JP2005297517A - Lithographic printing plate original plate, and method for forming color image on lithographic printing plate original plate - Google Patents

Lithographic printing plate original plate, and method for forming color image on lithographic printing plate original plate Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithographic printing plate original plate which can perform the formation of a color image facilitating the identification of the plate after the exposure, and to provide a method for forming the color image on the lithographic printing plate original plate after the exposure. <P>SOLUTION: This lithographic printing plate original plate has a light sensitive-heat sensitive layer which can record an image by the exposure of an active beam on a supporting body. The lithographic printing plate original plate is constituted in such a manner that a difference in colors occurs between an exposed section and a non-exposed section by applying a pressure to the surface of the lithographic printing plate original plate after the image exposure. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、平版印刷版原版および露光後の平版印刷版原版に色画像を形成する方法に関する。   The present invention relates to a lithographic printing plate precursor and a method for forming a color image on a lithographic printing plate precursor after exposure.

一般に、平版印刷版は、印刷過程でインキを受容する親油性の画像部と、湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と油性インキが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部（インキ非受容部）として、平版印刷版の表面にインキの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインキを着肉させた後、紙等の被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。
この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層（画像記録層）を設けてなる平版印刷版原版（ＰＳ版）が広く用いられている。通常は、平版印刷版原版を、リスフィルム等の原画を通した露光を行った後、画像部の画像記録層を残存させ、非画像部の画像記録層をアルカリ性現像液または有機溶剤によって溶解して除去することで親水性の支持体の表面を露出させる方法により製版を行って、平版印刷版を得ている。 In general, a lithographic printing plate comprises an oleophilic image area that receives ink in the printing process and a hydrophilic non-image area that receives dampening water. Lithographic printing utilizes the property that water and oil-based inks repel each other, so that the oleophilic image area of the lithographic printing plate is the ink receiving area, and the hydrophilic non-image area is dampened with the water receiving area (ink non-receiving area). In this method, a difference in ink adhesion is caused on the surface of the lithographic printing plate, and after ink is applied only to the image area, the ink is transferred to a printing medium such as paper and printed.
In order to produce this lithographic printing plate, conventionally, a lithographic printing plate precursor (PS plate) in which an oleophilic photosensitive resin layer (image recording layer) is provided on a hydrophilic support has been widely used. Normally, after exposing a lithographic printing plate precursor through an original image such as a lithographic film, the image recording layer in the image area remains, and the image recording layer in the non-image area is dissolved with an alkaline developer or an organic solvent. The lithographic printing plate is obtained by carrying out plate making by a method of exposing the surface of the hydrophilic support by removing it.

従来の平版印刷版原版の製版工程においては、露光の後、非画像部を画像記録層に応じた現像液等によって溶解除去する工程が必要であるが、このような付加的に行われる湿式処理を不要化しまたは簡易化することが課題の一つとして挙げられている。特に、近年、地球環境への配慮から湿式処理に伴って排出される廃液の処分が産業界全体の大きな関心事となっているので、上記課題の解決の要請は一層強くなってきている。   In the conventional plate-making process of a lithographic printing plate precursor, a step of dissolving and removing the non-image area with a developing solution or the like corresponding to the image recording layer is necessary after exposure. One of the problems is to make the system unnecessary or simplified. In particular, in recent years, disposal of waste liquids discharged with wet processing has become a major concern for the entire industry due to consideration for the global environment, and therefore, the demand for solving the above-mentioned problems has become stronger.

これに対して、湿式処理を不要化する無処理（無現像）型としては、露光により湿し水またはインキに対する親和性が表面で変化する感光−感熱層を有し、感光−感熱層の除去を伴わずに印刷可能な平版印刷版原版が提案されている。   On the other hand, as an unprocessed (non-development) type that eliminates the need for wet processing, it has a photosensitive-thermosensitive layer whose affinity for fountain solution or ink changes on the surface by exposure, and the photosensitive-thermosensitive layer is removed. There has been proposed a lithographic printing plate precursor that can be printed without accompanying.

また、簡易な製版方法の一つとして、平版印刷版原版の非画像部の除去を通常の印刷工程の中で行えるような画像記録層を用い、露光後、印刷機上で非画像部を除去し、平版印刷版を得る、機上現像と呼ばれる方法が提案されている。
機上現像の具体的方法としては、例えば、湿し水、インキ溶剤または湿し水とインキとの乳化物に溶解しまたは分散することが可能な画像記録層を有する平版印刷版原版を用いる方法、印刷機のローラー類やブランケット胴との接触により、画像記録層の力学的除去を行う方法、湿し水、インキ溶剤等の浸透によって画像記録層の凝集力または画像記録層と支持体との接着力を弱めた後、ローラー類やブランケット胴との接触により、画像記録層の力学的除去を行う方法が挙げられる。
なお、本発明においては、特別な説明がない限り、「現像処理工程」とは、印刷機以外の装置（通常は自動現像機）を使用し、液体（通常はアルカリ性現像液）を接触させることにより、平版印刷版原版の赤外線レーザー未露光部分を除去し、親水性支持体表面を露出させる工程を指し、「機上現像」とは、印刷機を用いて、液体（通常は印刷インキおよび／または湿し水）を接触させることにより、平版印刷版原版の赤外線レーザー未露光部分を除去し、親水性支持体表面を露出させる方法および工程を指す。 In addition, as one of the simple plate making methods, an image recording layer that can remove the non-image area of the lithographic printing plate precursor in the normal printing process is used. After exposure, the non-image area is removed on the printing press. A method called on-press development for obtaining a lithographic printing plate has been proposed.
As a specific method of on-press development, for example, a method of using a lithographic printing plate precursor having an image recording layer that can be dissolved or dispersed in dampening water, an ink solvent, or an emulsion of dampening water and ink , A method of mechanically removing the image recording layer by contact with rollers or a blanket cylinder of a printing press, cohesion of the image recording layer by penetration of dampening water, ink solvent, etc. There is a method in which after the adhesive force is weakened, the image recording layer is mechanically removed by contact with rollers or a blanket cylinder.
In the present invention, unless otherwise specified, the “development process step” refers to using a device other than a printing press (usually an automatic developing machine) and bringing a liquid (usually an alkaline developer) into contact therewith. Refers to the step of removing the unexposed portion of the lithographic printing plate precursor from the infrared laser to expose the surface of the hydrophilic support, and “on-press development” refers to a process using a printing machine (typically printing ink and / or printing ink). Or a dampening solution) to remove the infrared laser unexposed portion of the lithographic printing plate precursor and expose the surface of the hydrophilic support.

しかしながら、従来の紫外線や可視光を利用する画像記録方式の画像記録層を用いた場合、露光後も画像記録層が定着しないため、例えば、印刷機に装着するまでの間に、露光後の平版印刷版原版を完全に遮光状態または恒温条件で保存するといった、手間のかかる
方法を採る必要があった。 However, when an image recording layer of a conventional image recording system using ultraviolet rays or visible light is used, the image recording layer does not fix even after exposure. For example, the lithographic plate after exposure until it is mounted on a printing press. It was necessary to take a time-consuming method such as storing the printing plate precursor completely in a light-shielded state or under constant temperature conditions.

一方、近年、画像情報をコンピュータで電子的に処理し、蓄積し、出力する、デジタル化技術が広く普及してきており、このようなデジタル化技術に対応した新しい画像出力方式が種々実用されるようになってきている。これに伴い、レーザー光のような高収斂性の輻射線にデジタル化された画像情報を担持させて、その光で平版印刷版原版を走査露光し、リスフィルムを介することなく、直接平版印刷版を製造するコンピュータ・トゥ・プレート技術が注目されてきている。従って、このような技術に適応した平版印刷版原版を得ることが重要な技術課題の一つとなっている。   On the other hand, in recent years, digitization technology for electronically processing, storing, and outputting image information by a computer has become widespread, and various new image output methods corresponding to such digitization technology will be put into practical use. It is becoming. Along with this, digitized image information is carried by high-convergence radiation such as laser light, and the lithographic printing plate precursor is scanned and exposed with that light, directly without using a lithographic film. Computer-to-plate technology for manufacturing is attracting attention. Accordingly, obtaining a lithographic printing plate precursor adapted to such a technique is one of the important technical issues.

上述したように、近年、製版作業の簡素化、乾式化および無処理化は、地球環境への配慮とデジタル化への適合化との両面から、従来にも増して、強く望まれるようになってきている。   As described above, in recent years, the simplification, drying, and no processing of plate making operations have become more desirable than ever in terms of consideration for the global environment and adaptation to digitalization. It is coming.

最近、波長７６０〜１２００ｎｍの赤外線を放射する半導体レーザー、ＹＡＧレーザー等の高出力レーザーが安価に入手できるようになってきたことから、デジタル化技術に組み込みやすい走査露光による平版印刷版の製造方法として、これらの高出力レーザーを画像記録手段として用いる方法が有望視されるようになっている。
従来の製版方法では、感光性の平版印刷版原版に対して、低照度から中照度で像様露光を行い、画像記録層における光化学反応による像様の物性変化によって画像記録を行う。これに対して、上述した高出力レーザーを用いる方法では、露光領域に極短時間に大量の光エネルギーを照射して、光エネルギーを効率的に熱エネルギーに変換させ、その熱により、画像記録層において化学変化、相変化、形態または構造の変化等の熱変化を起こさせ、その変化を画像記録に利用する。従って、画像情報はレーザー光等の光エネルギーによって入力されるが、画像記録は光エネルギーに加えて熱エネルギーによる反応も加味された状態で行われる。通常、このような高パワー密度露光による発熱を利用した記録方式はヒートモード記録と呼ばれ、光エネルギーを熱エネルギーに変えることは光熱変換と呼ばれる。本発明では、このような画像記録層を感光−感熱層とも呼んでいる。 Recently, high-power lasers such as semiconductor lasers that emit infrared rays having a wavelength of 760 to 1200 nm, YAG lasers, etc. have become available at a low cost. Therefore, a method using these high-power lasers as an image recording means has been considered promising.
In the conventional plate-making method, imagewise exposure is performed on a photosensitive lithographic printing plate precursor at low to medium illuminance, and image recording is performed by image-like physical property change due to a photochemical reaction in an image recording layer. In contrast, in the method using the above-described high-power laser, a large amount of light energy is irradiated to the exposure region in an extremely short time, and the light energy is efficiently converted into heat energy. In the process, a thermal change such as a chemical change, a phase change, a change in form or structure is caused, and the change is used for image recording. Therefore, image information is input by light energy such as laser light, but image recording is performed in a state in which reaction by heat energy is taken into account in addition to light energy. Usually, such a recording method using heat generated by high power density exposure is called heat mode recording, and changing light energy to heat energy is called photothermal conversion. In the present invention, such an image recording layer is also called a photosensitive-thermosensitive layer.

ヒートモード記録を用いる製版方法の大きな長所は、室内照明のような通常の照度レベルの光では画像記録層が感光しないこと、および、高照度露光によって記録された画像の定着が必須ではないことにある。つまり、ヒートモード記録に用いられる平版印刷版原版は、露光前には室内光により感光してしまうおそれがなく、露光後には画像の定着が必須ではない。従って、例えば、高出力レーザーを用いた露光により不溶化しまたは可溶化する画像記録層を用い、露光した画像記録層を像様にして平版印刷版とする製版工程を機上現像で行えば、露光後、たとえ室内の環境光に暴露されても、画像が影響を受けないような印刷システムが可能となる。よって、ヒートモード記録を利用すれば、機上現像に好適に用いられる平版印刷版原版を得ることも可能となると期待される。   The major advantages of the plate making method using heat mode recording are that the image recording layer is not exposed to light at a normal illuminance level such as indoor lighting, and that fixing of images recorded by high illuminance exposure is not essential. is there. That is, the lithographic printing plate precursor used for heat mode recording is not likely to be exposed to room light before exposure, and image fixing is not essential after exposure. Therefore, for example, if an image recording layer that is insolubilized or solubilized by exposure using a high-power laser is used, and the plate making process in which the exposed image recording layer is imaged to form a lithographic printing plate is performed by on-machine development, exposure is performed. Later, a printing system is possible in which the image is not affected even if it is exposed to ambient light in the room. Therefore, if heat mode recording is used, it is expected that a lithographic printing plate precursor suitably used for on-press development can be obtained.

これに対して、例えば、特許文献１には、親水性結合剤中に疎水性熱可塑性重合体粒子を分散させた像形成層を親水性支持体上に設けた平版印刷版原版が記載されている。この特許文献１には、上記平版印刷版原版を赤外線レーザーにより露光して、疎水性熱可塑性重合体粒子を熱により合体させて画像を形成させた後、印刷機のシリンダー上に取り付け、湿し水および／またはインキにより機上現像することが可能である旨記載されている。
しかし、上記のような微粒子の単なる熱融着による合体で画像を形成させる方法は、良好な機上現像性を示すものの、画像強度が弱く、耐刷性が不十分であることが分かった。 On the other hand, for example, Patent Document 1 describes a lithographic printing plate precursor in which an image forming layer in which hydrophobic thermoplastic polymer particles are dispersed in a hydrophilic binder is provided on a hydrophilic support. Yes. In this Patent Document 1, the above lithographic printing plate precursor is exposed by an infrared laser, and the hydrophobic thermoplastic polymer particles are coalesced by heat to form an image, which is then mounted on a cylinder of a printing press and moistened. It is described that it is possible to perform on-press development with water and / or ink.
However, it has been found that the above-described method for forming an image by merging the fine particles by simple thermal fusion exhibits good on-press developability but has low image strength and insufficient printing durability.

そのため、重合反応を利用して耐刷性を改良することが提案されている。例えば、特許文献２には、親水性支持体上に、重合性化合物を内包するマイクロカプセルを含む画像記録層（感熱層）を有する平版印刷版原版が記載されている。さらに、特許文献３には、支
持体上に、赤外線吸収剤とラジカル重合開始剤と重合性化合物とを含有する画像記録層（感光層）を設けた平版印刷版原版が記載されている。
特許第２９３８３９７号明細書 特開２００１−２７７７４０号公報 特開２００２−２８７３３４号公報 For this reason, it has been proposed to improve printing durability using a polymerization reaction. For example, Patent Document 2 describes a lithographic printing plate precursor having an image recording layer (thermosensitive layer) containing microcapsules encapsulating a polymerizable compound on a hydrophilic support. Furthermore, Patent Document 3 describes a lithographic printing plate precursor in which an image recording layer (photosensitive layer) containing an infrared absorber, a radical polymerization initiator, and a polymerizable compound is provided on a support.
Japanese Patent No. 2938397 JP 2001-277740 A JP 2002-287334 A

一般に、印刷版を印刷機に取り付ける前工程として、印刷版が目的どおりの画像記録をされているか、何色のインキ用の版であるかなど、印刷版上の画像を検査、識別する作業が行われる。現像処理工程を伴う、通常の平版印刷原版は、一般に、画像記録層を着色しておくことで、製版後（現像処理後）、印刷前（印刷機に印刷版を取り付ける前）に、画像を確認することは容易である。
しかし、印刷前に、現像処理工程を伴わない、機上現像型または無処理（無現像）型の平版印刷版原版では、印刷版を印刷機に取り付ける段階では、印刷版上に画像がなく、版の識別ができない。そのため、作業ミスを起こす場合もあった。特に、多色印刷において見当合わせの目印となるトンボ（レジスターマーク）が鮮明に描き込まれているかどうか判別できるか否かは印刷作業にとって重要である。本発明はこの課題を解決するものである。
すなわち、本発明の目的は、露光後の版の識別を容易にする色画像の形成が可能な平版印刷版原版を提供することである。また、本発明のもう一つの目的は、露光後の平版印刷版原版に色画像を形成する方法を提供することである。 In general, as a pre-process for attaching a printing plate to a printing machine, there are operations such as inspecting and identifying the image on the printing plate, such as whether the printing plate is image-recorded as intended and what color ink plate it is. Done. In general, an original lithographic printing original plate with a development process step is generally performed by coloring an image recording layer so that an image can be obtained after plate making (after development processing) and before printing (before attaching a printing plate to a printing press). It is easy to confirm.
However, before printing, in the on-press development type or unprocessed (no development) type lithographic printing plate precursor without a development processing step, there is no image on the printing plate at the stage of attaching the printing plate to the printing machine, The version cannot be identified. As a result, work mistakes may occur. In particular, whether or not it is possible to determine whether or not a register mark (register mark) serving as a registration mark in multicolor printing is clearly drawn is important for the printing operation. The present invention solves this problem.
That is, an object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor capable of forming a color image that facilitates identification of a plate after exposure. Another object of the present invention is to provide a method for forming a color image on a lithographic printing plate precursor after exposure.

本発明者は、鋭意研究の結果、露光後の平版印刷版原版に圧力を加えることによって色画像を形成し、上記課題を解決できた。
すなわち、本発明は以下のとおりである。 As a result of earnest research, the present inventor has formed a color image by applying pressure to the lithographic printing plate precursor after exposure, and has been able to solve the above problems.
That is, the present invention is as follows.

