JP2006337719A - 画像記録装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】空間光変調素子の長寿命化が可能であり、かつ空間光変調素子の破損の影響が小さい画像記録装置を提供する。
【解決手段】光束を照射する光源と、被露光材おける同一画素中の互いに異なる微小領域Rに対して光源からの光束を反射するか否かのON/OFFの切替が可能な複数のマイクロミラー51を有するDMデバイスと、被露光材Hを主走査方向Xに沿って移動させる主走査モータと、光源及びDMデバイスを含む露光装置を副走査方向Yに沿って走査させる副走査モータと、DMデバイスと主走査モータと副走査モータとを制御する制御部とを備えており、制御部は被露光材における画像記録領域に相当する画像記録ミラー列56とその主走査方向上流側の予備露光ミラー列57とをON状態に切替えさせるように制御する。
【選択図】図4
【解決手段】光束を照射する光源と、被露光材おける同一画素中の互いに異なる微小領域Rに対して光源からの光束を反射するか否かのON/OFFの切替が可能な複数のマイクロミラー51を有するDMデバイスと、被露光材Hを主走査方向Xに沿って移動させる主走査モータと、光源及びDMデバイスを含む露光装置を副走査方向Yに沿って走査させる副走査モータと、DMデバイスと主走査モータと副走査モータとを制御する制御部とを備えており、制御部は被露光材における画像記録領域に相当する画像記録ミラー列56とその主走査方向上流側の予備露光ミラー列57とをON状態に切替えさせるように制御する。
【選択図】図4
Description
本発明は、被露光材に対して露光を行うことにより画像を記録する画像記録装置に関する。
従来、被露光材に対して露光を行うことにより画像を記録する画像記録装置がある。そして、画像記録装置は複数の光チャネルを有するのが一般的であり、その光チャネル毎にそれぞれ点灯制御が可能な光源が備えられている。
一方、LCD(液晶表示素子)やデジタルマイクロミラーデバイスなどの2次元空間光変調素子を備えることにより、一つの光源からの導光を調整する画像記録装置が開発されている(特許文献1参照)。
特開2005−32909号公報
しかしながら、従来の画像記録装置においては、空間光変調素子に照射される光量の低減ができずに長寿命化が困難であるという問題があった。
また、空間光変調素子としてのデジタルマイクロミラーデバイスには複数のマイクロミラーが備えられており、光源から照射される光束の軸に対する角度を変更することで被露光材への導光を調整するようになっている。そして、デジタルマイクロミラーデバイスにおいては、各マイクロミラーの反射する光は被露光材における1画素をそれぞれ記録するものである。従って、マイクロミラーのうち一つでも破損すると走査毎に記録されない画素が発生してしまうため、画質の低下が著しくデジタルマイクロミラーデバイスそのものを交換しなければならないという問題もあった。
そこで、本発明は以上の点に鑑みてなされたものであり、光源から照射する光量を低減させて空間光変調素子の長寿命化が可能であり、かつ空間光変調素子の破損の影響が小さい画像記録装置の提供を目的とするものである。
前記課題を解決するために、請求項1に記載の発明は、画像記録装置において、
光束を照射する光源と、
被露光材における互いに異なる微小領域に対して前記光源からの光束を反射するか否かのON/OFFの切替が可能な複数のマイクロミラーを有するデジタルマイクロミラーデバイスと、
前記被露光材を主走査方向に沿って移動させる主走査機構と、
前記光源及び前記デジタルマイクロミラーデバイスを含む露光装置を副走査方向に沿って移動させる副走査機構と、
前記デジタルマイクロミラーデバイスと前記主走査機構と前記副走査機構とを制御する制御部とを備え、
前記制御部は、
前記被露光材における画像記録領域に相当する分のマイクロミラーと当該マイクロミラーより主走査方向上流側のマイクロミラーとをON状態に切替えさせるように制御することを特徴とする。
光束を照射する光源と、
被露光材における互いに異なる微小領域に対して前記光源からの光束を反射するか否かのON/OFFの切替が可能な複数のマイクロミラーを有するデジタルマイクロミラーデバイスと、
前記被露光材を主走査方向に沿って移動させる主走査機構と、
前記光源及び前記デジタルマイクロミラーデバイスを含む露光装置を副走査方向に沿って移動させる副走査機構と、
前記デジタルマイクロミラーデバイスと前記主走査機構と前記副走査機構とを制御する制御部とを備え、
前記制御部は、
前記被露光材における画像記録領域に相当する分のマイクロミラーと当該マイクロミラーより主走査方向上流側のマイクロミラーとをON状態に切替えさせるように制御することを特徴とする。
