JP2006097054A - 導電性ダイヤモンド電極及びその製造方法 - Google Patents
導電性ダイヤモンド電極及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006097054A JP2006097054A JP2004281887A JP2004281887A JP2006097054A JP 2006097054 A JP2006097054 A JP 2006097054A JP 2004281887 A JP2004281887 A JP 2004281887A JP 2004281887 A JP2004281887 A JP 2004281887A JP 2006097054 A JP2006097054 A JP 2006097054A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diamond
- conductive
- electrode
- substrate
- conductive diamond
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
- H01M4/00—Electrodes
- H01M4/02—Electrodes composed of, or comprising, active material
- H01M4/36—Selection of substances as active materials, active masses, active liquids
- H01M4/58—Selection of substances as active materials, active masses, active liquids of inorganic compounds other than oxides or hydroxides, e.g. sulfides, selenides, tellurides, halogenides or LiCoFy; of polyanionic structures, e.g. phosphates, silicates or borates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25C—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25C7/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells; Servicing or operating of cells
- C25C7/02—Electrodes; Connections thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
- C02F1/46104—Devices therefor; Their operating or servicing
- C02F1/46109—Electrodes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/02—Pretreatment of the material to be coated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B1/00—Electrolytic production of inorganic compounds or non-metals
- C25B1/01—Products
- C25B1/24—Halogens or compounds thereof
- C25B1/245—Fluorine; Compounds thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/073—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
- C02F1/46104—Devices therefor; Their operating or servicing
- C02F1/46109—Electrodes
- C02F2001/46133—Electrodes characterised by the material
- C02F2001/46138—Electrodes comprising a substrate and a coating
- C02F2001/46142—Catalytic coating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/10—Energy storage using batteries
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Abstract
【解決手段】 炭素質材料を含む導電性基材2、該導電性基材表面に被覆した導電性ダイヤモンド触媒層3及び前記導電性基材表面の露出部分に形成されたフッ化炭素6を含んで成る導電性ダイヤモンド電極1。形成されるフッ化炭素が導電性基材と電解液を接触を防止して基材の腐食が抑制され長寿命化が達成できる。
【選択図】 図1
Description
水溶液を電気分解すると、酸素、塩素、オゾン、過酸化水素などの酸化剤を発生させることが可能であり、また、一部OHラジカルなどの活性種も発生することが知られている。洗浄、殺菌、廃水処理などの水処理分野においても、これら酸化剤を利用した電気化学プロセスは利用されつつある。特に、水処理分野においては、電気化学プロセスは必ずしも薬品を使用する必要がないため、電気エネルギーのみで目的とする処理が可能なクリーンな技術として注目されている。
一般的な電気分解用電極としては、酸化鉛、酸化錫、白金、DSE、黒鉛、非晶質カーボンなどがある。黒鉛や非晶質カーボン材料は従来から電極材料として用いられているが、消耗性があり、特に陽分極では著しい消耗を示す。酸化鉛、酸化錫も陽分極時に消耗が進行することが知られている。
ダイヤモンドは熱伝導性、光学的透過性、高温かつ酸化に対する耐久性に優れており、特にドーピングにより電気伝導性の制御も可能であることから、半導体デバイス、エネルギー変換素子として有望とされている。
