JP2003104544A - 方形基板の湿式処理装置 - Google Patents
方形基板の湿式処理装置Info
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- 238000011282 treatment Methods 0.000 title abstract description 19
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 66
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 33
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 30
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 128
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 122
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 53
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 25
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 claims description 11
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 9
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 claims description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 abstract description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 8
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 101100321304 Bacillus subtilis (strain 168) yxdM gene Proteins 0.000 description 2
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 101100321669 Fagopyrum esculentum FA02 gene Proteins 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012209 synthetic fiber Substances 0.000 description 1
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板を上下両側から挟持した状態で搬送しな
がら洗浄や乾燥等の各種湿式処理を施すことができると
共に、寸法の異なる基板の処理にも共通に使用すること
ができる、機能的な搬送機構を有する基板の湿式処理装
置を得る。 【解決手段】 方形の基板Wを一枚ずつ縦向きに搬送す
る搬送機構1と、該基板Wに処理液による湿式処理を施
すための湿式処理部2とを含み、上記搬送機構1は、一
定間隔で回転自在なるように配設されて駆動用のモータ
ー41に連結された複数の下部サポートローラー36
と、一定間隔で回転自在なるように配設されると共に、
高さ調節機構45によって下部サポートローラー36と
の間隔を調節自在なるように支持された複数の上部サポ
ートローラー37とで構成する。
がら洗浄や乾燥等の各種湿式処理を施すことができると
共に、寸法の異なる基板の処理にも共通に使用すること
ができる、機能的な搬送機構を有する基板の湿式処理装
置を得る。 【解決手段】 方形の基板Wを一枚ずつ縦向きに搬送す
る搬送機構1と、該基板Wに処理液による湿式処理を施
すための湿式処理部2とを含み、上記搬送機構1は、一
定間隔で回転自在なるように配設されて駆動用のモータ
ー41に連結された複数の下部サポートローラー36
と、一定間隔で回転自在なるように配設されると共に、
高さ調節機構45によって下部サポートローラー36と
の間隔を調節自在なるように支持された複数の上部サポ
ートローラー37とで構成する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、方形形状をした基
板に洗浄や現像、剥離、エッチングなどの各種湿式処理
を施すための湿式処理装置に関するものであり、特に大
型の基板の処理に適した湿式処理装置に関するものであ
る。
板に洗浄や現像、剥離、エッチングなどの各種湿式処理
を施すための湿式処理装置に関するものであり、特に大
型の基板の処理に適した湿式処理装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来、FPD(フラットパネルディスプ
レイ)に使用される液晶用ガラス基板やプラズマディス
プレイ用ガラス基板のような方形の基板に洗浄や乾燥等
の各種処理を施す装置として、例えば、特開平5−36
659号公報や特開2001−213517号公報等に
開示されたものが公知である。これらは、上記基板を搬
送機構によって一枚ずつ縦向き姿勢で搬送しながら、ブ
ラシによる表裏両面の洗浄と乾燥とを行うものである。
これらの処理装置のように、基板を縦向き姿勢即ち垂直
に向けて搬送する方式は、横向き姿勢即ち水平に向けて
搬送する方式に比べ、装置の横幅を小さくすることがで
きるため、小型化を図るうえで非常に有効であるが、何
れも基板の搬送方式に難点があった。
レイ)に使用される液晶用ガラス基板やプラズマディス
プレイ用ガラス基板のような方形の基板に洗浄や乾燥等
の各種処理を施す装置として、例えば、特開平5−36
659号公報や特開2001−213517号公報等に
開示されたものが公知である。これらは、上記基板を搬
送機構によって一枚ずつ縦向き姿勢で搬送しながら、ブ
ラシによる表裏両面の洗浄と乾燥とを行うものである。
これらの処理装置のように、基板を縦向き姿勢即ち垂直
に向けて搬送する方式は、横向き姿勢即ち水平に向けて
搬送する方式に比べ、装置の横幅を小さくすることがで
きるため、小型化を図るうえで非常に有効であるが、何
れも基板の搬送方式に難点があった。
【0003】即ち、前者の処理装置における搬送機構
は、基板の下端部を一定間隔で配置した複数の搬送ロー
ラーに支持させると共に、基板の上端部はコ字形をした
