JP2006162955A - Generating device for pattern formation data, and method for generating the pattern formation data - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、プリント回路基板、半導体基板またはフラットパネル表示装置等の製造において基板上に幾何学的パターンを形成する際に使用されるパターン形成用データを生成するパターン形成用データ生成装置、および、その生成方法に関する。 The present invention relates to a pattern formation data generation device that generates pattern formation data used when forming a geometric pattern on a substrate in the manufacture of a printed circuit board, a semiconductor substrate, a flat panel display device, and the like, and It relates to the generation method.
プリント回路基板や半導体基板、あるいは、プラズマ表示装置や液晶表示装置等のフラットパネル表示装置やフォトマスク用のガラス基板等（以下、「基板」という。）に形成された感光材料に光を照射することにより幾何学的パターンを描画する方法として、感光材料にマスクパターンを転写する手法や変調される光ビームを感光材料上で走査させながら照射してパターンを直接描画する方式が知られている。 Light is irradiated to a photosensitive material formed on a printed circuit board, a semiconductor substrate, a flat panel display device such as a plasma display device or a liquid crystal display device, a glass substrate for a photomask (hereinafter referred to as “substrate”). As a method for drawing a geometric pattern, a method of transferring a mask pattern onto a photosensitive material and a method of directly drawing a pattern by irradiating a modulated light beam while scanning on the photosensitive material are known.
例えば、液晶表示装置用のＴＦＴ（Thin Film Transistor）パネルの場合、パターンを構成する素子や配線等のパターン要素の位置および形状を示すパターン形成用データに基づいてマスクが製造され、マスクを介して基板上に塗布された感光材料に光を照射することによりパターンが描画される。 For example, in the case of a TFT (Thin Film Transistor) panel for a liquid crystal display device, a mask is manufactured based on pattern formation data indicating the position and shape of pattern elements such as elements and wirings constituting the pattern. A pattern is drawn by irradiating light to the photosensitive material coated on the substrate.
このようなマスクパターンの設計では、まず、所定の性能を発揮するために必要な基礎的なパターン形状の設計を行い、次に、製造設備の特性に合わせて基礎的なパターン形状の補正を行いつつ実際のマスクの製造に利用されるパターン形状の設計が行われる。例えば、特許文献１では、コの字状パターンの設計において、マスクの互いに近接する領域を通過した光同士の干渉により、基板上に描画されるパターン（露光像）が歪む現象（いわゆる、光近接効果）を抑制するために、基礎的なパターン形状に対して光近接効果を補償する補正を施す手法が開示されている。
ところで、このようなパターンの設計では、設計部門において基礎的なパターン形状の設計が行われ、製造部門において実際の製造に利用されるパターン形状の設計が行われることがあるが、両部門における設計上の役割分担が不明確となって重複作業が行われる等、設計効率の向上に限界がある。さらに、両部門において設計目的が異なるため、製造部門において最終的に設計されたパターン形状が両部門の設計上の制限事項を満足しているか否かの検査が困難である。 By the way, in such a pattern design, a basic pattern shape design is performed in the design department, and a pattern shape used for actual production may be designed in the manufacturing department. There is a limit to the improvement of design efficiency, for example, the division of roles above is unclear and duplicate work is performed. Furthermore, since the design objectives differ between the two departments, it is difficult to inspect whether or not the pattern shape finally designed in the manufacturing department satisfies the design restrictions of the two departments.
また、最終的に設計されたパターン形状を示すパターン形成用データは、素子や配線等のパターン要素の位置および形状を示す情報のみにより構成されており、基礎的なパターン形状がどのようなものであって、どのような理由、または、設計若しくは製造上の制限事項により補正されたのか等の情報を有していない。したがって、基礎的なパターン形状や補正のための制限事項等の情報を取得するためには、パターン形成用データの生成過程において利用された各種の図面や文書の参照等が必要となり、情報取得に要する時間が増大するだけでなく、設計および製造の各工程間における意思疎通も図りにくくなる。 The pattern formation data indicating the finally designed pattern shape is composed only of information indicating the position and shape of pattern elements such as elements and wiring, and what is the basic pattern shape? Therefore, it does not have information such as what reason it was corrected by design or manufacturing restrictions. Therefore, in order to acquire information such as basic pattern shapes and restrictions for correction, it is necessary to refer to various drawings and documents used in the process of generating pattern formation data. Not only will the time required be increased, but it will also be difficult to communicate between the design and manufacturing processes.
また、パターンの新規設計や設計変更、あるいは、製造設備の特性に合わせた設計修正が行われる場合には、設計に係る情報の取得に長時間を要するのみならず、同じ試行錯誤を繰り返す可能性もあり、結果として設計時間が増大してししまう。さらには、設計変更等の自動化も困難となっている。 In addition, when a new pattern design or design change, or a design modification that matches the characteristics of a manufacturing facility, not only will it take a long time to acquire design information, but the same trial and error may be repeated. As a result, the design time increases. Furthermore, it is difficult to automate design changes.
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、パターンの設計を効率化することを主な目的とし、さらには、パターンの設計変更を容易に行うことを目的としている。 The present invention has been made in view of the above problems, and has as its main object to make the pattern design more efficient, and further to easily change the pattern design.
請求項１に記載の発明は、プリント回路基板、半導体基板またはフラットパネル表示装置の製造において基板上に幾何学的パターンを形成する際に使用されるパターン形成用データを生成するパターン形成用データ生成装置であって、基板上に配置される複数のパターン要素である基礎パターンを示すデータを生成し、前記データを基礎パターン部として有するパターン形成用データを生成する基礎パターン生成手段と、前記基礎パターンに含まれるパターン要素の種類またはパターン要素の組合せの種類に応じてパターンの形成処理において求められる補正ルールを示す補正ルール部を前記パターン形成用データに付加する補正ルール付加手段とを備える。 According to the first aspect of the present invention, pattern formation data generation for generating pattern formation data used when forming a geometric pattern on a substrate in manufacturing a printed circuit board, a semiconductor substrate, or a flat panel display device is provided. A basic pattern generating means for generating data indicating a basic pattern, which is a plurality of pattern elements arranged on a substrate, and generating pattern formation data having the data as a basic pattern portion, and the basic pattern Correction rule adding means for adding a correction rule part indicating a correction rule obtained in the pattern forming process according to the type of pattern element or the type of combination of pattern elements included in the pattern forming data.
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のパターン形成用データ生成装置であって、前記補正ルール部が示す補正ルールを、前記基礎パターン部から独立して変更する補正ルール変更手段をさらに備える。 A second aspect of the present invention is the pattern forming data generation device according to the first aspect, wherein the correction rule changing means for changing the correction rule indicated by the correction rule portion independently of the basic pattern portion. Further prepare.
請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載のパターン形成用データ生成装置であって、前記補正ルール付加手段により、前記補正ルール部が前記パターン形成用データにおいて前記基礎パターン部から分離して記述されたブロックとして付加される。 A third aspect of the present invention is the pattern formation data generating device according to the first or second aspect, wherein the correction rule adding unit causes the correction rule portion to be changed from the basic pattern portion in the pattern formation data. It is added as a block described separately.
請求項４に記載の発明は、請求項１ないし３のいずれかに記載のパターン形成用データ生成装置であって、パターン要素の種類またはパターン要素の組合せの種類およびパターンの形成条件を含むキー情報と補正ルールとを関連づけたデータ要素の集合であるデータベースを記憶する記憶部をさらに備え、前記補正ルール付加手段が、前記基礎パターンが含むパターン要素の種類またはパターン要素の組合せの種類および予め設定されたパターン形成条件を含むキー情報に関連づけられた補正ルールを前記データベースから抽出し、前記パターン形成用データに付加する。 A fourth aspect of the present invention is the pattern forming data generating apparatus according to any one of the first to third aspects, wherein the key information includes the type of pattern element or the type of combination of pattern elements and the pattern forming condition. And a storage unit that stores a database that is a set of data elements in which correction rules are associated with the correction rule, and the correction rule adding means is preset with the type of pattern element or the combination of pattern elements included in the basic pattern. The correction rule associated with the key information including the pattern forming conditions is extracted from the database and added to the pattern forming data.
請求項５に記載の発明は、請求項１ないし４のいずれかに記載のパターン形成用データ生成装置であって、前記基礎パターン部が示すパターン要素またはパターン要素の組合せのうち、前記補正ルール部が示す各補正ルールに対応するものを特定し、特定されたパターン要素またはパターン要素の組合せを前記各補正ルールに従って補正することにより、パターン形成用の補正済パターンのデータを生成する補正済データ生成手段をさらに備える。 A fifth aspect of the present invention is the pattern forming data generation device according to any one of the first to fourth aspects, wherein the correction rule unit is a pattern element or a combination of pattern elements indicated by the basic pattern unit. The corrected data generation for generating the corrected pattern data for pattern formation by specifying the one corresponding to each correction rule indicated by and correcting the specified pattern element or combination of pattern elements according to each correction rule Means are further provided.
