JP2006216475A - Metal mask and mask unit - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To correctly evaluate in-plane positional accuracy, in a metal mask used by fixing it to a frame with tension applied thereto. <P>SOLUTION: In order to allowing the in-plane positional accuracy of a metal mask 1 having a mask part 2 provided with multiple openings 3 to be correctly evaluated, marks 9 for evaluating the positional accuracy allowing a center position to be detected by processing an image are previously formed at a plurality of positions outside the mask part 2 by half-etching; and the in-plane positional accuracy can correctly be evaluated by position measurement of the marks for evaluating positional accuracy. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、例えば、有機ＥＬ素子製造工程で使われる蒸着マスクに使用される、多数の微小な開口部を備えたマスク部を有するメタルマスク及びそれを枠状のフレームに固定して形成したマスクユニットに関する。   The present invention is, for example, a metal mask having a mask portion having a large number of minute openings used for a vapor deposition mask used in an organic EL element manufacturing process, and a mask formed by fixing it to a frame-like frame. Regarding the unit.

従来、有機ＥＬ素子製造において真空蒸着が行われており、その蒸着マスクとして、蒸着を許容する多数の細長い微小な開口部を備えたマスク部を有するメタルマスクが使用されている。そして蒸着に当たってはそのメタルマスクを、前記マスク部よりも大きい開口を備えた剛性の大きい枠状のフレームに磁石等によって取り付けていた。しかしながら、近年、パターニングの微細化が進み、マスク部に形成している開口部が微細になり且つメタルマスクの板厚自体も薄くなってくると、メタルマスクを単に枠状のフレームに磁石等を用いて固定しただけでは、マスク部にゆがみやたるみが生じ、開口部の精度が維持できなくなるという問題が生じた。   Conventionally, vacuum vapor deposition is performed in the manufacture of organic EL elements, and a metal mask having a mask portion having a large number of elongated minute openings allowing vapor deposition is used as the vapor deposition mask. In vapor deposition, the metal mask is attached to a frame having a large rigidity having an opening larger than that of the mask by a magnet or the like. However, in recent years, when the patterning has been miniaturized and the openings formed in the mask portion have become finer and the thickness of the metal mask itself has become thinner, the metal mask is simply attached to a frame-like frame with a magnet or the like. Only by using and fixing, there arises a problem that the mask portion is distorted or sag, and the accuracy of the opening cannot be maintained.

そこで、本出願人はこの問題を解決すべく検討の結果、極く薄い金属板で製作し、且つ複数のマスク部を備えた構造の多面付けのメタルマスクでも、メタルマスクの４辺のそれぞれを、複数のクランプで把持し、各クランプによって前記メタルマスクにテンションを加え、かつそのテンションを各クランプごとに調整することで、メタルマスクをしわやたるみの無い平坦な状態とし、各マスク部の開口部を直線状に且つ一定ピッチに保持できること及びその状態で枠状のフレームにスポット溶接等によって固定することで、クランプを外した後においてもメタルマスクをテンションが掛けられ平坦となった状態に保持でき、従って、単純な構造のフレームを用いて多面付けマスクをゆがみやたるみの無い状態に保持できることを見出し、そのメタルマスクをゆがみやたるみの無い状態で枠状のフレームに固定する方法及び装置を開発した（特開２００４−３１１３３５号公報参照）。   Therefore, as a result of studies to solve this problem, the applicant of the present invention manufactured each of the four sides of the metal mask even with a multi-sided metal mask manufactured with a very thin metal plate and provided with a plurality of mask portions. By holding the metal mask with a plurality of clamps, applying tension to the metal mask with each clamp, and adjusting the tension for each clamp, the metal mask is made flat with no wrinkles or sagging, and each mask portion has an opening. The metal mask can be held in a straight line at a constant pitch and fixed to the frame-like frame by spot welding, etc., so that the metal mask can be held flat even after the clamp is removed. Therefore, it has been found that a multi-face mask can be held without distortion and sagging using a frame with a simple structure. Tarumasuku developed a method and apparatus for securing the frame-shaped frame without distortion and sagging state (see JP 2004-311335).

