JP2006277785A - 不揮発性半導体記憶装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 しきい値電圧により規定されるデータを記憶するメモリセルが配列されたメモリセルアレイを有する不揮発性半導体記憶装置において、前記メモリセルアレイの第1の領域に複数の書き込みステップで多値データが書き込まれ、前記メモリセルアレイの第2の領域に前記多値データと同じ複数の書き込みステップでかつそれらのビットデータに従ってしきい値レベルが制御される第1論理状態と第2論理状態により定義される2値データが書き込まれる。
【選択図】 図1
Description
通常データ領域が8値データ記憶を行うものとして、その8値データはこの実施の形態の場合図1に示すように、最下位しきい値レベルL0(消去状態)から最上位しきい値レベルL7までの8レベルで表され、それらに3ビットデータが割り付けられる。第3ページ(上位ページ)データビットを“x”、第2ページ(中間ページ)データビットを“y”、第1ページ(下位ページ)データビットを“z”として、8値データは(xyz)で表される。データ書き込みは、第1ページ、第2ページ、第3ページの順に行われる。
通常データ領域が4値データ記憶を行う場合、そのデータビット割り付けと書き込み法は図11のようになる。図11にはこのときのフラグデータ領域のデータ状態と書き込み法を併せて示している。
[16値データ記憶の場合]
通常データ領域が16値データ記憶を行う場合、そのデータビット割り付けと書き込み法は図12のようになる。図13にはこのときのフラグデータ領域のデータ状態と書き込み法を示している。
[書き込みデータ制御]
図1の8値データ記憶の場合について代表的に説明した書き込みシーケンスは、便宜上ページ毎に独立したものとして、図6〜図8に示した。しかし実際のデータ書き込みは、8値データ記憶の場合、3ページ分の書き込みデータを1ページずつメモリチップに順次ロードした後、3ページ分の書き込みが連続的に実行される。
Claims (8)
- しきい値電圧により規定されるデータを記憶するメモリセルが配列されたメモリセルアレイを有する不揮発性半導体記憶装置において、
前記メモリセルアレイの第1の領域に複数の書き込みステップで多値データが書き込まれ、
前記メモリセルアレイの第2の領域に前記多値データと同じ複数の書き込みステップでかつそれらのビットデータに従ってしきい値レベルが制御される第1論理状態と第2論理状態により定義される2値データが書き込まれる
ことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 - 前記2値データの第1論理状態と第2論理状態のしきい値レベルは、前記多値データのしきい値レベル分布の中央値を挟むように設定され、2値データ読み出しは、多値データの最上位ページデータ読み出しに適用される読み出し電圧を用いて行われる
ことを特徴とする請求項1記載の不揮発性半導体記憶装置。 - 前記多値データは、低い方から順にL0,L1,L2,L3,L4,L5,L6及びL7のしきい値レベルで規定される、3ページデータからなる8値データであって、消去状態で全てのセルはしきい値レベルL0にあり、
第1の領域の8値データは、第1ページ書き込みでレベルL0のセルに選択的にレベルL1が書き込まれ、第2ページ書き込みでレベルL0とL1にあるセルに選択的にそれぞれレベルL3とL2が書き込まれ、第3ページ書き込みでレベルL0,L1,L2及びL3にあるセルに選択的にそれぞれレベルL7,L6,L5及びL4が書き込まれ、
第2の領域の2値データは、レベルL0を第1論理状態とし、8値データのための最初の第1及び第2ページ書き込みをダミー書き込みステップとする第1乃至第3ページ書き込みによってレベルL0のセルに選択的にレベルL4,L5,L6のいずれかが第2論理状態として書き込まれる
ことを特徴とする請求項1記載の不揮発性半導体記憶装置。 - 前記第1の領域の8値データは、
第3ページデータが、しきい値レベルL3とL4の間に設定された読み出し電圧を用いて読み出され、
