JP2006110522A - 水処理装置および水処理方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 被処理水中の難分解性化学物質の除去効率を高めるためには、被処理水に対するオゾン注入率を増加させる必要があったが、オゾン注入率を増加させると、臭素酸イオンの生成が促進されてしまうという問題がある。
【解決手段】 被処理水を第1段の「過酸化水素添加オゾン処理槽」において、オゾンと過酸化水素との反応からヒドロキシルラジカルを生成させ、これによって、被処理水中の難分解性化学物質を分解する。第2段の「紫外線処理槽」において、紫外線ランプ照射された紫外線が被処理水中に残存している過酸化水素に作用し、ヒドロキシルラジカルを生成し、過酸化水素濃度が低減するとともに難分解性化学物質の分解除去を促進する。
【選択図】 図4
【解決手段】 被処理水を第1段の「過酸化水素添加オゾン処理槽」において、オゾンと過酸化水素との反応からヒドロキシルラジカルを生成させ、これによって、被処理水中の難分解性化学物質を分解する。第2段の「紫外線処理槽」において、紫外線ランプ照射された紫外線が被処理水中に残存している過酸化水素に作用し、ヒドロキシルラジカルを生成し、過酸化水素濃度が低減するとともに難分解性化学物質の分解除去を促進する。
【選択図】 図4
Description
本発明は、オゾンのもつ酸化作用を利用して水中の汚濁成分(微量有機物等)を酸化分解する、水処理装置に関するものである。
近年、水源である河川や湖沼の汚染が進んでいることから、水道水の品質や安全性の確保に対してさまざまな取り組みがなされている。オゾン水処理装置の導入もその一つであり、全国の浄水場に普及しつつある。
従来、オゾンによる水処理は、被処理水にオゾンガスを接触させて、被処理水中に溶解したオゾンが被処理水中の汚濁成分を酸化分解して、行われる。また、処理後の水は処理装置外へ排出され、余剰のオゾンガスもまた装置外へ排出される(例えば非特許文献1参照)。
オゾンは、塩素などの他の酸化剤に比べて強い酸化力を持つため、異臭味や色度、消毒副生成物前駆物質(主に塩素と結合して人体に有害な化学物質に変化する有機物)などの難分解性化学物質の分解除去に有効である。一方、被処理水中に臭化物イオンが存在すると、オゾンとの反応により臭素酸イオンが生成する。この臭素酸イオンについては発ガン性の疑いのあることが指摘されており、2004年4月1日から施行される新しい水質基準では、飲料水中の濃度として10μg/Lという規制値が設けられている。
また、オゾン水処理において、被処理水中の微量有機物質を除去するために、芳香族化合物を添加し、酸化力の高いヒドロキシラジカル(OH・)の生成を促進し、微量有機物の分解を効率よく行うことが知られている(例えば、特許文献1参照)。
従来、オゾンによる水処理は、被処理水にオゾンガスを接触させて、被処理水中に溶解したオゾンが被処理水中の汚濁成分を酸化分解して、行われる。また、処理後の水は処理装置外へ排出され、余剰のオゾンガスもまた装置外へ排出される(例えば非特許文献1参照)。
オゾンは、塩素などの他の酸化剤に比べて強い酸化力を持つため、異臭味や色度、消毒副生成物前駆物質(主に塩素と結合して人体に有害な化学物質に変化する有機物)などの難分解性化学物質の分解除去に有効である。一方、被処理水中に臭化物イオンが存在すると、オゾンとの反応により臭素酸イオンが生成する。この臭素酸イオンについては発ガン性の疑いのあることが指摘されており、2004年4月1日から施行される新しい水質基準では、飲料水中の濃度として10μg/Lという規制値が設けられている。
また、オゾン水処理において、被処理水中の微量有機物質を除去するために、芳香族化合物を添加し、酸化力の高いヒドロキシラジカル(OH・)の生成を促進し、微量有機物の分解を効率よく行うことが知られている(例えば、特許文献1参照)。
「浄水技術ガイドライン(財団法人水道技術センター、2000年)」104頁図2.4-64
特開平6−23377号公報(図1,2、[0008]、[0009])
従来のオゾン水処理装置では、難分解性化学物質の除去率を高めるためには被処理水に対するオゾン注入率を増やす必要があるが、オゾン注入率を増やすと臭素酸イオンの生成が促進されてしまうという問題点があった。
本発明は、上記の問題を解決するためになされたもので、オゾン水処理において処理された水の溶存オゾン濃度を抑制する水処理装置および水処理方法を提供することを目的とする。
この発明に係る水処理装置は、過酸化水素の添加された被処理水にオゾンを導入するオゾン処理槽と、該オゾン処理槽に接続され、上記オゾン処理槽で処理された被処理水を導入し、該被処理水に紫外線を照射する手段を有する紫外線処理槽とを備えたことを特徴とするものである。
また、この発明に係る水処理方法は、被処理水中の臭素酸イオンの生成を抑制しながら、ヒドロキシラジカルを生成して上記被処理水に作用させる工程と、上記被処理水中の過酸化水素成分をヒドロキシラジカルに変化させて上記被処理水中の過酸化水素成分を減少させる工程とを備えたものである。
この発明に係る水処理装置及び水処理方法は、被処理水に過酸化水素を添加するとともにオゾンを注入するオゾン処理槽の後段に、被処理水に紫外線を照射する紫外線処理槽を設けたので、溶存オゾン濃度の上昇を抑えつつヒドロキシルラジカルを生成することができ、臭素酸イオン濃度の生成を抑制しながら難分解性化学物質の分解除去を促進するという効果を奏する。また、処理水への過酸化水素の漏洩を抑止する、という効果も奏する。
予備検討1.