請求項1に記載の発明によれば、制御部は、各走査において、被露光材における画像記録領域に相当する分のマイクロミラーとそれより主走査方向上流側のマイクロミラーとにより、光源から照射された光束を被露光材に対して反射させるようになっている。つまり、各走査において画像記録領域に光束が照射されて露光による記録が行われるとともに、その主走査方向上流側の領域にも光束が照射されて予備露光が行われるようになっている。
ここで、マイクロミラーのON状態とは、マイクロミラーが空間光変調素子の基板に対して+α度傾いた状態のことであり、光源から照射された光束を被露光材に向けて反射するようになっている。
請求項2に記載の発明は、画像記録装置において、
光束を照射する光源と、
被露光材における同一画素中の互いに異なる微小領域に対して前記光源からの光束を反射するか否かのON/OFFの切替が可能な複数のマイクロミラーを有するデジタルマイクロミラーデバイスと、
前記被露光材を主走査方向に沿って移動させる主走査機構と、
前記光源及び前記デジタルマイクロミラーデバイスを含む露光装置を副走査方向に沿って移動させる副走査機構と、
前記デジタルマイクロミラーデバイスと前記主走査機構と前記副走査機構とを制御する制御部とを備え、
前記制御部は、
複数の前記マイクロミラーにより前記被露光材における1画素を記録させるように制御していることを特徴とする。
光束を照射する光源と、
被露光材における同一画素中の互いに異なる微小領域に対して前記光源からの光束を反射するか否かのON/OFFの切替が可能な複数のマイクロミラーを有するデジタルマイクロミラーデバイスと、
前記被露光材を主走査方向に沿って移動させる主走査機構と、
前記光源及び前記デジタルマイクロミラーデバイスを含む露光装置を副走査方向に沿って移動させる副走査機構と、
前記デジタルマイクロミラーデバイスと前記主走査機構と前記副走査機構とを制御する制御部とを備え、
前記制御部は、
複数の前記マイクロミラーにより前記被露光材における1画素を記録させるように制御していることを特徴とする。
請求項2に記載の発明によれば、制御部は、複数のマイクロミラーによって被露光材における1画素を記録させるようになっているので、一部のマイクロミラーが破損した場合であっても、被露光材における1画素を構成する光量の変動を小さく抑えるようになっている。また、被露光材に向けて反射する入射光の形状や光束径を精密に調整するようになっている。
請求項3に記載の発明は、画像記録装置において、
光束を照射する光源と、
被露光材における同一画素中の互いに異なる微小領域に対して前記光源からの光束を反射するか否かのON/OFFの切替が可能な複数のマイクロミラーを有するデジタルマイクロミラーデバイスと、
前記被露光材を主走査方向に沿って移動させる主走査機構と、
前記光源及び前記デジタルマイクロミラーデバイスを含む露光装置を副走査方向に沿って移動させる副走査機構と、
前記デジタルマイクロミラーデバイスと前記主走査機構と前記副走査機構とを制御する制御部とを備え、
前記制御部は、
複数の前記マイクロミラーにより前記被露光材における1画素を記録させるとともに、前記被露光材における画像記録領域に相当する分のマイクロミラーと当該マイクロミラーより主走査方向上流側のマイクロミラーとをON状態に切替えさせるように制御することを特徴とする。
光束を照射する光源と、
被露光材における同一画素中の互いに異なる微小領域に対して前記光源からの光束を反射するか否かのON/OFFの切替が可能な複数のマイクロミラーを有するデジタルマイクロミラーデバイスと、
前記被露光材を主走査方向に沿って移動させる主走査機構と、
前記光源及び前記デジタルマイクロミラーデバイスを含む露光装置を副走査方向に沿って移動させる副走査機構と、
前記デジタルマイクロミラーデバイスと前記主走査機構と前記副走査機構とを制御する制御部とを備え、
前記制御部は、
複数の前記マイクロミラーにより前記被露光材における1画素を記録させるとともに、前記被露光材における画像記録領域に相当する分のマイクロミラーと当該マイクロミラーより主走査方向上流側のマイクロミラーとをON状態に切替えさせるように制御することを特徴とする。
請求項3に記載の発明によれば、一つのマイクロミラー群によって被露光材における1画素を記録させるようになっており、また、各走査において画像記録領域に光束が照射されて露光による記録が行われるとともに、その主走査方向上流側の領域にも光束が照射されて予備露光が行われるようになっている。
