JP2006163081A - Antidazzle protective substrate and its manufacturing method - Google Patents

Antidazzle protective substrate and its manufacturing method Download PDF

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Nobuo Nakanishi
伸夫 中西
Toshihiko Takada
俊彦 高田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antidazzle protective substrate which is excellent in scratch resistance in order to cope with a high-definition display device advanced in the miniaturization of pixel size, and also is excellent in antidazzle property and the uniformity of the antidazzle property, and also to provide a manufacturing method of the antidazzle protective substrate. <P>SOLUTION: The antidazzle protective substrate 1 is manufactured through processes of: (1) disposing a matted release layer 20 on a substrate 10; (2) applying a hard coat application liquid including at least one kind of curable resin on the matted release layer 20 and causing a hard coat layer 30 to be the set-to-touch state; (3) laminating a transparent base material 40 on the surface of the hard coat layer 30 side on the substrate 10 obtained by the process (2); (4) curing the hard coat layer 30; and (5) peeling the substrate 10 and the matted release layer 20. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明はワープロ、コンピュータ、テレビ、携帯電話等に用いられている液晶ディスプレイ（ＬＣＤ)、エレクトロルミネセンス（ＥＬ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）等の各種表示体に用いられる防眩性保護基板及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an anti-glare protective substrate used for various displays such as a liquid crystal display (LCD), electroluminescence (EL), plasma display (PDP) and the like used in a word processor, a computer, a television, a mobile phone, and the like. It relates to a manufacturing method.

液晶ディスプレイ、ＣＲＴ等の各種表示体は、通常内部から光が発せられており、表面の保護基板を通して視覚情報が観察されるようになっている。例えば、液晶ディスプレイでは、偏光板がディスプレイの最表面に設けられており、この偏光板の表面は耐擦傷性が劣るので耐擦傷性に優れた透明保護基板が必要である。そして、このような透明保護基板としては、耐擦傷性に加えて表示体の視認性を高めるための種々の改良が必要とされることがある。
例えば、プラスチック系の保護基板の表面にシリカゾルを含む硬化被覆層を形成することにより、耐久性及び熱安定性に優れた偏光板が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
また、保護基板として用いるトリアセテートフィルムとして、未ケン化のトリアセチルセルロースフィルムの片面に、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂に対して所定量の無定型シリカ粉末を配合させた硬化塗膜を設けることにより耐擦傷性、耐薬品性、防眩性を改良することが提案されている（例えば、特許文献２参照。）。このような硬化塗膜では、樹脂中に配合されたシリカ粉末により拡散性が改良されて防眩性が付与されているので、この硬化塗膜は一般に光拡散層または防眩層と呼称されることがある。 Various display bodies such as a liquid crystal display and a CRT usually emit light from the inside, and visual information is observed through a protective substrate on the surface. For example, in a liquid crystal display, a polarizing plate is provided on the outermost surface of the display. Since the surface of the polarizing plate is inferior in scratch resistance, a transparent protective substrate having excellent scratch resistance is required. Such a transparent protective substrate may require various improvements for improving the visibility of the display body in addition to the scratch resistance.
For example, a polarizing plate excellent in durability and thermal stability has been proposed by forming a cured coating layer containing silica sol on the surface of a plastic protective substrate (see, for example, Patent Document 1).
Moreover, as a triacetate film used as a protective substrate, a cured coating film in which a predetermined amount of amorphous silica powder is blended with an ultraviolet curable epoxy acrylate resin is provided on one side of an unsaponified triacetyl cellulose film. It has been proposed to improve the scratch resistance, chemical resistance and antiglare property (see, for example, Patent Document 2). In such a cured coating film, since the diffusibility is improved by the silica powder blended in the resin and the antiglare property is imparted, this cured coating film is generally called a light diffusion layer or an antiglare layer. Sometimes.

また、セルロース系の保護基板の表面に微細な凹凸を有する金属ロールを加熱加圧条件下で圧接させて保護基板の表面にエンボス加工を施すことにより微細な凹凸が付与されたエンボス成型面とすること、また、得られたエンボス成型面を溶剤処理することが提案されている（例えば、特許文献３参照。）。そして、このようなエンボス成型面は微細な凹凸により外光を乱反射させ映り込みを防止できるので、反射防止層、防眩層または光拡散層とも呼称されている。
また、透明基板上に、表面が微細な凹凸を有するマット状の賦型フィルムで賦型された防眩層が形成されている耐擦傷性防眩フィルムが提案されている（例えば、特許文献４参照。）。この公報によれば、透明保護基材上に硬化性樹脂層が付与されてその硬化性樹脂が硬化される前に表面に微細な凹凸を有するマット状の賦型フィルムがラミネートされた状態で硬化性樹脂が硬化される。これにより硬化性樹脂層に微細な凹凸が付与された後に賦型フィルムが剥離されて表面に微細な凹凸が付与されたハードコート層が形成されている。 Moreover, it is set as the embossing molding surface by which the fine unevenness | corrugation was provided by making the metal roll which has fine unevenness | corrugation on the surface of a cellulose-type protective substrate press-contacts on heating-pressing conditions, and embossing the surface of a protective substrate. In addition, it has been proposed that the obtained embossed molding surface be treated with a solvent (see, for example, Patent Document 3). Such an embossed surface is also referred to as an antireflection layer, an antiglare layer or a light diffusing layer, because it can reflect external light by fine irregularities to prevent reflection.
In addition, an anti-scratch anti-glare film is proposed in which an anti-glare layer is formed on a transparent substrate with a mat-like shaped film having fine irregularities on the surface (for example, Patent Document 4). reference.). According to this publication, a curable resin layer is applied on a transparent protective substrate and cured in a state where a mat-shaped shaping film having fine irregularities is laminated on the surface before the curable resin is cured. Is cured. Thereby, after the fine unevenness | corrugation was provided to the curable resin layer, the shaping film was peeled and the hard-coat layer to which the fine unevenness | corrugation was provided on the surface is formed.

特公昭６３−４０２８３号公報Japanese Examined Patent Publication No. 63-40283 特開平１−１０５７３８号公報Japanese Patent Laid-Open No. 1-105738 特公平４−５９６０５号公報Japanese Examined Patent Publication No. 4-59605 特開平６−１６８５１号公報Japanese Patent Laid-Open No. 6-16851

しかしながら、近年の画素サイズの小型化による画像の高精細化やフラットパネル化などによる高品位化に伴い、特許文献１に記載のような硬化被覆層はさらに表示体の視認性を高める改良が望まれている。
特許文献２に記載のように無定形シリカ粉末を加えて防眩性を付与する方法は、表面に突出したシリカ粉末の粒子による微細凹凸構造に起因すると思われるギラツキ（Sparkling、輝度の強弱の部分）が表面に発生し、視認性を低下させる（画像が粗く、鮮明性がなくなる）という課題が発生する。
このギラツキ現象を改善するために、例えば、無定形シリカ粉末の添加量を増加するとヘイズの上昇が避けられず、画像鮮映性が低下してしまう。チクソトロピー剤を含有させ、無定形シリカ粉末を防眩層の表面に極在化させたような場合にはヘイズは解消されるが微細凹凸構造の表面硬度が弱くなるという課題がある。
特許文献３に記載のエンボス加工フィルムを溶剤で処理して表面の凹凸を平準化した物では像鮮明性は改良されるが加工上の制約から外部光源が映り込みやすいという課題がある。 However, with the recent improvement in image quality due to the reduction in pixel size and the increase in quality due to flat panels, the cured coating layer as described in Patent Document 1 is desired to be improved to further improve the visibility of the display body. It is rare.
As described in Patent Document 2, the method of adding anti-glare property by adding amorphous silica powder is a glare (Sparkling, part of intensity of brightness) that seems to be caused by the fine uneven structure by silica powder particles protruding on the surface. ) Occurs on the surface, which causes a problem of reducing visibility (the image is rough and the sharpness is lost).
In order to improve the glare phenomenon, for example, when the amount of amorphous silica powder added is increased, an increase in haze is unavoidable, and image clarity is reduced. When a thixotropic agent is contained and amorphous silica powder is localized on the surface of the antiglare layer, haze is eliminated, but the surface hardness of the fine concavo-convex structure is weakened.
In the case where the embossed film described in Patent Document 3 is treated with a solvent and the surface unevenness is leveled, the image clarity is improved, but there is a problem that an external light source is easily reflected due to processing restrictions.

また、特許文献４に記載の方法では硬化前の硬化性樹脂層（ハードコート層）が硬いと賦型フィルムの微細な凹凸を忠実にハードコート層に反映させることが難しく、所望の防眩層を得ることが困難である。これを改善するために硬化前の硬化性樹脂層（ハードコート層）を軟らかくするとラミネート時に硬化性樹脂層が流動しやすく得られたハードコート層の膜厚が不均一になりやすい。これにより、ハードコート層に防眩性は付与されるが、防眩性の均一性が低下するという課題がある。それ故、この方法では、微細な凹凸の忠実な付与と防眩性の均一性の付与との両者のバランスをとることが困難であるという課題がある。
そこで、本発明は、画素サイズの小型化が進み高品位化した表示装置に対応するために耐擦傷性に優れ、かつ、防眩性及び防眩性の均一性にも優れた防眩性保護基板及びその製造方法を提供することを目的とする。
また、本発明の他の目的は、ギラツキ(Sparkling)防止性、透過像鮮明度とコントラストに優れ、かつ十分なヘイズ、防眩性を維持する防眩性保護基板及びその製造方法を提供することである。 Moreover, in the method described in Patent Document 4, if the curable resin layer (hard coat layer) before curing is hard, it is difficult to faithfully reflect the fine irregularities of the shaped film on the hard coat layer, and a desired antiglare layer. Is difficult to get. In order to improve this, if the curable resin layer (hard coat layer) before curing is softened, the curable resin layer tends to flow during lamination and the resulting hard coat layer tends to be non-uniform. Thereby, although anti-glare property is provided to the hard coat layer, there is a problem that uniformity of anti-glare property is lowered. Therefore, this method has a problem that it is difficult to balance both the faithful provision of fine irregularities and the provision of uniformity of antiglare property.
Therefore, the present invention provides anti-glare protection with excellent scratch resistance and excellent anti-glare properties and uniformity of anti-glare properties in order to cope with display devices that have become smaller and have higher pixel sizes. An object of the present invention is to provide a substrate and a manufacturing method thereof.
Another object of the present invention is to provide an antiglare protective substrate that is excellent in glare prevention (Sparkling), transmitted image definition and contrast, and maintains sufficient haze and antiglare properties, and a method for producing the same. It is.

