JP2006239503A - 基板の処理装置 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 137
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 58
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 50
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 42
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 18
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 18
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 17
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012993 chemical processing Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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- Liquid Crystal (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
Abstract
【解決手段】チャンバ内を搬送される基板を洗浄処理するブラシ洗浄部7を備え、
ブラシ洗浄部は、搬送される基板の一方の板面と他方の板面をブラッシングする一対のロールブラシ31,32と、各ロールブラシの軸方向上端側の基板の板面に対する押し当て量を調整する上部間隔調整機構41と、各ロールブラシの軸方向下端側の上記基板の板面に対する押し当て量を調整する下部間隔調整機構55と、各間隔調整機構による一方のロールブラシの上端側と下端側の基板の板面に対する押し当て量の調整を連動させる第1の連動軸98と、各間隔調整機構による他方のロールブラシの上端側と下端側の上記基板の板面に対する押し当て量の調整を連動させる第2の連動軸99とを具備する。
【選択図】 図3
Description
チャンバと、
このチャンバ内に配置され上記基板を所定の傾斜角度で支持して搬送する搬送ローラが設けられた搬送軸と、
上記搬送ローラによって搬送される基板の下端を支持する駆動ローラが設けられた駆動軸と、
この駆動軸を回転駆動し上記駆動ローラによって上記基板を上記搬送ローラに沿って搬送する駆動源と、
上記チャンバ内を搬送される上記基板を洗浄処理するブラシ洗浄部とを具備し、
上記ブラシ洗浄部は、
軸線を上記基板の搬送方向と交差する方向に向けて対向して配置され搬送される上記基板の一方の板面と他方の板面をブラッシングする一対のロールブラシと、
各ロールブラシの上端に設けられこれらロールブラシの軸方向上端側の上記基板の板面に対する押し当て量を調整する上部間隔調整機構と、
各ロールブラシの下端に設けられこれらロールブラシの軸方向下端側の上記基板の板面に対する押し当て量を調整する下部間隔調整機構と、
上記上部間隔調整機構と下部間隔調整機構とによる一方のロールブラシの上端側と下端側の上記基板の板面に対する押し当て量の調整を連動させる第1の連動軸と、
上記上部間隔調整機構と下部間隔調整機構による他方のロールブラシの上端側と下端側の上記基板の板面に対する押し当て量の調整を連動させる第2の連動軸と
を具備したことを特徴とする基板の処理装置にある。
リニアガイドと、
このリニアガイドにそれぞれ移動可能に設けられ一方のロールブラシの上端と下端が支持された第1の可動部材及び他方のロールブラシの上端と下端が支持された第2の可動部材と、
上記第1の連動軸を回転させることで上記上部間隔調整機構と下部間隔調整機構との第1の可動部材を上記リニアガイドに沿って移動させる第1のリンク機構と、
上記第2の連動軸を回転させることで上記上部間隔調整機構と下部間隔調整機構との第2の可動部材を上記リニアガイドに沿って移動させる第2のリンク機構と
によって構成されていることが好ましい。
図1乃至図9はこの発明の一実施の形態を示し、図1は処理装置の内部構造を示す正面図、図2は側面図である。処理装置は図1と図2に鎖線で示すチャンバ1を有する。このチャンバ1は図2に示すように断面形状が矩形状であって、垂直線に対して所定の角度、たとえば75度の角度で傾斜して配設される。
なお、上記カバー25には図示しない排液孔が形成され、カバー25内に流れた洗浄液を排出できるようになっている。
各ロールブラシ31,32の下支軸34には図9に示すように下継ぎ手43が連結されている。この下継ぎ手43は上記上継ぎ手34と同様、すり割溝44及び係合溝45が形成されていて、この係合溝45に上記下支軸34が挿入されている。そして、上記すり割り溝44に図示せぬ止め具がねじ止め固定されることで、下支軸34に下継ぎ手43が連結固定される。
なお、搬送軸4Aは、その搬送軸4Aに設けられた搬送ローラ5の回転速度が上記駆動ローラ11の周速度と同じになるよう上記第2の駆動源61によって回転駆動される。
Claims (4)
- 基板を所定の傾斜角度で搬送しながら処理する処理装置であって、
チャンバと、
このチャンバ内に配置され上記基板を所定の傾斜角度で支持して搬送する搬送ローラが設けられた搬送軸と、
上記搬送ローラによって搬送される基板の下端を支持する駆動ローラが設けられた駆動軸と、
この駆動軸を回転駆動して上記駆動ローラによって上記基板に駆動力を付与し、その基板を上記搬送ローラに沿って搬送する駆動源と、
上記チャンバ内を搬送される上記基板を洗浄処理するブラシ洗浄部とを具備し、
上記ブラシ洗浄部は、
軸線を上記基板の搬送方向と交差する方向に向けて対向して配置され搬送される上記基板の一方の板面と他方の板面をブラッシングする一対のロールブラシと、
各ロールブラシの上端に設けられこれらロールブラシの軸方向上端側の上記基板の板面に対する押し当て量を調整する上部間隔調整機構と、
各ロールブラシの下端に設けられこれらロールブラシの軸方向下端側の上記基板の板面に対する押し当て量を調整する下部間隔調整機構と、
上記上部間隔調整機構と下部間隔調整機構とによる一方のロールブラシの上端側と下端側の上記基板の板面に対する押し当て量の調整を連動させる第1の連動軸と、
上記上部間隔調整機構と下部間隔調整機構による他方のロールブラシの上端側と下端側の上記基板の板面に対する押し当て量の調整を連動させる第2の連動軸と
を具備したことを特徴とする基板の処理装置。 - 上記上部間隔調整機構と下部間隔調整機構は、
リニアガイドと、
このリニアガイドにそれぞれ移動可能に設けられ一方のロールブラシの上端と下端が支持された第1の可動部材及び他方のロールブラシの上端と下端が支持された第2の可動部材と、
上記第1の連動軸を回転させることで上記上部間隔調整機構と下部間隔調整機構との第1の可動部材を上記リニアガイドに沿って移動させる第1のリンク機構と、
上記第2の連動軸を回転させることで上記上部間隔調整機構と下部間隔調整機構との第2の可動部材を上記リニアガイドに沿って移動させる第2のリンク機構と
によって構成されていることを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。 - 上記第1の連動軸と第2の連動軸とをそれぞれ回転操作するための操作手段が設けられていることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の基板の処理装置。
- 上記ロールブラシは、上端が吊り下げられた状態で回転可能に支持され、下端が回転駆動される連結軸に対して軸方向に変位自在かつこの連結軸と一体的に回転するよう連結されていることを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005056231A JP4504839B2 (ja) | 2005-03-01 | 2005-03-01 | 基板の処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005056231A JP4504839B2 (ja) | 2005-03-01 | 2005-03-01 | 基板の処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006239503A true JP2006239503A (ja) | 2006-09-14 |
JP4504839B2 JP4504839B2 (ja) | 2010-07-14 |
Family
ID=37046428
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
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