請求項1に記載の発明によれば、各走査において被露光材における画像記録領域に対して光束が反射されて露光による画像の記録が行われるとともに、その主走査方向上流側の領域にも光束が反射されて予備露光が行われるようになっている。従って、一つの光源と一つの空間光変調素子とを用いて、各走査の度に被露光材への予備露光と露光による画像記録とを行うことが可能である。また、予備露光用の光源や装置を別途備える必要が無いので、装置全体の小型化やコストの削減が可能である。さらに、予備露光を行わない場合に比べると一走査においてマイクロミラーに照射する光量を低減させることが可能であり、デジタルマイクロミラーデバイスの長寿命化が可能である。
請求項2に記載の発明によれば、デジタルマイクロミラーデバイスは複数のマイクロミラーにより被露光材の1画素を記録するので、一部のマイクロミラーが故障した場合でも被露光材に記録される画質の低下は小さく、デジタルマイクロミラーデバイス全体の交換をすることなく画像を記録しつづけることが可能である。また、被露光材への入射光の精密な調整が可能であるので、より高精細な画像記録を行うことが可能である。
請求項3に記載の発明によれば、請求項1と請求項2に記載の発明と同様の効果が得られる。
以下、本発明に係る画像記録装置について、図面を参照しつつ説明する。なお、本実施の形態においては、画像記録装置を外面ドラムタイプのものとして説明する。
図1は本発明に係る画像記録装置1を示す側面図である。この図に示すように、画像記録装置1は、主走査機構としての主走査モータ20(図5参照)の駆動によって主走査方向Xに回転するドラム2を備えている。
ドラム2の外周面には、感光材料や感熱材料から形成された被露光材Hがクランプ(図示せず)等によって保持されており、ドラム2と一体的に主走査方向Xに回転するようになっている。この被露光材Hは、網点画像が露光記録された後にオフセット印刷の印刷用版として用いられるようになっている。また、被露光材Hとして機上現像タイプのもの、つまり、露光後に現像処理を施されることなくそのまま印刷用版となるものが用いられている。このような被露光材Hとしては、例えばコニカミノルタ株式会社製の「SimplatePro」(製品名)用の版材や、日本アグフア・ゲバルト株式会社製の「Azura」(製品名)など、従来より公知のものが挙げられる。
ドラム2の側方には、ネジシャフト30及びガイドシャフト31が配設されている。
ネジシャフト30及びガイドシャフト31はドラム2の軸方向(以下、副走査方向Yとする)に延在しており、ネジシャフト30は副走査機構としての副走査モータ32(図5参照)の駆動によって回転するようになっている。これらネジシャフト30及びガイドシャフト31には、ベース33が支持されている。
ネジシャフト30及びガイドシャフト31はドラム2の軸方向(以下、副走査方向Yとする)に延在しており、ネジシャフト30は副走査機構としての副走査モータ32(図5参照)の駆動によって回転するようになっている。これらネジシャフト30及びガイドシャフト31には、ベース33が支持されている。
ベース33はネジシャフト30の回転によって副走査方向Yに移動可能となっており、この移動はガイドシャフト31によってガイドされている。ベース33には、被露光材Hを露光して画像を記録する露光装置4が搭載されている。
露光装置4は、図2に示すように、半導体レーザ等の光源40を備えている。この光源40は、所定の波長、例えば390〜420nmまたは790〜850nmの波長の光束を出射するようになっている。なお、感熱材料から形成された被露光材Hを用いる場合には、感光材料から形成された被露光材Hを用いる場合と比較して、光源40のパワーが大きい方が好ましい。
光源40から出射される光束の光軸方向には、整形光学系41、反射光学系5及び結像光学系42が順に並んで配されている。
整形光学系41は、光源40から出射される光束を整形するとともに光束の断面内で光強度を均一化するものであり、例えばオプティカルインテグレータやコリメータレンズ、シリンドリカルレンズ等、従来より公知の光学素子を備えている。
反射光学系5は、整形光学系41から出射される光束を屈折させて結像光学系42に導光するものであり、図3に示すようなデジタルマイクロミラーデバイス(以下、DMデバイスとする)50を備えている。
DMデバイス50は全体として方形状又は矩形状に形成されており、平板状のシリコン基板58を備えている。シリコン基板58の整形光学系41に対向する面には、図4に示すように、複数のマイクロミラー51,…がマトリクス状に配設されている。なお、図3においてはマイクロミラー51を簡略化して記載した。
DMデバイス50は全体として方形状又は矩形状に形成されており、平板状のシリコン基板58を備えている。シリコン基板58の整形光学系41に対向する面には、図4に示すように、複数のマイクロミラー51,…がマトリクス状に配設されている。なお、図3においてはマイクロミラー51を簡略化して記載した。
