JP2006041313A - 光半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 絶縁基体の凹部と透光性蓋体との密閉空間に内在した異物が浮遊異物として光半導体素子の受光部に付着し固着することがなくなり、光半導体素子に外光を長期にわたって歪を生じることなく正常に受光させることができ、正常な電気信号を外部の機器や素子などに送ることが可能な信頼性の高い光半導体装置を提供すること。
【解決手段】 光半導体装置9は、上面に光半導体素子3を収容し搭載するための凹部1aを有する絶縁基体1と、絶縁基体1の凹部1aの内側から外側に導出された配線導体2と、絶縁基体1の凹部1aの底面に搭載されるとともに電極4が配線導体2に電気的に接続された、上面の中央部に受光部3aを有する光半導体素子3と、絶縁基体1の上面に凹部1aを塞ぐようにして取着された、受光部3aを取り囲む突条部5aが下面に形成されている透光性蓋体5とを具備している。
【選択図】 図1
【解決手段】 光半導体装置9は、上面に光半導体素子3を収容し搭載するための凹部1aを有する絶縁基体1と、絶縁基体1の凹部1aの内側から外側に導出された配線導体2と、絶縁基体1の凹部1aの底面に搭載されるとともに電極4が配線導体2に電気的に接続された、上面の中央部に受光部3aを有する光半導体素子3と、絶縁基体1の上面に凹部1aを塞ぐようにして取着された、受光部3aを取り囲む突条部5aが下面に形成されている透光性蓋体5とを具備している。
【選択図】 図1
Description
本発明は、フォトダイオード,ラインセンサ,イメージセンサ等の受光素子である光半導体素子またはこれらの受光部を有する光半導体素子等を具備した光半導体装置に関する。
従来のフォトダイオード(PD),ラインセンサ,イメージセンサ等の受光素子である光半導体素子またはこれらの受光部を有する光半導体素子を具備した光半導体装置を構成する絶縁基体は、上面に光半導体素子を収容するための凹部が形成されている。また、絶縁基体の凹部の内側から外側に配線導体が導出されている。
光半導体素子は絶縁基体の凹部内に収容されるとともに凹部の底面に樹脂接着剤等により接合されて搭載されており、その光半導体素子の上面の外周部等には電極が設けられている。光半導体素子の電極と上記配線導体のうち凹部の内側に露出した部位とが、Au,Al等から成るボンディングワイヤにより電気的に接続される。また、平板状の透光性蓋体が絶縁基体の上面に凹部を塞ぐようにして接合材を介して取着されている。
このように従来の光半導体装置は、透光性蓋体を有することにより、光半導体装置の内部空間にゴミなどの異物が侵入することを防止するとともに、光半導体装置の内部空間を密閉空間とすることで、外部雰囲気の湿気が光半導体装置内に侵入するのを極力防ぐようにして、光半導体素子の耐久性を向上させるようにしている。
そして、透光性蓋体を通して凹部内に進入した外光は、光半導体素子の受光部で受光されるとともに、光半導体素子により電気信号に変換される。変換されて生じた電気信号は、配線導体によって凹部の外側に導出され、光半導体装置の外部に配置された各種の機器や素子などに送られる。
なお、従来のPD,ラインセンサ,イメージセンサ等の受光素子である光半導体素子またはこれらの受光部を有する光半導体素子を具備した光半導体装置において、絶縁基体と透光性蓋体とを接合する接合材としては、一般的にシリカフィラーを混入させたエポキシ樹脂やフェノール樹脂,クレゾール樹脂,粉体カーボンとシリコン樹脂粒子の混合体等が使用されている。
また、絶縁基体は酸化アルミニウム質焼結体やガラスセラミック焼結体等の焼結体(セラミックス)、エポキシ樹脂等の樹脂材料等により形成されており、例えばセラミック粉末を有機溶剤,樹脂バインダーとともにシート状に加工して得たセラミックグリーシートを積層し、焼成することにより作製される。
特開1993−335534号公報