ところで、このようにメタルマスクにテンションを加えた状態でフレームに固定する場合、単にメタルマスクのひずみやたわみが無くなるようにテンションを調整しただけでは、メタルマスクに形成している複数のマスク部の位置が適正な位置からずれてしまうことがあることが判明した。例えば、有機ＥＬ素子製造に用いる蒸着用の多面付けマスクの場合、各マスク部の位置に関して±１０μｍ以下のトータルピッチが求められることがあるが、メタルマスクに対するテンションの掛け具合によっては、そのピッチの誤差が大きくなるとか、全体的にねじれたような配置になることがあった。そこで、メタルマスクをフレームに固定した後で、メタルマスクの面内位置精度を正確に評価することが必要となった。
特開２００４−３１１３３５号公報 By the way, when fixing to the frame in such a state that tension is applied to the metal mask, simply adjusting the tension so that there is no distortion or deflection of the metal mask, the plurality of mask portions formed on the metal mask It has been found that the position may deviate from the proper position. For example, in the case of a multi-face mask for vapor deposition used for manufacturing an organic EL element, a total pitch of ± 10 μm or less may be required with respect to the position of each mask part, but depending on the tension applied to the metal mask, In some cases, the error becomes large, or the entire arrangement is twisted. Therefore, after fixing the metal mask to the frame, it is necessary to accurately evaluate the in-plane positional accuracy of the metal mask.
JP 2004-31335 A

メタルマスクの面内位置精度を評価するには、メタルマスクのマスク部に形成している多数のスリット状或いはスロット状の開口部のうち、マスク部の角部に位置している開口部の端部位置を画像処理して測定することが考えられる。しかしながら、メタルマスクの開口部はエッチング加工により形成されるが、その際、スリット状或いはスロット状の開口部の端部はエッチング液が溜まりやすいため形状が変りやすく、また、寸法制御が困難である。このため、開口部の端部を測定ポイントとして用いるには精度上問題があることが判明した。   In order to evaluate the in-plane positional accuracy of the metal mask, the edge of the opening located at the corner of the mask portion among the many slit-shaped or slot-shaped openings formed in the mask portion of the metal mask. It is conceivable to measure the position of the part by image processing. However, the opening of the metal mask is formed by etching. At that time, the end of the slit-shaped or slot-shaped opening is likely to change its shape because the etchant tends to accumulate, and the size control is difficult. . For this reason, it has been found that there is a problem in accuracy in using the end of the opening as a measurement point.

本発明はかかる状況に鑑みてなされたもので、メタルマスクの面内位置精度を正確に評価することの可能なメタルマスクを提供することを課題とする。   The present invention has been made in view of such a situation, and an object thereof is to provide a metal mask capable of accurately evaluating the in-plane positional accuracy of the metal mask.

本発明は、微小な多数の開口部を備えたマスク部を有するメタルマスクの面内位置精度を正確に評価可能とするため、該メタルマスクのマスク部の外側の複数個所に、画像処理することで中心位置を検出可能な位置精度評価用マークを形成しておくという構成としたものである。   The present invention performs image processing at a plurality of locations outside the mask portion of the metal mask so that the in-plane positional accuracy of the metal mask having a mask portion having a large number of minute openings can be accurately evaluated. Thus, a position accuracy evaluation mark capable of detecting the center position is formed.

ここで、前記位置精度評価用マークは前記開口部形成のためのエッチング工程で一緒にハーフエッチングで形成しておくことが好ましい。   Here, it is preferable that the position accuracy evaluation mark is formed by half etching together in the etching process for forming the opening.

