JP2005338165A - 反射防止積層体、反射防止機能付偏光板及び光学製品 - Google Patents

Abstract

【課題】
反射防止性能、耐擦傷性及び透明性に優れ、高い生産効率で製造可能な反射防止積層体、これを用いる反射防止機能付偏光板、並びにこの反射防止機能付偏光板を備える光学製品を提供する。
【解決手段】
透明樹脂からなる支持体と、該支持体上に、活性エネルギー線硬化型樹脂を含み、層全体の屈折率が１．５５以上である高屈折率層と、該高屈折率層に隣接して形成された、屈折率が１．３５以下の低屈折率層とを有することを特徴とする反射防止積層体、この反射防止積層体を偏光子の少なくとも一面に貼り合わせてなることを特徴とする反射防止機能付偏光板、及びこの反射防止機能付偏光板を備えることを特徴とする光学製品。
【選択図】 なし。

Description

本発明は、透明樹脂からなる支持体上に、高屈折率層及び低屈折率層をこの順で積層してなる反射防止積層体、反射防止機能付偏光板、並びにこの偏光板を備える光学製品に関する。

従来から、透明樹脂からなる支持体上に反射防止層が積層された反射防止積層体は、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ等のフラットパネルディスプレイの表面の反射防止フィルム等として用いられている。このような反射防止積層体には、優れた反射防止性能、耐擦傷性、透明性等の諸特性が要求されている。

反射防止層は、通常、支持体上に形成された高い屈折率を持つ層（高屈折率層）と、それに隣接して形成された低い屈折率を持つ層（低屈折率層）の構成からなる。

高屈折率層を形成する方法としては、酸化チタン（ＴｉＯ_２）やＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）等の金属酸化物を物理蒸着する方法や、屈折率の高い無機微粒子や合成樹脂を分散媒に分散させた分散液を塗布する湿式法等が知られている。前者の物理蒸着する方法は、生産性が悪い為、より生産性に優れる湿式法が好ましく用いられる。

しかしながら、この湿式法を用いてディスプレイ用の反射防止積層体の高屈折率層を形成するために、分散媒中に屈折率の高い無機微粒子等を多量に分散させると、得られる高屈折率層の光線透過率が低下したり、ヘイズ（濁り度）が上昇するという問題があった。このため、高い屈折率を有し、かつ、透明性に優れる高屈折率層を湿式法により形成することが困難であった。

ところで、支持体上に形成された高屈折率層とそれに隣接して形成された低屈折率層の構成からなる反射防止積層体においては、式（Ａ）：低屈折率層の屈折率＝（高屈折率層の屈折率）^１／２となる場合に、反射率が最小（原理上は０％）のものが得られることが知られている。従って、優れた反射防止性能を得る上では、前記式（Ａ）を満足するような屈折率を有する高屈折率層と低屈折率層を積層するのが好ましい。例えば、上記湿式法で得られる高屈折率層の屈折率は、通常１．５５〜１．８０の範囲にあるので、低屈折率層に求められる値は、前記式（Ａ）より１．２５〜１．３５とするのが好ましい。

このような高屈折率層の屈折率を１．５５以上、低屈折率層の屈折率を１．３５以下とした低反射率の反射防止積層体は、これまでにもいくつか提案されている。
例えば、特許文献１や特許文献２には、フッ素系樹脂からなる低屈折率層と熱可塑性樹脂からなる高屈折率層とが積層されてなる反射防止フィルムが提案されている。
しかしながら、これらの文献に記載された反射防止フィルムの高屈折率層は熱可塑性樹脂を使用している為に耐擦傷性が劣るという問題がある。

また、特許文献３には、フッ素樹脂からなる低屈折率層と、アンチモンゾルを焼結して得られる高屈折率層からなる反射防止性基材が提案されている。
しかしながら、この文献記載の反射防止性基材によると、耐擦傷性はある程度改良されるものの、高屈折率層を形成するためのアンチモンゾルの焼結に長時間を要するため生産性が悪いという問題があった。例えばフィルム上で連続的に成膜する場合、特に、高屈折率層をハードコート層と兼用させる場合には膜厚を厚くする必要があり、生産性低下が顕著となる。

特開平９−２２７７１３号公報 特開平１１−３０７０６号公報 特開平１１−７２６０２号公報

本発明はかかる従来技術の問題に鑑みてなされたものであり、反射防止性能、耐擦傷性及び透明性に優れ、高い生産効率で製造可能な反射防止積層体、これを用いる反射防止機能付偏光板、並びにこの反射防止機能付偏光板を備える光学製品を提供することを課題とする。

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、透明樹脂からなる支持体と、該支持体上に、活性エネルギー線硬化型樹脂を含み、層全体の屈折率が１．５５以上である高屈折率層を形成し、この高屈折率層上に、屈折率が１．３５以下の低屈折率層を積層することにより、反射防止性能、透明性及び耐擦傷性に優れる反射防止積層体を効率よく製造できることを見出した。また、この反射防止積層体を偏光子の少なくとも一面に貼り合わせることで、透明性及び耐擦傷性に優れる反射防止機能付偏光板を効率よく得ることができることを見出し、本発明を完成するに至った。

かくして本発明の第１によれば、透明樹脂からなる支持体と、該支持体上に、活性エネルギー線硬化型樹脂を含み、層全体の屈折率が１．５５以上である高屈折率層と、該高屈折率層に隣接して形成された、屈折率が１．３５以下の低屈折率層とを有することを特徴とする反射防止積層体が提供される。
本発明の反射防止積層体は、前記支持体上に、前記高屈折率層及び前記低屈折率層がこの順に積層されてなるものが好ましい。

本発明の反射防止積層体は、スチールウール＃００００に荷重０．０２５ＭＰａをかけた状態で、前記支持体上に形成された高屈折率層または低屈折率層の表面を１０回擦り、その後に顕微鏡観察を行った際に、前記表面に傷が認められないものであるのが好ましい。
本発明の反射防止積層体においては、前記高屈折率層が、活性エネルギー線硬化型樹脂と無機酸化物粒子とを含むものであるのが好ましく、前記無機酸化物粒子が導電性を有する微粒子であるのがより好ましい。
本発明の反射防止積層体においては、前記低屈折率層が、ゾルゲル法により得られた珪素酸化物からなる層であるのが好ましい。

本発明の第２によれば、本発明の反射防止積層体を偏光子の少なくとも一面に貼り合わせてなることを特徴とする反射防止機能付偏光板が提供される。
本発明の第３によれば、本発明の反射防止機能付偏光板を備えることを特徴とする光学製品が提供される。

本発明の反射防止積層体は、反射防止性能、耐擦傷性及び透明性の全てに優れており、効率よく製造することができるものである。
本発明の反射防止機能付偏光板は、本発明の反射防止積層体を用いているので、優れた反射防止性能、耐擦傷性及び透明性を有し、生産性に優れている。
本発明の光学製品は、優れた反射防止性能と耐擦傷性を有し、生産性に優れる本発明の反射防止機能付偏光板を備えるので、優れた表示性能と耐擦傷性とを有し、生産性にも優れている。

以下本発明を、１）反射防止積層体、２）反射防止機能付偏光板、及び３）光学製品に項分けして詳細に説明する。

１）反射防止積層体
本発明の反射防止積層体は、透明樹脂からなる支持体と、該支持体上に、活性エネルギー線硬化型樹脂を含み、層全体の屈折率が１．５５以上である高屈折率層と、該高屈折率層に隣接して形成された、屈折率が１．３５以下の低屈折率層とを有することを特徴とする。本発明の反射防止積層体は、前記支持体上に、前記高屈折率層及び前記低屈折率層がこの順に積層されてなるものが好ましい。

（１）支持体
本発明に用いる支持体は、透明性に優れる合成樹脂からなるものであれば特に制限されないが、１ｍｍ厚で全光線透過率が８０％以上の合成樹脂からなるものが好ましい。

支持体を構成する透明樹脂としては、例えば、脂環式構造含有重合体樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリメタクリレート系樹脂等が挙げられる。これらの透明樹脂は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。

これらの中でも、強度が高く、透明性に優れることから、脂環式構造含有重合体樹脂、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート等のセルロース系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂；が好ましく、透明性、着色が少ない、軽量性等の観点から、脂環式構造含有重合体樹脂、トリアセチルセルロース及びポリエチレンテレフタレートがより好ましく、脂環式構造含有重合体樹脂が特に好ましい。

脂環式構造含有重合体樹脂は、重合体樹脂の繰り返し単位中に脂環式構造を有するものであり、主鎖中に脂環式構造を有する重合体樹脂及び側鎖に脂環式構造を有する重合体樹脂のいずれも用いることができる。

脂環式構造としては、例えば、シクロアルカン構造、シクロアルケン構造等が挙げられるが、熱安定性等の観点からシクロアルカン構造が好ましい。脂環式構造を構成する炭素数に特に制限はないが、通常４〜３０個、好ましくは５〜２０個、より好ましくは５〜１５個である。脂環式構造を構成する炭素原子数がこの範囲にあると、耐熱性及び柔軟性に優れた支持体を得ることができる。

脂環式構造含有重合体樹脂中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合は、使用目的に応じて適宜選択されればよいが、通常５０重量％以上、好ましくは７０重量％以上、より好ましくは９０重量％以上である。脂環式構造を有する繰り返し単位が過度に少ないと耐熱性が低下し好ましくない。なお、脂環式構造含有重合体樹脂における脂環式構造を有する繰り返し単位以外の繰り返し単位は、使用目的に応じて適宜選択される。

