JP2006131984A - 成膜装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 マスク1が積層される基板2と、この基板2上に前記マスク1を介して成膜材料を付着させることで所望のパターンの薄膜を成膜する材料蒸発源3とが設けられる真空槽4を有する成膜装置であって、前記基板2に積層されるマスク1若しくは真空槽4内部にイオンビームを照射することで、このマスク1若しくは真空槽4内部に付着した有機物若しくは無機物を除去するイオンビーム源5を備え、前記真空槽4を大気開放することなくマスク1若しくは真空槽4内部にイオンビームを照射し得るように構成したものである。
【選択図】 図1
Description
2 基板
3 材料蒸発源
4 真空槽
5 イオンビーム源
Claims (5)
- マスクが積層される基板と、この基板上に前記マスクを介して成膜材料を付着させることで所望のパターンの薄膜を成膜する材料蒸発源とが設けられる真空槽を有する成膜装置であって、前記基板に積層されるマスク若しくは真空槽内部にイオンビームを照射することで、このマスク若しくは真空槽内部に付着した有機物若しくは無機物を除去するイオンビーム源を備え、前記真空槽を大気開放することなくマスク若しくは真空槽内部にイオンビームを照射し得るように構成したことを特徴とする成膜装置。
- 前記イオンビーム源を、前記基板と材料蒸発源とを設けた真空槽内若しくはこの真空槽とは別個に設けた真空槽内に設けたことを特徴とする請求項1記載の成膜装置。
- 前記イオンビーム源は、前記材料蒸発源による一回の成膜毎若しくは複数回の成膜毎に、マスク若しくは真空槽内部にイオンビームを照射し得るように構成したことを特徴とする請求項1,2のいずれか1項に記載の成膜装置。
- 前記イオンビーム源は、材料蒸発源から放出される成膜材料が付着する部位の略全域にイオンビームを照射し得る位置に設けられることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の成膜装置。
- 前記有機物は、有機EL素子を構成する低分子材料,高分子材料,保護膜若しくは封止膜材料であり、無機物は、有機EL素子を構成するアルカリ金属,電極膜材料,保護膜,封止膜材料若しくは水分捕獲膜であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の成膜装置。
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