しかしながら、従来の光半導体装置においては、光半導体素子を気密封止している密閉空間内への外部からのゴミなどの異物や湿気等の侵入は効果的に防止することができるものの、透光性蓋体で凹部を塞いで密閉空間を形成する際に凹部内に残留している異物や、密閉空間内で新たに発生した微細な異物等が光半導体素子の受光部に付着し、受光特性が低下し易いという問題があった。また、この場合製品歩留まりも低下してしまう。
このような密閉空間内の異物としては、透光性蓋体を絶縁基体の上面に取着する前に異物の物理的除去法(エアーブロー法、粘着樹脂による除去方法等)により除去しきれなかった残留異物、透光性蓋体を絶縁基体の上面に位置決め載置し取着する封止工程における混入や巻き込みによる異物、絶縁基体を構成する焼結体等の材料の微細な破片、光半導体素子を絶縁基体に接着させる接着剤、透光性蓋体を接合させる接合材等から発塵し密閉空間内に生じた異物等がある。これらの異物が、封止工程以降の工程、また完成品として出荷し輸送した際における振動等により、密閉空間内を移動し、一部が平板状の透光性蓋体の下面と光半導体素子の上面との間の空間に舞い込んで降下し光半導体素子の受光部に付着する。
特に、近時、PD,ラインセンサ,イメージセンサ等の光半導体素子は、画像の精細化やセンサとしての検知精度の高精度化等の要求に応じて、受光部が非常に精細に形成されているため、1μm以下の微小な異物の付着や固着でも、上記のような受光特性の低下や製造歩留まりの低下等の問題を生じてしまう。
従って、本発明は上記問題点に鑑みて完成されたものであり、その目的は、光半導体素子の受光部に、特に密閉空間内に存在する異物が付着するようなことが効果的に防止され、正常な電気信号を外部の機器や素子などに送ることが可能な信頼性の高い光半導体装置を提供することである。
本発明の光半導体装置は、上面に光半導体素子を収容し搭載するための凹部を有する絶縁基体と、該絶縁基体の前記凹部の内側から外側に導出された配線導体と、前記絶縁基体の前記凹部の底面に搭載されるとともに電極が前記配線導体に電気的に接続された、上面の中央部に受光部を有する光半導体素子と、前記絶縁基体の上面に前記凹部を塞ぐようにして取着された、前記受光部を取り囲む突条部が下面に形成された透光性蓋体とを具備していることを特徴とする。
本発明の光半導体装置は好ましくは、前記突条部は、その下端が前記受光部と前記電極との間に位置するようにして形成されていることを特徴とする。
また、本発明の光半導体装置は好ましくは、前記突条部は、その下端と、前記光半導体素子の前記受光部と前記電極との間の表面との間の間隔が、10乃至50μmであることを特徴とする。
また、本発明の光半導体装置は好ましくは、前記突条部は、その外側面が下端から上端に向かうに伴って漸次外側に広がるように傾斜していることを特徴とする。
本発明の光半導体装置によれば、絶縁基体の凹部を塞ぐようにして取着された透光性蓋体は、下面に受光部を取り囲む突条部が形成されていることから、透光性蓋体の下面と光半導体素子の上面の受光部との間の空間は、外周部分が突条部で取り囲まれて、その外側と有効に遮断されることになり、この空間内に密閉空間内の異物が舞い込むことを抑制し、受光部に異物が降下し付着することを効果的に防止することができる。
また、受光部に位置する透光性蓋体の部分には突条部の内側面によって段差が形成されており、その結果透光性蓋体が光半導体素子の受光部に接触することがなく、受光部にキズ等の損傷を与えることを防止することができる。その結果、光半導体素子の受光部に、特に密閉空間内に存在する異物が付着するようなことが効果的に防止された、正常な電気信号を外部の機器や素子などに送ることが可能な信頼性の高い光半導体装置を提供することができる。また、製品歩留まりも高くすることができる。
また、本発明の光半導体装置は好ましくは、突条部は、その下端が受光部と電極との間に位置するようにして形成されていることから、受光部の全周にわたって確実に、透光性蓋体の下面と光半導体素子の上面の受光部との間の空間を突条部で取り囲んで遮断することができる。また、突条部の下端が受光部や電極、電極に接続されているボンディングワイヤ等に誤って接触して損傷を与えることをより確実に防止することができ、信頼性や受光特性により一層優れた光半導体装置とすることができる。
