JP2006245405A - 半導体装置及びそれを用いたモータ駆動装置 - Google Patents

半導体装置及びそれを用いたモータ駆動装置 Download PDF

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Abstract

【課題】 寄生トランジスタによる寄生電流を検出し、寄生電流に応じて制御回路の動作を制御することを目的とし、寄生電流に起因する制御回路の誤動作を確実に防止する。
【解決手段】 本発明による半導体装置は、第1導電型の半導体基板と、半導体基板の表面の複数の第2導電型の島領域内にそれぞれ形成された第1及び第2トランジスタの1つ以上の組と、半導体基板の表面に形成され、通常制御信号が入力された場合に第1及び第2トランジスタをオンオフ制御し、寄生信号が入力された場合に第1及び第2トランジスタをオフに制御する第1制御部と、半導体基板の表面の、第1トランジスタ及び第2トランジスタの1つ以上の組と第1制御部との間に形成され、寄生電流を誘導する1つ以上の寄生モニタ素子と、半導体基板の表面に形成され、寄生電流の値に応じて通常制御信号又は寄生信号を第1制御部に出力する寄生検出部と、を有する。
【選択図】 図1

Description

本発明は半導体装置及びそれを用いたモータ駆動装置に関する。
近年、電子機器の小型化及び低消費電力化に伴い、電子機器に搭載される半導体装置にも小型かつ低消費電力なものが要求されている。例えば、電源やモータ駆動装置等に用いられる半導体装置においては、出力電流能力の高いパワートランジスタを内蔵し、外形寸法の小さいパッケージにパッケージングすることで、小型化を実現している。また、パワートランジスタを制御する制御回路内のバイアス電流の絶対値を下げることで、低消費電力化を実現している。
通常、トランジスタを内蔵した半導体装置においては、P型の半導体基板とトランジスタのN型領域とで構成されるPN接合を、逆方向にバイアスされた状態(逆バイアス状態)に維持することで、半導体基板からトランジスタを互いに電気的に分離している。しかし、トランジスタを内蔵した半導体装置がコイルやモータ等の誘導性負荷を駆動する場合、トランジスタがオンからオフに切り替わる際、誘導性負荷の誘導起電力によって、PN接合が順方向にバイアスされる(順バイアス状態)。これによって、半導体装置内の寄生トランジスタが動作して制御回路から寄生電流を流し、制御回路の誤動作を引き起こす可能性がある。
上記の寄生電流による制御回路の誤動作を防止するための従来例の半導体装置が、特許文献1に開示されている。以下、図14を参照して、従来例の半導体装置について説明する。図14は、従来例の半導体装置1401の構成を示す図である。
制御部1415からの制御によって、出力トランジスタ141Bがオンからオフに切り替わると、出力端子OUT1に接続される誘導性負荷の誘導起電力が発生する。この誘導起電力によって、P型の半導体基板10と、出力トランジスタ141Aの高濃度N型領域1423及びN型埋込み層1425とで形成されるPN接合が順方向にバイアスされる。これにより、出力端子OUT1の電位VOUT1は、一時的に以下の式(1)で表される値にまで低下する。なお、以下の式において、PN接合によって構成されるダイオードの順方向電圧低下分を1D、半導体装置1401の接地端子GNDの電位をVGNDとする。
OUT1=VGND−1D ・・・・・・(1)
上記式(1)からわかるように、この時、出力端子OUT1の電位VOUT1は、接地端子GNDの電位VGNDよりも低くなり、半導体基板10内の寄生トランジスタ1418のエミッタ−ベース間の電圧が生じるため、寄生トランジスタ1418が動作し(オンとなり)、寄生トランジスタ1418のコレクタからエミッタの方向に寄生電流が流れる。
一般に、寄生電流は、寄生の発生源(図14においては、出力トランジスタ141Aの高濃度N型領域1423と半導体基板10とによって構成されるPN接合)からの距離が近いN型領域から多く供給され、寄生の発生源から距離が遠いN型領域からはあまり供給されないことが知られている。
従来例の半導体装置1401は、出力トランジスタ141Bを出力トランジスタ141Aと制御部1415との間に設け、さらに、出力トランジスタ141Bと制御部1415との間にダミーアイランド13を設けている。そのため、寄生電流の大部分は、距離が近い出力トランジスタ141BのN型埋込み層1435及びダミーアイランド13の高濃度N型領域41から流れ、距離が遠い制御部1415から流れる寄生電流が少ない。従来例の半導体装置は、上記の構成により、寄生電流による制御部1415の誤動作を防止するものであった。
特開平7−135299号公報
しかしながら、トランジスタと制御部とが同一半導体基板上でPN接合分離によって構成される接合分離型の半導体装置においては、寄生トランジスタによる制御部からの寄生電流を完全にシャットアウトすることは困難である。図14において点線で示すように、制御部1415から少量の寄生電流が流れる。半導体装置では、今後、消費電力を低減するために制御回路のバイアス電流はさらに小さくなり、トランジスタの出力電流能力はさらに高くなると予測される。そのため、少量であっても制御回路から寄生電流が流れる従来例の半導体装置の構成では、将来的に、寄生電流の制御回路への影響が増大し制御回路の誤動作を引き起こす虞がある、という問題があった。