本発明者らは、上記課題を解決するべく鋭意研究の結果、表面に凹凸の付与されたマット化離型層の上に硬化性樹脂を含有するハードコート層を付与させ、該ハードコート層を指触乾燥状態とした後、ハードコート層の表面と透明基材とをラミネートしてからハードコート層を硬化させた後、該ハードコート層の表面をマット化離型層と剥離すれば、マット化離型層の表面の形状を忠実に賦型でき、かつ、ハードコート層の厚み均一性も保持されて、防眩性及び防眩性の均一性に優れた耐擦傷性防眩性保護基板が得られることを見い出し本発明に到達した。   As a result of diligent research to solve the above problems, the present inventors provided a hard coat layer containing a curable resin on a matting release layer having irregularities on the surface, and the hard coat layer After the surface is dry to the touch, the surface of the hard coat layer and the transparent substrate are laminated, the hard coat layer is cured, and then the surface of the hard coat layer is peeled off from the matting release layer. Anti-glare and anti-glare protective substrate that is capable of faithfully shaping the surface shape of the release layer and that maintains the thickness uniformity of the hard coat layer and is excellent in anti-glare and anti-glare properties. The present invention has been found.

また、マット化離型層として、ベース樹脂100質量部に対して平均粒径0.5〜10μｍの微細な凹凸付与材を1〜25質量部添加して膜厚を0.1〜20μｍの範囲内で形成することにより、面積率が0.05〜30％の範囲内にある凸部と面積率が70〜99.95％の範囲内にある平面部とから構成され、十点平均粗さ（Ｒｚ）が0.1〜5μｍの範囲内とされる表面を有するマット化離型層が得られ、このようなマット化離型層を用いて上述の手法により透明基材の表面に厚み１〜２０μｍの範囲内のハードコート層が付与された耐擦傷性防眩性保護基板を製造すれば、ハードコート層の表面は面積率が0.05〜30％の範囲内となる凹部と面積率が70％〜99.95％の範囲内となる平面部とから構成され、その表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）が0.1〜5μｍの範囲内にあるフィルムが得られ、JIS-K-7105に基づいて測定された透過像鮮明度：C(0.125)、C(0.25)、C(0.5)、C(1.0)、C(2.0)の和が200％以上であり、微細な凹部に基づく防眩性の付与と、平面部に基づくコントラスト、ギラツキ防止性、透過像鮮明度が得られ、かつ、防眩性及び防眩性の均一性に優れた耐擦傷性防眩性保護基板が得られることを見い出した。
また、ハードコート層内にも特定屈折率の透明粒子の特定量を添加することでハードコート層の内部ヘイズを独立して制御することができ、これにより、ハードコート層の表面へイズと内部へイズとを独立して制御できるので、コントラスト、透過像鮮明度を維持した上で、特にギラツキ防止性を格段に改善した防眩性保護基板が得られることを見出した。 Further, as a matting release layer, 1 to 25 parts by mass of a fine unevenness imparting material having an average particle size of 0.5 to 10 μm is added to 100 parts by mass of the base resin to form a film thickness within a range of 0.1 to 20 μm. Thus, the area ratio is composed of a convex part in the range of 0.05 to 30% and a flat part in the area ratio of 70 to 99.95%, and the ten-point average roughness (Rz) is 0.1 to 5 μm. A matting release layer having a surface within the range is obtained, and a hard coat layer having a thickness of 1 to 20 μm is formed on the surface of the transparent substrate by the above-described method using such a matting release layer. If the given scratch-resistant and anti-glare protective substrate is produced, the surface of the hard coat layer has a concave portion with an area ratio in the range of 0.05 to 30% and a plane with an area ratio in the range of 70% to 99.95%. A film having a 10-point average roughness (Rz) within the range of 0.1 to 5 μm is obtained, and JIS-K-7105 Transmission image sharpness measured on the basis of: the sum of C (0.125), C (0.25), C (0.5), C (1.0), C (2.0) is 200% or more Abrasion resistance and antiglare protective substrate excellent in uniformity of antiglare property and antiglare property can be obtained. I found out.
Also, the internal haze of the hard coat layer can be controlled independently by adding a specific amount of transparent particles having a specific refractive index in the hard coat layer. Since the haze can be controlled independently, it has been found that an anti-glare protective substrate with particularly improved anti-glare properties can be obtained while maintaining contrast and transmitted image clarity.

すなわち、請求項１記載の発明は、（１）支持体上にマット化離型層を設ける工程、（２）前記マット化離型層上に少なくとも1種類以上の硬化型樹脂を含有するハードコート塗工液を塗布し、ハードコート層を指触乾燥状態とする工程、（３）工程（２）によって得られた支持体上のハードコート層側の面と透明基材とをラミネートする工程、（４）前記ハードコート層を硬化させる工程、（５）前記支持体及びマット化離型層を剥離する工程を含むことを特徴とする防眩性保護基板の製造方法である。
また、請求項２記載の発明は、前記マット化離型層はベース樹脂100質量部に対して平均粒径0.5〜10μｍの微細な凹凸付与材を1〜25質量部添加して膜厚を0.1〜20μｍの範囲内で形成することにより、該マット化離型層表面に凸部を形成し、その表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）が0.1〜5μｍの範囲内とすることを特徴とする請求項１記載の防眩性保護基板の製造方法である。
請求項３記載の発明は、前記マット化離型層はベース樹脂100質量部に対してさらに平均粒径0.2μｍ以下の極微細凹凸付与材を3〜40質量部の範囲内で添加することにより該マット化離型層表面の平面部に極微細な凹凸を付与することを特徴とする請求項２記載の防眩性保護基板の製造方法である。
請求項４記載の発明は、前記ハードコート層には平均粒径が0.5〜10μｍの範囲内にある透明粒子がハードコート層を形成する樹脂の100質量部に対して1〜30質量部の範囲内で含有され、該透明粒子の屈折率Ａとハードコート層を構成する樹脂の屈折率Ｂとの比（Ａ/Ｂ比）が0.9〜1.1の範囲内であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の防眩性保護基板の製造方法である。
請求項５記載の発明は、前記硬化型樹脂は、電離放射線硬化型樹脂であり、前記硬化工程は活性光線を照射して行われることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の防眩性保護基板の製造方法である。
請求項６記載の発明は、前記支持体は前記活性光線に対して透明であり、前記活性光線は該支持体側から照射されることを特徴とする請求項５記載の防眩性保護基板の製造方法である。
請求項７記載の発明は、前記透明基材は透明フィルムであることを特徴とする請求項１記載の防眩性保護基板の製造方法である。
請求項８記載の発明は、請求項１乃至７のいずれかに記載の製造方法を経て得られ、前記ハードコート層の膜厚が1〜20μｍの範囲内であり、JIS-K-7105に基づいて測定された透過像鮮明度：C(0.125)、C(0.25)、C(0.5)、C(1.0)、C(2.0)の和が200％以上であることを特徴とする防眩性保護基板である。
請求項９記載の発明は、透明基材の表面に厚み１〜２０μｍの範囲内のハードコート層が付与された防眩性保護基板であって、JIS-K-7105に基づいて測定された透過像鮮明度：C(0.125)、C(0.25)、C(0.5)、C(1.0)、C(2.0)の和が200％以上であり、前記ハードコート層の表面は面積率が0.05〜30％の範囲内となる凹部と面積率が70％〜99.95％の範囲内となる平面部とから構成され、その表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）が0.1〜5μｍの範囲内にあることを特徴とする防眩性保護基板である。
請求項１０記載の発明は、前記ハードコート層表面の平面部に極微細な凹凸が付与されていることを特徴とする請求項９記載の防眩性保護基板である。 That is, the invention described in claim 1 includes (1) a step of providing a matting release layer on a support, and (2) a hard coat containing at least one curable resin on the matting release layer. A step of applying a coating liquid and bringing the hard coat layer into a dry-to-touch state; (3) a step of laminating the surface of the hard coat layer side on the support obtained by step (2) and a transparent substrate; (4) A method for producing an antiglare protective substrate, comprising: a step of curing the hard coat layer; and (5) a step of peeling the support and the matting release layer.
In the invention according to claim 2, the matting release layer has a film thickness of 0.1 to 25 by adding 1 to 25 parts by weight of a fine unevenness-imparting material having an average particle size of 0.5 to 10 μm with respect to 100 parts by weight of the base resin. By forming within a range of ˜20 μm, convex portions are formed on the surface of the matting release layer, and the ten-point average roughness (Rz) of the surface is within a range of 0.1-5 μm. It is a manufacturing method of the glare-proof protective substrate of Claim 1.
According to a third aspect of the present invention, the matting release layer further comprises adding an ultrafine irregularity imparting material having an average particle size of 0.2 μm or less within a range of 3 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the base resin. 3. The method for producing an anti-glare protective substrate according to claim 2, wherein ultra-fine irregularities are imparted to the flat portion of the surface of the matting release layer.
According to a fourth aspect of the present invention, in the hard coat layer, transparent particles having an average particle size in the range of 0.5 to 10 μm are in the range of 1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin forming the hard coat layer. The ratio (A / B ratio) between the refractive index A of the transparent particles and the refractive index B of the resin constituting the hard coat layer is in the range of 0.9 to 1.1. 4. A method for producing an antiglare protective substrate according to any one of items 1 to 3.
According to a fifth aspect of the present invention, the curable resin is an ionizing radiation curable resin, and the curing step is performed by irradiating an actinic ray. It is a manufacturing method of an anti-glare protective substrate.
The invention according to claim 6 is the production of an antiglare protective substrate according to claim 5, wherein the support is transparent to the actinic ray, and the actinic ray is irradiated from the support side. Is the method.
The invention according to claim 7 is the method for producing an antiglare protective substrate according to claim 1, wherein the transparent substrate is a transparent film.
Invention of Claim 8 is obtained through the manufacturing method in any one of Claim 1 thru | or 7, The film thickness of the said hard-coat layer exists in the range of 1-20 micrometers, Based on JIS-K-7105 Measured clarity of transmitted image: Anti-glare protection characterized by the sum of C (0.125), C (0.25), C (0.5), C (1.0), and C (2.0) being 200% or more It is a substrate.
The invention according to claim 9 is an antiglare protective substrate in which a hard coat layer having a thickness in the range of 1 to 20 μm is provided on the surface of a transparent substrate, and the transmittance measured based on JIS-K-7105 Image sharpness: the sum of C (0.125), C (0.25), C (0.5), C (1.0), and C (2.0) is 200% or more, and the surface ratio of the hard coat layer is 0.05 to 30 % Concave portion and a plane portion having an area ratio in the range of 70% to 99.95%, and the 10-point average roughness (Rz) of the surface is in the range of 0.1 to 5 μm. This is a characteristic antiglare protective substrate.
A tenth aspect of the present invention is the antiglare protective substrate according to the ninth aspect, wherein ultra-fine irregularities are imparted to the flat portion of the surface of the hard coat layer.