脂環式構造含有重合体樹脂の具体例としては、（ｉ）ノルボルネン系重合体、(ii)単環の環状オレフィン系重合体、(iii)環状共役ジエン系重合体、(iv)ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素化物等が挙げられる。これらの中でも、透明性や成形性の観点から、ノルボルネン系重合体が好ましい。

ノルボルネン系重合体としては、具体的には、ノルボルネン系単量体の開環重合体、ノルボルネン系単量体と開環共重合可能なその他の単量体との開環共重合体、及びそれらの水素化物、ノルボルネン系単量体の付加重合体、ノルボルネン系単量体と共重合可能なその他の単量体との付加共重合体等が挙げられる。これらの中でも、透明性の観点から、ノルボルネン系単量体の開環（共）重合体水素化物が特に好ましい。

ノルボルネン系単量体としては、例えば、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン（慣用名：ノルボルネン）、トリシクロ［４．３．０．１^２，５］デカ−３，７−ジエン（慣用名：ジシクロペンタジエン）、７，８−ベンゾトリシクロ［４．３．０．１^２，５］デカ−３−エン（慣用名：メタノテトラヒドロフルオレン）、テトラシクロ［４．４．０．１^２，５．１^７，１０］ドデカ−３−エン（慣用名：テトラシクロドデセン）、及びこれらの化合物の誘導体（例えば、環に置換基を有するもの）等を挙げることができる。ここで、置換基としては、例えばアルキル基、アルキレン基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基等を挙げることができる。また、これらの置換基は、同一又は相異なって複数個が環に結合していてもよい。ノルボルネン系単量体は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

ノルボルネン系単量体と開環共重合可能なその他の単量体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等のモノ環状オレフィン類及びその誘導体；シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエン等の環状共役ジエン及びその誘導体；等が挙げられる。

ノルボルネン系単量体の開環重合体及びノルボルネン系単量体とこれと共重合可能なその他の単量体との開環共重合体は、単量体を開環重合触媒の存在下に重合することにより得ることができる。
開環重合触媒としては、通常使用される公知のものを使用できる。

ノルボルネン系単量体と付加共重合可能なその他の単量体としては、例えば、エチレン、プロピレン等の炭素数２〜２０のα−オレフィン及びこれらの誘導体；シクロブテン、シクロペンテン等のシクロオレフィン及びこれらの誘導体；１，４−ヘキサジエン等の非共役ジエン等が挙げられる。これらの単量体は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中では、α−オレフィンが好ましく、エチレンがより好ましい。

ノルボルネン系単量体の付加重合体及びノルボルネン系単量体とこれと共重合可能な他の単量体との付加共重合体は、単量体を付加重合触媒の存在下に重合することにより得ることができる。付加重合触媒としては、通常使用される公知のものを使用できる。

ノルボルネン系単量体の開環重合体、ノルボルネン系単量体とこれと開環共重合可能なその他の単量体との開環共重合体、ノルボルネン系単量体の付加重合体、及びノルボルネン系単量体とこれと共重合可能なその他の単量体との付加重合体の水素化物は、公知の水素化触媒を添加し、炭素−炭素不飽和結合を好ましくは９０％以上水素化することによって得ることができる。

単環の環状オレフィン系重合体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等の付加重合体を挙げることができる。
また、環状共役ジエン系重合体としては、例えば、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン等の環状共役ジエン系単量体を１，２−付加重合又は１，４−付加重合した重合体を挙げることができる。

ビニル脂環式炭化水素重合体は、ビニルシクロアルカン又はビニルシクロアルケン由来の繰り返し単位を有する重合体である。ビニル脂環式炭化水素重合体としては、例えば、ビニルシクロヘキサン等のビニルシクロアルカン、ビニルシクロヘキセン等のビニルシクロアルケン等のビニル脂環式炭化水素化合物の重合体及びその水素化物；スチレン、α−メチルスチレン等のビニル芳香族炭化水素化合物の重合体の芳香族部分の水素化物等が挙げられる。

また、ビニル脂環式炭化水素重合体は、ビニル脂環式炭化水素化合物やビニル芳香族炭化水素化合物と、これらの単量体と共重合可能な他の単量体とのランダム共重合体、ブロック共重合体等の共重合体及びその水素化物であってもよい。ブロック共重合としては、ジブロック、トリブロック、又はそれ以上のマルチブロックや傾斜ブロック共重合等が挙げられるが、特に制限はない。

透明樹脂の分子量は、溶媒としてシクロヘキサン（重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン）を用いたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーにより測定したポリイソプレン又はポリスチレン換算の重量平均分子量が、通常１０，０００〜３００，０００、好ましくは１５，０００〜２５０，０００、より好ましくは２０，０００〜２００，０００の範囲であるときに、支持体の機械的強度及び成形加工性とが高度にバランスされ好適である。

前記透明樹脂のガラス転移温度は、使用目的に応じて適宜選択されればよいが、好ましくは８０℃以上、より好ましくは１００〜２５０℃の範囲である。ガラス転移温度がこのような範囲にある透明樹脂からなる支持体は、高温・高湿度下での使用における変形や応力が生じることがなく耐久性に優れる。

前記透明樹脂の分子量分布（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ））は特に制限されないが、通常１．０〜１０．０、好ましくは１．０〜６．０、より好ましくは１．１〜４．０の範囲である。このような範囲に分子量分布を調整することによって、支持体の機械的強度と成形加工性が良好にバランスする。

本発明に用いる支持体の形状は、特に制約されないが、フィルム状であるのが好ましい。フィルム状の支持体を用いる場合には反射防止フィルムが得られる。支持体がフィルム状である場合、支持体の厚みは、通常１０〜１０００μｍであるが、透明性及び機械的強度の観点から、好ましくは３０〜３００μｍ、より好ましくは４０〜２００μｍである。

フィルム状の支持体は、上記透明樹脂材料を公知の成形方法によりフィルム状に成形することにより得ることができる。
透明樹脂材料をフィルム状に成形する方法としては、溶液キャスティング法又は、溶融押出成形法が挙げられる。なかでも、フィルム中の揮発性成分の含有量や厚さむらを少なくできる点から、溶融押出成形法が好ましい。さらに溶融押出成形法としては、Ｔダイ等のダイスを用いる方法やインフレーション法等が挙げられるが、生産性や厚さ精度に優れる点でＴダイを用いる方法が好ましい。

フィルムを成形する方法として、Ｔダイを用いる方法を採用する場合、Ｔダイを有する押出機における透明樹脂の溶融温度は、透明樹脂のガラス転移温度よりも８０〜１８０℃高い温度にすることが好ましく、１００〜１５０℃高い温度にすることがより好ましい。押出機での溶融温度が過度に低いと透明樹脂の流動性が不足するおそれがあり、逆に溶融温度が過度に高いと樹脂が劣化する可能性がある。

さらに、フィルム状に成形する前に、用いる透明樹脂を予備乾燥しておくことが好ましい。予備乾燥は、例えば原料をペレット等の形態にして、熱風乾燥機等を用いて行われる。乾燥温度は１００℃以上が好ましく、乾燥時間は２時間以上が好ましい。予備乾燥を行うことにより、フィルム中の揮発性成分量を低減させることができ、さらに押出す透明樹脂の発泡を防ぐことができる。

また支持体としては、片面又は両面に表面改質処理を施したものを使用することができる。表面改質処理を行うことにより、低屈折率層や後述するその他の層との密着性を向上させることができる。表面改質処理としては、エネルギー線照射処理や薬品処理等が挙げられる。

エネルギー線照射処理としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理等が挙げられ、処理効率の点等から、コロナ放電処理、プラズマ処理が好ましく、コロナ放電処理が特に好ましい。薬品処理としては、重クロム酸カリウム溶液、濃硫酸等の酸化剤水溶液中に、浸漬し、その後充分に水で洗浄すればよい。浸漬した状態で振盪すると効果的であるが、長期間処理すると表面が溶解したり、透明性が低下したりするといった問題があり、用いる薬品の反応性、濃度等に応じて、処理時間等を調整する必要がある。

本発明の反射防止積層体においては、支持体と高屈折率層との間、又は高屈折率層と低屈折率層との間にその他の層を介在させることができる。
その他の層としては、ハードコート層やプライマー層が挙げられる。
ハードコート層は、支持体の表面硬度、耐繰り返し疲労性及び耐擦傷性を補強する目的で形成される。ハードコート層の形成材料としては、ＪＩＳ Ｋ５４００に規定される鉛筆硬度試験で、「ＨＢ」以上の硬度を示すものであれば特に制限されない。例えば、有機シリコーン系、メラミン系、エポキシ系、アクリル系、ウレタンアクリレート系等の有機系ハードコート材料；二酸化ケイ素等の無機系ハードコート材料；等が挙げられる。なかでも、接着力が良好であり、生産性に優れる観点から、ウレタンアクリレート系、多官能アクリレート系ハードコート材料の使用が好ましい。

ハードコート層の形成方法は特に制限されず、例えば、ハードコート層形成用塗工液を公知の塗工方法により支持体上に塗工して、紫外線を照射し硬化させて形成する方法が挙げられる。ハードコート層の厚みは特に限定されないが、通常０．５〜３０μｍ、好ましくは３〜１５μｍである。

