JP2006193408A - 光ファイバ母材の製造方法及び光ファイバの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】コア層3Aを有し棒状をなすコアロッド7Aの外周にガラス微粒子を堆積させて多孔質母材層9Cを形成する多孔質母材層形成工程S1と、減圧下、不活性ガスとハロゲンガスの雰囲気、不活性ガスとハロゲン系化合物ガスの雰囲気の少なくともいずれか一つの条件にて多孔質母材層9Cを脱水する脱水工程S2と、脱水した多孔質母材層9Cを減圧下にて独立気泡を含む半透明ガラス母材層9Bになるまで焼結させる焼結工程S3と、独立気泡を含む半透明ガラス母材層9Bを不活性ガス(ヘリウムガスを除く)雰囲気中で透明ガラス化してクラッド層9Aにする透明ガラス化工程S4とを有している。
【選択図】 図1
Description
光ファイバの製造方法としては、気相軸付け法(Vapor-phase Axial Deposition method:VAD法)、修正化学気相堆積法(Modified Chemical Vapor Deposition method:MCVD法)、外側気相堆積法(Outside Vapor Deposition method:OVD法)、プラズマ化学気相堆積法(Plasma Chemical Vapor Deposition method:PCVD法)、ゾル−ゲル法、ロッドインチューブ法(Rod-In-Tube method:RIT法)、及びこれらを組み合わせた製造方法が知られている。
本発明に係る光ファイバの製造方法は、コア層とクラッド層とを有し種々の屈折率分布特性をもつ光ファイバの製造方法に適応されて有益なものであり、特に損失の増加が小さく、広帯域WDM伝送に好適な光ファイバの製造方法に適応されて有益なものであり、具体的には、シングルモードファイバ(Single Mode Fiber;以下、SMFと呼ぶ)等の光ファイバの製造方法に好適である。
図1は本発明に係る光ファイバ母材の製造方法及び光ファイバの製造方法の実施の形態の工程の順序を示すフローチャートである。本実施の形態の光ファイバ母材の製造方法は、多孔質母材層形成工程と、脱水工程と、焼結工程と、透明ガラス化工程とを含んでいる。また、本実施の形態の光ファイバの製造方法は、光ファイバ母材の製造方法の透明ガラス化工程に換えて線引き工程を有している。
図2は実施例1にて作製した光ファイバ母材を最終的に光ファイバにしたときの屈折率プロファイルを示す図である。光ファイバは、図2に示すように、ステップインデックス型の屈折率分布を有するもので、1.3μm帯にゼロ分散波長を有しており、所謂SMFである。図2において、光ファイバは、断面同心円状に形成された積層構造をなし、中心軸線に沿ってコア層3Aが形成され、そして以降、中心部から径方向外方に向かって、第1クラッド層5A及び第2クラッド層9Aの順に形成された各層にて構成されている。
本実施例においては、まず、後にコアロッド7Aとなるコアスート7BをVAD法にて作製した。図3は本実施例のVAD法によるコアスート7Bの作製過程を説明する模式図であり、コアスート7Bの部分を縦断面としている。図3において、VAD法では多重管構造からなるコアバーナ21を通じて、気化させた四塩化珪素(SiCl4)、四塩化ゲルマニウム(GeCl4)、酸素(O2)及び水素(H2)とで構成されるガス23を送り込み、点火燃焼させる。そして、火炎中で加水分解反応させて合成ガラス微粒子を得る。この合成ガラス微粒子を種棒11に吹き付けて種棒11に付着させる。