本発明において、ギラツキ防止性、透過像鮮明度とコントラストを向上させるためには表面形状が平滑である必要があり、一方、防眩性を向上させるためには表面形状にある程度の粗さが必要であるが、これらは相反する条件である。しかし、本発明においてはハードコート層表面に平面部と凹凸部が混在することでこれらの性能のバランスがとれる。
また、この表面形状を得るには支持体上にマット化離型層を塗布し、さらにマット化離型層上にハードコート層を塗布し、指触乾燥状態とし、得られたハードコート層側と透明基材とをラミネートし、ハードコート層を硬化させてから、支持体とマット化離型層を剥離する方法が最適である。 In the present invention, the surface shape needs to be smooth in order to improve the antiglare property, the transmitted image definition and the contrast, while the surface shape needs to have a certain degree of roughness in order to improve the antiglare property. However, these are contradictory conditions. However, in the present invention, the balance between these performances can be achieved by the presence of the planar portion and the uneven portion on the surface of the hard coat layer.
Further, in order to obtain this surface shape, a matting release layer is applied on the support, and a hard coat layer is further applied on the matting release layer to make it dry to the touch. And a transparent substrate are laminated, the hard coat layer is cured, and then the support and the matting release layer are peeled off.

本発明によれば、液晶表示装置などに用いた際にコントラスト、ヘイズ、防眩性を維持しつつ、ギラツキ防止性、透過像鮮明度に優れる防眩性保護基板や表示装置を得ることができる。
本発明によれば、凸部と平面部が混在したマット化離型層の表面形状をハードコート層に写し取ることで、凹部により防眩性が得られ、平面部によりコントラスト、ギラツキ防止性、透過像鮮明度が得られ、さらにハードコート層の表面ヘイズと内部ヘイズを独立して制御することもできる。 According to the present invention, it is possible to obtain an antiglare protective substrate and a display device that are excellent in antiglare property and transmitted image clarity while maintaining contrast, haze, and antiglare property when used in a liquid crystal display device or the like. .
According to the present invention, the surface shape of the matting release layer in which the convex portion and the flat portion are mixed is copied to the hard coat layer, whereby the antiglare property is obtained by the concave portion, and the contrast, glare prevention property, and transmission are obtained by the flat portion. Image clarity can be obtained, and the surface haze and internal haze of the hard coat layer can be controlled independently.

本発明を実施するための最良の形態の防眩性保護基板について図面を用いて説明する。
まず、図１は本発明に係る防眩性保護基板を説明するための断面模式図である。この防眩性保護基板1は、透明基材40の表面に透明樹脂からなる厚み１〜２０μｍ（ミクロンメートル）の範囲内のハードコート層30が付与されている。この表面は、面積率が0.05〜30％の範囲内となる凹部21と面積率が70％〜99.95％の範囲内となる平面部22とから構成され、その表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）は0.1〜5μｍの範囲内に構成されている。これにより、JIS-K-7105に基づいて測定された透過像鮮明度：C(0.125)、C(0.25)、C(0.5)、C(1.0)、C(2.0)の和が200％以上となっている。
また、図２は、図１の防眩性保護基板1に比べて平面部22にさらに極微細な凹凸（極微細凹部）26が付与された本発明に係る防眩性保護基板を説明するための模式断面図である。これにより、防眩性がさらに改良されている。
これらの図１又は図２において、ハードコート層30を構成する透明樹脂の中に特定の屈折率と粒子径を有する透明粒子の所定量が含有されていてもよく、これにより特にギラツキが改良される。
以下、図３を参照しつつこれらの防眩性保護基板の製造方法について説明する。これらの防眩性保護基板の製造方法は、例えば、次の工程により得られる。 An antiglare protective substrate of the best mode for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings.
First, FIG. 1 is a schematic cross-sectional view for explaining an antiglare protective substrate according to the present invention. The antiglare protective substrate 1 is provided with a hard coat layer 30 having a thickness of 1 to 20 μm (micrometer) made of a transparent resin on the surface of the transparent substrate 40. This surface is composed of a concave portion 21 having an area ratio in the range of 0.05 to 30% and a flat portion 22 having an area ratio in the range of 70% to 99.95%, and the ten-point average roughness (Rz) of the surface. ) In the range of 0.1 to 5 μm. As a result, transmission image clarity measured based on JIS-K-7105: the sum of C (0.125), C (0.25), C (0.5), C (1.0), and C (2.0) is 200% or more. It has become.
FIG. 2 is a view for explaining the antiglare protective substrate according to the present invention in which the finer irregularities (ultrafine concave portions) 26 are further provided on the plane portion 22 as compared with the antiglare protective substrate 1 of FIG. FIG. Thereby, anti-glare property is further improved.
In these FIG. 1 or FIG. 2, a predetermined amount of transparent particles having a specific refractive index and particle diameter may be contained in the transparent resin constituting the hard coat layer 30, thereby improving the glare particularly. The
Hereinafter, the manufacturing method of these anti-glare protective substrates is demonstrated, referring FIG. The manufacturing method of these anti-glare protective substrates is obtained by the following process, for example.

（１）支持体10上に、適宜の塗工装置を用いてマット化離型層20を設ける離型層付与工程（同図（ａ）参照）。
（２）マット化離型層20上に少なくとも一種類以上の電離放射線硬化型樹脂を含有するハードコート層30を適宜の塗工装置を用いて塗布し、ハードコート層30を指触乾燥状態とするハードコート層付与工程（同図（ｂ）参照）。
（３）得られたハードコート層30側に透明基材40をラミネートするラミネート工程（同図（ｃ）参照）。
（４）支持体10側から活性光線50を照射してハードコート層30を硬化させる硬化工程（同図（ｄ）参照）。
（５）支持体10及びマット化離型層20を剥離する剥離工程（同図（ｅ）参照）。
ここで、上記ハードコート層の指触乾燥状態とは指で塗工面に触れても流動性を感じない状態のことをいい、塗工液が希釈溶剤を含む場合には、希釈溶剤を適宜に蒸発させて指で塗工面に触れても流動性を感じない状態とする。また、塗工装置としてはマイクログラビアコーター、グラビアコーター、マイヤーバーコーター、ダイコーター等の適宜の塗工装置を使用できる。 (1) A release layer applying step of providing the mat release layer 20 on the support 10 using an appropriate coating apparatus (see FIG. 1A).
(2) A hard coat layer 30 containing at least one ionizing radiation curable resin is applied onto the matting release layer 20 using an appropriate coating apparatus, and the hard coat layer 30 is in a dry-to-touch state. A hard coat layer applying step (see FIG. 4B).
(3) A laminating step of laminating the transparent substrate 40 on the obtained hard coat layer 30 side (see FIG. 10C).
(4) A curing step in which the hard coat layer 30 is cured by irradiating the actinic ray 50 from the support 10 side (see FIG. 4D).
(5) A peeling step for peeling the support 10 and the matting release layer 20 (see FIG. 5E).
Here, the dry touch state of the hard coat layer means a state in which fluidity is not felt even if the coated surface is touched with a finger, and when the coating liquid contains a diluting solvent, the diluting solvent is appropriately used. Evaporate and touch the coated surface with your finger. Moreover, as a coating apparatus, suitable coating apparatuses, such as a micro gravure coater, a gravure coater, a Meyer bar coater, and a die coater, can be used.

