JP2006275611A - 試料検査装置、試料検査方法及びプログラム - Google Patents
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Abstract
【構成】 X方向に1画素ずつ移動しながら所定の画素幅で被検査試料の光学画像を取得する画像データ取得部150と、取得された光学画像に対し、前記所定の方向に1画素ずつ移動しながら前記所定の画素幅以内の所定の画素幅で切り出す画素列を補正する補正回路140と、補正された画素列を順に並べて所定の領域の画像として切り出すエリア切出し回路215と、前記所定の領域の画像と参照画像とを比較する比較判定処理回路218と、を備えたことを特徴とする。
【選択図】 図2
Description
被検査試料を載置して所定の方向に移動するステージを有し、所定の方向に1画素ずつ移動しながら所定の画素幅で被検査試料の光学画像を取得する光学画像取得部と、
取得された光学画像に対し、前記ステージの移動位置の誤差を画素数に換算して、誤差分の整数画素数だけ切り出す画素列の位置を補正する補正部と、
補正された画素列を順に並べて所定の領域の画像として切り出す切り出し部と、
前記所定の領域の画像と参照画像とを比較する比較部と、
を備えたことを特徴とする。
所定の方向に1画素ずつ移動しながら所定の画素幅で被検査試料の光学画像を取得する光学画像取得工程と、
取得された光学画像に対し、前記所定の方向に1画素ずつ移動しながら前記所定の画素幅以内の所定の画素幅で切り出す画素列を補正する補正工程と、
補正された画素列を順に並べて所定の領域の画像として切り出す切り出し工程と、
前記所定の領域の画像と参照画像とを比較する比較工程と、
を備えたことを特徴とする。
所定の方向に1画素ずつ移動しながら所定の画素幅で取得された被検査試料の光学画像を入力し、記憶装置に記憶する光学画像入力処理と、
前記記憶装置に記憶された光学画像に対し、前記所定の方向に1画素ずつ移動しながら前記所定の画素幅以内の所定の画素幅で切り出す画素列を補正する補正処理と、
補正された画素列を順に並べて所定の領域の画像として切り出す切り出し処理と、
前記所定の領域の画像と参照画像とを比較する比較処理と、
を備えたことを特徴とする。
図1は、実施の形態1における試料検査装置の構成を示す概念図である。
図1において、マスクやウェハ等の基板を試料として、かかる試料の欠陥を検査する試料検査装置100は、後述する図2で示す光学画像取得部となる画像データ取得部とパターン検査部を備えている。光学画像取得部は、XYθテーブル102(ステージ)、レーザ光源103、拡大光学系の一例である対物レンズ104、フォトダイオードアレイ等の一例となるTDI(タイムディレイインテグレータ)センサ105、センサ回路106、例えば、レーザ干渉計スケール若しくはリニアスケールを用いるレーザ測長システム122、オートローダ130を備えている。パターン検査部となる制御系回路では、コンピュータとなる制御計算機110が、バス120を介して、位置回路107、比較回路108、展開回路111、参照回路112、オートローダ制御回路113、テーブル制御回路114、磁気ディスク装置109、磁気テープ装置115、フレシキブルディスク装置(FD)116、CRT117、パターンモニタ118、プリンタ119、補正部の一例となる補正回路140に接続されている。また、XYθテーブル102は、X軸モータ、Y軸モータ、θ軸モータにより駆動される。
図2において、比較回路108は、比較領域設定部の一例となるエリア切り出し回路215、位置合わせ部の一例である位置合わせ回路216、比較部の一例となる比較判定処理回路218を有している。
被検査試料となるレチクル101は、XYθ各軸のモータによって水平方向及び回転方向に移動可能に設けられたXYθテーブル102上に載置され、レチクル101に形成されたパターンには適切なレーザ光源103によって光が照射される。レチクル101を透過した光は対物レンズ104を介して、TDIセンサ105に光学像として結像し、入射する。
まず、全体アライメント工程として、検査に先立ち測定パターンデータと設計イメージデータとの位置合わせ(全体アライメント)を行っておく。これは、試料に設けられた適当な専用マークを使って行われるが、オペレータが指定する任意のパターンエッジ等を使って行ってもよい。レチクル101の被検査領域は、図3に示すように、Y方向に向かって、スキャン幅Wの短冊状の複数の検査ストライプに仮想的に分割され、更にその分割された各検査ストライプが連続的に走査されるようにXYθテーブル102の動作が制御され、X方向に移動しながら光学画像が取得される。TDIセンサ105には、スキャン幅Wの画素数を受光できるようにスキャン幅Wの画素数分の複数の素子が配置される。X方向に1画素ずつ移動しながら所定の画素幅、すなわち、スキャン幅Wでレチクル101の光学画像を取得する。TDIセンサ105では、図3に示されるようなスキャン幅Wの画像(画素列)をX方向に1画素ずつ移動しながら連続的に入力する。そして、第1の検査ストライプにおける画像を取得した後、第2の検査ストライプにおける画像を今度は逆方向に移動しながら同様にスキャン幅Wの画像を連続的に入力する。そして、第3の検査ストライプにおける画像を取得する場合には、第2の検査ストライプにおける画像を取得する方向とは逆方向、すなわち、第1の検査ストライプにおける画像を取得した方向に移動しながら画像を取得する。このように、連続的に画像を取得していくことで、無駄な処理時間を短縮することができる。