ついで、この透明ガラス化されたコア層3Aと第1クラッド層5Aとからなるコアロッド7Aを、図4に示す縦型の電気炉延伸装置41にて加熱・延伸して外径51mmのロッドとした。図4はコアロッド7Aを加熱・延伸する様子を示す電気炉延伸装置41の側面図であり、加熱炉42の部分を縦断面としている。図4において、電気炉延伸装置41は、鉛直方向に貫通した開口42a,42bを有する加熱炉42と、この加熱炉42の上方に設置された上部把持部43と、加熱炉42の下方に設置された下部把持部44とを有している。
尚、この加熱・延伸工程における熱源は、加熱炉42に限ったものではなく、酸水素火炎等の火炎、あるいはプラズマ火炎などを用いても良い。
ついで、延伸されたコアロッド7Aの外周に、OVD法を用いて石英系ガラス微粒子を堆積させ、直径300mmの多孔質母材層9Cを作製した。多孔質母材層9Cは、後に半透明ガラス母材層9Bとなり、さらに最終的には透明ガラス化されて第2クラッド層9Aになる部分である。
多孔質母材層9Cの平均密度(つまり、全重量からコアロッド7Aの重量を差し引いた多孔質母材層9Cの重量を、全体積からコアロッド7Aの体積を引いた多孔質母材層9Cの体積で除した値)は約0.7g/cm3であった。
ついで、この多孔質母材層9Cを図6に示した脱水・焼結炉61にて表1の条件で脱水・焼結させ、内部が実質的に真空の独立気泡を含む半透明ガラス母材層9Bとした。
S [cc(STP)/cm3*atm] = 0.0252×EXP(-6665/T) ・・・(1)
ここで、STPは標準温度、標準圧力を意味する。
図10は、独立気泡内には減圧されたN2が残留しているものとして、雰囲気温度T=1600℃でのN2の石英ガラス中の飽和溶解度7.18×10-4[cc(STP)/cm3*atm]から、透明化で気泡が残留しないための焼結工程の圧力と半透明ガラス母材層の密度の関係を計算により示したものである。
(1−ρ1/2.2)×P/(1.013×105)[cc/cm3] (1.013×105は大気圧)
となる。この独立気泡内のガス体積が、透明化温度での石英ガラス中の飽和溶解度以下であれば透明化できるので、
(飽和溶解度)>(1−ρ1/2.2)×P/(1.013×105) >0 …(2)
となるまで焼結を進めておく必要がある。図10の曲線は、
7.18×10-4=(1−ρ1/2.2)×P/(1.013×105)
となる焼結工程の圧力と半透明ガラス母材層の密度の関係を示したもので、(2)式は図10の曲線よりも上の斜線で示した領域を示す。
次に、コアロッド7Aと半透明ガラス母材層9Bとを、図7に示したゾーン加熱炉71を用いて窒素雰囲気中にて熱処理し直径170mmの第2クラッド層9Aとした。このときの熱処理条件を表2に示す。
実施例1と同様の方法にて作製したコアロッド7A及び多孔質母材層9Cを実施例1と同様な図6に示す脱水・焼結炉61にて表3の条件で脱水・焼結させ、内部が実質的に真空の独立気泡を含む半透明ガラス母材層9Bとした。
本実施例においては、脱水工程においても石英炉心管72内部を減圧している。
次に、コアロッド7A及び半透明ガラス母材層9Bを、実施例1と同様な図7に示すゾーン加熱炉71にて、実施例1と同様な表2の条件により熱処理し、直径170mmの光ファイバ母材を作製した。
実施例1と同様の方法にて作製したコアロッド7A及び多孔質母材層9Cを実施例1と同様な図6に示す脱水・焼結炉61にて表4の条件で脱水・焼結させ、内部が実質的に真空の独立気泡を含む半透明ガラス母材層9Bとした。
本実施例においては、脱水工程においても石英炉心管72内部を減圧している。
次に、コアロッド7A及び半透明ガラス母材層9Bを、実施例1と同様な図7に示すゾーン加熱炉71にて、実施例1と同様な表2の条件により熱処理し、直径170mmの光ファイバ母材を作製した。
実施例1と同様の方法にて作製したコアロッド7A及び多孔質母材層9Cを実施例1と同様な図6に示す脱水・焼結炉61にて表5の条件で脱水・焼結させ、内部が実質的に真空の独立気泡を含む半透明ガラス母材層9Bとした。