ガイド溝内に嵌合させ、上記搬送ローラーを駆動回転さ
せることによって上記基板をガイド溝に沿って搬送する
ようにしたもので、そのとき、上記ガイド溝内において
は、両溝壁から流体を噴出することによって基板が溝壁
に非接触の状態に支持されるようになっている。また、
後者の処理装置では、基板の下端部をベルトコンベア上
に載置した状態で搬送するように構成されている。この
ように上記各搬送機構は、基板を搬送ローラーやベルト
コンベアで単に下から支持させた状態で搬送するように
しているため、基板を回転するロールブラシで洗浄する
とき、該ロールブラシとの摩擦力が抵抗となって基板が
送られない場合があるとか、ノズルから噴射される処理
液の水圧で基板がずれ動いたり脱落したりするおそれが
ある等の問題点がある。また、上記基板を処理液中に全
浸漬させた場合に、浮力の作用や液流の作用等によって
該基板が遊動し易いため、このような浸漬洗浄は行うこ
とができない。基板の上下両端部を両側から挟持した状
態で搬送するようにすればこのような問題点は解決され
るが、挟持位置がデッドスペースとなってその部分に洗
浄や乾燥等の処理が施されにくいとか、基板の寸法が異
なる場合に対応できないといったような問題が生じる。
は、基板の下端部を一定間隔で配置した複数の搬送ロー
ラーに支持させると共に、基板の上端部はコ字形をした
ガイド溝内に嵌合させ、上記搬送ローラーを駆動回転さ
せることによって上記基板をガイド溝に沿って搬送する
ようにしたもので、そのとき、上記ガイド溝内において
は、両溝壁から流体を噴出することによって基板が溝壁
に非接触の状態に支持されるようになっている。また、
後者の処理装置では、基板の下端部をベルトコンベア上
に載置した状態で搬送するように構成されている。この
ように上記各搬送機構は、基板を搬送ローラーやベルト
コンベアで単に下から支持させた状態で搬送するように
しているため、基板を回転するロールブラシで洗浄する
とき、該ロールブラシとの摩擦力が抵抗となって基板が
送られない場合があるとか、ノズルから噴射される処理
液の水圧で基板がずれ動いたり脱落したりするおそれが
ある等の問題点がある。また、上記基板を処理液中に全
浸漬させた場合に、浮力の作用や液流の作用等によって
該基板が遊動し易いため、このような浸漬洗浄は行うこ
とができない。基板の上下両端部を両側から挟持した状
態で搬送するようにすればこのような問題点は解決され
るが、挟持位置がデッドスペースとなってその部分に洗
浄や乾燥等の処理が施されにくいとか、基板の寸法が異
なる場合に対応できないといったような問題が生じる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の技術的課題
は、基板を上下両側から挟持した状態で確実に搬送しな
がら処理液による洗浄や乾燥等の各種湿式処理を施すこ
とができると共に、寸法の異なる基板の処理にも共通に
使用することができる、機能的な搬送機構を有する基板
の湿式処理装置を提供することにある。
は、基板を上下両側から挟持した状態で確実に搬送しな
がら処理液による洗浄や乾燥等の各種湿式処理を施すこ
とができると共に、寸法の異なる基板の処理にも共通に
使用することができる、機能的な搬送機構を有する基板
の湿式処理装置を提供することにある。
【0005】本発明の他の従属的な技術的課題は、上述
した搬送機構を用いることによって浸漬処理を可能とし
た基板の湿式処理装置を提供することにある。
した搬送機構を用いることによって浸漬処理を可能とし
た基板の湿式処理装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本発明によれば、方形の基板を一枚ずつ縦向きに支持し
て搬送するローラー式の搬送機構と、該搬送機構で搬送
される基板に処理液による湿式処理を施すための湿式処
理部とを含み、上記搬送機構が、基板の下端部を下から
支持する複数の下部サポートローラーと、基板の上端部
を上から支持する複数の上部サポートローラーとで構成
されていて、上記下部サポートローラーは、基板の搬送
方向に一定間隔を保って回転自在なるように配設される
と共に、各サポートローラーが駆動回転用のモーターに
連結され、一方の上部サポートローラーは、基板の搬送
方向に一定間隔を保って回転自在なるように配設される
と共に、高さ調節機構によって下部サポートローラーと
の間隔を調節自在に支持されていることを特徴とする方
形基板の湿式処理装置が提供される。
本発明によれば、方形の基板を一枚ずつ縦向きに支持し
て搬送するローラー式の搬送機構と、該搬送機構で搬送
される基板に処理液による湿式処理を施すための湿式処
理部とを含み、上記搬送機構が、基板の下端部を下から
支持する複数の下部サポートローラーと、基板の上端部
を上から支持する複数の上部サポートローラーとで構成
されていて、上記下部サポートローラーは、基板の搬送
方向に一定間隔を保って回転自在なるように配設される
と共に、各サポートローラーが駆動回転用のモーターに
連結され、一方の上部サポートローラーは、基板の搬送
方向に一定間隔を保って回転自在なるように配設される
と共に、高さ調節機構によって下部サポートローラーと
の間隔を調節自在に支持されていることを特徴とする方
形基板の湿式処理装置が提供される。
【0007】上記構成を有する処理装置は、基板を上部
サポートローラーと下部サポートローラーとで上下両側
から挟持した状態のまま搬送しながら湿式処理を施すよ
うにしているため、該基板が常に確実かつ安定的に支持
された状態にあり、湿式処理中に位置ずれしたり脱落す
るようなことがない。例えば、ノズルから処理液を噴射
しながら回転するブラシで洗浄処理等を行う場合でも、
該ブラシとの摩擦力が抵抗となって基板が送られないと
か、ノズルから噴射される処理液の水圧で基板がずれ動
いたり脱落したりするといったような問題が確実に回避
される。また、上記基板を処理液中に浸漬させても、該
基板が浮力の作用や液流の作用等によって遊動すること
がないため、該基板に処理液による浸漬処理を施すこと
が可能になる。更に、上部サポートローラーが高さ調節
自在となっているため、下部サポートローラーとの間隔
を調節することにより、寸法の異なる基板の処理に共通
に使用することができる。
サポートローラーと下部サポートローラーとで上下両側
から挟持した状態のまま搬送しながら湿式処理を施すよ
うにしているため、該基板が常に確実かつ安定的に支持
された状態にあり、湿式処理中に位置ずれしたり脱落す
るようなことがない。例えば、ノズルから処理液を噴射
しながら回転するブラシで洗浄処理等を行う場合でも、
該ブラシとの摩擦力が抵抗となって基板が送られないと