請求項６に記載の発明は、請求項１ないし５のいずれかに記載のパターン形成用データ生成装置であって、前記基礎パターン部が示すパターン要素またはパターン要素の組合せのうち、前記補正ルール部が示す各補正ルールに対応するものを特定し、特定されたパターン要素またはパターン要素の組合せを前記各補正ルールに従って補正することにより、表示用の補正済パターンのデータを生成し、前記基礎パターンと前記補正済パターンとの相違、および、前記基礎パターンまたは前記補正済パターンを表示用に出力する出力部をさらに備える。 A sixth aspect of the present invention is the pattern forming data generating device according to any one of the first to fifth aspects, wherein the correction rule unit is a pattern element or a combination of pattern elements indicated by the basic pattern unit. The correction pattern data for display is generated by correcting the specified pattern element or combination of pattern elements in accordance with each correction rule, and specifying the corresponding pattern rule. It further includes an output unit that outputs the difference from the corrected pattern and the basic pattern or the corrected pattern for display.
請求項７に記載の発明は、プリント回路基板、半導体基板またはフラットパネル表示装置の製造において基板上に幾何学的パターンを形成する際に使用されるパターン形成用データの生成方法であって、ａ） 基板上に配置される複数のパターン要素である基礎パターンを示すデータを生成し、前記データを基礎パターン部として有するパターン形成用データを生成する工程と、ｂ） 前記基礎パターンに含まれるパターン要素の種類またはパターン要素の組合せの種類に応じてパターンの形成処理において求められる補正ルールを示す補正ルール部を前記パターン形成用データに付加する工程とを備える。 The invention according to claim 7 is a method of generating data for pattern formation used when forming a geometric pattern on a substrate in the manufacture of a printed circuit board, a semiconductor substrate or a flat panel display device, comprising: a ) Generating data indicating a basic pattern, which is a plurality of pattern elements arranged on the substrate, and generating pattern formation data having the data as a basic pattern portion; b) pattern elements included in the basic pattern And adding a correction rule part indicating a correction rule obtained in the pattern forming process in accordance with the type of pattern element or the type of combination of pattern elements to the pattern forming data.
請求項８に記載の発明は、請求項７に記載のパターン形成用データの生成方法であって、前記ａ）工程と前記ｂ）工程との間において、パターン要素の種類またはパターン要素の組合せの種類およびパターンの形成条件を含むキー情報と補正ルールとを関連づけたデータ要素の集合であるデータベースから、前記基礎パターンが含むパターン要素の種類またはパターン要素の組合せの種類および予め設定されたパターン形成条件を含むキー情報に関連づけられた補正ルールを抽出する工程をさらに備える。
The invention according to
本発明では、パターンの設計効率を向上することができ、さらには、パターンの設計変更を容易に行うことができる。 According to the present invention, the pattern design efficiency can be improved, and further, the pattern design can be easily changed.
請求項２の発明では、基礎パターンを変更することなく、補正ルールのみを変更することにより、製造条件の変更等に迅速に対応することができる。また、請求項３の発明では、基礎パターンと補正ルールとを容易に区別することができるため、補正ルールの変更に迅速に対応することができる。請求項４および８の発明では、補正ルール部の生成に要する時間を短縮することができる。
According to the second aspect of the present invention, it is possible to quickly cope with a change in manufacturing conditions or the like by changing only the correction rule without changing the basic pattern. In the invention of
請求項５の発明では、補正済パターンのデータを迅速に生成することができる。請求項６の発明では、補正前後のパターン形状の差違を容易に把握することができる。 According to the invention of claim 5, the corrected pattern data can be generated quickly. In the invention of claim 6, the difference in pattern shape before and after correction can be easily grasped.
図１は、本発明の第１の実施の形態に係るパターン形成用データを生成するデータ生成システム１の構成を示す図であり、パターン形成用データは、プリント回路基板、半導体基板、または、プラズマ表示装置や液晶表示装置等のフラットパネル表示装置若しくはフォトマスク用のガラス基板（以下、「基板」という。）の製造において、これらの基板上に幾何学的パターンを形成する際に使用される。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a
データ生成システム１は、パターンの設計を行う設計部門２に設置されて管理される基礎パターン生成装置２１およびサーバ２２、並びに、製造部門の一部であってパターンの形成を行う形成部門３に設置されて管理される形成用パターン生成装置３１が通信網９に接続されることにより構築される。なお、図示の都合上、基礎パターン生成装置２１および形成用パターン生成装置３１を１つのコンピュータとして描いているが、各装置は複数のコンピュータにより構成されてもよい。また、複数の基礎パターン生成装置２１が通信網９上に設けられてもよい。
The
形成部門３では、形成用パターン生成装置３１がパターンの形成に用いられるパターン形成設備３２に接続される。通信網９は、社内ＬＡＮやＷＡＮ、あるいは、インターネット等であり、インターネットを介して通信が行われる場合には、送受信される情報は全て暗号化される。データ生成システム１では、形成部門３における形成用パターン生成装置３１の使用に対して課金が行われ、課金に関する情報は設計部門２のサーバ２２により管理される。なお、設計部門２および形成部門３は、同一の会社に属していてもよく、また、別個の会社に属していてもよい。
In the forming
図２は、形成用パターン生成装置３１の構成を示す図である。形成用パターン生成装置３１は、通常のコンピュータと同様に、各種演算処理を行うＣＰＵ３１１、実行されるプログラムを記憶したり演算処理の作業領域となるＲＡＭ３１２、基本プログラムを記憶するＲＯＭ３１３、各種情報を記憶する固定ディスク３１４、作業者に各種情報を表示するディスプレイ３１５、および、キーボードやマウス等の入力部３１６等を接続した構成となっている。固定ディスク３１４内には、形成用パターン生成装置３１により実行されるプログラム３１４１、および、データベース３１４２が記憶される。基礎パターン生成装置２１は、図２に示す形成用パターン生成装置３１と同様の構成であるため図示は省略するが、ＣＰＵ、ＲＡＭ，ＲＯＭ、固定ディスク、ディスプレイおよび入力部を備える。なお、基礎パターン生成装置２１の固定ディスクにはデータベース３１４２に対応するデータベースは記憶されていない。
FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration of the forming
図３は、基礎パターン生成装置２１および形成用パターン生成装置３１のＣＰＵ等（図２参照）が、固定ディスクに記憶されたプログラムに従って演算処理を行うことにより実現される機能を他の構成と共に示すブロック図である。図３中において一点鎖線２１０にて囲むブロックは、設計部門２の基礎パターン生成装置２１により実現される機能を示し、二点鎖線３１０にて囲むブロックは、形成部門３の形成用パターン生成装置３１に係る機能および構成を示す。図３中では、基礎パターン生成装置２１のデータ受付部２３１、データ送信部２３２および設計データ生成部２３３、並びに、形成用パターン生成装置３１のデータ受付部３３１、データ出力部３３２、表示制御部３３２１、形成データ生成部３３３、データベース管理部３３４および課金報告部３３５が、各装置のＣＰＵ等により実現される機能に相当する。
FIG. 3 shows the functions realized by the CPU and the like (see FIG. 2) of the basic
データ生成システム１では、これらの構成によりパターン形成用データが生成される。パターン形成用データは、基板上に配置される複数のパターン要素（すなわち、円や直線等の基本図形）である基礎的なパターン（基板が所定の用途に用いられるために最低限必要なパターンであり、以下、「基礎パターン」という。）、および、基礎パターンに含まれるパターン要素の種類またはパターン要素の組み合わせの種類に応じて実際のパターンの形成処理において求められる基礎パターンを補正するためのルール（以下、「補正ルール」という。）を含む。
In the
設計データ生成部２３３は、基礎パターン生成装置２１のＣＰＵ等により実現される機能として、基礎パターン生成部２３３１を有し、形成データ生成部３３３は、ＣＰＵ３１１（図２参照）等より実現される機能として、インデックス付加部３３３１、補正ルール付加部３３３２、補正済データ生成部３３３３、最終データ生成部３３３４および補正ルール変更部３３３５を有する。また、データベース管理部３３４は、ＣＰＵ３１１等により実現される機能として、データ更新部３３４１およびデータ抽出部３３４２を有する。これらの機能の詳細については後述する。
The design
図４は、形成用パターン生成装置３１の固定ディスク３１４に記憶されるデータベース３１４２の構造を示す図である。データベース３１４２は、図５に示すデータ要素１０の集合であり、データ要素１０は、データ要素を識別するためのデータ要素ＩＤ１０１、データ要素を検索するためのキー情報１０２、並びに、キー情報１０２に関連づけられた補正ルール１０３、および、補正ルール１０３の種類を示す識別子であるルール種別１０３０を含む。キー情報１０２は、予め設定されたパターン形成に係る様々な条件（典型的には、パターン形成設備３２（図１参照）の種類）を示すパターン形成条件１０２１、および、補正ルール１０３が適用されるパターンの素子や配線等のパターン要素の種類またはパターン要素の組み合わせの種類を示す識別子である対象パターン要素１０２２を含む。以下の説明では、パターン形成条件１０２１はパターン形成設備３２の種類を示す情報であるものとして説明する。また、補正ルール１０３は、各形成部門３に特有の製造上の制限事項等から定められたルールであり、各形成部門３により個別に管理されている。
FIG. 4 is a diagram showing the structure of the
図３に示す基礎パターン生成装置２１のデータ受付部２３１は、キーボードやマウス等の入力部を含み、パターン形成用データの生成に使用される基礎パターンの形状を示すＣＡＤ（Computer Aided Design）データを代表とする設計データ等を受け付け、設計データ生成部２３３は、データ受付部２３１により受け付けられたＣＡＤデータからパターン形成用データを生成する。また、データ送信部２３２は、設計データ生成部２３３により生成されたパターン形成用データを通信網９（図１参照）を介して形成用パターン生成装置３１に送信する。
The
形成用パターン生成装置３１のデータ受付部３３１は、基礎パターン生成装置２１から送信されたパターン形成用データを受け付け、形成データ生成部３３３は、データ受付部３３１により受け付けられたパターン形成用データを補正し、補正済データおよび最終データを生成する。形成データ生成部３３３により補正されたパターン形成用データ等はデータ出力部３３２により出力され、表示制御部３３２１により必要に応じてディスプレイ３１５（図１参照）に表示される。
The
形成用パターン生成装置３１のデータベース管理部３３４は、形成データ生成部３３３におけるパターン形成用データの補正の際に利用される補正ルールを、固定ディスク３１４に記憶されるデータベース３１４２から抽出して形成データ生成部３３３に出力する。また、データベース管理部３３４は、更新データ要素の入力に応じてデータベース３１４２の更新も行う。
The
図６．Ａおよび図６．Ｂは、データ生成システム１によるパターン形成用データ、補正済データおよび最終データの生成動作の流れを示す図である。以下、データ生成システム１の動作について具体例を用いて説明する。なお、以下の説明では、図１に示すデータ生成システム１上の１つの基礎パターン生成装置２１、サーバ２２および形成用パターン生成装置３１に注目して説明する。
FIG. A and FIG. B is a diagram showing a flow of operations for generating pattern formation data, corrected data, and final data by the
まず、第１の例では、３つの電極およびこれらの電極間を結ぶ配線を有する基礎パターンについて、エッチング処理による実際の基板上へのパターン形成の際に生じる配線のやせ（すなわち、エッチング処理を行う設備の特性等により、形成された配線の幅が、設備に入力された配線の設計幅より細くなってしまう現象）を考慮し、配線の幅補償がなされたパターン形成用データ、補正済データおよび最終データを生成する動作の流れを説明する。 First, in the first example, with respect to a basic pattern having three electrodes and wirings connecting these electrodes, the thinning of wirings that occurs during pattern formation on an actual substrate by etching processing (that is, performing etching processing) Considering the phenomenon that the width of the formed wiring becomes narrower than the design width of the wiring input to the equipment due to the characteristics of the equipment, etc., the pattern formation data, corrected data, An operation flow for generating final data will be described.
