JP2005303313A - マイクロリソグラフィ用投影露光装置の光学システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】照明システム又は投影対物レンズ(10)のマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学システムが、複屈折材料からなる光学エレメント(L2,L3)を含む。これらの光学エレメント(L2,L3)を、直線偏光された光線によって形成される投影光ビーム(14)が通過する。光ビームの偏光分布の摂動を回避するために、光学エレメント(L2,L3)を構成する材料が、当該材料に入る各光線が複屈折軸に対して、すなわちそれに沿った当該材料の屈折率がそれぞれの光線に対して最大となる複屈折軸に実質的に平行又は実質的に垂直に直線偏光するように整列される。
【選択図】図1
Description
Claims (22)
- 直線偏光された複数の光線によって形成される投影光ビーム(14)が、複屈折材料からなる光学エレメント(L2,L3)を通過するマイクロリソグラフィ用投影露光装置の光学システムにおいて、前記材料に入る各光線が複屈折軸に対して実質的に平行又は実質的に垂直に直線偏光するように前記材料が整列させられ、前記複屈折軸は、前記材料の屈折率がそれぞれの光線に対して最大となる軸である光学システム。
- 前記材料に入る各光線は、それぞれの前記複屈折軸から15°を超えない値で、好ましくは5°を超えない値で偏倚している偏光方向(30,30’)を有する請求項1に記載の光学システム。
- 前記材料に入る各光線は、それぞれの前記複屈折軸から75°を超えるが105°を超えない値で、好ましくは85°を超えるが95°を超えない値で偏倚している偏光方向(30,30’)を有する請求項1に記載の光学システム。
- 前記光学エレメント(L2,L3)に入るすべての光線の振動面は、少なくとも実質的に互いに平行である先行する請求項のいずれか1項に記載の光学システム。
- 前記材料は立方晶であり、特にCaF2又はBaF2又はCa1‐xBaxF2であり、前記結晶が、前記光学システム(10)の光軸(26)に沿って[110]結晶軸が配向されるように整列させられる請求項4に記載の光学システム。
- 前記結晶に入る前記光線は、前記光軸(26)と、40°を超えない、好ましくは20°を超えない、さらに好ましくは10°を超えないアパーチャ角を形成する請求項5に記載の光学システム。
- 前記光学エレメント(L2,L3)に入るすべての光線の振動面は、前記光学システム(10)の光軸(26)及びそれぞれの前記光線の伝播方向によって定義される平面に対して、少なくとも実質的に垂直又は平行である請求項1〜3のいずれか1項に記載の光学システム。
- 前記材料は立方晶であり、特にCaF2又はBaF2又はCa1‐xBaxF2であり、前記光軸(26)に対して[100]結晶軸が実質的に平行に延びるように整列させられる請求項7に記載の光学システム。
- 前記光学エレメント(L2,L3)は、少なくとも2つのサブエレメントを含み、そのそれぞれが立方晶からなり、特にCaF2又はBaF2又はCa1‐xBaxF2からなり、前記少なくとも2つのサブエレメントの結晶が、それらの全体的な複屈折方向分布が前記光学システム(10)の前記光軸(26)に関して実質的に放射状又は接線状となるように整列させられる請求項7に記載の光学システム。
- 前記結晶は、方向分布が少なくとも実質的に回転対称となるように整列させられる請求項9に記載の光学システム。
- 前記光学エレメントは、[100]結晶軸が前記光軸(26)と実質的に平行に延びるように結晶格子が整列している結晶から作られ、かつ前記光軸(26)に対して、相互に45°の回転又はその奇数倍の回転が与えられた第1のサブエレメント(L2)と第2のサブエレメント(L3)を含む請求項10に記載の光学システム。
- 前記光学エレメントは、[111]結晶軸が前記光軸(26)と実質的に平行に延びるように結晶格子が整列している結晶から作られ、かつ前記光軸(26)に関して、相互に60°の回転又はその奇数倍の回転が与えられた第1のサブエレメントと第2のサブエレメントを含む請求項10に記載の光学システム。
- 前記光学エレメントは、前記システム(10)の前記光軸(26)に対して実質的に放射状又は接線状の複屈折方向分布を伴う応力誘導性複屈折を有する材料からなる請求項7に記載の光学システム。
- 前記システムは、マスク(11)を照明するための照明システム(15)である先行する請求項のいずれか1項に記載の光学システム。
- 前記システムは、マスク(11)内に含まれる構造を感光層(12)上へ結像するための投影対物レンズ(10)である請求項1〜13のいずれか1項に記載の光学システム。
- マイクロリソグラフィ投影露光装置内の複屈折光学エレメント(L2,L3)が投影光ビーム(14)のあらかじめ決定済みの偏光分布に作用する摂動を低減するための方法において:
前記光学エレメント(L2,L3)を構成する材料が、前記材料に入る各光線が複屈折軸に対して実質的に平行又は実質的に垂直に直線偏光するように整列させられ、前記複屈折軸は、それに沿った前記材料の屈折率がそれぞれの光線に関して最大となる複屈折軸である方法。 - 前記あらかじめ決定済みの偏光分布にあっては、前記光学エレメントに入るすべての光線の振動面が、前記投影露光装置の光軸(26)及びそれぞれの光線の伝播方向によって定義される平面に対して、少なくとも実質的に垂直又は平行である請求項16に記載の方法。
- 前記材料は立方晶であり、特にCaF2又はBaF2又はCa1‐xBaxF2であり、前記光軸(26)に対して[100]結晶軸が実質的に平行に延びるように整列させられ、かつは前記結晶が、前記偏光分布の摂動を低減するために、前記光軸(26)に関して回転させられる請求項17に記載の方法。
- 前記材料の整列を決定するとき、前記光線が前記材料を通過する位置が考慮に入れられる請求項16〜18のいずれか1項に記載の方法。
- 前記材料は応力誘導性複屈折である請求項19に記載の方法。
- マイクロ構造コンポーネントのマイクロリソグラフィック製造のための方法であって:
(a)感光性材料の層(12)を支持するための支持体(13)を提供するステップ;
(b)結像されるべき構造を含むマスク(11)を提供するステップ;及び、
(c)請求項1〜15のいずれか1項に従った光学システム(10)を含む投影露光装置を使用することによって前記マスク(11)の少なくとも一部を前記層(12)上に投影するステップ;
を含む方法。 - 請求項21に従った方法によって製造されるマイクロ構造コンポーネント。
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