JP2006112974A - 位置検出装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】位置検出装置は、光源(101)からの光束より平行光束を形成し、該平行光束から前記ビームスプリッタで得られる分離光束が基準面(122)及び測定対象面(121)のそれぞれに斜めに入射するように、該平行光束をビームスプリッタ(113)に供給する入射ユニット(111,112)と、基準面及び測定対象面で反射され、ビームスプリッタ(113)によって光路が統一された分離光束を、当該光路に沿ってビームスプリッタ(113)へ平行光束として供給するべく反射する反射ユニット(112,114)とを有し、反射ユニットから供給され、ビームスプリッタ(113)にて分離され、基準面及び測定対象面で反射され、ビームスプリッタ(113)で再び光路が統一された光束を干渉させ、分離光束の位相差に対応した信号を生成する。
【選択図】 図1
Description
入射した平行光束を分離して各分離光束が基準面と測定対象面の各々に供給されるように配置されたビームスプリッタと、
光源からの光束より平行光束を形成し、該平行光束から前記ビームスプリッタで得られる分離光束が前記基準面及び前記測定対象面のそれぞれに斜めに入射するように、該平行光束を該ビームスプリッタに供給する入射ユニットと、
前記基準面及び前記測定対象面で反射され、前記ビームスプリッタによって光路が統一された前記分離光束を、当該光路に沿って該ビームスプリッタへ平行光束として供給するべく反射する反射ユニットと、
前記反射ユニットから供給され、前記ビームスプリッタにて分離され、前記基準面及び前記測定対象面で反射され、該ビームスプリッタで再び光路が統一された光束を干渉させて、前記分離光束の位相差に対応した信号を生成する生成手段とを備える。
図1は、第1実施形態によるレーザ干渉計の光学系を説明する図である。図1において、半導体レーザ101からの直線偏光発散光は、レンズ111により、レンズ112の焦点面の位置P1に集光照明される。位置P1から発散される直線偏光光はレンズ112に入射され、光軸がわずかに斜めの平行光束を射出させる。なお、本実施形態において、「光軸がわずかに斜め」というのは、平行光束の光軸の方向が、ビームスプリッタからの透過光及び反射光がそれぞれ被測定対象物121及び参照ミラー122の面の法線方向に対してわずかに角度を有して(例えば1度から10度程度)入射されるように設定されている状態を言う。レンズ112より射出された平行光束は、偏光ビームスプリッタ113にて偏光成分により2つの光束、即ち反射光(S偏光)と透過光(P偏光)に分離される(以下、これらを総称して分離光束という)。反射光(S偏光)は参照ミラー122に照明され、透過光(P偏光)は被測定対象物(ミラー)121に照明される。各ミラーからの反射光は、偏光ビームスプリッタ113を介して、レンズ112の焦点面の位置P2に集光照明される。なお、位置P2は位置P1より微小量ずれた位置である。
X=4mm×tanθ=0.34mm
となり、照明光束径Φがmmオーダーであれば干渉光束の重なりは50%程度確保できている。このように1mm程度の面外変位が生じても測定ができることが満たされる(ただし、上記数値は目安である)。
第1実施形態では、レンズ112とその焦点面のミラー114を用いてキヤッツアイ光学系を構成した。第2実施形態では、所謂1/4ピッチの屈折率分布型ロッドレンズの端面に反射膜を施すことで、キヤッツアイ光学系を構成し、第1実施形態と同様の作用効果を得る。
図5は、第3実施形態によるレーザ干渉計の光学系を説明する図である。
図6は、第4実施形態によるレーザ干渉計の光学系を説明する図である。
図7は、第5実施形態によるレーザ干渉計の光学系を説明する図である。第1または第4実施形態を改良し、光源側からの往路の光路と受光素子側へ進行する復路の光路が空間的に分離するように構成したものである。
(1)mmオーダーの平行光照明を採用するので、被測定面の面形状や微小な傷等の影響を受けにくい。
(2)mmオーダーの平行光照明と可干渉性の良い光源の組合せにより、mmオーダーの測定領域を実現できる。
(3)キヤッツアイによる2往復の経路(2往復干渉測長光学系)を実現したので、高い分解能(波長の1/4周期の正弦波信号を出力)を得ることができる。
(4)キヤッツアイによる2往復干渉測長光学系により、被測定面のアライメントずれが生じても安定した測定を実現できる。
(5)特に第5実施形態によれば、光束の往路、復路光路が空間的に分離されるので、光源への戻り光を排除することができ、アイソレータ等を用いずとも、より安定した測定が可能となる。
(6)被測定部に配置させるコーナーキューブや参照光用の内部コーナーキューブを不要にしたこと(第1〜第5実施形態)により、或いは、キャッツアイのレンズとコリメーターレンズを共用したこと(第3実施形態)等により、光学系の小型化を実現できた。
(7)また、空気中に暴露する部分を短く設定することにより安定した測定を実現できる(空気中に暴露する部分とは、偏光ビームスプリッタから非測定面までの光路で、空気中に光線が通過する部分を指す。この部分の空気が揺らぐと、干渉信号に揺れがでるため、暴露する部分は短いほど測定が安定する)。
Claims (9)
- 入射した平行光束を分離して各分離光束が基準面と測定対象面の各々に供給されるように配置されたビームスプリッタと、
光源からの光束より平行光束を形成し、該平行光束から前記ビームスプリッタで得られる分離光束が前記基準面及び前記測定対象面のそれぞれに斜めに入射するように、該平行光束を該ビームスプリッタに供給する入射ユニットと、
前記基準面及び前記測定対象面で反射され、前記ビームスプリッタによって光路が統一された前記分離光束を、当該光路に沿って該ビームスプリッタへ平行光束として供給するべく反射する反射ユニットと、
