JP2006310349A - 半導体装置の製造システム及び製造方法 - Google Patents

半導体装置の製造システム及び製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2006310349A
JP2006310349A JP2005127579A JP2005127579A JP2006310349A JP 2006310349 A JP2006310349 A JP 2006310349A JP 2005127579 A JP2005127579 A JP 2005127579A JP 2005127579 A JP2005127579 A JP 2005127579A JP 2006310349 A JP2006310349 A JP 2006310349A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
data
semiconductor device
controller
vibration
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005127579A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenji Tokunaga
謙二 徳永
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Technology Corp
Original Assignee
Renesas Technology Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Renesas Technology Corp filed Critical Renesas Technology Corp
Priority to JP2005127579A priority Critical patent/JP2006310349A/ja
Publication of JP2006310349A publication Critical patent/JP2006310349A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

【課題】半導体装置の製造工程において、ウエハ搬送時の異常を自動で検知し、短時間で処理することができる技術を提供する。
【解決手段】振動センサと、その振動センサで検知したデータを保持するメモリと、そのメモリに保持されたデータを送信する通信回路とを備えた測定用ウエハ17と、送信されたデータを受信する通信回路と、受信したデータと基準データとを比較する比較回路とを備えたコントローラ18と、測定用ウエハ17を収容するFOUP16とを有し、測定用ウエハ17で測定した搬送中の振動波形データを無線でコントローラ18に取り込み、コントローラ18が搬送時の異常を検知してアラームを発生する。
【選択図】図1

Description

本発明は、半導体装置の製造システム及び製造方法に関し、特に、ウエハ搬送時の異常を検知するシステムに適用して有効な技術に関する。
半導体装置の製造工程において、半導体ウエハの大型化に伴い、ウエハ搬送部の調整ずれ、ウエハ衝突によるウエハ割れが発生している。
従来、ウエハ搬送時の異常を検知するには、目視、音での確認が行われていた。また、更に詳細に調べる時は、ウエハに振動計を取付け、製造装置内のロボットでウエハを搬送させ、振動計で測定したデータをレコーダのメモリに記録し、その記録されたデータの波形を、後で人が確認し、振動の大小、搬送系の正常・異常等を判断していた。
ところで、前記のようなウエハ搬送時の異常を検知する技術について、本発明者が検討した結果、以下のようなことが明らかとなった。
例えば、ウエハに取付けられた振動計とレコーダとの間には配線が存在し、真空チャンバー等の中までは確認することが出来ない。また、振動計による測定後、人による正常・異常の判断が必要であり、その後、製造装置を止める等するため、短時間で処理することが出来ない。また、振動測定するまでのセットアップ、測定後のデータ確認に時間・手間を要する。
そこで、本発明の目的は、半導体装置の製造工程において、ウエハ搬送時の異常を自動で検知し、短時間で処理することができる技術を提供することにある。
本発明の前記並びにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述及び添付図面から明らかになるであろう。
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。
すなわち、本発明による半導体装置の製造システムは、振動センサと、その振動センサで検知したデータを保持するメモリと、そのメモリに保持されたデータを送信する通信回路とを備えた測定用ウエハと、送信されたデータを受信する通信回路と、受信したデータと基準データとを比較する比較回路とを備えたコントローラと、測定用ウエハを収容するウエハ容器とを有するものである。