センサ回路106から得られた測定パターンデータは、対物レンズ104の解像特性やTDIセンサ105のアパーチャ効果等によってフィルタが作用した状態、言い換えれば連続変化するアナログ状態にあるため、画像強度(濃淡値)がデジタル値の設計側のイメージデータにもフィルタ処理を施して、測定パターンデータに合わせるためである。
図6に示すように、画像データを取得する際に、XYステージとなるXYθテーブル102をX方向に移動させる場合のY方向の位置ずれが生じる場合がある。また、資料となるレチクル101を透過したレーザ光が、対物レンズ104を透過する場合に生じるひずみが挙げられる。また、レーザ光を受光するTDIセンサ105に配置された素子の取り付け位置ずれが挙げられる。
図7は、XYθテーブルをX方向に移動させる場合のY方向の位置ずれを補正する手法を説明するための図である。
ここでは、画像データ取得時に生じるXYステージとなるXYθテーブル102の位置ずれに起因する誤差を補正する。画像補正1の補正量演算は、画像データ取得部150より転送される座標(転送座標)Yと、予め補正回路140に設定される基準座標(補正座標)Y’の差分から補正量を求める。ここで、座標から求められる差分は画像取得時の物理座標系(レーザ干渉計スケールもしくは、リニアスケール)の単位で与えられるため、画像処理として扱うことのできる単位に変換する。
したがって、転送座標、補正座標の差分と等しくなるように補正量を求めればよいので、補正量をCとすると、式1が導出される。
よって、C=α(Y’−Y)となる。(但し、α=S・V/L)
図8は、画素列の位置をシフトする手法を説明するための図である。
かかる式1にて計算した結果、画像補正1の補正処理は、1画素以上の差分に対して画像データの取り込み位置(タイミング)を調整し、画素単位の移動を行うことで差分を補正する。例えば、式1にて計算した結果、Y方向に1+100/256画素の補正が必要な場合、整数である1画素について、有効画素の取り込み(切り出し)位置をシフトする。図8(a)に示すように、画像データ取得部150により取得された第n画素列について、スキャン幅Wの画素列の画素数を2048画素とした場合であって、設計上では、3画素目から2046画素目までを有効画素列として、その前後を無効画素とする場合、図8(b)に示すように、補正量のうちの整数部分の1画素分、有効画素列をシフトすることで、位置ずれ補正を行なう。すなわち、ここでは、4画素目から2047画素目までを有効画素列とするように補正する。
1画素未満の補正は高次補間(2次以上)にて行うことが望ましい。高次補間にて階調値を補正することで、高精度な補正をすることができる。ここで言う高次補間では、補正対象となる画素とその前後の画素を移動量に応じた割合で合成し、補正後の階調値を算出する。説明を省略したS610における階調値演算の手法を以下に説明する。有効画素列のうち、図5(a)に示すように、例えば、N番目の画素の階調値Znを演算する場合について説明する。ここでは、一例として、高次補間処理を、3次(補正対象画素に対して補正方向に2画素、逆方向に1画素を合成)の補間を行なう。1画素未満の補正量をCdとすると、0<Cd<Vの場合、N−1番目の画素の階調値Zn−1、N+1番目の画素の階調値Zn+1、N+2番目の画素の階調値Zn+2とすると、式2により階調値Znを演算することができる。
但し、K=a+b+c+d
式3:Zn=(aZn−2+bZn−1+cZn+dZn+1)/K
但し、K=a+b+c+d
図10に示すように、合成する割合を示す係数a、b、c、dの各値は、補正する1画素未満のずれ量に基づいて、一意に決まる値となる。例えば、3/256画素の補正を行なう場合、各係数は、a3、b3、c3、d3の値を用いる。各値は、予め求めておけばよい。各画素に対する補間の割合は、補正量に対応した値をあらかじめ計算しておき、補正回路のパラメータとして設定し、記憶装置に記憶しておけばよい。そして、補正実行時に対応した補正パラメータを読み出して使用する。
図11は、1次補間による演算を行なった場合の一例を示す図である。
図8に示したように、1画素シフトして、残り100/256画素の補正が残っている場合について説明する。図11(a)に示すように、例えば、1画素シフトして、4画素目から有効画素が始まる場合であって、4画素目の階調値が50、5画素目の階調値が70であったとする。残り100/256画素の補正に基づいて、4画素目の階調値を演算する。1次補間では、補正方向の1画素を合成する。100/256画素を補正するため、5画素目の階調値を100/256の割合で、4画素目の階調値に合成する。したがって、4画素目の階調値のうち、100/256の割合を差し引くことになる。よって、4画素目の階調値Z4=(1−100/256)・50+100/256・70≒58となり、図11(b)に示すように、4画素目の階調値「58」を演算することができる。