プライマー層は、支持体と低屈折率層との接着性の付与及び向上を目的として形成される。プライマー層を構成する材料としては、例えば、ポリエステルウレタン系樹脂、ポリエーテルウレタン系樹脂、ポリイソシアネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、塩化ゴム、環化ゴム、これらの重合体に極性基を導入した変性物等が挙げられる。これらの中で、主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂の変性物及び環化ゴムの変性物を好適に用いることができる。

主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂としては、ポリブタジエン骨格又は少なくともその一部に水素添加したポリブタジエン骨格を有する樹脂が挙げられ、具体的には、ポリブタジエン樹脂、水添ポリブタジエン樹脂、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体（ＳＢＳ共重合体）、その水素添加物（ＳＥＢＳ共重合体）等が挙げられる。なかでも、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体の水素添加物の変性物を好適に用いることができる。

重合体の変性物を得るために用いる極性基を導入するための化合物としては、カルボン酸又はその誘導体が好ましい。例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマール酸等の不飽和カルボン酸；塩化マレイル、マレイミド、無水マレイン酸、無水シトラコン酸等の不飽和カルボン酸のハロゲン化物、アミド、イミド、無水物、エステル等の誘導体；等が挙げられる。これらの中でも、不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物による変性物は、密着性に優れるので、好適に用いることができる。不飽和カルボン酸又はその無水物の中では、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸がより好ましく、マレイン酸、無水マレイン酸が特に好ましい。これらの不飽和カルボン酸等は、２種以上を混合して用い、変性することもできる。

プライマー層の形成方法は特に制限されず、例えば、プライマー層形成用塗工液を公知の塗工方法により、支持体上に塗工して形成する方法が挙げられる。プライマー層の厚みは特に制限されないが、通常０．０１〜５μｍ、好ましくは０．１〜２μｍである。

また、前記支持体、ハードコート層及びプライマー層を構成する樹脂材料には、所望により各種配合剤を添加することができる。配合剤としては、熱可塑性樹脂材料で通常用いられるものであれば格別な制限はなく、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン酸系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤等の酸化防止剤；ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、アクリレート系紫外線吸収剤、金属錯体系紫外線吸収剤等の紫外線吸収剤；ヒンダードアミン系光安定剤等の光安定剤；染料や顔料等着色剤；脂肪族アルコールのエステル、多価アルコールのエステル、脂肪酸アミド、無機粒子等滑剤；トリエステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、脂肪酸−塩基酸エステル系可塑剤、オキシ酸エステル系可塑剤等の可塑剤；多価アルコールの脂肪酸エステル等の帯電防止剤；等が挙げられる。

（２）高屈折率層
本発明の反射防止積層体の高屈折率層は、活性エネルギー線硬化型樹脂を含み、層全体の屈折率が１．５５以上の層である。活性エネルギー線硬化型樹脂を含有させることにより、十分な強度、耐久性、密着性、透明性を兼ね備える高屈折率層を得ることができ、さらにハードコート層を兼ねることもできる。

活性エネルギー線硬化性樹脂は、分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー及び／又はモノマーが、活性エネルギー線の照射により硬化してなる樹脂である。活性エネルギー線は、電磁波又は荷電粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを指し、通常は紫外線又は電子線を用いる。

前記分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマーの例としては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類；ポリエステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレート、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレート等のメタクリレート類、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレート等のアクリレート類、もしくはカチオン重合型エポキシ化合物が挙げられる。

前記分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するモノマーの例としては、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノマー；
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メトキシブチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステル類；
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸エトキシメチル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類；
アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ）メチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）プロピル等の不飽和置換の置換アミノアルコールエステル類；
アクリルアミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド類；

エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、２−ヒドロキシアクリレート、２−ヘキシルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクレリート等の多官能性アクリレート類；
トリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等の、分子中に２個以上のチオール基を有するポリチオール類；等が挙げられる。
本発明においては、これらのプレポリマー、オリゴマー及び／又はモノマーを一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。

本発明の反射防止積層体においては、前記高屈折率層が、活性エネルギー線硬化型樹脂に加えて、無機酸化物粒子をさらに含むものであるのが好ましい。
無機酸化物粒子を添加することにより、耐擦傷性に優れ、屈折率が１．５５以上の高屈折率層を容易に形成することが可能となる。

用いる無機酸化物粒子としては、屈折率が高いものが好ましい。具体的には、前記無機酸化物粒子の屈折率が１．７以上であることが好ましく、１．７〜２．３であることがさらに好ましい。

屈折率が高い無機酸化物としては、例えば、チタニア（酸化チタン）、ジルコニア（酸化ジルコニウム）、酸化亜鉛、酸化錫、酸化セリウム、酸化アンチモン、スズをドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンをドープした酸化スズ（ＡＴＯ）、亜鉛をドープした酸化インジウム（ＩＺＯ）、アルミニウムをドープした酸化亜鉛（ＡＺＯ）、フッ素をドープした酸化スズ（ＦＴＯ）等が挙げられる。これらの無機酸化物粒子は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの中でも、酸化アンチモンは、屈折率が高く、導電性と透明性のバランスに優れるので、屈折率を調節するための成分として適している。

無機酸化物粒子は、高屈折率層の透明性を低下させないために、いわゆる超微粒子サイズ、より具体的には、一次粒子径が１ｎｍ以上であり、且つ、１００ｎｍ以下、好ましくは３０ｎｍ以下のものを用いるのが好ましい。

無機酸化物粒子の一次粒子径は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）等により得られる二次電子放出のイメージ写真から目視計測してもよいし、動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等により機械計測してもよい。

無機酸化物粒子の一次粒子径が上記範囲内であれば、その粒子形状が球状であっても針状であっても、その他どのような形状であっても本発明に用いることができる。

本発明に用いる無機酸化物粒子としては、無機化合物粒子の表面の少なくとも一部が、光触媒活性を低下又は消失させる無機酸化物により被覆されているものであってもよい。
無機化合物粒子の表面の少なくとも一部を被覆する無機酸化物としては、例えば、アルミナ、シリカ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等の金属酸化物や、アンチモンをドープした酸化スズ（ＡＴＯ）、スズをドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛をドープした酸化インジウム（ＩＺＯ）、アルミニウムをドープした酸化亜鉛（ＡＺＯ）、フッ素をドープした酸化スズ（ＦＴＯ）等を例示することができる。

また、本発明に用いる無機酸化物粒子としては、有機溶剤中での分散性を高めるために、その表面の少なくとも一部がアニオン性の極性基を有する有機化合物又は有機金属化合物により被覆されていることが好ましい。高屈折率層を湿式法により形成する場合、用いる分散液中における無機酸化物粒子の分散性を向上させることができる。

前記アニオン性の極性基を有する有機化合物としては、カルボキシル基、リン酸基、又は、水酸基のようなアニオン性の極性基を有するものを用いることができる。例えば、ステアリン酸、ラウリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ＥＯ（エチレンオキサイド）変性リン酸トリアクリレート、ＥＣＨ変性グリセロールトリアクリレート等が挙げられる。

また、アニオン性の極性基を有する有機金属化合物としては、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤；ＫＲ−ＴＴＳ、ＫＲ−４６Ｂ、ＫＲ−５５、ＫＲ−４１Ｂ、ＫＲ−３８Ｓ、ＫＲ−１３８Ｓ、ＫＲ−２３８Ｓ、３３８Ｘ、ＫＲ−４４、ＫＲ−９ＳＡ、ＫＲ−ＥＴ（以上、味の素(株）製のチタネートカップリング剤）、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラｎ−プロポキシチタン、テトラｎ−ブトキシチタン、テトラｓｅｃ−ブトキシチタン、テトラｔｅｒｔ−ブトキシチタン等のチタネートカップリング剤；等が挙げられる。

表面が有機化合物及び／又は有機金属化合物により被覆して疎水性が付与された無機酸化物粒子は、前記アニオン性の極性基を有する有機化合物及び／又は有機金属化合物を有機溶剤中に溶解させておき、この溶液中に無機酸化物を分散させた後に有機溶剤を完全に蒸発除去することにより得ることができる。

また、本発明においては、前記無機酸化物粒子が導電性の無機酸化物粒子であることが好ましい。導電性無機酸化物は、比較的大きい導電性と共に比較的高い屈折率も有するので、これらを用いる場合には高屈折率層に高い屈折率と共に導電性を付与することができ、帯電防止膜としての機能を有する高屈折率層を形成することができる。

導電性の無機酸化物としては、例えば、５酸化アンチモン、酸化錫、スズをドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）、及び、アンチモンをドープした酸化スズ（ＡＴＯ）、亜鉛をドープした酸化インジウム（ＩＺＯ）、アルミニウムをドープした酸化亜鉛（ＡＺＯ）、フッ素をドープした酸化スズ（ＦＴＯ）等が挙げられる。

また、導電性を有しない無機酸化物粒子に導電性金属酸化物を被覆することによって、無機酸化物粒子に導電性を付与すたものを使用することもできる。例えば、無機酸化物粒子として、屈折率は高いが導電性を有しない酸化チタン粒子を用いる場合に、当該酸化チタン微粒子の表面を導電性金属酸化物で被覆して導電性を付与することによって、帯電防止機能を有する高屈折率層を得ることができる。