また、本発明による半導体装置の製造方法は、振動センサと、その振動センサで検知したデータを保持するメモリとを備えた測定用ウエハを使用し、振動センサで検知したデータを測定用ウエハ内のメモリに保存しながら、ウエハ容器内から処理室内へ搬送して戻す搬送し、搬送中の振動データを、無線通信によりコントローラに取り込み、取り込んだ搬送中の振動データと基準データとを比較し、所定のしきい値を超えた場合にアラームを発生するものである。
本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、以下のとおりである。
(1)ウエハ搬送系の調子について問題が無いか否かを、簡便に確認することができる。
(2)ウエハ搬送系の位置ずれによるウエハへの衝撃が定期的に、簡単に測定することができ、異常な状態で製品ウエハを処理する事が無くなるため、歩留向上、ウエハ割れ防止に有効である。
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一部材には原則として同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。
図1は本発明の一実施の形態に係る半導体装置の製造システムの概略構成を示す図、図2は図1の製造装置内におけるウエハ搬送経路の一例を示す図、図3は図1のFOUP(ウエハ用密閉型容器)のOHT(Overhead Hoist Transfer)による自動搬送機構の一例を示す図、図4は図1のFOUPの外観構成を示す図、図5は図1の測定用ウエハの外観構成を示す図、図6は図5のチップの構成を示すブロック図、図7は図1のコントローラの構成を示すブロック図、図8は図5の測定用ウエハで測定したウエハ搬送時の振動測定例を示す波形図、図9は図7のコントローラによるウエハ搬送時の異常検出方法を示す図である。
まず、図1により、本実施の形態に係る半導体装置の製造システムの構成の一例を説明する。本実施の形態に係る半導体装置の製造システムは、例えば、製造装置10、FOUP16、測定用ウエハ17、コントローラ18などから構成される。この製造システムは、測定用ウエハ17、コントローラ18をFOUP16内に収納し、自動で測定用ウエハ17の搬送・振動測定、正常・異常の判断を行うシステムである。
製造装置10は、半導体装置の製造に利用されるエッチング装置や成膜装置などの製造装置とされ、例えば、ロードポート11、ファクトリーインターフェイス(FI)ロボット12、ロードロック(L/L)13、内部ロボット14、チャンバ(処理室)15などから構成される。
ロードポート11は、製造装置10の入口及び出口であり、処理されるウエハを収容したFOUP16などのウエハ容器が載せられるものである。
FIロボット12は、処理されるウエハをFOUP16から取り出し、L/L13を介して内部ロボット14へと搬送するものである。
L/L13は、チャンバ15内の真空を保つための入り口である。
内部ロボット14は、処理されるウエハをチャンバ15内へと搬送するものであり、この領域は真空となっている。
チャンバ15は、ウエハを処理する処理室であり、真空が保たれている。
図1では、ウエハ搬送時の振動を測定するため、コントローラ18が内部に設けられているFOUP16がロードポート11上に置かれている。また、FOUP16は、測定用ウエハ17を収容しており、この測定用ウエハ17をロボットで搬送することにより、搬送時の振動を測定する。なお、図1は、FOUP16のドアが開いた状態を示している。
図2により、製造装置10内のウエハ搬送経路の一例を説明する。図2に示す製造装置10は、処理効率を上げるため、2つのパス(A,B)を有する装置となっている。この製造装置10は、ロードポート11a,11b、FIロボット12a,12b、L/L13a,13b、内部ロボット14、チャンバ15a,15bなどから構成される。
図2に示したウエハ搬送経路の例では、FIロボット12bがロードポート11bからL/L13bを介して内部ロボット14へウエハを搬送し、内部ロボット14がチャンバ15a又はチャンバ15bへとウエハを搬送する。処理が終了したウエハは、チャンバ15a又はチャンバ15bから内部ロボット14により取り出され、FIロボット12aによりL/L13aを介して取り出され、ロードポート11b上のFOUP16に収容される。
図3により、本実施の形態による半導体装置の製造システムにおけるFOUP16の自動搬送機構の一例を説明する。図3では、複数台の製造装置10が示されており、その複数台の製造装置10の間にOHT31が設置されている。OHT31によりFOUP16を各製造装置10へ搬送し、ホイスト機構32によりFOUP16をロードポート11上に載せる。
図4により、FOUP16の外観構成を説明する。FOUP16は、処理ウエハ及び測定用ウエハ17を収容する密閉型のウエハ容器である。図4に示すように、FOUP16は、FOUPシェル41、FOUPドア42、マッシュルーム43、レジストレーションピン穴44、ラッチキー穴45、マニュアルハンド46、サイドレール47などから構成されている。
図5により、測定用ウエハ17の外観構成を説明する。測定用ウエハ17の材質は何でもよいが、処理ウエハ(シリコン)と同じ重さのものがよい。図5に示すように、測定用ウエハ17には、振動センサを備えたチップ51が取り付けられている。