前記位置精度評価用マークは、メタルマスクの位置精度を評価したい位置に適宜設ければよいが、好ましい形態では、前記マスク部の外側に一定ピッチで形成しておく。また、前記マスク部を複数個備えたメタルマスクでは、前記位置精度評価用マークを、各マスク部の各角部の外側に形成しておくことが好ましい。   The mark for position accuracy evaluation may be appropriately provided at a position where the position accuracy of the metal mask is to be evaluated. In a preferred embodiment, the mark for position accuracy evaluation is formed outside the mask portion at a constant pitch. In the metal mask having a plurality of the mask portions, it is preferable that the position accuracy evaluation marks are formed outside the corner portions of the mask portions.

前記位置精度評価用マークの形状としては、点対称の形状としておくことが、好ましい。   The shape of the position accuracy evaluation mark is preferably point-symmetric.

本発明のメタルマスクは、それに縦方向及び横方向にテンションを加えた状態で枠状のフレームに固定し、マスクユニットとして使用するのが好ましい。   The metal mask of the present invention is preferably used as a mask unit by fixing it to a frame-like frame with tension applied in the vertical and horizontal directions.

本発明のメタルマスクは、メタルマスク面内の複数個所に位置精度評価用マークを形成しているので、メタルマスクにテンションを加えてフレームに固定する際、或いはメタルマスクをフレームに固定した後で、その位置精度評価用マークの中心位置を、画像処理を用いた適当な測定装置で、例えば、画像処理を用いた測長機で測定することで、面内位置を高精度で測定することができる。このため、メタルマスクにテンションを加えてフレームに固定する際、面内位置精度を測定すると共に所望の精度内に入るようにテンション調整することで、メタルマスクの面内位置精度を高度に保ったマスクユニットを製造できる。また、メタルマスクをフレームに固定した後でメタルマスク面内位置精度を測定することで、面内位置精度を正確に評価できる。   In the metal mask of the present invention, the position accuracy evaluation marks are formed at a plurality of positions in the metal mask surface. Therefore, when the metal mask is fixed to the frame by applying tension, or after the metal mask is fixed to the frame. By measuring the center position of the position accuracy evaluation mark with an appropriate measuring device using image processing, for example, with a length measuring device using image processing, the in-plane position can be measured with high accuracy. it can. For this reason, when applying tension to the metal mask and fixing it to the frame, the in-plane positional accuracy of the metal mask is maintained at a high level by measuring the in-plane positional accuracy and adjusting the tension to be within the desired accuracy. A mask unit can be manufactured. Further, the in-plane positional accuracy can be accurately evaluated by measuring the in-plane positional accuracy of the metal mask after fixing the metal mask to the frame.

ここで、位置精度評価用マークをマスク部の開口部を形成するためのエッチング工程で一緒にハーフエッチングで形成しておくと、位置精度評価用マークをマスク部に対して正確な位置に形成することができると共に、位置精度評価用マークの寸法制御が容易であり、位置精度評価用マークの位置精度を高めることができる。   Here, if the position accuracy evaluation mark is formed by half etching together in the etching process for forming the opening of the mask portion, the position accuracy evaluation mark is formed at an accurate position with respect to the mask portion. In addition, the size control of the position accuracy evaluation mark is easy, and the position accuracy of the position accuracy evaluation mark can be increased.

位置精度評価用マークをマスク部の外側に一定ピッチで形成しておくと、これらの位置精度表評用マークの測定により、マスク部内の位置精度を評価できる。また位置精度評価用マークを、各マスク部の各角部の外側に形成しておくと、これらの位置精度評価用マークの測定により、各マスク部の位置精度並びにマスク部の形状を評価できる。   If the position accuracy evaluation marks are formed at a constant pitch outside the mask portion, the position accuracy in the mask portion can be evaluated by measuring these position accuracy review marks. If the position accuracy evaluation marks are formed outside the corners of the mask portions, the position accuracy of the mask portions and the shape of the mask portions can be evaluated by measuring these position accuracy evaluation marks.

