JP2006086182A - 電子ビーム描画方法および電子ビーム描画装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】格子状に配列された複数のビームを生成する手段と描画パターンをビームのオンオフ情報に変換する手段と複数のビームを個別にON/OFFする手段と複数のビームの格子形状の補正量を求める手段と複数のビームの照射位置を独立に制御し複数ビームの格子形状を補正する手段と格子状に配列された複数のビームの照射位置を一斉に偏向する手段と一斉に偏向する際の偏向形状を補正する手段を具備し、複数ビームの格子形状および一斉偏向形状を補正しながら描画を行うことを特徴とする。
【選択図】図1
Description
Claims (6)
- 複数の電子ビームを用いて描画を行う電子ビーム描画方法において、
格子状に配列される前記複数の電子ビームを生成する手段と、
描画する描画パターンを前記電子ビームの照射量情報に変換する手段と、
前記複数の電子ビームを個別にオンオフする手段と、
前記複数の電子ビームが描画する格子形状の中心位置を補正するための補正量を求める手段と、
前記複数のビームの照射位置を独立に制御し、かつ前記補正量を求める手段から受けた補正量に基づいて前記複数の電子ビームの格子形状の中心位置を補正する手段と、
前記格子状に配列された複数の電子ビームの照射位置を一斉に偏向する手段と一斉に偏向する際の偏向形状に傾きの補正を加える手段を具備し、
前記複数の電子ビームが描く前記格子形状および前記偏向形状を補正しながら描画することを特徴とする電子ビーム描画方法。 - 請求項1記載の電子ビーム描画方法において、
前記複数のビームが描画する前記格子形状および前記偏向形状を、主偏向の偏向量や偏向ひずみ補正量、および試料表面の高さに応じて変えることを特徴とする電子ビーム描画方法。 - 請求項1記載の電子ビーム描画方法において、
前記複数のビームが描画する前記格子形状および前記偏向形状を、ウエハの下地の形状やマスクのなどのひずみ形状に合わせて補正することを特徴とする電子ビーム描画方法。 - 複数の電子ビームを用いて、描画を行う電子ビーム描画装置において、
格子状に配列された複数のビームを生成する電子銃ないしブランキングアレイを含むビーム発生部と、
描画する描画パターンをビームのオンオフ情報に変換するパターン展開部と、
前記パターン展開部で変換されたビームのオンオフ情報にしたがって、前記複数のビームを個別にオンオフするブランキング制御部と、
前記ブランキング制御部にてオンオフされた前記複数のビームを一斉に偏向して照射位置を制御する偏向制御部とを有し、
前記複数のビームが一斉に偏向する際の偏向形状に傾きの補正を加える手段を備え、前記偏向制御部は、前記ブランキング制御部との同期動作により前記複数の電子ビームが描画する格子形状の中心位置を補正するための補正量を演算し、
前記補正量にしたがって前記ブランキング制御部にて偏向信号に対する前記複数のビームの前記格子形状を補正し、かつ、前記偏向制御部にて前記複数のビームを偏向する前記偏向形状を補正しながら描画を行うことを特徴とする電子ビーム描画装置。 - 請求項4記載の電子ビーム描画装置において、前記複数のビームが描画する前記格子形状および前記偏向形状を、主偏向の偏向量や偏向ひずみ補正量、および試料表面の高さに応じて変えることを特徴とする電子ビーム描画装置。
- 請求項4記載の電子ビーム描画装置において、
前記複数のビームが描画する前記格子形状および前記偏向形状を、ウエハの下地の形状やマスクのなどのひずみ形状に合わせて補正することを特徴とする電子ビーム描画装置。
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