図6により、チップ51の構成の一例を説明する。図6に示すように、チップ51は、例えば、振動センサ61、振動波形記録用メモリ62、RF(Radio Frequency)通信回路(第1の通信回路)63、制御回路64、電源65などから構成されている。
振動センサ61は、振動を検知するセンサである。
振動波形記録用メモリ62は、振動センサ61で検知した振動波形データなどを保持するメモリである。
RF通信回路63は、無線通信を行うための回路であり、振動センサ61で検知され振動波形記録用メモリ62に保存されたデータなどを無線で送信するものである。
制御回路64は、振動測定の開始・終了や通信機能などチップ51の制御を行うものである。
電源65は、チップ51の各回路に電源を供給するものであり、バッテリ(電池)などを含む。
図7により、コントローラ18の構成を説明する。コントローラ18は、チップ51から搬送中の振動波形データを無線通信で取り込み、基準データと比較して異常を検知するものである。図7に示すように、コントローラ18は、RF通信回路(第2の通信回路)71、振動波形記録用メモリ72、基準波形記録用メモリ73、比較回路74、制御回路75、電源76などから構成されている。
RF通信回路71は、無線通信を行うための回路であり、チップ51から送信された振動波形データを無線で受信するものである。
振動波形記録用メモリ72は、受信した振動波形データを保持するメモリである。
基準波形記録用メモリ73は、基準となる正常時の振動波形データを保持するメモリである。
比較回路74は、振動波形記録用メモリ72に保存されている振動波形データと、基準波形記録用メモリ73に保存されている基準振動波形データとを比較し、所定のしきい値を超えた場合にアラーム信号を発生する回路である。
制御回路75は、波形データの受信、波形データ比較の開始・終了、アラーム信号の発生などコントローラ18全体の制御を行う回路である。
電源76は、コントローラ18の各回路に電源を供給するものであり、バッテリ(電池)などを含む。
また、コントローラ18は、製造装置10のロードポート11上で、製造装置10と情報の遣り取りを行う。例えば、測定された振動波形がしきい値を超えた値となった場合、アラーム信号を製造装置10に送り、製造装置10側でもアラームが表示される。
図8により、測定用ウエハ17で測定したウエハ搬送時の振動波形データの一例を説明する。図8は、正常時の振動波形データである。横軸は時間、縦軸は振動の強さ(加速度)を示す。
次に、図1及び図9により、本実施の形態による半導体装置の製造システムを利用した半導体装置の製造方法を説明する。本実施の形態に係る半導体装置の製造方法は、自動で測定用ウエハ17の搬送・振動測定、正常・異常の判断を行うものである。
まず、測定用ウエハ17及びコントローラ18を内蔵したFOUP16の着工指示をする。具体的には、端末装置を用いて入力してIDを指定する。
続いて、FOUP16がロードポート11に運ばれ、振動測定開始のスイッチがオンされる。
搬送のみを行うレシピで、測定用ウエハ17をFOUP16から取り出して、チャンバ15へ搬送する。その際、振動センサ61で検知した振動波形データを振動波形記録用メモリ62に保存しながら搬送を行う。
同様にして、測定用ウエハ17をチャンバ15から取り出して、FOUP16内へ搬送する。製造装置10内を搬送された測定用ウエハ17がFOUP16内に戻る。
続いて、搬送中の振動データをコントローラ18に取り込み振動波形記録用メモリ72に保存する。コントローラ18において、基準波形記録用メモリ73内の基準波形データと比較を行い、測定した振動データがしきい値を超えている場合は、アラーム信号を製造装置10に出す。コントローラ18と製造装置10との間の信号のやりとりは、ロードポート11で行ってもよい。その場合、通信手段は、無線でも接触式でも光通信でもよい。
製造装置10は、アラーム信号を受け、製造装置10側でもアラームを出し自動的に停止する。停止は、人が確認してからでもよい。以上の搬送時の振動測定は、例えば、1日に1回行い、搬送機構のチェックを行う。そして、通常の半導体プロセスを実施し、半導体装置を製造する。
図9により、コントローラ18によるウエハ搬送時の異常検出方法を説明する。図9において、横軸は時間(秒)、縦軸は振動の強さ、すなわち加速度(G)を示す。また、一点鎖線及び実線は振動波形データを示し、一点鎖線は正常時の波形、実線は異常時の波形を示す。点線は、しきい値を示し、測定データがこのしきい値を超えた場合に、アラームを発生する。
したがって、本実施の形態に係る半導体装置の製造システム及び製造方法によれば、振動測定を簡便に行え、その結果をリアルタイムで製造装置にアラームとして挙げる事が可能となる。また、搬送系の調子が問題無いかを、簡便に確認できる。また、搬送系の位置ずれによるウエハへの衝撃が定期的に、簡単に測定でき、異常な状態で製品ウエハを処理する事が無くなるため、歩留向上、ウエハ割れ防止に有効である。
以上、本発明者によってなされた発明をその実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
例えば、前記実施の形態においては、コントローラ18をFOUP16内に設けた場合について説明したが、これに限定されるものではなく、FOUP16の外、すなわち製造装置10内、又は製造装置10の外の端末装置に設けてもよい。
