JP2006156487A - リフロー炉窒素ガス消費量の低減化装置とその方法 - Google Patents
リフロー炉窒素ガス消費量の低減化装置とその方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006156487A JP2006156487A JP2004341008A JP2004341008A JP2006156487A JP 2006156487 A JP2006156487 A JP 2006156487A JP 2004341008 A JP2004341008 A JP 2004341008A JP 2004341008 A JP2004341008 A JP 2004341008A JP 2006156487 A JP2006156487 A JP 2006156487A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reflow furnace
- furnace
- nitrogen gas
- reflow
- circuit board
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Abstract
【解決手段】回路基板の上下から窒素ガスの熱風を吹き付けて半田溶融するリフロー炉内に、回路基板の搬送方向と同一または反対方向にわずかな量の窒素ガスを吹き出すことにより、炉内の窒素ガスの流動を制御して、リフロー炉の窒素ガス消費量を低減する。また炉内の窒素ガスの流動を制御することにより、炉内のフラックスの拡散を防ぎ、フラックス除去のための設備稼働コストも低減できる。
【選択図】図1
Description
以下、半導体基板の加熱装置をリフロー炉又は単に炉と呼ぶ。
図8に従来技術の窒素炉型リフロー炉の構造例を示す。このリフロー炉には複数のゾーンが設けられており、図左側の入口から5つが加熱ゾーン(すなわち予熱ゾーン117及びピーク加熱ゾーン123)、出口手前の1ゾーンが冷却ゾーン135となっている。この加熱ゾーン、冷却ゾーンの数はリフロー炉の種類によってそれぞれ異なる。
炉内にはレール間幅が可変な図示しない搬送レールが設けられており、この搬送レール上を複数の回路基板が、順次入口から出口に向かってチェーンコンベアによって炉内を搬送される。回路基板の大きさに応じて、可動レールが幅方向に移動し搬送レール間の幅が調整される。
リフロー炉の入口と出口には、図8に模式的に示されているラビリンスと呼ばれる空気流動防止装置が設けられている。ラビリンスはフィン状の複数の金属板からなり、この金属板の形状により空気の渦流を発生させて外気の侵入を防止している。
その後、半田を溶融させるピーク加熱ゾーン123(以下リフローゾーンと呼ぶ)で回路基板2は所定の温度まで昇温される。半田が溶融されたあと回路基板2は冷却ゾーン135で冷却される。
リフロー炉の入口と出口には、上述したようにラビリンスと呼ばれる空気流動防止装置が外気のリフロー炉内への侵入を防止している。しかし、搬送レール上を流れる回路基板が次々に入口から搬入されるために、外気の進入を完全に防ぐことは困難である。従って、一般に炉内の窒素ガスの圧力を外気圧より高くして、ラビリンス近傍でのガスの流れが炉内から炉外に向かうように設定されている。
図9は図8のX―X線に沿った断面図である。回路基板102は、搬送レール103上を紙面に直角、手前方向に搬送される。
モータ109で駆動される循環ファン108により、炉内窒素ガスが上方から吸引されて下方に吹き出される。この吸引の際、窒素ガスはヒータ110により加熱される。加熱された窒素ガスと赤外線ヒータ125により回路基板102が加熱される。
赤外線ヒータ125は、回路基板102の下方にも設けられており、回路基板下部も同時に加熱される。
回路基板を加熱した窒素ガスはヒータ110で加熱された後、循環ファン108により吸引されて再び下方に向かって吹き出される。図示しない封入口から新たな窒素ガスが供給され、炉内の窒素ガスの圧力が一定の値に保たれ、リフロー炉への外気の侵入を防いでいる。
従来の錫―鉛半田では融点が183℃であり、回路基板の耐熱温度限界が240℃であって、その差が約50℃だったものが、鉛フリー半田では、融点が220℃と高くなったにもかかわらず、回路基板の耐熱温度限界は同じく240℃である。従って許容温度差は20℃以下となる。従って、リフロー炉での回路基板を加熱する温度調整が、鉛フリー半田の採用によって更に厳しいものとなっている。
これを防止する為には窒素ガスの流量を増やし、炉内ガス圧力を増やす方法がある。しかし、この方法は窒素ガスの消費量の増加につながることになる。
