JP2006104497A - 蒸着装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 ガラス基板1が配置されて蒸着が行われる蒸着用容器3内に、蒸発材料を放出する放出孔11dが形成され、放出孔11dからガラス基板1に向かう蒸発材料の飛翔経路Xを遮断または開放するシャッター12と、シャッター12に付着した蒸着材料である蒸着物16を掻き落とすスクレーパー17を備え、シャッター巻取り部材14の巻取り回数が所定回数に到達するごとに、蒸着物16がスクレーパー17により掻き落とされるため、一連の成膜工程において蒸着物16が落下することを防止することができ、したがって蒸着により形成される薄膜の品質を向上させることができる。
【選択図】 図1
Description
このようなシャッターを備えた蒸着装置として、特許文献1には、異なる材料で形成された3基のシャッターが設けられており、蒸発材料に対応してシャッターを使い分けて、蒸発源の坩堝穴から被蒸着部材に対して蒸発材料の供給制御を行っている。これにより、一連の成膜工程において、各シャッター板に付着する蒸着物の量が少なくされ、また、各シャッター板の上部に設けられた遮閉壁を蒸着物質と同値または近似する値の熱膨張率を有する材料で形成し、蒸着物の剥離を阻止することにより、成膜時に蒸着物が蒸着源の坩堝内に落ち込み、膜品質(純度)が低下されることが抑制され、さらに、シャッター板のクリーニング間隔が長くなるため、装置の稼働率の向上がはかられていた。
以下に、本発明の実施の形態1に係る蒸着装置について、図面を参照しながら説明する。
蒸発用容器4の加熱用電熱線21aにより材料収納容器21内の蒸着材料が加熱され蒸発されると、蒸発した蒸着材料である蒸発材料は、連通穴部5aを介して放出用容器11へ導かれ、各放出孔11dよりガラス基板1へ放出される。
また、実施の形態1では、シャッター12が、放出用容器11と放出用容器11の上方に位置するガラス基板1との間に配置されるアップデポ方式の蒸着方法であったが、各部材および容器がそれぞれ逆方向に配置されるダウンデポ方式、もしくはアップデポ方式の状態で配置されている各部材および容器を90°回転させた状態の配置となるサイドデポ方式であってもよい。
[実施の形態2]
以下に、本発明の実施の形態2に係る蒸着装置について、図面を参照しながら説明する。
蒸発材料を材料収納容器21からガラス基板1へ放出する際、蒸発材料をガラス基板1の表面へ均一に蒸着させるため、放出用容器11の上方に位置するシャッター51を回転させ、蒸発材料の放出量を調整する。なお、放出用容器11の上方にシャッター51が位置したとき、シャッター51の下面に複数の蒸着物16が付着することとなる。
3 蒸着用容器
11d 放出孔
12 シャッター(遮蔽手段)
12e 開口部
13 テンションローラ(張り調整手段)
14 シャッター巻取り部材(巻取り手段)
15 冷却水用配管(冷却手段)
16 蒸着物
17 スクレーパー(除去手段)
X 飛翔経路
Claims (5)
- 蒸発された蒸着材料である蒸発材料を被蒸着部材に付着させて蒸着を行う蒸着装置であって、
前記被蒸着部材が配置されて蒸着が行われる蒸着用容器内に、
前記蒸発材料を放出する放出孔が形成され、前記放出孔から前記被蒸着部材に向かう前記蒸発材料の飛翔経路を遮断または開放する遮蔽手段と、
前記遮蔽手段に付着した蒸着材料である蒸着物を掻き落とす除去手段
を備えたこと
を特徴とする蒸着装置。 - 前記遮蔽手段は、シート状に形成され、前記蒸発材料の前記飛翔経路を開放する開口部を有すること
を特徴とする請求項1に記載の蒸着装置。 - 前記遮蔽手段の巻取りを行う巻取り手段を備え、前記巻取り手段により前記飛翔経路の遮断または開放が行われること
を特徴とする請求項2に記載の蒸着装置。 - 前記遮蔽手段の張りを均等にする張り調整手段を備え、前記張り調整手段に前記遮蔽手段を冷却する冷却手段を具備したこと
を特徴とする請求項2または請求項3に記載の蒸着装置。 - 前記除去手段は、前記飛翔経路外に配置されていること
を特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の蒸着装置。
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