無機酸化物粒子は、２種以上を組み合わせて用いてもよい。この場合には、主となる機能が異なる無機酸化物粒子同士を組み合わせることにより、複数の機能をバランスよく備えた透明薄膜を形成することができる。例えば、屈折率は極めて大きいが導電性の小さいルチル型酸化チタン微粒子と、導電性は極めて大きいが屈折率はルチル型酸化チタンよりも小さい上記の導電性無機酸化物を組み合わせて、所定の屈折率と良好な帯電防止性能を兼ね備えた高屈折率層を形成することが可能である。

活性エネルギー線硬化型樹脂を含む高屈折率層は、前記分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有する、プレポリマー、オリゴマー及び／又はモノマー、並びに所望により無機酸化物粒子を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を、支持体又は支持体表面に形成されたその他の層上に塗布し、得られた塗膜を乾燥し、活性エネルギー線を照射して硬化させることにより、形成することができる。

用いる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中の前記プレポリマー、オリゴマー及び／又はモノマーの含有量は、優れた塗工適性が得られる観点から、５重量％〜９５重量％が好ましい。また、無機酸化物微粒子の配合量は、特に制限されないが、優れた耐擦傷性を有し、屈折率が１．５５以上の高屈折率層が容易に得られる観点から、高屈折率層全体に対して、４０〜９０重量％であるのが好ましい。

活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化が紫外線照射により行われるときは、該組成物に光重合開始剤や光重合促進剤を添加する。光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等のラジカル重合性開始剤；芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等のカチオン重合性開始剤；等が挙げられる。これらは一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。光重合開始剤の添加量は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物１００重量部に対し、通常、０．１〜１０重量部である。

また、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物には、有機反応性ケイ素化合物を添加してもよい。用いる有機反応性ケイ素化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等の、式：Ｒ_ｍＳｉ（ＯＲ’）_ｎ（式中、Ｒ及びＲ’はそれぞれ独立して炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｍ、ｎはそれぞれ独立して、ｍ＋ｎ＝４の関係を満たす正整数である。）で表せる有機ケイ素化合物；

γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、オクタデシルジメチル［３−（トリメトキシシリル）プロピル］アンモニウムクロライド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等のシランカップリング剤；

片末端ビニル基置換ポリシラン、両末端ビニル基置換ポリシラン、片末端ビニル基置換ポリシロキサン、両末端ビニル基置換ポリシロキサン、又はこれらの化合物を反応させて得られるビニル基置換ポリシラン、もしくはビニル基置換ポリシロキサン等の活性エネルギー線硬化性ケイ素化合物；３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の（メタ）アクリロキシシラン化合物等のその他の有機ケイ素化合物；等が挙げられる。

用いる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、前記分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有する、プレポリマー、オリゴマー及び／又はモノマー、並びに所望により無機酸化物粒子を、適当な有機溶剤に溶解又は分散させることにより調製することができる。

用いる有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール等のアルコール類；エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジアセトングリコール等のグリコール類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の脂肪族炭化水素；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；メチルエチルケトオキシム等のオキシム類；及びこれらの２種以上からなる組み合わせ；等が挙げられる。

活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を支持体上に塗工する方法は特に制限されず、公知の塗工法を採用することができる。塗工法としては、ワイヤバーコート法、ディップ法、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法等が挙げられる。

活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の塗膜を得た後は、乾燥し、活性エネルギー線を照射することにより、硬化させて高屈折率層を形成することができる。
活性エネルギー線の照射強度及び照射時間はとくに限定されず、用いる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の組成等に応じて適宜、照射強度、照射時間などの照射条件を設定することができる。

高屈折率層の厚みは、通常１〜２０μｍ、好ましくは３〜１０μｍである。
高屈折率層の層全体の屈折率は１．５５以上の層である。屈折率は、例えば、公知の分光エリプソメータを用いて測定して求めることができる。

（３）低屈折率層
本発明の反射防止積層体の低屈折率層は、その屈折率が１．３５以下の層である。
このような屈折率を有する低屈折率層は、例えば、
（Ｉ）上記屈折率を有する樹脂を含有する塗布液を高屈折率層の上に塗布した後、乾燥して形成する方法、
（II）上記屈折率を有する樹脂からなるフィルムを高屈折率層の上に貼り合わせる方法、
（III）上記屈折率を満足する低屈折率層を形成し得る、重合性又は硬化性の化合物を含有する溶液を高屈折率層の上に塗布・乾燥し、重合・硬化させる方法、等により形成することができる。
これらの中でも、より容易に耐傷性に優れた低屈折率層を形成できることから、(III)の方法が好ましい。

前記（Ｉ）及び（II）の方法で用いる低屈折率の樹脂としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体、パーフルオロポリエーテル等のフッ素樹脂が挙げられる。

上記（III）の方法で用いる上記屈折率を満足する低屈折率層を形成し得る重合性又は硬化性の化合物を含有する溶液としては、分子中に重合性の官能基及びフッ素原子を有する有機化合物や、ゾルゲル法により金属酸化物を与える化合物の少なくとも一種を含有する溶液が挙げられる。

前記重合性又は硬化性の化合物としては、２−（パーフルオロブチル）エチルアクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチルアクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチルメタクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチルメタクリレート等の（メタ）アクリレート化合物；テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン等のアルコキシシラン化合物；、テトラクロロシラン、メチルトリクロロシラン等のハロゲン化シラン化合物；ヘキサメチルジシラザン等のシラザン化合物；２−（パーフルオロオクチル）エチルトリメトキシシラン、２−（パーフルオロプロピル）エチルトリメトキシシラン等の含フッ素アルコキシシラン化合物；等が挙げられる。
これらの重合性又は硬化性の化合物はそれぞれ単独で、あるいは２種以上を混合して用いることができる。

ゾルゲル法は、一般に金属アルコキシドからなるゾルを加水分解・重縮合反応により、流動性を失ったゲルとし、このゲルを加熱して酸化物を得る方法である。
ゾルゲル法により得られる金属酸化物は、分子中に、−（Ｏ−Ｍ）_ｍ”−Ｏ−（式中、Ｍは前記と同じ意味を表し、ｍ’は自然数を表す。）結合を有するものである。
ゾルゲル法により金属酸化物を与える化合物としては、下記（ａ）〜（ｃ）からなる群から選ばれる１種以上の化合物が挙げられる。
（ａ）式（１）：ＭＸ_ｎで表される化合物。
（ｂ）前記式（１）で表される化合物の少なくとも１種の部分加水分解生成物。
（ｃ）前記式（１）で表される化合物の少なくとも１種の完全加水分解生成物。

前記（ａ）の式（１）で表される化合物において、式（１）中、Ｍは金属原子又は半金属原子を表す。
金属原子又は半金属原子としては、リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属；マグネシウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム等のアルカリ土類金属；ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム等の周期律表第３Ｂ族元素；ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛等の周期律表第４Ｂ族元素；リン、砒素、アンチモン等の周期律表第５Ｂ族元素；スカンジウム、チタン、バナジウム、鉄、ニッケル、銅、亜鉛、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、タングステン等の遷移金属元素；ランタン、セリウム、ネオジム等のランタノイド；等が挙げられる。これらの中でも、周期律表第３Ｂ族元素、周期律表第４Ｂ族元素、遷移金属元素が好ましく、アルミニウム、ケイ素、チタン、ジルコニウムがより好ましく、ケイ素（Ｓｉ）が特に好ましい。

Ｘは、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；置換基を有していてもよい一価の炭化水素基；酸素原子；酢酸根、硝酸根等の有機酸根；アセチルアセトナート等のβ−ジケトナート基；硝酸根、硫酸根等の無機酸根；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基等のアルコキシ基；または水酸基を表す。
また、ｎは前記Ｍ（金属原子又は半金属原子）の原子価を表す。ｎが２以上のとき、Ｘは同一であっても相異なっていてもよい。

これらの中でも、前記式（１）で表される化合物としては、式（２）：Ｒ_ａＳｉＹ_４−ａ〔式中、Ｒは置換基を有していてもよい一価の炭化水素基を表し、ａは０〜２の整数を表し、ａが２のとき、Ｒは同一であっても相異なっていてもよい。Ｙは加水分解性基を表し、Ｙは同一であっても相異なっていてもよい。〕で表されるケイ素化合物が特に好ましい。

置換基を有していてもよい一価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基等のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；フェニル基、４−メチルフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等の置換基を有していてもよいアリール基；ビニル基、アリル基等のアルケニル基；ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロピル基等のアラルキル基；クロロメチル基、γ−クロロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基等のハロアルキル基；γ−メタクリロキシプロピル基等のアルケニルカルボニルオキシアルキル基；γ−グリシドキシプロピル基、３，４−エポキシシクロヘキシルエチル基等のエポキシ基を有するアルキル基；γ−メルカプトプロピル基等のメルカプト基を有するアルキル基；３−アミノプロピル基等のアミノ基を有するアルキル基；トリフルオロメチル基等のパーフルオロアルキル基等を例示することができる。これらの中でも、合成の容易性、入手容易性から、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基、パーフルオロアルキル基が好ましく、防汚性に優れる点からパーフルオロアルキル基がより好ましい。