か、ノズルから噴射される処理液の水圧で基板がずれ動
いたり脱落したりするといったような問題が確実に回避
される。また、上記基板を処理液中に浸漬させても、該
基板が浮力の作用や液流の作用等によって遊動すること
がないため、該基板に処理液による浸漬処理を施すこと
が可能になる。更に、上部サポートローラーが高さ調節
自在となっているため、下部サポートローラーとの間隔
を調節することにより、寸法の異なる基板の処理に共通
に使用することができる。
【0008】本発明の具体的な実施形態によれば、上記
高さ調節機構が、上部サポートローラーを支持する上下
動自在の支持部材と、該支持部材の複数箇所に取り付け
られたナット部材と、処理装置の機体に回転自在に支持
されて上記各ナット部材が上下動自在に螺合する複数の
ねじ杆と、これらのねじ杆を一斉に回転させる共通の駆
動機構とを有している。高さ調節機構をこのように構成
することにより、各上部サポートローラーを一つの駆動
機構によって一斉にしかも確実に上下動させてその高さ
を調整することができる。
高さ調節機構が、上部サポートローラーを支持する上下
動自在の支持部材と、該支持部材の複数箇所に取り付け
られたナット部材と、処理装置の機体に回転自在に支持
されて上記各ナット部材が上下動自在に螺合する複数の
ねじ杆と、これらのねじ杆を一斉に回転させる共通の駆
動機構とを有している。高さ調節機構をこのように構成
することにより、各上部サポートローラーを一つの駆動
機構によって一斉にしかも確実に上下動させてその高さ
を調整することができる。
【0009】本発明の他の具体的な実施形態によれば、
上記湿式処理部が、ノズルから洗浄液を噴射しながら基
板の両面を一対以上のブラシで洗浄するスクラブ洗浄部
と、内部に上記基板が全浸漬する深さの洗浄液が収容さ
れ、側壁には上記基板が通過するスリットを有する洗浄
槽、及び上記洗浄液中に超音波を照射するための超音波
手段を有する浸漬洗浄部と、基板の両面を一対以上のエ
アーナイフからエアを噴射することにより乾燥させる乾
燥部とを含んでいる。この場合に、上記湿式処理部に、
上記浸漬洗浄部の他に更に、あるいはこの浸漬洗浄部に
代えて、複数のノズルから基板の両面に洗浄液を噴射す
ることによって該基板の両面を洗浄するシャワー洗浄部
を組み込むことができる。
上記湿式処理部が、ノズルから洗浄液を噴射しながら基
板の両面を一対以上のブラシで洗浄するスクラブ洗浄部
と、内部に上記基板が全浸漬する深さの洗浄液が収容さ
れ、側壁には上記基板が通過するスリットを有する洗浄
槽、及び上記洗浄液中に超音波を照射するための超音波
手段を有する浸漬洗浄部と、基板の両面を一対以上のエ
アーナイフからエアを噴射することにより乾燥させる乾
燥部とを含んでいる。この場合に、上記湿式処理部に、
上記浸漬洗浄部の他に更に、あるいはこの浸漬洗浄部に
代えて、複数のノズルから基板の両面に洗浄液を噴射す
ることによって該基板の両面を洗浄するシャワー洗浄部
を組み込むことができる。
【0010】本発明において好ましくは、上記湿式処理
部に設けられた全ての上部サポートローラーを一つの共
通の支持部材に取り付けて、基板寸法に応じて一斉に高
さ調節可能なるように構成することがである。
部に設けられた全ての上部サポートローラーを一つの共
通の支持部材に取り付けて、基板寸法に応じて一斉に高
さ調節可能なるように構成することがである。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る方形基板の湿
式処理装置の好ましい実施形態を図面を参照しながら詳
細に説明する。図1に概略的に示すようにこの処理装置
は、FPDに使用される液晶用ガラス基板やプラズマデ
ィスプレイ用ガラス基板のような方形の基板Wを、一枚
ずつ縦向きに支持して搬送するローラー式の搬送機構1
と、この搬送機構1で搬送される基板Wに処理液による
湿式処理を施すための湿式処理部2と、未処理の基板W
を上記搬送機構1に一枚ずつ供給するローディング3部
と、処理済の基板Wを上記搬送機構1から受け取って次
工程に送るアンローディング部4とを有している。
式処理装置の好ましい実施形態を図面を参照しながら詳
細に説明する。図1に概略的に示すようにこの処理装置
は、FPDに使用される液晶用ガラス基板やプラズマデ
ィスプレイ用ガラス基板のような方形の基板Wを、一枚
ずつ縦向きに支持して搬送するローラー式の搬送機構1
と、この搬送機構1で搬送される基板Wに処理液による
湿式処理を施すための湿式処理部2と、未処理の基板W
を上記搬送機構1に一枚ずつ供給するローディング3部
と、処理済の基板Wを上記搬送機構1から受け取って次
工程に送るアンローディング部4とを有している。
【0012】上記湿式処理部2は、ノズル6から洗浄液
を噴射しながら基板Wの両面をロールブラシ7a,7b
で洗浄するスクラブ洗浄部2Aと、上記基板Wを洗浄液
8中に全浸漬させて超音波により洗浄する浸漬洗浄部2
Bと、上記基板Wの両面をエアーナイフ9a,9bから
のエアの噴射により乾燥させる乾燥部2Cとを含んでい
る。
を噴射しながら基板Wの両面をロールブラシ7a,7b
で洗浄するスクラブ洗浄部2Aと、上記基板Wを洗浄液
8中に全浸漬させて超音波により洗浄する浸漬洗浄部2
Bと、上記基板Wの両面をエアーナイフ9a,9bから
のエアの噴射により乾燥させる乾燥部2Cとを含んでい
る。
【0013】このうちスクラブ洗浄部2Aは、図2及び
図3からも分かるように、基板Wの搬送経路に沿って位
置する前後の槽璧12,13に該基板Wが通過するスリ
ット14が縦向きに形成された方形の洗浄槽11と、こ
の洗浄槽11の内部に縦向き即ち鉛直軸線の回りに回転
自在なるように配設された相対する二対の上記ロールブ
ラシ7a,7bと、上記基板Wに向けて洗浄液を噴射す
るための複数の上記ノズル6とを有している。
図3からも分かるように、基板Wの搬送経路に沿って位
置する前後の槽璧12,13に該基板Wが通過するスリ
ット14が縦向きに形成された方形の洗浄槽11と、こ
の洗浄槽11の内部に縦向き即ち鉛直軸線の回りに回転
自在なるように配設された相対する二対の上記ロールブ
ラシ7a,7bと、上記基板Wに向けて洗浄液を噴射す
るための複数の上記ノズル6とを有している。
【0014】上記ロールブラシ7a,7bは、円柱状を
した芯材の回りに合成樹脂発泡体からなるスポンジ体を
被着して形成したもので、相対する一方のロールブラシ
7aと他方のロールブラシ7bとが個別のフレーム15
aと15bとに支持されていて、左右の槽壁11a,1
1bの外面にそれぞれ取り付けられたモーター16によ
り、フレーム15a,15b内部の伝動機構を介して、