特開2000−288561号公報に記載されている実験結果について詳細検討を行った。本実験はバッチ式反応槽における一般的な河川水のオゾン処理の実験結果の例であり、図1中(a)はオゾン処理時間に対するTHMFP(Trihalomethane Formation Potential=トリハロメタン生成能、消毒副生成物前駆物質の指標)濃度の変化を、図1中(b)はオゾン処理時間に対する臭素酸イオン生成量の変化を、そして図1中(c)はオゾン処理時間に対する溶存オゾン濃度の変化を示している。
この図1より、THMFPはオゾン処理時間5分あたりまではなだらかに低下するものの、その後はほとんど変化していないことがわかる。一方、溶存オゾン濃度と臭素酸イオン生成量は、オゾン処理時間が5分を経過してから上昇し始めた。
特開2000−288561号公報に記載されている実験結果について詳細検討を行った。本実験はバッチ式反応槽における一般的な河川水のオゾン処理の実験結果の例であり、図1中(a)はオゾン処理時間に対するTHMFP(Trihalomethane Formation Potential=トリハロメタン生成能、消毒副生成物前駆物質の指標)濃度の変化を、図1中(b)はオゾン処理時間に対する臭素酸イオン生成量の変化を、そして図1中(c)はオゾン処理時間に対する溶存オゾン濃度の変化を示している。
この図1より、THMFPはオゾン処理時間5分あたりまではなだらかに低下するものの、その後はほとんど変化していないことがわかる。一方、溶存オゾン濃度と臭素酸イオン生成量は、オゾン処理時間が5分を経過してから上昇し始めた。
これらの実験結果より、発明者らは次のような考察を導いた:
(1)THMFPなどの難分解性化学物質は、オゾン単独の酸化力だけでは必ずしも十分に分解除去することはできない。オゾン易反応成分(オゾンと比較的容易に反応する成分)とオゾンとが反応しているときに何らかのラジカル種が発生し、これが上記難分解性化学物質の分解を促進しているものと考えられる(水道原水中に普遍的に存在する有機物質とオゾンとの反応によりヒドロキシラジカルが生成することは、例えば特開平06−23377号公報で言及されている事項である)。
(2)臭素酸イオン生成は、オゾン易反応成分が消失すると顕著になる。
(1)THMFPなどの難分解性化学物質は、オゾン単独の酸化力だけでは必ずしも十分に分解除去することはできない。オゾン易反応成分(オゾンと比較的容易に反応する成分)とオゾンとが反応しているときに何らかのラジカル種が発生し、これが上記難分解性化学物質の分解を促進しているものと考えられる(水道原水中に普遍的に存在する有機物質とオゾンとの反応によりヒドロキシラジカルが生成することは、例えば特開平06−23377号公報で言及されている事項である)。
(2)臭素酸イオン生成は、オゾン易反応成分が消失すると顕著になる。
予備検討2.