また、本発明の光半導体装置は好ましくは、突条部は、その下端と、光半導体素子の受光部と電極との間の表面との間の間隔が、10乃至50μmであることから、突条部の下端が光半導体素子の受光部や電極、電極に接続されているボンディングワイヤ等に誤って接触して損傷を与えることをより確実に防止することができる。また、突条部の下端と光半導体素子の表面との間の間隔を、異物の通過をより確実に防ぐことができる程度に狭いものとして受光部への異物の降下、付着をより有効に防止することができ、信頼性や受光特性に極めて優れた光半導体装置とすることができる。
本発明の光半導体装置は好ましくは、突条部は、その外側面が下端から上端に向かうに伴って漸次外側に広がるように傾斜していることから、突条部の機械的強度を向上させることができ、大きな衝撃が加わるような環境で使われた場合でも突条部に割れ等の機械的な破壊が生じることが効果的に防止された、信頼性の高い光半導体装置とすることができる。また、突条部の外側面が外側に広がっているので、受光部の上方からの光を透光性蓋体によって確実に導くことができ、透光性蓋体を通って受光部に達する外光を遮ることはなく、光半導体装置としての受光精度を良好に確保することができる。
本発明の光半導体装置について以下に詳細に説明する。図1は本発明の光半導体装置について実施の形態の一例を示す断面図である。図1において、1は絶縁基体、2は配線導体、3は光半導体素子、4は光半導体素子3の電極、5は透光性蓋体、6は光半導体素子3を絶縁基体1に接合し搭載するための接着剤、7は透光性蓋体5を絶縁基体1に取着するための接合材、8はボンディングワイヤである。これらの絶縁基体1、配線導体2、光半導体素子3および透光性蓋体5により、光半導体装置9が主に構成されている。
絶縁基体1は、その上面に形成された凹部1aに光半導体素子3が収容されて凹部1aの底面に接着剤6により接合されて搭載される。この光半導体素子3は上面に受光部3aが設けられており、また光半導体素子3の上面の外周部には電源用や信号用等の電極4が設けられている。また、凹部1aの内側から外側にかけて配線導体2が導出されており、凹部1aの内側に露出した配線導体2と光半導体素子3の電極4とがAu,Al等から成るボンディングワイヤ8で電気的に接続されている。
さらに、絶縁基体1の上面の凹部1aの周囲の全周に樹脂接着剤等から成る接合材7を介して、ガラス,石英,サファイア,透明樹脂等から成る透光性蓋体5が接合されて取着されている。
本発明における絶縁基体1は、アルミナ質焼結体(アルミナセラミックス),窒化アルミニウムセラミックス,炭化珪素セラミックス,窒化珪素セラミックス,ガラスセラミックス等のセラミックス、樹脂等から成る。そして、絶縁基体1はその底板部の上面の外周部に別体の枠状の側壁部が設けられているか、または絶縁基体1の底板部と側壁部とが一体的に形成されていてもよい。
絶縁基体1は、例えば、アルミナ質焼結体から成り、底板部と側壁部とが一体に焼成して形成されている場合、アルミナ,シリカ等の原料粉末を有機溶剤,樹脂バインダーとともにシート状に成形して複数のセラミックグリーンシート(以下、グリーンシートともいう)を作製するとともに、一部のグリーンシートを枠状に打ち抜いて枠状のグリーンシートを作製し、その後、枠状のグリーンシートが上層に位置するようにしてグリーンシートを積層し、原料粉末の組成に応じて約1300〜1600℃の温度で焼成することにより形成される。
絶縁基体1の上面には、光半導体素子3を収容し底面に載置するための凹部1aが形成されており、配線導体2が凹部1aの内側から外側に導出されるとともに、この配線導体2のうち凹部1aの内側に露出した部位に光半導体素子3の電極4がボンディングワイヤ8を介して接続されることにより、絶縁基体1に搭載された光半導体素子3は、電極4,ボンディングワイヤ8および配線導体2を介して外部電気回路に電気的に接続される。