そこで発明者等は様々な実験、研究を繰り返し、リフロー炉内の窒素ガスの流動を以下に述べる手段で抑止できることを発見した。
また、本舵取り機構により炉内の窒素ガスの流動が抑えられるために、炉の入口/出口でエアカーテン状に上下方向に窒素ガスを吹き出して外気の進入を防止する方法等に比べて、炉内で発生したフラックスの拡散を防止することも可能となることも判明した。フラックスの拡散を防止することにより、炉内装置に付着したフラックスの除去作業が減り、リフロー炉の稼動コストを下げることができる。
また本発明によりリフロー炉内の雰囲気ガスの流動を制御できるために、炉内のフラックスの拡散を防ぐことができる。これによりフラックスが炉内設備に広範に付着することを防止でき、フラックス除去のための設備稼働コストも合わせて低減できる。この効果は窒素型リフロー炉に限らず、大気の侵入を許す大気型リフロー炉でも同様に発揮できる。
(第1の実施の形態)
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る窒素型リフロー炉の全体構成を表す図である。図1左側に図示する炉の入側から、図示しない搬送ラインに搭載された複数の図示しない回路基板が図の右側の炉出側に向かって矢印Aの方向に搬送される。
入側、出側には上述したラビリンスと呼ばれる空気流動防止装置が設けられている。図1ではその構造が模式的に表されている。このラビリンスにより炉の入側、出側からの外気の侵入を防止している。しかし、搬送ライン上を回路基板が搬入されるために、完全に外気の進入を防止することはできないのは、上記背景技術の説明で説明したとおりである。
リフロー炉により、加熱ゾーン、冷却ゾーンの数は異なり、加熱ゾーン中の予熱ゾーン、リフローゾーンの数もそれぞれ異なる。
半田が溶融された回路基板は冷却ゾーンで冷却される。冷却された回路基板は炉の出側から搬出される。この出側にも入側と同様にラビリンスが設けられ、外気の侵入を防いでいる。
図2は、図1のB―B線に沿った断面図である。図中、1は炉の外郭構造(シェル)の断面を示す。シェルは図示しない断熱材で覆われている。外気と炉内窒素ガスとの熱交換を防ぐためである。
2は、回路基板である。搬送レール3aおよび3bにより、紙面と直角方向に手前に向かってチェーンコンベアによって移動する。
搬送レールは、固定搬送レール3aと可動搬送レール3bから構成されている。可動搬送レール3bは搬送する回路基板のサイズに従って、幅方向(図2の左右方向)に移動する構造となっている。
5はチャンバーである。回路基板2を加熱した後、循環ファン8によって吸収される窒素ガスと、ヒータ10で加熱された加熱用窒素ガスとを分離するために設けられた囲いである。
11は吹出パネルである。吹出パネルにはヒータ10により加熱された窒素ガスを吹き出す吹付ノズル6が多数設けられている。この吹付ノズル6から加熱された窒素ガスの噴流(E)が回路基板2に衝突することにより回路基板2が加熱される。上述したとおり、本衝突噴流式は熱伝達率が高く、加熱能力に優れているという利点を持つ。
12は、シール装置である。このシール装置12によってリフロー炉への外気の進入を防止している。
15は、本発明に係る吹出ノズルの配管である。本実施形態では上述したとおり炉の入口より炉の中央部に向かって配管され、所定のゾーンで先端に図示しない吹出ノズルが設けられている。
モータ9で駆動される循環ファン8により、炉内窒素ガスが下部より吸引され、図中符号Dで示すように循環ファン8の両側から吹き出される。また図示しない窒素ガス封入口より新たな窒素ガスが吹き込まれる。この新たに吹き込まれた窒素ガスと、循環ファン8から吹き出された窒素ガスは電熱ヒータ10により加熱される。
所定の温度に昇温された窒素ガスの流れDは吹付ノズル6から回路基板2に向かって吹き付けられる。Eがこのときの窒素ガスの流れを示す。
上述した窒素ガス吹付装置と同じ構造の装置が、回路基板の下部側にも設けられている。
図中、左側が炉の入口、右側が炉の出口である。入口出口には上述したラビリンスが設けられている。3aおよび3bは図示しない回路基板を入口から出口に向かって搬送する搬送レールである。内3aは固定搬送レールである。
3bは可動搬送レールである。回路基板のサイズに応じて、可動搬送レール3bは図3の上下方向に移動することにより搬送レール間幅が調整される。
図3aは、炉の入口から炉の中央に向かって吹出ノズル用配管15が設置されている例を示す。この例では1本の配管は固定搬送レール3aに沿って配管され、もう1本の配管は可動搬送レール3bに沿って配管されている。すなわち可動搬送レール3bが移動するとこの搬送レール3bに沿って配管された配管も炉内幅方向に移動し、配管の先に付設された吹出ノズルから吹き出される窒素ガスの吹き出し位置も変化する。
