JP2006216709A - 積層型電子部品を内蔵した多層配線基板及び積層型電子部品 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】多層配線基板10は、積層型電子部品13を内蔵し、積層型電子部品13は、複数の誘電体層13Aが積層された積層体13Bからなる素体と、誘電体層13Aの間に介在する内部電極13Cと、内部電極13Cに接続するように素体の接続面に設けられた外部端子電極13Dと、を有し、内部電極13Cは、非接続面との間に実質的にマージンが無く、多層配線基板10は、複数の誘電体層11Aが積層された積層体11からなる素体と、誘電体層11Aの間に介在する所定の配線パターン12と、を有し、積層型電子部品13の非接続面は、多層配線基板10の誘電体層11Aと対向している。
【選択図】図1
Description
本実施形態の多層配線基板10は、例えば図1の(a)に示すように、複数の誘電体層11Aが積層された積層体11からなる素体と、積層体11内の上下の誘電体層11Aの界面や誘電体層11Aを貫通するビアホールに形成された配線パターン12と、上下の誘電体層11Aの界面に設けられ且つ配線パターン12と電気的に接続された積層型電子部品13と、を備えて構成されている。また、積層体11の両主面(上下両面)にはそれぞれ表面電極14、14が形成されている。
本実施形態では無収縮工法を用いて多層配線基板10を作製する場合について説明する。無収縮工法とは、積層体11としてセラミック材料を用いた場合に多層配線基板の焼成前後で多層配線基板の平面方向の寸法が実質的に変化しない工法のことを云う。
A)ドクターブレード法等を用いて図4に示すように積層セラミックコンデンサ13に用いられる誘電体グリーンシート113Aを所定枚数作製した後、スクリーン印刷法等を用いて例えばPdを主成分とする導電性ペーストを誘電体グリーンシート113Aに印刷して内部電極部113Cを形成する。この際、同図に示すように誘電体グリーンシート113Aの一端から他端の近傍までその全幅に渡って導電性ペーストを印刷し、実質的にサイドマージンが無い状態でNi、Cu等で内部電極部113Cを形成する。内部電極部113Cを有する誘電体グリーンシート113Aを所定枚数作製する。
例えば低温焼結セラミック材料(Al2O3をフィラーとし、ホウ珪酸ガラスを焼結助材として含むセラミック材料)を含むスラリーを用いて、誘電体グリーンシートを所定枚数作製する。また、図5の(a)、(b)に示すように積層型電子部品13を搭載するための誘電体グリーンシート111Aには所定のパターンでビアホールを形成する。これらのビアホールは、積層型電子部品13の幅寸法よりやや小さく、他の誘電体グリーンシートに形成されるビアホール導体よりも大きな直径を有する円形状の貫通孔として形成することが好ましい。これらのビアホール内に例えばAgまたはCuを主成分とする導電性ペーストを充填してビアホール導体部112Bを形成する。更に、スクリーン印刷法を用いて同種の導電性ペーストを誘電体グリーンシート111A上に所定のパターンで塗布して、表面電極部114(同図の(c)参照)を形成し、表面電極部114とビアホール導体部112Bとを適宜接続した誘電体グリーンシート111Aを作製する。その他の面内導体部112A及び/またはビアホール導体部112Bを有する誘電体グリーンシート111Aもこれと同一要領で作製する。
本実施形態の多層配線基板10Aは、その内部の配線パターンと積層型電子部品との接続形態が異なる以外は第1の実施形態と同様に構成されている。本実施形態の多層配線基板も第1の実施形態と同一の要領で作製することができる。そこで、以下では図7の(a)〜(c)を参照しながら第1の実施形態と同一または相当部分には同一符号を附して、本実施形態の構造上の特徴部分についてのみ説明する。
本実施形態の多層配線基板は、その誘電体セラミック層と積層型電子部品との密着を防止する構造を有すること以外は第2の実施形態と同様に構成されているため、図9、図10を参照しながら第2の実施形態と同一または相当部分には同一符号を附して、本実施形態の構造上の特徴部分についてのみ説明する。
本実施例では図2に示す積層型電子部品として積層セラミックコンデンサを作製し、この積層セラミックコンデンサを内蔵させた多層配線基板を作製し、この多層配線基板の基板表面の凹凸を測定すると共に、内蔵された積層セラミックコンデンサの絶縁抵抗を測定して特性が低下しているか否かを調べた。
本実施例では積層セラミックコンデンサの上下のマージン部を無くした、つまり最上層の内部電極と最下層の内部電極が露出した積層セラミックコンデンサを作製し、実施例1と同一要領で、この積層セラミックコンデンサを内蔵した多層配線基板を作製した。その結果、実施例1に比べ、更に0.02mm低背化することができた。
11 積層体(素体)
11A 誘電体セラミック層(誘電体層)
12 配線パターン
12A 面内導体
12B ビアホール導体
13 積層型電子部品
13A 誘電体セラミック層(誘電体層)
13B 積層体(素体)
13C 内部電極
13D 外部電極
15A 第1接続導体
15B 第2接続導体
V 空隙
C セラミック粉末
Claims (11)
- 積層型電子部品を内蔵した多層配線基板であって、
上記積層型電子部品は、
複数の誘電体層が積層された積層体からなる素体と、
上記誘電体層の間に介在する内部電極と、上記内部電極に接続するように上記素体の少なくとも一つの側面に設けられた外部端子電極と、
を有し、
上記内部電極は、上記素体の他の側面との間に実質的にマージンが無いように形成されており、
また、上記多層配線基板は、
複数の誘電体層が積層された積層体からなる素体と、
上記積層体の内部に設けられた所定の配線パターンと、
を有し、
上記積層型電子部品の上記外部端子電極は、上記多層配線基板の上記配線パターンに接続されており、且つ、上記積層型電子部品の上記素体の他方の側面は、上記多層配線基板の誘電体層と対向している
ことを特徴とする多層配線基板。 - 上記積層型電子部品は、複数層に渡って形成されたコンデンサパターンを上記内部電極として備えたコンデンサ内蔵部品であることを特徴とする請求項1に記載の多層配線基板。
- 上記積層型電子部品は、上記内部電極としてコイルパターンを備えたインダクタ内蔵電子部品であることを特徴とする請求項1に記載の積多層配線基板。
- 上記多層配線基板の上記配線パターンはビアホール導体を含み、上記積層型電子部品の上記外部端子電極は上記ビアホール導体に接続されており、接続状態にて、上記ビアホール導体には段部が形成されていることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の多層配線基板。
- 上記多層配線基板は、上記配線パターンとして、上記誘電体層の積層方向に延びる第1接続導体と、上記第1接続導体とは反対側に延びる第2接続導体とを含み、
上記積層型電子部品の上記外部端子電極は、上記第1接続導体及び上記第2接続導体にそれぞれ接続されていること特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の多層配線基板。 - 上記積層型電子部品の上記他の側面と上記多層配線基板の上記誘電体層との間には空隙が介在していること特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の多層配線基板。
- 上記積層型電子部品の上記他の側面と上記多層配線基板の上記誘電体層との間にはセラミック粉末が介在していること特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の多層配線基板。
- 上記積層型電子部品は、複数の誘電体セラミック層を積層してなる積層体を素体とする積層型セラミック電子部品であること特徴とする請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載の多層配線基板。
- 上記多層配線基板は、複数の誘電体セラミック層を積層してなる積層体を素体とするセラミック多層基板であること特徴とする請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載の多層配線基板。
- 上記誘電体セラミック層は、低温焼結セラミック層であること特徴とする請求項9に記載の多層配線基板。
- 複数の誘電体層が積層された積層体からなる素体と、
上記誘電体層の間に介在する内部電極と、
上記内部電極と接続するように上記素体の少なくとも一つの側面に設けられた外部端子電極と、
を有し、
上記素体の他の側面と上記内部電極との間には実質的にマージンが無い
こと特徴とする積層型電子部品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005026867A JP4765330B2 (ja) | 2005-02-02 | 2005-02-02 | 積層型電子部品を内蔵した多層配線基板及び多層配線基板の製造方法 |
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Publications (2)
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JP2006216709A true JP2006216709A (ja) | 2006-08-17 |
JP4765330B2 JP4765330B2 (ja) | 2011-09-07 |
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JP2005026867A Active JP4765330B2 (ja) | 2005-02-02 | 2005-02-02 | 積層型電子部品を内蔵した多層配線基板及び多層配線基板の製造方法 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP4765330B2 (ja) |
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