図７は、データ生成システム１により生成されるパターン形成用データの基礎とされる基礎パターン８を示す図であり、図８は、基礎パターン８の形状を表すＣＡＤデータ（以下、「基礎パターンＣＡＤデータ」という。）９０を示す図である。図７に示すように、基礎パターン８は、電極を表す３つの円８１〜円８３、並びに、電極間を結ぶ配線を表す直線８４および直線８５をパターン要素として有し、直線８４および直線８５はそれぞれ、円８１および円８２、並びに、円８２および円８３を両端とする。また、図８に示す基礎パターンＣＡＤデータ９０中の一点鎖線８１０〜８５０に囲まれたブロックはそれぞれ、ベクトル図形形式にて表された円８１〜円８３並びに直線８４，８５を示す。
FIG. 7 is a diagram showing a
なお、図７では理解を容易とするために簡略な基礎パターン８を示しているが、基礎パターン８は、円や直線のみに限らず、点や多角形、折れ線、スプライン曲線やベジェ曲線等の基本図形をパターン要素として有してよい。また、図８に示す基礎パターンＣＡＤデータ９０では、これらパターン要素がベクトル図形形式にて表されていてもよく、あるいは、外部参照先である他の図形ファイルや画像データ等のアドレスを示すデータとして表されていてもよい。
In FIG. 7, a simple
基礎パターンＣＡＤデータ９０には、各パターン要素の細部の仕様（例えば、折れ線の屈曲部の形状処理、図形の線幅を漸次変更する場合の始点および終点の線幅、パターン要素の拡大／縮小や回転）を示すデータ、各パターン要素が描画されているレイヤ間の関係を示すデータ、パターン要素が描画されている座標空間における有効領域（すなわち、その内部に存在するパターン要素のみがパターンを構成する要素として用いられると定義されている領域）を示すデータ等（すなわち、パターン要素に付帯するデータであり、以下、「付帯データ」という。）が含まれてもよい。あるいは、これらの付帯データは、基礎パターンＣＡＤデータ９０と関連づけられた他のデータとして扱われてもよい。基礎パターンＣＡＤデータ９０は、図８に示す記述形式以外の形式（例えば、ガーバフォーマット、ＧＤＳII等）により記述されてもよい。
The basic
データ生成システム１によりパターン形成用データ等が生成される際には、まず、基礎パターンＣＡＤデータ９０が、図３に示す基礎パターン生成装置２１のデータ受付部２３１により受け付けられて設計データ生成部２３３に送られる（ステップＳ１１）。続いて、設計データ生成部２３３の基礎パターン生成部２３３１により、基礎パターンＣＡＤデータ９０の記述形式が拡張可能マークアップ言語（ＸＭＬ：Extensible Markup Language）に変換され、図９に示すように、基礎パターン８を示す基礎パターン部９１１を有するパターン形成用データ９１が生成される（ステップＳ１２）。なお、図８では、ＸＭＬのバージョン等の宣言部および文書型定義部については図示を省略している（以下、同様）。
When pattern formation data or the like is generated by the
図９に示すように、図７中の円８１〜円８３は、要素名が「ｃｉｒｃｌｅ」である要素として定義され、パターン要素を識別する「ｆｉｇｕｒｅＩｄ」、中心のＸ座標値およびＹ座標値である「ｃｘ」および「ｃｙ」、並びに、直径である「ｄｉａｍｅｔｅｒ」を属性として有する。また、直線８４，８５は、要素名が「ｌｉｎｅ」である要素として定義され、パターン要素を識別する「ｆｉｇｕｒｅＩｄ」、始点のＸ座標値およびＹ座標値である「ｓｘ」および「ｓｙ」、終点のＸ座標値およびＹ座標値である「ｅｘ」および「ｅｙ」、並びに、線幅である「ｗｉｄｔｈ」を属性として有する。
As shown in FIG. 9, circles 81 to 83 in FIG. 7 are defined as elements whose element name is “circle”, and are “figureId” that identifies a pattern element, a center X coordinate value, and a Y coordinate value. It has certain “cx” and “cy” and “diameter” which is a diameter as attributes. The
図３に示す基礎パターン生成部２３３１により生成されたパターン形成用データ９１は、基礎パターン生成装置２１のデータ送信部２３２により、通信網９（図１参照）を介して形成用パターン生成装置３１へと送信される（ステップＳ１３）。形成用パターン生成装置３１では、基礎パターンのみを示すパターン形成用データ９１がデータ受付部３３１により受け付けられ、形成データ生成部３３３に送られる。
The
パターン形成用データ９１が形成データ生成部３３３に送られると、パターン形成設備３２（図１参照）の種類を示すパターン形成条件、および、補正ルールが適用されるべきパターン要素またはパターン要素の組み合わせの種類を示す対象パターン要素が、形成用パターン生成装置３１のデータ受付部３３１により受け付けられて形成データ生成部３３３に送られる。これらのデータは、基礎パターン部９１１への補正ルールの付加に利用されるデータであり、以下、「ルール付加用インデックス」という。
When the
続いて、図１０に示すように、インデックス付加部３３３１によりルール付加用インデックス９１２がパターン形成用データ９１に付加される（ステップＳ２１）。ＸＭＬにて記述されるルール付加用インデックス９１２では、パターン形成条件として「ｐｌａｎｔＩｄ」が「Ａ１」であるパターン形成設備３２が特定され、また、対象パターン要素として「ｆｉｇｕｒｅＴｙｐｅ」が「ｌｉｎｅ」であるパターン要素が指定される。形成用パターン生成装置３１では、付加されたルール付加用インデックス９１２に基づいて、補正ルール付加部３３３２によるデータベース３１４２からの補正ルールの取得が行われる（ステップＳ２２）。
Subsequently, as shown in FIG. 10, the
図１１は、ステップＳ２２にて行われる形成用パターン生成装置３１による補正ルールの取得動作の流れを示す図である。図１２は、補正ルールの取得に用いられる検索キー４０を示す図である。補正ルールの取得が行われる際には、まず、形成データ生成部３３３の補正ルール付加部３３３２（図３参照）により、パターン形成条件４０１（ｐｌａｎｔＩｄ＝Ａ１）および対象パターン要素４０２（ｆｉｇｕｒｅＴｙｐｅ＝ｌｉｎｅ）がルール付加用インデックス９１２（図１０参照）から抽出され、これらのデータが図１２に示す検索キー４０とされる（ステップＳ２２１）。
FIG. 11 is a diagram showing the flow of the correction rule acquisition operation by the forming
補正ルール付加部３３３２により抽出された検索キー４０は、図３に示すデータベース管理部３３４により受け付けられてデータ抽出部３３４２に送られる（ステップＳ２２２）。続いて、検索キー４０に基づいてデータベース３１４２が検索され、検索キー４０を含むキー情報１０２（図５参照）に関連づけられた補正ルール１０３およびルール種別１０３０が、データ抽出部３３４２によりデータベース３１４２から抽出される（ステップＳ２２３）。抽出された補正ルール１０３およびルール種別１０３０は、データベース管理部３３４により形成データ生成部３３３の補正ルール付加部３３３２に出力されて補正ルール１０３の取得が完了する（ステップＳ２２４）。このようにして取得された補正ルール１０３は、パターンの形成に使用される各パターン形成設備３２に固有の補正ルール１０３となっている。
The
図５に示す補正ルール１０３の取得が完了すると、取得された補正ルール１０３が、補正ルール付加部３３３２により、対応するルール種別１０３０および対象パターン要素１０２２と共に、図１３に示すように、補正ルール部９１３としてパターン形成用データ９１に付加される（図６．Ｂ：ステップＳ２３）。パターン形成用データ９１では、ルール種別１０３０および対象パターン要素１０２２を属性（すなわち、「ｒｕｌｅＩｄ」および「ｆｉｇｕｒｅＴｙｐｅ」）として有する補正ルール部９１３が、基礎パターン部９１１およびルール付加用インデックス９１２から分離して（すなわち、補正ルール部９１３と基礎パターン部９１１およびルール付加用インデックス９１２とが互いに包含関係を有さない状態にて）記述されたブロックとして付加される。パターン形成用データ９１では、補正ルール部９１３が基礎パターン部９１１およびルール付加用インデックス９１２と同様にＸＭＬにより記述される。なお、パターン形成用データ９１が、基礎パターン部９１１、ルール付加用インデックス９１２および補正ルール部９１３をそれぞれ複数ブロック含む場合には、各部のブロックは交互に記述されてもよい。また、補正ルール部９１３に含まれる補正ルールは、必ずしもパターン形成設備に固有の補正ルールには限定されず、例えば、設備の特性には影響されない基礎パターン８の設計における設計規則や、基板上に実際のパターンを形成する際の各設備共通の製造規則等であってもよい。
When the acquisition of the
図１３に示すように、補正ルール部９１３には、ルール種類を示す「ｒｕｌｅＩｄ」が「ｂ１」であり、対象パターン要素の種類を示す「ｆｉｇｕｒｅＴｙｐｅ」が「ｌｉｎｅ」である補正ルール（以下、ｒｕｌｅＩｄの値を用いて、「補正ルールｂ１」という。）が含まれる。補正ルールｂ１は、直線にて表されるパターン中の配線の長さに合わせて配線の幅を補正するルールである。
