JP2006114898A - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】照明構成、マスク透過、およびマスク・バイアスを適当に選択することにより、接触孔部の複雑なパターンを、k1=0.40またはそれ以下の最小ハーフピッチで製造するための十分なラチチュードで画像形成することができる。ある実施例は、リソグラフィ装置による基板上へのマスク・パターンの画像を転写する方法を提供する。この方法は、軸上成分および軸外し成分を含む照明構成により減衰位相シフト・マスクのマスク・パターンを照明する段階であって、照明の軸外し成分が瞳の縁部近くに延びる環状照明である段階と、基板上に照明したマスク・パターンの画像を投影する段階とを含む。
【選択図】図1
Description
R=k1*(λ/NA) (1)
ここで、λは使用する放射線の波長であり、NAはフィーチャを画像形成するために使用する投影システムの開口数であり、k1はレイリー定数とも呼ばれるプロセスに依存する調整要因である。
σ=(NAill)/(NAps)
この修正は、通常、ケーラー照明システムのコンデンサ・レンズの瞳を指定することにより行われる。本質的には、そうすることにより、回折情報の光学的処理を操作することができる。投影画像形成システムの部分コヒーレンスの最適化は、従来、完全に円形の照明アパーチャ(従来のまたはシグマ照明構成)により行われた。投影システムの回折情報の分布を照明装置の瞳のサイズにより制御することにより、最大の画像変調を行うことができる。
IL 照明システム
MA パターニング機器
PS 投影システム
PM 第1の位置決め機器
MT 支持構造
W 基板
PW 第2の位置決め機器
WT 基板テーブル
C 目標部分
SO 放射線源
IN インテグレータ
CO コンデンサ
M1,M2 パターニング機器整合マーク
P1,P2 基板整合マーク
201 接触孔部
H1,H2,H3,H4,H5 孔部
Claims (15)
- リソグラフィ装置により基板上にマスク・パターンの画像を転写するための方法であって、該リソグラフィ装置が1つまたは複数の照明構成を提供するように構成されている照明装置を含み、
軸上成分と軸外し成分を含む照明構成により減衰位相シフト・マスクのマスク・パターンを照明する段階であって、前記照明の軸外し成分が照明装置の瞳の縁部近くに延びる環状照明である段階と、
前記基板上に前記照明したマスク・パターンの画像を投影する段階とを含む方法。 - 前記マスク・パターンが、前記基板上に所望の寸法に前記マスク・パターンの画像を転写するためのマスク・パターン・バイアスを有する、請求項1に記載の方法。
- 前記マスク・パターン・バイアスが約10〜70nmの範囲内にある、請求項2に記載の方法。
- 前記減衰位相シフト・マスクの減衰が約6〜30%の範囲内にある、請求項1に記載の方法。
- 前記環状照明の内半径が約0.6〜0.87の範囲内の正規化された値を有し、前記環状照明の外半径が約0.9〜1の範囲内の正規化した値を有する、請求項1に記載の方法。
- 前記軸上成分が、約0.1〜0.4の範囲内の正規化した半径の値を有する中央極を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記マスク・パターンが、接触孔部のランダムなパターンである、請求項1に記載の方法。
- 前記照明構成が、マスク・パターン内のフィーチャのランダムなパターンを照明するために構成されていて、
複数の前記フィーチャを含む第1のグリッドの照明条件を構成する段階であって、これら複数のフィーチャが前記第1のグリッド内に第1のピッチで配置されている段階と、
他の複数の前記フィーチャを含む第2のグリッドの照明条件を構成する段階であって、前記第2のグリッドが前記第1のグリッドに対して回転している段階と、
前記第1のグリッドの照明条件および前記第2のグリッドの照明条件に基づいて、フィーチャの前記ランダムなパターンを照明するための前記照明構成を決定する段階とを含む、請求項1に記載の方法。 - 前記もう1つの複数のフィーチャが、前記第2のグリッド内に第2のピッチで配置される、請求項8に記載の方法。
- 前記第1および第2のグリッドが、ほぼ正方形のグリッドである、請求項8に記載の方法。
- フィーチャの前記ランダムなパターンの照明条件が、前記第1のグリッドの照明構成を形成する照明領域と、前記第2のグリッドの照明構成を形成する照明領域の組み合わせを含む、請求項8に記載の方法。
- リソグラフィ装置であって、
放射線ビームを調整するように構成した照明装置でなって、前記放射線ビームが軸上成分、および丸く対称であり該照明装置の瞳の縁部の近くに延びている軸外し成分を有するように構成するように構成されている照明装置と、
所望のパターンに従って前記放射線ビームをパターン化するように構成されているパターニング機器を保持するように構成されている支持構造と、
基板を保持するように構成されている基板テーブルと、
前記基板上に前記パターン化された放射線ビームを投影するように構成されている投影システムとを備えるリソグラフィ装置。 - 前記環状照明の内半径が、約0.6〜0.87の範囲内の正規化された値を有し、前記環状照明の外半径が、約0.9〜1の範囲内の正規化された値を有する、請求項12に記載のリソグラフィ装置。
- 前記軸上成分が、約0.1〜0.4の範囲内の正規化された半径の値を有する中央極を含む、請求項12に記載のリソグラフィ装置。
- 機械実行可能命令を有するコンピュータ製品であって、
前記命令がマスク・パターン内のフィーチャのランダムなパターンの照明条件を構成するための方法を実行するために機械により実行することができ、前記方法が、
複数の前記フィーチャを含む第1のグリッドの照明条件を構成する段階であって、これら複数のフィーチャが前記第1のグリッド内に第1のピッチで配置されている段階と、
他の複数の前記フィーチャを含む第2のグリッドの照明条件を構成する段階であって、前記第2のグリッドが前記第1のグリッドに対して回転している段階と、
前記第1のグリッドの照明条件、および前記第2のグリッドの照明条件に基づいて、フィーチャの前記ランダムなパターンの照明条件を決定する段階とを含むコンピュータ製品。
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