JP2006163311A - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】透明基板に印刷法を用いて光遮蔽層を形成し、撥インク剤を含有するポジレジスト層を形成した後、透明基板の裏側からポジレジスト層を露光して現像を行うことにより、光遮蔽層と撥インク性ポジレジスト層とが積層した隔壁を設け、この隔壁内にインクジェットインクを吐出してカラーフィルタを製造する。
【選択図】図6
Description
該透明基板の該第1の主面及び該第1の主面上に形成された該光遮蔽層上に、撥インク剤を含有するポジレジスト層を形成する工程、
該ポジレジスト層を、該透明基板の該第2の主面側から露光した後、現像を行うことにより、該光遮蔽層上に選択的にパターン加工されたポジレジスト層を設け、該光遮蔽層間にポジレジスト層が除去された開口部を設ける工程、
該開口部に、インクジェット法により着色インクを吐出し、着色層を形成する工程を具備するカラーフィルタの製造方法を提供する。
以下、実施例を示し、本発明を具体的に説明する。
透明基板として、無アルカリガラス基板 コーニング社製 1737を用意した。
インクバインダ樹脂
ポリイミド前駆体 東レ(株)製:「セミコファインSP−510」
10重量部
黒色遮光剤 カーボンブラック 7.5重量部
溶媒 N−メチル−2−ピロリドン (NMP) 130重量部
分散剤 銅フタロシアニン誘導体 5重量部
離形剤 フッ素系低分子化合物
ビックケミージャパン株式会社製 BYK333 0.5重量部 上記組成のインク材料をビーズミル分散機に投入し、冷却しながら3時間分散して光遮蔽層印刷用インク組成物を調製した。
その後、光遮蔽層が形成された透明基板を、照度50mW、露光量500mJ/cm2、オゾン濃度10万ppmの条件で紫外線オゾン洗浄処理に供した。
ローム・アンド・ハース電子材料(株)製 ポジ型レジスト 「LC100−10cp」全重量に対し5重量%の 撥インク剤 パーフルオロ基含有オリゴマー 大日本インキ化学工業株式会社製「F179」を混合したポジレジスト組成物を調製した。ブラックマトリックス層が形成されたガラス基板上にポジレジスト組成物をスピンコーターにて3.0μm膜厚の厚さに塗布し、ポジレジスト層を得た。
メタクリル酸20部、メチルメタクリレート10部、ブチルメタクリレート55部、ヒドロキシエチルメタクリレート15部を乳酸ブチル300gに溶解し、窒素雰囲気下でアゾビスイソブチルニトリル0.75部を加え70℃にて5時間の反応によりアクリル共重合体樹脂を得た。得られたアクリル共重合体樹脂を樹脂濃度が10重量%になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈し、アクリル共重合体樹脂の希釈液を得た。
隔壁開口部に対して、赤色、緑色、及び青色着色インクを使用し、12pl、180dpiヘッドを搭載したインクジェット印刷装置により、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)各々の着色層を形成した。このようにして得られたカラーフィルタは、平滑性が良好であり、画素内のΔEabを測定したところ、1未満であり、色むらの少ない良好なカラーフィルタであることがわかった。なお、ΔEab(色差)は、ミクロアナライザーにより測定した。
Claims (6)
- 対向する第1及び第2の主面を有する透明基板の第1の主面上に印刷法により所定のパターンを有する光遮蔽層を形成する工程、
該透明基板の該第1の主面及び該第1の主面上に形成された該光遮蔽層上に、撥インク剤を含有するポジレジスト層を形成する工程、
該ポジレジスト層を、該透明基板の該第2の主面側から露光した後、現像を行うことにより、該光遮蔽層上に選択的にパターン加工されたポジレジスト層を設け、該光遮蔽層間にポジレジスト層が除去された開口部を設ける工程、
該開口部に、インクジェット法により着色インクを吐出し、着色層を形成する工程を具備するカラーフィルタの製造方法。 - 前記印刷法として反転印刷法を使用することを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記反転印刷法には、離形剤を含有する光遮蔽層形成用インクを用いることを特徴とする請求項2に記載の方法。
- 前記ポジレジスト層を形成する前に、印刷された光遮蔽層を加熱する工程をさらに具備する請求項1ないし3のいずれか1項に記載の方法。
- 前記ポジレジスト層を形成する前に、前記光遮蔽層が形成された前記透明基板表面を紫外線オゾン洗浄に供する工程をさらに具備する請求項1ないし4のいずれか1項に記載の方法。
- 前記撥インク層を形成する工程の前に、前記ポジレジスト層を加熱する工程をさらに具備することを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の方法。
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