また、前記実施の形態においては、振動センサ61を含むチップ51を測定用ウエハ17に取り付けた場合について説明したが、これに限定されるものではなく、ロボットのハンドにチップ51を取り付けて、搬送時の異常を検知してもよい。
以上の説明では、主として本発明者によってなされた発明を、その属する技術分野である半導体装置の製造工程におけるウエハに適用した場合について説明したが、これに限定されるものではなく、例えば、液晶パネルなどに適用することも可能である。
本発明は、半導体装置の製造ラインについて適用可能である。
本発明の一実施の形態に係る半導体装置の製造システムの概略構成を示す図である。 図1の製造装置内のウエハ搬送経路の一例を示す図である。 図1のFOUPのOHTによる自動搬送機構の一例を示す図である。 図1のFOUPの外観構成を示す図である。 図1の測定用ウエハの外観構成を示す図である、 図5のチップの構成を示すブロック図である。 図1のコントローラの構成を示すブロック図である。 図5の測定用ウエハで測定したウエハ搬送時の振動測定例を示す波形図である。 図7のコントローラによるウエハ搬送時の異常検出方法を示す図である。
符号の説明
10 製造装置
11,11a,11b ロードポート
12,12a,12b ファクトリーインターフェイス(FI)ロボット
13,13a,13b ロードロック(L/L)
14 内部ロボット
15,15a,15b チャンバ
17 測定用ウエハ
18 コントローラ
32 ホイスト機構
41 FOUPシェル
42 FOUPドア
43 マッシュルーム
44 レジストレーションピン穴
45 ラッチキー穴
46 マニュアルハンド
47 サイドレール
51 チップ
61 振動センサ
62,72 振動波形記録用メモリ
63,71 RF通信回路
64,75 制御回路
65,76 電源
73 基準波形記録用メモリ
74 比較回路

Claims (5)

  1. 振動センサと、前記振動センサで検知したデータを保持するメモリと、前記メモリに保持されたデータを送信する第1の通信回路とを備えた測定用ウエハと、
    前記第1の通信回路から送信されたデータを受信する第2の通信回路と、前記第2の通信回路で受信したデータと基準データとを比較する比較回路とを備えたコントローラと、
    前記測定用ウエハを収容するウエハ容器とを有することを特徴とする半導体装置の製造システム。
  2. 請求項1記載の半導体装置の製造システムにおいて、
    前記第1の通信回路から前記第2の通信回路へのデータ送信は無線で行われることを特徴とする半導体装置の製造システム。
  3. 請求項1又は2記載の半導体装置の製造システムにおいて、
    前記コントローラは、前記比較回路による比較の結果、所定のしきい値を超えた場合にアラーム信号を発生することを特徴とする半導体装置の製造システム。
  4. 請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体装置の製造システムにおいて、
    前記コントローラは、前記ウエハ容器の内部に設けられていることを特徴とする半導体装置の製造システム。
  5. 振動センサと、前記振動センサで検知したデータを保持するメモリとを備えた測定用ウエハを、前記振動センサで検知したデータを前記メモリに保存しながら、ウエハ容器内から処理室内へ搬送する第1の搬送工程と、
    前記測定用ウエハを、前記振動センサで検知したデータを前記メモリに保存しながら、前記処理室内から前記ウエハ容器内へ搬送する第2の搬送工程と、
    前記メモリに保存された搬送中の振動データを、無線通信により、前記ウエハ容器内に設けられたコントローラに取り込む工程と、
    前記コントローラが取り込んだ前記搬送中の振動データと基準データとを比較する工程とを有し、
    前記比較の結果、所定のしきい値を超えた場合にアラームを発生することを特徴とする半導体装置の製造方法。
JP2005127579A 2005-04-26 2005-04-26 半導体装置の製造システム及び製造方法 Pending JP2006310349A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005127579A JP2006310349A (ja) 2005-04-26 2005-04-26 半導体装置の製造システム及び製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005127579A JP2006310349A (ja) 2005-04-26 2005-04-26 半導体装置の製造システム及び製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006310349A true JP2006310349A (ja) 2006-11-09

Family

ID=37476937