第2ページデータが、第3ページデータを参照して、しきい値レベルL1とL2の間に設定された読み出し電圧を用いた第1の読み出しとしきい値レベルL5とL6の間に設定された読み出し電圧を用いた第2の読み出しとにより読み出され、
第1ページデータが、第2及び第3ページデータを参照して、しきい値レベルL0とL1の間に設定された読み出し電圧を用いた第1の読み出し、しきい値レベルL2とL3の間に設定された読み出し電圧を用いた第2の読み出し、しきい値レベルL4とL5の間に設定された読み出し電圧を用いた第3の読み出し、及びしきい値レベルL6とL7の間に設定された読み出し電圧を用いた第4の読み出しにより読み出され、
前記第2の領域の2値データは、前記第1の領域の第3ページデータ読み出しと同じ条件で読み出される
ことを特徴とする請求項3記載の不揮発性半導体記憶装置。 - 前記多値データは、低い方から順にL0,L1,L2,L3,L4,L5,L6,L7,L8,L9,L10,L11,L12,L13,L14及びL15のしきい値レベルで規定される、4ページデータからなる16値データであって、消去状態で全てのセルはしきい値レベルL0にあり、
第1の領域の16値データは、第1ページ書き込みでレベルL0のセルに選択的にレベルL1が書き込まれ、第2ページ書き込みでレベルL0とL1にあるセルに選択的にそれぞれレベルL3とL2が書き込まれ、第3ページ書き込みでレベルL0,L1,L2及びL3にあるセルに選択的にそれぞれレベルL7,L6,L5及びL4が書き込まれ、第4ページ書き込みでレベルL0,L1,L2,L3,L4,L5,L6及びL7にあるセルに選択的にそれぞれレベルL15,L14,L13,L12,L11,L10,L9及びL8が書き込まれ、
第2の領域の2値データは、レベルL0を第1論理状態とし、16値データのための最初の第1乃至第3ページ書き込みをダミー書き込みステップとする第1乃至第4ページ書き込みによってレベルL0のセルに選択的にレベルL8,L9,L10,L11,L12,L13,L14のいずれかが第2論理状態として書き込まれる
ことを特徴とする請求項1記載の不揮発性半導体記憶装置。 - 前記第1の領域の16値データは、
第4ページデータが、しきい値レベルL7とL8の間に設定された読み出し電圧を用いて読み出され、
第3ページデータが、しきい値レベルL3とL4の間に設定された読み出し電圧を用いた第1の読み出しと、しきい値レベルL11とL12の間に設定された読み出し電圧を用いた第2の読み出しとにより読み出され、
第2ページデータが、しきい値レベルL1とL2の間に設定された読み出し電圧を用いた第1の読み出し、しきい値レベルL5とL6の間に設定された読み出し電圧を用いた第2の読み出し、しきい値レベルL9とL10の間に設定された読み出し電圧を用いた第3の読み出し、及びしきい値レベルL13とL14の間に設定された読み出し電圧を用いた第4の読み出しにより読み出され、
第1ページデータが、しきい値レベルL0とL1の間に設定された読み出し電圧を用いた第1の読み出し、しきい値レベルL2とL3の間に設定された読み出し電圧を用いた第2の読み出し、しきい値レベルL4とL5の間に設定された読み出し電圧を用いた第3の読み出し、しきい値レベルL6とL7の間に設定された読み出し電圧を用いた第4の読み出し、しきい値レベルL8とL9の間に設定された読み出し電圧を用いた第5の読み出し、しきい値レベルL10とL11の間に設定された読み出し電圧を用いた第6の読み出し、しきい値レベルL12とL13の間に設定された読み出し電圧を用いた第7の読み出し、及びしきい値レベルL14とL15の間に設定された読み出し電圧を用いた第8の読み出しにより読み出され、
前記第2の領域の2値データは、前記第1の領域の第4ページデータ読み出しと同じ条件で読み出される
ことを特徴とする請求項5記載の不揮発性半導体記憶装置。 - 前記メモリセルアレイは、直列接続された複数のメモリセルを有するNANDセルユニットを配列して構成されている
ことを特徴とする請求項1記載の不揮発性半導体記憶装置。 - 前記第2の領域の2値データは、前記第1の領域のデータ書き換えが許可されるか否かを知らせるフラグデータである
ことを特徴とする請求項1記載の不揮発性半導体記憶装置。
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