JP2006130469A - 液滴吐出方法、電気光学装置の製造方法及び電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】 描画対象領域に合わせて液滴の着弾位置を補正し、製品設計上の制約なく、均一な描画対象領域の形成を行う。
【解決手段】 基板上の複数の描画対象領域Ｇに、吐出ヘッドを走査させながら一定の吐出間隔ｄ１にて液滴Ｌを吐出する際に、複数の描画対象領域ＧのピッチＰが吐出間隔ｄ１の整数倍でない場合に、各描画対象領域Ｇにおける液滴Ｌの着弾位置を揃えるように吐出間隔ｄ１の少なくとも一箇所を変更する。
【選択図】 図４

Description

本発明は、 本発明は、液滴吐出方法、電気光学装置の製造方法及び電子機器に関するものである。

インクジェットヘッドなどから液滴を基板上に吐出して、その基板に薄膜を形成する液滴吐出方式による電気光学装置の製造が考え出されている。電気光学装置としては、液晶装置、有機エレクトロルミネッセンス装置（以下有機ＥＬ（Electronic Luminescent）装置という）、プラズマディスプレイ装置などの表示装置がある。また、近年では、このような電気光学装置をなす基板が大型化されており、かかる大型基板について液滴吐出方式により高精細及び高精度に薄膜を描画（パターニング）することが要求されている。
このような液滴吐出方式としては、インクジェットヘッドを基板に対して相対的に走査させさながら基板にインクを吐出し、さらに、吐出したインクの着弾位置を検出し、検出したインクの着弾位置とインクの理想着弾位置とのずれ量が所定の範囲となるような吐出タイミングでインクジェットヘッドからインクを基板上に吐出する方式がある。
特開２００１−１０８８２０号公報

ところで、上記吐出方式では、インクの着弾位置とインクの理想着弾位置とのずれ量が所定の範囲となる吐出タイミングを用いて描画を高精度にしている。しかし、一定ピッチでインクを吐出しているため、描画対象領域のピッチが描画分解能の整数倍でないと、描画対象領域毎にインクの着弾位置が異なってしまう。特に、生産性を高めるべく描画分解能を粗くすると、着弾位置のばらつきが大きくなり、均一な描画対象領域の形成が困難になってしまう。また、均一な描画を形成すべく、描画対象のピッチを描画分解能の整数倍にすると、製品設計上制約が大きくなってしまうという問題がある。

本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、描画対象領域に合わせて液滴の着弾位置を補正し、製品設計上の制約なく、均一な描画対象領域の形成を行うことが可能な液滴吐出方法、電気光学装置の製造方法及び電子機器を提供することを目的としている。

本発明に係る液滴吐出方法、電気光学装置の製造方法及び電子機器では、上記課題を解決するために以下の手段を採用した。
本発明の液滴吐出方法は、基板上の複数の描画対象領域に、吐出ヘッドを走査させながら一定の吐出間隔にて液滴を吐出する際に、前記複数の描画対象領域のピッチが前記吐出間隔の整数倍でない場合に、前記各描画対象領域における前記液滴の着弾位置を揃えるように前記吐出間隔の少なくとも一箇所を変更することを特徴とする。
本発明によれば、描画対象のピッチが吐出間隔の整数倍でないために、描画対象毎に液滴の着弾位置が異なる場合に、吐出間隔の少なくとも一箇所を変更して各描画対象における着弾位置を揃えるので、各描画対象にて均一な描画精度を得ることができる。つまり、描画対象に合わせて液滴の着弾位置を補正して各描画対象における着弾位置を揃えることにより、各描画対象における着弾のばらつきを防止することができ、製品設計上の制約なく、均一な描画対象の形成を行うことができる。

また、本発明の液滴吐出方法は、前記基板と前記吐出ヘッドの相対的な移動量に応じたエンコーダパルスを分周して生成されるラッチ信号に基づいて、前記吐出間隔を求めるものでは、エンコーダからのエンコーダパルスを分周して生成されるラッチ信号に基づいて吐出間隔を容易に求めることができるので、その吐出間隔の変更を容易に行うことができる。