本発明は、上記問題に鑑み、寄生トランジスタによる寄生電流を検出し、その寄生電流に応じて制御回路の動作を制御することを目的とし、それにより寄生電流に起因する制御回路の誤動作を確実に防止する半導体装置及びそれを用いたモータ駆動装置を提供することを課題とする。
上記課題を解決するために、本発明は、以下の構成を有する。
請求項1に記載の半導体装置は、第1導電型の半導体基板と、前記半導体基板の表面に形成された第2導電型島領域内にそれぞれ形成され、高電位側が電源電圧入力端子に接続される第1トランジスタ及び低電位側が接地端子に接続される第2トランジスタの1つ以上の組と、第2導電型領域を有し、前記半導体基板の表面に形成され、通常制御信号が入力された場合に前記第1トランジスタ及び第2トランジスタをオンオフ制御し、寄生信号が入力された場合に前記第1トランジスタ及び第2トランジスタをオフに制御する第1制御部と、第2導電型領域を有し、前記半導体基板の表面の、前記第1トランジスタ及び第2トランジスタの1つ以上の組と前記第1制御部との間に形成され、寄生電流を誘導する1つ以上の寄生モニタ素子と、第2導電型領域を有し、前記半導体基板の表面に形成され、前記寄生モニタ素子によって誘導された前記寄生電流の値が所定値未満である場合に通常制御信号を前記第1制御部に出力し、前記寄生電流の値が所定値以上である場合に寄生信号を前記第1制御部に出力する寄生検出部と、を有する。
この発明によれば、寄生モニタ素子及び寄生検出部を設けることにより、寄生モニタ素子によってその寄生電流を寄生検出部に誘導する。寄生検出部は寄生モニタ素子によって誘導された寄生電流に応じて、第1制御部を制御する信号を出力する。したがって、第1制御部は、寄生電流が高い場合に第1のトランジスタ及び第2のトランジスタの制御を停止させることができるため、寄生電流による第1制御部の誤動作を確実に防止することができる。
請求項2に記載の半導体装置は、請求項1に記載の半導体装置において、前記半導体基板の表面の、前記第1トランジスタ及び第2トランジスタの1つ以上の組と前記第1制御部との間に形成された第2導電型島領域内に形成され、電源電圧入力端子に接続されるダミーアイランドをさらに有する。
この発明によれば、第1トランジスタ及び第2トランジスタの1つ以上の組及び第1制御部間にダミーアイランドを設けることによって、第1制御部から流れる寄生電流を低減することができる。
請求項3に記載の半導体装置では、請求項1又は請求項2に記載の半導体装置において、前記1つ以上の寄生モニタ素子は、複数の寄生モニタ素子であり、前記複数の寄生モニタ素子が、前記第1トランジスタ及び第2トランジスタの1つ以上の組と前記第1制御部との対向辺の間にレイアウトされている。
また、請求項4に記載の半導体装置では、請求項1又は請求項2に記載の半導体装置において、前記1つ以上の寄生モニタ素子は、1つの寄生モニタ素子であり、前記1つの寄生モニタ素子が、前記第1トランジスタ及び第2トランジスタの1つ以上の組と前記第1制御部との対向辺の間にレイアウトされている。
また、請求項5に記載の半導体装置では、請求項1又は請求項2に記載の半導体装置において、前記1つ以上の寄生モニタ素子は、複数の寄生モニタ素子であり、前記複数の寄生モニタ素子が、前記第1トランジスタ及び第2トランジスタの1つ以上の組を取り囲むようにレイアウトされている。
また、請求項6に記載の半導体装置では、請求項1又は請求項2に記載の半導体装置において、前記1つ以上の寄生モニタ素子は、1つの寄生モニタ素子であり、前記1つの寄生モニタ素子が、前記第1トランジスタ及び第2トランジスタの1つ以上の組を取り囲むようにレイアウトされている。
これらの発明は、1つ以上の寄生モニタ素子の半導体基板上でのレイアウトに関する。いずれのレイアウトを用いるのかについては任意であるが、第1トランジスタ及び第2トランジスタの1つ以上の組に対する寄生モニタ素子の包囲性が高い程、寄生電流の検知漏れが少なく、寄生電流の検出精度が高い。
請求項7に記載の半導体装置では、請求項1乃至請求項6のいずれかの請求項に記載の半導体装置において、前記寄生検出部は、通常制御信号及び寄生信号を前記第1制御部に出力することに代えて、通常制御信号及び寄生信号を半導体装置外部の第2制御部に出力し、前記第1制御部は、通常制御信号及び寄生信号を入力することに代えて、前記第2制御部から出力される入力信号を入力し、前記入力信号に応じて前記第1トランジスタ及び第2トランジスタを制御する。
この発明によれば、寄生検出部からの寄生検出信号を半導体装置外部の第2制御部に出力することによって、外部の第2制御部から、第1制御部を制御することができる。これにより、半導体装置を組み込む他装置の制御回路が必要に応じて半導体装置の制御部を制御することができるため、汎用性に優れる。
請求項8に記載のモータ駆動装置は、請求項1乃至請求項7のいずれかの請求項に記載の半導体装置を備える。この発明によれば、上記請求項1乃至請求項7に記載の半導体装置と同様の効果を奏するモータ駆動装置を実現することができる。
本発明に斯かる半導体装置及びそれを用いたモータ駆動装置によれば、寄生トランジスタによる寄生電流を検出し、その寄生電流に応じて制御回路の動作を制御することにより、寄生電流に起因する制御回路の誤動作を確実に防止することができるという、有利な効果を奏する。
以下本発明の実施をするための最良の形態を具体的に示した実施の形態について、図面とともに記載する。
《実施の形態1》
