JP2006072147A5 - - Google Patents
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- 光を透過する透過パターンと光を遮光する遮光パターンとが設けられている試料の欠陥を検出して検査を行う検査装置であって、
透過照明光源と、
前記透過照明光源からの光を集光して前記試料に出射する透過照明光学系と、
透過像を撮像するため、前記透過照明光学系から前記試料に出射された光のうち前記試料を透過した透過光を検出する透過側検出器と、
落射照明光源と、
前記落射照明光源からの光を集光して前記試料に出射する落射照明光学系と、
反射像を撮像するため、前記落射照明光学系から前記試料に出射された光のうち前記試料で反射した反射光を検出する反射側検出器と、
欠陥のない箇所において、前記透過像と反射像との間の位置ずれ量を算出する位置ずれ量算出部と、
前記透過像又は前記反射像の一方の像において、前記試料に設けられたパターンの輪郭を抽出する輪郭抽出部と、
前記輪郭を抽出した像の前記輪郭における輝度の傾斜方向を算出する傾斜方向算出部と、
前記位置ずれ量と前記輝度の傾斜方向とに基づいて前記輪郭をずらした位置を求め、前記輪郭をずらした位置における前記輪郭を抽出した像の他方の像の輝度に基づいて欠陥判定を行う欠陥判定部とを備える検査装置。 - 欠陥のない箇所において、前記透過像又は前記反射像の一方の像におけるパターンエッジ近傍での輝度の傾斜量を算出する傾斜量算出部をさらに備え、
前記輪郭抽出部が前記傾斜量を算出した像の輪郭を抽出し、
前記欠陥判定部が前記輪郭をずらした位置を前記輝度の傾斜量に基づいて求める請求項1記載の検査装置。 - 前記欠陥判定部が、前記輪郭をずらした位置における画素の周辺画素の輝度で前記輪郭をずらした位置における輝度を補完して欠陥判定を行う請求項1又は2に記載の検査装置。
- 前記落射照明光学系が、前記落射照明光源からの光を集光して試料に出射する第1のレンズを備え、
前記第1のレンズを介して、前記落射照明光源からの光が前記反射側検出器に検出され、
前記透過照明光学系が前記透過照明光源からの光を集光して試料に出射する第2のレンズを備え、
前記第1のレンズを介して前記透過照明光源からの光が前記透過側検出器に検出され、
前記落射照明光源からの光が前記第1のレンズの視野の一部である第1の領域に入射して前記反射側検出器で検出され、前記透過照明光源からの光が前記第1のレンズの視野の一部であり前記第1の領域からずれた第2の領域に入射して前記透過側検出器で検出される請求項1、2又は3に記載の検査装置。 - 落射照明光源と、
前記落射照明光源からの光を集光して試料に出射する第1のレンズと、
前記第1のレンズから前記試料に出射した光のうち、前記試料で反射した反射光を前記第1のレンズを介して検出する反射側検出器と、
透過照明光源と、
前記透過照明光源からの光を集光して前記試料に出射する第2のレンズと、
前記第2のレンズから前記試料に出射した光のうち、前記試料を透過した透過光を前記第1のレンズを介して検出する透過側検出器とを備え、
前記落射照明光源からの光が前記第1のレンズの視野の一部である第1の領域に入射して前記反射側検出器で検出され、前記透過照明光源からの光が前記第1のレンズの視野の一部であり前記第1の領域からずれた第2の領域に入射し、前記反射光と異なる方向に前記反射光から分岐された前記透過光を前記透過側検出器で検出される検査装置。 - 反射部材をさらに有し、
反射光又は/及び透過光を前記第1のレンズを介して反射部材に入射させて、前記透過光と前記反射光とを分岐させる請求項5に記載の検査装置。 - 前記透過照明光源と前記落射照明光源とが同じ波長の光を出射する光源である請求項4、5又は6に記載の検査装置。
- 前記落射照明光源と前記第1のレンズとの間に配置され、前記落射照明光源からの光が前記第1の領域に入射するよう前記落射照明光源からの光を遮る第1の絞りと、
前記透過照明光源と前記第2のレンズとの間に配置され、前記透過照明光源からの光が前記第2の領域に入射するよう前記透過照明光源からの光を遮る第2の絞りとをさらに備える請求項4乃至7のいずれかに記載の検査装置。 - 光を透過する透過パターンと光を遮光する遮光パターンとが設けられている試料の欠陥を検出して検査を行う欠陥検査方法であって、
前記試料を透過した透過光を検出して透過像を撮像する透過像撮像ステップと、
前記試料で反射した反射光を検出して反射像を撮像する反射像撮像ステップと、
欠陥のない箇所において、前記透過像と前記反射像との間の位置ずれ量を算出する位置ずれ量算出ステップと、
前記透過像又は前記反射像の一方の像において、前記試料に設けられたパターンの輪郭を抽出する輪郭抽出ステップと、
前記輪郭を抽出した像の前記輪郭における輝度の傾斜方向を算出する傾斜方向算出ステップと、
前記位置ずれ量と前記輝度の傾斜方向とに基づいて前記輪郭をずらした位置を算出するステップと、
前記輪郭をずらした位置における前記輪郭を抽出した像の他方の像の輝度に基づいて欠陥判定を行う欠陥判定ステップとを有する検査方法。 - 欠陥のない箇所において、前記透過像又は前記反射像の一方の像においてパターンエッジ近傍での輝度の傾斜量を算出するステップをさらに備え、
前記輪郭抽出ステップでは、前記傾斜量を求めた像の輪郭を抽出し、
前記欠陥判定ステップでは、前記輪郭をずらした位置を前記輝度の傾斜量に基づいて求める請求項9に記載の検査方法。 - 前記欠陥判定ステップでは、前記輪郭をずらした位置における画素の周辺画素の輝度で前記輪郭をずらした位置における輝度を補完して欠陥判定を行う請求項9又は10に記載の検査方法。
- 落射照明光源からの光を第1のレンズに入射させるステップと、
前記第1のレンズに入射した前記落射照明光源からの光を前記第1のレンズの視野の一部である第1の領域に集光して試料に入射させるステップと、
前記落射照明光源から前記試料に入射した光のうち、前記試料で反射した反射光を前記第1のレンズに入射させるステップと、
透過照明光源からの光を第2のレンズに入射させるステップと、
前記第2のレンズに入射した前記透過照明光源からの光を前記第1のレンズの視野の一部であり前記第1の領域からずれた第2の領域に集光して前記試料に入射させるステップと、
前記透過照明光源から前記試料に入射した光のうち、前記試料を透過した透過光を前記第1のレンズに入射させるステップと、
前記第1のレンズから出射された前記透過光と前記反射光とを分岐させるステップと、
前記反射光から分岐された前記透過光を透過側検出器で検出するステップと、
前記透過光から分岐された前記反射光を反射側検出器で検出するステップとを有する検査方法。 - 前記透過光と前記反射光とを分岐させるステップでは、反射光又は/及び透過光を前記第1のレンズを介して反射部材に入射させて、反射光と透過光とを分岐させる請求項12に記載の検査方法。
- 前記透過光と前記反射光とが略同時に検出される請求項12又は13に記載の検査方法。
- 請求項9乃至請求項14のいずれか一項に記載の検査方法により、フォトマスクを検査する検査ステップと、
前記検査ステップによって検査されたフォトマスクの欠陥を修正する欠陥修正ステップと、
前記欠陥修正ステップで修正されたフォトマスクを介して基板を露光する露光ステップと、
前記露光された基板を現像する現像ステップを有するパターン基板の製造方法。
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