating proximity correction features for a lithographic mask pattern |
JP4624550B2 (ja) | 1997-09-17 | 2011-02-02 | シノプシス, インコーポレイテッド | マスク記述のためのシステムにおけるデータ階層維持の方法及び装置 |
US6009251A (en) * | 1997-09-30 | 1999-12-28 | Synopsys, Inc. | Method and system for layout verification of an integrated circuit design with reusable subdesigns |
-
2001
- 2001-05-25 WO PCT/US2001/017210 patent/WO2001097096A1/en active Application Filing
- 2001-05-25 JP JP2002511227A patent/JP2004503879A/ja active Pending
- 2001-05-25 EP EP01984021.4A patent/EP1330742B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-03-27 US US10/112,223 patent/US7017141B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2006
- 2006-01-11 JP JP2006004195A patent/JP2006134356A/ja active Pending
- 2006-06-09 JP JP2006161662A patent/JP4822330B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05313345A (ja) * | 1992-05-06 | 1993-11-26 | Nitto Denko Corp | フォトマスクの製法 |
JPH09319067A (ja) * | 1995-12-22 | 1997-12-12 | Toshiba Corp | 光近接効果補正方法 |
WO1999014637A1 (en) * | 1997-09-17 | 1999-03-25 | Numerical Technologies, Inc. | Data hierarchy layout correction and verification method and apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7017141B2 (en) | 2006-03-21 |
JP2004503879A (ja) | 2004-02-05 |
EP1330742B1 (en) | 2015-03-25 |
US20020100005A1 (en) | 2002-07-25 |
EP1330742A1 (en) | 2003-07-30 |
JP2006134356A (ja) | 2006-05-25 |
JP4822330B2 (ja) | 2011-11-24 |
EP1330742A4 (en) | 2005-06-08 |
WO2001097096A1 (en) | 2001-12-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4822330B2 (ja) | 集積化検証および製造適応ツール | |
US6415421B2 (en) | Integrated verification and manufacturability tool | |
US7412676B2 (en) | Integrated OPC verification tool | |
US7337421B2 (en) | Method and system for managing design corrections for optical and process effects based on feature tolerances | |
US6470489B1 (en) | Design rule checking system and method | |
US6453452B1 (en) | Method and apparatus for data hierarchy maintenance in a system for mask description | |
US8078996B2 (en) | Method and system for correcting a mask pattern design | |
US7172838B2 (en) | Chromeless phase mask layout generation | |
KR20010024117A (ko) | 디자인 룰 체킹 시스템 및 방법 | |
EP1620822A2 (en) | Effective proximity effect correction methodology | |
KR20220050980A (ko) | 집적 회로들을 위한 신경망 기반 마스크 합성 | |
KR20230098783A (ko) | 마스크 합성을 위한 확률 인식 리소그래피 모델들 | |
US11928416B2 (en) | Semiconductor process technology assessment | |
JPH10239826A (ja) | フォトマスクパターン設計装置およびフォトマスクパターン設計方法 | |
CN114556210A (zh) | 在校正光刻掩模中使用掩模制造模型 | |
WO2022075989A1 (en) | Optical proximity correction for free form shapes | |
US11657207B2 (en) | Wafer sensitivity determination and communication | |
US20230152683A1 (en) | Mask Synthesis Integrating Mask Fabrication Effects and Wafer Lithography Effects | |
US20240193338A1 (en) | Free-form layout feature retargeting | |
Rosenbusch et al. | New approach to optical proximity correction | |
JP2000066370A (ja) | マスクパターン作成方法および装置 | |
JPH10240783A (ja) | フォトマスクパターン設計装置およびフォトマスクパターン設計方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070705 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070705 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081105 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100524 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20100823 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20100826 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100924 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110105 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20110404 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20110407 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20110502 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20110510 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110523 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110831 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110901 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4822330 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140916 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R370 | Written measure of declining of transfer procedure |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370 |