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005127579A Pending JP2006310349A (ja) 2005-04-26 2005-04-26 半導体装置の製造システム及び製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006310349A (ja)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101807059A (zh) * 2009-02-13 2010-08-18 株式会社日立国际电气 基板处理装置和基板处理装置中的异常显示方法
JP2011138835A (ja) * 2009-12-26 2011-07-14 Canon Anelva Corp 搬送振動監視装置及び真空処理装置並びに搬送振動監視方法
JP2016146416A (ja) * 2015-02-09 2016-08-12 株式会社Screenホールディングス 基板処理方法および基板処理システム
JP2017208539A (ja) * 2010-06-22 2017-11-24 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated フェムト秒レーザ及びプラズマエッチングを用いたウェハダイシング
JP2018129509A (ja) * 2017-02-06 2018-08-16 ラム リサーチ コーポレーションLam Research Corporation 半導体処理ツールとの随意の統合を伴うスマートバイブレーションウエハ
WO2019067128A1 (en) * 2017-09-29 2019-04-04 Intel Corporation METHODS AND APPARATUSES FOR ROBOT HEALTH MONITORING IN MANUFACTURING ENVIRONMENTS
JP2020174130A (ja) * 2019-04-10 2020-10-22 株式会社Sumco 半導体ウェーハの品質評価方法、半導体ウェーハの収容容器の評価方法、半導体ウェーハの収容容器の選定方法、半導体ウェーハの輸送ルートの評価方法および半導体ウェーハの輸送ルートの選定方法
JP2022520692A (ja) * 2018-12-03 2022-04-01 ラム リサーチ コーポレーション ピンリフター試験基板
DE102019210621B4 (de) 2018-07-18 2024-05-29 Disco Corporation Automatisiertes werkstücktransportfahrzeug

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101807059A (zh) * 2009-02-13 2010-08-18 株式会社日立国际电气 基板处理装置和基板处理装置中的异常显示方法
CN102760673A (zh) * 2009-02-13 2012-10-31 株式会社日立国际电气 基板处理装置及其异常显示方法、参数设定方法
KR101235774B1 (ko) * 2009-02-13 2013-02-21 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키 기판 처리 장치 및 기판 처리 장치에 있어서의 이상 표시 방법
US8483870B2 (en) 2009-02-13 2013-07-09 Hitachi Kokusai Electric Inc. Substrate processing apparatus and method of displaying abnormal state of substrate processing apparatus
JP2011138835A (ja) * 2009-12-26 2011-07-14 Canon Anelva Corp 搬送振動監視装置及び真空処理装置並びに搬送振動監視方法
JP2017208539A (ja) * 2010-06-22 2017-11-24 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated フェムト秒レーザ及びプラズマエッチングを用いたウェハダイシング
US10910271B2 (en) 2010-06-22 2021-02-02 Applied Materials, Inc. Wafer dicing using femtosecond-based laser and plasma etch
US10566238B2 (en) 2010-06-22 2020-02-18 Applied Materials, Inc. Wafer dicing using femtosecond-based laser and plasma etch
US10714390B2 (en) 2010-06-22 2020-07-14 Applied Materials, Inc. Wafer dicing using femtosecond-based laser and plasma etch
US11621194B2 (en) 2010-06-22 2023-04-04 Applied Materials, Inc. Wafer dicing using femtosecond-based laser and plasma etch