基板Wの進行方向とは逆向きに個別に駆動回転されなが
ら基板Wに接触するようになっている。また、上記ロー
ルブラシ7a,7bは、基板Wに対する接触圧を変えら
れるように、エアシリンダ等の推進手段17で互いに接
近及び離反する方向に変移自在となっている。一方、上
記ノズル6は、給液源5に接続されていて、上記ロール
ブラシ7a,7bと基板との摺接部分に向けて洗浄液を
噴射するものであるが、その設置数や設置場所等は図示
のものに限定されない。
した芯材の回りに合成樹脂発泡体からなるスポンジ体を
被着して形成したもので、相対する一方のロールブラシ
7aと他方のロールブラシ7bとが個別のフレーム15
aと15bとに支持されていて、左右の槽壁11a,1
1bの外面にそれぞれ取り付けられたモーター16によ
り、フレーム15a,15b内部の伝動機構を介して、
基板Wの進行方向とは逆向きに個別に駆動回転されなが
ら基板Wに接触するようになっている。また、上記ロー
ルブラシ7a,7bは、基板Wに対する接触圧を変えら
れるように、エアシリンダ等の推進手段17で互いに接
近及び離反する方向に変移自在となっている。一方、上
記ノズル6は、給液源5に接続されていて、上記ロール
ブラシ7a,7bと基板との摺接部分に向けて洗浄液を
噴射するものであるが、その設置数や設置場所等は図示
のものに限定されない。
【0015】なお、図示した実施例では上記ロールブラ
シ7a,7bが鉛直に配設されているが、これらのロー
ルブラシ7a,7bは、基板Wの搬送方向前方側又は後
方側に向けて若干傾斜させて設置しても良い。また、ロ
ールブラシ7a,7bの設置数は二対に限らず、一対で
あっても、あるいは三対以上であっても良い。
シ7a,7bが鉛直に配設されているが、これらのロー
ルブラシ7a,7bは、基板Wの搬送方向前方側又は後
方側に向けて若干傾斜させて設置しても良い。また、ロ
ールブラシ7a,7bの設置数は二対に限らず、一対で
あっても、あるいは三対以上であっても良い。
【0016】上記浸漬洗浄部2Bは、図1及び図4から
分かるように、上記基板Wが全浸漬する深さの洗浄液8
を収容するための方形の内槽20と、この内槽20の前
後両側に隣接して形成された回収槽21a,21bとか
らなる方形の洗浄槽19を有している。この洗浄槽19
は、上記スクラブ洗浄部2Aと隣接する側ではこのスク
ラブ洗浄部2Aの洗浄槽11と槽璧13を共有し、上記
乾燥部2Cと隣接する側ではこの乾燥部2Cの乾燥槽2
4と槽璧22を共有していて、これらの共有された各槽
壁13,22と上記内槽20の前後の槽璧20a,20
bには、上記基板Wが通過するスリット23がそれぞれ
形成されている。しかし、上記各洗浄槽11,19及び
乾燥槽24は、槽壁を共有させて一体に形成することな
く、互いに独立に形成しても良い。
分かるように、上記基板Wが全浸漬する深さの洗浄液8
を収容するための方形の内槽20と、この内槽20の前
後両側に隣接して形成された回収槽21a,21bとか
らなる方形の洗浄槽19を有している。この洗浄槽19
は、上記スクラブ洗浄部2Aと隣接する側ではこのスク
ラブ洗浄部2Aの洗浄槽11と槽璧13を共有し、上記
乾燥部2Cと隣接する側ではこの乾燥部2Cの乾燥槽2
4と槽璧22を共有していて、これらの共有された各槽
壁13,22と上記内槽20の前後の槽璧20a,20
bには、上記基板Wが通過するスリット23がそれぞれ
形成されている。しかし、上記各洗浄槽11,19及び
乾燥槽24は、槽壁を共有させて一体に形成することな
く、互いに独立に形成しても良い。
【0017】上記内槽20と各回収槽21a,21bと
の間には、洗浄液8の供給機構26が接続されている。
この供給機構26は、回収槽21a,21bで回収した
洗浄液を収容して浄化する機能を持つタンク27と、こ
のタンク27内の浄化された洗浄液を内槽20に供給す
るポンプ28と、洗浄液中の異物を濾過により除去する
フィルター29とからなるもので、この供給機構26に
より洗浄液を循環的に再使用するように構成されてい
る。なお、上記供給機構26により内槽20内に供給さ
れる洗浄液8の流量は、上記槽璧20a,20bのスリ
ット23から流出する流量より若干多目に設定されてお
り、従って洗浄8液は、スリット23から流出すると同
時に、一部が槽璧20a,20bをオーバーフローして
回収槽21a,21b内に流出する。
の間には、洗浄液8の供給機構26が接続されている。
この供給機構26は、回収槽21a,21bで回収した
洗浄液を収容して浄化する機能を持つタンク27と、こ
のタンク27内の浄化された洗浄液を内槽20に供給す
るポンプ28と、洗浄液中の異物を濾過により除去する
フィルター29とからなるもので、この供給機構26に
より洗浄液を循環的に再使用するように構成されてい
る。なお、上記供給機構26により内槽20内に供給さ
れる洗浄液8の流量は、上記槽璧20a,20bのスリ
ット23から流出する流量より若干多目に設定されてお
り、従って洗浄8液は、スリット23から流出すると同
時に、一部が槽璧20a,20bをオーバーフローして
回収槽21a,21b内に流出する。
【0018】上記洗浄槽19の左右の槽璧19aの外面
には、超音波手段31がそれぞれ取り付けられ、これら
の超音波手段31から洗浄液8中に超音波が照射される
ようになっている。なお、この超音波手段31は、槽底
に設けても良い。
には、超音波手段31がそれぞれ取り付けられ、これら
の超音波手段31から洗浄液8中に超音波が照射される
ようになっている。なお、この超音波手段31は、槽底
に設けても良い。
【0019】上記乾燥部2Cは、前後の槽璧22,32
に基板Wが通過するスリット23が形成された上記乾燥
槽24と、この乾燥槽24の内部に前後二段に配設され
た二対の上記エアーナイフ9a,9bとを有している。
これらのエアーナイフ9a,9bは、スリット状の噴射
孔から基板Wに向けてエアを線状に噴射することによっ
て該基板Wに付着している液を剥離して乾燥させるもの
で、圧縮空気源34に接続されている。なお、このエア
ーナイフ自体の構成はすでに公知であるから、これ以上
の具体的な説明は省略する。また、図示したように上記
エアーナイフ9a,9bは、基板Wの搬送方向後方側に
向けて若干傾斜させて設置することが望ましく、これに
より、付着した液が基板Wの上部側から下方に向けて次
第に剥離され、流下していくため、液の排出が円滑に行
われ、効率的である。なお、上記エアーナイフ9a,9
bの設置数は二対に限らず、一対であっても、あるいは
三対以上であっても良い。
に基板Wが通過するスリット23が形成された上記乾燥
槽24と、この乾燥槽24の内部に前後二段に配設され