As shown in FIG. 13, the
補正ルール部９１３が付加されると、基礎パターン部９１１を補正してパターン形成用の補正済パターンのデータ（以下、「補正済データ」という。）を生成する補正済データ生成部３３３３（図３参照）により、必要に応じて、補正に用いられる補正値の取得が行われる（ステップＳ２４）。図１４は、補正値（すなわち、配線の補正幅）の取得動作の流れを示す図である。まず、パターン形成用データ９１の基礎パターン部９１１が示すパターン要素またはパターン要素の組み合わせのうち、補正ルール部９１３が示す補正ルールｂ１に対応するもの、すなわち、補正ルールｂ１の属性「ｆｉｇｕｒｅＴｙｐｅ」が示すパターン要素である直線８４および直線８５（図７参照）が補正対象として特定される（ステップＳ２４１）。続いて、補正ルールｂ１の処理アルゴリズムが適用され、直線８４，８５の始点および終点の座標値からそれぞれの長さが取得される（ステップＳ２４２）。
When the
図１５は、補正ルールｂ１および／またはパターン形成条件（すなわち、ｐｌａｎｔＩｄがＡ１であるパターン形成設備３２）に関連づけられる関連データベースｆｏｏ１のテーブルｂａｒ１を示す図である。補正済データ生成部３３３３では、ステップＳ２４２で求められた各直線の長さ（ｌｅｎｇｔｈ）、および、図１５に示すテーブルｂａｒ１に基づいて、配線の補正幅（ｖａｌｕｅ）が補正ルール部９１３の「ｄｂＶａｌｕｅ」（図１３参照）として取得される（ステップＳ２４３）。なお、補正値が予め補正ルール内に記述されている場合には、ステップＳ２４の動作は省略される。
FIG. 15 is a diagram showing a table bar1 of the related database foo1 associated with the correction rule b1 and / or the pattern formation condition (that is, the
補正幅が取得されると、補正済データ生成部３３３３により、パターン形成用データ９１の基礎パターン部９１１における直線８４，８５を示す部分が補正ルールｂ１に従って補正され、図１６に示す表示用の補正済パターンのデータ（以下、「表示用データ」という。）９２が生成される（図６．Ｂ：ステップＳ２５）。図１６に示すように、表示用データ９２では、パターン形成用データ９１の基礎パターン部９１１の直線８４，８５を示す部分のそれぞれに対して、補正ルールｂ１により取得された補正幅（図１６中において「ｄｅｌｔａｗｉｄｔｈ」として示される値。）が、直線８４，８５の元の幅（図１６中において「ｗｉｄｔｈ」として示される値。）と区別可能なように付加される。表示用データ９２は、パターン形成用データ９１と同様、ＸＭＬにて記述される。なお、補正ルールによる基礎パターン部９１１の補正アルゴリズムの実体部分については、図示を省略している。
When the correction width is acquired, the corrected
形成用パターン生成装置３１では、図３に示す補正済データ生成部３３３３により生成された表示用データ９２が形成データ生成部３３３からデータ出力部３３２に送られ、データ出力部３３２によりディスプレイ３１５（図２参照）にパターン形状が表示される（ステップＳ２６）。図１７は、ディスプレイ３１５に表示されるパターンの一部を拡大して示す図である。形成用パターン生成装置３１では、データ出力部３３２による出力が表示制御部３３２１により制御されることにより、図１７に示すように、基礎パターン８（図１７中では、円８２、直線８４および直線８５）および補正済パターン８ａ（図１７中では、円８２、直線８４ａおよび直線８５ａ）、並びに、基礎パターン８と補正済パターン８ａとの相違（図１７中にて平行斜線を付して示す部分であり、以下、「補正量」という。）８ｂがディスプレイ３１５に表示される。なお、基礎パターン８および補正済パターン８ａについては、いずれか一方が選択的に表示されてもよい。
In the formation
ディスプレイ３１５にパターンが表示されると、作業者により基礎パターン８、補正済パターン８ａおよび補正量８ｂの外観が確認される（ステップＳ２７）。補正済パターン８ａが所望の形状になっていない場合には、補正量を変更するためのデータ（以下、「変更用データ」という。）が、図３に示すデータ受付部３３１により受け付けられて形成データ生成部３３３に送られる。形成データ生成部３３３では、補正ルール変更部３３３５により、図１３に示すパターン形成用データ９１の補正ルール部９１３が、変更用データに基づいて基礎パターン部９１１から独立して変更される（ステップＳ２７１）。具体的には、ステップＳ２４にて取得された補正幅が変更用データが示す新たな補正幅に変更される。補正ルール部９１３が示す補正ルールが変更されると、ステップＳ２５に戻って表示用データ９２が再び生成されてディスプレイ３１５に基礎パターン８、補正済パターン８ａおよび補正量８ｂが表示される（ステップＳ２５，Ｓ２６）。なお、変更用データの内容によっては、ステップＳ２７１において、新たな補正ルールがデータベース３１４２から取得され、補正ルール部９１３の補正ルールと置き換えられる等の変更が行われてもよい。
When the pattern is displayed on the
補正済パターン８ａが所望の形状になると（ステップＳ２７）、補正対象として特定されたパターン要素である直線８４，８５を示す基礎パターン部９１１の部分が補正ルール部９１３の補正ルールに従って一括して補正され、図１８に示す補正済データ９３が生成される（ステップＳ２８）。図１８に示すように、補正済データ９３は、基礎パターン部９１１の直線８４，８５を示すデータに対して、補正ルールｂ１による補正を行った結果を示すデータとして生成される。すなわち、補正済データ９３においては、各パターン要素の形状は、基礎的な形状（すなわち、基礎パターン８として示される形状）と補正ルールによる補正分とが区別されない状態で記述される。また、補正済データ９３はＸＭＬにて記述される。
When the corrected
形成用パターン生成装置３１では、図３に示す補正済データ生成部３３３３によるパターン形成用データ９１の補正が行われて補正済データ９３が生成された際に、補正済データ生成部３３３３から課金報告部３３５に所定の信号が送られる。そして、信号を受け取った課金報告部３３５により、形成用パターン生成装置３１が使用された旨の報告が、通信網９を介して設計部門２のサーバ２２（図１参照）に送信される（ステップＳ２９）。サーバ２２では、課金報告部３３５からの報告に基づいて、形成部門３の形成用パターン生成装置３１の使用に対する課金情報が更新される。
In the formation
形成用パターン生成装置３１では、最終データ生成部３３３４により、最終データが補正済データ９３に基づいて生成される（ステップＳ３０）。課金報告部３３５による形成用パターン生成装置３１の使用報告は、補正済データ９３の生成時に代えて、あるいは、補正済データ９３の生成時に加えてさらに、最終データの生成の際に行われてもよい。この場合も、上記と同様に、最終データが生成された際に最終データ生成部３３３４から課金報告部３３５に所定の信号が送られ、形成用パターン生成装置３１が使用された旨の報告が、課金報告部３３５から通信網９を介してサーバ２２に対して行われる。
In the formation
最終データ生成部３３３４により生成された最終データはパターン形成設備３２（図１参照）に送られ、後工程において基板上に実際のパターンが形成される。パターンの形成は、基礎パターン８に対して配線の幅を補償する補正が行われて生成された最終データに基づいて行われる。その結果、設備特性等による配線のやせが防止されて適切なパターンが形成される。
The final data generated by the final
なお、データ生成システム１では、図６．Ｂ中のステップＳ２１にてパターン形成用データ９１に付加されるルール付加用インデックス９１２において、複数種類のパターン要素がそれぞれ対象パターン要素として指定されてよく、また、複数のパターン要素の組み合わせが対象パターン要素として指定されてもよい。ステップＳ２２，Ｓ２３においては、複数種類の補正ルールがデータベース３１４２から取得され、補正ルール部９１３としてパターン形成用データ９１に付加されてよい。基礎パターン部９１１の補正は、必ずしもステップＳ２８に示す補正済データ９３の生成において一括して行われる必要はなく、ステップＳ３０に示す最終データの生成において行われた方が効率的な補正は、最終データ生成時に行われてもよい。この場合、補正済データ９３は、最終データ生成時に行われる一部の補正に係る補正ルールを補正ルール部９１３として有する。
In the
また、データ生成システム１では、新規設備においてパターン形成が行われる予定の基板のパターン設計を行う場合等、必要に応じてデータベース３１４２の更新が行われる。データベース３１４２の更新の際には、試作等が行われた後に更新データが入力部３１６（図２参照）から入力されて図３に示すデータベース管理部３３４のデータ更新部３３４１に送られる。続いて、データ更新部３３４１により、更新データに基づくデータベース３１４２の検索が行われ、更新データが新規データ要素として追加され、あるいは、既存のデータ要素が更新データに基づいて更新される。
Further, in the