これらマイクロミラー51,…はマトリックス状に配列され、図5に示すように、1つの画素G内の互いに異なる微小な領域、本実施の形態においては画素Gを5×5に分割した微小領域R,…に対して光源40からの光束を反射可能となっており、対応する画素Gごとにマイクロミラー群55を構成している。つまり、各マイクロミラー群55は、1つの画素Gに対応する5×5個のマイクロミラー51,…を備えている。
各マイクロミラー51は、デジタル制御で駆動されることにより、シリコン基板58に対する傾きが調整可能となっている。DMデバイス50は、マイクロミラー51の前記傾きを調整して、光源40からの光束を被露光材Hの画素G(図5参照)に向けて反射する状態(以下、ON状態とする)と、被露光材Hと異なる方向に反射する状態(以下、OFF状態とする)との切替が可能になっている。
詳しくは、マイクロミラー51の「ON状態」とは、マイクロミラー51がシリコン基板58に対して+α度傾いた状態のことであり、光源40から照射された光を結像光学系42を介して被露光材Hに向けて反射するようになっている。一方、マイクロミラー51の「OFF状態」とは、マイクロミラー51がシリコン基板58に対して−α度傾いた状態のことであり、光源40から照射された光を光吸収体(図示省略)に向けて反射するようになっている。
詳しくは、マイクロミラー51の「ON状態」とは、マイクロミラー51がシリコン基板58に対して+α度傾いた状態のことであり、光源40から照射された光を結像光学系42を介して被露光材Hに向けて反射するようになっている。一方、マイクロミラー51の「OFF状態」とは、マイクロミラー51がシリコン基板58に対して−α度傾いた状態のことであり、光源40から照射された光を光吸収体(図示省略)に向けて反射するようになっている。
なお、本実施の形態においては、以上のDMデバイス50として、Texas Instruments社製のものが用いられている。
DMデバイス50の側方には、マイクロレンズアレイ52が配設されている。このマイクロレンズアレイ52は微小なマイクロレンズ53,…をマトリックス状に配列したものであり、各マイクロレンズ53は、対応するマイクロミラー51からの反射光の拡散を防止するようになっている。
結像光学系42は、ON状態のマイクロミラー51から出射される光を被露光材Hの表面に集光するものであり、結像レンズ等を備えている。
以上の主走査モータ20、副走査モータ32、光源40及びDMデバイス50には、図6に示すように、制御部7が接続されている。
制御部7は、図示しないCPUやROM、RAM等によって構成されており、画像記録装置1の各部を制御するようになっている。そして、制御部7は、所定の画像データや光源40のパワーなどに基づいて、DMデバイス50のマイクロミラー51のON/OFFの切替を制御するようになっている。具体的には、一つのマイクロミラー群55によって被露光材Hにおける一つの画素Gを記録させるように制御している。また、各走査において、被露光材Hにおける画像記録領域に相当する分のマイクロミラー(以下、「画像記録ミラー列56」とする)とその主走査方向Xの上流側のマイクロミラー(以下、「予備露光ミラー列57」とする)とをON状態になるように制御している。
制御部7は、図示しないCPUやROM、RAM等によって構成されており、画像記録装置1の各部を制御するようになっている。そして、制御部7は、所定の画像データや光源40のパワーなどに基づいて、DMデバイス50のマイクロミラー51のON/OFFの切替を制御するようになっている。具体的には、一つのマイクロミラー群55によって被露光材Hにおける一つの画素Gを記録させるように制御している。また、各走査において、被露光材Hにおける画像記録領域に相当する分のマイクロミラー(以下、「画像記録ミラー列56」とする)とその主走査方向Xの上流側のマイクロミラー(以下、「予備露光ミラー列57」とする)とをON状態になるように制御している。
ここで、画像記録ミラー列56とは、副走査方向Yに平行なミラー列であり、DMデバイス50に備えられたマイクロミラー51のうち主走査方向Xの下流側のミラー列であることが好ましい。さらに、予備露光ミラー列57とは、画像記録ミラー列56と平行でありかつそれより主走査方向Xの上流側のミラー列である。従って、被露光材Hは、まず予備露光ミラー列57に対向し、その後ドラム2が回転すると画像記録ミラー列56に対向するようになっている。