以下に、本発明の各構成材料について詳しく説明する。
まず、支持体10について説明する。
本発明で使用する支持体10は、透明樹脂シートや透明樹脂フィルムが好ましい。透明であることにより支持体側より活性光線を照射してハードコート層の硬化型樹脂を硬化させることができる。また、シートやフィルムなどの可とう性材料であれば、剥離工程が簡易となり好ましい。
透明樹脂フィルムとしては、トリアセチルセルロースフィルム、ジアセチルセルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステル系樹脂フィルム、ポリカーボネート系樹脂フィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテル系樹脂フィルム、トリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリロニトリルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム等が使用できるが、特に、2軸延伸されたポリエチレンテレフタレートフィルムが強度、耐熱性、寸法安定性などに優れており、400ｎｍ以下の波長の紫外線は透過率が高いため活性光線を透過させることができ、好ましい。透明樹脂フィルムの厚さに特に制限はないが、25〜100μｍ程度が適当である。
尚、活性光線を透明基材40側から照射する場合には、この支持体10は必ずしも透明である必要はない。 Below, each constituent material of this invention is demonstrated in detail.
First, the support 10 will be described.
The support 10 used in the present invention is preferably a transparent resin sheet or a transparent resin film. By being transparent, it is possible to cure the curable resin of the hard coat layer by irradiating active light from the support side. Moreover, if it is flexible materials, such as a sheet | seat and a film, a peeling process will become simple and it is preferable.
Transparent resin films include triacetyl cellulose film, diacetyl cellulose film, acetate butyrate cellulose film, polyethersulfone film, polyacrylic resin film, polyurethane resin film, polyester resin film, polycarbonate resin film, polysulfone film Polyether-based resin film, trimethylpentene film, polyetherketone film, (meth) acrylonitrile film, polyethylene terephthalate film, etc. can be used, but in particular, biaxially stretched polyethylene terephthalate film has strength, heat resistance and dimensional stability. UV light having a wavelength of 400 nm or less is preferable because it has high transmittance and can transmit actinic rays. Although there is no restriction | limiting in particular in the thickness of a transparent resin film, About 25-100 micrometers is suitable.
In the case where the actinic ray is irradiated from the transparent substrate 40 side, the support 10 does not necessarily need to be transparent.

つぎにマット化離型層20について説明する。
マット化離型層20は、好適には表面に凸部と極微細な凹凸が付与された平面部とが形成されている。このようなマット化離型層20は、例えば、ベース樹脂に特定粒子径の凹凸付与材24の特定量を含有させた樹脂組成物を特定厚みで支持体10の一表面に付与することにより形成するのが容易であり、かつ、好ましい。
マット化離型層20を構成するベース樹脂は適度な賦型性を備えれば硬化性樹脂、熱可塑性樹脂など特には限定されない。例えば、メラミン系樹脂、アルキッド系樹脂、フェノール系樹脂、尿素系樹脂、ウレタン系樹脂、イソシアネート系樹脂、エポキシ系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、アクリル・メラミン系樹脂等の熱硬化性樹脂が一例として例示され、これらの樹脂は単独で、または同種または異種の樹脂が混合した混合系で使用される。この中でも硬化後に離型性を発揮し、ハードコート層塗工液に含まれる溶剤に対して耐性を有するものが好ましい。また、離型性を有しない樹脂であってもシリコーンオイル等の離型剤を用いることで離型性を付与できるものもあり、ハードコート層を硬化した後に剥離する際の剥離力を調節するためにも用いることができる。 Next, the matting release layer 20 will be described.
The matting release layer 20 is preferably formed with a convex portion on the surface and a flat portion provided with very fine irregularities. Such a matting release layer 20 is formed, for example, by applying a resin composition containing a base resin with a specific amount of the irregularity imparting material 24 having a specific particle diameter to one surface of the support 10 with a specific thickness. It is easy to do and is preferred.
The base resin constituting the matting release layer 20 is not particularly limited as long as it has an appropriate formability, such as a curable resin or a thermoplastic resin. For example, thermosetting such as melamine resin, alkyd resin, phenol resin, urea resin, urethane resin, isocyanate resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, acrylic resin, acrylic / melamine resin Resins are exemplified as examples, and these resins are used alone or in a mixed system in which the same or different resins are mixed. Among these, those that exhibit releasability after curing and have resistance to the solvent contained in the hard coat layer coating solution are preferred. In addition, some resins that do not have releasability can be given releasability by using a release agent such as silicone oil, and adjust the peel force when the hard coat layer is peeled off after curing. Can also be used.

マット化離型層20の膜厚は0.1〜20μｍである。膜厚が0.1μｍ未満であるとマット化離型層20の強度が不足し、ハードコート層30を硬化した後に剥離する際に添加した凹凸付与材24がハードコート層30側に取られる原因となる。
また、後述するように添加する凹凸付与材24の平均粒径が0.5〜10μｍであるのでマット化離型層の膜厚が20μｍを超えるとマット化離型層の表面性は変化しないため、塗工液のコスト削減のためにもマット化離型層20の膜厚を20μｍ以下とすることが好ましい。
マット化離型層20に微細な凸部を設けるために添加する凹凸付与材24としてはスチレン・アクリル系樹脂ビーズ、シリコーンパウダー、アクリル系樹脂ビーズ、ポリカーボネート系樹脂ビーズ、ポリスチレン系樹脂ビーズ、塩化ビニル系樹脂ビーズ等の球形の微粒子が主に用いられる。これらの凹凸付与材24は顔料などであってもよい。添加する凹凸付与材24の平均粒径と添加量をマット化離型層20の厚みとの関係で適宜に調節することでマット化離型層20の表面粗さ（十点平均粗さ（Ｒｚ）粗さ）および凸部の表面積を所望の範囲内にコントロールできる。 The film thickness of the matting release layer 20 is 0.1 to 20 μm. When the film thickness is less than 0.1 μm, the strength of the matting release layer 20 is insufficient, and the unevenness imparting material 24 added when the hard coat layer 30 is cured and then peeled is taken to the hard coat layer 30 side. Become.
Further, since the average particle diameter of the irregularity imparting material 24 to be added is 0.5 to 10 μm as described later, the surface property of the matting release layer does not change when the thickness of the matting release layer exceeds 20 μm. In order to reduce the cost of the working liquid, it is preferable that the thickness of the matting release layer 20 is 20 μm or less.
The ruggedness imparting material 24 that is added to form a fine convex portion on the matting release layer 20 includes styrene / acrylic resin beads, silicone powder, acrylic resin beads, polycarbonate resin beads, polystyrene resin beads, vinyl chloride. Spherical fine particles such as resin beads are mainly used. These unevenness imparting materials 24 may be pigments or the like. The surface roughness (ten-point average roughness (Rz) of the matting release layer 20 is adjusted by appropriately adjusting the average particle diameter and the addition amount of the irregularity imparting material 24 to be added in relation to the thickness of the matting release layer 20. ) Roughness) and the surface area of the protrusions can be controlled within a desired range.

所望の防眩性を得るためにはマット化離型層の凸部の面積率が0.05％以上30％以下の範囲内で、かつ十点平均粗さ（Ｒｚ）が0.1以上５μｍ以下であることが好ましい。面積率が0.05％よりも小さいか、または平均粗さ（Ｒｚ）が0.1よりも小さい場合には十分な防眩性が得られない。また、コントラスト、ギラツキ防止性及び透過像鮮明度を得るためにはハードコート層表面の平坦部が必要である。このため、マット化離型層の凸部の面積率30％以下で、かつ平均粗さ（Ｒｚ）が5μｍ以下である必要があり、これを超えるとギラツキ防止性及び透過像鮮明度が得られない。
このようなマット化剥離層は、例えば、平均粒径が0.5〜10μｍである凹凸付与材をマット化離型層の固形分当たり1〜30質量部含有させることで上記表面形状が得られる。 In order to obtain the desired antiglare property, the area ratio of the convex portions of the matting release layer is in the range of 0.05% to 30%, and the ten-point average roughness (Rz) is 0.1 to 5 μm. Is preferred. When the area ratio is smaller than 0.05% or the average roughness (Rz) is smaller than 0.1, sufficient antiglare property cannot be obtained. Further, a flat portion on the surface of the hard coat layer is necessary in order to obtain contrast, anti-glare property, and transmitted image clarity. For this reason, it is necessary that the area ratio of the convex part of the matting release layer is 30% or less and the average roughness (Rz) is 5 μm or less. If exceeding this, glare prevention and transmitted image clarity are obtained. Absent.
Such a mat release layer can be obtained, for example, by containing 1 to 30 parts by mass of the unevenness imparting material having an average particle size of 0.5 to 10 μm per solid content of the mat release layer.

また、上記マット化離型層にさらに極微細凹凸付与材25を添加することで平面部22に極微細な凹凸を設けることができ、コントラスト及び透過像鮮明度を維持した上で、ギラツキ防止性及び防眩性を向上させることができる。
このような極微細凹凸付与材25として酸化チタン、酸化スズ、酸化アルミ、酸化亜鉛などの金属系顔料やシリカが用いられる。極微細凹凸付与材25の平均粒径は0.2μｍ以下、好ましくは0.05μｍ以下であり、0.2μｍを超えると平面部20にできる凹凸によりハードコート層30の表面ヘイズが増大し、コントラスト及び透過像鮮明度が低下する。
極微細凹凸付与材25の添加量は3〜40質量部の範囲内が好ましく、添加量が3質量部未満では極微細凹凸付与材を配合した効果が十分に得られず、40質量部を超えて添加するとマット化離型層20の強度が低下し、ハードコート層30を硬化させた後に剥離する際に層間剥離の原因となることがある。 Further, by adding an extra fine unevenness imparting material 25 to the matting release layer, it is possible to provide ultra fine irregularities on the flat portion 22 and prevent glare while maintaining contrast and transmitted image clarity. And anti-glare property can be improved.
As such an ultrafine unevenness imparting material 25, metal pigments such as titanium oxide, tin oxide, aluminum oxide, and zinc oxide, and silica are used. The average particle size of the ultrafine unevenness imparting material 25 is 0.2 μm or less, preferably 0.05 μm or less, and if it exceeds 0.2 μm, the surface haze of the hard coat layer 30 increases due to the unevenness formed on the flat surface 20, and contrast and transmission images Sharpness decreases.
The addition amount of the ultra fine unevenness imparting material 25 is preferably in the range of 3 to 40 parts by mass, and if the addition amount is less than 3 parts by mass, the effect of blending the ultra fine unevenness imparting material cannot be sufficiently obtained, and exceeds 40 parts by mass. If added in this manner, the strength of the matting release layer 20 is reduced, which may cause delamination when the hard coat layer 30 is cured and then peeled.