以上に説明したように、データ生成システム１では、設計部門２に管理される基礎パターン生成装置２１により生成された基礎パターン部９１１を含むパターン形成用データ９１がパターンの形成部門３に送信され、各形成部門３に管理される形成用パターン生成装置３１により、各形成部門３に固有のパターン形成条件（例えば、パターン形成設備３２の種類）や対象パターン要素に対応する補正ルールを含む補正ルール部９１３が基礎パターン部９１１に付加されてパターン形成用データ９１が自動的に生成される。生成されたパターン形成用データ９１は基礎パターン部９１１と補正ルール部９１３とを備えるため、基礎パターンとパターン形成時の補正ルールとを個別に明確化することができる。その結果、基礎パターン部９１１の各パターン要素を示すデータを作業者が１つずつ補正する場合に比べて、パターンの設計効率を向上することができる。また、パターンの基礎となる構造（すなわち、基礎パターン８）の変更やパターン形成処理に合わせたパターンの微細な変更を容易に行うことができる。
As described above, in the
パターン形成用データ９１では、補正ルール部９１３が基礎パターン部９１１から分離して記述されたブロックとして付加されるため、基礎パターン部９１１と補正ルール部９１３とを容易に区別することができ、補正ルールの変更に迅速に対応することができる。また、補正ルール部９１３では、各補正ルールにルール種類および対象パターン要素の種類を示す識別子が付与されているため、補正ルール部９１３に複数の補正ルールが含まれている場合であっても、補正ルールの変更時に変更対象となる補正ルールを効率良く検索することができる。これにより、製造条件の変更等によるパターン変更にも迅速に対応することができる。なお、補正ルール部９１３の各補正ルールに付与される識別子は、ルール種類、または、対象パターン要素もしくは対象となるパターン要素の組み合わせの種類のいずれか１つであってもよい。
In the
データ生成システム１の形成用パターン生成装置３１では、補正ルール変更部３３３５により、基礎パターン部９１１から独立して補正ルール部９１３の変更を行うことができるため、基礎パターンを変更することなく、補正ルールのみを変更することにより、製造条件の変更等に迅速に対応することができる。
In the formation
形成用パターン生成装置３１では、補正ルール付加部３３３２により基礎パターンの補正に使用される補正ルールをデータベース３１４２から抽出することにより、補正ルール部９１３の生成に要する時間を短縮し、その結果、パターン形成用データ９１の生成に要する時間を短縮することができる。また、補正済データ生成部３３３３により、補正ルール部９１３の補正ルールに対応するパターン要素またはパターン要素の組み合わせを基礎パターン部９１１から特定して補正することにより、補正済データ９３を迅速に生成することができる。
In the forming
形成用パターン生成装置３１では、データ出力部３３２により基礎パターン、補正済パターン、および、基礎パターンと補正済パターンとの相違である補正量がディスプレイ３１５に表示されるため、補正前後のパターン形状の差違を容易に把握することができる。その結果、補正後のパターン形状の確認を容易に行うことができる。
In the
データ生成システム１では、パターン形成用データ９１の基礎パターン部９１１、ルール付加用インデックス９１２および補正ルール部９１３は同一の記述言語により記述されるため、パターン形成用データ９１の取り扱いが容易化される。特に、ＸＭＬは対応可能な記述形式の範囲が広く、データの通信等への対応にも優れているため、パターン形成用データ９１の記述に適している。また、パターン形成用データ９１は、ＸＭＬと同様に、対応可能な記述形式の範囲が広く、データの通信等への対応にも優れているＰＤＦ（Portable Document Format）により記述されてもよい。
In the
データ生成システム１の形成用パターン生成装置３１では、補正済データ生成部３３３３によるパターン形成用データ９１の補正が行われた際に、および／または、最終データ生成部３３３４により補正済データ９３に基づいて最終データが生成された際に、形成用パターン生成装置３１が使用された旨の報告が課金報告部３３５により行われる。その結果、形成用パターン生成装置３１の使用に対する課金を適正に行うことができる。
In the formation
データ生成システム１では、パターン形成設備３２の特質等のパターン形成条件を設計部門２に公開することなく、形成部門３において最終データを取得することが可能とされるため、設計部門２と形成部門３とが別会社である場合等に、形成部門３のパターン形成設備３２等に関する情報の社外流出を防止することができる。また、設計部門２において生成したパターン形成用データ９１を、取引先でない第三者が入手した場合等であっても、形成用パターン生成装置３１を使用しない限り最終データを取得することができないため、パターンの形成に係る設計情報の機密性を向上することができる。
In the
次に、図１９およびその他の図面を参照しつつ、データ生成システム１によるパターン形成用データ、補正済データおよび最終データの生成動作の第２の例について説明する。図１９は、パターン形成用データの基礎とされる基礎パターンの１つのパターン要素である折れ線８６を拡大して示す図である。データ生成システム１では、折れ線８６を含む基礎パターンに基づいて、半導体基板のパターン形成に利用されるフォトマスクのパターン形成用データが生成される。なお、フォトマスク上において折れ線８６に対応する部位は光通過領域とされ、通過した光により基板上のレジスト膜にゲート電極のパターンが露光描画される。また、折れ線８６を構成する各直線要素は、互いに垂直に交わるものとする。
Next, a second example of the pattern generation data, corrected data, and final data generation operations by the
図１９に示すように、折れ線８６は複数の屈曲部８６１を有するため、このままの形状でフォトマスクの光通過領域が形成された場合、各屈曲部８６１近傍において光近接効果、すなわち、互いに近接する光通過領域を通過した光同士の干渉により基板上に描画されるパターンが歪む現象が生じる。データ生成システム１では、折れ線８６を含む基礎パターンのＣＡＤデータに対して、図６．Ａおよび図６．ＢのステップＳ１１〜Ｓ３０に示す動作が行われ、光近接効果を抑制するための補正がなされたパターン形成用データ、補正済データおよび最終データが生成される。以下、データ生成システム１の動作について説明する。
As shown in FIG. 19, since the
データ生成システム１では、まず、折れ線８６の形状をベクトル図形形式にて表す基礎パターンＣＡＤデータが、図３に示す基礎パターン生成装置２１のデータ受付部２３１により受け付けられて設計データ生成部２３３に送られる（ステップＳ１１）。続いて、基礎パターン生成部２３３１により、基礎パターンＣＡＤデータからＸＭＬにて記述されたパターン形成用データが生成され（ステップＳ１２）、基礎パターン生成装置２１のデータ送信部２３２により、通信網９（図１参照）を介して形成用パターン生成装置３１へと送信される（ステップＳ１３）。以下、他のデータもＸＭＬにて記述されるものとする。
In the
形成用パターン生成装置３１では、パターン形成用データがデータ受付部３３１により受け付けられて形成データ生成部３３３に送られ、インデックス付加部３３３１によりルール付加用インデックスが付加される（ステップＳ２１）。続いて、付加されたルール付加用インデックスに基づいて、補正ルール付加部３３３２によるデータベース３１４２からの補正ルールの取得が行われ（ステップＳ２２）、取得された補正ルールが、図２０に示す補正ルール部９１３ａとしてパターン形成用データに付加される（ステップＳ２３）。
In the formation
図２０に示すように、補正ルール部９１３ａには、ルール種類を示す「ｒｕｌｅＩｄ」が「ｃ１」であり、対象パターン要素の種類を示す「ｆｉｇｕｒｅＴｙｐｅ」が「ｐｏｌｙｌｉｎｅ」（折れ線）である補正ルール（以下、ｒｕｌｅＩｄの値を用いて、「補正ルールｃ１」という。）が含まれる。補正ルールｃ１は、折れ線にて表されるパターン要素の屈曲部（ｃｏｒｎｅｒ）に対して、光近接効果を抑制する補正を行うルールである。 As illustrated in FIG. 20, the correction rule unit 913 a includes a correction rule (ruleId) indicating “ruleId” is “c1”, and “figureType” indicating the type of the target pattern element is “polyline” (line). Hereinafter, “correction rule c1”) is included using the value of ruleId. The correction rule c1 is a rule for performing correction for suppressing the optical proximity effect on a bent portion (corner) of a pattern element represented by a broken line.