た二対の上記エアーナイフ9a,9bとを有している。
これらのエアーナイフ9a,9bは、スリット状の噴射
孔から基板Wに向けてエアを線状に噴射することによっ
て該基板Wに付着している液を剥離して乾燥させるもの
で、圧縮空気源34に接続されている。なお、このエア
ーナイフ自体の構成はすでに公知であるから、これ以上
の具体的な説明は省略する。また、図示したように上記
エアーナイフ9a,9bは、基板Wの搬送方向後方側に
向けて若干傾斜させて設置することが望ましく、これに
より、付着した液が基板Wの上部側から下方に向けて次
第に剥離され、流下していくため、液の排出が円滑に行
われ、効率的である。なお、上記エアーナイフ9a,9
bの設置数は二対に限らず、一対であっても、あるいは
三対以上であっても良い。
【0020】また、上記搬送機構1は、基板Wの下端部
を下から支持する複数の下部サポートローラー36と、
基板Wの上端部を上から支持する複数の上部サポートロ
ーラー37とで構成されていて、これらのサポートロー
ラー36,37で基板Wを上下両側から挟持した状態で
搬送するようになっている。これらの各サポートローラ
ー36,37は、V字形の支持溝38を円周方向に備え
ていて、この支持溝38内に基板Wの端部を嵌合させた
状態で支持するものである。図示の例では、各サポート
ローラー36,37が、全体として中央部がくびれた鼓
形に形成されることにより、その中央部に実質的に上記
支持溝38を備えているが、各サポートローラー36,
37を短円柱上に形成して、その中央部に上記支持溝3
8を形成しても良い。
を下から支持する複数の下部サポートローラー36と、
基板Wの上端部を上から支持する複数の上部サポートロ
ーラー37とで構成されていて、これらのサポートロー
ラー36,37で基板Wを上下両側から挟持した状態で
搬送するようになっている。これらの各サポートローラ
ー36,37は、V字形の支持溝38を円周方向に備え
ていて、この支持溝38内に基板Wの端部を嵌合させた
状態で支持するものである。図示の例では、各サポート
ローラー36,37が、全体として中央部がくびれた鼓
形に形成されることにより、その中央部に実質的に上記
支持溝38を備えているが、各サポートローラー36,
37を短円柱上に形成して、その中央部に上記支持溝3
8を形成しても良い。
【0021】上記上下のサポートローラーのうち下部サ
ポートローラー36は、上記湿式処理部2即ちスクラブ
洗浄部2Aと浸漬洗浄部2Bと乾燥部2Cとにおける各
洗浄槽11,19及び乾燥槽24の下部位置に、基板W
の搬送方向に一定間隔を保って支軸39により回転自在
なるように設置され、槽外に設けられたシャフト40a
と歯車40bとからなる伝動機構40を介して駆動回転
用のモーター41に連結され、その回転によって基板W
を下部位置で駆動するようになっている。
ポートローラー36は、上記湿式処理部2即ちスクラブ
洗浄部2Aと浸漬洗浄部2Bと乾燥部2Cとにおける各
洗浄槽11,19及び乾燥槽24の下部位置に、基板W
の搬送方向に一定間隔を保って支軸39により回転自在
なるように設置され、槽外に設けられたシャフト40a
と歯車40bとからなる伝動機構40を介して駆動回転
用のモーター41に連結され、その回転によって基板W
を下部位置で駆動するようになっている。
【0022】一方の上部サポートローラー37は、上記
スクラブ洗浄部2Aと浸漬洗浄部2Bと乾燥部2Cとに
おける各洗浄槽11,19及び乾燥槽24の上部に上下
動自在になるように配設された支持部材43に、それぞ
れ支軸44で回転自在に支持されることにより、湿式処
理部2の全体にわたり基板Wの搬送方向に一定間隔を保
って配置され、高さ調節機構45によってその高さを一
斉に調節できるようになっている。上記支持部材43
は、図1に示すように、上記各洗浄槽11,19及び乾
燥槽24を跨ぐように配設されていて、この一つの共通
の支持部材43に全ての上部サポートローラー37が支
持されている。
スクラブ洗浄部2Aと浸漬洗浄部2Bと乾燥部2Cとに
おける各洗浄槽11,19及び乾燥槽24の上部に上下
動自在になるように配設された支持部材43に、それぞ
れ支軸44で回転自在に支持されることにより、湿式処
理部2の全体にわたり基板Wの搬送方向に一定間隔を保
って配置され、高さ調節機構45によってその高さを一
斉に調節できるようになっている。上記支持部材43
は、図1に示すように、上記各洗浄槽11,19及び乾
燥槽24を跨ぐように配設されていて、この一つの共通
の支持部材43に全ての上部サポートローラー37が支
持されている。
【0023】上記高さ調節機構45は、上記支持部材4
3と、この支持部材43の上面の複数箇所に取り付けら
れたナット部材46と、処理装置の機体5に軸受部材4
7により鉛直軸の回りに回転自在に支持されて上記各ナ
ット部材46が上下動自在に螺合する複数のねじ杆48
と、これらのねじ杆48を一斉に回転させる共通の駆動
機構49とで構成されている。この駆動機構49は、モ
ーター51と、このモーター51にエンコーダー52を
介して接続されたシャフト53と、このシャフト53と
上記各ねじ杆48とにそれぞれ取り付けられて相互に噛
合する傘歯車54a,54bとからなっている。そし
て、上記モーター51でシャフト53が正逆に駆動回転
されると、傘歯車54a,54bを介して各ねじ杆48
が回転し、このねじ杆48に沿ってナット部材46が上
下動するため、上記支持部材43が上下動して各上部サ
ポートローラー37の高さが一斉に調整される。このと
き、上記シャフト53の回転数がエンコーダー52によ
り計測され、その計測信号から上部サポートローラー3
7の高さが検出されることによって、下部サポートロー
ラー36との間隔が正確にコントロールされるようにな
っている。なお、上記モーター51として、サーボモー
ターあるいはステッピングモーターを使用することもで
き、この場合には、モーター自身がシャフトの回転数を
検出する機能を持っているため、エンコーダー52を設
ける必要がない。
3と、この支持部材43の上面の複数箇所に取り付けら
れたナット部材46と、処理装置の機体5に軸受部材4
7により鉛直軸の回りに回転自在に支持されて上記各ナ
ット部材46が上下動自在に螺合する複数のねじ杆48
と、これらのねじ杆48を一斉に回転させる共通の駆動
機構49とで構成されている。この駆動機構49は、モ
ーター51と、このモーター51にエンコーダー52を
介して接続されたシャフト53と、このシャフト53と
上記各ねじ杆48とにそれぞれ取り付けられて相互に噛
合する傘歯車54a,54bとからなっている。そし
て、上記モーター51でシャフト53が正逆に駆動回転