次に、ハードコート層30について説明する。
ハードコート層30を構成する透明樹脂としては、硬化した状態で透明であり、かつ、充分な硬度を備えていればどのような樹脂でもよいが、例えば、アクリル酸エステル系、ビニル系、ウレタンアクリレート系、エステルアクリレート系、エポキシアクリレート系のモノマー、オリゴマー等の活性光線によって硬化する樹脂等が好ましい一例として挙げられる。いずれにしても指触乾燥状態で透明基材40とラミネートし、硬化した後に所定の硬さと透明基材40との密着が得られる樹脂が好ましい。
また、ハードコート層30の厚さは1〜20μｍの範囲内であり、好ましくは2〜10μｍの範囲内である。その厚さが1μｍ未満では、透明基材40とラミネートしたときに転写し難く、密着性、耐擦傷性等の硬度が劣る場合がある。一方、厚さが20μｍを超えるとヘイズが高くなり、カールが発生し易くなる。また、表示装置の薄型化などに対応できない。 Next, the hard coat layer 30 will be described.
The transparent resin constituting the hard coat layer 30 may be any resin as long as it is transparent in a cured state and has sufficient hardness. For example, an acrylic ester-based, vinyl-based, urethane acrylate Preferred examples include resins curable by actinic rays such as monomers, ester acrylates, and epoxy acrylate monomers, oligomers, and the like. In any case, a resin that can be adhered to the transparent substrate 40 with a predetermined hardness after being laminated with the transparent substrate 40 in a dry state and then cured is preferable.
Further, the thickness of the hard coat layer 30 is in the range of 1 to 20 μm, and preferably in the range of 2 to 10 μm. If the thickness is less than 1 μm, it is difficult to transfer when laminated with the transparent substrate 40, and the hardness such as adhesion and scratch resistance may be inferior. On the other hand, when the thickness exceeds 20 μm, haze increases and curling tends to occur. In addition, the display device cannot be made thinner.

本発明においては、上記マット化離型層20の表面形状をハードコート層30の表面に確実に転写することで透過像鮮明度：C(0.125)、C(0.25)、C(0.5)、C(1.0)、C(2.0)の和が200％以上となり、ギラツキ防止性に優れ、画素サイズの小型化に対応した防眩性保護基板が得られる。
また、ギラツキ防止性をさらに向上させるためにハードコート層30に特定の粒子径及び特定の屈折率を備えた透明粒子（または透明顔料）を添加することもできる。
この透明粒子の平均粒径は0.5〜10μｍである。0.5μｍ未満ではギラツキ防止性が得られず、10μｍを超えるとハードコート層30へのマット化離型層20からの転写性が悪化したり、また、透明基材40への密着性が悪化する場合がある。 In the present invention, by reliably transferring the surface shape of the matting release layer 20 to the surface of the hard coat layer 30, transmitted image clarity: C (0.125), C (0.25), C (0.5), C The sum of (1.0) and C (2.0) is 200% or more, and an anti-glare protective substrate that is excellent in glare prevention and compatible with pixel size reduction can be obtained.
In order to further improve the antiglare property, transparent particles (or transparent pigments) having a specific particle diameter and a specific refractive index can be added to the hard coat layer 30.
The average particle diameter of the transparent particles is 0.5 to 10 μm. If it is less than 0.5 μm, glare-preventing properties cannot be obtained, and if it exceeds 10 μm, transferability from the matting release layer 20 to the hard coat layer 30 is deteriorated, and adhesion to the transparent substrate 40 is deteriorated. There is a case.

また、この透明粒子の屈折率Ａとハードコート層を構成するベース樹脂（透明樹脂31）の屈折率Ｂの比Ａ／Ｂは0.9〜1.1の範囲内であり、添加量をハードコート層30を形成する樹脂100質量部（固形分換算）に対して1〜30質量部とすることが好ましい。屈折率比Ａ／Ｂがこの範囲から外れるとヘイズの急上昇を引き起こし、コントラストが低下する。また、添加量が1質量部未満であると添加した効果が十分に得られず、30質量部を超えるとヘイズの増大によりコントラスト、透過像鮮明度が低下し、また、透明基材40との密着性が低下する場合がある。
このような透明粒子としてはスチレンアクリルビーズ、シリコーンパウダー、アクリルビーズ、ポリカーボネートビーズ、ポリスチレンビーズ、塩化ビニルビーズ等が挙げられる。 The ratio A / B between the refractive index A of the transparent particles and the refractive index B of the base resin (transparent resin 31) constituting the hard coat layer is in the range of 0.9 to 1.1. It is preferable to set it as 1-30 mass parts with respect to 100 mass parts (solid content conversion) of resin to form. When the refractive index ratio A / B is out of this range, the haze increases rapidly and the contrast decreases. Further, if the addition amount is less than 1 part by mass, the added effect cannot be sufficiently obtained.If the addition amount exceeds 30 parts by mass, the contrast and transmitted image sharpness decrease due to an increase in haze, and Adhesion may be reduced.
Examples of such transparent particles include styrene acrylic beads, silicone powder, acrylic beads, polycarbonate beads, polystyrene beads, and vinyl chloride beads.

つぎに透明基材40について説明する。
本発明で使用する透明基材40としては、透明ガラス板、透明樹脂板、透明樹脂シートや、透明樹脂フィルムがある。透明樹脂フィルムとしては、トリアセチルセルロースフィルム、ジアセチルセルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステル系樹脂フィルム、ポリカーボネート系樹脂フィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテル系樹脂フィルム、トリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリロニトリルフィルム等を使用することができるが、特に、トリアセチルセルロースフィルムあるいは一軸延伸ポリエステルが透明性に優れ、かつ光学的に異方性がなく好ましい。
この透明基材40がフレキシブルなフィルムであれば、得られる保護基板は防眩性フィルムとなる。
本発明により得られたハードコート層30上に、必要に応じて帯電防止層、防湿層、防汚層、反射防止層または低反射層のいずれか、あるいはそれらの層を複数組み合わせて設置することも可能である。 Next, the transparent substrate 40 will be described.
Examples of the transparent substrate 40 used in the present invention include a transparent glass plate, a transparent resin plate, a transparent resin sheet, and a transparent resin film. Transparent resin films include triacetyl cellulose film, diacetyl cellulose film, acetate butyrate cellulose film, polyethersulfone film, polyacrylic resin film, polyurethane resin film, polyester resin film, polycarbonate resin film, polysulfone film , Polyether-based resin film, trimethylpentene film, polyetherketone film, (meth) acrylonitrile film, etc. can be used. In particular, triacetylcellulose film or uniaxially stretched polyester is excellent in transparency and optically. There is no anisotropy, which is preferable.
If the transparent substrate 40 is a flexible film, the resulting protective substrate is an antiglare film.
On the hard coat layer 30 obtained by the present invention, an antistatic layer, a moisture proof layer, an antifouling layer, an antireflection layer or a low reflection layer, or a combination of these layers may be installed as necessary. Is also possible.

以下実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。なお、実施例及び比較例中の「部」は特に明示しない限り、「重量部」を表わす。また、実施例及び比較例中の各数値は次の手法により測定された。
凸部の面積率：画像解析装置を用いて直径０．２ミクロンを超える凸部の面積を求めた。
十点平均粗さ（Ｒｚ）：ＪＩＳＢ０６０１−１９９４に基づいた測定値であり、表面形状測定器 サーフコム５５０Ａ（東京精密）で測定し、カットオフ値は０．８μ、測定長さは２．５ｍｍとした。
コントラスト：防眩性フィルムの透明保護基材面に株式会社ニトムズ製のプロセルフビニールテープ黒を貼合し、HC面より光学濃度を測定した結果をもとに4段階評価を行った。×：使用に適さない、△：やや劣る、○：使用上全く問題がない、◎：特に優れている。
ヘイズ（％）：株式会社東洋精機製作所製の直読ヘイズメーターを使用して測定した。
ギラツキ防止性：150ppi液晶ディスプレイの偏光板の上にサンプルを置き、目視評価により4段階評価を行った。×：使用に適さない、△：やや劣る、○：使用上全く問題がない、◎：特に優れている。
透過像鮮明度（％）：写像性測定器ICM-1T（スガ試験器社製）を使用し、ＪＩＳ（Ｋ−７１０５）に準拠して実施した。透過C(0.125)、透過C(0.25)、透過C(0.5)、透過C(1.0)、透過C(2.0)の和である。
防眩層の均一性：フィルムを通してバックライト光を観察し、防眩層の均一性を目視評価により3段階評価を行った。×：使用に適さない、△：やや劣る、○：使用上全く問題がない。
防眩性：防眩層の防眩性を60度光沢を参考にしつつ目視評価により4段階評価を行った。×：使用に適さない、△：やや劣る、○：使用上全く問題がない、◎：特に優れている。 EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to examples below, but the present invention is not limited to these examples. In the examples and comparative examples, “parts” represents “parts by weight” unless otherwise specified. Moreover, each numerical value in an Example and a comparative example was measured with the following method.
Area ratio of protrusions: The area of protrusions exceeding 0.2 microns in diameter was determined using an image analyzer.
Ten-point average roughness (Rz): a measured value based on JISB0601-1994, measured with a surface shape measuring instrument Surfcom 550A (Tokyo Seimitsu), with a cutoff value of 0.8 μm and a measured length of 2.5 mm did.
Contrast: A four-step evaluation was performed based on the results of measuring the optical density from the HC surface by pasting a professional self-vinyl tape black manufactured by Nitoms Co., Ltd. on the transparent protective substrate surface of the antiglare film. ×: Not suitable for use, Δ: Slightly inferior, ○: No problem in use, ◎: Particularly excellent.
Haze (%): Measured using a direct reading haze meter manufactured by Toyo Seiki Seisakusho.
Antiglare property: A sample was placed on a polarizing plate of a 150 ppi liquid crystal display, and four-stage evaluation was performed by visual evaluation. ×: Not suitable for use, Δ: Slightly inferior, ○: No problem in use, ◎: Particularly excellent.
Transmission image sharpness (%): Using an image clarity measuring device ICM-1T (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.), the measurement was carried out according to JIS (K-7105). It is the sum of transmission C (0.125), transmission C (0.25), transmission C (0.5), transmission C (1.0), and transmission C (2.0).
Uniformity of the antiglare layer: Backlight was observed through the film, and the uniformity of the antiglare layer was evaluated by visual evaluation. ×: Not suitable for use, Δ: Slightly inferior, ○: No problem in use.
Anti-glare property: The anti-glare property of the anti-glare layer was evaluated in four stages by visual evaluation with reference to 60 degree gloss. ×: Not suitable for use, Δ: Slightly inferior, ○: No problem in use, ◎: Particularly excellent.