Ｙは加水分解性基を表す。ここで、加水分解性基は、所望により酸または塩基触媒の存在下に加水分解して、−（Ｏ−Ｓｉ）_ｍ−Ｏ−結合を生じせしめる基をいう。

加水分解性基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシ基；アセトキシ基、プロピオニルオキシ基等のアシルオキシ基；オキシム基（−Ｏ−Ｎ＝Ｃ−Ｒ’（Ｒ”））、エノキシ基（−Ｏ−Ｃ（Ｒ’）＝Ｃ（Ｒ”）Ｒ'''）、アミノ基、アミノキシ基（−Ｏ−Ｎ（Ｒ’）Ｒ”）、アミド基（−Ｎ（Ｒ’）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ”）等が挙げられる。これらの基において、Ｒ’、Ｒ”、Ｒ'''は、それぞれ独立して水素原子又は一価の炭化水素基を表す。これらの中でも、Ｙとしては、入手容易性等からアルコキシ基が好ましい。

前記式（２）で表されるケイ素化合物としては、式（２）中、ａが０〜２の整数であるケイ素化合物が好ましい。その具体例としては、アルコキシシラン類、アセトキシシラン類、オキシムシラン類、エノキシシラン類、アミノシラン類、アミノキシシラン類、アミドシラン類等が挙げられる。これらの中でも、入手の容易さからアルコキシシラン類がより好ましい。

前記式（２）中、ａが０であるテトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等を例示でき、ａが１であるオルガノトリアルコキシシランとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等を例示できる。また、ａが２であるジオルガノジアルコキシシランとしては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等を例示できる。

前記式（１）で表される化合物の分子量は特に制限されないが、４０〜３００であるのが好ましく、１００〜２００であるのがより好ましい。

前記（ｂ）の式（１）で表される化合物の少なくとも１種の部分加水分解生成物（以下、「化合物（３）」という。）、及び（ｃ）の式（１）で表される化合物の少なくとも１種の完全加水分解生成物（以下、「化合物（４）」という。）は、前記式（１）で表される化合物の１種またはそれ以上を、全部又は部分的に加水分解、縮合させることによって得ることができる。

化合物（３）及び化合物（４）は、例えば、Ｍ（Ｏｒ）_４（Ｍは前記と同じ意味を表し、ｒは１価の炭化水素基を表す。）で表される金属テトラアルコキシドを、モル比［Ｈ_２Ｏ］／［Ｏｒ］が１．０以上、例えば１．０〜５．０、好ましくは１．０〜３．０となる量の水の存在下、加水分解して得ることができる。
加水分解は、５〜１００℃の温度で、２〜１００時間、全容を撹拌することにより行うことができる。

前記式（１）で表される化合物を加水分解する場合、必要に応じて触媒を使用してよい。使用する触媒としては、特に限定されるものではないが、得られる部分加水分解物及び／あるいは加水分解物が２次元架橋構造になりやすく、その縮合化合物が多孔質化しやすい点、及び加水分解に要する時間を短縮する点から、酸触媒が好ましい。

用いる酸触媒としては、特に限定されないが、例えば、酢酸、クロロ酢酸、クエン酸、安息香酸、ジメチルマロン酸、蟻酸、プロピオン酸、グルタール酸、グリコール酸、マレイン酸、マロン酸、トルエンスルホン酸、シュウ酸等の有機酸；塩酸、硝酸、ハロゲン化シラン等の無機酸；酸性コロイダルシリカ、酸化チタニアゾル等の酸性ゾル状フィラー；を挙げることができる。これらの酸触媒は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて使用することができる。

また、前記酸触媒の代わりに、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属の水酸化物の水溶液、アンモニア水、アミン類の水溶液等の塩基触媒を用いてもよい。

化合物（３）及び化合物（４）の分子量は特に制限されないが、通常、その重量平均分子量が２００〜５０００の範囲である。

本発明の反射防止積層体の低屈折率層は、より具体的には、前記（ａ）〜（ｃ）からなる群から選ばれる１種以上の化合物の少なくとも一種及び溶媒を含有してなる組成物（以下、「コーティング用組成物」ということがある。）を、支持体上に塗工し、必要に応じて乾燥・加熱処理を施すことにより形成することができる。

前記コーティング用組成物に用いる溶媒としては、水または水と他の有機溶剤との混合物を含むのが好ましい。
用いる有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール（ＩＰＡ）、ｎ−ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪族アルコール類；エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコール誘導体；ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール誘導体；ジアセトンアルコール；及びこれらの２種以上からなる組み合わせ；等の親水性有機溶剤が挙げられる。

また、前記親水性有機溶剤と併用して、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の脂肪族炭化水素；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；メチルエチルケトオキシム等のオキシム類；エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ等のセルソルブ類；及びこれらの２種以上からなる組み合わせ；等を使用することができる。

前記コーティング用組成物は、上記（ａ）及び（ｂ）の化合物を含む場合、硬化触媒を含むのが好ましい。これによって、コーティング用組成物を支持体表面に塗布して塗膜を形成して乾燥する際に、縮合反応が促進されて被膜中の架橋密度が高くなり、被膜の耐水性及び耐アルカリ性を向上させることができる効果を得ることができる。
用いる硬化触媒としては、Ｔｉキレート化合物、Ｚｒキレート化合物等の金属キレート化合物；有機酸等が挙げられる。

また、前記コーティング用組成物は、公知のシランカップリング剤を更に含んでいてもよい。シランカップリング剤を含むコーティング用組成物を用いて支持体上に低屈折率層を形成する場合、支持体と低屈折率層との間の密着性を向上させることができる。他に含んでいてもよいものとしては、シリコンオイル、含フッ素シラン化合物等が挙げられる。

支持体上にコーティング用組成物を塗工する方法は特に制限されず、公知の塗工法を採用することができる。塗工法としては、ワイヤバーコート法、ディップ法、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法、グラビアコート法等が挙げられる。

コーティング用組成物の塗膜を得た後は、乾燥し、必要に応じて加熱焼成することにより、低屈折率層を形成することができる。必要に応じて行われる加熱の温度は、通常５０〜２００℃、好ましくは８０〜１５０℃である。
得られる低屈折率層の厚みは、通常１０〜１０００ｎｍ、好ましくは５０〜５００ｎｍである。

得られる低屈折率層の屈折率は、１．３５以下、好ましくは１．２５〜１．３５であり、特に好ましくは１．３０〜１．３４である。低屈折率層の屈折率が１．２５未満では、低屈折率層の強度が弱く、偏光板保護フィルムとして求められる所望の耐擦傷性が得られなくなるおそれがある。一方、１．３５を越えると、所望の反射防止効果が得られなくなるおそれがある。屈折率は、例えば、公知の分光エリプソメータを用いて測定して求めることができる。

本発明の反射防止積層体においては、低屈折率層を保護し、かつ、防汚性能を高めるために、低屈折率層上に防汚層をさらに形成することができる。

防汚層の形成材料としては、低屈折率層の機能が阻害されず、防汚層としての要求性能が満たされる限り特に制限はない。通常、疎水基を有する化合物を好ましく使用できる。
具体的な例としてはパーフルオロアルキルシラン化合物、パーフルオロポリエーテルシラン化合物、フッ素含有シリコーン化合物を使用することができる。防汚層の形成方法は、形成する材料に応じて、例えば、蒸着、スパッタリング等の物理的気相成長法；化学的気相成長（ＣＶＤ）法；湿式コーティング法；等を用いることができる。防汚層の厚みは特に制限はないが、通常２０ｎｍ以下が好ましく、１〜１０ｎｍであるのがより好ましい。

本発明の反射防止積層体の反射率は、通常０．７％以下、好ましくは０．５％以下である。反射率は、例えば、公知の分光光度計を用い、所定の入射角における反射スペクトルを測定し、波長５５０ｎｍにおける反射率として求めることができる。

本発明の反射防止積層体は耐擦傷性に優れる。本発明の反射防止積層体は、好ましくは、スチールウールに０．０２５ＭＰａの荷重をかけた状態で、前記支持体上に形成された高屈折率層又は低屈折率層表面を１０回擦る試験（スチールウール試験）後であっても、目視観察において、フィルム表面には全く傷が認められないものである。

本発明の反射防止積層体は、前記スチールウール試験前後の全光線透過率の変化は極めて小さい。ここで、全光線透過率の変化率（％）＝（試験前後の全光線透過率の変化量）／（試験前の全光線透過率）×１００で定義すると、本発明の反射防止積層体の全光線透過率の変化率は１％以下であるのが好ましい。

また、本発明の反射防止積層体は、前記スチールウール試験前後のヘイズ値の変化は極めて小さい。ここで、ヘイズの変化率（％）＝（試験前後のヘイズの変化量）／（試験前のヘイズ）×１００で定義すると、本発明の反射防止積層体のヘイズの変化率は１５％以下であるのが好ましい。

本発明の反射防止積層体の層構成例を図１に示す。図１に示す反射防止積層体２０は、支持体１０上に形成された高屈折率層１２を有し、該高屈折率層１２上に低屈折率層１４が積層された構造を有している。本発明の反射防止積層体は図１に示すものに限定されず、少なくとも支持体上に高屈折率層と低屈折率層とを有するものであればよい。例えば、支持体上に２層以上の高屈折率層を形成し、その上に低屈折率層が形成された構造のものであってもよい。

本発明の反射防止積層体は、反射防止性能、耐擦傷性及び透明性に優れており、フラットパネルの反射防止フィルムとして有用である。より具体的には、携帯電話、デジタル情報端末、ポケットベル（登録商標）、ナビゲーション、車載用液晶ディスプレイ、液晶モニター、調光パネル、ＯＡ機器用ディスプレイ、ＡＶ機器用ディスプレイ等の各種液晶表示素子やエレクトロルミネッセンス表示素子あるいはタッチパネル等の偏光板の反射防止フィルムとして有用である。