このような研究から、導電性ダイヤモンドは、耐食性、効率の両観点から優れた電極触媒として注目されており、導電性ダイヤモンド電極を使用した電気化学プロセスを使用すると、従来の電極を用いた場合より、有機物の分解効率や、ペルオキソ硫酸などの有用な酸化物の合成効率が向上することが期待されている。
電極触媒と基材の密着性向上と基材そのものの保護を目的として、基材表面に酸化物層を形成する技術が、酸化物電解浴でのDSEの基本的延命法として開示されている(特開昭57−192281)。しかしながら導電性ダイヤモンド電極用の基材表面にこのような酸化物中間層を形成しても、CVDダイヤモンド合成条件下では水素ラジカルなどにより酸化物中間層の大部分が還元されるため、目的とする電極触媒の密着性向上及び基材の耐食性向上の機能は発揮されないことが多い。
導電性ダイヤモンドのフッ化処理によるダイヤモンド触媒層への影響についてSineらは、単結晶シリコンを基材とする導電性ダイヤモンド電極に対してプラズマフッ素処理を行ったところ、ダイヤモンド触媒層がフッ素化されていることを確認し、その電気化学的特性はフッ素処理前の導電性ダイヤモンド電極と比較して、陽分極時の酸素発生過電圧は同じであったが、陰分極時の水素発生過電圧が増大することを報告している[Electrochemical and Solid-State Letters, 6(9)D9-D11(2003)]。
フッ素処理によって、導電性ダイヤモンド電極の電気化学特性は変化しているが、電気化学機能は損なわれていない。またFerroらは、単結晶シリコン基材導電性ダイヤモンド電極をプラズマフッ素処理することによって得られたフッ素化された導電性ダイヤモンド触媒、陽分極時の触媒寿命が延長される可能性を示唆している(Journal of Physical Chemistry B 2003,107,7567-7573)。
本発明は、前述した導電性基材表面のピンホール等の欠陥により生じる導電性基材の劣化を、当該導電性基材の前記欠陥に相当する表面部分をフッ素化することにより、電解液耐性を生じさせ、前記導電性基材の腐食を防止して長寿命化を達成しようとするものである。
つまり炭素質材料を主成分とする導電性基材上に導電性ダイヤモンドを合成し被覆した電極に、熱フッ素処理、電解フッ素処理などによりフッ素処理することによって、当該電極の電解耐久性を向上させることができる。その理由は、フッ素処理することによって、ダイヤモンド合成時に不可避的に発生する欠陥部の露出基材表面上に、表面エネルギーの小さなフッ化黒鉛等のフッ化炭素が形成され、該基材表面の電解液との濡れが阻害されることによって基材の腐食が防止され、ダイヤモンド触媒層の剥離が抑制されるものと推察できる。
導電性ダイヤモンド電極のフッ素処理は、熱フッ素処理、電解フッ素処理、プラズマフッ素処理などを利用することができるが、工業電解で使用する大型の導電性ダイヤモンド電極を提供する観点からは、大型の電極の処理が可能な熱フッ素処理および電解フッ素処理が好ましい。
熱フッ素処理に使用されるフッ素源は、フッ素、フッ化窒素、フッ化炭素などの気体をそのまま使用することができるが、窒素、アルゴン、ヘリウムなどの不活性気体によって1vol%以上100vol%未満の範囲で希釈してもよい。フッ素処理対象に該気体を供給し、処理温度0−600℃、処理圧力50−760Torrでフッ素化反応を進行させることができる。
これらのフッ素処理を行うと、フッ素成分が基材の露出部と導電性ダイヤモンド層に接触する。基材の露出部はフッ素化されて電気化学的に不活性なフッ化黒鉛などに変換され、前記導電性ダイヤモンド層の表面もフッ素化されるが、その電気化学的特性が損なわれることはない。
本発明で使用される導電性基材は少なくともその表面が、黒鉛、非晶質カーボン、炭化珪素などの炭素質材料であり、当該炭素質材料には導電性ダイヤモンド合成時に副次的に合成される炭素や炭素化合物も含まれる。
導電性ダイヤモンド合成方法としては、熱フィラメントCVD法、マイクロ波プラズマCVD法、プラズマアークジェット法およびPVD法などが挙げられるが、代表的な導電性ダイヤモンド電極合成方法として熱フィラメントCVD法について説明する。
あらかじめ他の材料から成る基材表面に炭素質材料層を形成する場合には、ダイヤモンド合成と同様に、CVD法やPVD法を利用することができる。該炭素質材料層の形成には、緻密で均質な薄膜を形成できるCVD法を利用するのが好ましく、炭素質材料層の導体抵抗を低減するために、厚さ1−50μmの薄膜とすることが望ましい。
本発明の導電性ダイヤモンド電極は、水処理、ペルオキソ硫酸、ペルオキソ炭酸などの合成、有機合成の他、食塩電解等の各種工業電解用に使用できる。
図1は、本発明の導電性ダイヤモンド電極の第1実施形態例を示す拡大縦断面図である。
このダイヤモンド電極1では、黒鉛や非晶質カーボン等の炭素、又は炭化珪素等の炭素化合物を主成分とする炭素質基材2表面に、導電性ダイヤモンド触媒層3が形成されている。この導電性ダイヤモンド触媒層3は、CVD法等を使用してアルコール等の炭素源から合成された多数のダイヤモンド粒子4により形成される。
形成された導電性ダイヤモンド触媒層3を構成する各ダイヤモンド粒子4間には、不可避的にピンホール5やクラックが生じる。このダイヤモンド触媒層3被覆導電性ダイヤモンド基材2を電極として使用すると、電解液がピンホール5から浸入して炭素質材料、例えば黒鉛を主成分とする導電性基材2表面に接触して炭素質材料を腐食させる。
この実施形態例でも第1実施形態例と同様に、ピンホール5に部分に相当する炭素質被覆7表面がフッ化黒鉛6に変換されて、電極として使用される際の電解液との濡れが回避され、電極の長寿命化が達成できる。
導電性基材として黒鉛板を使用して、以下の条件で熱フィラメントCVD装置を用いて前記導電性基材表面に導電性ダイヤモンドを合成し被覆した。
ダイヤモンド微粒子(3μm径)からなる研磨剤を用いて、基材表面を研磨し、表面の活性化、核付けを行った後、熱フィラメントCVD装置に装着した。炭素源としてはエチルアルコールを用い、これに炭化ホウ素を5000ppmの濃度で溶解させ炭素源容器内に収容した。