［実施例１］
＜マット化離型層（１）＞
テスファイン309（アクリルアミド共重合物：日立化成ポリマー（株）製） 50部
SPサーモディックB（ポリエステルメラミン樹脂：大日本インキ化学工業（株）製）45部
トスパール145（シリコーンパウダー、粒子径4.5μｍ、GE東芝シリコーン（株）製）5部
ドライヤー900（パラトルエンスルホン酸：日立化成ポリマー（株）製） 0.5部
トルエン 35部
酢酸エチル 35部
エチルセロソルブ 30部
＜ハードコート層（１）＞
KR-567（紫外線硬化樹脂、旭電化工業（株）製） 70部
NKエステルA-SA（紫外線硬化樹脂、新中村化学工業（株）製） 10部
サイクロマーP200M（アクリル共重合樹脂、ダイセル化学工業（株）製） 20部
Irgacure184（光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製） 2部
酢酸エチル 90部
エチルセロソルブ 10部
なお、硬化後の屈折率は1.55である。 [Example 1]
<Matte release layer (1)>
Tessfine 309 (acrylamide copolymer: manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) 50 parts
SP Thermodic B (polyester melamine resin: manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 45 parts Tospearl 145 (silicone powder, particle size 4.5 μm, manufactured by GE Toshiba Silicone Co., Ltd.) 5 parts Dryer 900 (paratoluenesulfonic acid: 0.5 parts Toluene 35 parts Ethyl acetate 35 parts Ethyl cellosolve 30 parts <Hardcoat layer (1)>
KR-567 (UV curable resin, manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) 70 parts
NK ester A-SA (UV curable resin, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 10 parts Cyclomer P200M (acrylic copolymer resin, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) 20 parts
Irgacure 184 (photopolymerization initiator, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 2 parts Ethyl acetate 90 parts Ethyl cellosolve 10 parts The refractive index after curing is 1.55.

膜厚100μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを支持体10、膜厚80μｍのトリアセチルセルロースフィルムを透明基材40として用いた。
膜厚100μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上にマット化離型層（１）をマイヤーバーで塗布し、130℃で2分間乾燥し2μｍの膜厚を得た。このとき、マット化離型層表面の微細顔料による凸部の面積率が3％、十点平均粗さ（Ｒｚ）が0.7μｍとなった。
上記マット化離型層上にハードコート層（１）をマイヤーバーで塗布し、100℃で1分間乾燥し、塗膜を指触乾燥状態、膜厚5μｍとした。
上で得られた支持体上のハードコート層側の面とトリアセチルセルロースフィルム（膜厚80μｍ）を大成ラミネーター(株)製のラミネーター（VA-900）でロール温度60℃、0.8ｍ／分、圧力0.5ＭＰａでラミネートした。
支持体側よりFUSION SYSTEMS製露光機で300ｍｊ／ｃｍ２照射してハードコート層を硬化させた後にポリエチレンテレフタレートフィルム及びマット化離型層を剥離し、トリアセチルセルロースフィルム上にハードコート層が形成された。
得られた防眩性フィルムはコントラスト、ギラツキ防止性、透過像鮮明度、防眩層均一性、防眩性に優れており、特にコントラスト、透過像鮮明度に優れていた。 A polyethylene terephthalate film having a film thickness of 100 μm was used as the support 10, and a triacetyl cellulose film having a film thickness of 80 μm was used as the transparent substrate 40.
The matting release layer (1) was applied with a Meyer bar on a polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm and dried at 130 ° C. for 2 minutes to obtain a thickness of 2 μm. At this time, the area ratio of the convex portions due to the fine pigment on the surface of the matting release layer was 3%, and the ten-point average roughness (Rz) was 0.7 μm.
A hard coat layer (1) was applied on the matting release layer with a Meyer bar and dried at 100 ° C. for 1 minute to make the coating film dry to the touch and have a thickness of 5 μm.
The surface of the hard coat layer on the support obtained above and a triacetyl cellulose film (film thickness 80 μm) were rolled at a roll temperature of 60 ° C., 0.8 m / min with a laminator (VA-900) manufactured by Taisei Laminator Co., Ltd. Lamination was performed at a pressure of 0.5 MPa.
The hard coat layer was cured by exposure to 300 mj / cm 2 from the support side with an exposure machine made by FUSION SYSTEMS, and then the polyethylene terephthalate film and the matting release layer were peeled off to form a hard coat layer on the triacetyl cellulose film. .
The obtained antiglare film was excellent in contrast, antiglare property, transmitted image definition, antiglare layer uniformity, and antiglare property, and particularly excellent in contrast and transmitted image definition.

［実施例２］
＜マット化離型層（２）＞
テスファイン309（アクリルアミド共重合物、日立化成ポリマー（株）製） 45部
SPサーモディックB（ポリエステルメラミン樹脂、大日本インキ化学工業（株）製）40部
トスパール145（シリコーンパウダー、粒子径4.5μｍ、GE東芝シリコーン（株）製）5部
極微細金属顔料（酸化チタン、平均粒径30ｎｍ、シーアイ化成（株）製） 10部
ドライヤー900（パラトルエンスルホン酸、日立化成ポリマー（株）製） 0.5部
トルエン 35部
酢酸エチル 35部
エチルセロソルブ 30部
マット化離型層の処方をマット化離型層（２）とした以外は実施例１と同様に行った。
このとき、マット化離型層表面の微細顔料による凸部の面積率が4％、十点平均粗さ（Ｒｚ）が0.8μｍとなった。得られた防眩性フィルムはコントラスト、ギラツキ防止性、透過像鮮明度、防眩層均一性、防眩性に優れており、特にコントラスト、透過像鮮明度、防眩性に優れていた。また、実施例１と比較すると、マット化離型層に平均粒径30ｎｍの極微細金属顔料を添加したために平面部に極微細な凹凸ができ、他の物性を維持したまま防眩性が向上した。 [Example 2]
<Matte release layer (2)>
Tesfine 309 (acrylamide copolymer, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) 45 parts
SP Thermodic B (polyester melamine resin, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 40 parts Tospearl 145 (silicone powder, particle diameter 4.5 μm, manufactured by GE Toshiba Silicone Co., Ltd.) 5 parts Ultra fine metal pigment (titanium oxide, Average particle size 30 nm, manufactured by CI Kasei Co., Ltd.) 10 parts Dryer 900 (para-toluenesulfonic acid, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) 0.5 parts Toluene 35 parts Ethyl acetate 35 parts Ethyl cellosolve 30 parts Formulation of matting release layer Was carried out in the same manner as in Example 1 except that was used as the matting release layer (2).
At this time, the area ratio of the convex portions due to the fine pigment on the surface of the matting release layer was 4%, and the ten-point average roughness (Rz) was 0.8 μm. The obtained antiglare film was excellent in contrast, antiglare property, transmitted image definition, antiglare layer uniformity, and antiglare property, and particularly excellent in contrast, transmitted image definition, and antiglare property. Compared with Example 1, the addition of an ultrafine metal pigment with an average particle size of 30 nm to the matting release layer resulted in extremely fine irregularities on the flat surface, and improved antiglare properties while maintaining other physical properties. did.

［実施例３］
＜ハードコート層（２）＞
KR-567（紫外線硬化樹脂、旭電化工業（株）製） 60部
NKエステルA-SA（紫外線硬化樹脂、新中村化学工業（株）製） 10部
サイクロマーP200M（アクリル共重合樹脂、ダイセル化学工業（株）製） 15部
SX350H（スチレンビーズ、平均粒径3.5μｍ、綜研化学（株）製） 15部
Irgacure184（光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製） 2部
酢酸エチル 90部
エチルセロソルブ 10部
ハードコート層の処方をハードコート層（２）とした以外は実施例1と同様に行った。
このとき、マット化離型層表面の微細顔料による凸部の面積率が3％、十点平均粗さ（Ｒｚ）が0.8μｍとなり、ハードコート層に添加した顔料SX350Hの屈折率1.59と樹脂組成物の屈折率1.55との屈折率比Ａ／Ｂは1.03となった。
得られた防眩性フィルムはコントラスト、ギラツキ防止性、透過像鮮明度、防眩層均一性、防眩性に優れており、特にハードコート層に屈折率比Ａ／Ｂが1.03となる球形顔料を添加したことからギラツキ防止性に優れていた。 [Example 3]
<Hard coat layer (2)>
KR-567 (UV curable resin, manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) 60 parts
NK ester A-SA (UV curable resin, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 10 parts Cyclomer P200M (acrylic copolymer resin, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) 15 parts
SX350H (styrene beads, average particle size 3.5μm, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 15 parts
Irgacure 184 (photopolymerization initiator, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 2 parts Ethyl acetate 90 parts Ethyl cellosolve 10 parts The same procedure as in Example 1 was repeated except that the hard coat layer was formulated as the hard coat layer (2).
At this time, the area ratio of the convex portion due to the fine pigment on the surface of the matting release layer was 3%, the ten-point average roughness (Rz) was 0.8 μm, and the refractive index 1.59 of the pigment SX350H added to the hard coat layer and the resin composition The refractive index ratio A / B of the object with a refractive index of 1.55 was 1.03.
The resulting antiglare film is excellent in contrast, glare prevention, transmitted image clarity, antiglare layer uniformity, and antiglare properties, and in particular, a spherical pigment having a refractive index ratio A / B of 1.03 in the hard coat layer. Since it added, it was excellent in glare prevention property.