本発明の電気光学装置の製造方法は、前記液滴吐出方法によって前記複数の描画対象領域に液滴を吐出して製造することを特徴とする。
本発明によれば、前記液滴吐出方法によって基板に高精度に描画パターンを形成して、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ装置、液晶装置などの電気光学装置を製造することができる。したがって、本発明によれば、大きな画面の全体について、高精細で高品質な画像を表示することができる電気光学装置を安価に提供することができる。例えば、有機ＥＬ装置の構成要素となる発光材料および正孔輸送材料などを高精細な画素パターンをなすように塗布することができる。

本発明の電子機器は、前記電気光学装置の製造方法によって製造された電気光学装置を備えたことを特徴とする。
本発明によれば、高精細で高品質な画像を表示できる電子機器を安価に提供することができる。特に本発明は、高品位な画像を表示できる電子機器を安価に提供することができる。

以下、本発明の液滴吐出方法、電気光学装置の製造方法及び電子機器の実施形態について図を参照して説明する。

（液滴吐出装置）
図１は、液滴吐出装置の構成を示す斜視図である。
この液滴吐出装置は、本発明の実施形態に係る液滴吐出方法を用いて液滴Ｌを吐出するものである。液滴吐出装置１は、制御装置２と、吐出ヘッド群３と、ステージ４と、を主な構成要素として備えている。液滴吐出装置１は、制御装置２が吐出ヘッド群３及びステージ４の動作を制御することによって、ステージ４に載置された基板５に液滴Ｌを吐出し、当該基板５上に所定のパターンを形成するものである。

そして、制御装置２は、本発明に係る制御手段をなすものであり、本発明に係る液滴吐出方法を用いて吐出ヘッド群３を制御して、液滴Ｌを吐出するタイミングを制御するものである。また、吐出ヘッド群３にはカメラ３ｂが固着されている。このカメラ３ｂは、ステージ４に載置される基板５のアライメントに用いられる位置補正用のカメラであり、その基板５に設けられたアライメントマークについて認識することができる。なお、以下の説明においては、吐出ヘッド群３の配置方向をＸ方向とし、また、基板５の搬送方向をＹ方向とし、また、ＸＹ平面内における面内回転方向をθ方向とする。

吐出ヘッド群３は、１列に配列した複数の吐出ヘッド３ａから構成されており、基台６から立設する支柱７、７間にステージ４を跨ぐようにＸ方向に架設されたＸ方向軸８に移動可能に設けられている。吐出ヘッド群３に固着されているカメラ３ｂは吐出ヘッド群３とともに移動する。当該吐出ヘッド群３を構成する各吐出ヘッド３ａには、液滴Ｌを吐出するノズルが基板５に向かって多数穿設されている（例えば、１８０個のノズルが一列に穿設されている。）。

吐出ヘッド３ａは、液滴Ｌを貯留するキャビティと、当該キャビティに連通するノズルと、当該キャビティ内に貯留された液状体をノズルから液滴Ｌとして吐出する液滴吐出手段とを有した構成となっている。ここで、液滴吐出手段とは、圧電素子（ピエゾ素子）を意味しており、吐出ヘッド３ａの壁面に設けられている。このように構成された吐出ヘッド３ａにおいては、圧電素子に所望の電圧波形を供給することによって、吐出ヘッド３ａの壁面が変形し、キャビティ内の容積が変化し、ノズルから所定量の液滴Ｌが吐出される。ここで、圧電素子に供給される電圧波形は、後述する液滴吐出データに基づいて生成されるものである。

なお、吐出ヘッド３ａの液滴吐出手段としては、上記の圧電素子を用いた電気機械変換体以外でもよく、例えば、エネルギ発生素子として電気熱変換体を用いた方式や、帯電制御型、加圧振動型といった連続方式、静電吸引方式さらにはレーザーなどの電磁波を照射して発熱させ、この発熱による作用で液状体を吐出させる方式を採用することもできる。