位置精度評価用マークの形状として、点対称の形状としておくと、ハーフエッチングで形成する際、エッチングの進行状況にかかわらず、中心位置はほとんど変動しない。このため、位置精度評価用マークを、その中心を正確に位置決めして形成でき、その位置精度評価用マークを画像処理して中心位置を測定することで、メタルマスクの面内位置精度を正確に評価できる。位置精度評価用マークに用いる点対称の形状の具体的な例としては、円形、楕円形、正方形、長方形等を挙げることができるが、特に円形はエッチングが進行しても中心位置のずれがきわめて生じにくいため、好ましい。   If the position accuracy evaluation mark has a point-symmetric shape, the center position hardly fluctuates regardless of the progress of the etching when formed by half etching. Therefore, the position accuracy evaluation mark can be formed by accurately positioning the center thereof, and the position accuracy evaluation mark is image-processed to measure the center position, thereby accurately determining the in-plane position accuracy of the metal mask. Can be evaluated. Specific examples of the point-symmetric shape used for the position accuracy evaluation mark include a circle, an ellipse, a square, a rectangle, etc. In particular, even in the case of a circle, even if etching progresses, the center position is extremely displaced. It is preferable because it hardly occurs.

本発明のメタルマスクは、テンションを掛けてゆがみやたるみの無い状態とする必要のある任意の用途に使用可能であるが、特に精密さを要求される有機ＥＬ素子製造用の蒸着用マスクとして使用することが好ましい。以下、有機ＥＬ素子製造における蒸着用マスクとして使用するメタルマスクを例にとって本発明の好適な実施の形態を説明する。   The metal mask of the present invention can be used for any application that needs to be in a state free from distortion and sagging by applying tension, but is used as an evaporation mask for manufacturing an organic EL element that requires particularly high precision. It is preferable to do. Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described by taking a metal mask used as an evaporation mask in manufacturing an organic EL element as an example.

図１は本発明の実施の形態に係るメタルマスクの概略平面図、図２はそのメタルマスク及びそれを取り付ける枠状のフレームを示す概略斜視図、図３はフレームにメタルマスクを固定して形成したマスクユニットの概略斜視図である。１は蒸着マスクとして使用する直角四辺形状のメタルマスクであり、ここでは１個のマスク部２を備えた１面付け用のものを示している。マスク部２は、蒸着を許容する多数の微少な開口部３を備えたものである。マスク部２に形成している開口部３の形状、配列は任意であり、例えば、細長いスリット状の開口部を平行に並べたもの、スロット状の開口部を縦方向に並べると共に平行にも並べたもの等を挙げることができる。メタルマスク１の厚さ、マスク部２の寸法、それに形成した多数の微少な開口部３の寸法等は特に限定するものではないが、代表的なものとして、メタルマスク１の厚さは３０〜２００μｍ、開口部３の幅が４０〜１００μｍ、平行に配列された開口部間の無孔部分の幅が８０〜２００μｍ等を例示できる。開口部の形成にはエッチングが用いられる。   1 is a schematic plan view of a metal mask according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a schematic perspective view showing the metal mask and a frame-like frame to which the metal mask is attached, and FIG. 3 is formed by fixing the metal mask to the frame. It is a schematic perspective view of the mask unit. Reference numeral 1 denotes a right-sided quadrilateral metal mask used as a vapor deposition mask. Here, a one-sided one provided with one mask portion 2 is shown. The mask unit 2 includes a large number of minute openings 3 that allow vapor deposition. The shape and arrangement of the openings 3 formed in the mask portion 2 are arbitrary. For example, the elongated slit-like openings are arranged in parallel, and the slot-like openings are arranged in the vertical direction and in parallel. Can be mentioned. The thickness of the metal mask 1, the dimensions of the mask portion 2, the dimensions of a large number of minute openings 3 formed thereon are not particularly limited, but as a typical example, the thickness of the metal mask 1 is 30 to 30 mm. Examples thereof include 200 μm, the width of the opening 3 is 40 to 100 μm, and the width of the non-porous portion between the openings arranged in parallel is 80 to 200 μm. Etching is used to form the opening.