［実施例４］
マット化離型層の処方をマット化離型層（２）、ハードコート層の処方をハードコート層（２）とした以外は実施例1と同様に行った。
このとき、マット化離型層表面の微細顔料による凸部の面積率が3（％）、十点平均粗さ（Ｒｚ）が0.7μｍとなり、ハードコート層に添加した顔料SX350Hの屈折率1.59と樹脂組成物の屈折率1.55との屈折率比Ａ／Ｂは1.03となった。
得られた防眩性フィルムはコントラスト、ギラツキ防止性、透過像鮮明度、防眩層均一性、防眩性に優れており、特にギラツキ防止性、防眩性に優れていた。また、実施例１と比較すると、マット化離型層に平均粒径30ｎｍの極微細金属顔料を添加したために平面部に極微細な凹凸ができ、他の物性を維持したまま防眩性が向上しており、ハードコート層に屈折率比Ａ／Ｂが1.03となる球形顔料を添加したことからギラツキ防止性に優れていた。 [Example 4]
The same procedure as in Example 1 was conducted except that the matting release layer was formulated as a matting release layer (2) and the hardcoat layer was formulated as a hardcoat layer (2).
At this time, the area ratio of the convex portion due to the fine pigment on the surface of the matting release layer was 3 (%), the ten-point average roughness (Rz) was 0.7 μm, and the refractive index of the pigment SX350H added to the hard coat layer was 1.59. The refractive index ratio A / B of the resin composition to the refractive index of 1.55 was 1.03.
The obtained antiglare film was excellent in contrast, antiglare property, transmitted image definition, antiglare layer uniformity, and antiglare property, and particularly excellent in antiglare property and antiglare property. Compared with Example 1, the addition of an ultrafine metal pigment with an average particle size of 30 nm to the matting release layer resulted in extremely fine irregularities on the flat surface, and improved antiglare properties while maintaining other physical properties. In addition, since a spherical pigment having a refractive index ratio A / B of 1.03 was added to the hard coat layer, the antiglare property was excellent.

［比較例１］
＜マット化離型層（３）＞
テスファイン309（アクリルアミド共重合物、日立化成ポリマー（株）製） 30部
SPサーモディックB（ポリエステルメラミン樹脂、大日本インキ化学工業（株）製）30部
エポスターS（メラミン・ホルムアルデヒド縮合物、平均粒径0.3μｍ） 40部
ドライヤー900（パラトルエンスルホン酸、日立化成ポリマー（株）製） 0.5部
トルエン 35部
酢酸エチル 35部
エチルセロソルブ 30部
マット化離型層の処方をマット化離型層（３）とした以外は実施例１と同様に行った。
実施例１と比較するとマット化離型層内添顔料をエポスターS（平均粒径0.3μｍ）としたが、平均粒径が小さすぎるためヘイズがかかりづらく防眩性が得難い状態であった。十分な防眩性を得るために40部添加し、マット化離型層表面の微細顔料による凸部の面積率が50（％）、十点平均粗さ（Ｒｚ)が0.2μｍとなったがコントラスト、透過像鮮明度が悪化し、また、十分な防眩性が得られなかった。 [Comparative Example 1]
<Matte release layer (3)>
Tessfine 309 (acrylamide copolymer, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) 30 parts
SP Thermodic B (polyester melamine resin, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 30 parts Eposter S (melamine / formaldehyde condensate, average particle size 0.3 μm) 40 parts Dryer 900 (paratoluenesulfonic acid, Hitachi Chemical Polymer ( 0.5 part toluene 35 parts ethyl acetate 35 parts ethyl cellosolve 30 parts The same procedure as in Example 1 was repeated except that the matting release layer was formulated as a matting release layer (3).
Compared with Example 1, the matted release layer-incorporated pigment was Eposter S (average particle size 0.3 μm), but since the average particle size was too small, it was difficult to obtain haze and it was difficult to obtain antiglare properties. In order to obtain sufficient antiglare properties, 40 parts were added, and the area ratio of the convex portions by the fine pigment on the surface of the matting release layer was 50 (%), and the ten-point average roughness (Rz) was 0.2 μm. The contrast and transmitted image clarity were deteriorated, and sufficient antiglare properties were not obtained.

［比較例２］
＜ハードコート層（３）＞
KRX-559-6（紫外線硬化樹脂、屈折率1.60、旭電化工業（株）製） 70部
サイクロマーP200M（アクリル共重合樹脂、ダイセル化学工業（株）製） 10部
GF01（フッ化マグネシウム粉末、屈折率1.38、大日本インキ化学工業（株）製）20部
Irgacure184（光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製） 2部
酢酸エチル 90部
エチルセロソルブ 10部
ハードコート層の処方をハードコート層（３）とした以外は実施例1と同様に行った。
この結果添加顔料の屈折率1.38とハードコート層組成樹脂の屈折率1.59との屈折率比Ａ／Ｂが0.87となり、屈折率差が大きいためコントラストが大幅に低下し、ヘイズも増加した。 [Comparative Example 2]
<Hard coat layer (3)>
KRX-559-6 (UV curable resin, refractive index 1.60, manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) 70 parts Cyclomer P200M (acrylic copolymer resin, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) 10 parts
20 parts of GF01 (magnesium fluoride powder, refractive index 1.38, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
Irgacure 184 (photopolymerization initiator, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 2 parts Ethyl acetate 90 parts Ethyl cellosolve 10 parts The same procedure as in Example 1 was repeated except that the hard coat layer was formulated as the hard coat layer (3).
As a result, the refractive index ratio A / B between the refractive index of 1.38 of the additive pigment and the refractive index of 1.59 of the hard coat layer composition resin was 0.87, and the difference in refractive index was so large that the contrast was greatly lowered and haze was increased.

［比較例３］
膜厚100μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを支持体10、膜厚80μｍのトリアセチルセルロースフィルムを透明基材40として用いた。
ポリエチレンテレフタレートフィルム（膜厚100μｍ）上にマット化離型層（１）をマイヤーバーで塗布し、130℃で2分間乾燥し2μｍの膜厚を得た。
トリアセチルセルロースフィルム（膜厚80μｍ）上にハードコート層(1)をマイヤーバーで塗布し、100℃で1分間乾燥し、塗膜を指触乾燥状態、膜厚5μｍとした。
上記マット化離型層側とハードコート層側を大成ラミネーター(株)製のラミネーター（VA-900）でロール温度60℃、0.8ｍ／分、圧力0.5Mpaでラミネートした。
支持体側よりFUSION SYSTEMS製露光機で300ｍｊ／ｃｍ２照射してハードコート層を硬化させた後にポリエチレンテレフタレートフィルム及びマット化離型層を剥離した。
得られた防眩性フィルムの表面を観察したところ、マット化離型層の表面を十分に写し取りきれず、防眩性が全く得られなかった。 [Comparative Example 3]
A polyethylene terephthalate film having a film thickness of 100 μm was used as the support 10, and a triacetyl cellulose film having a film thickness of 80 μm was used as the transparent substrate 40.
A matting release layer (1) was applied with a Meyer bar on a polyethylene terephthalate film (film thickness 100 μm) and dried at 130 ° C. for 2 minutes to obtain a film thickness of 2 μm.
A hard coat layer (1) was applied on a triacetylcellulose film (film thickness of 80 μm) with a Meyer bar and dried at 100 ° C. for 1 minute to make the coating film dry to the touch and have a film thickness of 5 μm.
The matting release layer side and the hard coat layer side were laminated with a laminator (VA-900) manufactured by Taisei Laminator Co., Ltd. at a roll temperature of 60 ° C., 0.8 m / min, and a pressure of 0.5 Mpa.
The hard coat layer was cured by irradiation with 300 mj / cm 2 from the support side with an exposure machine made by FUSION SYSTEMS, and then the polyethylene terephthalate film and the matting release layer were peeled off.
When the surface of the obtained antiglare film was observed, the surface of the matting release layer could not be fully copied, and no antiglare property was obtained.

［比較例４］
＜ハードコート層（４）＞
KR-567（紫外線硬化樹脂、旭電化工業（株）製） 90部
NKエステルA-SA（紫外線硬化樹脂、新中村化学工業（株）製） 10部
Irgacure184（光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製） 2部
酢酸エチル 90部
エチルセロソルブ 10部
ハードコート層の処方をハードコート層（４）とした以外は比較例３と同様に行った。
比較例３と比較するとハードコート層を変更したことで乾燥後のハードコート層は流動性があり、マット化離型層の表面形状にそってハードコート層が流れ込み凹凸を写し取ることができたが、ラミネート時にハードコート層にラミネートムラが発生しやすく膜厚が不均一となり、防眩層均一性が不足した。 [Comparative Example 4]
<Hard coat layer (4)>
KR-567 (UV curable resin, manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) 90 parts
NK ester A-SA (UV curable resin, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 10 parts
Irgacure 184 (photopolymerization initiator, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 2 parts Ethyl acetate 90 parts Ethyl cellosolve 10 parts The same procedure as in Comparative Example 3 was repeated except that the hard coat layer was formulated as a hard coat layer (4).
Compared with Comparative Example 3, the hard coat layer after drying had fluidity by changing the hard coat layer, and the hard coat layer flowed along the surface shape of the matting release layer, and the unevenness could be copied. When laminating, the hard coat layer tends to cause uneven lamination, resulting in non-uniform film thickness and insufficient anti-glare layer uniformity.