補正ルール部９１３ａが付加されると、補正済データ生成部３３３３により、パターン形成用データの基礎パターン部が示すパターン要素またはパターン要素の組み合わせのうち、補正ルール部９１３ａが示す補正ルールｃ１に対応するもの、すなわち、補正ルールｃ１の属性「ｆｉｇｕｒｅＴｙｐｅ」が示すパターン要素である折れ線８６（図１８参照）が特定される。続いて、基礎パターン部が示す折れ線８６の座標値等から、折れ線８６の各屈曲部８６１が処理対象として特定される。
When the correction rule part 913a is added, the corrected
図２１は、補正ルールｃ１および／またはルール付加用インデックスのパターン形成条件に関連づけられる関連データベースｆｏｏ２のテーブルｂａｒ２を示す図である。補正済データ生成部３３３３では、図２０に示すｋｅｙ「Ｌ」および「Ｗ」、および、図２１に示すテーブルｂａｒ２に基づいて、補正長さおよび補正幅（ｖａｌｕｅ）が補正ルール部９１３ａの「ｄｂＶａｌｕｅＬ」および「ｄｂＶａｌｕｅＷ」として取得される（ステップＳ２４）。
FIG. 21 is a diagram showing a table bar2 of the related database foo2 associated with the pattern formation condition of the correction rule c1 and / or the rule addition index. In the corrected
補正長さおよび補正幅が取得されると、補正済データ生成部３３３３により、パターン形成用データの基礎パターン部における折れ線８６を示す部分が補正ルールｃ１に従って補正されて表示用データが生成され（ステップＳ２５）、表示用データに基づいて形成用パターン生成装置３１のディスプレイ３１５（図２参照）に図２２に示すパターン形状が表示される（ステップＳ２６）。形成用パターン生成装置３１では、図２２に示すように、折れ線８６および補正済みの折れ線（以下、「補正済折れ線」という。）８６ａ、並びに、折れ線８６と補正済折れ線８６ａとの相違、（図２２中にて平行斜線を付して示す部分であり、以下、「補正量」という。）８６ｂがディスプレイ３１５に表示される。図２２中にて符号「Ｌ」および符号「Ｗ」を付して示す補正量８６ｂの長さおよび幅は、ステップＳ２４にて取得された補正長さおよび補正幅である。なお、折れ線８６および補正済折れ線８６ａについては、いずれか一方が選択的に表示されてもよい。
When the correction length and the correction width are acquired, the corrected
ディスプレイ３１５にパターンが表示されると、作業者により折れ線８６、補正済折れ線８６ａおよび補正量８６ｂの外観が確認される（ステップＳ２７）。補正済折れ線８６ａが所望の形状になっていない場合には、変更用データが形成用パターン生成装置３１のデータ受付部３３１により受け付けられ、補正ルール変更部３３３５により、図２０に示すパターン形成用データの補正ルール部９１３ａが基礎パターン部から独立して変更される（ステップＳ２７１）。補正ルール部９１３ａが示す補正ルールが変更されると、ステップＳ２５に戻って表示用データが再び生成されてディスプレイ３１５に折れ線８６、補正済折れ線８６ａおよび補正量８６ｂが表示される（ステップＳ２５，Ｓ２６）。
When the pattern is displayed on the
補正済折れ線８６ａが所望の形状になると（ステップＳ２７）、基礎パターン部の折れ線８６を示す部分が補正ルール部９１３ａの補正ルールに従って一括して補正され、補正済データが生成される（ステップＳ２８）。そして、課金報告部３３５により、形成用パターン生成装置３１が使用された旨の報告が、通信網９を介して設計部門２のサーバ２２（図１参照）に送信される（ステップＳ２９）。サーバ２２では、課金報告部３３５からの報告に基づいて、形成部門３の形成用パターン生成装置３１の使用に対する課金情報が更新される。
When the corrected
形成用パターン生成装置３１では、最終データ生成部３３３４により、最終データが補正済データに基づいて生成される（ステップＳ３０）。なお、課金報告部３３５による形成用パターン生成装置３１の使用報告は、補正済データ９３の生成時に代えて、あるいは、補正済データ９３の生成時に加えてさらに、最終データの生成の際に行われてもよい。
In the forming
その後、最終データはパターン形成設備３２（図１参照）に送られ、後工程において基板上にパターンが形成される。パターンの形成は、折れ線８６の屈曲部８６１に対する光近接効果を抑制する補正が行われて生成された最終データに基づいて行われる。その結果、光の干渉によりパターンの屈曲部の形状が歪むことが抑制されて適切なパターンが形成される。
Thereafter, the final data is sent to the pattern forming facility 32 (see FIG. 1), and a pattern is formed on the substrate in a subsequent process. The pattern is formed based on final data generated by performing correction for suppressing the optical proximity effect on the
以上に説明したように、データ生成システム１では、第１の例と同様に、基礎パターン部９１１に補正ルール部９１３が付加されたパターン形成用データ９１が自動的に生成される。パターン形成用データ９１では、基礎パターンとパターン形成時の補正ルールとを個別に明確化することができるため、基礎パターン部９１１の各パターン要素を示すデータを作業者が１つずつ補正する場合に比べて、パターンの設計効率を向上することができる。また、パターンの基礎となる構造（すなわち、基礎パターン８）の変更やパターン形成処理に合わせたパターンの微細な変更を容易に行うことができる。
As described above, in the
図２３は、本発明の第２の実施の形態に係るデータ生成システムの基礎パターン生成装置の機能を他の構成と共に示すブロック図である。第２の実施の形態に係るデータ生成システムは図１と同様の構成を備えるが、基礎パターン生成装置２１により、図３中において一点鎖線２１０にて囲む機能に代えて、図２３中において一点鎖線２１０ａにて囲む機能が実現され、また、基礎パターン生成装置２１の固定ディスク２１４にはデータベース２１４２が記憶されている点で異なる。第２の実施の形態に係るデータ生成システムの形成用パターン生成装置３１の構成および機能は図２および図３と同様であり、以下の説明において同符号を付す。
FIG. 23 is a block diagram showing the function of the basic pattern generation device of the data generation system according to the second embodiment of the present invention together with other configurations. The data generation system according to the second embodiment has the same configuration as that shown in FIG. 1, but the basic
図２３に示すように、設計データ生成部２３３は、基礎パターン生成装置２１のＣＰＵ等により実現される機能として、基礎パターン生成部２３３１、インデックス付加部２３３２および補正ルール付加部２３３３を有し、データベース管理部２３４は、データ更新部２３４１およびデータ抽出部２３４２を有する。
As shown in FIG. 23, the design
データベース２１４２は、形成用パターン生成装置３１の固定ディスク３１４に記憶されるデータベース３１４２（図４参照）と同様、図２４に示すデータ要素１０ａの集合であり、データ要素１０ａは、データ要素を識別するためのデータ要素ＩＤ１０１、データ要素を検索するためのキー情報１０２、並びに、キー情報に関連づけられた基礎パターンの設計規則等、パターンの設計段階においてパターン形成設備３２（図１参照）の特性とは無関係に基礎パターンの補正に利用される補正ルール（以下、「設計補正ルール」という。）１０３ａ、および、設計補正ルール１０３ａの種類を示す識別子であるルール種別１０３０を含む。キー情報１０２は、設計補正ルール１０３ａが適用されるパターンの素子や配線等のパターン要素の種類またはパターン要素の組み合わせの種類を示す識別子である対象パターン要素１０２２を含む。
Similar to the database 3142 (see FIG. 4) stored in the fixed
図２５は、第２の実施の形態に係るデータ生成システムの動作の流れの一部を示す図である。第２の実施の形態に係るデータ生成システムでは、図６．Ａに示すデータ生成システム１の動作のステップＳ１２とステップＳ１３との間において、図２５に示すステップＳ３１〜Ｓ３６の動作が基礎パターン生成装置２１により行われる。第２の実施の形態に係るデータ生成システムでは、第１の実施の形態と同様に、図７に示す基礎パターン８について配線の幅補償がなされたパターン形成用データ、補正済データおよび最終データの生成が行われる。以下、第２の実施の形態に係るデータ生成システムの動作について、図２３〜図２５、並びに、他の図面を参照しながら説明する。なお、図２５に示すステップＳ３１〜Ｓ３６の前後の動作（すなわち、図６．Ａに示すステップＳ１１，Ｓ１２、並びに、図６．Ａに示すステップＳ１３および図６．Ｂに示すＳ２１〜Ｓ３０）については、第１の実施の形態に係るデータ生成システム１と同様であるため、説明を簡略化する。
FIG. 25 is a diagram illustrating a part of the operation flow of the data generation system according to the second embodiment. In the data generation system according to the second embodiment, FIG. The operations of Steps S31 to S36 shown in FIG. 25 are performed by the basic
第２の実施の形態に係るデータ生成システムでは、まず、基礎パターンＣＡＤデータ９０（図８参照）が基礎パターン生成装置２１により受け付けられ、基礎パターン生成部２３３１により記述形式がＸＭＬに変換されて基礎パターン部９１１を有するパターン形成用データ９１（図９参照）が生成される（図６．Ａ：ステップＳ１１，Ｓ１２）。続いて、設計補正ルール１０３ａが適用されるべき対象パターン要素１０２２が、基礎パターン生成装置２１のデータ受付部２３１により受け付けられて設計データ生成部２３３に送られ、インデックス付加部２３３２により図２６に示すようにルール付加用インデックス９１２ａとしてパターン形成用データ９１に付加される（ステップＳ３１）。次に、補正ルール付加部２３３３により、パターン形成用データ９１から対象パターン要素１０２２が抽出されて、データベース２１４２から設計補正ルール１０３ａを検索するための検索キーとされる（ステップＳ３２）。
In the data generation system according to the second embodiment, first, the basic pattern CAD data 90 (see FIG. 8) is received by the basic
補正ルール付加部２３３３により抽出された検索キーは、データベース管理部２３４のデータ抽出部２３４２により受け付けられる（ステップＳ３３）。基礎パターン生成装置２１では、データ抽出部２３４２により検索キーに基づいてデータベース２１４２が検索され、検索キーを含むキー情報１０２に関連づけられた設計補正ルール１０３ａおよびルール種別１０３０がデータベース２１４２から抽出される（ステップＳ３４）。
The search key extracted by the correction
抽出された設計補正ルールおよびルール種別は、データベース管理部２３４により設計データ生成部２３３の補正ルール付加部２３３３に出力されて設計補正ルール１０３ａの取得が完了する（ステップＳ３５）。取得された設計補正ルール１０３ａは、図２６に示すように、補正ルール付加部２３３３により、対応するルール種別１０３０および対象パターン要素１０２２と共に、形成用パターン生成装置３１に送信される前のパターン形成用データ９１に設計補正ルール部９１３ｂとして付加される（ステップＳ３６）。設計補正ルール１０３ａが付加されたパターン形成用データ９１は、基礎パターン生成装置２１のデータ送信部２３２により、通信網９を介して形成用パターン生成装置３１（図１参照）へと送信される（図６．Ａ：ステップＳ１３）。