５はメタルマスク１を取り付けるための剛性の大きい枠状のフレームであり、メタルマスク１のマスク部２よりも大きい開口６を備えている。メタルマスク１は、フレーム５よりも縦横両方向ともに大きいサイズに作られており、フレーム５の外周縁にほぼ対応する位置に、折り曲げることで容易に切断可能な易切断線７を形成している。なお、易切断線７は、メタルマスク１に加える引張力には耐え得る強度を備えたものである。   Reference numeral 5 denotes a frame-like frame having high rigidity for attaching the metal mask 1, and has an opening 6 larger than the mask portion 2 of the metal mask 1. The metal mask 1 is made larger in both the vertical and horizontal directions than the frame 5, and an easily cut line 7 that can be easily cut by bending is formed at a position substantially corresponding to the outer peripheral edge of the frame 5. The easy cutting line 7 has a strength that can withstand the tensile force applied to the metal mask 1.

更に、メタルマスク１には、マスク部２の外側の複数個所に位置精度評価用マーク９が形成されている。この位置精度評価用マーク９は、その位置を検出することでメタルマスク１の面内位置精度を評価しうるように設けるものであり、その配置は、面内位置精度を評価したい位置とする。この実施の形態では、マスク部２の４辺の外側にそれぞれ、複数個ずつが一定ピッチで形成されている。位置精度評価用マーク９には、画像処理することで中心位置を検出可能な形状のものが用いられ、この実施の形態では、直径が２０〜５０μｍの円形のものが用いられている。この位置精度評価用マーク９を画像処理を用いた測長機等によって測定することで、中心位置を高精度で測定することができる。   Further, the metal mask 1 has position accuracy evaluation marks 9 formed at a plurality of locations outside the mask portion 2. The position accuracy evaluation mark 9 is provided so as to be able to evaluate the in-plane position accuracy of the metal mask 1 by detecting the position, and the arrangement is a position where the in-plane position accuracy is desired to be evaluated. In this embodiment, a plurality of masks 2 are formed at a constant pitch on the outside of the four sides. The position accuracy evaluation mark 9 has a shape capable of detecting the center position by image processing. In this embodiment, a circular shape having a diameter of 20 to 50 μm is used. The center position can be measured with high accuracy by measuring the position accuracy evaluation mark 9 with a length measuring machine or the like using image processing.