また、上記の吐出ヘッド群３は、１列に配列した複数の吐出ヘッド３ａから構成されたものであるが、これに限定されるものではない。例えば、各吐出ヘッド３ａのノズルの穿設間隔（ピッチ）に対して、Ｘ方向に１／２ピッチずらした吐出ヘッド３ａを２列配置してもよい。このように吐出ヘッド３ａを多数配列した場合には、ノズルの穿設間隔よりも小さい間隔で液滴Ｌの吐出が可能となる。また、吐出ヘッド３ａをＸ方向に対して所定の角度で傾かせて配置してもよい。この場合でも、ノズルの穿設間隔よりも小さい間隔で液滴Ｌの吐出が可能となる。

ステージ４は、基板５を位置決めして載置するピン（図示せず）などを備える載置部４ａと、当該載置部４ａをＸＹ平面上で面内回転可能に連結されたベース部４ｂとによって構成されたものである。また、ベース部４ｂには、エンコーダ４ｃが設けられている。このエンコーダ４ｃは、基台６のＹ方向に沿って設けられたリニアスケール１５のスケールを読み取るものであって、これによってＹ方向のステージ４の位置を検出することが可能となる。リニアスケール１５のスケールは、メートル系単位で設けられていても、ＤＰＩ系単位で設けられていてもよい。

さらに、ステージ４は、Ｘ方向と直交するように敷設してあるＹ方向軸９に沿って移動可能に構成されている。ステージ４をＹ方向に移動させる搬送機構としては、Ｙ方向軸９上に配列した永久磁石１０と、ステージ４のベース部４ｂの下側に固設したプレート１１にＹ方向に沿って、かつ、永久磁石１０に近接させて配列した複数のコイル（図示せず）とから構成されるリニアモータがあげられる。

基板５は、本実施形態でパターンが形成される対象物である。基板５の材料としてはガラスなどの透明基板が用いられるが、透明性を要求しない場合には金属板などを採用してもよい。また、当該基板５のサイズは、縦横がそれぞれ１ｍを超えるものとしてもよい。
また、基板５上に形成されるパターンとしては、ＲＧＢ色を有するカラーフィルターによって形成される画素パターンや、ＴＦＴ回路を形成する場合の金属配線等が挙げられる。
例えば、基板５によって有機ＥＬ装置を構成する場合、発光材料又は正孔輸送材料などからなる画素パターンを本液滴吐出装置１で形成することとしてもよい。

制御装置２は、上述の液滴吐出装置１の各構成要素に電気的に接続されたものであり、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＲＯＭ、ＲＡＭ、入出力用のインターフェース、発振回路等がバス接続された所謂コンピュータである。このような制御装置２は、予め入力されたプログラムに応じて液滴吐出装置１を統括して制御するようになっている。

次に、制御装置２の詳細な構成について図２を参照して説明する。図２は、制御装置２の機能を説明するためのブロック図である。
制御装置２は、液滴吐出データ設定値入力部（第１の入力手段）２０と、吐出ヘッド設定値入力部（第２の入力手段）２２と、ＣＡＤデータ操作部（ＣＡＤデータ作成手段）２４と、ビットマップデータ作成部（ビットマップデータ作成手段）２６と、ビットマップ処理部２８と、液滴吐出データ作成部（作成手段）３０と、液滴吐出データ転送部（転送手段）３２と、スイッチ群３４と、ヘッド駆動部３８と、ヘッド駆動制御部４０と、ヘッド位置検出部４２と、液滴吐出タイミング制御部４４と、を有している。ここで、液滴吐出タイミング制御部４４は、液滴Ｌを吐出するタイミングについての変更を行うものである。

液滴吐出データ設定値入力部２０は、基板５の寸法と、基板５を複数のチップ（領域）として切り出すためのチップの寸法と、隣接するチップのピッチ（相互間隔）と、画素（パターン）の配列と、画素の個数と、画素の寸法（画素の縦、横のサイズ）と、隣接する画素のピッチ（相互間隔）と、を設定する機能を有している。吐出ヘッド設定値入力部２２は、画素を形成するために必要な液滴量と、画素を形成するために必要な吐出ヘッド群３と基板５とのパス数（相対移動動作の回数）と、使用する上記の吐出ヘッド群３の吐出ヘッド３ａの個数、及び吐出ヘッド３ａの配置を設定する機能を有している。

