JP2006021259A - 磁気ディスク基板の研磨方法および磁気ディスク媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 コロイダルシリカを含む研磨剤61を供給しながらめっき基板59表面のめっき層を仕上げ研磨する。研磨量は、500nm以上が望ましく、主加工圧80g/cm2以上とする。仕上げ研磨が終了した後、バルブ64を閉じ、純水供給用のバルブ65を開いて純水62を供給することにより基板59上のコロイダルシリカを含む研磨剤61を簡易的に取り除く。次に、研磨剤供給バルブ64を開き、洗浄研磨用に調合したコロイダルシリカ無しの一般的な有機酸を用いた酸性エッチング剤を供給しながら洗浄研磨を実施する。研磨量は、1nm以上が望ましく、主加工圧30g/cm2以下とする。
【選択図】 図1
Description
本発明における磁気ディスク基板は、Ni−Pめっき磁気ディスク基板、NiCoPめっき磁気ディスク基板、NiFePめっき磁気ディスク基板、NiCoFePめっき磁気ディスク基板、NiBめっき磁気ディスク基板、NiCoBめっき磁気ディスク基板、NiFeBめっき磁気ディスク基板、およびNiCoFeBめっき磁気ディスク基板のいずれかとすることができる。
両面研磨装置51は水平方向に回転可能に設置され、かつその上面にドーナツ状の研磨布53を装着する下定盤52と、この下定盤52の上方位置にこの下定盤52と対向同軸状に配置されると共に水平方向に回転可能及び垂直方向に昇降可能に保持され、かつ下面にドーナツ状の研磨布55を装着した上定盤54と、各研磨布53、55間において研磨布53、55の軸心位置に配置される太陽歯車56の径方向外方位置に同心状に配置される内歯歯車57と、この内歯歯車57及び太陽歯車56と両歯車に歯合いされ下定盤52の研磨布53上に載置された状態で両歯車56、57間に配置される外歯歯車にて形成されると共に基板59を保持する基板保持具58と、上定盤54から基板59の上面にコロイダルシリカを含む研磨剤61と純水62をバルブ64、65、スラリー溜め60およびパイプ63を介して供給、停止できるスラリー供給手段12を具備して構成される。
以下に本発明の実施例を記す。
Ni−Pめっき基板の基体として3.5インチφのAl−5Mg(wt%)合金を用い、P濃度12.5%のNi−高Pめっき液を用いてP濃度12.5wt%、膜厚9μmのNi−高P層を形成した基板を用いて研磨を実施した。
垂直記録用の軟磁性めっき基板の基体として3.5インチφのAl−5Mg(wt%)合金を用い、P濃度4.5%のNi−低Pめっき液を用いてP濃度4.5wt%、膜厚3μmのNi−低P層を形成した基板を用いて研磨を実施した。
20 非磁性シード層
30 磁気記録層
40 保護層
51 両面研磨装置
52 下定盤
53,55 研磨布
54 上定盤
56 太陽歯車
57 内歯歯車
58 基板保持具
59 基板
60 スラリー溜め
61 研磨剤
62 純水
63 パイプ
64,65 バルブ
Claims (5)
- 研磨剤としてコロイダルシリカを用いた磁気ディスク基板の研磨方法であって、
主加工圧80g/cm2以上、研磨量0.5μm以上とする仕上げ研磨を実施した後、主加工圧30g/cm2以下の洗浄研磨を実施することを特徴とする磁気ディスク基板の研磨方法。 - 前記磁気ディスク基板は、Ni−Pめっき磁気ディスク基板、NiCoPめっき磁気ディスク基板、NiFePめっき磁気ディスク基板、NiCoFePめっき磁気ディスク基板、NiBめっき磁気ディスク基板、NiCoBめっき磁気ディスク基板、NiFeBめっき磁気ディスク基板、およびNiCoFeBめっき磁気ディスク基板のいずれかであることを特徴とする請求項1に記載の磁気ディスク基板の研磨方法。
- 前記洗浄研磨においては、前記仕上げ研磨工程において使用した研磨剤の成分からコロイダルシリカのみを除去した研磨液を使用することを特徴とする請求項1に記載の磁気ディスク基板の研磨方法。
- 請求項1乃至3のいずれかの研磨方法で製作したNi−Pめっき基板を用いて製作した磁気ディスク媒体。
- 請求項1乃至3のいずれかの研磨方法で製作した軟磁性めっき基板を用いて製作した垂直記録方式の磁気ディスク媒体。
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JP2006021259A true JP2006021259A (ja) | 2006-01-26 |
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Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2006021259A (ja) |
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