図12に示すように、複数の補正処理を行なう場合には、高次補完をする前に、補正量Cを合成しておくとより高精度の補正を行なうことができる。ここでは、画像補正1(所定軸方向の軸ずれ補正)による補正量と画像補正2(伸縮補正)による補正量と画像補正3(ひずみ補正)による補正量とから全体の補正量を算出し、かかる全体の補正量に基づいて、画素列の各画素の階調値を演算する。そして、補正回路140は、演算された階調値に各画素の階調値を再設定するとよい。
→
画像データ取得部150により取得された画像データを補正しない場合、図13(a)に示すように、参照画像と比較する所定のエリアのスキャン画像は、歪んだままとなってしまい、擬似欠陥を欠陥と判定してしまう。本実施の形態1の手法により、画素列ごとに補正することにより、所定のエリアのスキャン画像は、歪みを解消することができる。よって、検査画像と参照画像とをより高精度に一致させることができる。
実施の形態1では、レーザ光がレチクル101を透過した光を受光した画像データ(スキャン画像)を用いているが、レーザ光がレチクル101を反射した光を受光した画像データ(スキャン画像)を用いても好適である。
図14は、実施の形態2における反射型の試料検査装置の構成について説明するための概念図である。
図14において、レーザ光は、ハーフミラーにより反射されて、対物レンズを介してレチクルを照射する。そして、レチクルから反射されたレーザ光は、対物レンズとハーフミラーを介してTDIセンサに受光される。反射光を用いる場合には、画像データ取得部150により取得された画像データが反転しているので、参照回路112により作成される参照画像も同様に反転させた画像とすることが望ましい。その他の構成は、実施の形態1と同様で構わないため説明を省略する。
実施の形態3では、透過光と反射光との両方を用いる構成について説明する。
図15は、実施の形態3における試料検査装置の構成について説明するための概念図である。
図15において、レーザ光がステージ上に配置されたレチクルを透過した光を対物レンズとハーフミラーを介してTDIセンサにより受光した画像データ(スキャン画像)と、レーザ光がハーフミラーにより反射されて、対物レンズを介してレチクルを照射し、レチクルから反射されたレーザ光が対物レンズとハーフミラーを介してTDIセンサにより受光した画像データ(スキャン画像)との両方を用いる。そして、透過光と反射光とのどちらを用いる構成においても、画像補正1(所定軸方向の軸ずれ補正)と画像補正2(伸縮補正)と画像補正3(ひずみ補正)とのうち、少なくとも1つの補正処理を行なうことで、参照画像との一致度を向上させ、擬似欠陥を減少させることができる。
図16(a)に示すようなガラス基板上にハーフトーン膜が一部に形成されたレチクルのパターン欠陥検査を行なう場合、図16(b)に示すように、透過光を用いたパターン欠陥検査では、透過領域とハーフトーン領域との差が大きく表れるのに対し、図16(c)に示すように、反射光を用いたパターン欠陥検査では、透過領域とハーフトーン領域との差が小さく判断しにくくなってしまう。よって、透過領域に対し、遮光領域(ハーフトーン領域)の割合が、小さい場合、透過光を用いたパターン欠陥検査の方が、より高精度な検査をすることができる。
図17(a)に示すようなガラス基板上にハーフトーン膜が形成され、ハーフトーン膜の一部に透過領域が形成されたレチクルのパターン欠陥検査を行なう場合、図17(b)に示すように、透過光を用いたパターン欠陥検査では、透過領域とハーフトーン領域との差が小さく表れて判断しにくくなってしまうのに対し、図17(c)に示すように、反射光を用いたパターン欠陥検査では、透過領域とハーフトーン領域との差が大きく判断しやすくなる。よって、遮光領域(ハーフトーン領域)に対し、透過領域の割合が、小さい場合、反射光を用いたパターン欠陥検査の方が、より高精度な検査をすることができる。
101 レチクル
102 XYθテーブル
103 レーザ光源
104 対物レンズ
105 TDIセンサ
106 センサ回路
107 位置回路
108 比較回路
109 磁気ディスク装置
110 制御計算機
112 参照回路
115 磁気テープ装置
140 補正回路
215 エリア切り出し回路
216 位置合わせ回路
218 比較判定処理回路
Claims (7)
- 被検査試料を載置して所定の方向に移動するステージを有し、所定の方向に1画素ずつ移動しながら所定の画素幅で被検査試料の光学画像を取得する光学画像取得部と、
取得された光学画像に対し、前記ステージの移動位置の誤差を画素数に換算して、誤差分の整数画素数だけ切り出す画素列の位置を補正する補正部と、
補正された画素列を順に並べて所定の領域の画像として切り出す切り出し部と、
前記所定の領域の画像と参照画像とを比較する比較部と、
を備えたことを特徴とする試料検査装置。 - 前記補正部は、さらに、前記画素列のうち、少なくとも1つの画素の階調値を補正することを特徴とする請求項1記載の試料検査装置。
- 前記補正部は、前記誤差を画素数に換算する場合に、1画素未満の単位となる誤差分について、さらに、前記画素列の各画素の階調値を補正することを特徴とする請求項1記載の試料検査装置。
- 前記光学画像取得部は、前記所定の画素幅の画素数分の複数の受光素子を配置するセンサを有し、
前記補正部は、前記センサに配置された複数の受光素子の配置位置の誤差分について、前記画素列のうち、少なくとも1つの画素の階調値を補正することを特徴とする請求項1記載の試料検査装置。 - 前記光学画像取得部は、前記被検査試料を透過或いは反射した光を透過するレンズを有し、