ＣＡＤデータ操作部２４は、基板５に形成すべきパターンの設計図となるＣＡＤデータを生成する機能を有し、図形情報（ベクトルデータ、図形の属性等のデータ）を入力するための入力手段と、図形処理機能を有するワークステーション等から構成されている。ここでＣＡＤデータは、ＤＰＩ系の単位で生成してもよく、メートル系の単位で生成してもよい。
ビットマップデータ作成部２６は、ＣＡＤデータから要求される分解能のビットマップデータに変換する機能を有している。また、ビットマップ処理部２８は、ビットマップデータ作成部２６により作成されたビットマップデータを吐出ヘッド３ａの個数、配置、あるいは液滴Ｌの基板５への着弾径を考慮した回路パターンの細線化の要求に応じて変更する処理を行う。

液滴吐出データ作成部３０は、所望のパターンサイズとなるように液滴Ｌが着弾した際の着弾径を考慮し、液滴吐出データ（バイナリの時系列データ）を作成するものである。ここで、当該液滴吐出データは、吐出ヘッド群３の各ノズルに対応して設けられた各液滴吐出手段の数に対応するドット数の記録データを含んでいる。

液滴吐出データ転送部３２は、液滴吐出データ作成部３０から出力される液滴吐出データを吐出ヘッド群３の液滴吐出手段に転送する機能を有する。スイッチ群３４は、液滴吐出データ転送部３２と吐出ヘッド群３との間に設けられ、吐出ヘッド群３に含まれる複数の各駆動部に１対１に対応して接続され、液滴吐出データ転送部３２から転送される記録データによりオン、オフ状態に設定される複数のスイッチから構成されている。
ヘッド駆動部３８は、吐出ヘッド群３と一体化しており、例えばリニアモータであり、吐出ヘッド群３を基板５の搬送方向と直交する方向に移動させる。ヘッド駆動制御部４０は、ヘッド駆動部３８を図示してないシステムの上位コントローラの指示に基づいてヘッド駆動部３８を駆動制御する。

ヘッド位置検出部４２は、基板５が固定されるステージ４の位置の変位量、即ち、基板５上における吐出ヘッド群３の相対位置を検出する機能を有するものである。当該ヘッド位置検出部４２は、上記のエンコーダ４ｃに相当するものである。液滴吐出タイミング制御部４４は、ヘッド位置検出部４２の検出出力に基づいて、各吐出ヘッド３ａの圧電素子に印加する電圧波形の発生タイミングを規定するラッチ信号（ＬＡＴ信号）を生成して出力するものである。このラッチ信号はスイッチ群３４に送られる。そこで、スイッチ群３４の各スイッチは、液滴吐出データ転送部３２から送られてきた液滴吐出データとラッチ信号とによりオン／オフ状態が制御され、その各スイッチにより各吐出ヘッド３ａの圧電素子の駆動タイミングが制御され、各吐出ヘッド３ａの液滴吐出タイミングが制御される。

次に、本実施形態の液滴吐出装置１で用いられる液滴吐出方法について説明する。この液滴吐出方法は、液滴吐出装置１における液滴吐出制御部４４において主に実行される。
図３は本発明の実施形態に係る液滴吐出方法を適用しない場合の吐出状態を説明する模式平面図、図４は本発明の実施形態に係る液滴吐出方法を適用した場合の吐出状態を説明する模式平面図である。なお、図３，４において、黒丸及び白丸は液滴吐出装置１から吐出される液滴Ｌの理想着弾位置を示し、黒丸は液滴Ｌが吐出される位置、白丸は液滴Ｌが吐出されない位置を表す。

液滴吐出装置１は、基板５に形成する描画対象である画素Ｇに対し、液滴吐出タイミング制御部４４にて生成されたラッチ信号に基づいて走査方向へ所定の吐出間隔ｄ１にてインクを吐出する。このインクの吐出タイミングの基となるラッチ信号は、エンコーダ４ｃから出力されるエンコーダパルスを分周することにより液滴吐出タイミング制御部４４にて生成される。