２）反射防止機能付偏光板
本発明の反射防止機能付偏光板は、本発明の反射防止積層体を偏光子の少なくとも一面に貼り合わせてなることを特徴とする。

偏光子としては、偏光子としての機能を有するものであれば、特に限定はされない。例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系やポリエン系の偏光子が挙げられる。
偏光子の製造方法は特に限定されない。ＰＶＡ系の偏光子を製造する方法としては、ＰＶＡ系フィルムにヨウ素イオンを吸着させた後に一軸に延伸する方法、ＰＶＡ系フィルムを一軸に延伸した後にヨウ素イオンを吸着させる方法、ＰＶＡ系フィルムへのヨウ素イオン吸着と一軸延伸とを同時に行う方法、ＰＶＡ系フィルムを二色性染料で染色した後に一軸に延伸する方法、ＰＶＡ系フィルムを一軸に延伸した後に二色性染料で吸着する方法、ＰＶＡ系フィルムへの二色性染料での染色と一軸延伸とを同時に行う方法が挙げられる。
また、ポリエン系の偏光子を製造する方法としては、ＰＶＡ系フィルムを一軸に延伸した後に脱水触媒存在下で加熱・脱水する方法、ポリ塩化ビニル系フィルムを一軸に延伸した後に脱塩酸触媒存在下で加熱・脱水する方法等の公知の方法が挙げられる。

本発明の反射防止機能付偏光板は、本発明の反射防止積層体の支持体の高屈折率層及び低屈折率層が設けられていない側の一面に、偏光子を積層することにより製造することができる。

反射防止積層体と偏光子との積層は、接着剤や粘着剤等の適宜な接着手段を用いて貼り合わせることができる。接着剤又は粘着剤としては、例えば、アクリル系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系、ゴム系等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性や透明性等の観点から、アクリル系のものの使用が好ましい。

本発明の反射防止機能付偏光板においては、偏光子の本発明の反射防止積層体が積層されていない方の面に、接着剤又は粘着剤層を介して、保護フィルムが積層されていてもよい。保護フィルムとしては、光学異方性が低い材料からなるものが好ましい。

光学異方性が低い材料としては、特に制限されず、例えばトリアセチルセルロース等のセルロースエステルや脂環式構造含有重合体等が挙げられるが、透明性、低複屈折性、寸法安定性等に優れる点から脂環式構造含有重合体が好ましい。脂環式構造含有重合体としては、前記支持体の説明部分で記載したものと同様のものが挙げられる。
接着剤又は粘着剤としては、反射防止積層体と偏光子との積層に用いる接着剤又は粘着剤と同様のものが挙げられる。

本発明の反射防止機能付偏光板の一例の層構成断面図を図２に示す。図２に示す反射防止機能付偏光板３０は、本発明の反射防止積層体２０の高屈折率層１２及び低屈折率層１４が設けられていない面側に、接着剤又は粘着剤層１６を介して、偏光子１８が積層され、さらに偏光子１８の他の面側には、接着剤又は粘着剤層１６を介して、保護フィルム１０ａが積層された構造を有している。
本発明の反射防止機能付偏光板は、本発明の反射防止積層体を用いているので、優れた反射防止性能と耐擦傷性を有し、生産性に優れている。

３）光学製品
本発明の光学製品は、本発明の反射防止機能付偏光板を備えることを特徴とする。本発明の光学製品の好ましい具体例としては、液晶表示装置、タッチパネル、エレクトロルミネッセンス表示装置等が挙げられる。

本発明の反射防止機能付偏光板を備える光学製品の一例として、本発明の反射防止機能付偏光板を備える液晶表示素子の層構成例を図３に示す。図３に示す液晶表示装置は、下から順に、偏光板４０、位相差板５０、液晶セル６０、及び本発明の反射防止機能付偏光板３０からなる。反射防止機能付偏光板３０は、液晶セル６０上に、図示を省略する接着剤又は粘着剤層を介して、偏光板面と貼り合わせて形成されている。液晶セル６０は、例えば図４に示すように、透明電極７０を備えた電極基板８０の２枚をそれぞれ透明電極７０が対向する状態で所定の間隔をあけて配置するとともに、その間隙に液晶９０を封入することにより作製される。図４中、１００はシールである。

液晶９０の液晶モードは特に限定されない。液晶モードとしては、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉｐｌｅ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、ＩＰＳ（Ｉｎ Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）型等が挙げられる。

また、図３に示す液晶表示素子は、印加電圧が低い時に明表示、高い時に暗表示であるノーマリーホワイトモードでも、印加電圧が低い時に暗表示、高い時に明表示であるノーマリーブラックモードでも用いることができる。

液晶セルの両側に偏光板や光学部材を設ける場合、それらは同じであってもよいし、異なるものであってもよい。液晶表示装置の形成に際しては、例えば輝度向上フィルム、プリズムシート、レンズアレイシート、導光板、光拡散板、バックライト等の適宜な部品を適宜な位置に１層又は２層以上配置することができる。

本発明の光学製品は、優れた反射防止性能と耐擦傷性を有し、生産性に優れる本発明の反射防止機能付偏光板を備えるので、優れた表示性能と耐擦傷性とを有し、生産性にも優れている。

以下、実施例及び比較例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は,以下の実施例により何ら限定されるものではない。

１）基材フィルム
（１）基材フィルム１Ａ
ノルボルネン系重合体（ノルボルネン系単量体の開環重合体の水素化物、日本ゼオン（株）製、商品名：ＺＥＯＮＯＲ １４３０、ガラス転移温度（Ｔｇ）＝１４５℃）１００重量部に対して、０．２重量部のフェノール系老化防止剤ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ターシャリーブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕とを混合し、二軸混練機で混練し、ストランド（棒状の溶融樹脂）をストランドカッターを通してペレット（粒状）状の成形材料を得た。
上記で得たペレットを、空気を流通させた熱風乾燥機を用いて１１０℃で、４時間乾燥した。次いで、このペレットを、リーフディスク形状のポリマーフィルター（ろ過精度３０μｍ）を設置した６５ｍｍφのスクリューを備えた樹脂溶融混練機を有するＴダイ式フィルム溶融押出し成形機を使用し、内面に表面粗さＲａ＝０．１５μｍのクロムメッキを施した３５０ｍｍ幅のＴ型ダイスを用いて、溶融樹脂温度２６０℃及びダイス温度２６０℃で押出し、押出されたシート状のノルボルネン系重合体を、第１冷却ドラム（直径２５０ｍｍ、温度：１３５℃、周速度Ｒ_１：１０．０５ｍ／分）に密着させ、次いで第２冷却ドラム（直径２５０ｍｍ、温度：１２５℃、周速度Ｒ_２：１０．０５ｍ／分）、次いで第３冷却ドラム（直径２５０ｍｍ、温度：１００℃、周速度Ｒ_３：９．９８ｍ／分）に順次密着させて移送し、長さ３００ｍ、膜厚４０μｍの基材フィルム１Ａを押出成形した。得られた長尺の基材フィルム１Ａは、ロール状に巻き取った。
この基材フィルム１Ａの揮発性成分の含有量は０．０１重量％以下、飽和吸水率は０．０１重量％以下であった。

（２）基材フィルム２Ａ
基材フィルム２Ａとして、市販のＰＥＴフィルム（商品名：ルミラーＴ６０＃３８、東レ（株）製、厚さ３８μｍ）を用いた。

（３）基材フィルム３Ａ
基材フィルム３Ａとして、市販のトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（商品名；ＫＣ４ＵＸ２Ｍ、コニカ・ミノルタ（株）製、厚さ４０μｍ）を用いた。

２）高屈折率層コーティング用組成物の調製
（１）高屈折率層コーティング用組成物Ａ
６官能ウレタンアクリレートオリゴマー（商品名：ＮＫオリゴ Ｕ−６ＨＡ、新中村化学(株)製）３０部、ブチルアクリレート４０部、イソボロニルメタクリレート（商品名：ＮＫ エステル ＩＢ、新中村化学(株)）３０部、２，２−ジフェニルエタン−１−オン１０部をホモジナイザーで混合して、紫外線硬化性組成物からなる高屈折率層コーティング用組成物Ａを調製した。

（２）高屈折率層コーティング用組成物Ｂ
高屈折率層コーティング用組成物Ａを重量％で７０％となるように、メチルイソブチルケトン（以下、「ＭＩＢＫ」と記す。）にて希釈し、高屈折率層コーティング用組成物Ｂを調製した。

（３）高屈折率層コーティング用組成物Ｃ
高屈折率層コーティング用組成物Ａに、五酸化アンチモン微粒子の４０％ＭＩＢＫ溶液（平均粒子径２０ｎｍ：水酸基がパイロクロア構造の表面に現われているアンチモン原子に１つの割合で結合している。）を、五酸化アンチモン微粒子の重量が高屈折率層コーティング用組成物全固形分の５０重量％占める割合で混合して、高屈折率層コーティング用組成物Ｃを調製した。

（４）高屈折率層コーティング用組成物Ｄ
高屈折率層コーティング用組成物Ａに、五酸化アンチモン微粒子の４０％ＭＩＢＫ溶液（平均粒子径２０ｎｍ：水酸基がパイロクロア構造の表面に現われているアンチモン原子に１つの割合で結合している。）を、五酸化アンチモン微粒子の重量が高屈折率層コーティング用組成物全固形分の７０重量％占める割合で混合して、高屈折率層コーティング用組成物Ｄを調製した。