前記反射ユニットから供給され、前記ビームスプリッタにて分離され、前記基準面及び前記測定対象面で反射され、該ビームスプリッタで再び光路が統一された復路光束を干渉させて、前記分離光束の位相差に対応した信号を生成する生成手段とを備えることを特徴とする位置検出装置。 - 前記入射ユニットは、
前記光源からの光束を第1の位置に集光する集光手段と、
前記第1の位置を焦点位置とするように配置され、前記第1の位置より発散される光束を前記平行光束に変換する第1レンズとを含み、
前記反射ユニットは、
前記光路が統一された前記分離光束を、前記第1レンズによって、該第1のレンズの焦点位置であって前記第1の位置とは異なる第2の位置に集光し、
前記第2の位置において、前記第1レンズに向けて前記分離光束を反射する反射部材を含むことを特徴とする請求項1に記載の位置検出装置。 - 前記入射ユニットは、
前記光源からの光束を第1の位置に集光する手段と、
前記第1の位置より光束を入射し、前記平行光束を生成する屈折率分布型レンズとを含み、
前記反射ユニットは、
前記光路が統一された前記分離光束を、前記屈折率分布型レンズによって、前記第1の位置とは異なる第2の位置に集光し、
前記第2の位置において前記分離光束を反射するべく設けられた反射部材を含むことを特徴とする請求項1に記載の位置検出装置。 - 前記入射ユニットは、前記光源からの光束を前記平行光束に変換するコリメータレンズを含み、
前記反射ユニットは、
前記光路が統一された前記分離光束を焦点面に集光する屈折率分布型レンズと、
前記焦点面に設けられた反射部材とを含むことを特徴とする請求項1に記載の位置検出装置。 - 前記集光手段は、前記光源からの光束を前記第1の位置に集光する第2のレンズを含むことを特徴とする請求項2に記載の位置検出装置。
- 前記集光手段は、前記光源からの光束を伝搬し、前記第1の位置に出射端を有する光ファイバを含むことを特徴とする請求項2に記載の位置検出装置。
- 前記第1の位置が前記屈折率分布型レンズの端面透過部であり、前記第2の位置が該屈折率分布型レンズの端面反射部であることを特徴とする請求項3に記載の位置検出装置。
- 前記光ファイバは、前記復路光束の光路が前記第1レンズに向かう光路と空間的に分離されるように、前記第1のレンズに対して所定の角度を有して配置され、
前記生成手段は、前記復路光束の光路上に設けられた反射部材により光束を取り出し、これを干渉させることを特徴とする請求項6に記載の位置検出装置。 - 入射した平行光束を分離して各分離光束が基準面と測定対象面の各々に供給されるように配置されたビームスプリッタを用いた位置検出方法であって、
光源からの光束より平行光束を形成し、該平行光束から前記ビームスプリッタで得られる分離光束が前記基準面及び前記測定対象面のそれぞれに斜めに入射するように、該平行光束を該ビームスプリッタに供給し、
前記基準面及び前記測定対象面で反射され、前記ビームスプリッタによって光路が統一された前記分離光束を、当該光路に沿って該ビームスプリッタへ平行光束として供給するべく反射し、
前記反射ユニットから供給され、前記ビームスプリッタにて分離され、前記基準面及び前記測定対象面で反射され、該ビームスプリッタで再び光路が統一された光束を干渉させて、前記分離光束の位相差に対応した信号を生成することを特徴とする位置検出方法。
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US11/250,667 US7391521B2 (en) | 2004-10-15 | 2005-10-13 | Position detection apparatus and method |
CNB2005101136743A CN100425944C (zh) | 2004-10-15 | 2005-10-14 | 位置检测装置和方法 |
KR1020050096983A KR100808886B1 (ko) | 2004-10-15 | 2005-10-14 | 위치 검출장치 및 방법 |
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009276114A (ja) * | 2008-05-13 | 2009-11-26 | Canon Inc | 干渉計 |
JP2011501108A (ja) * | 2007-07-18 | 2011-01-06 | ザ ユニバーシティ オブ バーミンガム | 改良型干渉計 |
JP2011123037A (ja) * | 2009-12-14 | 2011-06-23 | Canon Inc | 干渉計 |
JP2011137810A (ja) * | 2009-12-30 | 2011-07-14 | Mitsubishi Electric Research Laboratories Inc | 物体の角変位を干渉計によって測定するための装置およびその方法 |
JP2015034792A (ja) * | 2013-08-09 | 2015-02-19 | キヤノン株式会社 | 干渉計測装置 |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4914040B2 (ja) * | 2005-07-28 | 2012-04-11 | キヤノン株式会社 | 干渉測定装置 |
ATE439568T1 (de) * | 2007-01-02 | 2009-08-15 | Isis Sentronics Gmbh | Positionserkennungssystem zur berührungslosen interferometrischen detektion der ortsposition eines zielobjektes und damit ausgestattetes abtastsystem |