水素ガスを0.15L/minの速度で流し、一部は炭素源容器にバイパスさせ、水素に対するエチルアルコールガス濃度を1vol%とし、これらのガスをCVD装置内に流しながら、フィラメントに電流を流し、炭素ラジカルが生成する温度2400℃に昇温した。フィラメント直下にある基材温度を測定したところ、800℃であった。12時間CVD操作を継続した後、基材を取り出し、ラマン分光分析により分析したところ、ダイヤモンドが析出していることを確認し、SEM観察によるとその厚さは5μmであった。
このように作製したフッ素処理した導電性ダイヤモンド電極をPFA製電極治具に取り付けて面積0.5cm2を露出させて陽極とし、対極をジルコニウム板、極間を1cmとして、3wt%フッ化ナトリウム電解浴中、20℃、3A/dm2の条件で電解を行ったところ、1000時間経過後も安定した槽電圧を維持し、基材の腐食やダイヤモンド触媒層の剥離も観察されなかった。
実施例1と同様の方法で作製した導電性ダイヤモンド被覆基材の電解フッ素処理を以下の条件で実施した。前記基材を前記電極治具に取り付け、純水を100ppm添加したKF・2HF溶融塩電解浴中で陽極として使用し、陰極にニッケル板を使用して電流密度10A/dm2で30分間電解フッ素処理を行い、導電性ダイヤモンド電極とした。フッ素処理後の導電性ダイヤモンドをSEM観察によって分析した結果、フッ素処理前後でダイヤモンド触媒層の外観が変化していないことを確認した。実施例1と同様の電解を行ったところ、1000時間を経過した後も安定した槽電圧を維持し、基材の腐食やダイヤモンド触媒層の剥離も観察されなかった。
黒鉛基材表面にCVD法によって厚さ25μmの炭化珪素薄膜を被覆した導電性基材を使用して、実施例1と同様の条件で基材表面に導電性ダイヤモンドを合成し被覆した。この基材を、加熱容器内温度を300℃にした以外は実施例1と同様の方法で、熱フッ素処理を行い、導電性ダイヤモンド電極とした。実施例1と同様の電解を行ったところ、500時間経過後も安定した槽電圧を維持し、基材の腐食やダイヤモンド触媒層の剥離も観察されなかった。
実施例1と同様の方法で作製した導電性ダイヤモンド被覆基材に対してフッ素処理を行わずにそのまま導電性ダイヤモンド電極として実施例1と同様の電解を行ったところ、ダイヤモンド触媒層の剥離と基材の崩壊により30時間で電解不能となった。
実施例3と同様に作製した導電性ダイヤモンド被覆基材に対してフッ素処理を行わずにそのまま導電性ダイヤモンド電極として実施例1と同様の電解を行ったところ、200時間で槽電圧が上昇し、基材の腐食とダイヤモンド触媒層の剥離を確認した。
2 炭素質基材
3 導電性ダイヤモンド触媒層
4 ダイヤモンド粒子
5 ピンホール
6 フッ化黒鉛
7 炭素質被覆
8 導電性基材
Claims (4)
- 炭素質材料を含む導電性基材、該導電性基材表面に被覆した導電性ダイヤモンド触媒層及び前記導電性基材表面の露出部分に形成されたフッ化炭素を含んで成ることを特徴とする導電性ダイヤモンド電極。
- 炭素質材料が、黒鉛、非晶質カーボン、炭化珪素の少なくとも1つである請求項1記載の導電性ダイヤモンド電極。
- 炭素質材料を含む導電性基材表面に、ダイヤモンド原料から導電性ダイヤモンドを合成しかつ被覆し、当該導電性ダイヤモンド被覆導電性基材をフッ素処理することを特徴とする導電性ダイヤモンド電極の製造方法。
- フッ素処理が、熱フッ素処理及び/又は電解フッ素処理である請求項3記載の導電性ダイヤモンド電極の製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004281887A JP4535822B2 (ja) | 2004-09-28 | 2004-09-28 | 導電性ダイヤモンド電極及びその製造方法 |
US11/220,685 US7285194B2 (en) | 2004-09-28 | 2005-09-08 | Conductive diamond electrode and process for producing the same |
EP05019576.7A EP1640479B1 (en) | 2004-09-28 | 2005-09-08 | Conductive diamond electrode and process for producing the same |
TW094132275A TWI295697B (en) | 2004-09-28 | 2005-09-19 | Conductive diamond electrode and process for producing the same |
KR1020050089118A KR100803931B1 (ko) | 2004-09-28 | 2005-09-26 | 도전성 다이아몬드 전극 및 이의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004281887A JP4535822B2 (ja) | 2004-09-28 | 2004-09-28 | 導電性ダイヤモンド電極及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006097054A true JP2006097054A (ja) | 2006-04-13 |
JP4535822B2 JP4535822B2 (ja) | 2010-09-01 |
Family
ID=35447451
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004281887A Active JP4535822B2 (ja) | 2004-09-28 | 2004-09-28 | 導電性ダイヤモンド電極及びその製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7285194B2 (ja) |
EP (1) | EP1640479B1 (ja) |
JP (1) | JP4535822B2 (ja) |
KR (1) | KR100803931B1 (ja) |
TW (1) | TWI295697B (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009038192A1 (ja) | 2007-09-20 | 2009-03-26 | Toyo Tanso Co., Ltd. | 炭素質基材及びフッ素発生電解用電極 |