この配線導体2は、タングステン,モリブデン,銅,銀等のメタライズ導体等により形成されている。そして、配線導体2は、例えば絶縁基体1となるグリーンシートに必要に応じて予め所定のスルーホールを形成し、タングステン,モリブデン,銅,銀等の金属ペーストをグリーンシートの表面やスルーホールの内面に印刷塗布したり充填しておくことにより形成される。
なお、図1では、凹部1aの内側面に段差部を設け、その段差部の上面から絶縁基体1の下面に配線導体2を導出させた例を示しているが、段差部を設けずに、凹部1aの底面等から配線導体2を凹部1aの外側に導出させるようにしてもよい。配線導体2の導出させる部位は、絶縁基体1の下面に限らず、側面、側面および下面の両方等でもよい。
また、光半導体素子3は、その上面の中央部に受光部が設けられており、その上面の受光部の周囲である外周部には、電源用や信号用の電極4が設けられている。光半導体素子3は、PD,ラインセンサ,イメージセンサ,CCD(Charge Coupled Device),EPROM(Erasable and Programmable ROM)等の受光素子、またはこれらの受光部を有する光半導体素子などである。
光半導体素子3は絶縁基体1の凹部1aの底面に載置され、樹脂接着剤,ろう材,低融点ガラス等から成る接着剤6によって接着されており、電極4と、配線導体2の凹部1aの内側に露出している部分とは、Au,Al等からなるボンディングワイヤ8により電気的に接続される。
なお、ボンディングワイヤ8は、その長さが0.3〜3mmであることが好ましい。0.3mm未満では、ボンディングワイヤ8が短すぎて十分なループを形成することが難しくなるため、光半導体素子3の電極4と配線導体2とを確実に接続することが難しくなり、接続不良が生じやすくなる。3mmを超えると、ボンディングワイヤ8が長くなりすぎてループが不要に高くなる傾向があり、ボンディングワイヤ8に不要なインダクタンスが発生して高周波信号の伝送性が劣化しやすくなるとともにコスト高となる。
また、光半導体素子3の電極4と配線導体2との接続は、ボンディングワイヤ8により行うものに限らず、いわゆるリボン等の帯状の接続線等を用いてもよい。
また、透光性蓋体5が樹脂接着剤等からなる接合材7を介して絶縁基体1の上面に接合されて取着されており、これにより、光半導体素子3が絶縁基体1の凹部1aと透光性蓋体5とで構成される密閉空間内に気密封止される。この接合材7は、例えば樹脂接着剤からなる場合、アクリル系樹脂,エポキシ系樹脂,フェノール系樹脂,クレゾール系樹脂,シリコン系樹脂,ポリエーテルアミド系樹脂等から成る。また接合材7は、余計な外光の入射を遮断するために、黒色,茶褐色,暗褐色,暗緑色,濃青色等の暗色系の顔料や染料を混入させてもよい。また、接合材7は、ガラス等の無機材料からなるものや、無機材料からなるフィラー粉末を樹脂接着剤に添加したものでもよい。
本発明の光半導体装置9は、画像認識装置,センサ,カメラ付き携帯電話,バーコードリーダー等の光学機器や電子機器の部品として使用される。例えば、光学機器や電子機器を構成する電気回路基板の所定位置に実装され、外光を受光するとともに光半導体素子3で電気信号に変換し、その電気信号を光学機器や電子機器を構成する電気回路基板の電気回路に供給する。
なお、光半導体装置9の外部電気回路基板への実装の際には、複数の光半導体装置9を搬送用トレイ等に収納し、まとめて実装用の装置まで搬送する必要があり、また、光半導体装置9をチャック等の保持装置で保持し、外部電気回路基板の所定位置に位置合わせする必要がある。また、光半導体装置9のトレイへの出し入れは、手作業による方法や自動搬送装置等の設備を用いる方法により行われる。
本発明の半導体装置9において、透光性蓋体5は、受光部3aを取り囲む突条部5aが下面に形成されている。これにより、透光性蓋体5の下面と光半導体素子3の上面の受光部3aとの間の空間は、外周部分が突条部5aで取り囲まれて、その外側と有効に遮断されることになり、この空間内に、密閉空間内の異物が舞い込むことを抑制し、受光部3aに異物が降下し付着することを効果的に防止することができる。その結果、光半導体素子3の受光部3aに、特に密閉空間内に存在する異物が付着するようなことが効果的に防止された、正常な電気信号を外部の機器や素子などに送ることが可能な信頼性の高い光半導体装置9を提供することができる。また、製品歩留まりも高くすることができる。