発明者らは、0.5Lの被処理水を入れた反応器内に過酸化水素を所定量添加した上でオゾンガスを連続的に供給し、反応器内の溶存オゾン濃度および臭素酸イオン濃度などの処理水質の経時変化を調べた。被処理水としては、純水に臭化ナトリウムを加えたもの(臭化物イオン濃度として50μg/L)を用いた。過酸化水素の添加量は0〜3mg/Lの範囲で変化させた。
発明者らは、0.5Lの被処理水を入れた反応器内に過酸化水素を所定量添加した上でオゾンガスを連続的に供給し、反応器内の溶存オゾン濃度および臭素酸イオン濃度などの処理水質の経時変化を調べた。被処理水としては、純水に臭化ナトリウムを加えたもの(臭化物イオン濃度として50μg/L)を用いた。過酸化水素の添加量は0〜3mg/Lの範囲で変化させた。
図2に臭素酸イオン(BrO3 −)濃度の経時変化を、また図3に溶存オゾン濃度の経時変化を示す。図2において過酸化水素添加量が1mg/L(○印)のとき、臭素酸イオンの著しい生成が認められたが、さらに添加量を増加させると、臭素酸イオン生成量は減少した。一方、溶存オゾン濃度については、図3に示すように、過酸化水素の添加量が多いほどより低く抑えられる結果となった。
特に注目すべきことは、過酸化水素を添加した場合の、臭素酸生成が始まるタイミングである。いずれの添加量の場合も、溶存オゾン濃度の上昇とともに臭素酸イオンの生成が始まっていることがわかる。特に臭素酸イオン生成が顕著であった過酸化水素添加量1mg/Lの場合は、それよりも添加量が多かった場合に比べて明らかに溶存オゾン濃度が早く上昇し始めている。
特に注目すべきことは、過酸化水素を添加した場合の、臭素酸生成が始まるタイミングである。いずれの添加量の場合も、溶存オゾン濃度の上昇とともに臭素酸イオンの生成が始まっていることがわかる。特に臭素酸イオン生成が顕著であった過酸化水素添加量1mg/Lの場合は、それよりも添加量が多かった場合に比べて明らかに溶存オゾン濃度が早く上昇し始めている。
これらの実験結果より、発明者らは次のような考察を導いた。
(1)オゾンと過酸化水素との反応によりヒドロキシルラジカルが生成するが、このヒドロキシルラジカルとオゾンとが共存するような条件下で、臭素酸イオンの生成が顕著となる。
(2)従って、溶存オゾンが検出されないように過酸化水素を添加しながらオゾン処理することにより、臭素酸イオンの生成を抑制しつつ酸化力の強いヒドロキシルラジカルを生成することができる。ヒドロキシルラジカルは難分解性化学物質の分解除去に寄与する。
(1)オゾンと過酸化水素との反応によりヒドロキシルラジカルが生成するが、このヒドロキシルラジカルとオゾンとが共存するような条件下で、臭素酸イオンの生成が顕著となる。
(2)従って、溶存オゾンが検出されないように過酸化水素を添加しながらオゾン処理することにより、臭素酸イオンの生成を抑制しつつ酸化力の強いヒドロキシルラジカルを生成することができる。ヒドロキシルラジカルは難分解性化学物質の分解除去に寄与する。
すなわち、過酸化水素添加オゾン処理は、臭素酸イオンの生成を抑制しながら難分解性化学物質を除去するのに有効であると言える。ただし、予備検討2の考察(2)で述べた方法によると、溶存オゾンが検出されないように、逆に過酸化水素が残留するようにこれを添加することになる。過酸化水素はオゾンのように自己分解性が高くないため、過酸化水素が残留した処理水をそのまま水道水として供給することはできない。すなわち、過酸化水素添加オゾン処理のみでは浄水処理に適用できない、という問題点のあることがわかり本願発明に至った。
以下、詳細を実施の形態で説明する。
以下、詳細を実施の形態で説明する。
実施の形態1.