図1〜図6を参照して、本発明の実施の形態1における半導体装置を説明する。本実施の形態における半導体装置は、光ディスク装置に搭載されるモータを駆動するためのモータ駆動装置に用いられる。
まず、図1〜図4を参照して、本実施の形態における半導体装置の構成について説明する。図2は、本実施の形態における半導体装置の基板レイアウトを示す平面図である。図1は、本実施の形態における半導体装置の断面の構成を示す図で、図2に示したA−A’線における半導体基板10の断面の構成を示す。
図2において、本実施の形態における半導体装置は、P型の半導体基板10の表面に形成された、3組の出力トランジスタ1Aと1B、2Aと2B、及び3Aと3B、ダミーアイランド13、複数の寄生モニタ素子14、制御部(第1制御部)15、寄生検出部16、及び複数のコンタクトホール17を有する。
出力トランジスタ1A、1B、2A、2B、3A及び3Bは、半導体基板10の表面に形成されたN型の島領域内にそれぞれ形成されたNチャネル型MOSトランジスタである。出力トランジスタの各組は、制御部15によって相補的にオンオフ制御される。
ダミーアイランド13は、半導体基板10の表面に形成されたN型の島領域内に形成され、単体で出力トランジスタの各組を取り囲むようにレイアウトされる。
複数の寄生モニタ素子14は、ダミーアイランド13と制御部15との対向辺の間にレイアウトされる。
寄生検出部16は、後に図7を参照して説明する構成を有し、制御部15の左上部に形成される。しかし、この位置に限らず、他の任意の位置に形成されて良い。また、寄生検出部16は、制御部15内に含まれていても良い。
コンタクトホール17は、ダミーアイランド13と出力トランジスタ1B、2B及び3Bとのそれぞれの間、及びダミーアイランド13と寄生モニタ素子14との間に、それぞれ複数個設けられるが、この位置に限らず、他の任意の位置に設けられて良い。
図1において、半導体装置1は、接地端子GND(以下、「GND端子」と記す。)、モータのコイル2Xに接続される出力端子OUT1(以下、「OUT1端子」と記す。)、及び半導体装置1の電源電圧を入力するための電源電圧入力端子Vcc(以下、「Vcc端子」と記す。)を有する。GND端子は、半導体装置1が組み込まれるセットの接地端子(通常はゼロ電位)に接続される。
出力トランジスタ1Aは、N型領域21及び22、高濃度P型埋込み層(P型ウェル)23、高濃度N型領域24及び25、N型エピタキシャル層26、及びN型埋込み層27で構成される。出力トランジスタ1Aは、ソース(S)及びボディ(高濃度P型埋込み層23)がGND端子に接続され、ゲート(G)が制御部15に接続され、ドレイン(D)がOUT1端子に接続され、高濃度N型領域25は電極を介してGND端子に接続される。
出力トランジスタ1Bは、N型領域31及び32、高濃度P型埋込み層(P型ウェル)33、高濃度N型領域34及び35、N型エピタキシャル層36、及びN型埋込み層37で構成される。出力トランジスタ1Bは、ソース(S)及びボディ(高濃度P型埋込み層33)がOUT1端子に接続され、ゲート(G)が制御部15に接続され、ドレイン(D)がVcc端子に接続され、高濃度N型領域35が電極を介してGND端子に接続される。
ダミーアイランド13は、高濃度N型領域41、N型エピタキシャル層42、及びN型埋込み層43で構成される。ダミーアイランド13は、高濃度N型領域41が電極を介してVcc端子に接続される。ダミーアイランド13は、寄生トランジスタ18によって制御部15から流れる寄生電流を低減するために設けられる。
寄生モニタ素子14は、寄生トランジスタ18によって半導体基板10内に発生する寄生電流(寄生トランジスタ18のコレクタ電流)のうち、制御部15から供給されようとする寄生電流の一部を寄生検出部16に誘導するための素子であり、N型領域で構成される。寄生モニタ素子14は寄生検出部16と接続されているので、寄生トランジスタ18が寄生モニタ素子14から流そうとする寄生電流は、寄生モニタ素子14を介して寄生検出部16のN型領域から供給される。
寄生検出部16は、N型領域を含み、寄生モニタ素子14が誘導する寄生電流を監視する。寄生検出部16は、寄生モニタ素子14が誘導する寄生電流が所定値Ith以上であるか否かを調べ、寄生電流が所定値Ith以上である場合に、ロウレベルの寄生検出信号DSを制御部15に出力し、寄生電流が所定値Ith未満である場合に、ハイレベルの寄生検出信号DSを制御部15に出力する。所定値Ithは、予め実験等によって決定された値を記憶部等に記憶させておいても良く、また、半導体装置1を組み込むセット内の他の制御回路から与えられても良い。
制御部15は、N型領域を含み、出力トランジスタ1A及び1Bのゲートに接続され、出力トランジスタ1A及び1Bを制御する。また、制御部15は、寄生検出部16からハイレベルの寄生検出信号DSが入力されている場合、出力トランジスタ1A及び1Bのオンオフ制御を行い(動作状態)、寄生検出部16からロウレベルの寄生検出信号DSが入力されている場合、出力トランジスタ1A及び1Bをオフ状態に制御する(停止状態)。出力トランジスタ1A及び1Bをオフ状態にするためには、例えば、制御部15から出力トランジスタ1A及び1Bのゲートに出力される出力信号を遮断する。
複数のコンタクトホール17は、GND端子に接続される。コンタクトホール17は、半導体基板10をGND端子電位に短絡させるために設けられる。