The extracted design correction rule and rule type are output to the correction
形成用パターン生成装置３１によりパターン形成用データ９１が受け付けられると、第１の例の場合と同様に、図３に示す構成により、ルール付加用インデックス９１２（図１３参照）がパターン形成用データに付加され（図６．Ｂ：ステップＳ２１）、図４に示す補正ルール１０３（以下、設計補正ルール１０３ａと区別するために「形成補正ルール１０３」という。）の取得が行われる（ステップＳ２２）。
When the
取得された形成補正ルール１０３は、補正ルール部９１３（図１３参照。以下、設計補正ルール部９１３ｂと区別するために「形成補正ルール部９１３」という。）としてパターン形成用データ９１に付加され、必要に応じて補正値の取得が行われた後、パターン形成用データ９１の基礎パターン部９１１が、設計補正ルール部９１３ｂの設計補正ルール１０３ａおよび形成補正ルール部９１３の形成補正ルール１０３により補正されて表示用データ９２（図１５参照）が生成される（ステップＳ２３〜Ｓ２５）。続いて、表示用データ９２がデータ出力部３３２に送られてディスプレイ３１５（図２参照）に表示され、図１６に示す基礎パターン８、補正済パターン８ａおよび補正量８ｂの外観が確認される（ステップＳ２６，Ｓ２７）。
The acquired
ここで、補正済パターン８ａが所望の形状になっていない場合には、形成補正ルール部９１３が、基礎パターン部９１１および設計補正ルール部９１３ｂから独立して変更され（ステップＳ２７１）、補正済パターン８ａ等がディスプレイ３１５に表示される（ステップＳ２５，Ｓ２６）。補正済パターン８ａが所望の形状になると（ステップＳ２７）、パターン形成用データ９１の基礎パターン部９１１が、補正済データ生成部３３３３により設計補正ルール１０３ａおよび形成補正ルール１０３に従って一括して補正されて補正済データ９３が生成される（ステップＳ２８）。
If the corrected
第２の実施の形態に係るデータ生成システムでは、形成用パターン生成装置３１により補正済データ９３が生成された際に、課金報告部３３５により形成用パターン生成装置３１が使用された旨の報告が行われ、設計部門２のサーバ２２において形成部門３の課金情報が更新され、その後、最終データが補正済データ９３に基づいて生成される（ステップＳ２９，Ｓ３０）。なお、課金報告部３３５による形成用パターン生成装置３１の使用報告は、補正済データ９３の生成時に代えて、あるいは、補正済データ９３の生成時に加えてさらに、最終データの生成の際に行われてもよい。
In the data generation system according to the second embodiment, when the corrected
以上に説明したように、第２の実施の形態に係るデータ生成システムでは、基礎パターン生成装置２１により、設計部門２において基礎パターン部９１１に設計補正ルール１０３ａを付加することができるため、基礎パターン８の補正の一部（すなわち、パターン形成条件とは無関係な設計補正ルール１０３ａ）を設計部門２において管理することができる。その結果、設計部門２および形成部門３の双方における設計上の制限事項（すなわち、設計補正ルール１０３ａおよび形成補正ルール１０３）を満足する補正済データ９３および最終データを適切に生成することができる。また、設計補正ルール１０３ａが基礎パターン部９１１と分離して記述されているため、設計部門２による補正の意図が形成部門３において容易に理解される。
As described above, in the data generation system according to the second embodiment, the
また、第２の実施の形態に係るデータ生成システムでは、第１の実施の形態に係るデータ生成システム１と同様に、基礎パターン部９１１に形成補正ルール部９１３が付加されたパターン形成用データ９１が自動的に生成される。パターン形成用データ９１では、基礎パターンとパターン形成時の補正ルールとを個別に明確化することができるため、パターンの設計効率を向上することができるとともにパターンの微細な変更を容易に行うことができる。
Further, in the data generation system according to the second embodiment,
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。 As mentioned above, although embodiment of this invention has been described, this invention is not limited to the said embodiment, A various change is possible.
例えば、パターン形成用データ９１、表示用データ９２および補正済データ９３は、ＳＧＭＬ（Standard Generalized Markup Language）やＨＴＭＬ（Hyper Text Markup Language ）等のマークアップ言語、あるいは、PostScript等のページ記述言語により記述されてもよく、また、その他の様々な記述言語により記述されてもよい。
For example, the
また、データの取り扱いの容易化の観点からは、パターン形成用データ９１、表示用データ９２および補正済データ９３の各部（例えば、パターン形成用データ９１の基礎パターン部９１１、ルール付加用インデックス９１２および補正ルール部９１３）は、同一の記述言語にて記述されていることが好ましいが、その内容に合わせて取り扱いが容易となる個別の記述言語や記述形式にて記述されてもよい。例えば、補正ルール部９１３がＸＭＬにて記述され、基礎パターン部９１１では、パターン要素の種類を示す識別子および名称がそれぞれ、バイナリおよびＡＳＣＩＩコードにて記述されてもよい。
Further, from the viewpoint of facilitating the handling of data, each part of the
データ生成システムでは、パターン形成用データ９１のデータ容量が大きくなってしまう場合（例えば、基礎パターン８に含まれるパターン要素が多い場合等）には、補正ルールの種類を示す識別子（すなわち、ｒｕｌｅＩｄ）のみが補正ルール部９１３，９１３ａまたは設計補正ルール部９１３ｂとしてパターン形成用データ９１に付加され、ｒｕｌｅＩｄに対応する補正ルールがデータベース３１４２，２１４２からメモリー上に順次呼び出されつつ基礎パターン部９１１に対する補正が行われてもよい。また、パターン形成用データ９１に付加される補正ルール１０３は、必ずしもデータベース３１４２から抽出されたものでなくてもよく、作業者により入力部３１６から直接入力されたものであってもよい。第２の実施の形態に係るデータ生成システムの基礎パターン生成装置２１において付加される設計補正ルール１０３ａについても同様である。
In the data generation system, when the data capacity of the
データ生成システムの形成用パターン生成装置３１において補正済パターンの確認が行われない場合には、図６．Ｂに示すステップＳ２５〜Ｓ２７の動作（表示用データの生成、パターン形状の表示、および、補正済パターンの確認）は省略されてよい。
In the case where the corrected pattern is not confirmed in the forming
データ生成システムでは、形成用パターン生成装置３１の形成データ生成部３３３に相当する機能は、通信網９上に設けられた他のデータ生成装置により実現されてもよい。この場合、形成部門３では、作業者が形成用パターン生成装置３１を端末として、通信網９を介して当該他のデータ生成装置にアクセスすることにより、補正済データ９３および最終データの生成を行う。また、形成用パターン生成装置３１の固定ディスク３１４に記憶されたデータベース３１４２の管理、更新等は形成部門３により行われる。
In the data generation system, the function corresponding to the formation
データ生成システムでは、課金情報を管理するサーバ２２は、設計部門２以外の場所に設置され管理されてもよい。また、設計部門２と形成部門３とが同一会社等であり課金管理が必要ない場合は、サーバ２２、および、形成用パターン生成装置３１の課金報告部３３５は省略されてよい。
In the data generation system, the
データ生成システムにおいて通信網９に接続された基礎パターン生成装置２１および形成用パターン生成装置３１により実現される機能は、単一のデータ生成装置により実現されてもよい。図２７は、上記データ生成装置の機能を他の構成と共に示すブロック図である。図２７では、図３に示すデータ生成システム１と同様の機能および構成には同符号を付す。
The functions realized by the basic
データ生成装置は、パターン形成用データ等を生成するデータ生成部１１３、および、固定ディスク３１４に記憶されるデータベース３１４２を管理するデータベース管理部３３４を有する。データ生成部１１３は、基礎パターン生成部２３３１、インデックス付加部３３３１、補正ルール付加部３３３２、補正済データ生成部３３３３、最終データ生成部３３３４および補正ルール変更部３３３５を有し、データベース管理部３３４は、データ更新部３３４１およびデータ抽出部３３４２を有する。
The data generation apparatus includes a
データ生成装置では、データ生成システム１と同様に、基礎パターンＣＡＤデータ９０（図８参照）がデータ受付部２３１により受け付けられ、データ生成部１１３およびデータベース管理部３３４により、ＸＭＬにて記述された基礎パターン部９１１、ルール付加用インデックス９１２および補正ルール部９１３を有するパターン形成用データ９１（図１３参照）が生成される。続いて、表示用データ９２（図１６参照）が生成されてデータ出力部３３２に送られ、表示制御部３３２１により制御されてデータ生成装置のディスプレイにパターン形状が表示される。そして、必要に応じて補正ルール部９１３が変更された後、基礎パターン部９１１が補正ルール部９１３の補正ルールに従って補正されて補正済データ９３（図１８参照）が生成され、さらに、補正済データ９３に基づいて最終データが生成される。
In the data generation device, the basic pattern CAD data 90 (see FIG. 8) is received by the
１ データ生成システム
８ 基礎パターン
８ａ 補正済パターン
８ｂ，８６ｂ 補正量
１０ データ要素
３１４ 固定ディスク
８１〜８３ 円
８４，８４ａ，８５，８５ａ 直線
８６，８６ａ 折れ線
９１ パターン形成用データ
９２ 表示用データ
９３ 補正済データ
１０２ キー情報
１０３ 補正ルール
３３２ データ出力部
３１４２ データベース
９１１ 基礎パターン部
９１３，９１３ａ 補正ルール部
１０２１ パターン形成条件
１０２２ 対象パターン要素
２３３１ 基礎パターン生成部
３３３２ 補正ルール付加部
３３３３ 補正済データ生成部
３３３５ 補正ルール変更部
Ｓ１１〜Ｓ１３，Ｓ２１〜Ｓ３６，Ｓ２２１〜Ｓ２２４，Ｓ２４１〜Ｓ２４３，Ｓ２７１ ステップ
1
102
Claims (8)
基板上に配置される複数のパターン要素である基礎パターンを示すデータを生成し、前記データを基礎パターン部として有するパターン形成用データを生成する基礎パターン生成手段と、
前記基礎パターンに含まれるパターン要素の種類またはパターン要素の組合せの種類に応じてパターンの形成処理において求められる補正ルールを示す補正ルール部を前記パターン形成用データに付加する補正ルール付加手段と、
を備えることを特徴とするパターン形成用データ生成装置。 A pattern forming data generating device for generating pattern forming data used when forming a geometric pattern on a substrate in the manufacture of a printed circuit board, a semiconductor substrate or a flat panel display device,