図4は本発明の実施の形態1に係る水処理装置の構成を示した図である。
1は被処理水に過酸化水素を添加するとともにオゾンを注入するための第1の反応槽である。2は被処理水を第1の反応槽1に導入するための配管、3は過酸化水素を添加するための配管であり、それぞれ第1の反応槽1と接続されている。4はオゾンガスを導入するための配管であり、第1の反応槽1に備え付けられた散気手段5と接続されている。
6は被処理水に紫外線を照射するための第2の反応槽であり、配管7を介して第1の反応槽1と接続されている。8は第2の反応槽6に備え付けられた紫外線ランプである。
10、11は余剰のオゾンガスを系外に排出するための配管であり、それぞれ第1の反応槽1、第2の反応槽6と接続されている。
図4は本発明の実施の形態1に係る水処理装置の構成を示した図である。
1は被処理水に過酸化水素を添加するとともにオゾンを注入するための第1の反応槽である。2は被処理水を第1の反応槽1に導入するための配管、3は過酸化水素を添加するための配管であり、それぞれ第1の反応槽1と接続されている。4はオゾンガスを導入するための配管であり、第1の反応槽1に備え付けられた散気手段5と接続されている。
6は被処理水に紫外線を照射するための第2の反応槽であり、配管7を介して第1の反応槽1と接続されている。8は第2の反応槽6に備え付けられた紫外線ランプである。
10、11は余剰のオゾンガスを系外に排出するための配管であり、それぞれ第1の反応槽1、第2の反応槽6と接続されている。
次に、動作について説明する。被処理水は配管2を介して第1の反応槽1に導入される。一方、過酸化水素が配管3を介して添加されるとともに、オゾンガスが配管4および散気手段5を介して第1の反応槽1に注入される。このとき、過酸化水素の添加量は、第1の反応槽1内の溶存オゾン濃度が検出されないように設定もしくは調節することが望ましい。第1の反応槽1内では、オゾンと過酸化水素との反応からヒドロキシルラジカルが生じ、被処理水中の難分解性化学物質を分解する。
第1の反応槽1で過酸化水素添加オゾン処理(O3/ H2O2処理)を施された水は、配管7を介して第2の反応槽6に導入される。紫外線ランプ8から照射された紫外線は水中に残存している過酸化水素と反応し、再びヒドロキシルラジカルが生じる。このヒドロキシルラジカルが、残存している難分解性化学物質の分解除去を促進する。このとき、紫外線の強度は、第2の反応槽6内の過酸化水素濃度が検出されないように設定もしくは調節することが望ましい(UV処理)。
余剰のオゾンガスは配管10および配管11を介して系外に排出される。
第1の反応槽1で過酸化水素添加オゾン処理(O3/ H2O2処理)を施された水は、配管7を介して第2の反応槽6に導入される。紫外線ランプ8から照射された紫外線は水中に残存している過酸化水素と反応し、再びヒドロキシルラジカルが生じる。このヒドロキシルラジカルが、残存している難分解性化学物質の分解除去を促進する。このとき、紫外線の強度は、第2の反応槽6内の過酸化水素濃度が検出されないように設定もしくは調節することが望ましい(UV処理)。
余剰のオゾンガスは配管10および配管11を介して系外に排出される。
図5に、本実施の形態の水処理装置における、処理効果を示す。図中(a)は、被処理水である原水、第1の反応槽1における第1段目の処理、第2の反応槽6における第2段目の処理それぞれにおけるTOC(Total Organic Carbon:全有機炭素)濃度、図中(b)は過酸化水素(H2O2)の濃度、図中(c)は臭素酸イオン(BrO3 −)濃度を示す。なお、TOC濃度は難分解性有機物質の濃度を示している。
上述のとおり、図中(a)より、本実施の形態の水処理装置によりTOCが低減、すなわち難分解性有機物質の分解が進んでいることがわかる。これは1段目の過酸化水素添加オゾン処理において、ヒドロキシルラジカルの発生により、難分解性有機物の分解が促進され、2段目で紫外線照射により過酸化水素の除去が進むものの、紫外線照射によってもヒドロキシルラジカルが生成され、さらに難分解性有機物の分解が進むことを意味する。図中(b)において、第1の反応槽1で添加した過酸化水素が確認されるものの、2段目の第2の反応槽6では紫外線照射により過酸化水素がヒドロキシルラジカルに変化して除去され、過酸化水素の溶存はなくなる。また、図中(c)において1段目の第1の反応槽1でオゾンにより発生する臭素酸イオンも同時に添加された過酸化水素によりその発生量が抑制され、2段目の紫外線照射によっても臭素酸イオンの除去が若干進む。
上述のとおり、図中(a)より、本実施の形態の水処理装置によりTOCが低減、すなわち難分解性有機物質の分解が進んでいることがわかる。これは1段目の過酸化水素添加オゾン処理において、ヒドロキシルラジカルの発生により、難分解性有機物の分解が促進され、2段目で紫外線照射により過酸化水素の除去が進むものの、紫外線照射によってもヒドロキシルラジカルが生成され、さらに難分解性有機物の分解が進むことを意味する。図中(b)において、第1の反応槽1で添加した過酸化水素が確認されるものの、2段目の第2の反応槽6では紫外線照射により過酸化水素がヒドロキシルラジカルに変化して除去され、過酸化水素の溶存はなくなる。また、図中(c)において1段目の第1の反応槽1でオゾンにより発生する臭素酸イオンも同時に添加された過酸化水素によりその発生量が抑制され、2段目の紫外線照射によっても臭素酸イオンの除去が若干進む。
以上により、溶存オゾン濃度の上昇を抑えつつヒドロキシルラジカルを生成することができるので、臭素酸イオン濃度の生成を抑制しながら難分解性化学物質の分解除去を促進するという効果を奏する。また、処理水への過酸化水素の漏洩を抑止する、という効果も奏する。
実施の形態2.
図6は本発明の実施の形態2に係る水処理装置の構成を示した図であり、31は第2の反応槽6に過酸化水素を添加するための配管である。その他は、図4と同様である。
次に、動作について説明する。配管31を介して第2の反応槽6に添加された過酸化水素は、第2の反応槽6内に残存している過酸化水素と同様、紫外線ランプ8から照射された紫外線と反応し、ヒドロキシルラジカルを生じる。このヒドロキシルラジカルが、残存している難分解性化学物質の分解除去を促進する。その他は実施の形態1と同様である。
以上により、実施の形態1の効果に加えて、第2の反応槽6でのヒドロキシルラジカルの生成量を高め、難分解性化学物質の分解除去をより促進するという効果を奏する。
図6は本発明の実施の形態2に係る水処理装置の構成を示した図であり、31は第2の反応槽6に過酸化水素を添加するための配管である。その他は、図4と同様である。
次に、動作について説明する。配管31を介して第2の反応槽6に添加された過酸化水素は、第2の反応槽6内に残存している過酸化水素と同様、紫外線ランプ8から照射された紫外線と反応し、ヒドロキシルラジカルを生じる。このヒドロキシルラジカルが、残存している難分解性化学物質の分解除去を促進する。その他は実施の形態1と同様である。
以上により、実施の形態1の効果に加えて、第2の反応槽6でのヒドロキシルラジカルの生成量を高め、難分解性化学物質の分解除去をより促進するという効果を奏する。
実施の形態3.
図7は本発明の実施の形態3に係る水処理装置の構成を示した図であり、81は第1の反応槽1に備え付けられた紫外線ランプである。その他は、図4と同様である。
次に、動作について説明する。紫外線ランプ8から照射された紫外線は、第1の反応槽1内の溶存オゾンもしくは過酸化水素と反応することにより、ヒドロキシルラジカルを生成する。ヒドロキシルラジカルは、被処理中の難分解性化学物質を分解する。その他は実施の形態1と同様である。紫外線ランプによりヒドロキシルラジカルの発生を促進するので、第1の反応槽1に添加する過酸化水素の添加を抑制することができ、最終被処理水中の過酸化水素の溶存をなくすことができる。
以上により、実施の形態1の効果に加えて、ヒドロキシルラジカルの生成量を高め、難分解性化学物質の分解除去をより促進するという効果を奏する。
図7は本発明の実施の形態3に係る水処理装置の構成を示した図であり、81は第1の反応槽1に備え付けられた紫外線ランプである。その他は、図4と同様である。
次に、動作について説明する。紫外線ランプ8から照射された紫外線は、第1の反応槽1内の溶存オゾンもしくは過酸化水素と反応することにより、ヒドロキシルラジカルを生成する。ヒドロキシルラジカルは、被処理中の難分解性化学物質を分解する。その他は実施の形態1と同様である。紫外線ランプによりヒドロキシルラジカルの発生を促進するので、第1の反応槽1に添加する過酸化水素の添加を抑制することができ、最終被処理水中の過酸化水素の溶存をなくすことができる。
以上により、実施の形態1の効果に加えて、ヒドロキシルラジカルの生成量を高め、難分解性化学物質の分解除去をより促進するという効果を奏する。
また、第1の反応槽1においては難分解性化学物質の分解促進のためにヒドロキシルラジカルの生成が重要であるので、もともとの被処理水中のTOC濃度が低い場合は、図8のように第1の反応槽1の過酸化水素添加用の配管をなくした装置構成にしてもよい。このとき、紫外線の強度は、第1の反応槽1内の溶存オゾン濃度が検出されないように設定もしくは調節することが望ましい。
また、図7の別の変形例として図9のような装置構成とすることもできる。後段の第2の反応槽6に過酸化水素を添加することにより、図8の例よりもヒドロキシルラジカルの生成量を高め、図7の装置構成の場合と同等の効果を奏する。
実施の形態4.
図10は本発明の実施の形態4に係る水処理装置の構成を示した図であり、31は第2の反応槽6に過酸化水素を添加するための配管である。その他は、図7と同様である。
次に、動作について説明する。配管31を介して第2の反応槽6に添加された過酸化水素は、第2の反応槽6内に残存している過酸化水素と同様、紫外線ランプ8から照射された紫外線と反応し、ヒドロキシルラジカルを生じる。このヒドロキシルラジカルが、残存している難分解性化学物質の分解除去を促進する。その他は実施の形態3と同様である。
これは、被処理水中のTOC濃度が高く、第2の反応槽6においても多量のヒドロキシルラジカルの生成が必要な場合に有効である。
以上により、実施の形態3の効果に加えて、ヒドロキシルラジカルの生成量をさらに高め、難分解性化学物質の分解除去をより促進するという効果を奏する。
図10は本発明の実施の形態4に係る水処理装置の構成を示した図であり、31は第2の反応槽6に過酸化水素を添加するための配管である。その他は、図7と同様である。
次に、動作について説明する。配管31を介して第2の反応槽6に添加された過酸化水素は、第2の反応槽6内に残存している過酸化水素と同様、紫外線ランプ8から照射された紫外線と反応し、ヒドロキシルラジカルを生じる。このヒドロキシルラジカルが、残存している難分解性化学物質の分解除去を促進する。その他は実施の形態3と同様である。
これは、被処理水中のTOC濃度が高く、第2の反応槽6においても多量のヒドロキシルラジカルの生成が必要な場合に有効である。
以上により、実施の形態3の効果に加えて、ヒドロキシルラジカルの生成量をさらに高め、難分解性化学物質の分解除去をより促進するという効果を奏する。
以上の実施の形態1〜4においては、過酸化水素を反応槽に添加するように装置を構成しているが、反応槽に被処理水を導入するための配管に添加もしくは注入するように装置を構成してもよい。
また、オゾンガスの注入も散気手段に限るものではなく、インジェクタを用いて配管内に吸引するようにしてもよいし、予め作成しておいたオゾン溶解水を注入するように装置を構成してもよい。
また、以上の実施の形態においては、反応槽を2つ設けこれらを配管で接続しているが、1つの反応槽内に仕切りを設けて2つの区画に分離するようにしてもよい。
また、紫外線ランプを反応槽内に配置した例を示したが、反応槽の一部を紫外線等価ガラスにして反応槽外部から照射してもよい。
また、オゾンガスの注入も散気手段に限るものではなく、インジェクタを用いて配管内に吸引するようにしてもよいし、予め作成しておいたオゾン溶解水を注入するように装置を構成してもよい。
また、以上の実施の形態においては、反応槽を2つ設けこれらを配管で接続しているが、1つの反応槽内に仕切りを設けて2つの区画に分離するようにしてもよい。
また、紫外線ランプを反応槽内に配置した例を示したが、反応槽の一部を紫外線等価ガラスにして反応槽外部から照射してもよい。
1 第1の反応槽、 2、3、4、7、9、10、11、31 配管、
5 散気手段、 6 第2の反応槽、 8、81 紫外線ランプ。
5 散気手段、 6 第2の反応槽、 8、81 紫外線ランプ。
Claims (4)
- 過酸化水素の添加された被処理水にオゾンを導入するオゾン処理槽と、該オゾン処理槽に接続され、上記オゾン処理槽で処理された被処理水を導入し、該被処理水に紫外線を照射する手段を有する紫外線処理槽とを備えたことを特徴とする水処理装置。
- 紫外線処理槽に、過酸化水素導入手段を備えたことを特徴とする請求項1に記載の水処理装置。
- オゾン処理槽に、紫外線照射手段を備えたことを特徴とする請求項1または2に記載の水処理装置。
- 被処理水中の臭素酸イオンの生成を抑制しながら、ヒドロキシラジカルを生成して上記被処理水に作用させる工程と、上記被処理水中の過酸化水素成分をヒドロキシラジカルに変化させて上記被処理水中の過酸化水素成分を減少させる工程とを備えた水処理方法。
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