JP2012057255A (ja) * | 2011-12-06 | 2012-03-22 | Permelec Electrode Ltd | 電解用陽極を使用するフッ素含有物質の電解合成方法 |
JP2012193415A (ja) * | 2011-03-17 | 2012-10-11 | Central Glass Co Ltd | フッ素化合物の電解合成用電極 |
EP2843080A1 (en) | 2013-08-26 | 2015-03-04 | Yokogawa Electric Corporation | Method for treating surface of diamond thin film, method for forming transistor, and sensor device |
KR101625010B1 (ko) | 2009-02-02 | 2016-05-27 | 드 노라 페르멜렉 가부시키가이샤 | 불소 함유 화합물의 전해 합성 방법 |
JP2016223006A (ja) * | 2015-05-27 | 2016-12-28 | グローバル フロンティア ハイブリッド インターフェイス マテリアルズ | 多層界面構造を持つ水処理用DLC/Ti電極体及びその製造方法 |
KR20190063250A (ko) * | 2017-11-29 | 2019-06-07 | 효성화학 주식회사 | 내구성이 향상된 금속전극 및 이의 제조방법 |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3893397B2 (ja) * | 2005-03-14 | 2007-03-14 | ペルメレック電極株式会社 | 電解用陽極および該電解用陽極を使用するフッ素含有物質の電解合成方法 |
JP5000121B2 (ja) * | 2005-10-31 | 2012-08-15 | ペルメレック電極株式会社 | 酸素還元ガス拡散陰極及び食塩電解方法 |
AT503402B1 (de) * | 2006-04-10 | 2008-02-15 | Pro Aqua Diamantelektroden Pro | Verfahren zur herstellung einer diamantelektrode und diamantelektrode |
JP4644170B2 (ja) * | 2006-09-06 | 2011-03-02 | 栗田工業株式会社 | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP4460590B2 (ja) * | 2007-06-22 | 2010-05-12 | ペルメレック電極株式会社 | 導電性ダイヤモンド電極構造体及びフッ素含有物質の電解合成方法 |
ES2799800T3 (es) * | 2008-07-17 | 2020-12-21 | Schunk Kohlenstofftechnik Gmbh | Electrodo para la electrolisis |
US8221599B2 (en) * | 2009-04-03 | 2012-07-17 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Corrosion-resistant anodes, devices including the anodes, and methods of using the anodes |
ES2652601T3 (es) | 2010-12-03 | 2018-02-05 | Electrolytic Ozone Inc. | Celda electrolítica para la producción de ozono |
KR101480023B1 (ko) * | 2014-05-29 | 2015-01-07 | 주식회사 아벡테크 | 다이아몬드 전극 및 그 제조 방법 |
ES2656677T3 (es) * | 2015-09-24 | 2018-02-28 | Schunk Kohlenstofftechnik Gmbh | Electrodo de diamante |
ES2964898T3 (es) | 2015-12-16 | 2024-04-10 | 6K Inc | Metales deshidrogenados esferoidales y partículas de aleaciones metálicas |
AU2020264446A1 (en) | 2019-04-30 | 2021-11-18 | 6K Inc. | Mechanically alloyed powder feedstock |
CA3153254A1 (en) | 2019-11-18 | 2021-06-17 | 6K Inc. | Unique feedstocks for spherical powders and methods of manufacturing |
US11590568B2 (en) | 2019-12-19 | 2023-02-28 | 6K Inc. | Process for producing spheroidized powder from feedstock materials |
JP2023532457A (ja) | 2020-06-25 | 2023-07-28 | シックスケー インコーポレイテッド | 微細複合合金構造体 |
CA3186082A1 (en) | 2020-09-24 | 2022-03-31 | 6K Inc. | Systems, devices, and methods for starting plasma |
JP2023548325A (ja) | 2020-10-30 | 2023-11-16 | シックスケー インコーポレイテッド | 球状化金属粉末の合成のためのシステムおよび方法 |
CN112768711B (zh) * | 2021-01-09 | 2022-04-29 | 广州德百顺蓝钻科技有限公司 | 燃料电池的表面改性蓝钻催化剂及制备方法和燃料电池 |