（５）高屈折率層コーティング用組成物Ｅ
平均粒径１５ｎｍのＺｒＯ_２微粒子を２重量％、テトラエトキシシシラン９．６重量％、シリコン系界面活性剤１重量％、水１重量％、塩酸０．４重量％、酢酸エチル２５重量％、エタノール６０重量％を混合して、高屈折率層コーティング用組成物Ｅを調製した。

（６）高屈折率層コーティング用組成物Ｆ
ポリスチレン（商品名：スタイロンＧ８２５９、旭化成（株）製）を５重量％となるように、トルエンに溶解させて、高屈折率層コーティング用組成物Ｆを調製した。

３）低屈折率層コーティング用組成物の調製
（１）低屈折率層コーティング用組成物Ｇ
テトラメトキシシランのオリゴマー（商品名：メチルシリケート５１、コルコート（株）製）と、メタノール、水及び０．０１規定の塩酸水溶液を質量比２１：３６：２：２で混合し、これを２５℃の高温相中で２時間攪拌して、重量平均分子量を８５０に調製し、シリコーンレジンを得た。
次に、中空シリカ微粒子として中空シリカイソプロパノール分散ゾル（触媒化成工業(株)製、固形分２０重量％、平均一次粒子径約３５ｎｍ、外殻厚み約８ｎｍ）を前記シリコーンレジンに加え、中空シリカ微粒子／シリコーンレジン（縮合化合物換算）が固形分基準で質量比が７：３となるように配合し、その後、全固形分が１％になるようにメタノールで希釈し、低屈折率層コーティング用組成物Ｇを調製した。

（２）低屈折率層コーティング用組成物Ｈ
市販の低屈折率層コーティング用組成物（商品名：サイトップ、旭硝子（株）製）を準備し、これを低屈折率層コーティング用組成物Ｈとした。

（３）低屈折率層コーティング用組成物Ｉ
テトラメトキシシラン１５２部にメタノール４１２部を加え、さらに水１８部及び０．０１Ｎの塩酸１８部（「Ｈ_２Ｏ」／「ＯＲ」＝０．５）を混合し、これをディスパーを用いてよく混合した。この混合液を２５℃恒温槽中で２時間攪拌して、重量平均分子量を８５０に調整することにより、シリコーンレジンを得た。次に、このシリコーンレジン溶液に、シリカメタノールゾル／シリコーンレジン（縮合化合物換算）が固形分基準で重量比が８０／２０となるように添加し、さらに全固形分が３％になるようにメタノールで希釈し、低屈折率層コーティング用組成物Ｉを調製した。

実施例１ 反射防止積層体１Ｃ、反射防止機能付偏光板１Ｄ及び液晶表示素子１Ｅの作製
支持体として基材フィルム１Ａを用い、その片面に、高周波発信機（コロナジェネレーターＨＶ０５−２、Ｔａｍｅｃ社製）を用いて、出力電圧１００％、出力２５０Ｗで、直径１．２ｍｍのワイヤー電極で、電極長２４０ｍｍ、ワーク電極間１．５ｍｍの条件で３秒間コロナ放電処理を行い、表面張力が０．０７２Ｎ／ｍとなるように表面改質した。この上に高屈折率層コーティング用組成物Ｃを硬化後の膜厚が５μｍとなるように、ダイコーターを用いて連続的に塗布した。

次いで、１００℃で１分間乾燥させた後、３秒間の紫外線照射（積算光量５００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、コーティング層を硬化させ、高屈折率層積層フィルム１Ｂを得た。得られた高屈折率層の屈折率を測定したところ１．６５であった。
高屈折率層積層フィルム１Ｂの上に、低屈折率層コーティング用組成物Ｇをワイヤーバーコーターにより塗工して、被膜を１２０℃で５分間空気中にて熱処理し、厚さ１００ｎｍの硬化被膜が形成された反射防止積層体１Ｃを得た。

重合度２４００、厚さ７５μｍのポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ素とヨウ化カリウム配合の４０℃の染色浴に浸漬して染色処理を行った後、ホウ酸とヨウ化カリウムを添加した６０℃の酸性浴中で、縦延伸倍率が５．３倍となるように延伸処理と架橋処理を行った。水洗処理した後、４０℃で乾燥して厚さ２８μｍの偏光子を得た。

上記で得たスチールウール試験済みの反射防止積層体１Ｃの支持体面側に、アクリル系接着剤（商品名：ＤＰ−８００５クリア、住友スリーエム社製）を介して、上記偏光子を貼り合わせ、また偏光子のもう片側の面側に、アクリル系接着剤を介して、表面改質した支持体を貼り合わせて、反射防止機能付偏光板１Ｄを作製した。

偏光子の両側にアクリル系接着剤（商品名：ＤＰ−８００５クリア、住友スリーエム社製）を介して表面改質した支持体を貼り合わせて偏光板ａを作製した。
３インチの液晶表示セルを準備し、これのフロント側と、上記で得た反射防止機能付偏光板１Ｄとを貼り合わせた。また偏光板ａをリア用として、液晶表示セルの反対面に貼り合わせて、液晶表示素子１Ｅを作製した。

実施例２ 反射防止積層体２Ｃ、反射防止機能付偏光板２Ｄ及び液晶表示素子２Ｅの作製
支持体として基材フィルム２Ａを用いる他は実施例１と同様と同様にして、反射防止積層体２Ｃ、反射防止機能付偏光板２Ｄ及び液晶表示素子２Ｅを作製した。

実施例３ 反射防止積層体３Ｃ、反射防止機能付偏光板３Ｄ及び液晶表示素子３Ｅの作製
支持体として基材フィルム１Ａを用い、その片面に、高周波発信機（コロナジェネレーターＨＶ０５−２、Ｔａｍｅｃ社製）を用いて、出力電圧１００％、出力２５０Ｗで、直径１．２ｍｍ、電極長２４０ｍｍｍのワイヤー電極で、ワーク電極間１．５ｍｍの条件で３秒間コロナ放電処理を行い、表面張力が０．０７２Ｎ／ｍとなるように表面改質した。この上に高屈折率層１コーティング用組成物Ｂを硬化後の膜厚が３μｍとなるように、ダイコーターを用いて連続的に塗布した。

次いで、１００℃で１分間乾燥させた後、３秒間の紫外線照射（積算光量５００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、コーティング層を硬化させて、高屈折率層１を得た。さらにこの上に高屈折率層２コーティング用組成物Ｄを硬化後の膜厚が２μｍとなるように、ダイコーターを用いて連続的に塗布した。次いで、１００℃で１分間乾燥させた後、３秒間の紫外線照射（積算光量５００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い高屈折率層積層フィルム３Ｂを得た。得られた高屈折率層の屈折率を測定したところ１．６５であった。
そして、得られた高屈折率層積層フィルム３Ｂの上に、低屈折率層用コーティング用組成物Ｇをワイヤバーコーターにより塗工して、被膜を１２０℃で５分間空気中にて熱処理し、厚さ１００ｎｍの硬化被膜が形成された反射防止積層体３Ｃを得た。
反射防止積層体として、反射防止積層体１Ｃの代わりに反射防止積層体３Ｃを用いる他は、実施例１と同様にして、反射防止機能付偏光板３Ｄ及び液晶表示素子３Ｅを作製した。

実施例４ 反射防止積層体４Ｃ、反射防止機能付偏光板４Ｄ及び液晶表示素子４Ｅの作製
支持体として基材フィルム３Ａ、低屈折率層コーティング用組成物として低屈折率層コーティング用組成物Ｈを用いる他は実施例１と同様にして、反射防止積層体４Ｃ、反射防止機能付偏光板４Ｄ及び液晶表示素子４Ｅを作製した。

比較例１ 反射防止積層体５Ｃ、反射防止機能付偏光板５Ｄ及び液晶表示素子５Ｅの作製
高屈折率層コーティング用組成物として、高屈折率層コーティング用組成物Ｂを用いる他は実施例１と同様にして、反射防止積層体５Ｃ、反射防止機能付偏光板５Ｄ及び液晶表示装置５Ｅを作製した。

比較例２ 反射防止積層体６Ｃ、反射防止機能付偏光板６Ｄ及び液晶表示素子６Ｅの作製
低屈折率層コーティング用組成物として、低屈折率層コーティング用組成物Ｉを用いる他は実施例１と同様にして、反射防止積層体６Ｃ、反射防止機能付偏光板６Ｄ及び液晶表示素子６Ｅを作製した。

比較例３ 反射防止積層体７Ｃ、反射防止機能付偏光板７Ｄ及び液晶表示素子７Ｅの作製
支持体として基材フィルム１Ａを用い、その片面に、高周波発信機（コロナジェネレーターＨＶ０５−２、Ｔａｍｅｃ社製）を用いて、出力電圧１００％、出力２５０Ｗで、直径１．２ｍｍ、電極長２４０ｍｍのワイヤー電極で、ワーク電極間１．５ｍｍの条件で３秒間コロナ放電処理を行い、表面張力が０．０７２Ｎ／ｍとなるように表面改質した。
この上に、高屈折率層コーティング用組成物Ｂを硬化後の膜厚が３μｍとなるように、ダイコーターを用いて連続的に塗布した。
次いで、１００℃で１分間乾燥させた後、３秒間の紫外線照射（積算光量５００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、コーティング層を硬化させた。
さらに、この上に高屈折率層コーティング用組成物Ｅをワイヤーバーコーターにより塗工して、被膜を１２０℃で１０分間空気中にて熱処理し、厚さ２００ｎｍの硬化被膜が形成された高屈折率層積層フィルム７Ｂを得た。得られた高屈折率層の屈折率を測定したところ１．６６であった。
そして、高屈折率層積層フィルムとして、高屈折率層積層フィルム１Ｂの代わりに高屈折率層積層フィルム７Ｂを用いる他は、実施例１と同様にして反射防止積層体７Ｃ、反射防止機能付偏光板７Ｄ及び液晶表示素子７Ｅを作製した。