回路基板はリフロー炉内の搬送レール上を移動する。回路基板の移動に伴って、リフロー炉内の各ゾーンでは回路基板が存在する場合と存在しない場合がある。
図2で説明したように吹付ノズル6から吹き出される窒素ガスの流れEは、回路基板2がある場合には回路基板で反射されたあと上部吸引口7から吸い込まれ、回路基板がない場合にはそのまま進み、反対側の下部吸引口7に吸い込まれる。このように回路基板2の位置によって炉内の窒素ガスの流れが変化することから、炉内の窒素ガスの流動を抑える吹出ノズルも、搬送レール間幅の違いによって、窒素ガスを吹き出す場所を変化させる必要がある。
図3(a)は、リフロー炉の入口から炉の中央に向かって吹出ノズル用配管15が設置されている例を示している。同様の構成は、図3(b)に示すように炉の出口から中央に向かって配管することも可能である。
また、配管の先頭に取り付ける吹出ノズルをU字管状として、配管方向とは反対方向に窒素ガスを吹き出すようにすることも可能である。
図4(a)(b)は、配管と同一方向に窒素ガスを吹き出すための吹出ノズルである。炉内の窒素ガスの流動が炉の出側から入側に向かっているリフロー炉で、吹出ノズル用配管を炉の出口から炉の中央部に向かって設置するとき、又は流動が入側から出側に向かっているときに炉の入口から配管するときに有効である。
配管パイプのルートを炉の入口からとするか、出口からとするかは、配管パイプ内を窒素ガスが流れるとき、通過するゾーンによる予熱効果を得るためである。
図4(c)(d)に示すU字管状吹出ノズルは、配管方向と逆方向に窒素ガスを吹き出すときに有効である。炉の入口から炉の中央部に向かって配管15内を窒素ガスが流れ、予熱ゾーン、加熱ゾーンで配管内の窒素ガスが余熱され、リフローゾーンと冷却ゾーンの境で炉の入側に向かって、すなわち配管方向とは逆方向に窒素ガスを吹き出すときなどに適している。
図5(c)(d)(e)は、1つの配管に1つのノズルを設けるタイプである。回路基板のサイズに応じて炉内幅方向の窒素ガス吹出量を増減させ又は吹出方向を変更する場合に適している。
配管内に分岐弁を設けて、配管に付設された複数のノズル毎の窒素ガス吹出量、方向をそれぞれ変化させることも可能である。
以上の配管方法は、特に既設の炉に本発明を追加するときに有効な方法であるが、新設炉でも同じ配管構造にすることができる。
図6(b)は、新設リフロー炉で、あらかじめ複数ゾーン間に吹出ノズル装置を設ける場合の配管例である。
余熱ゾーン、リフローゾーン、冷却ゾーンの各境界に幅方向に3つのノズルをそれぞれ入側方向、出側方向に設けておき、炉内の窒素ガスの流動方向、回路基板のサイズに応じて、それぞれのノズルの吹出量を調節する。
以上説明した配管方法、ノズルの形状は例であり、炉の構造、回路基板のサイズ等により様々な吹出ノズルの適用が考えられる。
従来技術として、リフロー炉の入口又は出口から窒素ガスを吹き込み、リフロー炉内の窒素ガスの流動を防止する様々な方法がある。しかし、上述したように各ゾーンで上下方向に強力な窒素ガスの流れが生じている近年主流のリフロー炉では、入口または出口から吹き込まれた窒素ガスは、各ゾーンにおいて上下方向の窒素ガスの流れがいわゆる複数のエアカーテンの役目を果たし、炉の中央部における窒素ガスの流動を制御することはできなかった。
本発明の第2の実施形態は、炉内複数箇所に温度測定装置(図2の符号16)、例えば熱電対を設置して各ゾーンでの炉内温度を測定する。この炉内温度変化に応じて吹出ノズルからの窒素ガスの吹出方向、吹出し量を制御するリフロー炉である。
図7に示すリフロー炉では、4つの予熱ゾーン、3つのリフローゾーンそして2つの冷却ゾーンがそれぞれ設けられている。
炉入口での外気温はTaである。4つの予熱ゾーンで順次炉内温度は上昇する。リフローゾーンで更に加熱され、回路基板の表面がクリーム半田の融点Tbを越えるまで昇温される。リフローゾーンで半田の溶融が行われた後、2つの冷却ゾーンで炉内温度は低下する。
逆に炉の出口から入口に向かって窒素ガスの流動が発生しているときは図7(c)の点線が示す温度分布となる。
1.定期的に炉内複数ゾーンでの炉内温度を測定する。炉内温度測定は例えば熱電対により測定する。各ゾーンに温度計を設置してもよいが、特に予熱ゾーンとリフローゾーンの境界、リフローゾーンと冷却ゾーンの境界での温度変化が大切である。