されると、傘歯車54a,54bを介して各ねじ杆48
が回転し、このねじ杆48に沿ってナット部材46が上
下動するため、上記支持部材43が上下動して各上部サ
ポートローラー37の高さが一斉に調整される。このと
き、上記シャフト53の回転数がエンコーダー52によ
り計測され、その計測信号から上部サポートローラー3
7の高さが検出されることによって、下部サポートロー
ラー36との間隔が正確にコントロールされるようにな
っている。なお、上記モーター51として、サーボモー
ターあるいはステッピングモーターを使用することもで
き、この場合には、モーター自身がシャフトの回転数を
検出する機能を持っているため、エンコーダー52を設
ける必要がない。
【0024】このような構成を有する高さ調節機構45
は、全ての上部サポートローラー37を一つの駆動機構
49によって一斉にしかも確実に上下動させてその高さ
を調整することができるため、操作が簡単で、個別に調
整する場合よりは精度の良い高さ調整を行うことができ
る。
は、全ての上部サポートローラー37を一つの駆動機構
49によって一斉にしかも確実に上下動させてその高さ
を調整することができるため、操作が簡単で、個別に調
整する場合よりは精度の良い高さ調整を行うことができ
る。
【0025】上記構成を有する処理装置において、上記
ローディング部3から未処理基板Wが搬送機構1におけ
る上下のサポートローラー36,37の間に供給される
と、この基板Wは、上下のサポートローラー36,37
により両側からしっかりと安定的に挟持された状態のま
ま、下部サポートローラー36の回転により搬送され
る。そして、スリット14を通じてスクラブ洗浄部2A
に送られ、このスクラブ洗浄部2Aにおいて、ノズル6
からの洗浄液の噴射を受けながらその両面がロールブラ
シ7a,7bによってスクラブ洗浄される。このとき洗
浄槽11内に流下した洗浄液は、図示しない排出口を通
じてタンクに回収されるが、浄化後にそれを再使用する
こともできる。また、上記基板Wは上下のサポートロー
ラー36,37で両側からしっかりと挟持されているた
め、該基板Wにロールブラシ7a,7bによる摩擦力
や、ノズル6からの洗浄液の噴射圧力等が作用しても、
その位置に停止したまま送られないとか、ずれ動いたり
脱落したりするといったようなことがない。
ローディング部3から未処理基板Wが搬送機構1におけ
る上下のサポートローラー36,37の間に供給される
と、この基板Wは、上下のサポートローラー36,37
により両側からしっかりと安定的に挟持された状態のま
ま、下部サポートローラー36の回転により搬送され
る。そして、スリット14を通じてスクラブ洗浄部2A
に送られ、このスクラブ洗浄部2Aにおいて、ノズル6
からの洗浄液の噴射を受けながらその両面がロールブラ
シ7a,7bによってスクラブ洗浄される。このとき洗
浄槽11内に流下した洗浄液は、図示しない排出口を通
じてタンクに回収されるが、浄化後にそれを再使用する
こともできる。また、上記基板Wは上下のサポートロー
ラー36,37で両側からしっかりと挟持されているた
め、該基板Wにロールブラシ7a,7bによる摩擦力
や、ノズル6からの洗浄液の噴射圧力等が作用しても、
その位置に停止したまま送られないとか、ずれ動いたり
脱落したりするといったようなことがない。
【0026】上記スクラブ洗浄部2Aにおいてスクラブ
洗浄された基板Wは、スリット14を通じて浸漬洗浄部
2Bの洗浄槽内に送られ、内槽20内に収容された洗浄
液8中を通過する間に、超音波手段31から超音波の照
射を受けて浸漬洗浄される。このとき内槽20内には、
上記供給機構26により、槽壁20a,20bのスリッ
ト23から流出する量より若干多目の量の洗浄液が連続
的に供給される。従って洗浄液8は、スリット23から
流出すると同時に、一部が槽壁20a,20bをオーバ
ーフローして回収槽21a,21b内に流出しており、
このため、基板Wから剥離した汚れは、洗浄液の流れに
よって速やかに槽外に排出され、基板Wに再付着するこ
とがない。また、該基板Wが洗浄液8中に全浸漬されて
も、該基板Wは上下のサポートローラー36,37で両
側からしっかりと挟持されているため、浮力の作用や液
流の作用等によって洗浄液中を遊動することがない。
洗浄された基板Wは、スリット14を通じて浸漬洗浄部
2Bの洗浄槽内に送られ、内槽20内に収容された洗浄
液8中を通過する間に、超音波手段31から超音波の照
射を受けて浸漬洗浄される。このとき内槽20内には、
上記供給機構26により、槽壁20a,20bのスリッ
ト23から流出する量より若干多目の量の洗浄液が連続
的に供給される。従って洗浄液8は、スリット23から
流出すると同時に、一部が槽壁20a,20bをオーバ
ーフローして回収槽21a,21b内に流出しており、
このため、基板Wから剥離した汚れは、洗浄液の流れに
よって速やかに槽外に排出され、基板Wに再付着するこ
とがない。また、該基板Wが洗浄液8中に全浸漬されて
も、該基板Wは上下のサポートローラー36,37で両
側からしっかりと挟持されているため、浮力の作用や液
流の作用等によって洗浄液中を遊動することがない。
【0027】上記浸漬洗浄部2Bで浸漬洗浄された基板
Wは、乾燥部2Cに送られ、エアーナイフ9a,9bか
ら線状に噴射されるエアにより付着している液が剥離さ
れ、乾燥させられる。そした、乾燥された基板Wは、ス
リット23を通じてアンローディング部4に送り出され
たあと、次工程に送られる。
Wは、乾燥部2Cに送られ、エアーナイフ9a,9bか
ら線状に噴射されるエアにより付着している液が剥離さ
れ、乾燥させられる。そした、乾燥された基板Wは、ス
リット23を通じてアンローディング部4に送り出され
たあと、次工程に送られる。
【0028】寸法の異なる基板Wを処理する場合には、
上記スクラブ洗浄部2Aと浸漬洗浄部2Bと乾燥部2C
とにおける各支持部材43の高さを高さ調節手段45で
調節することにより、上下のサポートローラー36,3
7の間隔をその基板Wの寸法に合わせれば良い。
上記スクラブ洗浄部2Aと浸漬洗浄部2Bと乾燥部2C
とにおける各支持部材43の高さを高さ調節手段45で
調節することにより、上下のサポートローラー36,3
7の間隔をその基板Wの寸法に合わせれば良い。
【0029】なお、図示の実施例では、上部サポートロ
ーラー37を支持する支持部材43が、上記スクラブ洗
浄部2Aと浸漬洗浄部2Bと乾燥部2Cとにおける各洗
浄槽11,19と乾燥槽24とを跨ぐように一つだけ設
けられていて、この共通の支持部材43に全ての上部サ
ポートローラー37が取り付けられているが、上記支持