コイル2Xは、一端がOUT1端子に接続され、他端が接続点Lxに接続された、モータを駆動するための誘導性負荷である。制御部15は、出力トランジスタ1A及び1Bを相補的にオンオフ制御して、OUT1端子を介してコイル2Xに流れる電流を制御することによって、モータを駆動する。モータは、例えば、図3に示すような、コイル2X、2Y及び2Zが接続点Lxでスター結線された3相駆動方式のモータである。
寄生トランジスタ19は、エミッタが出力トランジスタ1AのN型領域22に接続され、ベースが出力トランジスタ1Aの高濃度P型埋込み層23に接続され、コレクタが出力トランジスタ1AのN型埋込み層27に接続されている。
寄生トランジスタ18は、エミッタが出力トランジスタ1AのN型埋込み層27に接続され、ベースが半導体基板10に接続され、コレクタが出力トランジスタ1BのN型埋込み層37、ダミーアイランド13の高濃度N型領域41、寄生モニタ素子14のN型領域及び制御部15のN型領域に接続されている。
図4に、図1に示した本実施の形態における半導体装置1に対応する回路図を示す。
なお、図1において、制御部15は、出力トランジスタ1A及び1Bの2つのトランジスタを制御するが、同様に、出力トランジスタ2Aと2B、及び3Aと3B(図2参照)をも制御する。出力トランジスタ2A及び2B(図2参照)は、コイル2Xに接続されるOUT1端子に接続されることに代えて、コイル2Yに接続されるOUT2端子(図3参照)に接続される点において、出力トランジスタ1A及び1Bとは異なる。出力トランジスタ3A及び3B(図2参照)は、コイル2Xに接続されるOUT1端子に接続されることに代えて、コイル2Zに接続されるOUT3端子(図3参照)に接続される点において、出力トランジスタ1A及び1Bとは異なる。それ以外の点においては、図1に示した出力トランジスタ1A及び1Bとそれぞれ同様の構成であるため、詳細な説明は省略する。制御部15は、出力トランジスタの各組を順次オンオフ制御し、OUT1〜OUT3端子(図3参照)から互いに120度ずつずれた位相を有する電流を出力する。それにより、モータ3のコイル2X、2Y及び2Zに順次磁界を発生させ、モータ3を回転駆動する。
また、出力トランジスタ2Aと2B、及び3Aと3Bの各組は、それぞれ誘導性負荷であるコイル2Y及び2Zに接続される故に、出力トランジスタ2Aと2B、及び3Aと3Bの各組に対しても寄生トランジスタ18及び19と同様の寄生トランジスタが発生する。
以下、出力トランジスタ1A及び1Bの組を例にとって、説明を進める。
次に、図1、図4〜図6を参照して、上記の構成による半導体装置1の動作について説明する。図5は、出力トランジスタ1A及び1B、OUT1端子の電位VOUT1を示すタイミング図である。
制御部15は、図5に示すように、第1の期間において、出力トランジスタ1Bをオン、出力トランジスタ1Aをオフとする。第2の期間において、出力トランジスタ1Bをオフ、出力トランジスタ1Aをオンとする。第3の期間において、出力トランジスタ1A及び1Bを両方ともオフとする。第3の期間は、制御の遅延等によって両方の出力トランジスタ1A及び1BがオンとなってVcc端子からGND端子に向かって貫通電流が流れることを防止するために設けられる期間である。
第1の期間において、出力トランジスタ1Bがオンとなるため、図4において、Vcc端子から出力トランジスタ1Bのドレイン−ソース間及びOUT1端子を介して、コイル2Xに電源電圧Vccが印加される。図5において、OUT1端子の電位VOUT1は、Vccとなる。コイル2Xを流れる電流は、OUT1端子から接続点Lxの方向に流れる。
次に、第1の期間の後、第3の期間において、出力トランジスタ1Bがオンからオフに変化し、出力トランジスタ1A及び1Bが共にオフとなるため、図4において、Vcc端子からコイル2Xへの電流経路は断たれる。しかし、コイル2Xは、第1の期間に蓄積した磁気エネルギーを電気エネルギーに変換して放出することによって、誘導起電力を発生し、OUT1端子から接続点Lxの方向に電流を流し続けようとする。そのため、図1において、高濃度P型埋込み層23とN型領域22とで形成されるPN接合が順方向にバイアスされる(順バイアス状態)。これにより、図5において、OUT1端子の電位VOUT1は、PN接合で構成されるダイオードの順方向電圧降下によって、一時的に以下の式(2)で表される値にまで低下する。なお、以下の式において、ダイオードの順方向電圧低下分を1D、GND端子の電位をVGNDとする。
OUT1=VGND−1D ・・・・・・(2)
次に、第2の期間において、出力トランジスタ1Aがオンとなるため、図4において、OUT1端子は、出力トランジスタ1Aのドレイン−ソースを介して、GND端子に短絡される。図5において、OUT1端子の電位VOUT1はGND端子の電位VGNDとなる。第2の期間の後、第3の期間において、出力トランジスタ1Aがオンからオフに変化し、出力トランジスタ1A及び1Bが再び共にオフとなる。OUT1端子の電位VOUT1は、第1の期間の後の第3の期間と同様に、PN接合で構成されるダイオードの順方向電圧降下によって、上記式(2)で表される値にまで低下する。
図6を参照して、図5の第3の期間における半導体装置1の動作について説明する。図6は、寄生トランジスタ19及び18の各動作、コイル2Xを流れる電流、寄生モニタ素子14を流れる電流、及び、寄生検出部16から出力される寄生検出信号DSの各動作を示すタイミング図である。