2.炉内温度が一定値以上に変化したとき、各炉内温度の変化から窒素ガスが炉の入側に向かって流動しているのか、又は出側に向かって流動しているのかを判断する。予熱ゾーンとリフローゾーンとの境界の温度が下がり、リフローゾーンと冷却ゾーンの境界での温度が上がっているときには、炉内に入側から出側に向かっての窒素ガスの流動が発生していることが検出できる。3つあるリフローゾーンの中でもそれぞれの温度変化をもとにゾーン間の窒素ガスの流動を検出できる。
3.吹出ノズルから、炉内窒素ガスの流動方向と反対方向に微量の窒素ガスを吹き出す。
4.以降、上記各位置での炉内温度変化から流動が止まったことが検出できれば、吹出ノズルからの窒素ガス吹き出しを停止する。更に細かく、吹出ノズルからの窒素流出量を制御する方法もある。
発明者等が行った実験結果を図10に示す。図10は、実際に窒素型リフロー炉を用いて、本願発明に係る舵取り機構の効果を確認した結果である。
本実験に使用した窒素型リフロー炉は12の加熱ゾーン、2の冷却ゾーンを有する、回路基板の上部、下部共に熱風で加熱するタイプのリフロー炉である。
本実験において、炉の出側から炉の中央部に向かって配設した配管の先に炉の入口に向かって窒素ガスを吹き出す吹出ノズルを設けた。この配管は可動搬送レール(図3の符号3b)に沿った形で設置して、搬送レール間幅の変動に対応して窒素ガスを吹き出す位置が変わるようにしたものである。
回路基板のサイズにより、すなわち搬送レール間幅の変動によりどのように炉内酸素濃度が変化するか測定した。
窒素供給元圧0.5MPa、熱風周波数35Hzで窒素流出量を変化させながらその効果を炉内酸素濃度で観測した。その結果、図10に示す結果を得た。
結果は、いずれの搬送レール幅でも炉内酸素濃度は1000ppm以上であった。具体的な数値は省略している。ちなみに外気の酸素濃度は20万ppmである。
この場合、各搬送レール幅での炉内酸素濃度は、搬送レール間幅100、150、250mmにおいて、それぞれ炉内酸素濃度の安定値は150、225、215ppmであった(図10参照)。多少のばらつきはあるものの、概ねその値は150ppmから225ppmであった。
炉内窒素流量が同じく200L/分であったときに比べて、吹出ノズルを使用したことにより、1000ppm以上であった炉内酸素濃度が200ppm前後まで下がったことを示している。窒素ガスが吹出ノズルから炉の入側方向に吹き出されたことにより、炉内を入側から出側に向かって流れていた窒素ガスの流動が抑制され、それに伴って炉入口からの外気侵入が防止できて、炉内の低い酸素濃度を実現できたことを示している。
すなわち、各ゾーンでの新たな窒素吹込量を増やし、リフロー炉内の窒素ガスの圧力を高めることにより外気の侵入を防ぎ、それにともなって炉内の酸素濃度が低下する。
実験の結果、トータル窒素流量を250L/分に増やしたときに、搬送レール間幅100、150、250mmにおいて、それぞれ炉内酸素濃度の安定値は127、214、215ppmであった。多少のばらつきはあるものの、概ねその値は150ppmから225ppmであり(図10参照)、上記とほぼ同等の炉内酸素濃度を得ることができた。
すなわち、本発明の吹出ノズルを使用することにより同等の炉内酸素濃度を得るための窒素流量を250L/分から200L/分に軽減できることが判明した。
2:回路基板
3:搬送装置
3a:固定搬送レール
3b:可動搬送レール
4:リフロー炉チャンバー
5:チャンバー
6:吹付ノズル
7:吸込口
8:循環ファン
9:ファンモータ
10:ヒータ
11:吹出パネル
12:シール装置
15:吹出ノズル
16:温度測定器
23:ピーク加熱ゾーン
25:赤外線ヒータ
29:熱風循環器
102:回路基板
103:搬送装置
109:ファンモータ
110:電熱ヒータ
117:予熱ゾーン
119:中間加熱ゾーン
123:ピーク加熱ゾーン
125:赤外線パネルヒータ
129:熱風循環器
135:冷却ゾーン
Claims (13)
- 搬送装置によって搬送される回路基板を加熱するリフロー炉であって、
雰囲気ガスを循環させる循環ファンと、
当該雰囲気ガスを加熱するヒータと、
当該ヒータによって加熱された前記雰囲気ガスを前記回路基板に吹き付ける吹付ノズルと、
前記リフロー炉内の前記雰囲気ガスを吸引する吸込口と、
前記回路基板の搬送方向と同一又は逆方向に、前記雰囲気ガスを吹き出す舵取り機構を、
備えることを特徴とするリフロー炉窒素ガス消費量の低減化装置。 - 前記雰囲気ガスが窒素等の不活性ガスであって、前記リフロー炉内に当該不活性ガスが充填されることを特徴とする請求項1に記載のリフロー炉窒素ガス消費量の低減化装置。
- 前記舵取り機構が、前記リフロー炉内の予熱ゾーン、加熱ゾーン又は冷却ゾーン内の1又は複数箇所に配設された、少なくとも1つの吹出ノズルからなる請求項1又は2に記載のリフロー炉窒素ガス消費量の低減化装置。