部材43は、各洗浄槽11,19及び乾燥槽24毎に個
別に設け、各支持部材43にそれぞれの槽に対応する上
部サポートローラー37を支持させて、これらの支持部
材43を共通の高さ調節手段45か、又は個別に設けた
高さ調節手段45で上下動させるように構成することも
できる。
ーラー37を支持する支持部材43が、上記スクラブ洗
浄部2Aと浸漬洗浄部2Bと乾燥部2Cとにおける各洗
浄槽11,19と乾燥槽24とを跨ぐように一つだけ設
けられていて、この共通の支持部材43に全ての上部サ
ポートローラー37が取り付けられているが、上記支持
部材43は、各洗浄槽11,19及び乾燥槽24毎に個
別に設け、各支持部材43にそれぞれの槽に対応する上
部サポートローラー37を支持させて、これらの支持部
材43を共通の高さ調節手段45か、又は個別に設けた
高さ調節手段45で上下動させるように構成することも
できる。
【0030】また、上記スクラブ洗浄部2Aにおける洗
浄槽11の左右の槽壁11a,11aは一体に形成され
ていて、開閉することができないが、下部サポートロー
ラー36と伝動機構40とが取り付けられている槽璧下
端部を除き、ロールブラシ7a,7bを支持するフレー
ム15a,15bと駆動用のモーター16及び推進手段
17が取り付けられている槽璧部分を、扉として開閉自
在なるように形成することもでき、これにより、ロール
ブラシ7a,7bの交換など内部の点検を簡単に行うこ
とができる。
浄槽11の左右の槽壁11a,11aは一体に形成され
ていて、開閉することができないが、下部サポートロー
ラー36と伝動機構40とが取り付けられている槽璧下
端部を除き、ロールブラシ7a,7bを支持するフレー
ム15a,15bと駆動用のモーター16及び推進手段
17が取り付けられている槽璧部分を、扉として開閉自
在なるように形成することもでき、これにより、ロール
ブラシ7a,7bの交換など内部の点検を簡単に行うこ
とができる。
【0031】さらに、上記実施例においては、スクラブ
洗浄部2Aのロールブラシ7a,7bが、スポンジ体に
より形成されているが、芯材の回りに合成繊維を円柱状
に植設して形成した繊維製のブラシであっても良い。あ
るいは、このような円柱状のロールブラシ7a,7bに
代えて、円盤型をしたディスクブラシを使用することも
できる。
洗浄部2Aのロールブラシ7a,7bが、スポンジ体に
より形成されているが、芯材の回りに合成繊維を円柱状
に植設して形成した繊維製のブラシであっても良い。あ
るいは、このような円柱状のロールブラシ7a,7bに
代えて、円盤型をしたディスクブラシを使用することも
できる。
【0032】また、図示した実施例は、湿式処理部2
が、基板Wをロールブラシ7a,7bで洗浄するスクラ
ブ洗浄部2Aと、基板Wを洗浄液8中に全浸漬させて超
音波により洗浄する浸漬洗浄部2Bと、上記基板Wの両
面をエアーナイフ9a,9bからのエアの噴射により乾
燥させる乾燥部2Cとで構成されているが、湿式処理部
2の構成はこのようなものに限定されない。例えば、図
5に示すようなシャワー洗浄部2Dを、上記浸漬洗浄部
2Bの他にその前段又は後段に組み込んだり、あるいは
該浸漬洗浄部2Bに代えて組み込むこともできる。
が、基板Wをロールブラシ7a,7bで洗浄するスクラ
ブ洗浄部2Aと、基板Wを洗浄液8中に全浸漬させて超
音波により洗浄する浸漬洗浄部2Bと、上記基板Wの両
面をエアーナイフ9a,9bからのエアの噴射により乾
燥させる乾燥部2Cとで構成されているが、湿式処理部
2の構成はこのようなものに限定されない。例えば、図
5に示すようなシャワー洗浄部2Dを、上記浸漬洗浄部
2Bの他にその前段又は後段に組み込んだり、あるいは
該浸漬洗浄部2Bに代えて組み込むこともできる。
【0033】上記シャワー洗浄部2Dは、上記浸漬洗浄
部2Bの洗浄槽19と同様の構成を持った洗浄槽60に
おける内槽20の内部に、複数のシャワーノズル62を
基板Wの両側の相対する位置に上下方向に所要の間隔を
保って配設し、給液管63によりバルブ64を通じて図
示しない給液源に接続したもので、これらのノズル62
から基板Wの表裏面全体に洗浄液66を万遍なく噴射、
供給できるようになっている。図中65は流量計又は圧
力計等の計器を示している。
部2Bの洗浄槽19と同様の構成を持った洗浄槽60に
おける内槽20の内部に、複数のシャワーノズル62を
基板Wの両側の相対する位置に上下方向に所要の間隔を
保って配設し、給液管63によりバルブ64を通じて図
示しない給液源に接続したもので、これらのノズル62
から基板Wの表裏面全体に洗浄液66を万遍なく噴射、
供給できるようになっている。図中65は流量計又は圧
力計等の計器を示している。
【0034】また、このシャワー洗浄部2Dにおける内
槽20の内部には、上記ノズル62から供給される洗浄
液66中に超音波を照射するための超音波装置を設置し
ても良く、これによって超音波シャワー洗浄を行うこと
ができる。なお、このシャワー洗浄部2Dにおける上記
以外の構成は、殆どが浸漬洗浄部2Bと重複しているた
め、主要な重複部分に浸漬洗浄部2Bと同じ符号を付し
てその説明は省略する。
槽20の内部には、上記ノズル62から供給される洗浄
液66中に超音波を照射するための超音波装置を設置し
ても良く、これによって超音波シャワー洗浄を行うこと
ができる。なお、このシャワー洗浄部2Dにおける上記
以外の構成は、殆どが浸漬洗浄部2Bと重複しているた
め、主要な重複部分に浸漬洗浄部2Bと同じ符号を付し
てその説明は省略する。
【0035】上記湿式処理部2は、上述したように洗浄
液を使用して基板を洗浄するものに限らず、化学薬液か
らなる処理液をノズルから基板に噴射したり、処理槽内
の化学薬液中に基板を浸漬するなどの方法により、該基
板に現像や剥離あるいはエッチングなどの各種湿式処理
を施すものであっても良い。
液を使用して基板を洗浄するものに限らず、化学薬液か
らなる処理液をノズルから基板に噴射したり、処理槽内
の化学薬液中に基板を浸漬するなどの方法により、該基
板に現像や剥離あるいはエッチングなどの各種湿式処理
を施すものであっても良い。
【0036】
【発明の効果】このように本発明の湿式処理装置は、基
板を上部サポートローラーと下部サポートローラーとで
上下両側から挟持した状態のまま搬送しながら湿式処理
を施すようにしているため、該基板が常に確実かつ安定
的に支持された状態にあり、湿式処理中に位置ずれした
り脱落するようなことがない。例えば、ノズルから処理
液を噴射しながら回転するブラシで洗浄処理等を行う場
合でも、該ブラシとの摩擦力が抵抗となって基板が送ら
れないとか、ノズルから噴射される処理液の水圧で基板