CA3214233A1 (en) | 2021-03-31 | 2022-10-06 | Sunil Bhalchandra BADWE | Systems and methods for additive manufacturing of metal nitride ceramics |
US12040162B2 (en) | 2022-06-09 | 2024-07-16 | 6K Inc. | Plasma apparatus and methods for processing feed material utilizing an upstream swirl module and composite gas flows |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09195079A (ja) * | 1996-01-17 | 1997-07-29 | Permelec Electrode Ltd | 電解水製造用電解槽 |
JP2003155588A (ja) * | 2001-11-15 | 2003-05-30 | Permelec Electrode Ltd | 有機化合物の電解製造方法及び電解製造用電極 |
JP2004231983A (ja) * | 2003-01-28 | 2004-08-19 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ダイヤモンド被覆電極 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6021232B2 (ja) | 1981-05-19 | 1985-05-25 | ペルメレツク電極株式会社 | 耐久性を有する電解用電極及びその製造方法 |
JPS605010A (ja) * | 1983-06-22 | 1985-01-11 | Asahi Chem Ind Co Ltd | フツ素化炭素の製造方法 |
US5399247A (en) * | 1993-12-22 | 1995-03-21 | Eastman Kodak Company | Method of electrolysis employing a doped diamond anode to oxidize solutes in wastewater |
JP4157615B2 (ja) | 1998-03-18 | 2008-10-01 | ペルメレック電極株式会社 | 不溶性金属電極の製造方法及び該電極を使用する電解槽 |
RU2149831C1 (ru) * | 1998-11-02 | 2000-05-27 | Акционерное Общество Закрытого Типа АСТОР | Способ получения фторидов углерода |
JP4116726B2 (ja) * | 1999-02-04 | 2008-07-09 | ペルメレック電極株式会社 | 電気化学的処理方法及び装置 |
JP2001192874A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-17 | Permelec Electrode Ltd | 過硫酸溶解水の製造方法 |
JP2002338388A (ja) * | 2001-02-15 | 2002-11-27 | Ngk Insulators Ltd | ダイヤモンドコート部材 |
JP4456378B2 (ja) * | 2004-02-24 | 2010-04-28 | ペルメレック電極株式会社 | 導電性ダイヤモンド電極の製造方法 |
-
2004
- 2004-09-28 JP JP2004281887A patent/JP4535822B2/ja active Active
-
2005
- 2005-09-08 US US11/220,685 patent/US7285194B2/en active Active
- 2005-09-08 EP EP05019576.7A patent/EP1640479B1/en not_active Not-in-force
- 2005-09-19 TW TW094132275A patent/TWI295697B/zh active
- 2005-09-26 KR KR1020050089118A patent/KR100803931B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09195079A (ja) * | 1996-01-17 | 1997-07-29 | Permelec Electrode Ltd | 電解水製造用電解槽 |
JP2003155588A (ja) * | 2001-11-15 | 2003-05-30 | Permelec Electrode Ltd | 有機化合物の電解製造方法及び電解製造用電極 |
JP2004231983A (ja) * | 2003-01-28 | 2004-08-19 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ダイヤモンド被覆電極 |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009038192A1 (ja) | 2007-09-20 | 2009-03-26 | Toyo Tanso Co., Ltd. | 炭素質基材及びフッ素発生電解用電極 |
US8282796B2 (en) | 2007-09-20 | 2012-10-09 | Toyo Tanso Co., Ltd. | Carbonaceous substrate and electrode for fluorine-producing electrolysis |
JP5345060B2 (ja) * | 2007-09-20 | 2013-11-20 | 東洋炭素株式会社 | 炭素質基材及びフッ素発生電解用電極 |
JP2014005541A (ja) * | 2007-09-20 | 2014-01-16 | Toyo Tanso Kk | フッ素電解用電極 |