位置精度評価用マーク９は、メタルマスク１のマスク部２に開口部３を形成するためのエッチング工程で一緒にハーフエッチングで形成される。このように開口部３と位置精度評価用マーク９とを同一のエッチング工程で形成すると、工程を簡略化でき、更に、パターニングを一緒にできるのでマスク部２に対する位置精度評価用マーク９の位置を正確に設定することができる利点が得られる。また、位置精度評価用マーク９をハーフエッチングで形成すると、エッチングの進行速度が遅くなるので、寸法のコントロールが容易となる利点も得られる。更に、実施の形態に示すように、円形の位置精度評価用マーク９を用いると、エッチングが放射状にほぼ均等に進行するので、例えマークの寸法が予定していたものとは異なっても、中心位置はほとんど変化しない。このため、形成された位置精度評価用マーク９の中心位置は高精度で所定位置となっている。なお、図１に拡大して示す開口部３の端部３ａを位置検出に用いることも考えられるが、このような開口部の端部３ａはエッチングの進行にむらが生じやすく、そのため形状が変りやすく、しかもハーフエッチングに比べてエッチング速度が大きいため寸法制御が困難であり、測定ポイントとしては精度上問題がある。本実施の形態で用いている円形の位置精度評価用マーク９は、これらの問題を解消している。なお、位置精度評価用マーク９の形状は、円形に限らず、ハーフエッチングの際中心位置がずれることなくエッチングが進行するような形状、すなわち、点対称の形状、例えば、楕円、正方形、長方形等としてもよい。   The position accuracy evaluation mark 9 is formed by half etching together in an etching process for forming the opening 3 in the mask portion 2 of the metal mask 1. If the opening 3 and the position accuracy evaluation mark 9 are formed in the same etching process as described above, the process can be simplified and the patterning can be performed together. Therefore, the position of the position accuracy evaluation mark 9 relative to the mask portion 2 can be determined. The advantage that it can be set accurately is obtained. In addition, when the position accuracy evaluation mark 9 is formed by half etching, the etching progress speed is slowed, so that there is an advantage that the dimensions can be easily controlled. Further, as shown in the embodiment, when the circular position accuracy evaluation mark 9 is used, the etching progresses almost uniformly in a radial pattern, so that the center of the mark may be different from the planned dimension. The position hardly changes. For this reason, the center position of the formed position accuracy evaluation mark 9 is a predetermined position with high accuracy. Although it is conceivable to use the end 3a of the opening 3 shown in FIG. 1 for position detection, the end 3a of such an opening is likely to be uneven in the progress of etching, and the shape changes accordingly. It is easy, and since the etching rate is higher than half etching, it is difficult to control the dimensions, and there is a problem in accuracy as a measurement point. The circular position accuracy evaluation mark 9 used in the present embodiment solves these problems. The shape of the position accuracy evaluation mark 9 is not limited to a circle, but a shape in which etching proceeds without shifting the center position during half-etching, that is, a point-symmetric shape such as an ellipse, square, rectangle, or the like. It is good.

次に上記構成のメタルマスク１の使用方法を説明する。メタルマスク１を、図２に示すように、その４辺にテンションを加え、ゆがみやたわみの無い状態に張った状態でフレーム３にスポット溶接等によって固定し、その後、易切断線７を用いて周辺部分を除去する。これにより、図３に示すようにフレーム５にメタルマスク１がスポット溶接部１２で固定された構成のマスクユニット１１が形成される。次いで、フレーム５に固定されたメタルマスク１の位置精度評価用マーク９の中心位置を、画像処理を用いた適当な測定装置で、例えば、画像処理を用いた測長機で測定することで、メタルマスク１の面内位置精度を測定し、評価する。以上のようにして、メタルマスクの面内位置精度を正確に評価したマスクユニット１１を得ることができ、面内位置精度に問題のないマスクユニット１１を蒸着操作に供するか、或いは評価書を付して顧客に供給する。   Next, a method of using the metal mask 1 having the above configuration will be described. As shown in FIG. 2, the metal mask 1 is tensioned on its four sides and fixed to the frame 3 by spot welding or the like in a state in which the metal mask 1 is not distorted or bent. Remove the surrounding area. Thereby, as shown in FIG. 3, a mask unit 11 having a configuration in which the metal mask 1 is fixed to the frame 5 by the spot welded portion 12 is formed. Next, by measuring the center position of the position accuracy evaluation mark 9 of the metal mask 1 fixed to the frame 5 with an appropriate measuring device using image processing, for example, with a length measuring device using image processing, The in-plane positional accuracy of the metal mask 1 is measured and evaluated. As described above, the mask unit 11 in which the in-plane position accuracy of the metal mask is accurately evaluated can be obtained, and the mask unit 11 having no problem in the in-plane position accuracy is subjected to the vapor deposition operation, or an evaluation document is attached. And supply to customers.