- 前記リフロー炉入側又は出側から当該リフロー炉の中央部に向かって配設された1又は複数の配管に、少なくとも1つの前記吹出ノズルが付設されていることを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1つに記載のリフロー炉窒素ガス消費量の低減化装置。
- 前記配管が、前記リフロー炉の可動搬送レール及び/又は固定搬送レールに沿って配設されていることを特徴とする請求項4に記載のリフロー炉窒素ガス消費量の低減化装置。
- 前記吹出ノズルが、U字型形状であって前記配管が前記リフロー炉入側又は出側から前記リフロー炉中央部に向かう方向と逆方向に雰囲気ガスを吹き出す前記吹出ノズルであることを特徴とする請求項3乃至5のうちいずれか1つに記載のリフロー炉窒素ガス消費量の低減化装置。
- 前記リフロー炉に、更に当該リフロー炉内の温度測定器が1又は複数個配設され、当該温度測定器の前記リフロー炉内の測定温度変化により前記舵取り機構の前記雰囲気ガス吹出方向及び吹出量を制御する装置からなる、請求項1乃至6のうちいずれか1つに記載のリフロー炉窒素ガス消費量の低減化装置。
- 搬送装置によって搬送される回路基板を加熱するリフロー炉であって、
雰囲気ガスを循環ファンにより循環させ、
当該雰囲気ガスをヒータにより加熱し、
当該ヒータによって加熱された前記雰囲気ガスを前記回路基板に吹付ノズルから吹き付け、
前記リフロー炉内の前記雰囲気ガスを吸込口から吸引し、
前記回路基板の搬送方向と同一又は逆方向に、舵取り機構により前記雰囲気ガスの吹出方向及び吹出量を変化させることにより前記リフロー炉内の前記雰囲気ガスの流動を制御することを特徴とするリフロー炉窒素ガス消費量の低減方法。 - 請求項8に記載の加熱方法に更に、
前記リフロー炉内に1又は複数個配設された当該リフロー炉内の温度測定器からの前記リフロー炉内の温度変化を基に、前記雰囲気ガスの流動方向を検出し、これを打ち消す方向に前記舵取り機構の前記雰囲気ガス吹出方向及び吹出量を制御することにより、前記リフロー炉内の前記雰囲気ガスの流動を制御することを特徴とするリフロー炉窒素ガス消費量の低減方法。 - 前記舵取り機構が、前記リフロー炉内の予熱ゾーン、加熱ゾーン又は冷却ゾーン内の1又は複数箇所に配設された、少なくとも1つの吹出ノズルからなることを特徴とする、請求項8および9のうちいずれか1つに記載のリフロー炉窒素ガス消費量の低減方法。
- 前記吹出ノズルが、前記リフロー炉入側又は出側から当該リフロー炉の中央部に向かって配設された1又は複数の配管に、少なくとも1つの前記吹出ノズルが付設されていることを特徴とする請求項8乃至10のうちいずれか1つに記載のリフロー炉窒素ガス消費量の低減方法。
- 前記配管が、前記リフロー炉の可動搬送レール及び/又は固定搬送レールに沿って配設されていることを特徴とする請求項8乃至11のうちいずれか1つに記載のリフロー炉窒素ガス消費量の低減方法。
- 前記吹出ノズルが、U字型形状であって前記配管が前記リフロー炉入側又は出側から前記リフロー炉中央部に向かう方向と逆方向に雰囲気ガスを吹き出すことを可能とする前記吹出ノズルであることを特徴とする請求項8乃至12のうちいずれか1つに記載のリフロー炉窒素ガス消費量の低減方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004341008A JP2006156487A (ja) | 2004-11-25 | 2004-11-25 | リフロー炉窒素ガス消費量の低減化装置とその方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004341008A JP2006156487A (ja) | 2004-11-25 | 2004-11-25 | リフロー炉窒素ガス消費量の低減化装置とその方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006156487A true JP2006156487A (ja) | 2006-06-15 |
Family
ID=36634411
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004341008A Pending JP2006156487A (ja) | 2004-11-25 | 2004-11-25 | リフロー炉窒素ガス消費量の低減化装置とその方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006156487A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008128568A (ja) * | 2006-11-21 | 2008-06-05 | Ulvac Japan Ltd | イナートガスオーブン |
CN107838516A (zh) * | 2017-12-29 | 2018-03-27 | 山东才聚电子科技有限公司 | 一种真空焊接炉的焊接机构 |
CN108668462A (zh) * | 2017-03-27 | 2018-10-16 | 株式会社田村制作所 | 回流焊装置 |
CN112077411A (zh) * | 2019-06-15 | 2020-12-15 | 王定锋 | 一种带冷气的回流焊炉 |
JP2021522675A (ja) * | 2018-04-20 | 2021-08-30 | イリノイ トゥール ワークス インコーポレイティド | リフロー炉及びその運転方法 |
CN114269085A (zh) * | 2022-01-11 | 2022-04-01 | 苏州易启康电子科技有限公司 | 一种集成电路板回流焊接载具及其工艺 |
CN114682199A (zh) * | 2022-04-07 | 2022-07-01 | 九江市钒宇新材料股份有限公司 | 一种用于管道钢的钒氮合金制备装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0577036A (ja) * | 1991-09-13 | 1993-03-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | チツソリフロー装置 |
JPH0629658A (ja) * | 1992-07-13 | 1994-02-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 加熱装置 |
JPH06292964A (ja) * | 1992-07-22 | 1994-10-21 | A Tec Tekutoron Kk | 自動半田付け装置 |
JP2001308512A (ja) * | 2000-04-27 | 2001-11-02 | Furukawa Electric Co Ltd:The | リフロー炉 |
-
2004
- 2004-11-25 JP JP2004341008A patent/JP2006156487A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0577036A (ja) * | 1991-09-13 | 1993-03-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | チツソリフロー装置 |
JPH0629658A (ja) * | 1992-07-13 | 1994-02-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 加熱装置 |
JPH06292964A (ja) * | 1992-07-22 | 1994-10-21 | A Tec Tekutoron Kk | 自動半田付け装置 |
JP2001308512A (ja) * | 2000-04-27 | 2001-11-02 | Furukawa Electric Co Ltd:The | リフロー炉 |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008128568A (ja) * | 2006-11-21 | 2008-06-05 | Ulvac Japan Ltd | イナートガスオーブン |
CN108668462A (zh) * | 2017-03-27 | 2018-10-16 | 株式会社田村制作所 | 回流焊装置 |
JP2018162932A (ja) * | 2017-03-27 | 2018-10-18 | 株式会社タムラ製作所 | リフロー装置 |
JP6998666B2 (ja) | 2017-03-27 | 2022-02-04 | 株式会社タムラ製作所 | リフロー装置 |
CN107838516A (zh) * | 2017-12-29 | 2018-03-27 | 山东才聚电子科技有限公司 | 一种真空焊接炉的焊接机构 |
CN107838516B (zh) * | 2017-12-29 | 2023-10-03 | 山东才聚电子科技有限公司 | 一种真空焊接炉的焊接机构 |
JP2021522675A (ja) * | 2018-04-20 | 2021-08-30 | イリノイ トゥール ワークス インコーポレイティド | リフロー炉及びその運転方法 |
JP7286673B2 (ja) | 2018-04-20 | 2023-06-05 | イリノイ トゥール ワークス インコーポレイティド | リフロー炉及びその運転方法 |
CN112077411A (zh) * | 2019-06-15 | 2020-12-15 | 王定锋 | 一种带冷气的回流焊炉 |
CN114269085A (zh) * | 2022-01-11 | 2022-04-01 | 苏州易启康电子科技有限公司 | 一种集成电路板回流焊接载具及其工艺 |
CN114682199A (zh) * | 2022-04-07 | 2022-07-01 | 九江市钒宇新材料股份有限公司 | 一种用于管道钢的钒氮合金制备装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4319647B2 (ja) | リフロー炉 | |
JP4319646B2 (ja) | リフロー炉 | |
JPH0739483Y2 (ja) | リフロー炉 | |
JP2007067061A (ja) | フラックス回収装置 | |
JP5463129B2 (ja) | リフロー装置 | |
JP2006156487A (ja) | リフロー炉窒素ガス消費量の低減化装置とその方法 | |
JP2018069290A (ja) | リフロー装置 | |
US7048173B2 (en) | Wave soldering method using lead-free solder, apparatus therefor, and wave-soldered assembly | |
JP2005079466A (ja) | 冷却機構を備えたリフロー装置及び該リフロー装置を用いたリフロー炉 | |
JP3179833B2 (ja) | リフロー装置 | |
JP4092258B2 (ja) | リフロー炉およびリフロー炉の温度制御方法 | |
JP3404768B2 (ja) | リフロー装置 | |
JP2005175286A (ja) | 回路基板の加熱装置、加熱方法及び該加熱装置を備えたリフロー炉 | |
JP4368672B2 (ja) | 回路基板の加熱装置と加熱方法及び該加熱装置を備えたリフロー炉 | |
JPH0753807Y2 (ja) | リフロー炉 | |
JP2004214553A (ja) | リフロー炉 | |
JP3495207B2 (ja) | リフローはんだ付け装置 | |
JPH06188556A (ja) | リフロー装置 | |
JPH0738252A (ja) | リフロー炉およびそれに使用する熱風吹出型ヒータ | |
JP4404250B2 (ja) | 回路基板の加熱装置と加熱方法及び該加熱装置を備えたリフロー炉 | |
JP2847020B2 (ja) | リフローはんだ付け装置 | |
JP2013251332A (ja) | リフロー半田付け装置の外部冷却室およびリフロー半田付け設備 | |
JPH1117327A (ja) | リフローはんだ付け装置 | |
JP2000340938A (ja) | はんだ付け方法およびはんだ付け装置 | |
JPH07231160A (ja) | リフローはんだ付け装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20070316 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20070419 |
|
A625 | Written request for application examination (by other person) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A625 Effective date: 20071030 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20081014 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20090616 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091211 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091222 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100511 |