JP2016146416A (ja) * 2015-02-09 2016-08-12 株式会社Screenホールディングス 基板処理方法および基板処理システム
JP2018129509A (ja) * 2017-02-06 2018-08-16 ラム リサーチ コーポレーションLam Research Corporation 半導体処理ツールとの随意の統合を伴うスマートバイブレーションウエハ
JP7262170B2 (ja) 2017-02-06 2023-04-21 ラム リサーチ コーポレーション 半導体処理ツールとの随意の統合を伴うスマートバイブレーションウエハ
US10695907B2 (en) 2017-09-29 2020-06-30 Intel Corporation Methods and apparatus for monitoring robot health in manufacturing environments
WO2019067128A1 (en) * 2017-09-29 2019-04-04 Intel Corporation METHODS AND APPARATUSES FOR ROBOT HEALTH MONITORING IN MANUFACTURING ENVIRONMENTS
DE102019210621B4 (de) 2018-07-18 2024-05-29 Disco Corporation Automatisiertes werkstücktransportfahrzeug
JP2022520692A (ja) * 2018-12-03 2022-04-01 ラム リサーチ コーポレーション ピンリフター試験基板
JP7341237B2 (ja) 2018-12-03 2023-09-08 ラム リサーチ コーポレーション ピンリフター試験基板
JP7081558B2 (ja) 2019-04-10 2022-06-07 株式会社Sumco 半導体ウェーハの品質評価方法、半導体ウェーハの収容容器の評価方法、半導体ウェーハの収容容器の選定方法、半導体ウェーハの輸送ルートの評価方法および半導体ウェーハの輸送ルートの選定方法
JP2020174130A (ja) * 2019-04-10 2020-10-22 株式会社Sumco 半導体ウェーハの品質評価方法、半導体ウェーハの収容容器の評価方法、半導体ウェーハの収容容器の選定方法、半導体ウェーハの輸送ルートの評価方法および半導体ウェーハの輸送ルートの選定方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2006310349A (ja) 半導体装置の製造システム及び製造方法
US10593575B2 (en) System and method for monitoring wafer handling and a wafer handling machine
US6901971B2 (en) Transportable container including an internal environment monitor
JP2004031901A (ja) センサボックスを備えたウエハ処理装置
TWI604552B (zh) 半導體製造設備用存取仲裁系統與用以使用及操作該系統之方法
JP2006513583A5 (ja)
JP2019519911A (ja) 施設モニタリング及び制御のためのリアルタイム移動式キャリアシステム
US11804392B2 (en) Method of monitoring tool
JP2018129509A (ja) 半導体処理ツールとの随意の統合を伴うスマートバイブレーションウエハ
KR20190062891A (ko) 운송 인클로저 오염도 모니터링 장치 및 이를 이용한 오염도 모니터링 방법
JP2006202010A (ja) ワーク搬送システム
KR100780383B1 (ko) 반도체공정장비 원격제어시스템 및 그 방법
TWI645162B (zh) 環境監測系統
TWI648209B (zh) 自動化物料處理方法與系統
TW556252B (en) Transportable container including an internal environment monitor
CN110767563B (zh) 检测晶圆完整性的方法、rtp机台
CN207938584U (zh) 气锁及晶圆传送装置
KR20200098110A (ko) 반도체 장치 진동 측정장치
US20110274521A1 (en) Carrier system and method for handling carried object using the same
JP2005524155A (ja) アクセス管理方法及びその装置並びに移動管理方法
KR100586170B1 (ko) 반도체 웨이퍼 반송장치 및 방법
KR20090055660A (ko) 마그네틱 센서를 이용한 웨이퍼의 위치 제어장치 및 그방법
KR20100073567A (ko) 반도체 제조 시스템의 이송 로봇 위치 감지 장치 및 그 방법
KR20060078822A (ko) 웨이퍼 카운트 시스템 및 그 방법
JP2010182823A (ja) 半導体製造装置および半導体製造システム