また、透光性蓋体5の下面は、突条部5aの内側、つまり受光部3aに対向する領域では、受光部3aとの間の距離が十分に大きいので、透光性蓋体5が光半導体素子3の受光部3aに接触することはなく、受光部3aにキズ等の損傷を与えることを防止することができる。
このような突条部5aが形成された透光性蓋体5は、透光性のガラスや樹脂等からなり、例えばガラスからなる場合、ある厚みを有する板状のガラス材を所定の寸法に切断した後、突条部5aとなる部位を残して切削加工を施して厚さを薄くし、突条部5aの部分が残るように成形する方法等により作製することができる。なお、突条部5aは、受光部3aを取り囲むために、平面視で四角枠状等の枠状のパターンで形成される。
また本発明において、突条部5aは、その下端が受光部3aと電極4との間に位置するようにして形成されていることが好ましい。これにより、受光部3aの全周にわたって確実に、透光性蓋体5の下面と光半導体素子3の上面の受光部3aとの間の空間を突条部5aで取り囲んで遮断することができるとともに、突条部5aの下端が受光部3aや電極4、電極4に接続されているボンディングワイヤ8等に誤って接触して損傷を与えることをより確実に防止することができ、信頼性や受光特性により一層優れた光半導体装置9とすることができる。
また、突条部5aは、その下端と、光半導体素子3の受光部3aと電極4との間の表面との間の間隔を10乃至50μmとしておくことが好ましい。これにより、突条部5aの下端が光半導体素子3の受光部3aや電極4、電極4に接続されているボンディングワイヤ8等に誤って接触して損傷を与えることをより確実に防止することができるとともに、突条部5aの下端と光半導体素子3の表面との間の間隔を、異物の通過をより確実に防止できる程度に狭いものとして受光部3aへの異物の降下、付着をより確実に防ぐことができ、信頼性や受光特性に極めて優れた光半導体装置9とすることができる。
また、突条部5aは、その外側面が下端から上端に向かうに伴って漸次外側に広がるように傾斜していることが好ましい。これにより、突条部5aの機械的強度を向上させることができ、大きな衝撃が加わるような環境で使われた場合でも突条部5aに割れ等の機械的な破壊が生じることが効果的に防止された、信頼性の高い光半導体装置9とすることができる。
また、突条部5aの外側面は外側に広がっているので、受光部3aの上方からの光を透光性蓋体5によって確実に導くことができ、透光性蓋体5を通って受光部3aに達する外光を遮ることはなく、光半導体装置9としての受光精度を良好に確保することができる。
また、透光性蓋体5の上下面の少なくとも一方に、紫外線を遮断するための光学膜を形成してもよい。なお、透光性蓋体5の下面とは、突条部5aの露出面(側面や下端面)も含む。
また、透光性蓋体5は、突条部5aの内側で下面を低くする、すなわち透光性蓋体5の下面と光半導体素子3の上面との間の距離が近くなるように下面側に透光性蓋体5を厚くするようにしてもよい。この場合、透光性蓋体5の下面と光半導体素子3の上面(受光部3a)との間がより狭くなるので、透光性蓋体5で凹部1aを塞いで密閉空間とする際に、透光性蓋体5の下面と光半導体素子3の上面(受光部3a)との間に異物が残留することをより効果的に抑制することができる。
また、本発明の光半導体装置9は、接合材7が透光性蓋体5の上面の外周部を覆っていることが好ましい。この構成により、例えば透光性蓋体5がガラスから成る場合でも、ガラスの破片が剥離しやすいエッジ部が接合材7で被覆されていることになり、外部からの衝撃、接触等により、そのエッジ部でガラスの破片が剥離するのをより一層効果的に防止することができる。その結果、破片が透光性蓋体5の表面に付着することがより効果的に防止され、歪を生じることなく外光が透光性蓋体5を通過するようにでき、受光特性に極めて優れた光半導体装置9を作製できる。