前述したように、第3の期間において、図1における出力トランジスタ1Aの高濃度P型埋込み層23とN型領域22とで形成されるPN接合が順方向にバイアスされると、コイル2Xの誘導起電力によってOUT1端子の電位VOUT1が、GND端子の電位VGNDに対して負電位となる。これによって、出力トランジスタ1AのN型領域22と高濃度P型埋込み層23とN型埋込み層27とで形成されるNPN型の寄生トランジスタ19のエミッタ−ベース間に電圧が生じ、寄生トランジスタ19がオンとなる。寄生トランジスタ19は、N型埋込み層27及び高濃度N型領域25を介してGND端子からOUT1端子への寄生電流(寄生トランジスタ19のコレクタ電流)を流す。
この時、出力トランジスタ1AのN型埋込み層27には抵抗成分RN27が存在するため、出力トランジスタ1AのN型埋込み層27の電位VN27は、以下の式(3)で表される電位にまで低下しようとする。
N27=VGND−RN27×寄生トランジスタ19のコレクタ電流 ・・・・・・(3)
しかし、寄生トランジスタ19がオン状態であるため、寄生トランジスタ19のコレクタ−エミッタ間の飽和電圧VSATにより、N型埋込み層27の電位VN27は、以下の式(4)で表される電位にまでしか低下しない。そのため、寄生トランジスタ19のコレクタ電流が大きい場合、寄生トランジスタ19のコレクタ電流の全てを、GND端子から出力トランジスタ1Aの高濃度N型領域25及びN型埋込み層27を通じて供給することはできない。
N27=VGND−1D+VSAT ・・・・・・(4)
したがって、図6において、寄生トランジスタ19がオンとなってから所定時間Td経過後、出力トランジスタ1AのN型埋込み層27の電位VN27が上記式(4)で表される値にまで低下する。すると、図1において、出力トランジスタ1AのN型埋込み層27と半導体基板10とその他のN型領域とで形成されるNPN型の寄生トランジスタ18のエミッタ−ベース間に電圧が生じ、寄生トランジスタ18がオンとなる。
寄生トランジスタ18による寄生電流(寄生トランジスタ18のコレクタ電流)は、出力トランジスタ1BのN型埋込み層37、ダミーアイランド13の高濃度N型領域41、寄生モニタ素子14、及び制御部15から供給される。
半導体装置1では、出力トランジスタ1Bを出力トランジスタ1Aと制御部15との間に設け、さらに、出力トランジスタ1Bと寄生モニタ素子14との間にダミーアイランド13を設けている。そのため、寄生トランジスタ18のコレクタ電流の大部分は、寄生の発生源(図1において、出力トランジスタ1AのN型埋込み層27と半導体基板10とによって構成されるPN接合)からの距離が近い出力トランジスタ1BのN型埋込み層37及びダミーアイランド13の高濃度N型領域41から流れる。しかし、図1において、点線で示すように、少量ながらも制御部15から寄生電流が流れる。
寄生モニタ素子14は、寄生トランジスタ18が制御部15から流そうとする寄生電流の一部を誘導する。誘導された寄生電流の一部は、寄生モニタ素子14を介して寄生検出部16のN型領域から供給される。
寄生検出部16は、寄生モニタ素子14によって誘導された寄生電流を監視し、寄生電流が所定値Ith以上になると、ロウレベルの寄生検出信号DSを制御部15に出力する。図6において、寄生電流が所定値Ith以上になったタイミングで、寄生検出信号DSがロウレベルとなっている。
ロウレベルの寄生検出信号DSを入力した制御部15は停止状態となり、3組の出力トランジスタ1Aと1B、2Aと2B、及び3Aと3Bのオンオフ制御を停止して、全ての出力トランジスタをオフ状態に制御する。したがって、寄生トランジスタ18による寄生電流が高くなった場合、制御部15は各出力トランジスタの制御を停止するので、寄生電流に起因する制御部15の誤動作を確実に防止することができる。
なお、一旦制御部15が停止状態になった後は、例えば、再起動されるまで停止状態を維持するラッチモードや、寄生モニタ素子14によって誘導された寄生電流が所定値Ithを下回った時に自動的に動作状態に戻る自己復帰モード等が必要に応じて選択されて良い。一例として、図6には、ラッチモードの場合の動作を示した。図6では、コイル2Xが第1の期間に蓄積した磁気エネルギーの放出を終えて、コイル2Xを流れる電流が0Aになると、寄生トランジスタ18及び19が共にオフとなる。それに伴い、寄生モニタ素子14によって誘導される寄生電流が0Aとなる。その後、ハイレベルの外部リセット信号が入力されるタイミングで、寄生検出部16が再起動され、寄生検出部16から出力される寄生検出信号DSは再びハイレベルとなる。したがって、制御部15は、各出力トランジスタの制御を再開する。
図7は、寄生検出部16の構成の一例を示す回路図である。図7において、寄生検出部16は、トランジスタ161及び162、スイッチング素子165、及び抵抗163及び164を有する。
トランジスタ161は、エミッタがVcc端子電位に接続され、コレクタが寄生モニタ素子14に接続され、ベースがトランジスタ162のベース及びトランジスタ161のコレクタに接続される。トランジスタ162は、エミッタがVcc端子に接続され、コレクタが抵抗163の一端に接続され、ベースがトランジスタ161のベースに接続される。
抵抗163は、一端がトランジスタ162のコレクタに接続され、他端が接地電位に接続される。抵抗164は、一端がVcc端子に接続され、他端が制御部15及びスイッチング素子165のコレクタに接続される。