ここで、図３に示すように、描画対象である画素ＧのピッチＰが画像分解能である吐出間隔ｄ１の整数倍でないと、各画素Ｇ毎にインクの着弾位置が異なってしまい、各画素Ｇにおける着弾位置のばらつきにより、描画精度が低下する。すなわち、図３のおける各画素Ｇでは、液滴Ｌの着弾数は同一であるが、液滴Ｌの着弾位置が異なるために不均一な画素が形成されてしまう。

このため、本実施形態では、描画対象である画素ＧのピッチＰが画像分解能である吐出間隔ｄ１の整数倍でない場合に、液滴吐出タイミング制御部４４がビットマップデータに基づいて、ラッチ信号の一部を補正する。
すなわち、図４に示すように、液滴吐出タイミング制御部４４は、ビットマップデータに基づいて、エンコーダ４ｃのエンコーダパルスからなるエンコーダ分解能単位でラッチ信号の一部を補正し、吐出間隔ｄ１を吐出間隔ｄ２に変更して各画素Ｇにおける着弾位置を揃える。
これにより、各画素Ｇでは、着弾位置が揃えられることにより、各画素Ｇに着弾する液滴Ｌの着弾位置が等しくなり、均一な画素Ｇが形成される。

このように、本実施形態によれば、描画対象である画素ＧのピッチＰが吐出間隔ｄ１の整数倍でないために、画素Ｇ毎に液滴Ｌの着弾位置が異なる場合に、吐出間隔ｄ１の少なくとも一箇所を吐出間隔ｄ１よりも広い吐出間隔ｄ２へ変更して画素Ｇにおける着弾位置を揃えるので、各画素Ｇにて均一な描画を得ることができる。
つまり、画素Ｇに合わせて液滴Ｌの着弾位置を補正して各画素Ｇにおける着弾位置を揃えることにより、各画素Ｇにおける着弾のばらつきを防止することができ、製品設計上の制約なく、均一な描画を行うことができる。

また、エンコーダ４ｃからのエンコーダパルスを分周して生成されるラッチ信号に基づいて、吐出間隔ｄ１を容易に求めることができ、また、その吐出間隔ｄ１の吐出間隔ｄ２への変更を容易に行うことができる。
なお、上記実施形態では、描画対象である画素Ｇに合わせて吐出間隔を補正して各画素Ｇにおける着弾位置を揃えたが、基板５に形成する各パネルあるいはチップを描画対象とし、これらパネルあるいはチップへの着弾位置を揃えて均一な描画を行うことも可能である。

（電気光学装置）
次に、上記実施形態の液滴吐出装置１を用いて製造される電気光学装置の一例について図５から図７を参照して説明する。本実施形態では、電気光学装置の一例として有機ＥＬ装置を挙げて説明する。
図５は、本発明の実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造工程を示す主要断面図である。

図５（ｄ）に示すように、有機ＥＬ装置２０１は、透明基板２０４上に画素電極２０２を形成し、各画素電極２０２間にバンク２０５を矢印Ｇ方向から見て格子状に形成する。
それらの格子状凹部の中に、正孔注入層２２０を形成し、矢印Ｇ方向から見てストライプ配列などといった所定の配列となるようにＲ色発光層２０３Ｒ、Ｇ色発光層２０３ＧおよびＢ色発光層２０３Ｂを各格子状凹部の中に形成する。さらに、それらの上に対向電極２１３を形成することによって有機ＥＬ装置２０１が形成される。

上記画素電極２０２をＴＦＤ（Thin Film Diode:薄膜ダイオード）素子などといった２端子型のアクティブ素子によって駆動する場合には、上記対向電極２１３は矢印Ｇ方向から見てストライプ状に形成される。また、画素電極２０２をＴＦＴ（Thin Film Transistor:薄膜トランジスタ）などといった３端子型のアクティブ素子によって駆動する場合には、上記対向電極２１３は単一な面電極として形成される。

各画素電極２０２と各対向電極２１３とによって挟まれる領域が１つの絵素ピクセルとなり、Ｒ、Ｇ、Ｂ３色の絵素ピクセルが１つのユニットとなって１つの画素を形成する。
各絵素ピクセルを流れる電流を制御することにより、複数の絵素ピクセルにおける希望するものを選択的に発光させ、これにより、矢印Ｈ方向に希望するフルカラー像を表示することができる。

上記有機ＥＬ装置２０１は、例えば、次に示す製造方法によって製造される。すなわち図５（ａ）のように、透明基板２０４の表面にＴＦＤ素子又はＴＦＴ素子といった能動素子を形成し、さらに画素電極２０２を形成する。形成方法としては、例えばフォトリソグラフィー法、真空蒸着法、スパッタリング法、パイロゾル法などを用いることができる。
画素電極２０２の材料としてはＩＴＯ（Indium-Tin Oxide）、酸化スズ、酸化インジウムと酸化亜鉛との複合酸化物などを用いることができる。

次に、図５（ａ）に示すように、隔壁すなわちバンク２０５を周知のパターンニング手法、例えばフォトリソグラフィー法を用いて形成し、このバンク２０５によって各透明な画素電極２０２の間を埋める。これにより、コントラストの向上、発光材料の混色の防止、画素と画素との間からの光漏れなどを防止することができる。バンク２０５の材料としては、ＥＬ発光材料の溶媒に対して耐久性を有するものであれば特に限定されないが、フロロカーボンガスプラズマ処理によりテフロン（登録商標）化できること、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、感光性ポリイミドなどといった有機材料が好ましい。

次に、機能性液状体としての正孔注入層用インクを塗布する直前に、透明基板２０４に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズマの連続プラズマ処理を行う。これにより、ポリイミド表面は撥水化され、ＩＴＯ表面は親水化され、液滴を微細にパターニングするための基板側の濡れ性の制御ができる。プラズマを発生する装置としては、真空中でプラズマを発生する装置でも、大気中でプラズマを発生する装置でも同様に用いることができる。

次に、図５（ａ）に示すように、正孔注入層用インクの液滴２５８を図１に示す液滴吐出装置１の吐出ヘッド３ａから吐出し、各画素電極２０２の上にパターニング塗布を行う。この液滴２５８の吐出は、上述の本発明に係る液滴吐出方法で行われる。したがって、液滴２５８は、バンク２０５で囲まれた所望の吐出領域すなわち各フィルタエレメント形成領域内にばらつきなく正確に揃えられて着弾する。その塗布後、真空（１ｔｏｒｒ）中、室温、２０分という条件で溶媒を除去する。この後、大気中、２００℃（ホットプレート上）、１０分の熱処理により、発光層用インクと相溶しない正孔注入層２２０を形成する。上記条件では、膜厚は４０ｎｍであった。

次に、図５（ｂ）に示すように、各フィルタエレメント形成領域内の正孔注入層２２０の上に、機能性液状体であるＥＬ発光材料としてのＲ発光層用インクおよび機能性液状体であるＥＬ発光材料としてのＧ発光層用インクを塗布する。ここでも、各発光層用インクは、図１に示す液滴吐出装置１の吐出ヘッド３ａから液滴２５８として吐出されて各フィルタエレメント形成領域内に着弾する。そして、この液滴２５８の吐出も本発明に係る液滴吐出方法で行われるので、各液滴２５８は各フィルタエレメント形成領域内にばらつきなく正確に揃えられて着弾する。

発光層用インクの塗布後、真空（１ｔｏｒｒ）中、室温、２０分などという条件で溶媒を除去する。続けて、窒素雰囲気中、１５０℃、４時間の熱処理により共役化させてＲ色発光層２０３ＲおよびＧ色発光層２０３Ｇを形成する。上記条件により、膜厚は５０ｎｍであった。熱処理により共役化した発光層は溶媒に不溶である。

なお、発光層を形成する前に正孔注入層２２０に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズマの連続プラズマ処理を行ってもよい。これにより、正孔注入層２２０上にフッ素化物層が形成され、イオン化ポテンシャルが高くなることにより正孔注入効率が増し、発光効率の高い有機ＥＬ装置を提供できる。