US7869056B2 (en) * | 2007-10-02 | 2011-01-11 | National Central University | Linear displacement and tilting angle measuring device |
DE102009021580B3 (de) | 2009-05-15 | 2010-11-25 | Medizinisches Laserzentrum Lübeck GmbH | Vorwärtsscannendes OCT-Endoskop |
DE102011111900A1 (de) * | 2011-08-30 | 2013-02-28 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Vorrichtung zur interferometrischen Abstandsbestimmung |
CN103940341B (zh) * | 2013-01-23 | 2016-12-28 | 宁波舜宇智能科技有限公司 | 一种位移和倾角一体化测试仪器 |
CN103528524B (zh) * | 2013-09-16 | 2017-03-15 | 广东工业大学 | 透视测量树脂基复合材料内部离面位移场分布的方法 |
DE102013221898A1 (de) * | 2013-10-29 | 2015-04-30 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Vorrichtung zur Positionsbestimmung |
CN103644848B (zh) * | 2013-12-12 | 2016-02-03 | 哈尔滨工业大学 | 一种使用双频激光的三维光栅位移测量*** |
CN103644849B (zh) * | 2013-12-12 | 2016-02-03 | 哈尔滨工业大学 | 一种可测竖直位移的三维光栅位移测量*** |
EP3267145B1 (en) * | 2016-10-05 | 2019-07-17 | MI-Partners BV | Measuring device for accurately determining the displacement of a rotating test object provided with a light reflective surface |
EP3542126A4 (en) | 2016-11-18 | 2020-07-29 | Zygo Corporation | METHOD AND DEVICE FOR OPTIMIZING THE OPTICAL PERFORMANCE OF INTERFEROMETERS |
CN109341518B (zh) * | 2018-08-22 | 2020-10-30 | 深圳市斯尔顿科技有限公司 | Oct探测装置及微雕设备 |
CN109253707B (zh) * | 2018-10-19 | 2024-02-27 | 成都太科光电技术有限责任公司 | 百微米量程透射式干涉测试装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63311121A (ja) * | 1987-06-15 | 1988-12-19 | Canon Inc | エンコ−ダ− |
JPH0579816A (ja) * | 1991-09-20 | 1993-03-30 | Olympus Optical Co Ltd | 測長用干渉計 |
JP2001076325A (ja) * | 1999-09-07 | 2001-03-23 | Canon Inc | 変位検出装置及び情報記録装置 |
JP2003065895A (ja) * | 2001-08-27 | 2003-03-05 | Nikon Corp | 偏芯測定装置及び偏芯測定方法 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3938889A (en) * | 1974-06-04 | 1976-02-17 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Method and apparatus for measuring linear thermal expansion of polymeric material |
US5418612A (en) * | 1992-02-27 | 1995-05-23 | Renishaw, Plc | Method of and apparatus for determining surface contour of diffusely reflecting objects |
US5341213A (en) * | 1992-07-21 | 1994-08-23 | Avco Corporation | Alignment of radiation receptor with lens by Fourier optics |
US5469259A (en) | 1994-01-03 | 1995-11-21 | International Business Machines Corporation | Inspection interferometer with scanning autofocus, and phase angle control features |
US5815267A (en) * | 1994-09-09 | 1998-09-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Displacement information measuring apparatus in which a light-receiving condition on a photodetector is adjustable |