比較例４ 反射防止積層体８Ｃ、反射防止機能付偏光板８Ｄ及び液晶表示素子８Ｅの作製
支持体として基材フィルム２Ａを用い、その片面に、高周波発信機（コロナジェネレーターＨＶ０５−２、Ｔａｍｅｃ社製）を用いて、出力電圧１００％、出力２５０Ｗで、直径１．２ｍｍ、電極長２４０ｍｍのワイヤー電極で、ワーク電極間１．５ｍｍの条件で３秒間コロナ放電処理を行い、表面張力が０．０７２Ｎ／ｍとなるように表面改質した。
この上に高屈折率層コーティング用組成物Ｆを硬化後の膜厚が５μｍとなるように、ダイコーターを用いて連続的に塗布した。
次いで、１２０℃で１０秒間乾燥させ、高屈折率コーティング層を硬化させて高屈折率層積層フィルム８Ｂを得た。得られた高屈折率層積層フィルム８Ｂの高屈折率層の屈折率を測定したところ１．５９であった。
そして、高屈折率層積層積層フィルムとして、高屈折率積層フィルム１Ｂの代わりに高屈折率層積層フィルム８Ｂを用いる他は、実施例１と同様にして反射防止積層体８Ｃ、反射防止機能付偏光板８Ｄ及び液晶表示素子８Ｅを作製した。

実施例１〜４、比較例１〜４で得られた反射防止積層体１Ｃ〜８Ｃ、反射防止機能付偏光板１Ｄ〜８Ｄ及び液晶表示素子１Ｅ〜８Ｅについて、用いた支持体、高屈折率層コーティング用組成物、低屈折率層コーティング用組成物を第１表にまとめた。

また、高屈折率層硬化時間を次のようにして測定した。
すなわち、高屈折率層１用コーティング組成物をフィルム（もしくはフィルム積層体）に塗布し、溶剤を風乾する。紫外線硬化タイプの高屈折率層１用コーティング組成物では紫外線照射時間、熱硬化タイプ及び熱可塑タイプの高屈折率層１用コーティング組成物ではオーブンでの加熱時間をそれぞれ、３秒、１０秒、１分、３分とり、フィルムを硬化させた。このときの紫外線照度や加熱温度はそれぞれの実施例に記載したとおりである。得られたサンプルを用いてスチールウール試験を行い、傷の本数が最小となる、最短の硬化時間を、高屈折率層硬化時間とした。
反射防止積層体１Ｃ〜８Ｃのそれぞれの高屈折率層１について測定した高屈折率層硬化時間を第１表にまとめた。
第１表より、高屈折率層１を熱硬化性樹脂で形成した比較例３の反射防止積層体７Ｃでは、硬化時間が６００秒と長時間であり、生産効率上好ましいものではない。

４）各種物性の測定
実施例１〜４、比較例１〜４で得た反射防止積層体１Ｃ〜８Ｃ、反射防止機能付偏光板１Ｄ〜８Ｄ及び液晶表示素子１Ｅ〜８Ｅについて、以下の各種物性の測定を行い、反射防止性能（ボトム光反射率測定）、耐擦傷性（スチールウール試験）、反射防止機能付偏光板の耐擦傷性（スチールウール試験）、及び液晶表示素子の表示性能（偏光板画像目視試験）を評価した。

各種物性の測定は、以下のようにして行った。
（１）屈折率測定
反射防止積層体１Ｃ〜８Ｃの高屈折率層及び低屈折率層の屈折率を、高速分光エリプソメーター（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製、Ｍ２０００Ｕ）を用いて、測定波長２４５〜１０００ｎｍ、入射角５５°、６０°、及び６５°で測定し、その測定値をもとに算出した。

（２）ボトム光反射率測定
反射防止積層体１Ｃ〜８Ｃの任意の３箇所について、分光光度計（日本分光社製：「紫外可視近赤外分光光度計Ｖ−５７０」）を用い、入射角５°で反射スペクトルを測定し、波長４３０〜７００ｎｍにおける光反射率（％）を求め、波長４３０〜７００ｎｍにおける光反射率の最小値をボトム光反射率（％）とした。ボトム光反射率が低いほど、反射防止性能に優れる。

（３）スチールウール試験
スチールウール＃００００に荷重０．０５ＭＰａをかけた状態で、反射防止積層体１Ｃ〜８Ｃ、及び反射防止機能付偏光板１Ｄ〜８Ｄの表面（低屈折率層側）を１０回擦り、試験後の傷つき具合を、光学顕微鏡（ＮＩＣＯＮ製 ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００）を用いて倍率は２０倍として落射光で観察した。傷つき具合は、（単位面積あたりの）傷の本数を数えることによって、次のように評価した。
○：傷が全く認められない場合
△：傷の本数が１〜１０本の場合
×：傷の本数が１１〜１００本の場合
××：傷の本数が１０１本以上の場合

（４）液晶表示素子の表示性能
市販のライトボックス（商品名：ライトビュア−７０００ＰＲＯ、ハクバ写真産業社製）の上に、液晶表示素子をのせて簡易液晶パネルを作製し、液晶表示素子の表示を黒にして、正面よりパネルを目視にて観察し、以下の３段階で評価を行った。
Ａ：グレア（視野内で過度に輝度が高い点や面が見えることによって起きる不快感や見難さのことで、光源から直接または間接に受けるギラギラしたまぶしさ等の事をいう）や映り込みがなく、さらにスチールウールによって擦った箇所が白っぽくぼやけることがない。
Ｂ：グレアや映り込みは無いが、スチールウールにより擦った箇所が白っぽくぼやけて見える。
Ｃ：スチールウールにより擦った箇所は白っぽくぼやけることはないが、グレアや映り込みが画面全体で見られる。
以上の測定結果及び評価結果を第２表に示す。

第２表より、支持体上に、紫外線硬化型樹脂を含み、層全体の屈折率が１．５５以上である高屈折率層を形成し、この高屈折率層上に屈折率が１．３５以下の低屈折率層を積層してなる実施例１〜４の反射防止積層体１Ｃ〜４Ｃ、及び反射防止機能付偏光板１Ｄ〜４Ｄは、優れた反射防止性能及び耐擦傷性を有していた。
一方、高屈折率層の屈折率が１．５２である比較例１の反射防止積層体５Ｃ、低屈折率層の屈折率が１．４５である比較例２の反射防止積層体６Ｃでは、ボトム光反射率が高く、反射防止性能が劣っており、これらを用いる液晶表示素子５Ｅ、６Ｅの表示性能も劣っていた。
また、高屈折率層を熱可塑性樹脂で形成した比較例４の反射防止積層体８Ｃでは、耐擦傷性が劣っていた。

図１は、本発明の反射防止積層体の層構成断面図である。 図２は、本発明の反射防止機能付偏光板の層構成断面図である。 図３は、本発明の反射防止機能付偏光板を液晶表示セルに貼り合せた層構成断面図である。 図４は、図３に示す液晶表示セルの層構成断面図である。

符号の説明

１０…支持体、１０ａ…保護フィルム、１２…高屈折率層、１４…低屈折率層、１６…接着剤層、１８…偏光子、２０…反射防止積層体、３０…反射防止機能付偏光板、４０…偏光板、５０…位相差板、６０…液晶セル、７０…透明電極、８０…電極基板、９０…液晶、１００…シール

Claims (8)

1. 透明樹脂からなる支持体と、該支持体上に、活性エネルギー線硬化型樹脂を含み、層全体の屈折率が１．５５以上である高屈折率層と、該高屈折率層に隣接して形成された、屈折率が１．３５以下の低屈折率層とを有することを特徴とする反射防止積層体。
2. 前記支持体上に、前記高屈折率層および低屈折率層がこの順に積層されてなることを特徴とする請求項１に記載の反射防止積層体。
3. スチールウール＃００００に荷重０．０２５ＭＰａをかけた状態で、前記支持体上に形成された高屈折率層または低屈折率層の表面を１０回擦り、その後に顕微鏡観察を行った際に、前記表面に傷が認められないものであることを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止積層体。
4. 前記高屈折率層が、活性エネルギー線硬化型樹脂と無機酸化物粒子とを含むものである請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止積層体。
5. 前記無機酸化物粒子が導電性を有する微粒子である請求項４に記載の反射防止積層体。
6. 前記低屈折率層が、ゾルゲル法により得られた珪素酸化物からなる層である請求項１〜５のいずれかに記載の反射防止積層体。
7. 請求項１〜６のいずれかに記載の反射防止積層体を、偏光子の少なくとも一面に貼り合わせてなることを特徴とする反射防止機能付偏光板。
8. 請求項７に記載の反射防止機能付偏光板を備えることを特徴とする光学製品。
   
   

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