KR101625010B1 (ko) | 2009-02-02 | 2016-05-27 | 드 노라 페르멜렉 가부시키가이샤 | 불소 함유 화합물의 전해 합성 방법 |
JP2012193415A (ja) * | 2011-03-17 | 2012-10-11 | Central Glass Co Ltd | フッ素化合物の電解合成用電極 |
JP2012057255A (ja) * | 2011-12-06 | 2012-03-22 | Permelec Electrode Ltd | 電解用陽極を使用するフッ素含有物質の電解合成方法 |
EP2843080A1 (en) | 2013-08-26 | 2015-03-04 | Yokogawa Electric Corporation | Method for treating surface of diamond thin film, method for forming transistor, and sensor device |
US9373506B2 (en) | 2013-08-26 | 2016-06-21 | Yokogawa Electric Corporation | Method for treating surface of diamond thin film, method for forming transistor, and sensor device |
JP2016223006A (ja) * | 2015-05-27 | 2016-12-28 | グローバル フロンティア ハイブリッド インターフェイス マテリアルズ | 多層界面構造を持つ水処理用DLC/Ti電極体及びその製造方法 |
KR20190063250A (ko) * | 2017-11-29 | 2019-06-07 | 효성화학 주식회사 | 내구성이 향상된 금속전극 및 이의 제조방법 |
KR101989519B1 (ko) * | 2017-11-29 | 2019-06-14 | 효성화학 주식회사 | 내구성이 향상된 금속전극 및 이의 제조방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200617210A (en) | 2006-06-01 |
EP1640479B1 (en) | 2016-11-09 |
US20060066203A1 (en) | 2006-03-30 |
KR20060051632A (ko) | 2006-05-19 |
TWI295697B (en) | 2008-04-11 |
KR100803931B1 (ko) | 2008-02-18 |
JP4535822B2 (ja) | 2010-09-01 |
EP1640479A1 (en) | 2006-03-29 |
US7285194B2 (en) | 2007-10-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4535822B2 (ja) | 導電性ダイヤモンド電極及びその製造方法 | |
US5900127A (en) | Electrode for electrolysis and electrolytic cell using the electrode | |
JP3893397B2 (ja) | 電解用陽極および該電解用陽極を使用するフッ素含有物質の電解合成方法 | |
JP4500745B2 (ja) | 電解用電極の製造方法 | |
JP4673696B2 (ja) | 導電性ダイヤモンド電極及びその製造方法 | |
JPH09268395A (ja) | 電解用電極及び該電極を使用する電解槽 | |
US7211177B2 (en) | Electrode for electrolysis in acidic media | |
TWI415973B (zh) | 三氟化氮之電解合成方法 | |
TWI252216B (en) | Functional water, method and apparatus of producing the same, and method and apparatus of rinsing electronic parts therewith | |
JP5271345B2 (ja) | 導電性ダイヤモンド電極、これを用いた、硫酸電解方法及び硫酸電解装置 | |
JP4756572B2 (ja) | 多孔性ダイヤモンド層及び多孔性ダイヤモンド粒子の製造方法及びそれらを使用する電気化学用電極 | |
JP5172084B2 (ja) | ダイヤモンド被覆基板、濾過フィルター及び電極 | |
JP4071980B2 (ja) | 電子部品の洗浄方法及び装置 | |
JP2009052095A (ja) | 導電性ダイヤモンド電極の賦活化方法及び賦活化された電極を使用する電解方法 | |
JP4053805B2 (ja) | 機能水、その製造方法及び製造装置 | |
JP2005103498A (ja) | 化学めっき廃液の電解処理装置及び方法 | |
JP2001262388A (ja) | 電解用電極 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061208 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090414 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090519 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090721 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100609 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100615 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130625 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4535822 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |