JP2005347582A - Vacuum container, exposure device, and inspection device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、荷電粒子線やEUV光を使用した露光装置、検査装置等に使用するのに好適な真空容器、及びこの真空容器を使用した露光装置、検査装置に関するものである。 The present invention relates to a vacuum container suitable for use in an exposure apparatus and inspection apparatus using charged particle beams and EUV light, and an exposure apparatus and inspection apparatus using this vacuum container.
近年、半導体集積回路の微細化に伴い、光の回折限界によって制限される光学系の解像力を向上させるために、13nm程度の波長を有するEUV光を使用したEUV露光装置、荷電粒子線を使用した荷電粒子線露光装置が開発されている。このようなEUV露光装置、荷電粒子線露光装置は、原版上のパターンを感応基板上に投影する投影光学系を収めた鏡筒や、原版を移動・位置決めする原版ステージ、感応基板を移動・位置決めする感応基板ステージ等を具備している。これらのステージ等のコンポーネントは、EUV光や荷電粒子線の空気による吸収を防ぐために、真空チャンバ内に配置されるのが一般的である。この真空チャンバには、真空引きのための真空ポンプが接続されている。 In recent years, with the miniaturization of semiconductor integrated circuits, in order to improve the resolving power of an optical system limited by the diffraction limit of light, an EUV exposure apparatus using a EUV light having a wavelength of about 13 nm and a charged particle beam are used. A charged particle beam exposure apparatus has been developed. Such an EUV exposure apparatus and charged particle beam exposure apparatus include a lens barrel containing a projection optical system that projects a pattern on an original plate onto a sensitive substrate, an original stage that moves and positions the original plate, and moves and positions the sensitive substrate. It has a sensitive substrate stage. These components such as stages are generally placed in a vacuum chamber in order to prevent absorption of EUV light or charged particle beams by air. A vacuum pump for evacuation is connected to the vacuum chamber.
同様、検査装置においても、照明光学系からの光又は荷電粒子線を試料に導き、試料から反射される光又は荷電粒子線、あるいは前記荷電粒子線の照射によって発生する粒子線を結像面に結像させる照明・投影光学系を納めた鏡筒と、試料を移動・位置決めする試料ステージとを有しており、これらの構成部分は、真空チャンバ内に収納されるのが普通である。この真空チャンバには、真空引きのための真空ポンプが接続されている。 Similarly, in the inspection apparatus, the light or charged particle beam from the illumination optical system is guided to the sample, and the light or charged particle beam reflected from the sample or the particle beam generated by the irradiation of the charged particle beam is used as the imaging surface. It has a lens barrel containing an illumination / projection optical system for forming an image and a sample stage for moving and positioning the sample, and these components are usually housed in a vacuum chamber. A vacuum pump for evacuation is connected to the vacuum chamber.
しかしながら、真空引きのための真空ポンプの振動が前記真空チャンバに伝わると、その振動のために、露光性能や検査性能が阻害される恐れがある。 However, when the vibration of the vacuum pump for evacuation is transmitted to the vacuum chamber, the vibration and exposure performance and inspection performance may be hindered.
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、真空ポンプの振動が、収納されている装置に伝わりにくい真空容器、及びこの真空容器を使用した露光装置、検査装置を提供することを課題とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and it is an object of the present invention to provide a vacuum vessel in which the vibration of the vacuum pump is difficult to be transmitted to the accommodated device, and an exposure device and an inspection device using the vacuum vessel. And
前記課題を解決するための第1の手段は、防振性を必要とする真空容器であって、高度の真空度を必要とする高度真空容器と、前記高度真空容器が必要とする真空度よりは低い真空度を必要とする低度真空容器が結合されており、これら高度真空容器と低度真空容器の双方を収納するチャンバを有し、当該チャンバは、前記高度真空容器に連通する第1の部分と、前記低度真空容器に連通する第2の部分に分けられ、前記第1の部分と前記第2の部分の間には絞り機構が設けられ、前記高度真空容器と低度真空容器は、防振構造体のみを介して前記チャンバに接続され、前記低度真空容器は、前記チャンバに連通しており、かつ、前記チャンバの前記第2の部分内の気体を排気するドライポンプと、前記チャンバの前記第1の部分内の気体を排気する、ドライポンプとターボ分子ポンプを直列接続した排気系を有することを特徴とする真空容器(請求項1)である。 The first means for solving the above problems is a vacuum container that requires vibration-proofing properties, and an advanced vacuum container that requires a high degree of vacuum and a degree of vacuum that the advanced vacuum container requires. Is connected to a low vacuum container that requires a low degree of vacuum, and has a chamber that accommodates both the high vacuum container and the low vacuum container, and the chamber communicates with the first vacuum container. And a second part communicating with the low-pressure vacuum container, and a throttle mechanism is provided between the first part and the second part, and the advanced vacuum container and the low-pressure vacuum container Is connected to the chamber only through an anti-vibration structure, the low-temperature vacuum vessel is in communication with the chamber, and a dry pump that exhausts gas in the second portion of the chamber; , The gas in the first part of the chamber To the gas, a vacuum container and having an exhaust system connected in series with a dry pump and a turbo molecular pump (claim 1).
本手段においては、チャンバの第1の部分気体は、ドライポンプとターボ分子ポンプを直列接続した排気系により排気されるので、この部分は高度の真空となる。それに対し、チャンバの第2の部分は、ドライポンプのみによって排気されるので真空度は低くなる。よって、前記第1の部分に連通する高度真空容器内では真空度が高く、前記第2の部分に連通する低度真空容器内では真空度が低くなる。 In this means, since the first partial gas in the chamber is exhausted by an exhaust system in which a dry pump and a turbo molecular pump are connected in series, this part becomes a high vacuum. On the other hand, since the second part of the chamber is evacuated only by the dry pump, the degree of vacuum is low. Therefore, the degree of vacuum is high in the advanced vacuum vessel communicating with the first part, and the degree of vacuum is low in the low degree vacuum container communicating with the second part.
そして、チャンバと、高度真空容器、低度真空容器とは、防振構造体のみを介して接続されているので、高度真空容器、低度真空容器には、ドライポンプやターボ分子ポンプの振動は伝わりにくい。 Since the chamber, the advanced vacuum vessel, and the low vacuum vessel are connected only through the vibration-proof structure, the dry pump and the turbo molecular pump are not vibrated in the advanced vacuum vessel and the low vacuum vessel. Difficult to communicate.
しかし、このような構造にするだけでは、チャンバの第1の部分と第2の部分が連通してしまい、両者の真空度を異ならせることが困難になる。よって、第1の部分と第2の部分の間に絞り機構を設け、絞り機構を介して連通させるようにしている。このようにすることにより、チャンバと高度真空容器、低度真空容器との接続を避けながら、チャンバの第1の部分と第2の部分の真空度を異ならせることができる。 However, if only such a structure is used, the first part and the second part of the chamber communicate with each other, and it becomes difficult to make the degree of vacuum different between them. Therefore, a diaphragm mechanism is provided between the first part and the second part so as to communicate with each other via the diaphragm mechanism. By doing in this way, the vacuum degree of the 1st part of a chamber and a 2nd part can be varied, avoiding a connection with a chamber, a high vacuum container, and a low vacuum container.
なお、本明細書及び特許請求の範囲において単に「連通」といった場合、実質的に気体の流通の抵抗となるものが無く、両者の間に問題となるような真空度の差が生じない程度の大きさの開口が設けられていることを意味する。 In the present specification and claims, in the case of simply “communication”, there is substantially no resistance to gas flow, and there is no difference in the degree of vacuum that causes a problem between the two. It means that an opening having a size is provided.
前記課題を解決するための第2の手段は、防振性を必要とする真空容器であって、高度の真空度を必要とする高度真空容器と、前記高度真空容器が必要とする真空度よりは低い真空度を必要とする低度真空容器が結合されており、これら高度真空容器と低度真空容器の双方を収納するチャンバを有し、当該チャンバは、前記高度真空容器に連通する第1の部分と、前記低度真空容器に連通する第2の部分と、前記第1の部分と前記第2の部分の中間に設けられた中間室に分けられ、前記第1の部分と前記中間室の間、及び前記中間室と前記第2の部分の間には、それぞれ絞り機構が設けられ、前記高度真空容器と低度真空容器は、防振構造体のみを介して前記チャンバに接続され、前記低度真空容器は、前記チャンバに連通しており、前記チャンバ内の第2の部分内の気体を排気するドライポンプと、前記チャンバの第1の部分内の気体を排気する、ドライポンプとターボ分子ポンプを直列接続した第1の排気系と、前記中間室内の気体を排気する、ドライポンプとターボ分子ポンプを直列接続した第2の排気系とを有することを特徴とする真空容器(請求項2)である。 The second means for solving the above problems is a vacuum container that requires vibration proofing, an advanced vacuum container that requires a high degree of vacuum, and a degree of vacuum that the advanced vacuum container requires. Is connected to a low vacuum container that requires a low degree of vacuum, and has a chamber that accommodates both the high vacuum container and the low vacuum container, and the chamber communicates with the first vacuum container. , A second portion communicating with the low-level vacuum vessel, and an intermediate chamber provided between the first portion and the second portion, the first portion and the intermediate chamber And between the intermediate chamber and the second part, a throttle mechanism is provided, respectively, and the high vacuum vessel and the low vacuum vessel are connected to the chamber only through a vibration-proof structure, The low-pressure vacuum vessel communicates with the chamber, and the A dry pump that exhausts the gas in the second portion of the chamber, a first exhaust system that exhausts the gas in the first portion of the chamber, in which a dry pump and a turbo molecular pump are connected in series, and the intermediate A vacuum container (Claim 2) having a second exhaust system in which a dry pump and a turbo molecular pump are connected in series for exhausting an indoor gas.
本手段の技術的思想は、基本的には前記第1の手段と同じであるが、チャンバの第1の部分と第2の部分の間に、これらの部分と絞り機構を介して連通する中間室が設けられ、この中間室の気体がドライポンプとターボ分子ポンプを直列接続した第2の排気系により高度の真空にされているところが異なっている。よって、第1の部分と第2の部分を絞り機構を介して直接連通させた第1の手段より、高度真空容器内の真空度をより安定して高めることができる。 The technical idea of this means is basically the same as that of the first means, but between the first part and the second part of the chamber, these parts communicate with each other via a throttle mechanism. There is a difference in that a chamber is provided and the gas in this intermediate chamber is evacuated to a high level by a second exhaust system in which a dry pump and a turbo molecular pump are connected in series. Therefore, the degree of vacuum in the advanced vacuum vessel can be increased more stably than the first means in which the first part and the second part are directly communicated with each other via the throttle mechanism.
前記課題を解決するための第3の手段は、防振性を必要とする真空容器であって、高度の真空度を必要とする高度真空容器と、前記高度真空容器が必要とする真空度よりは低い真空度を必要とする低度真空容器が結合されており、これら高度真空容器と低度真空容器の双方を収納するチャンバを有し、前記高度真空容器と低度真空容器は、防振構造体のみを介して前記チャンバに接続され、前記低度真空容器は、前記チャンバに連通しており、前記高度真空容器は、中空凸部を介して前記チャンバと連通しており、前記チャンバ内の気体を排気するドライポンプと、前記高度真空容器内の気体を排気する、ドライポンプとターボ分子ポンプを直列接続した排気系を有し、前記ターボ分子ポンプから前記高度真空容器に至る配管は、前記中空凸部の中を通って、前記中空凸部との間で絞り機構を構成し、かつ、前記真空容器に接触していないことを特徴とする真空容器(請求項3)である。 The third means for solving the above-mentioned problem is a vacuum container that requires vibration-proofing properties, and an advanced vacuum container that requires a high degree of vacuum and a degree of vacuum that the advanced vacuum container requires. Is connected to a low-level vacuum vessel that requires a low degree of vacuum, and has a chamber for storing both the high-level vacuum vessel and the low-level vacuum vessel. It is connected to the chamber only through a structure, the low-level vacuum vessel communicates with the chamber, and the high-level vacuum vessel communicates with the chamber via a hollow convex portion. A dry pump that exhausts the gas of the gas, and an exhaust system in which a dry pump and a turbo molecular pump are connected in series to exhaust the gas in the advanced vacuum vessel, and a pipe from the turbo molecular pump to the advanced vacuum vessel is Hollow convex Through the inside of, and constitutes a mechanism squeezed between said hollow convex portion, and a vacuum vessel which is characterized in that no contact with the vacuum vessel (claim 3).
本手段の技術的思想は、基本的には前記第1の手段と同じであるが、チャンバ内に第1の部分、第2の部分に相当するような区分された部分が設けられておらず、高度真空容器とチャンバの間が、絞り機構を介して連通するようになっている。そして、この絞り機構が、中空凸部とターボ分子ポンプから前記高度真空容器に至る配管の間に設けられた隙間を小さくすることによって形成されるようになっている。このような手段においても、チャンバと高度真空容器、程度真空容器とは防振構造体のみを介して接続されるようにすることができるので、ポンプ類の振動が、各真空容器に伝わりにくくすることができる。 The technical idea of this means is basically the same as that of the first means, but there are no divided parts corresponding to the first part and the second part in the chamber. The advanced vacuum vessel and the chamber communicate with each other through a throttle mechanism. The throttle mechanism is formed by reducing the gap provided between the hollow convex portion and the pipe from the turbo molecular pump to the advanced vacuum vessel. Even in such a means, the chamber and the advanced vacuum vessel and the degree vacuum vessel can be connected only through the vibration-proof structure, so that the vibrations of the pumps are not easily transmitted to each vacuum vessel. be able to.
前記課題を解決するための第4の手段は、前防振性を必要とする真空容器であって、高度の真空度を必要とする高度真空容器と、前記高度真空容器が必要とする真空度よりは低い真空度を必要とする低度真空容器が結合されており、これら高度真空容器と低度真空容器の双方を収納するチャンバを有し、前記チャンバと前記高度真空室はべローズによって連結され、前記低度真空容器は、前記チャンバに連通しており、前記チャンバ内の気体を排気するドライポンプと、前記ベローズを介して前記高度真空容器内の気体を排気するドライポンプとターボ分子ポンプを直列接続した排気系を有し、前記高度真空容器と低度真空容器は、前記防振構造体と前記べローズのみを介して前記チャンバに接続されていることを特徴とする真空容器(請求項4)である。 A fourth means for solving the above problems is a vacuum container that requires pre-vibration resistance, and an advanced vacuum container that requires a high degree of vacuum, and a degree of vacuum that the advanced vacuum container requires. A low-level vacuum vessel that requires a lower degree of vacuum is combined, and has a chamber that accommodates both the high-level vacuum vessel and the low-level vacuum vessel. The chamber and the high-level vacuum chamber are connected by a bellows. The low-level vacuum vessel communicates with the chamber, and a dry pump that exhausts the gas in the chamber, a dry pump that exhausts the gas in the advanced vacuum vessel via the bellows, and a turbo molecular pump A vacuum vessel characterized in that the advanced vacuum vessel and the low vacuum vessel are connected to the chamber only through the vibration-proof structure and the bellows. 4).
本手段においては、高度真空容器と低度真空容器とはベローズにより隔離されているので、互いの真空度を独立に制御することができる。そして、チャンバと高度真空容器とはベローズと防振構造体のみによって結合されているので、ポンプ類の振動が、各真空容器に伝わりにくくすることができる。 In this means, the high-vacuum vessel and the low-vacuum vessel are separated by the bellows, so that the degree of vacuum can be controlled independently. Since the chamber and the advanced vacuum vessel are coupled only by the bellows and the vibration isolating structure, the vibrations of the pumps can be hardly transmitted to each vacuum vessel.
前記課題を解決するための第5の手段は、原版上のパターンを感応基板上に投影する投影光学系を収めた鏡筒と、前記原版を移動・位置決めする原版ステージと、前記感応基板を移動・位置決めする感応基板ステージと、前記原版ステージ及び前記感応基板ステージをそれぞれ収容する原版ステージ容器、感応基板ステージ容器とを有する露光装置であって、前記鏡筒又は前記鏡筒を収納する容器を前記高度真空容器、前記原版ステージ容器、感応基板ステージ容器をそれぞれ前記低度真空容器とする前記第1の手段から第4の手段のいずれかの真空容器を有することを特徴とする露光装置(請求項5)である。 The fifth means for solving the above-mentioned problems includes a barrel containing a projection optical system for projecting a pattern on the original plate onto the sensitive substrate, an original stage for moving and positioning the original plate, and moving the sensitive substrate. An exposure apparatus having a sensitive substrate stage for positioning, an original stage stage container for accommodating the original stage and the sensitive substrate stage, and a sensitive substrate stage container, wherein the lens barrel or the container for accommodating the lens barrel is An exposure apparatus comprising: a vacuum container of any one of the first to fourth means, wherein the advanced vacuum container, the original stage container, and the sensitive substrate stage container are the low-pressure vacuum containers, respectively. 5).
本手段においては、ポンプ類の振動が露光装置に伝わるのを抑えることができ、かつ、鏡筒及び各ステージ容器内を、所定の真空度に保つことができる。 In this means, the vibration of the pumps can be prevented from being transmitted to the exposure apparatus, and the inside of the lens barrel and each stage container can be kept at a predetermined degree of vacuum.
前記課題を解決するための第6の手段は、試料を照明する照明光を形成する照明光学系と、当該照明光学系からの光又は荷電粒子線を前記試料に導き、前記試料から反射される前記光又は荷電粒子線、あるいは前記荷電粒子線の照射によって発生する粒子線を結像面に結像させる照明・投影光学系を納めた鏡筒と、前記試料を移動・位置決めする試料ステージと、前記照明光学系を収納する照明容器、前記試料ステージを収納する試料ステージ容器とを有する検査装置であって、前記鏡筒又は前記鏡筒を収納する容器を前記高度真空容器、前記照明容器、試料ステージ容器をそれぞれ前記低度真空容器とする前記第1の手段から第4の手段のいずれかの真空容器を有することを特徴とする検査装置(請求項6)である。 A sixth means for solving the above problems includes an illumination optical system that forms illumination light for illuminating the sample, and a light or charged particle beam from the illumination optical system is guided to the sample and reflected from the sample A lens barrel containing an illumination / projection optical system for forming an image on the imaging plane of the light or charged particle beam, or a particle beam generated by irradiation of the charged particle beam, a sample stage for moving and positioning the sample, An inspection apparatus having an illumination container that houses the illumination optical system and a sample stage container that houses the sample stage, wherein the barrel or the container that houses the barrel is the advanced vacuum container, the illumination container, or a sample An inspection apparatus (Claim 6) comprising the vacuum container of any one of the first to fourth means, wherein each of the stage containers is the low-pressure vacuum container.
本手段においては、ポンプ類の振動が検査装置に伝わるのを抑えることができ、かつ、鏡筒及び各容器内を、所定の真空度に保つことができる。 In this means, it is possible to suppress the vibrations of the pumps from being transmitted to the inspection apparatus, and to keep the inside of the lens barrel and each container at a predetermined degree of vacuum.
本発明によれば、真空ポンプの振動が、収納されている装置に伝わりにくい真空容器、及びこの真空容器を使用した露光装置、検査装置を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a vacuum vessel in which the vibration of the vacuum pump is difficult to be transmitted to the accommodated device, and an exposure apparatus and an inspection device using the vacuum vessel.
以下、本発明の実施の形態の例を、図を用いて説明する。図1は、本発明の第1の実施の形態である真空容器及び露光装置の概要を示す図である。 Hereinafter, an example of an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a view showing an outline of a vacuum container and an exposure apparatus according to the first embodiment of the present invention.
露光装置の照明光学系1から照射された荷電粒子線又はEUV光は、レチクルステージ2に搭載されたレチクルを照明し、レチクルに形成されたパターンを、投影光学系3を介して、ウエハステージ4に搭載されたウエハ上に露光転写する。
The charged particle beam or EUV light irradiated from the illumination
レチクルステージ2は、レチクルチャンバ5内に収納され、投影光学系3は鏡筒6内に収納され、ウエハステージ4はウエハチャンバ7内に収納されている。さらに、鏡筒6は高度真空容器8内に収納されている。ここで、レチクルチャンバ5、鏡筒6、ウエハチャンバ7とも高度の真空を要求されるが、特にこの中で鏡筒6に対しては、レチクルチャンバ5、ウエハチャンバ7よりも高度の真空が要求される。よって、レチクルチャンバ5、ウエハチャンバ7が請求項中の低度真空容器に、高度真空容器8が請求項中の高度真空容器に対応する。レチクルチャンバ5、ウエハチャンバ7、高度真空容器8は一体化されており、それらを収納するチャンバ9がさらに設けられている。
The
そして、レチクルチャンバ5、ウエハチャンバ7、高度真空容器8は、チャンバ9のベースプレート10の上に、防振台11(真空エアマウント)を介して支持されている。高度真空容器8は、チャンバ9の第1の部分9aと連通しており、第1の部分9aには、ターボ分子ポンプ12が接続されて、第1の部分9a内の気体を排気するようになっている。そして、ターボ分子ポンプ12にはドライポンプ13が直列接続されており、これらターボ分子ポンプ12とドライポンプ13が直列接続された排気系により、第1の部分9a内を高度の真空に保つようになっている。よって、第1の部分9aと連通する高度真空容器8、鏡筒6内も、高度の真空に保たれる。
The
レチクルチャンバ5には開口5aが形成され、レチクルチャンバ5の内部はチャンバ9の第2の部分9bと連通していて、それにより、レチクルチャンバ5の内部の圧力は第2の部分9bの内部の圧力と等しくなるようにされている。同様、ウエハチャンバ7には開口7aが形成され、ウエハチャンバ7の内部は第2の部分9bと連通していて、それにより、ウエハチャンバ7の内部の圧力は第2の部分9bの内部の圧力と等しくなるようにされている。第2の部分9bには、ドライポンプ14が接続されており、第2の部分9b内の排気を行うようになっている。しかし、この排気系にはターボ分子ポンプが設けられていないので、前記第1の部分に対して真空度が劣るもの(10Pa程度)となっている。
An
ところで、第1の部分9aと、第2の部分9bとを完全に隔壁により分離するわけにはいかない。このようにすると、レチクルチャンバ5、ウエハチャンバ7、高度真空容器8とチャンバ9との間を隔壁で結合しなければならず、ターボ分子ポンプ12、ドライポンプ13、ドライポンプ14の振動がチャンバ9を通してレチクルチャンバ5、ウエハチャンバ7、高度真空容器8に伝わってしまうためである。
By the way, the
そこで、本実施の形態においては、第1の部分9aと第2の部分9bとの間に絞り機構15を設けて、絞り機構15を介して第1の部分9aと第2の部分9bとを連通させるようにしている。このようにすると、レチクルチャンバ5、ウエハチャンバ7、高度真空容器8とチャンバ9とを切り離すことができ、かつ、絞り機構15により、第1の部分9aと第2の部分9bとの圧力差を保つことができる。図1においてハッチングを施した領域が高度真空領域10−5Pa程度)となる。そして、図1を見ると分かるように、レチクルチャンバ5、ウエハチャンバ7、高度真空容器8は、防振台11を介してしかチャンバ9と結合されていないので、ターボ分子ポンプ12、ドライポンプ13、ドライポンプ14の振動が伝わりにくくなっている。
Therefore, in the present embodiment, the
図2は本発明の第2の実施の形態である真空容器及び露光装置の概要を示す図である。以下の図において、前出の図に示された構成要素と同じ構成要素には、同じ符号を付してその説明を省略する。 FIG. 2 is a view showing an outline of a vacuum vessel and an exposure apparatus according to the second embodiment of the present invention. In the following drawings, the same components as those shown in the previous drawings are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.
図2に示す実施の形態においては、第1の部分9aと第2の部分9bの間に中間室16が設けられ、第1の部分9aと中間室16の間は絞り機構17を介して、中間室16と第2の部分9bの間は絞り機構18を介して連通するようにされていること、この中間室16中の気体を排気するために、ターボ分子ポンプ19とドライポンプ20を直列に配列した排気系が設けられていることが、図1に示した実施の形態と異なっている。
In the embodiment shown in FIG. 2, an
第1の実施の形態では、約10−5Pa程度の内圧を有する第1の部分9aと、約10Paの内圧を有する第2の部分9bの部分を絞り機構15で結合して、その抵抗により両者の圧力差を保つようになっているので、絞り機構15の抵抗を非常に大きくしなければならず、従って、チャンバ9とレチクルチャンバ5、ウエハチャンバ7、高度真空容器8の隙間が微小になるという問題点があった。
In the first embodiment, the
本実施の形態においては、第1の部分9aと第2の部分9bを直接絞り機構を介して連通させず、中間室16を介在させて連通させ、第1の部分9aと中間室16の間は絞り機構17を介して、中間室16と第2の部分9bの間は絞り機構18を介して連通するようにすると共に、ターボ分子ポンプ19とドライポンプ20を直列に配列した排気系により中間室16の内部を10−3Pa程度の圧力にしている。よって、第1の実施の形態に比して、より安定に第1の部分9a内の圧力を10−5Pa程度に保てると共に、チャンバ9とレチクルチャンバ5、ウエハチャンバ7、高度真空容器8の隙間を大きくすることができる。
In the present embodiment, the
図3は本発明の第3の実施の形態である真空容器及び露光装置の概要を示す図である。図3に示す実施の形態においては、図1に示すチャンバ9の第1の部分9aと第2の部分9bが設けられておらず、高度真空容器8に中空凸部8aが設けられて高度真空容器8が中空凸部8aを介してチャンバ9と連通しており、ターボ分子ポンプ12からの配管21が、中空凸部8aの中を通って、高度真空容器8中の気体を排気するようになっている。そして、中空凸部8aと配管21との間は狭くされて絞り機構を構成している。この絞り機構は、図1、図2に示したものと異なり、長さが長いのでその分抵抗を大きくしてコンダクタンスを小さくすることができる。よって、高度真空容器8内とチャンバ9内の気圧の差を大きく保つことができる。
FIG. 3 is a view showing an outline of a vacuum vessel and an exposure apparatus according to the third embodiment of the present invention. In the embodiment shown in FIG. 3, the
図4は本発明の第4の実施の形態である真空容器及び露光装置の概要を示す図である。図3に示す実施の形態においては、図1に示すチャンバ9の第1の部分9aと第2の部分9bが設けられておらず、高度真空容器8内の気体を排気するターボ分子ポンプ12の配管がベローズ22により高度真空容器8に連結されていて、高度真空容器8とチャンバ9とが遮断されているところが異なっている。
FIG. 4 is a view showing an outline of a vacuum vessel and an exposure apparatus according to the fourth embodiment of the present invention. In the embodiment shown in FIG. 3, the
従って、この実施の形態においては、図1〜図3に示した実施の形態と異なり、レチクルチャンバ5、ウエハチャンバ7、高度真空容器8とチャンバ9とが、防振台11以外にベローズ22によっても連結されている。よって、図1〜図3に示した実施の形態に比して、ターボ分子ポンプ12、ドライポンプ13、ドライポンプ14の振動がレチクルチャンバ5、ウエハチャンバ7、高度真空容器8に伝わり易いという欠点を有するが、高度真空容器8とチャンバ9とが完全に分離されているので、高度真空容器8とチャンバ9とを異なる真空度に保つことが容易となる。
Therefore, in this embodiment, unlike the embodiment shown in FIGS. 1 to 3, the
以上の実施の形態においては、露光装置を例として説明したが、検査装置においても、同様の構成とすることができる。又、鏡筒を高度真空容器内に収納していたが、鏡筒の構造によっては、鏡筒を高度真空容器内に収納するのでなく、鏡筒そのものを高度真空容器として使用することもできる。さらに、本発明の真空容器は、露光装置や検査装置に限られず、収納される装置に、真空ポンプの振動をなるべく伝えないことが要求される装置用に使用することができる。 In the above embodiment, the exposure apparatus has been described as an example, but the inspection apparatus can be configured similarly. Although the lens barrel is housed in the advanced vacuum container, depending on the structure of the lens barrel, the lens barrel itself can be used as the advanced vacuum container instead of being housed in the advanced vacuum container. Furthermore, the vacuum container of the present invention is not limited to an exposure apparatus or an inspection apparatus, and can be used for an apparatus that is required to transmit as little vibration of the vacuum pump as possible to an apparatus to be stored.
1…照明光学系、2…レチクルステージ、3…投影光学系、4…ウエハステージ、5…レチクルチャンバ、5a…開口、6…鏡筒、7…ウエハチャンバ、7a…開口、8…高度真空容器、8a…中空凸部、9…チャンバ、9a…第1の部分、9b…第2の部分、10…ベースプレート、11…防振台、12…ターボ分子ポンプ、13…ドライポンプ、14…ドライポンプ、15…絞り機構、16…中間室、17…絞り機構、18…絞り機構、19…ターボ分子ポンプ、20…ドライポンプ、21…配管、22…ベローズ
DESCRIPTION OF
Claims (6)
An illumination optical system for forming illumination light for illuminating the sample, light or a charged particle beam from the illumination optical system is guided to the sample, and the light or the charged particle beam reflected from the sample or the charged particle beam A lens barrel that houses an illumination / projection optical system that forms an image of a particle beam generated by irradiation on an imaging plane, a sample stage that moves and positions the sample, an illumination container that houses the illumination optical system, and the sample stage And a sample stage container for storing the lens barrel or the container for storing the lens barrel as the low-pressure vacuum container for the advanced vacuum container, the illumination container, and the sensitive sample stage container, respectively. An inspection apparatus comprising the vacuum container according to any one of claims 1 to 4.
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007081224A (en) * | 2005-09-15 | 2007-03-29 | Canon Inc | Exposure device |
US7932990B2 (en) | 2006-08-01 | 2011-04-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus |
CN103940589A (en) * | 2014-03-25 | 2014-07-23 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | Vibration isolation mechanism of optical detection frame in vacuum container |
JP2015517735A (en) * | 2012-05-14 | 2015-06-22 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. | Charged particle lithography system and beam generator |
US11094426B2 (en) | 2012-05-14 | 2021-08-17 | Asml Netherlands B.V. | Vacuum chamber arrangement for charged particle beam generator |
US11348756B2 (en) | 2012-05-14 | 2022-05-31 | Asml Netherlands B.V. | Aberration correction in charged particle system |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61291965A (en) * | 1985-06-18 | 1986-12-22 | Fujitsu Ltd | Superhigh-vacuum chamber |
JPH0817709A (en) * | 1994-06-29 | 1996-01-19 | Jeol Ltd | Charged-particle beam apparatus |
JPH08139010A (en) * | 1993-12-29 | 1996-05-31 | Toshiba Corp | Charged beam apparatus with cleaning function and method of cleaning charged beam apparatus |
JPH11223757A (en) * | 1998-02-09 | 1999-08-17 | Canon Inc | Lens control system, method therefor and storage medium |
JP2001345262A (en) * | 2000-03-30 | 2001-12-14 | Canon Inc | Aligner, gas substitution method, semiconductor device- manufacturing method, semiconductor-manufacturing factory, and maintenance method of aligner |
JP2003282423A (en) * | 2002-03-27 | 2003-10-03 | Hitachi High-Technologies Corp | Constant-pressure chamber, irradiation device employing the same, device for manufacturing circuit pattern, and device for inspecting circuit pattern |
JP2005101492A (en) * | 2003-08-27 | 2005-04-14 | Nikon Corp | Vacuum equipment, operation method, exposure system, and operation method thereof |
-
2004
- 2004-06-04 JP JP2004166489A patent/JP4547997B2/en active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61291965A (en) * | 1985-06-18 | 1986-12-22 | Fujitsu Ltd | Superhigh-vacuum chamber |
JPH08139010A (en) * | 1993-12-29 | 1996-05-31 | Toshiba Corp | Charged beam apparatus with cleaning function and method of cleaning charged beam apparatus |
JPH0817709A (en) * | 1994-06-29 | 1996-01-19 | Jeol Ltd | Charged-particle beam apparatus |
JPH11223757A (en) * | 1998-02-09 | 1999-08-17 | Canon Inc | Lens control system, method therefor and storage medium |
JP2001345262A (en) * | 2000-03-30 | 2001-12-14 | Canon Inc | Aligner, gas substitution method, semiconductor device- manufacturing method, semiconductor-manufacturing factory, and maintenance method of aligner |
JP2003282423A (en) * | 2002-03-27 | 2003-10-03 | Hitachi High-Technologies Corp | Constant-pressure chamber, irradiation device employing the same, device for manufacturing circuit pattern, and device for inspecting circuit pattern |
JP2005101492A (en) * | 2003-08-27 | 2005-04-14 | Nikon Corp | Vacuum equipment, operation method, exposure system, and operation method thereof |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007081224A (en) * | 2005-09-15 | 2007-03-29 | Canon Inc | Exposure device |
US7932990B2 (en) | 2006-08-01 | 2011-04-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus |
JP2015517735A (en) * | 2012-05-14 | 2015-06-22 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. | Charged particle lithography system and beam generator |
US9653261B2 (en) | 2012-05-14 | 2017-05-16 | Mapper Lithography Ip B.V. | Charged particle lithography system and beam generator |
US10037864B2 (en) | 2012-05-14 | 2018-07-31 | Mapper Lithography Ip B.V. | High voltage shielding and cooling in a charged particle beam generator |
US11094426B2 (en) | 2012-05-14 | 2021-08-17 | Asml Netherlands B.V. | Vacuum chamber arrangement for charged particle beam generator |
US11348756B2 (en) | 2012-05-14 | 2022-05-31 | Asml Netherlands B.V. | Aberration correction in charged particle system |
US11705252B2 (en) | 2012-05-14 | 2023-07-18 | Asml Netherlands B.V. | Vacuum chamber arrangement for charged particle beam generator |
US11961627B2 (en) | 2012-05-14 | 2024-04-16 | Asml Netherlands B.V. | Vacuum chamber arrangement for charged particle beam generator |
CN103940589A (en) * | 2014-03-25 | 2014-07-23 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | Vibration isolation mechanism of optical detection frame in vacuum container |
CN103940589B (en) * | 2014-03-25 | 2016-06-01 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | The vibration isolating mechanism of optical detection frame in a kind of vacuum vessel |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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