本実施例においては、焼結工程のみ石英炉心管72内部を減圧している。
次に、コアロッド7A及び半透明ガラス母材層9Bを、実施例1と同様な図7に示すゾーン加熱炉71にて、実施例1と同様な表2の条件により熱処理し、直径170mmの光ファイバ母材を作製した。
実施例1と同様の方法にて作製したコアロッド7A及び多孔質母材層9Cを実施例1と同様な図6に示す脱水・焼結炉61にて表6の条件で脱水・焼結させ、内部が実質的に真空の独立気泡を含む半透明ガラス母材層9Bとした。
本実施例においては、焼結工程のみ石英炉心管72内部を減圧している。
この半透明ガラス母材層9B(直径174mm)は透明ガラス化せず、直接線引きを行った。
実施例1と同様の方法にて作製したコアロッド7A及び多孔質母材層9Cを実施例1と同様な図6に示す脱水・焼結炉61にて表7の条件で脱水・焼結させ、内部に独立気泡を含む半透明ガラス母材層9Bとした。本比較例においては、脱水工程・焼結工程とも石英炉心管72内部を減圧していない。また、焼結工程では不活性ガスとしてヘリウムガスを用いている。
次に、コアロッド7A及び半透明ガラス母材層9Bを、実施例1と同様な図7に示すゾーン加熱炉71にて、実施例1と同様な表2の条件により熱処理し、直径170mmの光ファイバ母材を作製した。
次に実施例1から4及び比較例1で作製した光ファイバ母材及び実施例5で製作したコアロッド7A及び半透明ガラス母材層9Bを線引きした。線引きの際、ガラス光ファイバの外面にUV硬化型樹脂を2層コーティングし、紫外線を照射して樹脂を硬化させてから、巻き取りキャプスタンを介してリールに巻き取った。尚、コーティングの内側をプライマリ層、外側をセカンダリ層と呼び、これらの層のヤング率はプライマリ層の方が小さく、セカンダリ層の方が大きくなるように材料を選定した。この実施例における線引き速度は、2000m/分とした。
上述の各実施例にて作製した夫々のSMFについて、線引き中の泡不良の発生率と伝送特性を測定した。この結果を表8、表9に示す。
具体的には、線引き工程中のガラス光ファイバの軸に対して横方向からレーザビーム等の光線を照射し、該ガラス光ファイバからの前方散乱光をイメージセンサにて受光し、その散乱光の強度分布パターンの異常を検出することにより、気泡等の空洞欠陥を検出し、ガラス光ファイバ中の気泡を監視した。
尚、ここでいうカットオフ波長とは、ITU−T G.650規格で定義されるケーブルカットオフ波長λccのことである。
また、線引き後の光ファイバの全長に対して約2%の伸びに相当する張力を付与しつつ、別のリールに巻き移すことにより、夫々の光ファイバの強度を試験した。その結果、破断は起こらず、問題ない光ファイバであることが確認できた。
上述の各実施例において、クラッド層にフッ素を添加しても良い。本実施例においては、実施例1と同様に作製したコアロッド7Aと多孔質母材層9Cとを脱水・焼結させる際に、表10の条件でフッ素添加を行い、内部が実質的に真空の独立気泡を含む半透明ガラス母材層9Bとした。
次に、コアロッド7Aの周囲に半焼結状態の半透明ガラス母材層9Bが形成されたものを、別のゾーン加熱方式の加熱炉で表2の条件により熱処理し、直径170mmの透明ガラス母材とした。フッ素添加したクラッド層の屈折率は純石英系ガラスの屈折率に比べて0.4%低かった。以下、他の実施例と同様の手順を行い、線引き中にコーティングを施し、線引き後の光ファイバ中に気泡の残留がなく、強度にも問題がない被覆外径が約250μmの光ファイバを得た。
本実施例のように、クラッド層の一部に屈折率の小さな領域を設ける事も可能である。
3B コアスート
5A クラッド層
5B クラッドスート