得られたマスクユニット１１では、メタルマスク１がゆがみやたるみの無い状態で且つ面内位置が所定の寸法精度内に保たれている。かくして、このマスクユニット１１を用いて蒸着を行うことにより、微細なパターンの蒸着を正確に行うことができる。例えば、このマスクユニット１１にガラス基板等の被蒸着基材を取り付け、蒸着機にセットし、有機ＥＬ素子の有機層又はカソード電極の蒸着を行うことで、微細なパターンの蒸着を位置精度良く行うことができ、高品質の有機層又はカソード電極を形成できる。   In the obtained mask unit 11, the in-plane position is maintained within a predetermined dimensional accuracy in a state where the metal mask 1 is not distorted or slack. Thus, by performing vapor deposition using the mask unit 11, it is possible to accurately deposit a fine pattern. For example, a deposition substrate such as a glass substrate is attached to the mask unit 11, set in a deposition machine, and an organic layer of an organic EL element or a cathode electrode is deposited, thereby depositing a fine pattern with high positional accuracy. And a high quality organic layer or cathode electrode can be formed.

なお、上記した説明では、メタルマスク１をフレーム５に固定し、マスクユニット１１を製造した後で、位置精度評価用マーク９の位置を測定して面内位置精度を評価しているが、位置精度評価マークは面内位置精度の評価に用いるのみならず、メタルマスク１にテンションを加えた状態の時にも使用することができる。すなわち、メタルマスク１にテンションを加えた状態の時に適当な位置の位置精度評価マーク９を検出し、メタルマスク１が所望の面内位置精度となるようにメタルマスク１に加えているテンションを調整し、その状態でメタルマスク１をフレーム５に固定することも可能である。このようにメタルマスク１をフレーム５に固定する前に所望の面内位置精度が確保できるようにテンション調整を行うことで、得られたマスクユニット１１の製品歩留りを向上させることができる。   In the above description, after the metal mask 1 is fixed to the frame 5 and the mask unit 11 is manufactured, the position of the position accuracy evaluation mark 9 is measured to evaluate the in-plane position accuracy. The accuracy evaluation mark can be used not only for evaluating the in-plane position accuracy but also when the metal mask 1 is in a tensioned state. That is, the position accuracy evaluation mark 9 at an appropriate position is detected when tension is applied to the metal mask 1, and the tension applied to the metal mask 1 is adjusted so that the metal mask 1 has a desired in-plane position accuracy. In this state, the metal mask 1 can be fixed to the frame 5. Thus, the product yield of the obtained mask unit 11 can be improved by performing tension adjustment so that a desired in-plane positional accuracy can be ensured before the metal mask 1 is fixed to the frame 5.

上記した実施の形態に係るメタルマスク１は１面付けのものであるが、本発明はこれに限らず、多面付けのメタルマスクにも適用可能である。図４、図５は多面付けメタルマスクに本発明を適用した実施の形態を示すものである。図４に示すメタルマスク１Ａは、それぞれが蒸着用の開口部３を備えた複数のマスク部２Ａを備えており、各マスク部２Ａの４個の角部の外側に位置精度評価用マーク９を設けている。このメタルマスク１Ａでは、各マスク部２Ａの角部外側の４点の位置精度評価用マーク９を測定することで、各マスク部２Ａの位置を正確に評価することができる。図５に示すメタルマスク１Ｂは、複数のマスク部２Ａを配置した四角形状の領域の４辺の外側に、それぞれ複数の位置精度評価用マーク９を一定ピッチで形成している。このメタルマスク１Ｂでも、複数のマスク部２Ａを配置した四角形状の領域の外側に配置した位置精度評価用マーク９が正しい位置にあれば、内側に位置する各マスク部２Ａも正しい位置にあると推定されるので、位置精度評価用マーク９を測定して面内位置精度を正確に評価できる。   Although the metal mask 1 according to the above-described embodiment is one-sided, the present invention is not limited to this and can be applied to a multi-sided metal mask. 4 and 5 show an embodiment in which the present invention is applied to a multi-faced metal mask. A metal mask 1A shown in FIG. 4 includes a plurality of mask portions 2A each having an opening 3 for vapor deposition. Position accuracy evaluation marks 9 are provided outside the four corners of each mask portion 2A. Provided. In this metal mask 1A, the position of each mask portion 2A can be accurately evaluated by measuring the four position accuracy evaluation marks 9 outside the corners of each mask portion 2A. In the metal mask 1B shown in FIG. 5, a plurality of position accuracy evaluation marks 9 are formed at a constant pitch on the outer sides of the four sides of a rectangular area in which a plurality of mask portions 2A are arranged. Even in this metal mask 1B, if the position accuracy evaluation marks 9 arranged outside the quadrangular region in which the plurality of mask parts 2A are arranged are in the correct positions, the mask parts 2A located inside are also in the correct positions. Since it is estimated, the position accuracy evaluation mark 9 can be measured to accurately evaluate the in-plane position accuracy.