また、接合材7が透明な樹脂接着剤から成る場合、接合材7の屈折率が透光性蓋体5と同じであってもよい。この場合、接合材7と透光性蓋体5との界面で光の反射や散乱等が発生するのを効果的に抑制することができ、光半導体素子3に余分な反射光や散乱光が入射するのを防ぐことができる。また、接合材7が透明な樹脂接着剤から成る場合、その内部に含まれる気泡の体積が30体積%以下であることがよい。30体積%を超えると、接合材7の接合力が低下するとともに、気泡によって光が散乱され光半導体素子3に余分な散乱光が入射し易くなる。接合材7に含まれる気泡の割合を小さくするには、減圧室や真空装置内で接合材7を使用する方法、予め接合材7に含まれる気泡を真空脱泡する方法等がある。
なお、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内であれば種々の変更は可能である。例えば、透光性蓋体5は、その全面が一様に透光性を有するものである必要は無く、光半導体素子3の受光部に受光される外光が通る部分を透光性に優れたものとするとともに、接合材7を介して絶縁基体1に接合される部位を粗面とし、アンカー効果で接合をより強固にして、気密封止の信頼性により一層優れる光半導体装置9としてもよい。
また、透光性蓋体5の外周部分を、遮光性の樹脂膜を貼り付ける等の手段で遮光性とし、余計な外光が凹部5内に入り込んだり、凹部5内で光が乱反射したりすることを防止し、余計な光が受光面で受光されることをより確実に防止して受光特性を向上させるようにしてもよい。
絶縁基体1を酸化アルミニウム質焼結体で作製し、また下面に突条部5aを有する透光性蓋体5をホウケイ酸系ガラス作製して、光半導体素子3としてCMOSを用いて、透光性蓋体5の突条部5aの下端と、光半導体素子3の受光部3aと電極4との間の表面との間の距離を表1に示すように変化させて、受光の信頼性について試験を行った。突条部5aは、側面が下端から上端に向かうにともなって斜めに傾斜した形状(傾斜角度45°)とした。
絶縁基体1は、1辺の長さが14mm、厚さが1.7mmの正方形の板状に形成されており、上面の中央部には1辺の長さが10mm、深さが1.1mmの平面視形状が正方形状の凹部1aが形成されているものとした。
透光性蓋体5は、形成しようとする突条部5aの高さを含む厚さのガラス板材を、まず所定の外寸に切断した後、突条部5aが形成される部分を除いて切削加工を施し、下面に突条部5aを有する形状に加工した。その後、その突条部5aの側面を上端から下端にかけて漸次厚さが薄くなるように研磨加工して傾斜面とすることにより、下面に所定形状の突条部5aを有する形状に形成した。
光半導体素子3は、エポキシ樹脂接着剤により凹部1aの底面に接着固定し、透光性蓋体5は、エポキシ樹脂からなる紫外線硬化性樹脂により絶縁基体1の上面に接合した。
作製した光半導体装置9について、周波数120Hz、加速度20g(g:重力加速度)の振動を12回加えた後、受光の信頼性を試験した。なお、比較例の試料として、突条部5aを形成していない透光性蓋体5を用いた試料を用いた。
受光特性は、以下のようなテストによりその確認を行った。まず、評価用のテストボードを使用し、そのテストボードには、光半導体装置9を着脱可能なソケットが装着されている。テストを行う光半導体装置9をそのソケットにセットし、その光半導体装置9のガラス製の透光性蓋体5の上部には、透光性蓋体5及び光半導体装置9全体を覆うようにレンズ付きの鏡筒をセットする。セットした光半導体装置9によって、レンズを通してテスト用の被写体(白色ボード)を画像として取り込み、モニター用の画像装置に映像化させる。映像化した画面を確認し、画面上で異物の再付着を確認する試験を行った。このとき、異物の再付着があると真っ白でなければならない被写体に黒色または灰色の色調のものが現れ、異物の再付着が確認できる。その試験結果を表1に示す。
表1より、突条部5aを形成したものの場合、突条部5aの下端と光半導体素子3の表面との間の距離が3〜60μmの場合において、いずれの場合にも受光特性を良好に確保された。