次に、図５（ｃ）に示すように、機能性液状体であるＥＬ発光材料としてのＢ色発光層２０３Ｂを各絵素ピクセル内のＲ色発光層２０３Ｒ、Ｇ色発光層２０３Ｇおよび正孔注入層２２０の上に重ねて形成する。これにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの３原色を形成するのみならず、Ｒ色発光層２０３ＲおよびＧ色発光層２０３Ｇとバンク２０５との段差を埋めて平坦化することができる。これにより、上下電極間のショートを確実に防ぐことができる。Ｂ色発光層２０３Ｂの膜厚を調整することで、Ｂ色発光層２０３ＢはＲ色発光層２０３ＲおよびＧ色発光層２０３Ｇとの積層構造において、電子注入輸送層として作用してＢ色には発光しない。

以上のようなＢ色発光層２０３Ｂの形成方法としては、例えば湿式法として一般的なスピンコート法を採用することもできるし、あるいは、Ｒ色発光層２０３ＲおよびＧ色発光層２０３Ｇの形成法と同様のインクジェット法を採用することもできる。

その後、図５（ｄ）に示すように、対向電極２１３を形成することにより、目標とする有機ＥＬ装置２０１が製造される。対向電極２１３はそれが面電極である場合には、例えば、Ｍｇ、Ａｇ、Ａｌ、Ｌｉなどを材料として、蒸着法、スパッタ法などといった成膜法を用いて形成できる。また、対向電極２１３がストライプ状電極である場合には、成膜された電極層をフォトリソグラフィー法などといったパターニング手法を用いて形成できる。

以上に説明した有機ＥＬ装置２０１の製造方法によれば、正孔注入層用インクおよび各発光層用インクについて、図１に示す液滴吐出装置１の吐出ヘッド３ａから液滴２５８として吐出されて各フィルタエレメント形成領域内に着弾させることができる。したがって本製造方法によれば、正孔注入層用インク又は各発光層用インクがバンク２０５上にばらついて塗布されるなどの不具合を回避でき、大きな画面の全体について高精細で高品質な画像を表示できる大画面の有機ＥＬ装置２０１を簡便に製造することができる。

また、本実施形態の有機ＥＬ装置の製造方法では、液滴吐出装置１を用いることにより、吐出ヘッド３ａを用いたインク吐出によってＲ、Ｇ、Ｂの各色絵素ピクセルを形成するので、フォトリソグラフィー法を用いる方法のような複雑な工程を経る必要もなく、またインクなどの材料を浪費することもない。

次に、本実施形態のＥＬ装置の回路構成について図６および図７を参照して説明する。
図６は、図５に示す製造方法で製造された有機ＥＬ装置を構成要素とした表示装置の一部を示す回路図である。図７は、図６に示す表示装置における画素領域の平面構造を示す拡大平面図である。

図６において、表示装置５０１は有機ＥＬ装置であるＥＬ表示素子を用いたアクティブマトリックス型の表示装置である。この表示装置５０１は、透明な表示基板５０２上に、複数の走査線５０３と、これら走査線５０３に対して交差する方向に延びる複数の信号線５０４と、これら信号線５０４に並列に延びる複数の共通給電線５０５とがそれぞれ配線された構成を有している。そして、走査線５０３と信号線５０４との各交点には、画素領域５０１Ａが設けられている。

信号線５０４に対しては、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン、アナログスイッチを有したデータ側駆動回路５０７が設けられている。また、走査線５０３に対しては、シフトレジスタおよびレベルシフタを有した走査側駆動回路５０８が設けられている。そして、画素領域５０１Ａのそれぞれには、走査線５０３を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング薄膜トランジスタ５０９と、このスイッチング薄膜トランジスタ５０９を介して信号線５０４から供給される画像信号を蓄積して保持する蓄積容量ｃａｐと、この蓄積容量ｃａｐによって保持された画像信号がゲート電極に供給されるカレント薄膜トランジスタ５１０と、このカレント薄膜トランジスタ５１０を介して共通給電線５０５に電気的に接続したときに共通給電線５０５から駆動電流が流れ込む画素電極５１１と、この画素電極５１１および反射電極５１２間に挟み込まれる発光素子５１３とが設けられている。