画像記録ミラー列56及び予備露光ミラー列57のミラー列数には特に制限はないが、光源40から照射される光エネルギーに対応した値であるとともに、被露光材Hの移動速度に対応した値である。従って、図4における一つの四角はマイクロミラー51を表すものとしたが、一つの四角がマトリクス状に配列された複数のマイクロミラー51を表すものとしてもよい。また、予備露光の効果を十分に得るためには、予備露光の直後に画像を記録させる露光を行うのが好ましいため、予備露光ミラー列57は画像記録ミラー列56の主走査方向Xの上流側近傍であることが好ましい。
続いて、以上の画像記録装置1の動作について説明する。
まず、制御部7は、主走査モータ20及び副走査モータ32を駆動させることにより、ドラム2を主走査方向Xに回転させるとともに、露光装置4を副走査方向Yに走査させる。なお、ドラム2の回転速度や露光装置4の走査速度は、それぞれ一定であることが好ましい。
まず、制御部7は、主走査モータ20及び副走査モータ32を駆動させることにより、ドラム2を主走査方向Xに回転させるとともに、露光装置4を副走査方向Yに走査させる。なお、ドラム2の回転速度や露光装置4の走査速度は、それぞれ一定であることが好ましい。
この走査の際に、まず制御部7は、予備露光ミラー列57のマイクロミラー51をON状態とし、それ以外のマイクロミラー51をOFF状態とする。また、制御部7は、画像データに基づいて画像記録ミラー列56のなかでも被記録材Hの記録する微小領域Rに対応するマイクロミラー51のみをON状態とし、それ以外のマイクロミラー51をOFF状態とする。
次に、制御部7は、光源40から光束を出射させる。すると、光源40から出射された光束は整形光学系41を通過して反射光学系5のDMデバイス50に入射する。DMデバイス50に入射した光のうち、OFF状態のマイクロミラー51,…に入射した光束は当該マイクロミラー51で反射した後、被露光材Hを露光しないように光吸収体の方向へ向かう。一方、予備露光ミラー列57と画像記録ミラー列56のON状態のマイクロミラー51,…に入射した光束はそれぞれがマイクロミラー51で反射した後、結像光学系42で集光されて被露光材Hを露光する。これにより、被露光材Hには画像記録ミラー列56により反射された光束が入射して微小領域Rが記録されるとともに、予備露光ミラー列57により反射された光束が入射して予備露光が行われる。
以降、副走査方向Yにおける被露光材Hの一端から他端に露光装置4が走査するまでの間、制御部7が上記の各動作を続けることにより、所望の画像が被露光材Hの表面に順次記録される。
以上より、本実施形態の画像記録装置1によれば、各走査において被露光材Hに光束が反射されて露光による微小領域Rの記録が行われるとともに、その主走査方向Xの上流側の領域にも光束が反射されて予備露光が行われるようになっている。従って、一つの光源40と一つのDMデバイス50とを用いて、各走査の度に被露光材Hへの予備露光と微小領域Rの記録とを行うことが可能である。また、予備露光用の光源や装置を別途備える必要が無いので、装置全体の小型化やコストの削減が可能である。さらに、予備露光を行わない場合に比べると一走査においてマイクロミラー51に照射する光量を低減させることが可能であり、DMデバイス50の長寿命化が可能である。
また、DMデバイス50は一つのマイクロミラー群55により被露光材Hの画素Gを記録するので、一部のマイクロミラー51が故障した場合でも微小領域Rに記録不具合が生じるのみである。従って、マイクロミラー51が破損しても被露光材Hに記録される画質の低下は小さく、画像記録を中断してDMデバイス50全体の交換をすることなく、画像を記録しつづけることが可能である。また、被露光材Hへの入射光の精密な調整が可能であるので、より高精細な画像記録を行うことが可能である。
なお、上記の実施の形態においては、被露光材Hを機上現像タイプのものとして説明したが、露光後に現像処理などを施されてから印刷用版として用いられるタイプのものとしても良い。
また、DMデバイス50は1つの画素Gに対して露光可能なマイクロミラー51を複数個有することとして説明したが、1個のみ有することとしても良い。
また、画像記録装置1を、被露光材Hがドラム2の外周面に保持される外面ドラムタイプのものとして説明したが、平板上に保持されるフラットベッドタイプのものとしても良い。
また、被露光材Hの被露光箇所に画像が記録されるものとして説明したが、露光されない箇所に画像が記録されるものとしても良い。
また、被露光材Hの被露光箇所に画像が記録されるものとして説明したが、露光されない箇所に画像が記録されるものとしても良い。
1 画像記録装置
7 制御部
40 光源
50 DMデバイス(デジタルマイクロミラーデバイス)
51 マイクロミラー
56 画像記録ミラー列
57 予備露光ミラー列
G 画素
H 被露光材
R 微小領域
7 制御部
40 光源
50 DMデバイス(デジタルマイクロミラーデバイス)