スイッチング素子165は、エミッタが接地電位に接続され、コレクタが制御部15及び抵抗164の他端に接続され、ベースが抵抗163とトランジスタ162との接続点に接続される。
寄生トランジスタ18による寄生電流が流れていない場合(寄生トランジスタ18がオフ状態である場合)、トランジスタ161及び162、スイッチング素子165はオフ状態である。抵抗164とスイッチング素子165との接続点は、抵抗164を解して電源電圧Vccが印加されるため、寄生検出部16から出力される寄生検出信号DSはハイレベル(Vcc電位)である。
一方、寄生トランジスタ18による寄生電流が流れている場合(寄生トランジスタ18がオン状態である場合)、寄生電流は、Vcc端子からトランジスタ161及び寄生モニタ素子14を介して流れる。トランジスタ161及び162、スイッチング素子165はカレントミラー回路を構成するため、トランジスタ161に電流が流れることによってカレントミラー回路が動作し、スイッチング素子165がオンとなる。したがって、抵抗164及びスイッチング素子165の接続点の電圧はロウレベルとなり、寄生検出部16から出力される寄生検出信号DSはロウレベルとなる。
以上のように、本実施の形態における半導体装置は、寄生モニタ素子14及び寄生検出部16とを設けることによって、寄生トランジスタによる寄生電流を検出し、その寄生電流に応じて制御部の動作を制御する。これにより、寄生電流に起因する制御部の誤動作を確実に防止することができる。
《実施の形態2》
図8を参照して、本発明の実施の形態2における半導体装置について説明する。図8は、本実施の形態における半導体装置のマスクレイアウト平面図である。図8において、半導体基板10におけるレイアウトが異なる点以外は、実施の形態1と同様の構成であり、同様に動作するため、各構成要素についての詳細な説明は省略する。
図8において、複数の寄生モニタ素子14は、出力トランジスタの各組及びダミーアイランド13と制御部15との対向辺の間にレイアウトされている。寄生モニタ素子14及び寄生検出部16による寄生電流の検知、及び寄生電流による誤動作の抑制に関する動作は実施の形態1で既に詳細を説明した。
以上のように、本実施の形態における半導体装置は、寄生モニタ素子14を上記のようにレイアウトすることにより、寄生トランジスタ18(図1参照)による寄生電流を検出する。したがって、実施の形態1と同様に、寄生電流に起因する制御部の誤動作を確実に防止することができる。
《実施の形態3》
図9を参照して、本発明の実施の形態3における半導体装置について説明する。図9は、本実施の形態における半導体装置のマスクレイアウト平面図である。図9において、半導体基板10における寄生モニタ素子14のレイアウトが異なる点以外は、実施の形態2と同様の構成であり、同様に動作するため、各構成要素についての詳細な説明は省略する。
図9において、1つの寄生モニタ素子14は、出力トランジスタの各組及びダミーアイランド13と制御部15との対向辺の間にレイアウトされている。寄生モニタ素子14及び寄生検出部16による寄生電流の検知、及び寄生電流による誤動作の抑制に関する動作は実施の形態1で既に詳細を説明した。
以上のように、本実施の形態における半導体装置は、寄生モニタ素子14を上記のようにレイアウトすることにより、寄生トランジスタ18(図1参照)による寄生電流をもれなく検知する。寄生モニタ素子14を、連続した単体の形状とすることによって、第1トランジスタ及び第2トランジスタの1つ以上の組に対する寄生モニタ素子の包囲性が実施の形態2よりも高い。これにより、寄生モニタ素子14間の隙間に起因する寄生電流の検知漏れを防止し、より確実に寄生電流を検知できる。したがって、寄生電流に起因する制御部の誤動作をより確実に防止することができる。
《実施の形態4》
図10を参照して、本発明の実施の形態4における半導体装置について説明する。図10は、本実施の形態における半導体装置のマスクレイアウト平面図である。図10において、半導体基板10における寄生モニタ素子14のレイアウトが異なる点以外は、実施の形態2と同様の構成であり、同様に動作するため、各構成要素についての詳細な説明は省略する。
図10において、複数の寄生モニタ素子14は、出力トランジスタの各組及びダミーアイランド13を取り囲むようにレイアウトされている。寄生モニタ素子14及び寄生検出部16による寄生電流の検知、及び寄生電流による誤動作の抑制に関する動作は実施の形態1で既に詳細を説明した。
以上のように、本実施の形態における半導体装置は、寄生モニタ素子14を上記のようにレイアウトすることにより、寄生トランジスタ18(図1参照)による寄生電流をもれなく検知する。寄生モニタ素子14を、出力トランジスタの各組及びダミーアイランド13を取り囲む形状に配設することによって、第1トランジスタ及び第2トランジスタの1つ以上の組に対する寄生モニタ素子の包囲性が実施の形態2よりも高い。これにより、寄生電流の検知漏れを防止し、より確実に寄生電流を検知できる。したがって、寄生電流に起因する制御部の誤動作をより確実に防止することができる。
《実施の形態5》
図11を参照して、本発明の実施の形態5における半導体装置について説明する。図11は、本実施の形態における半導体装置のマスクレイアウト平面図である。図11において、半導体基板10における寄生モニタ素子14のレイアウトが異なる点以外は、実施の形態2と同様の構成であり、同様に動作するため、各構成要素についての詳細な説明は省略する。