一方、突条部5aを形成していないものの場合、受光の信頼性が不十分であった。
また、突条部5aの下端と光半導体素子3の表面との間の間隔が10乃至50μmのものの場合、受光部3aへの接触によるキズ、打痕等のダメージを与えることなく、信頼性の高い光半導体装置9とすることができた。
これに対し、突条部5aの下端と光半導体素子3の表面との間の間隔が10μm未満のものの場合、光半導体素子3の受光部3aと電極4の間の表面において、そのパッシベーション(保護膜)にキズ等の発生が一部のものに見られた。生じたキズは浅く微細で、電気的な信頼性の点では大きな問題を生じるようなものではなかったが、極めて高い電気的な信頼性を要求される高精細な写真の用途においては、精度が不十分となるおそれがある。
また、突条部5aの下端と光半導体素子3の表面との間の間隔が50μmを超えるものの場合、突条部5aの下端と光半導体素子3の表面との間の空間が広くなり、受光部3aの外周部等に微細な異物が付着し易くなり、受光の特性が若干低下する傾向が見られた。
なお、本発明の光半導体装置は、上述の実施の形態および実施例で説明した例に限らず、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の変更が可能である。例えば、透光性蓋体5は、中央部が透光性部材で形成されるとともに、外周部が金属材料やセラミック材料等から成る枠部材に透光性部材を樹脂接着剤やガラス、ろう材等を介して接合したものでもよい。
1・・・絶縁基体
1a・・・凹部
2・・・配線導体
3・・・光半導体素子
4・・・電極
5・・・透光性蓋体
5a・・・突条部
7・・・接合材
8・・・ボンディングワイヤ
9・・・光半導体装置
1a・・・凹部
2・・・配線導体
3・・・光半導体素子
4・・・電極
5・・・透光性蓋体
5a・・・突条部
7・・・接合材
8・・・ボンディングワイヤ
9・・・光半導体装置
Claims (4)
- 上面に光半導体素子を収容し搭載するための凹部を有する絶縁基体と、該絶縁基体の前記凹部の内側から外側に導出された配線導体と、前記絶縁基体の前記凹部の底面に搭載されるとともに電極が前記配線導体に電気的に接続された、上面の中央部に受光部を有する光半導体素子と、前記絶縁基体の上面に前記凹部を塞ぐようにして取着された、前記受光部を取り囲む突条部が下面に形成された透光性蓋体とを具備していることを特徴とする光半導体装置。
- 前記突条部は、その下端が前記受光部と前記電極との間に位置するようにして形成されていることを特徴とする請求項1記載の光半導体装置。
- 前記突条部は、その下端と、前記光半導体素子の前記受光部と前記電極との間の表面との間の間隔が、10乃至50μmであることを特徴とする請求項2記載の光半導体装置。
- 前記突条部は、その外側面が下端から上端に向かうに伴って漸次外側に広がるように傾斜していることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の光半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004221186A JP2006041313A (ja) | 2004-07-29 | 2004-07-29 | 光半導体装置 |
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JP2004221186A JP2006041313A (ja) | 2004-07-29 | 2004-07-29 | 光半導体装置 |
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-
2004
- 2004-07-29 JP JP2004221186A patent/JP2006041313A/ja active Pending
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