以上に本発明の好適な実施の形態を説明したが、本発明はこれらの実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲の記載範囲内において適宜変更可能である。   Although preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to these embodiments, and can be appropriately changed within the scope of the claims.

本発明の実施の形態に係るメタルマスクの概略平面図Schematic plan view of a metal mask according to an embodiment of the present invention 図１に示すメタルマスク及びそれを取り付ける枠状のフレームを示す概略斜視図1 is a schematic perspective view showing the metal mask shown in FIG. 1 and a frame-like frame for attaching the metal mask. フレームにメタルマスクを固定して形成したマスクユニットの概略斜視図Schematic perspective view of a mask unit formed by fixing a metal mask to the frame 本発明の他の実施の形態に係るメタルマスクの概略平面図Schematic plan view of a metal mask according to another embodiment of the present invention 本発明の更に他の実施の形態に係るメタルマスクの概略平面図Schematic plan view of a metal mask according to still another embodiment of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

１、１Ａ、１Ｂ メタルマスク
２、２Ａ マスク部
３ 開口部
５ フレーム
６ 開口
７ 易切断線
９ 位置精度評価用マーク
１１ マスクユニット
１２ スポット溶接部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1A, 1B Metal mask 2, 2A Mask part 3 Opening part 5 Frame 6 Opening 7 Easy cutting line 9 Position accuracy evaluation mark 11 Mask unit 12 Spot welding part

Claims (6)

多数の開口部を備えたマスク部と、該マスク部の外側の複数個所に形成された、画像処理することで中心位置を検出可能な位置精度評価用マークを備えたことを特徴とするメタルマスク。   A metal mask comprising: a mask portion having a large number of openings; and a position accuracy evaluation mark formed at a plurality of locations outside the mask portion and capable of detecting a center position by image processing. . 前記開口部がエッチングにより形成されており、前記位置精度評価用マークが前記開口部形成のためのエッチング工程で一緒にハーフエッチングで形成されていることを特徴とする請求項１記載のメタルマスク。   2. The metal mask according to claim 1, wherein the opening is formed by etching, and the position accuracy evaluation mark is formed by half etching together in an etching process for forming the opening. 前記位置精度評価用マークが、前記マスク部の外側に一定ピッチで形成されていることを特徴とする請求項１又は２記載のメタルマスク。   3. The metal mask according to claim 1, wherein the position accuracy evaluation marks are formed at a constant pitch outside the mask portion. 前記マスク部が複数個形成されており、前記位置精度評価用マークが、各マスク部の各角部の外側に形成されていることを特徴とする請求項１又は２記載のメタルマスク。   3. The metal mask according to claim 1, wherein a plurality of the mask portions are formed, and the position accuracy evaluation mark is formed outside each corner portion of each mask portion. 前記位置精度評価用マークが，点対称の形状であることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項記載のメタルマスク。   5. The metal mask according to claim 1, wherein the position accuracy evaluation mark has a point-symmetric shape. 前記請求項１から５のいずれか１項記載のメタルマスクと、該メタルマスクを縦方向及び横方向にテンションを加えた状態で固定した枠状のフレームを備えたマスクユニット。   A mask unit comprising: the metal mask according to any one of claims 1 to 5; and a frame-like frame in which the metal mask is fixed in a state where tension is applied in a vertical direction and a horizontal direction.
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