図11において、1つの寄生モニタ素子14は、出力トランジスタの各組及びダミーアイランド13を取り囲むようにレイアウトされている。寄生モニタ素子14及び寄生検出部16による寄生電流の検知、及び寄生電流による誤動作の抑制に関する動作は実施の形態1で既に詳細を説明した。
以上のように、本実施の形態における半導体装置は、寄生モニタ素子14を上記のようにレイアウトすることにより、寄生トランジスタ18(図1参照)による寄生電流をもれなく検知する。寄生モニタ素子14を、出力トランジスタの各組及びダミーアイランド13を取り囲む形状、かつ連続した単体の形状とすることによって、第1トランジスタ及び第2トランジスタの1つ以上の組に対する寄生モニタ素子の包囲性が実施の形態2〜4よりも高い。これにより、寄生電流の検知漏れを防止するとともに、寄生モニタ素子14間の隙間に起因する寄生電流の検知漏れを防止し、より確実に寄生電流を検知できる。したがって、寄生電流に起因する制御部の誤動作をより確実に防止することができる。
なお、実施の形態1〜5において、出力トランジスタ1A及び出力トランジスタ1Bとして、Nチャネル型のMOSトランジスタ用いたが、これに限らず、Pチャネル型のMOSトランジスタを用いても良く、また、DMOS(Double-diffused MOS:二重拡散型MOS)トランジスタ、バイポーラトランジスタ等の他のトランジスタを用いても、実施の形態1〜5と同様の効果を得られる。低消費電力化のために半導体装置での電力損失を低減するには、ベース電流が不要でオン抵抗を低くできる、MOSトランジスタ又はDMOSトランジスタが好ましい。DMOSトランジスタを用いた場合の半導体装置1201の構成を図12に、バイポーラトランジスタを用いた場合の半導体装置1301の構成を図13に示す。
図12において、出力トランジスタ(DMOSトランジスタ)121Aは、N型領域1221、1222、1224及び1225、P型領域1223、高濃度P型埋込み層1226、高濃度N型領域1227及び1228、N型エピタキシャル層1229、及びN型埋込み層1230を有する。出力トランジスタ(DMOSトランジスタ)121Bは、N型領域1231、1232、1234及び1235、P型領域1233、高濃度P型埋込み層1236、高濃度N型領域1237及び1238、N型エピタキシャル層1239、及びN型埋込み層1240を有する。寄生トランジスタ1218は、ベースが半導体基板10に接続され、エミッタが出力トランジスタ121AのN型領域1225に接続され、コレクタが出力トランジスタ121BのN型埋込み層1240、ダミーアイランド13の高濃度N型領域41、寄生モニタ素子14のN型領域、及び制御部15のN型領域に接続される。寄生モニタ素子14及び寄生検出部16による寄生電流の検知、及び寄生電流による誤動作の抑制に関する動作は、実施の形態1で詳細を説明したNチャネル型MOSトランジスタと同様である。
図13において、出力トランジスタ(バイポーラトランジスタ)131Aは、N型領域1321、高濃度P型埋込み層1322、高濃度N型領域1323、N型エピタキシャル層1324、及びN型埋込み層1325を有する。出力トランジスタ(バイポーラトランジスタ)131Bは、N型領域1331、高濃度P型埋込み層1332、高濃度N型領域1333、N型エピタキシャル層1334、及びN型埋込み層1335を有する。寄生トランジスタ1318は、ベースが半導体基板10に接続され、エミッタが出力トランジスタ131Aの高濃度N型領域1323に接続され、コレクタが出力トランジスタ131BのN型埋込み層1335、ダミーアイランド13の高濃度N型領域41、寄生モニタ素子14のN型領域、及び制御部15のN型領域に接続される。寄生モニタ素子14及び寄生検出部16による寄生電流の検知、及び誤動作の抑制に関する動作は実施の形態1で既に詳細を説明した。寄生モニタ素子14及び寄生検出部16による寄生電流の検知、及び寄生電流による誤動作の抑制に関する動作は、実施の形態1で詳細を説明したNチャネル型MOSトランジスタと同様である。
また、実施の形態1〜5において、制御部15から流れる寄生電流を低減するためのダミーアイランド13を設けた。これによって、寄生検出部16が所定値以上の寄生電流を検出して制御部15が停止状態となる頻度が低減され、半導体装置の安定性面から好ましいからである。しかし、寄生モニタ素子14及び寄生検出部16によって所定値を超える寄生電流が検出された場合に制御部15が停止状態となるため、必ずしもダミーアイランド13を設けなくとも、制御部15の誤動作を防止するという本発明の効果が得られる。
また、実施の形態1〜5において、寄生検出部16からの寄生検出信号DSを制御部15に出力することに代えて、外部制御部(第2制御部)に与え、外部制御部が制御部15を制御しても良い。これにより、半導体装置を組み込むセット内の他の制御回路が必要に応じて半導体装置内の制御部を制御することができるため、汎用性に優れる。
また、実施の形態1〜5において、半導体装置は、光ディスク装置に搭載されるモータを駆動するためのモータ駆動装置に用いられた。しかし、これに限らず、半導体装置は、モータ全般、スイッチング電源、誘導性負荷を駆動する半導体等、他の装置に用いられても良い。
本発明にかかる半導体装置は、例えば、光ディスク装置のスピンドルモータを駆動するためのモータ駆動装置に利用することができる。