Basic pattern generation means for generating data indicating a basic pattern, which is a plurality of pattern elements arranged on a substrate, and generating data for pattern formation having the data as a basic pattern portion;
A correction rule adding means for adding a correction rule part indicating a correction rule obtained in a pattern forming process according to the type of pattern element or the type of combination of pattern elements included in the basic pattern to the pattern formation data;
A pattern forming data generating apparatus comprising:
前記補正ルール部が示す補正ルールを、前記基礎パターン部から独立して変更する補正ルール変更手段をさらに備えることを特徴とするパターン形成用データ生成装置。 The pattern generation data generation device according to claim 1,
A pattern forming data generating apparatus, further comprising: a correction rule changing unit that changes the correction rule indicated by the correction rule part independently of the basic pattern part.
前記補正ルール付加手段により、前記補正ルール部が前記パターン形成用データにおいて前記基礎パターン部から分離して記述されたブロックとして付加されることを特徴とするパターン形成用データ生成装置。 The data generation apparatus for pattern formation according to claim 1 or 2,
The pattern forming data generating apparatus, wherein the correction rule adding means adds the correction rule part as a block described separately from the basic pattern part in the pattern forming data.
パターン要素の種類またはパターン要素の組合せの種類およびパターンの形成条件を含むキー情報と補正ルールとを関連づけたデータ要素の集合であるデータベースを記憶する記憶部をさらに備え、
前記補正ルール付加手段が、前記基礎パターンが含むパターン要素の種類またはパターン要素の組合せの種類および予め設定されたパターン形成条件を含むキー情報に関連づけられた補正ルールを前記データベースから抽出し、前記パターン形成用データに付加することを特徴とするパターン形成用データ生成装置。 The pattern forming data generation device according to any one of claims 1 to 3,
A storage unit for storing a database that is a set of data elements in which key information including a pattern element type or pattern element combination type and pattern formation conditions is associated with a correction rule;
The correction rule adding means extracts, from the database, a correction rule associated with key information including a pattern element type or pattern element combination type included in the basic pattern and a preset pattern formation condition, and the pattern A pattern forming data generating apparatus characterized by adding to forming data.
前記基礎パターン部が示すパターン要素またはパターン要素の組合せのうち、前記補正ルール部が示す各補正ルールに対応するものを特定し、特定されたパターン要素またはパターン要素の組合せを前記各補正ルールに従って補正することにより、パターン形成用の補正済パターンのデータを生成する補正済データ生成手段をさらに備えることを特徴とするパターン形成用データ生成装置。 The pattern generation data generation device according to any one of claims 1 to 4,
Among the pattern elements or combinations of pattern elements indicated by the basic pattern portion, those corresponding to the respective correction rules indicated by the correction rule portion are specified, and the specified pattern elements or combinations of pattern elements are corrected according to the correction rules. A pattern formation data generation apparatus, further comprising: corrected data generation means for generating corrected pattern data for pattern formation.
前記基礎パターン部が示すパターン要素またはパターン要素の組合せのうち、前記補正ルール部が示す各補正ルールに対応するものを特定し、特定されたパターン要素またはパターン要素の組合せを前記各補正ルールに従って補正することにより、表示用の補正済パターンのデータを生成し、前記基礎パターンと前記補正済パターンとの相違、および、前記基礎パターンまたは前記補正済パターンを表示用に出力する出力部をさらに備えることを特徴とするパターン形成用データ生成装置。 The pattern forming data generation device according to any one of claims 1 to 5,
Among the pattern elements or combinations of pattern elements indicated by the basic pattern portion, those corresponding to the respective correction rules indicated by the correction rule portion are specified, and the specified pattern elements or combinations of pattern elements are corrected according to the correction rules. To generate a corrected pattern data for display, and further includes an output unit that outputs the difference between the basic pattern and the corrected pattern and the basic pattern or the corrected pattern for display. A data generation apparatus for pattern formation characterized by the above.
ａ） 基板上に配置される複数のパターン要素である基礎パターンを示すデータを生成し、前記データを基礎パターン部として有するパターン形成用データを生成する工程と、
ｂ） 前記基礎パターンに含まれるパターン要素の種類またはパターン要素の組合せの種類に応じてパターンの形成処理において求められる補正ルールを示す補正ルール部を前記パターン形成用データに付加する工程と、
を備えることを特徴とするパターン形成用データの生成方法。 A method of generating data for pattern formation used when forming a geometric pattern on a substrate in the manufacture of a printed circuit board, a semiconductor substrate or a flat panel display device,
a) generating data indicating a basic pattern, which is a plurality of pattern elements arranged on the substrate, and generating pattern formation data having the data as a basic pattern portion;
b) adding a correction rule part indicating a correction rule obtained in a pattern forming process according to the type of pattern element or the type of combination of pattern elements included in the basic pattern to the pattern formation data;
A method of generating pattern formation data, comprising:
前記ａ）工程と前記ｂ）工程との間において、パターン要素の種類またはパターン要素の組合せの種類およびパターンの形成条件を含むキー情報と補正ルールとを関連づけたデータ要素の集合であるデータベースから、前記基礎パターンが含むパターン要素の種類またはパターン要素の組合せの種類および予め設定されたパターン形成条件を含むキー情報に関連づけられた補正ルールを抽出する工程をさらに備えることを特徴とするパターン形成用データの生成方法。 The pattern forming data generation method according to claim 7,
From the database which is a set of data elements in which the key information including the pattern element type or pattern element combination type and pattern formation conditions and the correction rule are associated between the step a) and the step b), The pattern formation data further comprising a step of extracting a correction rule associated with key information including a type of pattern element or a combination of pattern elements included in the basic pattern and a preset pattern formation condition. Generation method.
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