この構成により、走査線５０３が駆動されてスイッチング薄膜トランジスタ５０９がオンすると、その時の信号線５０４の電位が蓄積容量ｃａｐに保持される。この蓄積容量ｃａｐの状態に応じて、カレント薄膜トランジスタ５１０のオン・オフ状態が決まる。そして、カレント薄膜トランジスタ５１０のチャネルを介して、共通給電線５０５から画素電極５１１に電流が流れ、さらに発光素子５１３を通じて反射電極５１２に電流が流れる。
このことにより、発光素子５１３は、これを流れる電流量に応じて発光する。

ここで、画素領域５０１Ａは、反射電極５１２および発光素子５１３を取り除いた状態の表示装置５０１の拡大平面図である図７に示すように、平面状態が長方形の画素電極５１１の４辺が、信号線５０４、共通給電線５０５、走査線５０３および図示しない他の画素電極５１１用の走査線５０３によって囲まれた配置となっている。

このような構成の表示装置５０１は、上述の有機ＥＬ装置の製造方法を用いて製造されているので、比較的安価でありながら、大きな画面の全体について高精細で高品質な画像を表示することができる。

（電子機器）
次に、上記実施形態の電気光学装置を備えた電子機器について説明する。図８（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。
図８（ａ）において、符号１０００は携帯電話本体を示し、符号１００１は上記実施形態の電気光学装置からなる表示部を示している。
図８（ｂ）は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図８（ｂ）において、符号１１００は時計本体を示し、符号１１０１は上記実施形態の電気光学装置からなる表示部を示している。
図８（ｃ）は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図８（ｃ）において、符号１２００は情報処理装置、符号１２０２はキーボードなどの入力部、符号１２０４は情報処理装置本体、符号１２０６は上記実施形態の電気光学装置からなる表示部を示している。

図８に示す電子機器は、上記実施形態の電気光学装置を備えているので、表示部を大画面化しても、その表示部において高精細で高品質な画像を表示することができる。

なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能であり、実施形態で挙げた具体的な材料や層構成などはほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。例えば、上記実施形態では電気光学装置の一例として有機ＥＬ装置を挙げているが、本発明はこれに限定されるものではなく、プラズマディスプレイ装置、液晶装置などの各種電気光学装置に本発明を適用でき、カラーフィルターの着色材料の塗布などに本発明を適用することもできる。また本発明に係る液滴吐出装置による形成物は、画素などに限定されるものではなく、配線パターン、電極、各種半導体素子などを、本発明に係る液滴吐出装置を用いて形成することができる。

本発明の実施形態に係る液滴吐出方法を説明する装置の斜視図である。 同上の液滴吐出装置における制御装置の機能を示すブロック図である。 本発明の液滴吐出方法を適用しない場合の吐出状態の模式図である。 本発明の液滴吐出方法を適用した場合の吐出状態の模式図である。 本発明の実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造工程を示す断面図である。 同上の製造工程を用いて製造された表示装置の回路図である。 同上表示装置における画素領域の平面構造を示す拡大平面図である。 同上の表示装置を備えた電子機器を示す斜視図である。

符号の説明

３ａ…吐出ヘッド、 ４ｃ…エンコーダ、 ５…基板、 ｄ１，ｄ２…吐出間隔、 Ｇ…画素（描画対象領域）、 Ｐ…ピッチ、 Ｌ…液滴

Claims (4)

1. 基板上の複数の描画対象領域に、吐出ヘッドを走査させながら一定の吐出間隔にて液滴を吐出する際に、
   前記複数の描画対象領域のピッチが前記吐出間隔の整数倍でない場合に、前記各描画対象領域における前記液滴の着弾位置を揃えるように前記吐出間隔の少なくとも一箇所を変更することを特徴とする液滴吐出方法。
2. 前記基板と前記吐出ヘッドの相対的な移動量に応じたエンコーダパルスを分周して生成されるラッチ信号に基づいて、前記吐出間隔を求めることを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出方法。
3. 請求項１または請求項２に記載の液滴吐出方法によって前記複数の描画対象領域に液滴を吐出して製造することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
4. 請求項３に記載の電気光学装置の製造方法によって製造された電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
   
   
   
   

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