51 マイクロミラー
56 画像記録ミラー列
57 予備露光ミラー列
G 画素
H 被露光材
R 微小領域
Claims (3)
- 光束を照射する光源と、
被露光材における互いに異なる微小領域に対して前記光源からの光束を反射するか否かのON/OFFの切替が可能な複数のマイクロミラーを有するデジタルマイクロミラーデバイスと、
前記被露光材を主走査方向に沿って移動させる主走査機構と、
前記光源及び前記デジタルマイクロミラーデバイスを含む露光装置を副走査方向に沿って移動させる副走査機構と、
前記デジタルマイクロミラーデバイスと前記主走査機構と前記副走査機構とを制御する制御部とを備え、
前記制御部は、
前記被露光材における画像記録領域に相当する分のマイクロミラーと当該マイクロミラーより主走査方向上流側のマイクロミラーとをON状態に切替えさせるように制御することを特徴とする画像記録装置。 - 光束を照射する光源と、
被露光材における同一画素中の互いに異なる微小領域に対して前記光源からの光束を反射するか否かのON/OFFの切替が可能な複数のマイクロミラーを有するデジタルマイクロミラーデバイスと、
前記被露光材を主走査方向に沿って移動させる主走査機構と、
前記光源及び前記デジタルマイクロミラーデバイスを含む露光装置を副走査方向に沿って移動させる副走査機構と、
前記デジタルマイクロミラーデバイスと前記主走査機構と前記副走査機構とを制御する制御部とを備え、
前記制御部は、
複数の前記マイクロミラーにより前記被露光材における1画素を記録させるように制御していることを特徴とする画像記録装置。 - 光束を照射する光源と、
被露光材における同一画素中の互いに異なる微小領域に対して前記光源からの光束を反射するか否かのON/OFFの切替が可能な複数のマイクロミラーを有するデジタルマイクロミラーデバイスと、
前記被露光材を主走査方向に沿って移動させる主走査機構と、
前記光源及び前記デジタルマイクロミラーデバイスを含む露光装置を副走査方向に沿って移動させる副走査機構と、
前記デジタルマイクロミラーデバイスと前記主走査機構と前記副走査機構とを制御する制御部とを備え、
前記制御部は、
複数の前記マイクロミラーにより前記被露光材における1画素を記録させるとともに、前記被露光材における画像記録領域に相当する分のマイクロミラーと当該マイクロミラーより主走査方向上流側のマイクロミラーとをON状態に切替えさせるように制御することを特徴とする画像記録装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005162387A JP2006337719A (ja) | 2005-06-02 | 2005-06-02 | 画像記録装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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Family
ID=37558329
Family Applications (1)
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Country Status (1)
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102821236A (zh) * | 2012-07-16 | 2012-12-12 | 天津师范大学 | 基于分离式二维压缩感知理论的压缩成像*** |
CN111684299A (zh) * | 2018-02-19 | 2020-09-18 | 京瓷株式会社 | 电磁波检测装置以及信息获取*** |
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2005
- 2005-06-02 JP JP2005162387A patent/JP2006337719A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN102821236A (zh) * | 2012-07-16 | 2012-12-12 | 天津师范大学 | 基于分离式二维压缩感知理论的压缩成像*** |
CN102821236B (zh) * | 2012-07-16 | 2015-01-21 | 天津师范大学 | 基于分离式二维压缩感知理论的压缩成像*** |
CN111684299A (zh) * | 2018-02-19 | 2020-09-18 | 京瓷株式会社 | 电磁波检测装置以及信息获取*** |
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