前記補正部は、前記レンズが前記被検査試料を透過或いは反射した光を透過する場合に生じるひずみ誤差分について、前記画素列のうち、少なくとも1つの画素の階調値を補正することを特徴とする請求項1記載の試料検査装置。 - 所定の方向に1画素ずつ移動しながら所定の画素幅で被検査試料の光学画像を取得する光学画像取得工程と、
取得された光学画像に対し、前記所定の方向に1画素ずつ移動しながら前記所定の画素幅以内の所定の画素幅で切り出す画素列を補正する補正工程と、
補正された画素列を順に並べて所定の領域の画像として切り出す切り出し工程と、
前記所定の領域の画像と参照画像とを比較する比較工程と、
を備えたことを特徴とする試料検査方法。 - 所定の方向に1画素ずつ移動しながら所定の画素幅で取得された被検査試料の光学画像を入力し、記憶装置に記憶する光学画像入力処理と、
前記記憶装置に記憶された光学画像に対し、前記所定の方向に1画素ずつ移動しながら前記所定の画素幅以内の所定の画素幅で切り出す画素列を補正する補正処理と、
補正された画素列を順に並べて所定の領域の画像として切り出す切り出し処理と、
前記所定の領域の画像と参照画像とを比較する比較処理と、
をコンピュータに実行させるためのプログラム。
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008165198A (ja) * | 2006-12-08 | 2008-07-17 | Advanced Mask Inspection Technology Kk | パターン検査装置、及び、パターン検査方法 |
JP2009075068A (ja) * | 2007-08-08 | 2009-04-09 | Nuflare Technology Inc | パターン検査装置及びパターン検査方法 |
JP2010078735A (ja) * | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Advanced Mask Inspection Technology Kk | フォトマスク検査方法 |
JP2011003199A (ja) * | 2010-07-02 | 2011-01-06 | Renesas Electronics Corp | 設計像と撮影像との重ね合わせ表示方法、表示装置および表示プログラム |
KR101467924B1 (ko) * | 2012-03-22 | 2014-12-03 | 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지 | 검사 장치 및 검사 방법 |
CN107228685A (zh) * | 2016-03-25 | 2017-10-03 | 株式会社三丰 | 光电编码器 |
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Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008165198A (ja) * | 2006-12-08 | 2008-07-17 | Advanced Mask Inspection Technology Kk | パターン検査装置、及び、パターン検査方法 |
JP4652391B2 (ja) * | 2006-12-08 | 2011-03-16 | 株式会社東芝 | パターン検査装置、及び、パターン検査方法 |
JP2009075068A (ja) * | 2007-08-08 | 2009-04-09 | Nuflare Technology Inc | パターン検査装置及びパターン検査方法 |
JP2010078735A (ja) * | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Advanced Mask Inspection Technology Kk | フォトマスク検査方法 |
JP4554699B2 (ja) * | 2008-09-25 | 2010-09-29 | アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社 | フォトマスク検査方法 |
JP2011003199A (ja) * | 2010-07-02 | 2011-01-06 | Renesas Electronics Corp | 設計像と撮影像との重ね合わせ表示方法、表示装置および表示プログラム |
KR101467924B1 (ko) * | 2012-03-22 | 2014-12-03 | 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지 | 검사 장치 및 검사 방법 |
CN107228685A (zh) * | 2016-03-25 | 2017-10-03 | 株式会社三丰 | 光电编码器 |
CN107228685B (zh) * | 2016-03-25 | 2021-05-11 | 株式会社三丰 | 光电编码器 |
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