US5995222A (en) * | 1995-12-28 | 1999-11-30 | Fuji Photo Optical Co., Ltd. | Subject positioning device for optical interferometer |
US6469790B1 (en) * | 1996-10-28 | 2002-10-22 | Christopher J. Manning | Tilt-compensated interferometers |
US6313918B1 (en) * | 1998-09-18 | 2001-11-06 | Zygo Corporation | Single-pass and multi-pass interferometery systems having a dynamic beam-steering assembly for measuring distance, angle, and dispersion |
JP2001165616A (ja) * | 1999-12-10 | 2001-06-22 | Nec Corp | レーザ測長装置及びレーザ測長方法 |
US6778280B2 (en) * | 2001-07-06 | 2004-08-17 | Zygo Corporation | Interferometry system and method employing an angular difference in propagation between orthogonally polarized input beam components |
US6762845B2 (en) * | 2001-08-23 | 2004-07-13 | Zygo Corporation | Multiple-pass interferometry |
JP4782958B2 (ja) * | 2001-09-21 | 2011-09-28 | 株式会社リコー | 表面形状測定装置及びその方法、プログラム並びに記憶媒体 |
JP2003202204A (ja) * | 2002-01-07 | 2003-07-18 | Nikon Corp | 干渉計、露光装置、および露光方法 |
JP4279679B2 (ja) * | 2002-02-12 | 2009-06-17 | ザイゴ コーポレーション | 干渉法システムにおける非サイクリック・エラーの特性評価および補償 |
US6937343B2 (en) * | 2002-08-29 | 2005-08-30 | Applied Materials, Israel, Ltd. | Laser scanner with amplitude and phase detection |
CN1176346C (zh) * | 2003-01-22 | 2004-11-17 | 浙江工程学院 | 双频激光合成波长干涉仪 |
US7298493B2 (en) * | 2004-06-30 | 2007-11-20 | Zygo Corporation | Interferometric optical assemblies and systems including interferometric optical assemblies |
US7027162B2 (en) * | 2004-08-16 | 2006-04-11 | Lau Kam C | System and method for three-dimensional measurement |
-
2004
- 2004-10-15 JP JP2004302063A patent/JP4514209B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-09-28 EP EP05021142.4A patent/EP1647798B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-10-13 US US11/250,667 patent/US7391521B2/en active Active
- 2005-10-14 CN CNB2005101136743A patent/CN100425944C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2005-10-14 KR KR1020050096983A patent/KR100808886B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63311121A (ja) * | 1987-06-15 | 1988-12-19 | Canon Inc | エンコ−ダ− |
JPH0579816A (ja) * | 1991-09-20 | 1993-03-30 | Olympus Optical Co Ltd | 測長用干渉計 |
JP2001076325A (ja) * | 1999-09-07 | 2001-03-23 | Canon Inc | 変位検出装置及び情報記録装置 |
JP2003065895A (ja) * | 2001-08-27 | 2003-03-05 | Nikon Corp | 偏芯測定装置及び偏芯測定方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011501108A (ja) * | 2007-07-18 | 2011-01-06 | ザ ユニバーシティ オブ バーミンガム | 改良型干渉計 |
JP2009276114A (ja) * | 2008-05-13 | 2009-11-26 | Canon Inc | 干渉計 |
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