がずれ動いたり脱落したりするといったような問題が確
実に回避される。また、上記基板を処理液中に浸漬させ
ても、該基板が浮力の作用や液流の作用等によって遊動
することがないため、該基板に処理液による浸漬処理を
施すことが可能になる。更に、上部サポートローラーが
高さ調節自在となっているため、下部サポートローラー
との間隔を調節することにより、寸法の異なる基板の処
理に共通に使用することができる。
板を上部サポートローラーと下部サポートローラーとで
上下両側から挟持した状態のまま搬送しながら湿式処理
を施すようにしているため、該基板が常に確実かつ安定
的に支持された状態にあり、湿式処理中に位置ずれした
り脱落するようなことがない。例えば、ノズルから処理
液を噴射しながら回転するブラシで洗浄処理等を行う場
合でも、該ブラシとの摩擦力が抵抗となって基板が送ら
れないとか、ノズルから噴射される処理液の水圧で基板
がずれ動いたり脱落したりするといったような問題が確
実に回避される。また、上記基板を処理液中に浸漬させ
ても、該基板が浮力の作用や液流の作用等によって遊動
することがないため、該基板に処理液による浸漬処理を
施すことが可能になる。更に、上部サポートローラーが
高さ調節自在となっているため、下部サポートローラー
との間隔を調節することにより、寸法の異なる基板の処
理に共通に使用することができる。
【図1】本発明に係る処理装置の一実施形態を簡略的に
示す断面図である。
示す断面図である。
【図2】図1の要部拡大図である。
【図3】図2におけるA−A線での断面図である。
【図4】図1におけるB−B線での断面図でである。
【図5】シャワー洗浄部の構成を示す図4と同様位置で
の断面図である。
の断面図である。
W 基板
1 搬送機構
2 湿式処理部
2A スクラブ洗浄部
2B 浸漬洗浄部
2C 乾燥部
2D シャワー洗浄部
6 ノズル
7a,7b ブラシ
8 洗浄液
9a,9b エアーナイフ
11 洗浄槽
12,13,20a,20b,22 槽壁
14,23 スリット
31 超音波手段
36 下部サポートローラー
37 上部サポートローラー
41 モーター
43 支持部材
45 高さ調節機構
46 ナット部材
48 ねじ杆
49 駆動機構
62 ノズル
66 洗浄液
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考)
B08B 7/04 B08B 7/04 A
B65G 49/06 B65G 49/06 Z
H01L 21/304 644 H01L 21/304 644E
648 648A
651 651L
21/68 21/68 A
Fターム(参考) 3B116 AA02 AB16 BA02 BA15 BB03
BB23 BB85 CC03
3B201 AA02 AB16 BA02 BA15 BB04
BB23 BB85 CC12
5F031 CA05 FA02 FA07 GA53 HA71
MA23 PA02 PA05 PA08 PA16
Claims (5)
- 【請求項1】方形の基板を一枚ずつ縦向きに支持して搬
送するローラー式の搬送機構と、該搬送機構で搬送され
る基板に処理液による湿式処理を施すための湿式処理部
とを含み、 上記搬送機構が、基板の下端部を下から支持する複数の
下部サポートローラーと、基板の上端部を上から支持す
る複数の上部サポートローラーとで構成されていて、上
記下部サポートローラーは、基板の搬送方向に一定間隔
を保って回転自在なるように配設されると共に、各サポ
ートローラーが駆動回転用のモーターに連結され、一方
の上部サポートローラーは、基板の搬送方向に一定間隔
を保って回転自在なるように配設されると共に、高さ調
節機構によって下部サポートローラーとの間隔を調節自
在に支持されている、ことを特徴とする方形基板の湿式
処理装置。 - 【請求項2】上記高さ調節機構が、上部サポートローラ
ーを支持する上下動自在の支持部材と、該支持部材の複
数箇所に取り付けられたナット部材と、処理装置の機体
に回転自在に支持されて上記各ナット部材が上下動自在
に螺合する複数のねじ杆と、これらのねじ杆を一斉に回
転させる共通の駆動機構とを有することを特徴とする請
求項1に記載の湿式処理装置。 - 【請求項3】上記湿式処理部が、ノズルから洗浄液を噴
射しながら基板の両面を一対以上のブラシで洗浄するス
クラブ洗浄部と、内部に上記基板が全浸漬する深さの洗
浄液が収容され、側壁には上記基板が通過するスリット
を有する洗浄槽、及び上記洗浄液中に超音波を照射する
ための超音波手段を有する浸漬洗浄部と、基板の両面を
一対以上のエアーナイフからエアを噴射することにより
乾燥させる乾燥部とを含んでいることを特徴とする請求
項1又は2に記載の湿式処理装置。 - 【請求項4】上記湿式処理部が、上記浸漬洗浄部の他に
更に、あるいはこの浸漬洗浄部に代えて、複数のノズル
から基板の両面に洗浄液を噴射することによって該基板
の両面を洗浄するシャワー洗浄部を有することを特徴と
する請求項3に記載の湿式処理装置。 - 【請求項5】上記湿式処理部に設けられた全ての上部サ
ポートローラーが一つの共通の支持部材に取り付けられ
ていて、基板寸法に応じて一斉に高さ調節可能であるこ
とを特徴とする請求項2に従属する請求項3又は4に記
載の湿式処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001302120A JP2003104544A (ja) | 2001-09-28 | 2001-09-28 | 方形基板の湿式処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001302120A JP2003104544A (ja) | 2001-09-28 | 2001-09-28 | 方形基板の湿式処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003104544A true JP2003104544A (ja) | 2003-04-09 |
Family
ID=19122423
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001302120A Pending JP2003104544A (ja) | 2001-09-28 | 2001-09-28 | 方形基板の湿式処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003104544A (ja) |
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