JP2006161128A - ニッケルスラリー及びその製造方法並びに該ニッケルスラリーを用いたニッケルペースト又はニッケルインキ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 平均一次粒径が100nm以下のニッケル粒子と有機溶媒を含むことを特徴とするニッケルスラリー、並びにニッケル塩、ポリオール及び貴金属触媒を含む反応液を反応温度まで加熱し、該反応温度を維持しながら該反応液中のニッケルイオンを還元し、次いで有機溶媒で置換するニッケルスラリーの製造方法において、上記反応液にアミノ酸を添加することを特徴とするニッケルスラリーの製造方法。
【選択図】図2
Description
本発明に係るニッケルスラリーは、「ニッケル粒子を含むニッケルスラリーにおいて、当該ニッケルスラリーは、有機溶媒と平均一次粒径が100nm以下のニッケル粒子のみからなることを特徴とするニッケルスラリー」である。ここで、本件発明の特徴は、樹脂等の有機剤を全く用いることなく、加熱により揮散可能な有機溶媒と、ニッケル粒子のみで構成されたニッケルスラリーである。このニッケルスラリーは、ニッケルコロイドと異なり、静置しているとニッケル粒子が容易に沈降する性質を持つ。従って、保存したものを使用するときには、攪拌作業が必要となるが、ニッケルスラリーの溶液側に不必要に有機剤を含まないために、有機剤によるニッケル粒子の表面の汚染もなく、ニッケルペースト及びニッケルインクの原料として使用するときの樹脂成分の調整等も容易となる。
本発明に係るニッケルスラリーの製造方法は、「ニッケル塩、ポリオール及び貴金属触媒を含む反応液を反応温度まで加熱し、該反応温度を維持しながら該反応液中のニッケルイオンを還元し、次いで有機溶媒で置換するニッケルスラリーの製造方法において、上記反応液にアミノ酸を添加することを特徴とするニッケルスラリーの製造方法」である。
本発明に係るニッケルペースト又はニッケルインクは、上記ニッケルスラリーを用い、溶媒置換を行ったり、その他の公知の成分を加えて調製される。
L−アルギニンを添加しない以外は、実施例3と同様にしてニッケルスラリーを製造した。
000)に示す。実施例1と同様に、このニッケルスラリーにバインダーとしてのエチルセルロース及びターピネオールを添加し、厚さ15μmの乾燥膜を作成した。乾燥膜の膜密度を測定したところ、表1に示されるように3.8g/cm3であった。
実施例1で得られたニッケルスラリーをトルエンに置換して、さらに高分子分散剤としてソルスパース32550(アビシア社製)を21重量%加え、トルエンスラリーを作成した。従って、ニッケル粒子の平均一次粒径は37.86nmであり、実施例1のニッケル粒子の持つ粒度分布と同じである。
表1から明らかなように、実施例1及び実施例2は平均一次粒径が50nm以下のニッケル粒子を含むニッケルスラリーで、実施例3及び実施例4は平均一次粒径が50nm〜100nm以下のニッケル粒子を含むニッケルスラリーである。
Claims (11)
- ニッケル粒子と有機溶媒とからなるニッケルスラリーであって、当該ニッケル粒子は、その平均一次粒径が100nm以下であることを特徴とするニッケルスラリー。
- 上記ニッケル粒子の平均一次粒径が、10nm〜70nmである請求項1に記載のニッケルスラリー。
- ニッケル粒子の含有量が15重量%〜92重量%である請求項1又は請求項3に記載のニッケルスラリー。
- 上記ニッケル粒子の表面に0.5nm〜3nmの有機化合物層を有する請求項1〜請求項3のいずれかに記載のニッケルスラリー。
- ニッケル塩、ポリオール及び貴金属触媒を含む反応液を反応温度まで加熱し、該反応温度を維持しながら該反応液中のニッケルイオンを還元し、次いで有機溶媒で置換するニッケルスラリーの製造方法において、
上記反応液にアミノ酸を添加することを特徴とするニッケルスラリーの製造方法。 - 上記アミノ酸の添加量が、ニッケルに対して0.01重量%〜20重量%である請求項5に記載のニッケルスラリーの製造方法。
- 上記アミノ酸は、沸点又は分解点が上記反応温度以上であり、かつニッケル及び貴金属触媒とポリオール中で錯体を形成するものである請求項5又は請求項6に記載のニッケルスラリーの製造方法。
- 上記アミノ酸が、L−アルギニン及び/又はL−シスチンである請求項5〜請求項7のいずれかに記載のニッケルスラリーの製造方法。
- 上記反応液が分散剤を含む請求項5〜請求項8のいずれかに記載のニッケルスラリーの製造方法。
- 請求項1〜請求項4のいずれかに記載のニッケルスラリーを用いて得られるニッケルペースト。
- 請求項1〜請求項4のいずれかに記載のニッケルスラリーを用いて得られるニッケルインキ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004357140A JP4947509B2 (ja) | 2004-12-09 | 2004-12-09 | ニッケルスラリー及びその製造方法並びに該ニッケルスラリーを用いたニッケルペースト又はニッケルインキ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006161128A true JP2006161128A (ja) | 2006-06-22 |
JP4947509B2 JP4947509B2 (ja) | 2012-06-06 |
Family
ID=36663474
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004357140A Active JP4947509B2 (ja) | 2004-12-09 | 2004-12-09 | ニッケルスラリー及びその製造方法並びに該ニッケルスラリーを用いたニッケルペースト又はニッケルインキ |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP4947509B2 (ja) | 2012-06-06 |
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