［比較例５］
＜ハードコート層（５）＞
KR-567（紫外線硬化樹脂、旭電化工業（株）製） 80部
SX350H（スチレンビーズ、平均粒径3.5μｍ、綜研化学（株）製） 15部
SX130H（スチレンビーズ、平均粒径1.3μｍ、綜研化学（株）製） 5部
Irgacure184（光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製） 2部
酢酸エチル 90部
エチルセロソルブ 10部
トリアセチルセルロースフィルム（膜厚80μｍ）上にハードコート層（５）をマイヤーバーで塗布し、100℃で1分間乾燥し、塗膜を指触乾燥状態、膜厚5μｍとした。
上で得られた基材上のハードコート層側よりFUSION SYSTEMS製露光機で300ｍｊ／ｃｍ２照射してハードコート層を硬化させた。
この構成では平均粒径3.5μｍのSX350Hをハードコート層内部に配置し、平均粒径1.3μｍのSX130Hをハードコート層表面に配置することをねらっており、凹凸部と平面部が混在する構成となっている。このため、凹凸部により防眩性、平面部によりコントラスト、ハードコート層内部のSX350H（3.5μｍ）によりギラツキ防止性が得られた。しかし、添加顔料のみではハードコート層表面の形状を十分に制御できず、透過像鮮明度に劣る結果となった。
尚、以上説明した各実施例及び比較例で得られた防眩性フィルムの結果を下記表１にまとめた。 [Comparative Example 5]
<Hard coat layer (5)>
KR-567 (UV curable resin, manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) 80 parts
SX350H (styrene beads, average particle size 3.5μm, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 15 parts
SX130H (styrene beads, average particle size 1.3μm, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 5 parts
Irgacure184 (photopolymerization initiator, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 2 parts Ethyl acetate 90 parts Ethyl cellosolve 10 parts A hard coat layer (5) is applied on a triacetylcellulose film (film thickness of 80 μm) with a Meyer bar and 100 ° C Was dried for 1 minute, and the coating film was dry to the touch and the film thickness was 5 μm.
The hard coat layer was cured by irradiating 300 mj / cm 2 with a FUSION SYSTEMS exposure machine from the hard coat layer side on the substrate obtained above.
In this configuration, SX350H with an average particle size of 3.5 μm is placed inside the hard coat layer, and SX130H with an average particle size of 1.3 μm is placed on the hard coat layer surface. It has become. For this reason, antiglare property was obtained by the uneven portion, contrast was obtained by the flat portion, and glare prevention property was obtained by SX350H (3.5 μm) inside the hard coat layer. However, the additive pigment alone cannot sufficiently control the shape of the surface of the hard coat layer, resulting in poor transmitted image clarity.
The results of the antiglare films obtained in the respective examples and comparative examples described above are summarized in Table 1 below.

Figure 2006163081
Figure 2006163081

本発明に係る防眩性保護基板の一例を説明する模式断面図である。It is a schematic cross section explaining an example of the antiglare protective substrate according to the present invention. 本発明に係る防眩性保護基板の一例を説明する模式断面図である。It is a schematic cross section explaining an example of the antiglare protective substrate according to the present invention. 本発明に係る防眩性保護基板の製造工程を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing process of the glare-proof protective substrate which concerns on this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1：防眩性保護基板
10：支持体
20：マット化離型層
21：凹凸部（凹部）
22：平面部
24：凹凸付与材
26：極微細凹部
30：ハードコート層
40：透明基材
50：活性光線 1: Anti-glare protective substrate
10: Support
20: Matt release layer
21: Concavity and convexity (concave part)
22: Plane section
24: Roughness imparting material
26: Ultra fine recess
30: Hard coat layer
40: Transparent substrate
50: Actinic rays

Claims (10)

（１）支持体上にマット化離型層を設ける工程、（２）前記マット化離型層上に少なくとも1種類以上の硬化型樹脂を含有するハードコート塗工液を塗布し、ハードコート層を指触乾燥状態とする工程、（３）工程（２）によって得られた支持体上のハードコート層側の面と透明基材とをラミネートする工程、（４）前記ハードコート層を硬化させる工程、（５）前記支持体及びマット化離型層を剥離する工程を含むことを特徴とする防眩性保護基板の製造方法。 (1) a step of providing a matting release layer on a support; (2) applying a hardcoat coating solution containing at least one curable resin on the matting release layer; (3) a step of laminating the surface of the hard coat layer side on the support obtained by step (2) and a transparent substrate, and (4) curing the hard coat layer. (5) A method for producing an antiglare protective substrate, comprising a step of peeling the support and the matting release layer. 前記マット化離型層はベース樹脂100質量部に対して平均粒径0.5〜10μｍの微細な凹凸付与材を1〜25質量部添加して膜厚を0.1〜20μｍの範囲内で形成することにより、該マット化離型層表面に凸部を形成し、その表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）が0.1〜5μｍの範囲内とすることを特徴とする請求項１記載の防眩性保護基板の製造方法。   The matting release layer is formed by adding 1 to 25 parts by mass of a fine unevenness-imparting material having an average particle size of 0.5 to 10 μm to 100 parts by mass of the base resin, and forming the film thickness within a range of 0.1 to 20 μm. 2. An antiglare protective substrate according to claim 1, wherein a convex portion is formed on the surface of the matting release layer, and the ten-point average roughness (Rz) of the surface is in the range of 0.1 to 5 [mu] m. Manufacturing method. 前記マット化離型層はベース樹脂100質量部に対してさらに平均粒径0.2μｍ以下の極微細凹凸付与材を3〜40質量部の範囲内で添加することにより該マット化離型層表面の平面部に極微細な凹凸を付与することを特徴とする請求項２記載の防眩性保護基板の製造方法。   The matting release layer is further added to the surface of the matting release layer by adding an extra fine irregularity imparting material having an average particle size of 0.2 μm or less to 3 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the base resin. The method for producing an antiglare protective substrate according to claim 2, wherein an extremely fine unevenness is imparted to the flat portion. 前記ハードコート層には平均粒径が0.5〜10μｍの範囲内にある透明粒子がハードコート層を形成する樹脂の100質量部に対して1〜30質量部の範囲内で含有され、該透明粒子の屈折率Ａとハードコート層を構成する樹脂の屈折率Ｂとの比（Ａ/Ｂ比）が0.9〜1.1の範囲内であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の防眩性保護基板の製造方法。   The hard coat layer contains transparent particles having an average particle size in the range of 0.5 to 10 μm in a range of 1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin forming the hard coat layer. The ratio (A / B ratio) between the refractive index A of the resin and the refractive index B of the resin constituting the hard coat layer is in the range of 0.9 to 1.1, according to any one of claims 1 to 3. Manufacturing method of anti-glare protective substrate. 前記硬化型樹脂は、電離放射線硬化型樹脂であり、前記硬化工程は活性光線を照射して行われることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の防眩性保護基板の製造方法。   The method for producing an antiglare protective substrate according to any one of claims 1 to 4, wherein the curable resin is an ionizing radiation curable resin, and the curing step is performed by irradiating actinic rays. . 前記支持体は前記活性光線に対して透明であり、前記活性光線は該支持体側から照射されることを特徴とする請求項５記載の防眩性保護基板の製造方法。   6. The method for producing an antiglare protective substrate according to claim 5, wherein the support is transparent to the active light, and the active light is irradiated from the support side. 前記透明基材は透明フィルムであることを特徴とする請求項１記載の防眩性保護基板の製造方法。   The method for producing an antiglare protective substrate according to claim 1, wherein the transparent substrate is a transparent film. 請求項１乃至７のいずれかに記載の製造方法を経て得られ、前記ハードコート層の膜厚が1〜20μｍの範囲内であり、JIS-K-7105に基づいて測定された透過像鮮明度：C(0.125)、C(0.25)、C(0.5)、C(1.0)、C(2.0)の和が200％以上であることを特徴とする防眩性保護基板。   A transmission image definition obtained by the manufacturing method according to claim 1, wherein the film thickness of the hard coat layer is in the range of 1 to 20 μm, and measured according to JIS-K-7105. : Anti-glare protective substrate characterized in that the sum of C (0.125), C (0.25), C (0.5), C (1.0), and C (2.0) is 200% or more. 透明基材の表面に厚み１〜２０μｍの範囲内のハードコート層が付与された防眩性保護基板であって、
JIS-K-7105に基づいて測定された透過像鮮明度：C(0.125)、C(0.25)、C(0.5)、C(1.0)、C(2.0)の和が200％以上であり、
前記ハードコート層の表面は面積率が0.05〜30％の範囲内となる凹部と面積率が70％〜99.95％の範囲内となる平面部とから構成され、その表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）が0.1〜5μｍの範囲内にあることを特徴とする防眩性保護基板。 It is an antiglare protective substrate provided with a hard coat layer having a thickness of 1 to 20 μm on the surface of a transparent substrate,
Transmission image sharpness measured based on JIS-K-7105: The sum of C (0.125), C (0.25), C (0.5), C (1.0), C (2.0) is 200% or more,
The surface of the hard coat layer is composed of a concave portion having an area ratio in the range of 0.05 to 30% and a flat portion having an area ratio in the range of 70% to 99.95%, and the ten-point average roughness ( Rz) is in the range of 0.1 to 5 μm. 前記ハードコート層表面の平面部に極微細な凹凸が付与されていることを特徴とする請求項９記載の防眩性保護基板。   The antiglare protective substrate according to claim 9, wherein an extremely fine unevenness is provided on a flat portion of the surface of the hard coat layer.
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