本発明の実施の形態1における、半導体装置の断面の構成を示す図 本発明の実施の形態1における、半導体基板のマスクレイアウト図 モータの構成を示す図 本発明の実施の形態1における、半導体装置の回路構成を示す図 本発明の実施の形態1における、半導体装置の動作を説明するタイミング図 本発明の実施の形態1における、半導体装置の動作を説明するタイミング図 本発明の実施の形態1における、寄生検出部の回路構成を示す図 本発明の実施の形態2における、半導体基板のマスクレイアウト図 本発明の実施の形態3における、半導体基板のマスクレイアウト図 本発明の実施の形態4における、半導体基板のマスクレイアウト図 本発明の実施の形態5における、半導体基板のマスクレイアウト図 DMOSトランジスタを用いた場合の半導体装置の構成を示す図 バイポーラトランジスタを用いた場合の半導体装置の構成を示す図 従来例における、半導体装置の構成を示す図
符号の説明
1 半導体装置
2X、2Y、2Z コイル
3 モータ
10 半導体基板
1A、1B、2A、2B、3A、3B 出力トランジスタ
13 ダミーアイランド
14 寄生モニタ素子
15 制御部(第1制御部)
16 寄生検出部
17 コンタクトホール
18、19 寄生トランジスタ
21、22、31、32 N型領域
23、33 高濃度P型埋込み層(P型ウェル)
24、25、34、35、41 高濃度N型領域
27、37、43 N型埋込み領域
26、36、42 N型エピタキシャル層
161、162 トランジスタ
165 スイッチング素子
163、164 抵抗
Vcc 電源電圧入力端子
OUT1、OUT2、OUT3 出力端子
GND 接地端子

Claims (8)

  1. 第1導電型の半導体基板と、
    前記半導体基板の表面に形成された第2導電型島領域内にそれぞれ形成され、高電位側が電源電圧入力端子に接続される第1トランジスタ及び低電位側が接地端子に接続される第2トランジスタの1つ以上の組と、
    第2導電型領域を有し、前記半導体基板の表面に形成され、通常制御信号が入力された場合に前記第1トランジスタ及び第2トランジスタをオンオフ制御し、寄生信号が入力された場合に前記第1トランジスタ及び第2トランジスタをオフに制御する第1制御部と、
    第2導電型領域を有し、前記半導体基板の表面の、前記第1トランジスタ及び第2トランジスタの1つ以上の組と前記第1制御部との間に形成され、寄生電流を誘導する1つ以上の寄生モニタ素子と、
    第2導電型領域を有し、前記半導体基板の表面に形成され、前記寄生モニタ素子によって誘導された前記寄生電流の値が所定値未満である場合に通常制御信号を前記第1制御部に出力し、前記寄生電流の値が所定値以上である場合に寄生信号を前記第1制御部に出力する寄生検出部と、を有する
    ことを特徴とする半導体装置。
  2. 前記半導体基板の表面の、前記第1トランジスタ及び第2トランジスタの1つ以上の組と前記第1制御部との間に形成された第2導電型島領域内に形成され、電源電圧入力端子に接続されるダミーアイランドをさらに有する
    ことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
  3. 前記1つ以上の寄生モニタ素子は、複数の寄生モニタ素子であり、
    前記複数の寄生モニタ素子が、前記第1トランジスタ及び第2トランジスタの1つ以上の組と前記第1制御部との対向辺の間にレイアウトされている
    ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の半導体装置。
  4. 前記1つ以上の寄生モニタ素子は、1つの寄生モニタ素子であり、
    前記1つの寄生モニタ素子が、前記第1トランジスタ及び第2トランジスタの1つ以上の組と前記第1制御部との対向辺の間にレイアウトされている
    ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の半導体装置。
  5. 前記1つ以上の寄生モニタ素子は、複数の寄生モニタ素子であり、
    前記複数の寄生モニタ素子が、前記第1トランジスタ及び第2トランジスタの1つ以上の組を取り囲むようにレイアウトされている
    ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の半導体装置。
  6. 前記1つ以上の寄生モニタ素子は、1つの寄生モニタ素子であり、
    前記1つの寄生モニタ素子が、前記第1トランジスタ及び第2トランジスタの1つ以上の組を取り囲むようにレイアウトされている
    ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の半導体装置。
  7. 前記寄生検出部は、
    通常制御信号及び寄生信号を前記第1制御部に出力することに代えて、通常制御信号及び寄生信号を半導体装置外部の第2制御部に出力し、
    前記第1制御部は、
    通常制御信号及び寄生信号を入力することに代えて、前記第2制御部から出力される入力信号を入力し、前記入力信号に応じて前記第1トランジスタ及び第2トランジスタを制御する
    ことを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれかの請求項に記載の半導体装置。
  8. 請求項1乃至請求項7のいずれかの請求項に記載の半導体装置を備えることを特徴とするモータ駆動装置。
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