7A コアロッド
7B コアスート
9A クラッド層
9B 半透明ガラス母材層
9C 多孔質母材層
11 種棒
21 コアバーナ
22 クラッドバーナ
23 ガス
24 ガス
31 バーナ
32 ガス
41 電気炉延伸装置
42 加熱炉
42a 開口
42b 開口
43 上部把持部
44 下部把持部
45 ヒータ
46 上部チャック
47 下部チャック
48 ガイドレール
51 ガラス光ファイバ
61 脱水・焼結炉
62 石英炉心管
63 マルチヒータ
65 真空ポンプ
66 断熱材
67 炉体
71 ゾーン加熱炉
72 石英炉心管
73 ヒータ
83 平行光線
84 前方散乱光
85 イメージセンサ
86 信号処理部
87 判定部
88 モニタ部
89 警報部
90 記録部
91 散乱光強度分布パターン
Claims (6)
- コア層と該コア層を取り囲むクラッド層とを有する光ファイバ母材の製造方法であって、
前記コア層を有し棒状をなす石英系ガラスからなるコアロッドの外周に石英系ガラス微粒子を堆積させて多孔質母材層を形成する多孔質母材層形成工程と、
減圧下、不活性ガスとハロゲンガスの雰囲気、不活性ガスとハロゲン系化合物ガスの雰囲気の少なくともいずれか一つの条件にて前記多孔質母材層を脱水する脱水工程と、
脱水した前記多孔質母材層を減圧下にて独立気泡を含む半透明ガラス母材層になるまで焼結する焼結工程と、
独立気泡を含む前記半透明ガラス母材層を不活性ガス(ヘリウムガスを除く)雰囲気中で透明ガラス化して前記クラッド層にする透明ガラス化工程と
を有することを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。 - 前記半透明ガラス母材層に含まれる前記独立気泡の内部は実質的に真空である
ことを特徴とする請求項1に記載の光ファイバ母材の製造方法。 - 前記脱水工程及び前記焼結工程は、石英系ガラスからなる炉心管を圧力容器内に設け、前記炉心管の周囲に複数のヒータを配置した加熱炉で、前記多孔質母材層全体を均一に加熱することにより行い、
透明ガラス化工程は、石英系ガラス及びカーボンのいずれか一方からなる炉心管を有するゾーン加熱方式の加熱炉で行う
ことを特徴とする請求項1または2に記載の光ファイバ母材の製造方法。 - 前記脱水工程は1300℃以下で行われ、
前記焼結工程は前記多孔質母材層の平均密度が1.8g/cm3以上2.2g/cm3未満となるような条件にて行う
ことを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の光ファイバ母材の製造方法。 - 前記焼結工程は、前記減圧下の条件として2000Pa以下の圧力にて行われる
ことを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の光ファイバ母材の製造方法。 - コア層と該コア層を取り囲むクラッド層とを有する光ファイバの製造方法であって、
前記コア層を有し棒状をなす石英系ガラスからなるコアロッドの外周に石英系ガラス微粒子を堆積させて多孔質母材層を形成する多孔質母材層形成工程と、
減圧下、不活性ガスとハロゲンガスの雰囲気、不活性ガスとハロゲン系化合物ガスの雰囲気の少なくともいずれかひとつの条件にて前記多孔質母材層を脱水する脱水工程と、
脱水した前記多孔質母材層を減圧下にて実質的に真空の独立気泡を含む半透明ガラス母材層になるまで焼結する焼結工程と、
前記コアロッドと前記半透明ガラス母材層からなる半透明ガラス母材を、前記半透明ガラス母材層が透明ガラス層となるように線引きする線引き工程と
を有することを特徴とする光ファイバの製造方法。
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