１．支持体上に活性光線の露光により画像記録可能な感光−感熱層を有する平版印刷版原版であって、画像露光後に、平版印刷版原版表面に圧力を掛けることにより、露光部と未露光部とに色の差が生ずることを特徴とする平版印刷版原版。   1. A lithographic printing plate precursor having a photosensitive-thermosensitive layer capable of recording an image by exposure to actinic rays on a support, and by applying pressure to the lithographic printing plate precursor surface after image exposure, an exposed portion and an unexposed portion A lithographic printing plate precursor having a color difference between the two.

２．加圧により色の変化が生ずる発色系（Ａ）を含有することを特徴とする前記１記載の平版印刷版原版。   2. 2. The lithographic printing plate precursor as described in 1 above, which comprises a color developing system (A) that changes color when pressed.

３．前記発色系（Ａ）が発色剤（Ａ１）と顕色剤（Ａ２）からなることを特徴とする前記２記載の平版印刷版原版。   3. 3. The lithographic printing plate precursor as described in 2 above, wherein the color developing system (A) comprises a color former (A1) and a developer (A2).

４．前記発色剤（Ａ１）または前記顕色剤（Ａ２）が、マイクロカプセルに内包されていることを特徴とする前記３記載の平版印刷版原版。   4). 4. The lithographic printing plate precursor as described in 3 above, wherein the color former (A1) or the developer (A2) is encapsulated in a microcapsule.

５．前記感光−感熱層が、ラジカル重合性化合物（Ｂ）およびラジカル重合開始剤（Ｃ）を含有することを特徴とする前記１記載の平版印刷版原版。   5). 2. The lithographic printing plate precursor as described in 1 above, wherein the photosensitive-thermosensitive layer contains a radical polymerizable compound (B) and a radical polymerization initiator (C).

６．前記圧力が２×１０5Ｎ／ｍ2以上であることを特徴とする前記１記載の平版印刷版原版。 6). 2. The lithographic printing plate precursor as described in 1 above, wherein the pressure is 2 × 10 5 N / m 2 or more.

７．画像記録後に現像処理工程を経ることなく印刷機に装着するか、または、印刷機装着後に画像記録することにより、印刷可能であることを特徴とする前記１〜６記載の平版印刷版原版。   7). The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 6 above, wherein printing is possible by mounting on a printing press without passing through a development processing step after image recording, or by recording an image after mounting the printing press.

８．前記支持体の表面が親水性であり、さらに、前記感光−感熱層が、印刷インキおよび／または湿し水により除去可能である前記７に記載の平版印刷版原版。   8). The lithographic printing plate precursor as described in 7 above, wherein the surface of the support is hydrophilic and the photosensitive-thermosensitive layer can be removed with printing ink and / or dampening water.

９．前記１〜８の平版印刷版原版を活性光線により画像露光した後に、平版印刷版原版表面に圧力を掛けることにより、露光部と未露光部とに色の差を生じさせることを特徴とする平版印刷版原版に色画像を形成する方法。   9. The lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 8, wherein the lithographic printing plate precursor is subjected to image exposure with actinic rays and then a pressure is applied to the surface of the lithographic printing plate precursor to cause a color difference between an exposed portion and an unexposed portion. A method of forming a color image on a printing plate precursor.

１０．前記活性光線が、レーザー光であることを特徴とする前記９の平版印刷版原版に色画像を形成する方法。   10. The method for forming a color image on the lithographic printing plate precursor as described in 9 above, wherein the actinic ray is a laser beam.

１１．前記感光−感熱層が、赤外線吸収剤（Ｄ）を含有することを特徴とする前記１〜８記載の平版印刷版原版。   11. The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 8 above, wherein the photosensitive-thermosensitive layer contains an infrared absorber (D).

１２．前記１１記載の平版印刷版原版を赤外線レーザー光により画像露光した後に、平版印刷版原版表面に圧力をかけることにより、露光部と未露光部とに色の差を生じさせることを特徴とする平版印刷版原版に色画像を形成する方法。   12 The lithographic printing plate precursor according to 11 described above, wherein the lithographic printing plate precursor is subjected to image exposure with an infrared laser beam, and then a pressure is applied to the surface of the lithographic printing plate precursor to cause a color difference between an exposed portion and an unexposed portion. A method of forming a color image on a printing plate precursor.

本発明によれば、露光後の版の識別を容易にする色画像の形成が可能な平版印刷版原版、および露光後の平版印刷版原版に色画像を形成する方法を提供できる。   According to the present invention, it is possible to provide a lithographic printing plate precursor capable of forming a color image that facilitates identification of a plate after exposure, and a method of forming a color image on the lithographic printing plate precursor after exposure.

本発明の平版印刷版原版は、画像露光後に平版印刷版原版表面に圧力を掛けることにより、露光部と未露光部とに色の差が生ずることを特徴とする。このために、加圧により色の変化が生ずる発色系が用いられる。   The lithographic printing plate precursor according to the invention is characterized in that a color difference is produced between an exposed portion and an unexposed portion by applying pressure to the lithographic printing plate precursor surface after image exposure. For this purpose, a coloring system in which a color change is caused by pressurization is used.

〔加圧により色の変化が生ずる発色系〕
本発明で用いられる加圧により色の変化が生ずる発色系としては、加圧により色の変化が生ずる化合物、または、加圧により２種以上の成分が接触し、色が変化する化合物の組み合わせ等、特に制限はないが、例えば、（ａ）それ自身は無色または淡色であるが、加圧により変色するものと、（ｂ）それ自身は圧力を加えても変色しないが、別の成分と接触することにより変色するものが挙げられる。 [Coloring system that changes color when pressed]
The color development system in which a color change is caused by pressurization used in the present invention includes a compound in which a color change is caused by pressurization, or a combination of compounds in which two or more components are brought into contact with each other by pressurization to change the color. Although there is no particular limitation, for example, (a) itself is colorless or light-colored, but is discolored by pressurization, and (b) itself is not discolored even when pressure is applied, but is in contact with another component What is discolored by doing.

上記（ｂ）の例としては、２種以上の成分間で、酸塩基反応、酸化還元反応、カップリング反応、キレート形成反応等により変色する種々のシステム（変色系）が挙げられる。
例えば、感圧紙などに利用されているラクトン、ラクタム、スピロピランなどの部分構造を有する発色剤を変色成分とし、酸性白土やフェノール類等の酸性物質（顕色剤）からなる発色システム、芳香族ジアゾニウム塩やジアゾタート、ジアゾスルホナート類とナフトール類、アニリン類、活性メチレン類などのアゾカップリング反応を利用したシステム、ヘキサメチレンテトラミンと第２鉄イオンおよび没食子酸との反応やフェノールフタレイン−コンプレクソン酸とアルカリ土類金属イオンとの反応等のキレート形成反応、ステアリン酸第２鉄とピロガロールとの反応やベヘン酸銀と４−メトキシ−１−ナフトールの反応等の酸化還元反応等が利用できる。 Examples of the above (b) include various systems (color change system) that change color between two or more components by an acid-base reaction, a redox reaction, a coupling reaction, a chelate formation reaction, or the like.
For example, color developing systems composed of acidic substances (developers) such as acid clay and phenols, using color formers with partial structures such as lactones, lactams, and spiropyrans used in pressure sensitive paper as color-changing components, aromatic diazonium System using azo coupling reaction such as salt, diazotate, diazosulfonates and naphthols, anilines, active methylenes, reaction of hexamethylenetetramine with ferric ion and gallic acid, phenolphthalein complexone A chelate forming reaction such as a reaction between an acid and an alkaline earth metal ion, a redox reaction such as a reaction between ferric stearate and pyrogallol, or a reaction between silver behenate and 4-methoxy-1-naphthol can be used.

発色剤／顕色剤システムにおける発色剤としては、（ｉ）トリアリールメタン系、（ii）ジフェニルメタン系、(iii)キサンテン系、(iv)チアジン系、（ｖ）スピロピラン系化合物等があり、具体例としては、特開昭５８−２７２５３号公報等に記載のものが挙げられる。中でも（ｉ）トリアリールメタン系、(iii)キサンテン系の発色剤が、カブリが少なく、高い発色濃度を与えるものが多く好ましい。   Examples of the color former in the color former / developer system include (i) triarylmethane series, (ii) diphenylmethane series, (iii) xanthene series, (iv) thiazine series, (v) spiropyran series compounds, etc. Examples thereof include those described in JP-A-58-27253. Of these, (i) triarylmethane-based and (iii) xanthene-based color formers are preferred because they are less fogging and give a high color density.

具体例としては、クリスタルバイオレットラクトン、マラカイトグリーンラクトン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−６−クロロ−７−（β−エトキシエチルアミノ）−フルオラン、３−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリエチルアミノ）−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−７−クロロ−７−ｏ−クロロフルオラン、２−（Ｎ−フェニル−Ｎ−メチルアミノ）−６−（Ｎ−ｐ−トリル−Ｎ−エチル）アミノ−フルオラン、２−アニリノ−３−メチル−６−（Ｎ−エチル−ｐ−トルイジノ）フルオラン、３，６−ジメトキシフルオラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−５−メチル−７−（Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ）−フルオラン、３−（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチルアミノ）−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−６−メチル−７−キシリジノフルオラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−６−メチルー７−クロロフルオラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−６−メトキシ−７−アミノフルオラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−７−（４−クロロアニリノ）フルオラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−７−クロロフルオラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−７−ベンジルアミノフルオラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−７，８−ベンゾフルオラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ）−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ）−６−メチル−７−キシリジノフルオラン、３−ピペリジノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−ピロリジノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３，３−ビス（１−エチル−２−メチルインドール−３−イル）フタリド、３，３−ビス（１−ｎ−ブチル−２−メチルインドール−３−イル）フタリド、３，３−ビス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−６−ジメチルアミノフタリド、３−（４−ジエチルアミノ−２−エトキシフェニル）−３−（１−エチル−２−メチルインドール−３−イル）−４−ザフタリド、３−（４−ジエチルアミノフェニル）−３−（１−エチル−２−メチルインドール−３−イル）フタリド、などが挙げられる。これらは、単独または混合して用いられる。   Specific examples include crystal violet lactone, malachite green lactone, benzoyl leucomethylene blue, 3- (N, N-diethylamino) -6-chloro-7- (β-ethoxyethylamino) -fluorane, 3- (N, N, N-triethylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7-chloro-7-o-chlorofluorane, 2- (N-phenyl-N-methylamino) ) -6- (Np-tolyl-N-ethyl) amino-fluorane, 2-anilino-3-methyl-6- (N-ethyl-p-toluidino) fluorane, 3,6-dimethoxyfluorane, 3- (N, N-diethylamino) -5-methyl-7- (N, N-dibenzylamino) -fluorane, 3- (N-cyclohexyl-N-methyla) C) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7 -Xylidinofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7-chlorofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methoxy-7-aminofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7- (4-chloroanilino) fluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7-chlorofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7-benzylaminofluorane, 3- ( N, N-diethylamino) -7,8-benzofluorane, 3- (N, N-dibutylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3- (N, N-dibutylamino) -6 Mechi Ru-7-xylidinofluorane, 3-piperidino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-pyrrolidino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3,3-bis (1-ethyl-2 -Methylindol-3-yl) phthalide, 3,3-bis (1-n-butyl-2-methylindol-3-yl) phthalide, 3,3-bis (p-dimethylaminophenyl) -6-dimethylamino Phthalide, 3- (4-diethylamino-2-ethoxyphenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) -4-zaphthalide, 3- (4-diethylaminophenyl) -3- (1 -Ethyl-2-methylindol-3-yl) phthalide, and the like. These may be used alone or in combination.

顕色剤としては、フェノール系化合物、有機酸またはその金属塩、オキシ安息香酸エステル、酸性白土等が用いられる。   As the developer, a phenol compound, an organic acid or a metal salt thereof, oxybenzoic acid ester, acidic clay, or the like is used.

フェノール系化合物の具体例としては、４，４’−イソプロピリデン−ジフェノール（ビスフェノールＡ）、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，４−ジニトロフェノール、３，４−ジクロロフェノール、４，４’−メチレン−ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、ｐ−フェニルフェノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−エチルヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２’−メチレンビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（α−フェニル−ｐ−クレゾール）チオジフェノール４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−ｍ−クレゾール）、スルホニルジフェノールのほか、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール−ホルマリン縮合物、ｐ−フェニルフェノール−ホルマリン縮合物等が挙げられる。   Specific examples of phenolic compounds include 4,4′-isopropylidene-diphenol (bisphenol A), p-tert-butylphenol, 2,4-dinitrophenol, 3,4-dichlorophenol, 4,4′-methylene. -Bis (2,6-di-tert-butylphenol), p-phenylphenol, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -2-ethylhexane, 2 , 2-bis (4-hydroxyphenyl) butane, 2,2′-methylenebis (4-tert-butylphenol), 2,2′-methylenebis (α-phenyl-p-cresol) thiodiphenol 4,4′-thiobis (6-tert-butyl-m-cresol), sulfonyldiphenol, p-ter - butylphenol - formaldehyde condensates, p- phenylphenol - like formalin condensates and the like.

有機酸またはその金属塩としては、フタル酸、無水フタル酸、マレイン酸、安息香酸、没食子酸、ｏ−トルイル酸、ｐ−トルイル酸、サリチル酸、３−ｔｅｒｔ−ブチルサリチル酸、３，５−ジ−３−ｔｅｒｔ−ブチルサリチル酸、５−α−メチルベンジルサリチル酸、３，５−ビス（α−メチルベンジル）サリチル酸、３−ｔｅｒｔ−オクチルサリチル酸およびその亜鉛塩、鉛塩、アルミニウム塩、マグネシウム塩、ニッケル塩等が挙げられる。特に、サリチル酸誘導体および亜鉛塩、またはアルミニウム塩は、顕色能が優れている。
オキシ安息香酸エステルとしては、ｐ−オキシ安息香酸エチル、ｐ−オキシ安息香酸ブチル、ｐ−オキシ安息香酸ヘプチル、ｐ−オキシ安息香酸ベンジル等が挙げられる。 Organic acids or metal salts thereof include phthalic acid, phthalic anhydride, maleic acid, benzoic acid, gallic acid, o-toluic acid, p-toluic acid, salicylic acid, 3-tert-butylsalicylic acid, 3,5-di- 3-tert-butylsalicylic acid, 5-α-methylbenzylsalicylic acid, 3,5-bis (α-methylbenzyl) salicylic acid, 3-tert-octylsalicylic acid and its zinc salt, lead salt, aluminum salt, magnesium salt, nickel salt Etc. In particular, salicylic acid derivatives and zinc salts or aluminum salts have excellent color developing ability.
Examples of the oxybenzoic acid ester include ethyl p-oxybenzoate, butyl p-oxybenzoate, heptyl p-oxybenzoate, and benzyl p-oxybenzoate.

別の発色剤／顕色剤の発色剤としては、例えば、フェノールフタレイン、フルオレッセイン、２，４，５，７−テトラブロモ−３，４，５，６−テトラクロロフルオレッセイン、テトラブロモフェノールブルー、４，５，６，７−テトラブロモフェノールフタレイン、エオシン、アウリンクレゾールレッド、２−ナフトールフェノールフタレイン等が挙げられる。   Other color formers / developer color developers include, for example, phenolphthalein, fluorescein, 2,4,5,7-tetrabromo-3,4,5,6-tetrachlorofluorescein, tetrabromo Phenol blue, 4,5,6,7-tetrabromophenolphthalein, eosin, aurin resole red, 2-naphthol phenolphthalein and the like can be mentioned.

顕色剤としては、無機および有機アンモニウム塩、有機アミン、アミド、尿素やチオ尿素およびその誘導体、チアゾール類、ピロール類、ピリミジン類、ピペラジン類、グアニジン類、インド−ル類、イミダゾール類、イミダゾリン類、トリアゾール類、モルホリン類、ピペリジン類、アミジン類、フォルムアジン類、ピリジン類等の含窒素化合物が挙げられる。   Developers include inorganic and organic ammonium salts, organic amines, amides, urea and thiourea and their derivatives, thiazoles, pyrroles, pyrimidines, piperazines, guanidines, indoles, imidazoles, imidazolines , Nitrogen-containing compounds such as triazoles, morpholines, piperidines, amidines, formazines and pyridines.

これらの具体例としては、例えば、酢酸アンモニウム、トリシクロヘキシルアミン、トリベンジルアミン、オクタデシルベンジルアミン、ステアリルアミン、アリル尿素、チオ尿素、メチルチオ尿素、アリルチオ尿素、エチレンチオ尿素、２−ベンジルイミダゾール、４−フェニルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、２−ウンデシル−イミダゾリン、２，４，５−トリフリル−２−イミダゾリン、１，２−ジフェニル−４，４−ジメチル−２−イミダゾリン、２−フェニル−２−イミダゾリン、１，２，３−トリフェニルグアニジン、１，２−ジトリルグアニジン、１，２−ジシクロヘキシルグアニジン、１，２−ジシクロヘキシル−３−フェニルグアニジン、１，２，３−トリシクロヘキシルグアニジン、グアニジントリクロロ酢酸塩、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルピペラジン、４，４’−ジチオモルホリン、モルホリニウムトリクロロ酢酸塩、２−アミノベンゾチアゾール、２−ベンゾイルヒドラジノ−ベンゾチアゾール等がある。   Specific examples of these include, for example, ammonium acetate, tricyclohexylamine, tribenzylamine, octadecylbenzylamine, stearylamine, allylurea, thiourea, methylthiourea, allylthiourea, ethylenethiourea, 2-benzylimidazole, 4-phenyl. Imidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-undecyl-imidazoline, 2,4,5-trifuryl-2-imidazoline, 1,2-diphenyl-4,4-dimethyl-2-imidazoline, 2-phenyl-2 -Imidazoline, 1,2,3-triphenylguanidine, 1,2-ditolylguanidine, 1,2-dicyclohexylguanidine, 1,2-dicyclohexyl-3-phenylguanidine, 1,2,3-tricyclohexylguanidine, guanidine Rikuroro acetate, N, N'-di-benzylpiperazine, 4,4'-dithio morpholine, morpholinium trichloroacetic acid salts, 2-aminobenzothiazole, 2-benzoyl-hydrazino - there is benzothiazole.

本発明においては、発色剤または顕色剤の一方がマイクロカプセルに内包されることが好ましい。なお、発色剤および顕色剤をそれぞれ別のマイクロカプセルに内包させることもできる。これらをマイクロカプセルに内包させると、加圧によりマイクロカプセルが破壊された場合に発色剤と顕色剤が混合して発色させることができる。   In the present invention, it is preferable that either the color former or the developer is encapsulated in the microcapsule. The color former and the developer can also be encapsulated in separate microcapsules. When these are encapsulated in microcapsules, when the microcapsules are broken by pressurization, the color former and the developer can be mixed to cause color development.

上記マイクロカプセルに発色剤または顕色剤を内包する場合に溶剤を併用することができる。溶剤を用いることによって、加圧の際の、カプセルの破壊の程度、カプセル外への内包物の移動および発色反応などをコントロールすることができる。   When the color former or developer is encapsulated in the microcapsule, a solvent can be used in combination. By using a solvent, it is possible to control the degree of capsule breakage, the movement of the inclusions outside the capsule, the color development reaction, and the like during pressurization.

用いられる溶剤として天然油、合成油または両方の混合物を用いることができる。溶剤の具体例としては、例えば綿実油、灯油、脂肪族ケトン、脂肪族エステル、パラフィン、ナフテン油、アルキル化ビフェニル、アルキル化ターフェニル、塩素化パラフィン、アルキル化ナフタレン、および１−フェニル−１−キシリルエタン、１−フェニル−１−ｐ−エチルフェニルエタン、１，１’−ジトリルエタンなどのごときジアリールエタン。
フタル酸アルキルエステル（ジブチルフタレート、ジオクチルフタレートなど）、リン酸エステル（ジフェニルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホフェート、ジオクチルブチルホスフェート）、クエン酸エステル（例えばアセチルクエン酸トリブチル）、安息香酸エステル（安息香酸オクチル）、アルキルアミド（例えばジエチルラウリルアミド）、脂肪酸エステル類（例えばジブトキシエチルサクシネート、ジオクチルアセテート）、トリメシン酸エステル類（例えばトリメシン酸トリブチル）、酢酸エチル、酢酸ブチルのごとき低級アルキルアセテート、プロピオン酸エチル、二級ブチルアルコール、メチルイソブチルケトン、β−エトキシエチルアセテート、メチルセロソルブアセテート、シクロヘキサノンなどがある。 Natural oil, synthetic oil or a mixture of both can be used as the solvent used. Specific examples of the solvent include cotton seed oil, kerosene, aliphatic ketone, aliphatic ester, paraffin, naphthene oil, alkylated biphenyl, alkylated terphenyl, chlorinated paraffin, alkylated naphthalene, and 1-phenyl-1-xylylethane. Diarylethanes such as 1-phenyl-1-p-ethylphenylethane, 1,1′-ditolylethane, and the like.
Phthalic acid alkyl esters (dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, etc.), phosphate esters (diphenyl phosphate, triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, dioctyl butyl phosphate), citrate esters (eg tributyl acetyl citrate), benzoic acid esters (benzoic acid) Octyl acid), alkyl amides (eg diethyl lauryl amide), fatty acid esters (eg dibutoxyethyl succinate, dioctyl acetate), trimesic acid esters (eg tributyl trimesate), lower alkyl acetates such as ethyl acetate, butyl acetate, Such as ethyl propionate, secondary butyl alcohol, methyl isobutyl ketone, β-ethoxyethyl acetate, methyl cellosolve acetate, cyclohexanone There is.

上記の発色剤または顕色剤を、必要に応じて溶媒と共にマイクロカプセル化する方法と
しては、公知の方法が適用できる。例えばマイクロカプセルの製造方法としては、米国特許第２８００４５７号、同第２８００４５８号明細書にみられるコアセルベーションを利用した方法、米国特許第３２８７１５４号の各明細書、特公昭３８−１９５７４号、同４２−４４６号の各公報にみられる界面重合法による方法、米国特許第３４１８２５０号、同第３６６０３０４号明細書にみられるポリマーの析出による方法、米国特許第３７９６６６９号明細書に見られるイソシアナートポリオール壁材料を用いる方法、米国特許第３９１４５１１号明細書に見られるイソシアナート壁材料を用いる方法、米国特許第４００１１４０号、同第４０８７３７６号、同第４０８９８０２号の各明細書にみられる尿素―ホルムアルデヒド系または尿素ホルムアルデヒド−レゾルシノール系壁形成材料を用いる方法、米国特許第４０２５４４５号明細書にみられるメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ヒドロキシセルロース等の壁材を用いる方法、特公昭３６−９１６３号、同５１−９０７９号の各公報にみられるモノマー重合によるｉｎ ｓｉｔｕ法、英国特許第９３０４２２号、米国特許第３１１１４０７号明細書にみられるスプレードライング法、英国特許第９５２８０７号、同第９６７０７４号の各明細書にみられる電解分散冷却法などがあるが、これらに限定されるものではない。 As a method for microencapsulating the above color former or developer together with a solvent as necessary, a known method can be applied. For example, as a method for producing microcapsules, a method using coacervation found in U.S. Pat. Nos. 2,800,547 and 2,800,498, U.S. Pat. 42-446 by the interfacial polymerization method, US Pat. No. 3,418,250, US Pat. No. 3,660,304 by precipitation of polymer, US Pat. No. 3,796,669, isocyanate polyol A method using a wall material, a method using an isocyanate wall material found in US Pat. No. 3,914,511, and a urea-formaldehyde system found in US Pat. Nos. 4,001,140, 4,087,376 and 4,089,802. Or urea formaldehyde-resorcino A method using a system wall forming material, a method using a wall material such as melamine-formaldehyde resin and hydroxycellulose, as shown in US Pat. No. 4,025,445, and Japanese Patent Publication Nos. 36-9163 and 51-9079. In situ method using monomer polymerization, spray drying method found in British Patent No. 930422, US Pat. No. 3,111,407, electrolytic dispersion cooling method seen in British Patent Nos. 952807 and 967074, etc. However, it is not limited to these.

本発明に用いられる好ましいマイクロカプセル壁は、３次元架橋を有し、溶剤によって膨潤する性質を有するものである。このような観点から、マイクロカプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、およびこれらの混合物が好ましく、特に、ポリウレアおよびポリウレタンが好ましい。また、マイクロカプセル壁に、前記バインダーポリマー導入可能なエチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を有する化合物を導入してもよい。   A preferable microcapsule wall used in the present invention has a three-dimensional cross-linking and has a property of swelling with a solvent. From such a viewpoint, the wall material of the microcapsule is preferably polyurea, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyamide, and a mixture thereof, and particularly preferably polyurea and polyurethane. Further, a compound having a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond capable of introducing the binder polymer may be introduced into the microcapsule wall.

上記のマイクロカプセルの平均粒径は、０．０１〜３．０μｍが好ましい。０．０５〜２．０μｍがさらに好ましく、０．１０〜１．０μｍが特に好ましい。   The average particle size of the microcapsules is preferably 0.01 to 3.0 μm. 0.05-2.0 micrometers is further more preferable, and 0.10-1.0 micrometer is especially preferable.

上記の発色剤と顕色剤は、感光−感熱層、後述のオーバーコート層または中間層に含有させることができる。また、発色剤と顕色剤とをそれぞれ別の層に含有させてもよい。
感光−感熱層は、画像露光によって硬化するため、未露光部（未硬化部）との加圧に対する挙動差が生じて、色画像が形成される。すなわち、マイクロカプセルを利用した系の場合、露光部のマイクロカプセルは感光−感熱層が硬化しているため破壊されず、未露光部のマイクロカプセルのみ破壊されるので、未露光部のみ発色し、良好な色画像が形成される。 The above color former and developer can be contained in the photosensitive-thermosensitive layer, an overcoat layer described later or an intermediate layer. Further, the color former and the developer may be contained in separate layers.
Since the photosensitive-thermosensitive layer is cured by image exposure, a behavioral difference with respect to pressurization with an unexposed portion (uncured portion) is generated, and a color image is formed. That is, in the case of a system using microcapsules, the microcapsules in the exposed part are not destroyed because the photosensitive-thermosensitive layer is cured, and only the microcapsules in the unexposed part are destroyed, so that only the unexposed part is colored, A good color image is formed.

発色剤または変色剤の平版印刷版原版の単位面積あたりの添加量は、０．００１〜１ｇ／ｍ2が好ましく、より好ましくは０．００５〜０．５ｇ／ｍ2、最も好ましくは、０．０１〜０．３ｇ／ｍ2である。
また、顕色剤の平版印刷版原版の単位面積あたりの添加量は、０．００１〜１ｇ／ｍ2が好ましく、より好ましくは０．００５〜０．５ｇ／ｍ2、最も好ましくは、０．０１〜０．３ｇ／ｍ2である。 The addition amount of the color former or the color changing agent per unit area of the lithographic printing plate precursor is preferably 0.001 to 1 g / m 2 , more preferably 0.005 to 0.5 g / m 2 , and most preferably 0.00. 01 to 0.3 g / m 2 .
The addition amount of the developer per unit area of the lithographic printing plate precursor is preferably 0.001 to 1 g / m 2 , more preferably 0.005 to 0.5 g / m 2 , and most preferably 0.00. 01 to 0.3 g / m 2 .

本発明において、画像露光後に平版印刷版原版に加える圧力は、２ｘ１０5Ｎ／ｍ2以上が好ましい。より好ましくは５ｘ１０5Ｎ／ｍ2以上、最も好ましくは５ｘ１０5Ｎ／ｍ2以上〜５ｘ１０7Ｎ／ｍ2である。
圧力を加える時間は、１０ｍｓ以上が好ましく、５０ｍｓ〜１００ｓがより好ましい。
この範囲内で良好な色画像が得られる。 In the present invention, the pressure applied to the lithographic printing plate precursor after image exposure is preferably 2 × 10 5 N / m 2 or more. More preferably 5 × 10 5 N / m 2 or more, most preferably 5 × 10 5 N / m 2 or more to 5 × 10 7 N / m 2 .
The time for applying pressure is preferably 10 ms or more, and more preferably 50 ms to 100 s.
A good color image can be obtained within this range.

圧力を加える方法としては特に限定されないが、例えば、本発明の平版印刷版原版をローラ搬送しながら、金属製の圧力ローラに通して加圧する方法が挙げられる。   The method of applying pressure is not particularly limited, and examples thereof include a method in which the lithographic printing plate precursor of the present invention is pressed through a metal pressure roller while being conveyed by a roller.

また、発色感度を高めるために、加圧中または加圧後に加熱処理を施すことも好ましい。加熱温度は８０〜２００℃が好ましい。   In order to increase the color development sensitivity, it is also preferable to perform a heat treatment during or after pressurization. The heating temperature is preferably 80 to 200 ° C.

〔平版印刷版原版〕
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に活性光線の露光により画像記録可能な感光−感熱層を有すものであれば特に制限はない。しかし、上記画像露光後の加圧により色画像を形成する方法を組み込む平版印刷版原版としては、画像記録後の現像処理工程を経ることなく印刷機に装着し、または印刷機装着後に画像記録して、印刷可能な平版印刷版原版が好ましい。そのような平版印刷版原版としては、下記に示される（１）機上現像型平版印刷版原版および（２）無処理（無現像型）平版印刷版原版が挙げられる。 [Lithographic printing plate precursor]
The lithographic printing plate precursor according to the invention is not particularly limited as long as it has a photosensitive-thermosensitive layer capable of recording an image by exposure to actinic rays on a support. However, a lithographic printing plate precursor incorporating a method for forming a color image by pressurization after image exposure is mounted on a printing press without undergoing a development processing step after image recording, or image recording is performed after mounting the printing press. A lithographic printing plate precursor that can be printed is preferable. Examples of such a lithographic printing plate precursor include (1) on-press development type lithographic printing plate precursor and (2) no treatment (no development type) lithographic printing plate precursor shown below.

（１）機上現像型平版印刷版原版：露光により湿し水および／またはインキに対する溶解性もしくは分散性が変化するか、または、露光により湿し水またはインキに対する親和性の異なる隣接層に対する接着性が変化する感光−感熱層を有し、画像露光後、印刷機上で湿し水および／またはインキを版面に供給することで現像しうる平版印刷版原版。   (1) On-press development type lithographic printing plate precursor: Adhesion to an adjacent layer having different affinities for dampening water or ink by exposure, or the solubility or dispersibility in dampening water and / or ink changes by exposure A lithographic printing plate precursor that has a photosensitive-thermosensitive layer with variable properties and can be developed by supplying dampening water and / or ink to the printing plate on a printing machine after image exposure.

（２）無処理（無現像型）平版印刷版原版：露光により湿し水またはインキに対する親和性が表面で変化する感光−感熱層を有し、画像露光後、感光−感熱層の除去を伴わず印刷可能な平版印刷版原版。   (2) Unprocessed (non-developable) lithographic printing plate precursor: has a photosensitive-thermosensitive layer whose affinity for dampening water or ink changes on the surface by exposure, and is accompanied by removal of the photosensitive-thermosensitive layer after image exposure A lithographic printing plate precursor that can be printed.

本発明の、画像記録後の現像処理工程を経ることなく印刷機に装着し、または印刷機装着後に画像記録して、印刷可能な平版印刷版原版としては、上記（１）および（２）の平版印刷版原版であれば特に制限はない。しかし、後述の通り、機上現像型平版印刷版原版は、感光−感熱層が架橋構造を必ずしも有していないため、感光−感熱層中で、加圧により色画像を生ずる発色系がより高いモビリティーを有し、発色の反応性が向上しやすい。従って、感光−感熱層が架橋構造を有する無処理（無現像）型より、機上現像型平版印刷版原版が、より好ましい。   The lithographic printing plate precursor that can be mounted on a printing press without undergoing a development processing step after image recording of the present invention, or image-recorded after mounting of the printing press and can be printed, includes the above (1) and (2). There is no particular limitation as long as it is a lithographic printing plate precursor. However, as described later, the on-press development type lithographic printing plate precursor has a higher color development system that generates a color image by pressurization in the photosensitive-thermosensitive layer because the photosensitive-thermosensitive layer does not necessarily have a crosslinked structure. It has mobility and color development reactivity is easy to improve. Therefore, an on-press development type lithographic printing plate precursor is more preferable than an unprocessed (no development) type in which the photosensitive-thermosensitive layer has a crosslinked structure.

具体的には、特許第２９３８３９７号明細書、特開２００１−２７７７４０号、特開２００１−２７７７４２号、特開２００２−２８７３３４号、特開２００１−９６９３６号、特開２００１−９６９３８号、特開２００１−１８０１４１号、特開２００１−１６２９６０号の各公報、国際公開第００／１６９８７号、国際公開第０１／３９９８５号の各パンフレット、欧州特許出願公開第９９０５１７号、欧州特許出願公開第１２２５０４１号、米国特許第６４６５１５２号の各明細書、特開平６−３１７８９９号公報、国際公開第９６／３５１４３号パンフレット、欧州特許出願公開第６５２４８３号明細書、特開平１０−１０７３７号、特開平１１−３０９９５２号の各公報、米国特許第６０１７６７７号、米国特許第６４１３６９４号の各明細書等に記載の版材が挙げられる。   Specifically, Japanese Patent No. 2938397, Japanese Patent Laid-Open No. 2001-277740, Japanese Patent Laid-Open No. 2001-277742, Japanese Patent Laid-Open No. 2002-287334, Japanese Patent Laid-Open No. 2001-96936, Japanese Patent Laid-Open No. 2001-96938, Japanese Patent Laid-Open No. 2001 -180141, JP 2001-162960 Gazettes, International Publication No. 00/16987, International Publication No. 01/39985, European Patent Application Publication No. 990517, European Patent Application Publication No. 1225041, United States Patent Nos. 6465152, JP-A-6-317899, WO96 / 35143 pamphlet, European Patent Application No. 652483, JP-A-10-10737, JP-A-11-309952 Each publication, US Pat. No. 6,176,677, US Pat. No. 6,436,694 It includes plate material described in each specification and the like of.

〔感光−感熱層〕
本発明の感光−感熱層における印刷画像を形成するために好ましく使用可能な要素としては、〔Ｉ〕ラジカル重合を利用する画像形成要素、および〔II〕疎水化前駆体の熱融着や熱反応を利用する画像形成要素のいずれも用いることができる。以下、これらの要素について説明する。 [Photosensitive-thermosensitive layer]
Elements that can be preferably used for forming a printed image in the photosensitive-thermosensitive layer of the present invention include [I] an image-forming element utilizing radical polymerization, and [II] thermal fusion or thermal reaction of a hydrophobized precursor. Any of the image-forming elements that utilize can be used. Hereinafter, these elements will be described.

〔Ｉ〕ラジカル重合を利用する画像形成要素
ラジカル重合を利用する画像形成要素においては、本発明の感光−感熱層は、ラジカル重合性化合物、およびラジカル発生剤を含有する。
ラジカル重合系要素は、画像形成の感度が高く、また高耐刷が得やすいほかに、感光−感熱層の露光部と未露光部の硬化度の差が大きいため、加圧による良好な色画像が得られる点で好ましい。 [I] Image forming element utilizing radical polymerization In the image forming element utilizing radical polymerization, the photosensitive-thermosensitive layer of the present invention contains a radical polymerizable compound and a radical generator.
In addition to high image formation sensitivity and high printing durability, the radical polymerization element has a large difference in the degree of cure between the exposed and unexposed areas of the photosensitive-thermosensitive layer. Is preferable in that it is obtained.

＜ラジカル重合性化合物＞
本発明の感光−感熱層には、効率的な硬化反応を行うためラジカル重合性化合物（以下では単に重合性化合物ともいう）を含有させることが好ましい。本発明に用いることができるラジカル重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類との付加反応物、および単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。 <Radically polymerizable compound>
The photosensitive-thermosensitive layer of the present invention preferably contains a radical polymerizable compound (hereinafter also simply referred to as a polymerizable compound) in order to perform an efficient curing reaction. The radical polymerizable compound that can be used in the present invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and a compound having at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably two or more. Chosen from. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, i.e. dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and esters and amides thereof. In this case, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, amino group or mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and a monofunctional or polyfunctional compound. A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or In addition, a substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー、イソシアヌール酸ＥＯ変性トリアクリレート等がある。   Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer, isocyanuric acid There are EO-modified triacrylate and the like.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。   Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate. Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate. Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭５１−４７３３４、特開昭５７−１９６２３１記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭５９−５２４０、特開昭５９−５２４１、特開平２−２２６１４９記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平１−１６５６１３記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。   Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-51-47334 and JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, JP-A-59-5241, and JP-A-2-226149. Those having the aromatic skeleton described above and those having an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used. Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭５４−２１７２６記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。   Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like. Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４８−４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式（ａ）で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   In addition, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinyl urethane containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula (a) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. Compounds and the like.

ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ4）ＣＯＯＣＨ2ＣＨ（Ｒ5）ＯＨ （ａ）
（ただし、Ｒ4およびＲ5は、ＨまたはＣＨ3を示す。） CH 2 = C (R 4) COOCH 2 CH (R 5) OH (a)
(However, R 4 and R 5 represent H or CH 3. )

また、特開昭５１−３７１９３号、特公平２−３２２９３号、特公平２−１６７６５号に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−４９８６０号、特公昭５６−１７６５４号、特公昭６２−３９４１７号、特公昭６２−３９４１８号記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭６３−２７７６５３号、特開昭６３−２６０９０９号、特開平１−１０５２３８号に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。   Also, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, and JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654, Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable. Further, by using addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238, It is possible to obtain a photopolymerizable composition excellent in the photosensitive speed.

その他の例としては、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭４６−４３９４６号、特公平１−４０３３７号、特公平１−４０３３６号記載の特定の不飽和化合物や、特開平２−２５４９３号記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭６１−２２０４８号記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８ページ（１９
８４年）に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。 Other examples include polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, and JP-A-52-30490. Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. Further, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, JP-B-1-40336, vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493, and the like can also be mentioned. . In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300-308 (19
84)) as photocurable monomers and oligomers can also be used.

これらの付加重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。
感度の点では１分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、２官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、３官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基（例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物）のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。
また、感光−感熱層中の他の成分（例えばバインダーポリマー、開始剤、着色剤等）との相溶性、分散性に対しても、付加重合化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、２種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、基板や後述のオーバーコート層等の密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。 About these addition polymerizable compounds, the details of usage, such as the structure, single use or combination, addition amount, etc. can be arbitrarily set according to the performance design of the final lithographic printing plate precursor. For example, it is selected from the following viewpoints.
From the viewpoint of sensitivity, a structure having a large unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image portion, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable, and further, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrene compound, vinyl ether type). A method of adjusting both sensitivity and strength by using a compound) is also effective.
In addition, the selection and use method of the addition polymerization compound is also an important factor for the compatibility and dispersibility with other components (for example, binder polymer, initiator, colorant, etc.) in the photosensitive-thermosensitive layer. For example, the compatibility may be improved by using a low-purity compound or using two or more kinds in combination. In addition, a specific structure may be selected for the purpose of improving the adhesion of the substrate and an overcoat layer described later.

重合性化合物は、感光−感熱層中の不揮発性成分に対して、好ましくは５〜８０質量％、更に好ましくは２５〜７５質量％の範囲で使用される。また、これらは単独で用いても２種以上併用してもよい。そのほか、付加重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、更に場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施しうる。   The polymerizable compound is preferably used in the range of 5 to 80% by mass, more preferably 25 to 75% by mass with respect to the nonvolatile component in the photosensitive-thermosensitive layer. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, the use method of the addition polymerizable compound can be arbitrarily selected from the viewpoint of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging property, refractive index change, surface adhesiveness, etc. Depending on the case, a layer configuration and coating method such as undercoating and overcoating can be performed.

＜ラジカル重合開始剤＞
本発明に用いられるラジカル重合開始剤（以下では単に重合開始剤ともいう。）としては、光、熱あるいはその両方のエネルギーによりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を開始、促進する化合物を示す。本発明に使用できる重合開始剤としては、公知の熱重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などが挙げられる。中でも、本発明において好適に用いられるラジカル重合開始剤は、熱エネルギーによりラジカルを発生する化合物である。以下、本発明で用いるラジカル重合開始剤についてより具体的に説明するが、かかるラジカル重合開始剤は、単独または２種以上を併用して用いることができる。 <Radical polymerization initiator>
As the radical polymerization initiator (hereinafter also simply referred to as polymerization initiator) used in the present invention, radicals are generated by energy of light, heat or both, and polymerization of a compound having a polymerizable unsaturated group is initiated. , Indicates a promoting compound. Examples of the polymerization initiator that can be used in the present invention include known thermal polymerization initiators, compounds having a bond with small bond dissociation energy, and photopolymerization initiators. Among these, the radical polymerization initiator suitably used in the present invention is a compound that generates radicals by thermal energy. Hereinafter, although the radical polymerization initiator used by this invention is demonstrated more concretely, this radical polymerization initiator can be used individually or in combination of 2 or more types.

このようなラジカル重合開始剤としては、例えば、有機ハロゲン化合物、カルボニル化合物、有機過酸化物、アゾ系重合開始剤、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ素化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物、が挙げられる。   Examples of such radical polymerization initiators include organic halogen compounds, carbonyl compounds, organic peroxides, azo polymerization initiators, azide compounds, metallocene compounds, hexaarylbiimidazole compounds, organic boron compounds, disulfone compounds, and oximes. Examples thereof include ester compounds and onium salt compounds.

上記有機ハロゲン化合物としては、具体的には、若林等、「Ｂｕｌｌ Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ Ｊａｐａｎ」４２、２９２４（１９６９）、米国特許第３，９０５，８１５号明細書、特公昭４６−４６０５号、特開昭４８−３６２８１号、特開５３−１３３４２８号、特開昭５５−３２０７０号、特開昭６０−２３９７３６号、特開昭６１−１６９８３５号、特開昭６１−１６９８３７号、特開昭６２−５８２４１号、特開昭６２−２１２４０１号、特開昭６３−７０２４３号、特開昭６３−２９８３３９号の各公報、Ｍ．Ｐ．Ｈｕｔｔ"Ｊｕｒｎａｌ ｏｆ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ"１（Ｎｏ３），（１９７０）」に記載の化合物が挙げられる。中でも、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物およびＳ−トリアジン化合物が好適である。   Specific examples of the organic halogen compound include Wakabayashi et al., “Bull Chem. Soc Japan” 42, 2924 (1969), US Pat. No. 3,905,815, Japanese Patent Publication No. 46-4605, JP 48-36281, JP 53-133428, JP 55-3070, JP 60-239736, JP 61-169835, JP 61-169837, JP 62- 58241, JP-A 62-212401, JP-A 63-70243, JP-A 63-298339, P. Examples thereof include compounds described in Hutt "Journal of Heterocyclic Chemistry" 1 (No 3), (1970) ". Of these, oxazole compounds and S-triazine compounds substituted with a trihalomethyl group are preferred.

より好適には、すくなくとも一つのモノ、ジ、またはトリハロゲン置換メチル基がｓ−
トリアジン環に結合したｓ−トリアジン誘導体、具体的には、例えば、２，４，６−トリス（モノクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（ジクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２―ｎ−プロピル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（α，α，β−トリクロロエチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３，４−エポキシフェニル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔１−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−ブタジエニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ｉ−プロピルオキシスチリル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ナトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニルチオ−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ベンジルチオ−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（ジブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−メトキシ−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン等が挙げられる。 More preferably, at least one mono, di, or trihalogen substituted methyl group is s-
An s-triazine derivative bonded to a triazine ring, specifically, for example, 2,4,6-tris (monochloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (dichloromethyl) -s-triazine, 2 , 4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-n-propyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s -Triazine, 2- (α, α, β-trichloroethyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (P-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (3,4-epoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-tri Gin, 2- (p-chlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [1- (p-methoxyphenyl) -2,4-butadienyl] -4,6-bis (trichloro Methyl) -s-triazine, 2-styryl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (Pi-propyloxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4 -Natoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-phenylthio-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-benzylthio- , 6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (dibromomethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (tribromomethyl) -s-triazine, 2-methyl- Examples include 4,6-bis (tribromomethyl) -s-triazine, 2-methoxy-4,6-bis (tribromomethyl) -s-triazine, and the like.

上記カルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェノン、２−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドトキシ−２−メチルフェニルプロパノン、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル−（ｐ−イソプロピルフェニル）ケトン、１−ヒドロキシ−１−（ｐ−ドデシルフェニル）ケトン、２−メチルー（４'−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノ−１−プロパノン、１，１，１−トリクロロメチル−（ｐ−ブチルフェニル）ケトン等のアセトフェノン誘導体、チオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体等を挙げることができる。   Examples of the carbonyl compound include benzophenone, Michler ketone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone, 2-carboxybenzophenone and other benzophenone derivatives, 2,2-dimethoxy- 2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, α-hydroxy-2-methylphenylpropanone, 1-hydroxy-1-methylethyl- (p-isopropylphenyl) ketone, 1- Hydroxy-1- (p-dodecylphenyl) ketone, 2-methyl- (4 ′-(methylthio) phenyl) -2-morpholino-1-propanone, 1,1,1-trichloromethyl- (p-butylphenyl) Acetophenone derivatives such as ketones, thioxanthone derivatives such as thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, p- Examples thereof include benzoic acid ester derivatives such as ethyl dimethylaminobenzoate and ethyl p-diethylaminobenzoate.

上記アゾ化合物としては例えば、特開平８−１０８６２１号公報に記載のアゾ化合物等を使用することができる。   As the azo compound, for example, an azo compound described in JP-A-8-108621 can be used.

上記有機過酸化物としては、例えば、トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，２−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、２，５−オキサノイルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ（３−メチル−３−メトキシブチル）パーオキシジカーボネート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシオクタノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシラウレート、ターシルカーボネート、３，３'，４，４'−テトラ−（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３'，４，４'−テトラ−（ｔ−ヘキシルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３'，４，４'−テトラ−（ｐ−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、カルボニルジ（ｔ−ブチルパーオキシ二水素二フタレート）、カルボニルジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート）等が挙げられる。   Examples of the organic peroxide include trimethylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis (tert-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (tert-butyl). Peroxy) cyclohexane, 2,2-bis (tert-butylperoxy) butane, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydro Peroxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, tert-butylcumyl peroxide, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) hexane, 2, -Oxanoyl peroxide, succinic peroxide, benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, di-2-ethoxyethyl peroxydicarbonate , Dimethoxyisopropyl peroxycarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate, tert-butyl peroxyacetate, tert-butyl peroxypivalate, tert-butyl peroxyneodecanoate, tert- Butyl peroxyoctanoate, tert-butyl peroxylaurate, tersyl carbonate, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4 ′ − Tra- (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, carbonyldi (t-butylperoxydihydrogen diphthalate), carbonyl And di (t-hexylperoxydihydrogen diphthalate).

上記メタロセン化合物としては、特開昭５９−１５２３９６号公報、特開昭６１−１５１１９７号公報、特開昭６３−４１４８４号公報、特開平２−２４９号公報、特開平２−４７０５号公報、特開平５−８３５８８号公報記載の種々のチタノセン化合物、例えば、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジ−フルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、特開平１−３０４４５３号公報、特開平１−１５２１０９号公報記載の鉄−アレーン錯体等が挙げられる。   Examples of the metallocene compound include JP-A-59-152396, JP-A-61-151197, JP-A-63-41484, JP-A-2-249, JP-A-2-4705, Various titanocene compounds described in JP-A-5-83588, such as di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, Di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-di-fluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluorophen-1-yl, di- -Cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-penta Fluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluoropheny -1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4 , 5,6-pentafluorophen-1-yl, iron-arene complexes described in JP-A-1-304453 and JP-A-1-152109, and the like.

上記ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特公平６−２９２８５号公報、米国特許第３，４７９，１８５号、同第４，３１１，７８３号、同第４，６２２，２８６号の各明細書等に記載の種々の化合物、具体的には、２，２'−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４'，５，５'−テトラフェニルビイミダゾール、２，２'−ビス（ｏ−ブロモフェニル））４，４'，５，５'−テトラフェニルビイミダゾール、２，２'−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４'，５，５'−テトラフェニルビイミダゾール、２，２'−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４'，５，５'−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）ビイジダゾール、２，２'−ビス（ｏ，ｏ'−ジクロロフェニル）−４，４'，５，５'−テトラフェニルビイミダゾール、２，２'−ビス（ｏ−ニトロフェニル）−４，４'，５，５'−テトラフェニルビイミダゾール、２，２'−ビス（ｏ−メチルフェニル）−４，４'，５，５'−テトラフェニルビイミダゾール、２，２'−ビス（ｏ−トリフルオロフェニル）−４，４'，５，５'−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。   Examples of the hexaarylbiimidazole compound include those described in Japanese Patent Publication No. 6-29285, US Pat. Nos. 3,479,185, 4,311,783, and 4,622,286. Etc., specifically 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-bromo) Phenyl)) 4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2 '-Bis (o-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) biidazole, 2,2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4 ', 5 5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2 '-Bis (o-nitrophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-methylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl Examples include biimidazole and 2,2′-bis (o-trifluorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole.

上記有機ホウ素化合物としては、例えば、特開昭６２−１４３０４４号、特開昭６２−１５０２４２号、特開平９−１８８６８５号、特開平９−１８８６８６号、特開平９−１８８７１０号、特開２０００−１３１８３７号、特開２００２−１０７９１６号の各公報、特許第２７６４７６９号明細書、特開２００２−１１６５３９号公報、および、Ｋｕｎｚ，Ｍａｒｔｉｎ"Ｒａｄ Ｔｅｃｈ'９８．Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇ Ａｐｒｉｌ １９−２２，１９９８，Ｃｈｉｃａｇｏ"等に記載される有機ホウ酸塩、特開平６−１５７６２３号公報、特開平６−１７５５６４号公報、特開平６−１７５５６１号公報に記載の有機ホウ素スルホニウム錯体あるいは有機ホウ素オキソスルホニウム錯体、特開平６−１７５５５４号公報、特開平６−１７５５５３号公報に記載の有機ホウ素ヨードニウム錯体、特
開平９−１８８７１０号公報に記載の有機ホウ素ホスホニウム錯体、特開平６−３４８０１１号公報、特開平７−１２８７８５号公報、特開平７−１４０５８９号公報、特開平７−３０６５２７号公報、特開平７−２９２０１４号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が挙げられる。 Examples of the organoboron compound include JP-A-62-143044, JP-A-62-1050242, JP-A-9-188585, JP-A-9-188686, JP-A-9-188710, JP-A 2000-. No. 131837, JP 2002-107916 A, JP 2764769 A, JP 2002-116539 A, and Kunz, Martin “Rad Tech '98. Proceeding April 19-22, 1998, Chicago”, etc. Organoboron salts described in JP-A-6-157623, JP-A-6-175564, JP-A-6-175561, and organic boron oxosulfonium complexes; No. 175554, JP-A-6-17555 Organoboron iodonium complex described in JP-A-9-188, organoboron phosphonium complex described in JP-A-9-188710, JP-A-6-34811, JP-A-7-128785, JP-A-7-140589, Examples thereof include organoboron transition metal coordination complexes such as Kaihei 7-306527 and JP-A-7-292014.

上記ジスルホン化合物としては、特開昭６１−１６６５４４号公報、特開２００３−３２８４６５号公報等記載される化合物が挙げられる。   Examples of the disulfone compound include compounds described in JP-A Nos. 61-166544 and 2003-328465.

上記オキシムエステル化合物としては、J.C.S. Perkin II (1979 )1653-1660)、J.C.S.
Perkin II (1979)156-162、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995)202-232、特開２０００−６６３８５号公報記載の化合物、特開２０００−８００６８号公報記載の化合物、具体的には、下記の構造式で示される化合物が挙げられる。 Examples of the oxime ester compounds include JCS Perkin II (1979) 1653-1660), JCS
Perkin II (1979) 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) 202-232, compounds described in JP-A No. 2000-66385, compounds described in JP-A No. 2000-80068, specifically, And a compound represented by the structural formula:

Figure 2005297517
Figure 2005297517

上記オニウム塩化合物としては、例えば、Ｓ．Ｉ．Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，１８，３８７（１９７４）、Ｔ．Ｓ．Ｂａｌ ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ，２１，４２３（１９８０）に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，０６９，０５５号明細書、特開平４−３６５０４９号公報等に記載のアンモニウム塩、米国特許第４，０６９，０５５号、同第４，０６９，０５６号の各明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第１０４、１４３号、米国特許第３３９，０４９号、同第４１０，２０１号の各明細書、特開平２−１５０８４８号、特開平２−２９６５１４号の各公報に記載のヨードニウム塩、欧州特許第３７０，６９３号、同第３９０，２１４号、同第２３３，５６７号、同第２９７，４４３号、同第２９７，４４２号、米国特許第４，９３３，３７７号、同第１６１，８１１号、同第４１０，２０１号、同第３３９，０４９号、同第４，７６０，０１３号、同第４，７３４，４４４号、同第２，８３３，８２７号、独国特許第２，９０４，６２６号、同第３，６０４，５８０号、同第３，６０４，５８１号の各明細書に記載のスルホニウム塩、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，１０４７（１９７９）に記載のセレノニウム塩、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ ｅｔ ａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ ＡＳＩＡ，ｐ４７８ Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。   Examples of the onium salt compound include S.I. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Diazonium salts described in Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), ammonium salts described in US Pat. No. 4,069,055, JP-A-4-365049, etc., US Pat. No. 4,069 , 055, 4,069,056, phosphonium salts described in European Patent Nos. 104,143, U.S. Pat. Nos. 339,049, 410,201, The iodonium salts described in the publications of Kaihei 2-150848 and JP-A-2-296514, European Patents 370,693, 390,214, 233,567, 297,443, No. 297,442, U.S. Pat. Nos. 4,933,377, 161,811, 410,201, 339,049, 4,760,0 No. 13, No. 4,734,444, No. 2,833,827, German Patent No. 2,904,626, No. 3,604,580, No. 3,604,581 A sulfonium salt described in each specification; V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt described in C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), and onium salts such as arsonium salts.

特に反応性、安定性の面から好適なものとして、上記オキシムエステル化合物またはオニウム塩（ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩もしくはスルホニウム塩）が挙げられる。   Particularly preferred from the standpoint of reactivity and stability are the oxime ester compounds or onium salts (diazonium salts, iodonium salts or sulfonium salts).

本発明において好適に用いられるオニウム塩は、下記一般式(ＲＩ−Ｉ)〜(ＲＩ−III)で表されるオニウム塩である。   The onium salts preferably used in the present invention are onium salts represented by the following general formulas (RI-I) to (RI-III).

Figure 2005297517
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式（ＲＩ−Ｉ）中、Ａｒ11は置換基を１〜６個有していてもよい炭素数２０以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルケニル基、炭素数１〜１２のアルキニル基、炭素数１〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキルアミノ基、炭素数１〜１２のジアルキルアミノ基、炭素数１〜１２のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数１〜１２のチオアルキル基、炭素数１〜１２のチオアリール基が挙げられる。Ｚ11 -は１価の陰イオンを表し、具体的には、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも安定性の面から、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオンおよびスルフィン酸イオンが好ましい。 In the formula (RI-I), Ar 11 represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and a carbon number. 1-12 alkenyl group, C1-C12 alkynyl group, C1-C12 aryl group, C1-C12 alkoxy group, C1-C12 aryloxy group, halogen atom, C1-C1 12 alkylamino groups, C1-C12 dialkylamino groups, C1-C12 alkylamide groups or arylamide groups, carbonyl groups, carboxyl groups, cyano groups, sulfonyl groups, C1-C12 thioalkyl groups And a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z 11 - represents a monovalent anion, specifically a halogen ion, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, thiosulfonate ion, a sulfate ion Can be mentioned. Among these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion and sulfinate ion are preferable from the viewpoint of stability.

式(ＲＩ−II)中、Ａｒ21およびＡｒ22は、各々独立に置換基を１〜６個有していてもよい炭素数２０以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数1〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルケニル基、炭素数１〜１２のアルキニル基、炭素数１〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキルアミノ基、炭素数１〜１２のジアルキルアミノ基、炭素数１〜１２のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数１〜１２のチオアルキル基、炭素数１〜１２のチオアリール基が挙げられる。Ｚ21 -は１価の陰イオンを表し、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンであり、安定性、反応性の面から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。 In the formula (RI-II), Ar 21 and Ar 22 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents include 1 to 1 carbon atoms. 12 alkyl groups, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms, Halogen atom, C1-C12 alkylamino group, C1-C12 dialkylamino group, C1-C12 alkylamide group or arylamide group, carbonyl group, carboxyl group, cyano group, sulfonyl group, carbon Examples thereof include a thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms and a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z 21 - represents a monovalent anion, a halogen ion, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, thiosulfonate ion, sulfate ion, stability, From the viewpoint of reactivity, perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, and carboxylate ions are preferable.

式（ＲＩ−III）中、Ｒ31、Ｒ32およびＲ33は、各々独立に置換基を１〜６個有していてもよい炭素数２０以下のアリール基またはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基を表す。中でも反応性、安定性の面から好ましいのは、アリール基である。置換基としては、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルケニル基、炭素数１〜１２のアルキニル基、炭素数１〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキルアミノ基、炭素数１〜１２のジアルキルアミノ基、炭素数１〜１２のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数１〜１２のチオアルキル基、炭素数１〜１２のチオアリール基が挙げられる。Ｚ31 -は１価の陰イオンを表す。具体例としては、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも安定性、反応性の面から、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。より好ましいものとして特開２００１−３４３７４２号公報記載のカルボン酸イオン、特に好ましいものとして特開２００２−１４８７９０号公報記載のカルボン酸イオンが挙げられる。 In the formula (RI-III), R 31 , R 32 and R 33 are each independently an aryl group or alkyl group, alkyl group, alkenyl group or alkynyl group having 20 or less carbon atoms, which may have 1 to 6 substituents. Represents. Among them, an aryl group is preferable from the viewpoint of reactivity and stability. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, Aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms, halogen atom, alkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, dialkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, alkylamide group or arylamide group having 1 to 12 carbon atoms, carbonyl group, carboxyl Group, a cyano group, a sulfonyl group, a thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z 31 - represents a monovalent anion. Specific examples include halogen ions, perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, thiosulfonate ions, and sulfate ions. Among these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, and carboxylate ion are preferable from the viewpoints of stability and reactivity. More preferred are the carboxylate ions described in JP-A No. 2001-343742, and particularly preferred are the carboxylate ions described in JP-A No. 2002-148790.

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これらのラジカル重合開始剤の添加量は、感光−感熱層を構成する全固形分に対し好ましくは０．１〜５０質量％、より好ましくは０．５〜３０質量％、さらに好ましくは１〜２０質量％の範囲である。この範囲で、良好な感度と印刷時の非画像部の良好な汚れ難さが得られる。これらのラジカル重合開始剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。また、これらのラジカル重合開始剤は他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。   The addition amount of these radical polymerization initiators is preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5 to 30% by mass, and further preferably 1 to 20% with respect to the total solid content constituting the photosensitive-thermosensitive layer. It is the range of mass%. Within this range, good sensitivity and good stain resistance of the non-image area during printing can be obtained. These radical polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. Moreover, these radical polymerization initiators may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.

＜赤外線吸収剤＞
本発明の感光−感熱層には、赤外線レーザーに対する感度を高めるため、赤外線吸収剤を用いることが好ましい。赤外線吸収剤は、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有している。本発明において使用される赤外線吸収剤は、波長７６０〜１２００ｎｍに吸収極大を有する染料または顔料である。 <Infrared absorber>
In the photosensitive-thermosensitive layer of the present invention, it is preferable to use an infrared absorber in order to increase sensitivity to an infrared laser. The infrared absorber has a function of converting absorbed infrared rays into heat. The infrared absorber used in the present invention is a dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 760 to 1200 nm.

染料としては、市販の染料および例えば「染料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。   As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, etc. Is mentioned.

好ましい染料としては、例えば、特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭６０−７８７８７号等に記載されているシアニン染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号等の公報に記載されているメチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３７４４号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号等の公報に記載されているスクワリリウム色素、英国特許第４３４，８７５号明細書記載のシアニン染料等を挙げることができる。   Examples of preferable dyes include cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-60-78787, JP-A-58-173696, Methine dyes described in JP-A Nos. 58-181690 and 58-194595, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A Naphthoquinone dyes described in JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, etc., squarylium dyes described in JP-A-58-112792, etc., British Patent No. And cyanine dyes described in the specification of 434,875.

また、米国特許第５，１５６，９３８号明細書記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第３，８８１，９２４号明細書記載の置換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号公報（米国特許第４，３２７，１６９号明細書）記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号公報記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３５１４号、同５−１９７０２号公報に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料として好ましい別の例として米国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、（II）として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
また、本発明の赤外線吸収色素の好ましい他の例としては、以下に例示するような特開２００２−２７８０５７号公報記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。 In addition, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) described in US Pat. No. 3,881,924 is also suitable. ) Pyrylium salt, trimethine thiapyrylium salt described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59- 41363, 59-84248, 59-84249, 59-146063, 59-146061, pyranyl compounds described in JP-A-59-216146, cyanine dyes described in US Pat. It is disclosed in the pentamethine thiopyrylium salt described in Japanese Patent No. 4,283,475, and Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702. Pyrylium compounds are also preferably used. Another example of a preferable dye is a near-infrared absorbing dye described in U.S. Pat. No. 4,756,993 as formulas (I) and (II).
Other preferable examples of the infrared absorbing dye of the present invention include specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-2002-278057 as exemplified below.

Figure 2005297517
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これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。さらに、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい一つの例として下記一般式（Ｉ）で示されるシアニン色素が挙げられる。   Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferred, and one particularly preferred example is a cyanine dye represented by the following general formula (I).

Figure 2005297517
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一般式（Ｉ）中、Ｘ1は、水素原子、ハロゲン原子、−ＮＰｈ2、Ｘ2−Ｌ1または以下に示す基を表す。ここで、Ｘ2は酸素原子、窒素原子、または硫黄原子を示し、Ｌ1は、炭素原子数１〜１２の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数１〜１２の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、Ｎ、Ｓ、Ｏ、ハロゲン原子、Ｓｅを示す。Ｘａ-は後述するＺａ-と同様に定義され、Ｒaは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。 In general formula (I), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, —NPh 2 , X 2 -L 1 or a group shown below. Here, X 2 represents an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or 1 to 1 carbon atom containing a hetero atom. 12 hydrocarbon groups are shown. Here, the hetero atom represents N, S, O, a halogen atom, or Se. Xa - the Za described later - is defined as for, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom.

Figure 2005297517
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Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜１２の炭化水素基を示す。記録層塗布液の保存安定性から、Ｒ1およびＲ2は、炭素原子数２個以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、Ｒ1とＲ2とは互いに結合し、５員環または６員環を形成していることが特に好ましい。 R 1 and R 2 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the recording layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ａｒ1、Ａｒ2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環およびナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数１２個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基が挙げられる。Ｙ1、Ｙ2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子または炭素原子数１２個以下のジアルキルメチレン基を示す。Ｒ3、Ｒ4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数２０個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子または炭素原子数１２個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Ｚａ-は、対アニオンを示す。ただし、一般式（Ｉ）で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはＺａ-は必要ない。好ましいＺａ-は、記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびアリールスルホン酸イオンである。 Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Za − represents a counter anion. However, Za − is not necessary when the cyanine dye represented by formula (I) has an anionic substituent in its structure and neutralization of charge is not necessary. Preferred Za − is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, a hexagonal salt, in view of the storage stability of the recording layer coating solution. Fluorophosphate ions and aryl sulfonate ions.

本発明において、好適に用いることのできる一般式（Ｉ）で示されるシアニン色素の具体例としては、特開２００１−１３３９６９号公報の段落番号［００１７］から［００１９］に記載されたものを挙げることができる。
また、特に好ましい他の例としてさらに、前記した特開２００２−２７８０５７号公報に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。 Specific examples of the cyanine dye represented by formula (I) that can be suitably used in the present invention include those described in paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969. be able to.
Further, other particularly preferable examples include specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-2002-278057 described above.

本発明において使用される顔料としては、市販の顔料およびカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔料が利用できる。   Examples of the pigment used in the present invention include commercially available pigments and color index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986), “Printing Ink Technology”, CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.

これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等）を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）および「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。   These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Application of Metal Soap” (Shobobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は０．０１〜１０μｍの範囲にあることが好ましく、０．０５〜１μｍの範囲にあることがさらに好ましく、特に０．１〜１μｍの範囲にあることが好ましい。この範囲で、顔料分散物の感光−感熱層塗布液中での良好な安定性と感光−感熱層の良好な均一性が得られる。   The particle diameter of the pigment is preferably in the range of 0.01 to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 to 1 μm. Within this range, good stability of the pigment dispersion in the light-sensitive layer coating solution and good uniformity of the light-sensitive layer can be obtained.

顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

これらの赤外線吸収剤は、他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。また、マイクロカプセルに内包させて添加することもできる。
添加量としては、ネガ型平版印刷版原版を作成した際に、感光−感熱層の波長７６０ｎｍ〜１２００ｎｍの範囲における極大吸収波長での吸光度が、反射測定法で０．３〜１．２の範囲にあるように添加することが好ましく、より好ましくは、０．４〜１．１の範囲である。この範囲で、感光−感熱層の深さ方向での均一な重合反応が進行し、良好な画像部の膜強度と支持体に対する密着性が得られる。
感光−感熱層の吸光度は、感光−感熱層に添加する赤外線吸収剤の量と感光−感熱層の厚みにより調整することができる。吸光度の測定は常法により行うことができる。測定方法としては、例えば、アルミニウム等の反射性の支持体上に、乾燥後の塗布量が平版印刷版として必要な範囲において適宜決定された厚みの感光−感熱層を形成し、反射濃度を光
学濃度計で測定する方法、積分球を用いた反射法により分光光度計で測定する方法等が挙げられる。 These infrared absorbers may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto. Moreover, it can also be included in a microcapsule and added.
As the addition amount, when a negative lithographic printing plate precursor is prepared, the absorbance at the maximum absorption wavelength in the wavelength range of 760 nm to 1200 nm of the photosensitive-thermosensitive layer is in the range of 0.3 to 1.2 by the reflection measurement method. It is preferable to add so that it may exist in this, More preferably, it is the range of 0.4-1.1. Within this range, a uniform polymerization reaction in the depth direction of the photosensitive-thermosensitive layer proceeds, and good film strength of the image area and adhesion to the support can be obtained.
The absorbance of the photosensitive-thermosensitive layer can be adjusted by the amount of the infrared absorber added to the photosensitive-thermosensitive layer and the thickness of the photosensitive-thermosensitive layer. Absorbance can be measured by a conventional method. As a measuring method, for example, on a reflective support such as aluminum, a photosensitive-thermosensitive layer having a thickness appropriately determined as a lithographic printing plate in a coating amount after drying is formed, and the reflection density is optically measured. Examples thereof include a method of measuring with a densitometer, a method of measuring with a spectrophotometer by a reflection method using an integrating sphere, and the like.

＜その他の感光−感熱層成分＞
本発明のラジカル重合系感光−感熱層には、さらに、バインダーポリマー、界面活性剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機微粒子、低分子親水性化合物などの添加剤を、必要に応じて含有させることができる。以下、それらについて説明する。 <Other photosensitive-thermosensitive layer components>
The radical polymerization type photosensitive-thermosensitive layer of the present invention may further contain additives such as a binder polymer, a surfactant, a polymerization inhibitor, a higher fatty acid derivative, a plasticizer, inorganic fine particles, and a low molecular weight hydrophilic compound as necessary. Can be contained. These will be described below.

＜バインダーポリマー＞
本発明の感光−感熱層には、バインダーポリマーを含有させることができる。本発明に用いることができるバインダーポリマーは、従来公知のものを制限なく使用でき、皮膜性を有する線状有機ポリマーが好ましい。このようなバインダーポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられる。 <Binder polymer>
The photosensitive-thermosensitive layer of the present invention can contain a binder polymer. As the binder polymer that can be used in the present invention, conventionally known binder polymers can be used without limitation, and a linear organic polymer having a film property is preferable. Examples of such binder polymers include acrylic resins, polyvinyl acetal resins, polyurethane resins, polyurea resins, polyimide resins, polyamide resins, epoxy resins, methacrylic resins, polystyrene resins, novolac phenolic resins, polyester resins, and synthetic rubbers. And natural rubber.

バインダーポリマーは、画像部の皮膜強度を向上するために、架橋性を有していることが好ましい。バインダーポリマーに架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を高分子の主鎖中または側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導入してもよい。   The binder polymer preferably has crosslinkability in order to improve the film strength of the image area. In order to impart crosslinkability to the binder polymer, a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond may be introduced into the main chain or side chain of the polymer. The crosslinkable functional group may be introduced by copolymerization.

分子の主鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、ポリ−１，４−ブタジエン、ポリ−１，４−イソプレン等が挙げられる。
分子の側鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、アクリル酸またはメタクリル酸のエステルまたはアミドのポリマーであって、エステルまたはアミドの残基（−ＣＯＯＲまたは−ＣＯＮＨＲのＲ）がエチレン性不飽和結合を有するポリマーを挙げることができる。 Examples of the polymer having an ethylenically unsaturated bond in the main chain of the molecule include poly-1,4-butadiene and poly-1,4-isoprene.
Examples of polymers having an ethylenically unsaturated bond in the side chain of the molecule are polymers of esters or amides of acrylic acid or methacrylic acid where the ester or amide residue (R of -COOR or -CONHR) is Mention may be made of polymers having an ethylenically unsaturated bond.

エチレン性不飽和結合を有する残基（上記Ｒ）の例としては、−（ＣＨ2 ）n ＣＲ1 ＝ＣＲ2 Ｒ3 、−（ＣＨ2 Ｏ）n ＣＨ2 ＣＲ1 ＝ＣＲ2 Ｒ3 、−（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）n ＣＨ2 ＣＲ1 ＝ＣＲ2 Ｒ3 、−（ＣＨ2 ）n ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−ＣＨ2 ＣＲ1 ＝ＣＲ2 Ｒ3 、−（ＣＨ2 ）n −Ｏ−ＣＯ−ＣＲ1 ＝ＣＲ2 Ｒ3 および−（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）2 −Ｘ（式中、Ｒ1 〜Ｒ3 はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子または炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、アルコキシ基もしくはアリールオキシ基を表し、Ｒ1 とＲ2 またはＲ3 とは互いに結合して環を形成してもよい。ｎは、１〜１０の整数を表す。Ｘは、ジシクロペンタジエニル残基を表す。）を挙げることができる。 Examples of the residue (the R) having an ethylenically unsaturated bond, - (CH 2) n CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n NH-CO-O-CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n -O-CO —CR 1 ═CR 2 R 3 and — (CH 2 CH 2 O) 2 —X (wherein R 1 to R 3 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, Represents an alkoxy group or an aryloxy group, and R 1 and R 2 or R 3 may combine with each other to form a ring, n represents an integer of 1 to 10. X represents dicyclopentadienyl. Represents a residue).

エステル残基の具体例としては、−ＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨ2 （特公平７−２１６３３号公報に記載されている。）、−ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨ2 、−ＣＨ2 Ｃ（ＣＨ3 ）＝ＣＨ2 、−ＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ6 Ｈ5 、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−Ｃ6 Ｈ5 、−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＮＨＣＯＯ−ＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨ2 および−ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ−Ｘ（式中、Ｘはジシクロペンタジエニル残基を表す。）が挙げられる。
アミド残基の具体例としては、−ＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨ2 、−ＣＨ2 ＣＨ2 −Ｙ（式中、Ｙはシクロヘキセン残基を表す。）、−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ2 が挙げられる。 Specific examples of the ester residue, -CH 2 CH = CH 2, ( described in JP Kokoku 7-21633.) - CH 2 CH 2 O-CH 2 CH = CH 2, -CH 2 C (CH 3) = CH 2, -CH 2 CH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 OCOCH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 -NHCOO-CH 2 CH = CH 2 and - CH 2 CH 2 O—X (wherein X represents a dicyclopentadienyl residue).
Specific examples of the amide residue include —CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 CH 2 —Y (wherein Y represents a cyclohexene residue), —CH 2 CH 2 —OCO—CH═CH 2. Is mentioned.

架橋性を有するバインダーポリマーは、例えば、その架橋性官能基にフリーラジカル（重合開始ラジカルまたは重合性化合物の重合過程の生長ラジカル）が付加し、ポリマー間で直接にまたは重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。または、ポリマー中の原子（例えば、官能性架橋基に隣接する炭素原子上の水素原子）がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、それが互いに結合することによって、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。   In the case of a binder polymer having crosslinkability, for example, free radicals (polymerization initiation radicals or growth radicals in the polymerization process of a polymerizable compound) are added to the crosslinkable functional group, and a polymerization chain of a polymerizable compound is formed directly between polymers. Through addition polymerization, a cross-link is formed between the polymer molecules and cured. Alternatively, atoms in the polymer (eg, hydrogen atoms on carbon atoms adjacent to the functional bridging group) are abstracted by free radicals to form polymer radicals that are bonded to each other so that crosslinking between the polymer molecules occurs. Forms and cures.

バインダーポリマー中の架橋性基の含有量（ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量）は、バインダーポリマー１ｇ当たり、好ましくは０．１〜１０．０ｍｍｏｌ、より好ましくは１．０〜７．０ｍｍｏｌ、最も好ましくは２．０〜５．５ｍｍｏｌである。この範囲で、良好な感度と良好な保存安定性が得られる。   The content of the crosslinkable group in the binder polymer (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.1 to 10.0 mmol, more preferably 1.0, per 1 g of the binder polymer. -7.0 mmol, most preferably 2.0-5.5 mmol. Within this range, good sensitivity and good storage stability can be obtained.

また、機上現像性向上の観点から、バインダーポリマーは、インキおよび／又湿し水に対する溶解性または分散性が高いことが好ましい。
インキに対する溶解性または分散性を向上させるためには、バインダーポリマーは、親油的な方が好ましく、湿し水に対する溶解性または分散性を向上させるためには、バインダーポリマーは、親水的な方が好ましい。このため、本発明においては、親油的なバインダーポリマーと親水的なバインダーポリマーを併用することも有効である。 From the viewpoint of improving on-press developability, the binder polymer preferably has high solubility or dispersibility in ink and / or fountain solution.
In order to improve the solubility or dispersibility in ink, the binder polymer is preferably lipophilic, and in order to improve the solubility or dispersibility in dampening water, the binder polymer is hydrophilic. Is preferred. Therefore, in the present invention, it is also effective to use a lipophilic binder polymer and a hydrophilic binder polymer in combination.

親水的なバインダーポリマーとしては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、ポリオキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基、スルホン酸基、リン酸基等の親水性基を有するものが好適に挙げられる。   Examples of hydrophilic binder polymers include hydroxy groups, carboxyl groups, carboxylate groups, hydroxyethyl groups, polyoxyethyl groups, hydroxypropyl groups, polyoxypropyl groups, amino groups, aminoethyl groups, aminopropyl groups, and ammonium. Preferred are those having a hydrophilic group such as a group, an amide group, a carboxymethyl group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group.

具体例として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、デンプン誘導体、カルボキシメチルセルロースおよびそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸類およびそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシピロピルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、加水分解度が６０モル％以上、好ましくは８０モル％以上である加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマーおよびポリマー、Ｎ−メチロールアクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、ポリビニルピロリドン、アルコール可溶性ナイロン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパンとエピクロロヒドリンとのポリエーテル等が挙げられる。   Specific examples include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and its sodium salt, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids and their salts, Polymethacrylic acids and their salts, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl acrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl acrylate, homopolymers of hydroxybutyl methacrylate Polymers and copolymers, homopolymers and copolymers of hydroxybutyl acrylate Polyethylene glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, acrylamide homopolymers and copolymers having a hydrolysis degree of 60 mol% or more, preferably 80 mol% or more , Homopolymers and polymers of methacrylamide, homopolymers and copolymers of N-methylolacrylamide, polyvinylpyrrolidone, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, etc. Is mentioned.

バインダーポリマーは、重量平均分子量が５０００以上であるのが好ましく、１万〜３０万であるのがより好ましく、また、数平均分子量が１０００以上であるのが好ましく、２０００〜２５万であるのがより好ましい。多分散度（重量平均分子量／数平均分子量）は、１．１〜１０であるのが好ましい。   The binder polymer preferably has a weight average molecular weight of 5000 or more, more preferably 10,000 to 300,000, and a number average molecular weight of 1,000 or more, preferably 2000 to 250,000. More preferred. The polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 10.

バインダーポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマーのいずれでもよいが、ランダムポリマーがより好ましい。また、バインダーポリマーは単独で用いても２種以上を混合して用いてもよい。   The binder polymer may be any of a random polymer, a block polymer, and a graft polymer, but a random polymer is more preferable. Moreover, a binder polymer may be used independently or may be used in mixture of 2 or more types.

バインダーポリマーは、従来公知の方法により合成することができる。合成する際に用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、エチレングリコール
モノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、２−メトキシエチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、水が挙げられる。これらは単独でまたは２種以上混合して用いられる。
バインダーポリマーを合成する際に用いられるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物開始剤等の公知の化合物を用いることができる。 The binder polymer can be synthesized by a conventionally known method. Solvents used in the synthesis include, for example, tetrahydrofuran, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy. Examples include 2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide, and water. These may be used alone or in combination of two or more.
As the radical polymerization initiator used for synthesizing the binder polymer, known compounds such as an azo initiator and a peroxide initiator can be used.

バインダーポリマーの含有量は、感光−感熱層の全固形分に対して、１０〜９０質量％が好ましく、２０〜８０質量％であるのがより好ましく、３０〜７０質量％であるのがさらに好ましい。この範囲で、良好な画像部の強度と画像形成性が得られる。
また、重合性化合物とバインダーポリマーは、質量比で１／９〜７／３となる量で用いるのが好ましい。 The content of the binder polymer is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 20 to 80% by mass, and still more preferably 30 to 70% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive-thermosensitive layer. . Within this range, good image area strength and image formability can be obtained.
Moreover, it is preferable to use a polymeric compound and a binder polymer in the quantity used as 1 / 9-7 / 3 by mass ratio.

＜界面活性剤＞
本発明において、感光−感熱層には、印刷開始時の機上現像性を促進させるため、および、塗布面状を向上させるために界面活性剤を用いるのが好ましい。界面活性剤としては、ノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、フッ素系界面活性剤等が挙げられる。界面活性剤は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。 <Surfactant>
In the present invention, it is preferable to use a surfactant in the photosensitive-thermosensitive layer in order to promote on-press developability at the start of printing and to improve the coated surface state. Examples of the surfactant include nonionic surfactants, anionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, and fluorosurfactants. Surfactant may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

本発明に用いられるノニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、ショ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、Ｎ，Ｎ−ビス−２−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシド、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールの共重合体が挙げられる。   The nonionic surfactant used for this invention is not specifically limited, A conventionally well-known thing can be used. For example, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan fatty acid partial esters, pentaerythritol Fatty acid partial esters, propylene glycol mono fatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters, Polyoxyethylenated castor oil, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides, N N- bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid ester, trialkylamine oxide, polyethylene glycol, copolymers of polyethylene glycol and polypropylene glycol.

本発明に用いられるアニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、Ｎ−メチル−Ｎ−オレイルタウリンナトリウム塩、Ｎ−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン／無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン／無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類が挙げられる。   The anionic surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known anionic surfactants can be used. For example, fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonates, alkane sulfonates, dialkyl sulfosuccinate esters, linear alkyl benzene sulfonates, branched alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl phenoxy poly Oxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salt, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated beef oil, fatty acid alkyl esters Sulfates, alkyl sulfates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alcohol Ruphenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphates, styrene / maleic anhydride Examples thereof include partial saponification products of polymers, partial saponification products of olefin / maleic anhydride copolymers, and naphthalene sulfonate formalin condensates.

本発明に用いられるカチオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。
本発明に用いられる両性界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミタゾリン類が挙げられる。 The cationic surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known cationic surfactants can be used. Examples thereof include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.
The amphoteric surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known amphoteric surfactants can be used. Examples thereof include carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfuric esters, and imidazolines.

なお、上記界面活性剤の中で、「ポリオキシエチレン」とあるものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン等の「ポリオキシアルキレン」に読み替えることもでき、本発明においては、それらの界面活性剤も用いることができる。   Of the above surfactants, the term “polyoxyethylene” can be read as “polyoxyalkylene” such as polyoxymethylene, polyoxypropylene, polyoxybutylene, etc. These surfactants can also be used.

更に好ましい界面活性剤としては、分子内にパーフルオロアルキル基を含有するフッ素系界面活性剤が挙げられる。このようなフッ素系界面活性剤としては、例えば、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステル等のアニオン型；パーフルオロアルキルベタイン等の両性型；パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩等のカチオン型；パーフルオロアルキルアミンオキサイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基および親水性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基を含有するウレタン等のノニオン型が挙げられる。また、特開昭６２−１７０９５０号、同６２−２２６１４３号および同６０−１６８１４４号の各公報に記載されているフッ素系界面活性剤も好適に挙げられる。   More preferable surfactants include fluorine-based surfactants containing a perfluoroalkyl group in the molecule. Examples of such fluorosurfactants include anionic types such as perfluoroalkyl carboxylates, perfluoroalkyl sulfonates, and perfluoroalkyl phosphates; amphoteric types such as perfluoroalkyl betaines; Cation type such as trimethylammonium salt; perfluoroalkylamine oxide, perfluoroalkylethylene oxide adduct, oligomer containing perfluoroalkyl group and hydrophilic group, oligomer containing perfluoroalkyl group and lipophilic group, perfluoroalkyl Nonionic types such as an oligomer containing a group, a hydrophilic group and a lipophilic group, and a urethane containing a perfluoroalkyl group and a lipophilic group. Moreover, the fluorine-type surfactant described in each gazette of Unexamined-Japanese-Patent No. 62-170950, 62-226143, and 60-168144 is also mentioned suitably.

界面活性剤は、単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
界面活性剤の含有量は、感光−感熱層の全固形分に対して、０．００１〜１０質量％であるのが好ましく、０．０１〜７質量％であるのがより好ましい。 Surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types.
The content of the surfactant is preferably 0.001 to 10% by mass and more preferably 0.01 to 7% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive-thermosensitive layer.

＜重合禁止剤＞
本発明の感光−感熱層には、感光−感熱層の製造中または保存中においてラジカル重合性化合物の不要な熱重合を防止するために、少量の熱重合防止剤を添加するのが好ましい。
熱重合防止剤としては、例えば、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩が好適に挙げられる。
熱重合防止剤の添加量は、感光−感熱層の全固形分に対して、約０．０１〜約５質量％であるのが好ましい。 <Polymerization inhibitor>
A small amount of a thermal polymerization inhibitor is preferably added to the photosensitive-thermosensitive layer of the present invention in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the radical polymerizable compound during the production or storage of the photosensitive-thermosensitive layer.
Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t- (Butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum salt are preferred.
The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01 to about 5% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive-thermosensitive layer.

＜高級脂肪酸誘導体等＞
本発明の感光−感熱層には、酸素による重合阻害を防止するために、ベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で感光−感熱層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、感光−感熱層の全固形分に対して、約０．１〜約１０質量％であるのが好ましい。 <Higher fatty acid derivatives, etc.>
In order to prevent polymerization inhibition due to oxygen, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide or the like is added to the photosensitive-thermosensitive layer of the present invention, and the photosensitive-thermosensitive layer of the photosensitive-thermosensitive layer is dried during coating. It may be unevenly distributed on the surface. The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.1 to about 10% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive-thermosensitive layer.

＜可塑剤＞
本発明の感光−感熱層は、機上現像性を向上させるために、可塑剤を含有してもよい。
可塑剤としては、例えば、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフタレート、オクチルカプリルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジアリルフタレート等のフタル酸エステル類；ジメチルグリコールフタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、トリエチレングリコールジカプリル酸エステル等のグリコールエステル類；トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類；ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレエート等の脂肪族二塩基酸エステル類；ポリグリシジルメタクリレート、クエン酸トリエチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチル等が好適に挙げられる。
可塑剤の含有量は、感光−感熱層の全固形分に対して、約３０質量％以下であるのが好ましい。 <Plasticizer>
The photosensitive-thermosensitive layer of the present invention may contain a plasticizer in order to improve the on-press developability.
Examples of the plasticizer include phthalates such as dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diisobutyl phthalate, dioctyl phthalate, octyl capryl phthalate, dicyclohexyl phthalate, ditridecyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diisodecyl phthalate, diallyl phthalate; Glycol esters such as glycol phthalate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalyl ethyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, triethylene glycol dicaprylate; Phosphate esters such as tricresyl phosphate and triphenyl phosphate Diisobutyl adipate, dioctyl adipate, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, dioct Ruazereto, aliphatic dibasic acid esters such as dibutyl maleate; polyglycidyl methacrylate, triethyl citrate, glycerin triacetyl ester, butyl laurate in.
The content of the plasticizer is preferably about 30% by mass or less with respect to the total solid content of the photosensitive-thermosensitive layer.

＜無機微粒子＞
本発明の感光−感熱層は、画像部の硬化皮膜強度向上および非画像部の機上現像性向上のために、無機微粒子を含有してもよい。
無機微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化チタン、炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウムまたはこれらの混合物が好適に挙げられる。これらは光熱変換性でなくても、皮膜の強化、表面粗面化による界面接着性の強化等に用いることができる。
無機微粒子は、平均粒径が５ｎｍ〜１０μｍであるのが好ましく、０．５〜３μｍであるのがより好ましい。上記範囲であると、感光−感熱層中に安定に分散して、感光−感熱層の膜強度を十分に保持し、印刷時の汚れを生じにくい親水性に優れる非画像部を形成することができる。
上述したような無機微粒子は、コロイダルシリカ分散物等の市販品として容易に入手することができる。
無機微粒子の含有量は、感光−感熱層の全固形分に対して、２０質量％以下であるのが好ましく、１０質量％以下であるのがより好ましい。 <Inorganic fine particles>
The photosensitive-thermosensitive layer of the present invention may contain inorganic fine particles for improving the strength of the cured film in the image area and improving the on-press developability of the non-image area.
As the inorganic fine particles, for example, silica, alumina, magnesium oxide, titanium oxide, magnesium carbonate, calcium alginate or a mixture thereof can be preferably mentioned. Even if they are not photothermally convertible, they can be used for strengthening the film, enhancing interfacial adhesion by surface roughening, and the like.
The inorganic fine particles preferably have an average particle size of 5 nm to 10 μm, and more preferably 0.5 to 3 μm. Within the above range, it is possible to stably disperse in the photosensitive-thermosensitive layer, sufficiently maintain the film strength of the photosensitive-thermosensitive layer, and form a non-image portion having excellent hydrophilicity that hardly causes stains during printing. it can.
The inorganic fine particles as described above can be easily obtained as a commercial product such as a colloidal silica dispersion.
The content of the inorganic fine particles is preferably 20% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less, based on the total solid content of the photosensitive-thermosensitive layer.

＜低分子親水性化合物＞
本発明の感光−感熱層は、機上現像性向上のため、親水性低分子化合物を含有してもよい。親水性低分子化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類およびそのエーテルまたはエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール等のポリヒドロキシ類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミンモノエタノールアミン等の有機アミン類およびその塩、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類およびその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類およびその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類およびその塩等が上げられる。 <Low molecular hydrophilic compound>
The photosensitive-thermosensitive layer of the present invention may contain a hydrophilic low molecular weight compound for improving on-press developability. Examples of the hydrophilic low-molecular compound include water-soluble organic compounds such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol and the like, and ether or ester derivatives thereof, glycerin, Polyhydroxys such as pentaerythritol, organic amines such as triethanolamine and diethanolamine monoethanolamine and salts thereof, organic sulfonic acids such as toluenesulfonic acid and benzenesulfonic acid and salts thereof, organic phosphonic acids such as phenylphosphonic acid and the like Examples thereof include organic carboxylic acids such as salts thereof, tartaric acid, oxalic acid, citric acid, malic acid, lactic acid, gluconic acid and amino acids, and salts thereof.

＜ラジカル重合系感光−感熱層の形成＞
本発明においては、上記の感光−感熱層構成成分を感光−感熱層に含有させる方法として、いくつかの態様を用いることができる。一つは、例えば、特開２００２−２８７３３４号公報に記載のごとく、該構成成分を適当な溶媒に溶解して塗布する態様であり、もう一つは、例えば、特開２００１−２７７７４０号公報、特開２００１−２７７７４２号公報に記載のごとく、感光−感熱層の構成成分をマイクロカプセルに内包させて感光−感熱層に含有させる態様（マイクロカプセル型感光−感熱層）である。さらに、マイクロカプセル型感光−感熱層において、該構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。マイクロカプセル型感光−感熱層においては、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性構成成分をマイクロカプセル外に含有させることがより好ましい態様である。
また、前記の色画像形成用の発色剤または顕色剤を、上記の印刷画像形成成分のいずれかと同じマイクロカプセルに内包させることもできる。 <Formation of radical polymerization type photosensitive-thermosensitive layer>
In the present invention, several modes can be used as a method for incorporating the above-mentioned photosensitive-thermosensitive layer components into the photosensitive-thermosensitive layer. One is, for example, an embodiment in which the constituent components are dissolved and applied in an appropriate solvent as described in JP-A-2002-287334, and the other is, for example, JP-A-2001-277740, As described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-277742, it is an embodiment (microcapsule type photosensitive-thermosensitive layer) in which the constituent components of the photosensitive-thermosensitive layer are encapsulated in microcapsules and contained in the photosensitive-thermosensitive layer. Further, in the microcapsule type photosensitive-thermosensitive layer, the constituent component may be contained outside the microcapsule. In the microcapsule type photosensitive-thermosensitive layer, it is a more preferable embodiment that the hydrophobic constituent component is encapsulated in the microcapsule and the hydrophilic constituent component is contained outside the microcapsule.
The color forming agent or developer for forming a color image can be encapsulated in the same microcapsule as any one of the above-described printing image forming components.

上記の感光−感熱層構成成分のマイクロカプセル化には、発色剤または顕色剤のマイクロカプセル化について前記した方法と同じ方法が適用できる。   The same method as described above for the microencapsulation of the color former or the developer can be applied to the microencapsulation of the photosensitive-thermosensitive layer constituents.

上記のマイクロカプセルの平均粒径は、０．０１〜３．０μｍが好ましい。０．０５〜２．０μｍがさらに好ましく、０．１０〜１．０μｍが特に好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。   The average particle size of the microcapsules is preferably 0.01 to 3.0 μm. 0.05-2.0 micrometers is further more preferable, and 0.10-1.0 micrometer is especially preferable. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained.

本発明の感光−感熱層は、必要な上記各成分を溶剤に分散、または溶かして塗布液を調製し、塗布される。ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン、水等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。これらの溶剤は、単独または混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは１〜５０質量％である。
本発明の感光−感熱層は、同一または異なる上記各成分を同一または異なる溶剤に分散、または溶かした塗布液を複数調製し、複数回の塗布、乾燥を繰り返して形成することも可能である。 The photosensitive-thermosensitive layer of the present invention is coated by preparing a coating solution by dispersing or dissolving the necessary components described above in a solvent. Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, toluene, water and the like. However, the present invention is not limited to this. These solvents are used alone or in combination. The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by mass.
The photosensitive-thermosensitive layer of the present invention can be formed by preparing a plurality of coating solutions in which the same or different components are dispersed or dissolved in the same or different solvents, and repeatedly applying and drying a plurality of times.

また塗布、乾燥後に得られる支持体上の感光−感熱層塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、一般的に０．３〜３．０ｇ／ｍ2が好ましい。この範囲で、良好な感度と感光−感熱層の良好な皮膜特性が得られる。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げられる。 The coating, exposure of the support after drying - thermosensitive layer coating amount (solid content) may be varied according to the intended purpose, generally 0.3 to 3.0 g / m 2 is preferred. Within this range, good sensitivity and good film properties of the photosensitive-thermosensitive layer can be obtained.
Various methods can be used as a coating method. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

〔II〕疎水化前駆体系の画像形成要素
＜疎水性化前駆体＞
本発明において疎水性化前駆体とは、熱が加えられたときに親水性の感光−感熱層を疎水性に変換できる微粒子である。この微粒子としては、熱可塑性ポリマー微粒子および熱反応性ポリマー微粒子から選ばれる少なくともひとつの微粒子であることが好ましい。また、熱反応性基を有する化合物を内包したマイクロカプセルであってもよい。 [II] Image forming element of hydrophobized precursor system <Hydrophobicized precursor>
In the present invention, the hydrophobized precursor is a fine particle capable of converting a hydrophilic photosensitive-thermosensitive layer to hydrophobic when heat is applied. The fine particles are preferably at least one fine particle selected from thermoplastic polymer fine particles and heat-reactive polymer fine particles. Moreover, the microcapsule which included the compound which has a thermoreactive group may be sufficient.

本発明の感光−感熱層に用いられる熱可塑性ポリマー微粒子としては、１９９２年１月のResearch Disclosure No.３３３０３、特開平９−１２３３８７号公報、同９−１３１８５０号公報、同９−１７１２４９号公報、同９−１７１２５０号公報およびＥＰ９３１６４７号公報などに記載の熱可塑性ポリマー微粒子を好適なものとして挙げることができる。かかるポリマー微粒子を構成するポリマーの具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾールなどのモノマーのホモポリマーもしくはコポリマーまたはそれらの混合物を挙げることができる。その中で、より好適なものとして、ポリスチレン、ポリメタクリル酸メチルを挙げることができる。   As thermoplastic polymer fine particles used in the photosensitive-thermosensitive layer of the present invention, Research Disclosure No. 33303 of January 1992, JP-A-9-123387, JP-A-9-131850, JP-A-9-171249, The thermoplastic polymer fine particles described in JP-A-9-171250 and EP931647 can be mentioned as preferable examples. Specific examples of the polymer constituting the polymer fine particle include homopolymers of monomers such as ethylene, styrene, vinyl chloride, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, vinylidene chloride, acrylonitrile, vinyl carbazole, or the like. Mention may be made of copolymers or mixtures thereof. Among them, more preferred are polystyrene and polymethyl methacrylate.

本発明に用いられる熱可塑性ポリマー微粒子の平均粒径は０．０１〜２．０μｍが好ま
しい。このような熱可塑性ポリマー微粒子の合成方法としては、乳化重合法、懸濁重合法の他に、これら化合物を非水溶性の有機溶剤に溶解し、これを分散剤が入った水溶液と混合乳化し、さらに熱をかけて、有機溶剤を飛ばしながら微粒子状に固化させる方法（溶解分散法）がある。 The average particle size of the thermoplastic polymer fine particles used in the present invention is preferably 0.01 to 2.0 μm. As a method for synthesizing such thermoplastic polymer fine particles, in addition to emulsion polymerization and suspension polymerization, these compounds are dissolved in a water-insoluble organic solvent, and this is mixed and emulsified with an aqueous solution containing a dispersant. Further, there is a method (solution dispersion method) in which heat is further applied to solidify into fine particles while the organic solvent is being blown away.

本発明に用いられる熱反応性ポリマー微粒子としては、熱硬化性ポリマー微粒子および熱反応性基を有するポリマー微粒子が挙げられる。   Examples of the heat-reactive polymer fine particles used in the present invention include thermosetting polymer fine particles and polymer fine particles having a heat-reactive group.

上記熱硬化性ポリマーとしては、フェノール骨格を有する樹脂、尿素系樹脂（例えば、尿素またはメトキシメチル化尿素など尿素誘導体をホルムアルデヒドなどのアルデヒド類により樹脂化したもの）、メラミン系樹脂（例えば、メラミンまたはその誘導体をホルムアルデヒドなどのアルデヒド類により樹脂化したもの）、アルキド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂等を挙げることができる。中でも、特に好ましいのは、フェノール骨格を有する樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂およびエポキシ樹脂である。   Examples of the thermosetting polymer include a resin having a phenol skeleton, a urea resin (for example, urea or a derivatized urea derivative such as methoxymethylated urea with an aldehyde such as formaldehyde), a melamine resin (for example, melamine or Examples thereof include those obtained by converting the derivatives into resins with aldehydes such as formaldehyde, alkyd resins, unsaturated polyester resins, polyurethane resins, and epoxy resins. Among these, resins having a phenol skeleton, melamine resins, urea resins and epoxy resins are particularly preferable.

好適なフェノール骨格を有する樹脂としては、例えば、フェノール、クレゾールなどをホルムアルデヒドなどのアルデヒド類により樹脂化したフェノール樹脂、ヒドロキシスチレン樹脂、およびＮ−（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、ｐ−ヒドロキシフェニルメタクリレートなどのフェノール骨格を有するメタクリルアミドもしくはアクリルアミドまたはメタクリレートもしくはアクリレートの重合体または共重合体を挙げることができる。   Suitable resins having a phenol skeleton include, for example, phenol resins obtained by converting phenol, cresol and the like with aldehydes such as formaldehyde, hydroxystyrene resins, N- (p-hydroxyphenyl) methacrylamide, and p-hydroxyphenyl methacrylate. Examples thereof include a polymer or copolymer of methacrylamide or acrylamide or methacrylate or acrylate having a phenol skeleton.

本発明に用いられる熱硬化性ポリマー微粒子の平均粒径は０．０１〜２．０μｍが好ましい。このような熱硬化性ポリマー微粒子は、溶解分散法で容易に得られるが、熱硬化性ポリマーを合成する際に微粒子化してもよい。しかし、これらの方法に限らない。   The average particle diameter of the thermosetting polymer fine particles used in the present invention is preferably 0.01 to 2.0 μm. Such thermosetting polymer fine particles can be easily obtained by a solution dispersion method, but may be formed into fine particles when the thermosetting polymer is synthesized. However, it is not restricted to these methods.

本発明に用いる熱反応性基を有するポリマー微粒子の熱反応性基としては、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよいが、ラジカル重合反応を行うエチレン性不飽和基（例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など）、カチオン重合性基（例えば、ビニル基、ビニルオキシ基など）、付加反応を行うイソシアナート基またはそのブロック体、エポキシ基、ビニルオキシ基およびこれらの反応相手である活性水素原子を有する官能基（例えば、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基など）、縮合反応を行うカルボキシル基および反応相手であるヒドロキシル基またはアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物および反応相手であるアミノ基またはヒドロキシル基などを好適なものとして挙げることができる。   The thermally reactive group of the polymer fine particle having a thermally reactive group used in the present invention may be any functional group that undergoes a reaction as long as a chemical bond is formed, but is an ethylenically unsaturated group that undergoes a radical polymerization reaction. Group (for example, acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, allyl group, etc.), cationically polymerizable group (for example, vinyl group, vinyloxy group, etc.), isocyanate group that performs addition reaction or its block, epoxy group, vinyloxy group And a functional group having an active hydrogen atom as a reaction partner thereof (for example, an amino group, a hydroxyl group, a carboxyl group, etc.), a carboxyl group for performing a condensation reaction, a hydroxyl group or an amino group as a reaction partner, a ring-opening addition reaction Suitable acid anhydride and reaction partner amino group or hydroxyl group It can gel.

これらの官能基のポリマー微粒子への導入は、重合時に行ってもよいし、重合後に高分子反応を利用して行ってもよい。   The introduction of these functional groups into the polymer fine particles may be performed at the time of polymerization, or may be performed using a polymer reaction after the polymerization.

重合時に導入する場合は、上記の官能基を有するモノマーを乳化重合または懸濁重合することが好ましい。上記の官能基を有するモノマーの具体例として、アリルメタクリレート、アリルアクリレート、ビニルメタクリレート、ビニルアクリレート、２−（ビニルオキシ）エチルメタクリレート、ｐ−ビニルオキシスチレン、ｐ−｛２−（ビニルオキシ）エチル｝スチレン、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、２−イソシアナートエチルメタクリレートまたはそのアルコールなどによるブロックイソシアナート、２−イソシアナートエチルアクリレートまたはそのアルコールなどによるブロックイソシアナート、２−アミノエチルメタクリレート、２−アミノエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、２官能アクリレート、２官能メタクリレートなどが挙げられる
が、これらに限定されない。 When introduced at the time of polymerization, the monomer having the above functional group is preferably subjected to emulsion polymerization or suspension polymerization. Specific examples of the monomer having the above functional group include allyl methacrylate, allyl acrylate, vinyl methacrylate, vinyl acrylate, 2- (vinyloxy) ethyl methacrylate, p-vinyloxystyrene, p- {2- (vinyloxy) ethyl} styrene, Block isocyanate with glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, 2-isocyanatoethyl methacrylate or alcohol thereof, block isocyanate with 2-isocyanatoethyl acrylate or alcohol, 2-aminoethyl methacrylate, 2-aminoethyl acrylate, 2- Hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, bifunctional acrylate, Such as functional methacrylates include, but are not limited to.

本発明では、これらのモノマーと、これらのモノマーと共重合可能な、熱反応性基をもたないモノマーとの共重合体も用いることができる。熱反応性基をもたない共重合モノマーとしては、例えば、スチレン、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート、アクリロニトリル、酢酸ビニルなどを挙げることができるが、熱反応性基をもたないモノマーであれば、これらに限定されない。   In the present invention, a copolymer of these monomers and a monomer that is copolymerizable with these monomers and does not have a thermally reactive group can also be used. Examples of the copolymer monomer having no heat-reactive group include styrene, alkyl acrylate, alkyl methacrylate, acrylonitrile, vinyl acetate, and the like. It is not limited to.

熱反応性基の導入を重合後に行う場合に用いる高分子反応としては、例えば、国際公開第９６／３４３１６号パンフレットに記載されている高分子反応を挙げることができる。   Examples of the polymer reaction used when the introduction of the thermally reactive group is carried out after the polymerization include the polymer reaction described in International Publication No. 96/34316 pamphlet.

上記熱反応性基を有するポリマー微粒子の中で、ポリマー微粒子同志が熱により合体するものが好ましく、その表面は親水性で水に分散するものが特に好ましい。ポリマー微粒子のみを塗布し、凝固温度よりも低い温度で乾燥して作製した皮膜の接触角（空中水滴）が、凝固温度より高い温度で乾燥して作製した皮膜の接触角（空中水滴）よりも低くなることが好ましい。このようにポリマー微粒子表面を親水性にするには、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコールなどの親水性ポリマーもしくはオリゴマーまたは親水性低分子化合物をポリマー微粒子表面に吸着させてやればよい。しかし、表面親水化の方法は、これに限定されない。   Among the polymer fine particles having a heat-reactive group, those in which the polymer fine particles are coalesced by heat are preferable, and those having a hydrophilic surface and being dispersed in water are particularly preferable. The contact angle (water droplets) of the film prepared by applying only polymer fine particles and drying at a temperature lower than the solidification temperature is higher than the contact angle (water droplets) of the film prepared by drying at a temperature higher than the solidification temperature. It is preferable to lower. In order to make the surface of the polymer fine particles hydrophilic in this way, a hydrophilic polymer or oligomer such as polyvinyl alcohol or polyethylene glycol or a hydrophilic low molecular weight compound may be adsorbed on the surface of the polymer fine particles. However, the surface hydrophilization method is not limited to this.

これらの熱反応性基を有するポリマー微粒子の凝固温度は、７０℃以上が好ましいが、経時安定性を考えると１００℃以上がさらに好ましい。ポリマー微粒子の平均粒径は、０．０１〜２．０μｍが好ましいが、その中でも０．０５〜２．０μｍがさらに好ましく、特に０．１〜１．０μｍが最適である。この範囲内で良好な解像度および経時安定性が得られる。   The solidification temperature of the polymer fine particles having these thermoreactive groups is preferably 70 ° C. or higher, but more preferably 100 ° C. or higher in view of the stability over time. The average particle size of the polymer fine particles is preferably 0.01 to 2.0 μm, more preferably 0.05 to 2.0 μm, and most preferably 0.1 to 1.0 μm. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained.

本発明に用いられる熱反応性基を有する化合物を内包するマイクロカプセルにおける熱反応性基としては、前記の熱反応性基を有するポリマー微粒子に用いられるものと同じ熱反応性基を好適なものとして挙げることができる。以下に、熱反応性基を有する化合物について説明する。   As the heat-reactive group in the microcapsule encapsulating the compound having a heat-reactive group used in the present invention, the same heat-reactive group as that used for the polymer fine particles having the heat-reactive group is preferable. Can be mentioned. Below, the compound which has a thermoreactive group is demonstrated.

ラジカル重合性不飽和基を有する化合物としては、前記ラジカル重合系のマイクロカプセルように示したのと同じ化合物が好適に用いられる。   As the compound having a radical polymerizable unsaturated group, the same compounds as those shown as the radical polymerization type microcapsules are preferably used.

本発明に好適なビニルオキシ基を有する化合物としては、特開２００２−２９１６２号公報に記載の化合物が挙げられる。具体例として、テトラメチレングリコールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、１，４−ビス｛２−（ビニルオキシ）エチルオキシ｝ベンゼン、１，２−ビス｛２−（ビニルオキシ）エチルオキシ｝ベンゼン、１，３−ビス｛２−（ビニルオキシ）エチルオキシ｝ベンゼン、１，３，５−トリス｛２−（ビニルオキシ）エチルオキシ｝ベンゼン、４，４´−ビス｛２−（ビニルオキシ）エチルオキシ｝ビフェニル、４，４´−ビス｛２−（ビニルオキシ）エチルオキシ｝ジフェニルエーテル、４，４´−ビス｛２−（ビニルオキシ）エチルオキシ｝ジフェニルメタン、１，４−ビス｛２−（ビニルオキシ）エチルオキシ｝ナフタレン、２，５−ビス｛２−（ビニルオキシ）エチルオキシ｝フラン、２，５−ビス｛２−（ビニルオキシ）エチルオキシ｝チオフェン、２，５−ビス｛２−（ビニルオキシ）エチルオキシ｝イミダゾール、２，２−ビス［４−｛２−（ビニルオキシ）エチルオキシ｝フェニル］プロパン｛ビスフェノールAのビス（ビニルオキシエチル）エーテル｝、２，２−ビス｛４−（ビニルオキシメチルオキシ）フェニル｝プロパン、２，２−ビス｛４−（ビニルオキシ）フェニル｝プロパンなどが挙げられるが、これに限定されるものではない。   Examples of the compound having a vinyloxy group suitable for the present invention include compounds described in JP-A-2002-29162. Specific examples include tetramethylene glycol divinyl ether, trimethylolpropane trivinyl ether, tetraethylene glycol divinyl ether, pentaerythritol divinyl ether, pentaerythritol trivinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, 1,4-bis {2- (vinyloxy) ethyloxy} Benzene, 1,2-bis {2- (vinyloxy) ethyloxy} benzene, 1,3-bis {2- (vinyloxy) ethyloxy} benzene, 1,3,5-tris {2- (vinyloxy) ethyloxy} benzene, 4 , 4′-bis {2- (vinyloxy) ethyloxy} biphenyl, 4,4′-bis {2- (vinyloxy) ethyloxy} diphenyl ether, 4,4′-bis {2- (vinyloxy) ester Ruoxy} diphenylmethane, 1,4-bis {2- (vinyloxy) ethyloxy} naphthalene, 2,5-bis {2- (vinyloxy) ethyloxy} furan, 2,5-bis {2- (vinyloxy) ethyloxy} thiophene, , 5-bis {2- (vinyloxy) ethyloxy} imidazole, 2,2-bis [4- {2- (vinyloxy) ethyloxy} phenyl] propane {bis (vinyloxyethyl) ether of bisphenol A}, 2,2- Examples include, but are not limited to, bis {4- (vinyloxymethyloxy) phenyl} propane, 2,2-bis {4- (vinyloxy) phenyl} propane, and the like.

本発明に好適なエポキシ基を有する化合物としては、２個以上エポキシ基を有する化合物が好ましく、多価アルコールや多価フェノールなどとエピクロロヒドリンとの反応によって得られるグリシジルエーテル化合物またはそのプレポリマー、更に、アクリル酸グリシジルまたはメタクリ酸グリシジルの重合体もしくは共重合体等を挙げることができる。   As the compound having an epoxy group suitable for the present invention, a compound having two or more epoxy groups is preferable, and a glycidyl ether compound or a prepolymer thereof obtained by reaction of a polyhydric alcohol, a polyhydric phenol or the like with epichlorohydrin. Furthermore, a polymer or copolymer of glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate can be used.

具体例としては、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル、ヒドロキノンジグリシジルエーテル、レソルシノールジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテルまたはエピクロロヒドリン重付加物、ビスフェノールＦのジグリシジルエーテルまたはエピクロロヒドリン重付加物、ハロゲン化ビスフェノールＡのジグリシジルエーテルまたはエピクロロヒドリン重付加物、ビフェニル型ビスフェノールのジグリシジルエーテルまたはエピクロロヒドリン重付加物、ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物等、更に、メタクリ酸メチル／メタクリ酸グリシジル共重合体、メタクリ酸エチル／メタクリ酸グリシジル共重合体等が挙げられる。   Specific examples include propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, diglycidyl ether of hydrogenated bisphenol A, hydroquinone diglycidyl. Ether, resorcinol diglycidyl ether, diglycidyl ether or epichlorohydrin polyadduct of bisphenol A, diglycidyl ether or epichlorohydrin polyadduct of bisphenol F, diglycidyl ether or epichlorohydride of halogenated bisphenol A Phosphorus polyadduct, diglycidyl ether of biphenyl type bisphenol or epichlorohydrin polyadduct, Novo Click glycidyl ethers such as a resin, further, methyl methacrylate / glycidyl methacrylate copolymer, methacrylic acid ethyl / glycidyl methacrylate copolymer, and the like.

上記化合物の市販品としては、例えば、ジャパンエポキシレジン（株）製のエピコート１００１（分子量約９００、エポキシ当量４５０〜５００）、エピコート１００２（分子量約１６００、エポキシ当量６００〜７００）、エピコート１００４（約１０６０、エポキシ当量８７５〜９７５）、エピコート１００７（分子量約２９００、エポキシ当量２０００）、エピコート１００９（分子量約３７５０、エポキシ当量３０００）、エピコート１０１０（分子量約５５００、エポキシ当量４０００）、エピコート１１００Ｌ（エポキシ当量４０００）、エピコートＹＸ３１５７５（エポキシ当量１２００）、住友化学（株）製のスミエポキシＥＳＣＮ−１９５ＸＨＮ、ＥＳＣＮ−１９５ＸＬ、ＥＳＣＮ−１９５ＸＦ等を挙げることができる。   Commercially available products of the above compounds include, for example, Epicoat 1001 (molecular weight: about 900, epoxy equivalent: 450 to 500), Epicoat 1002 (molecular weight: about 1600, epoxy equivalent: 600 to 700), Epicoat 1004 (about) manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd. 1060, epoxy equivalent 875-975), Epicoat 1007 (molecular weight about 2900, epoxy equivalent 2000), Epicoat 1009 (molecular weight about 3750, epoxy equivalent 3000), Epicoat 1010 (molecular weight about 5500, epoxy equivalent 4000), Epicoat 1100L (epoxy equivalent) 4000), Epikote YX31575 (epoxy equivalent 1200), Sumitomo Chemical Co., Ltd. Sumiepoxy ESCN-195XHN, ESCN-195XL, ESCN-195XF, and the like.

本発明に好適なイソシアナート化合物としては、トリレンジイソシアナート、ジフェニルメタンジイソシアナート、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアナート、キシリレンジイソシアナート、ナフタレンジイソシアナート、シクロヘキサンフェニレンジイソシアナート、イソホロンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナート、シクロヘキシルジイソシアナート、または、これらをアルコールもしくはアミンでブロックした化合物を挙げることができる。   Suitable isocyanate compounds for the present invention include tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, polymethylene polyphenyl polyisocyanate, xylylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, cyclohexanephenylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, Examples include hexamethylene diisocyanate, cyclohexyl diisocyanate, and compounds obtained by blocking these with alcohol or amine.

本発明に好適なアミン化合物としては、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ヘキサメチレンジアミン、プロピレンジアミン、ポリエチレンイミンなどが挙げられる。   Suitable amine compounds for the present invention include ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, hexamethylenediamine, propylenediamine, polyethyleneimine and the like.

本発明に好適なヒドロキシル基を有する化合物としては、末端メチロール基を有する化合物、ペンタエリスリトールなどの多価アルコール、ビスフェノール・ポリフェノール類などを挙げることができる。   Examples of the compound having a hydroxyl group suitable for the present invention include a compound having a terminal methylol group, a polyhydric alcohol such as pentaerythritol, and bisphenol / polyphenols.

本発明に好適なカルボキシル基を有する化合物としては、ピロメリット酸、トリメリット酸、フタル酸などの芳香族多価カルボン酸、アジピン酸などの脂肪族多価カルボン酸などが挙げられる。本発明に好適な酸無水物としては、ピロメリット酸無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物などが挙げられる。   Examples of the compound having a carboxyl group suitable for the present invention include aromatic polyvalent carboxylic acids such as pyromellitic acid, trimellitic acid and phthalic acid, and aliphatic polyvalent carboxylic acids such as adipic acid. Suitable acid anhydrides for the present invention include pyromellitic acid anhydride and benzophenone tetracarboxylic acid anhydride.

上記の熱反応性基を有する化合物のマイクロカプセル化は、ラジカル重合系の説明で前
記した公知の方法で行うことができる。 Microencapsulation of the above-mentioned compound having a thermoreactive group can be performed by the known method described above in the explanation of the radical polymerization system.

＜その他の感光−感熱層成分＞
本発明の感光−感熱層には、機上現像性や感光−感熱層自体の皮膜強度向上のため親水性樹脂を含有させることができる。親水性樹脂としては、例えばヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基、アミド基などの親水基を有するものが好ましい。また、親水性樹脂は、疎水化前駆体の有する熱反応性基と反応し架橋することによって画像強度が高まり、高耐刷化されるので、熱反応性基と反応する基を有することが好ましい。例えば、疎水化前駆体がビニルオキシ基またはエポキシ基を有する場合は、親水性樹脂としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基などを有するものが好ましい。中でも、ヒドロキシル基またはカルボキシル基を有する親水性樹脂が好ましい。 <Other photosensitive-thermosensitive layer components>
The photosensitive-thermosensitive layer of the present invention may contain a hydrophilic resin in order to improve the on-press developability and the film strength of the photosensitive-thermosensitive layer itself. As hydrophilic resin, what has hydrophilic groups, such as a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, a phosphoric acid group, a sulfonic acid group, an amide group, is preferable, for example. The hydrophilic resin preferably has a group that reacts with the heat-reactive group because it reacts with the heat-reactive group of the hydrophobizing precursor and crosslinks to increase the image strength. . For example, when the hydrophobizing precursor has a vinyloxy group or an epoxy group, the hydrophilic resin preferably has a hydroxyl group, a carboxyl group, a phosphoric acid group, a sulfonic acid group, or the like. Among these, a hydrophilic resin having a hydroxyl group or a carboxyl group is preferable.

親水性樹脂の具体例として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、ソヤガム、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロースおよびそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸類およびそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、加水分解度が少なくとも６０モル％、好ましくは少なくとも８０モル％の加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、Ｎ−メチロールアクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、２−アクリルアミド−２−メチル−１−プロパンスルホン酸のホモポリマーおよびコポリマー、２−メタクロイルオキシエチルホスホン酸のホモポリマーおよびコポリマー等を挙げることができる。   Specific examples of hydrophilic resins include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, soya gum, hydroxypropylcellulose, methylcellulose, carboxymethylcellulose and its sodium salt, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-malein Acid copolymers, polyacrylic acids and salts thereof, polymethacrylic acids and salts thereof, hydroxyethyl methacrylate homopolymers and copolymers, hydroxyethyl acrylate homopolymers and copolymers, hydroxypropyl methacrylate homopolymers and copolymers, hydroxypropyl acrylate Homopolymers and copolymers, hydroxybutyl methacrylate homopolymers and copolymers , Homopolymers and copolymers of hydroxybutyl acrylate, polyethylene glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, hydrolyzed polyvinyl acetate having a degree of hydrolysis of at least 60 mol%, preferably at least 80 mol%, polyvinyl formal, polyvinyl pyrrolidone Homopolymers and copolymers of acrylamide, homopolymers and copolymers of methacrylamide, homopolymers and copolymers of N-methylolacrylamide, homopolymers and copolymers of 2-acrylamido-2-methyl-1-propanesulfonic acid, 2-methacryloyloxy Mention may be made of homopolymers and copolymers of ethylphosphonic acid.

上記親水性樹脂の感光−感熱層への添加量は、２０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましい。   The amount of the hydrophilic resin added to the photosensitive-thermosensitive layer is preferably 20% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less.

また、上記親水性樹脂は印刷機上で未露光部が機上現像できる程度に架橋して用いてもよい。架橋剤としては、グリオキザール、メラミンホルムアルデヒド樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂などのアルデヒド類、Ｎ−メチロール尿素やＮ−メチロールメラミン、メチロール化ポリアミド樹脂などのメチロール化合物、ジビニルスルホンやビス（β−ヒドロキシエチルスルホン酸）などの活性ビニル化合物、エピクロルヒドリンやポリエチレングリコ−ルジグリシジルエーテル、ポリアミド、ポリアミン、エピクロロヒドリン付加物、ポリアミドエピクロロヒドリン樹脂などのエポキシ化合物、モノクロル酢酸エステルやチオグリコール酸エステルなどのエステル化合物、ポリアクリル酸やメチルビニルエーテル／マレイン酸共重合物などのポリカルボン酸類、ホウ酸、チタニルスルフェート、Ｃｕ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｖ、Ｃｒ塩などの無機系架橋剤、変性ポリアミドポリイミド樹脂などが挙げられる。その他、塩化アンモニウム、シランカプリング剤、チタネートカップリング剤等の架橋触媒を併用できる。   Further, the hydrophilic resin may be used after being cross-linked to such an extent that an unexposed portion can be developed on-press on a printing press. Crosslinking agents include glyoxal, aldehydes such as melamine formaldehyde resin, urea formaldehyde resin, methylol compounds such as N-methylol urea, N-methylol melamine, and methylolated polyamide resin, divinyl sulfone and bis (β-hydroxyethylsulfonic acid) Active vinyl compounds such as, epoxy compounds such as epichlorohydrin and polyethylene glycol diglycidyl ether, polyamides, polyamines, epichlorohydrin adducts, polyamide epichlorohydrin resins, ester compounds such as monochloroacetic acid esters and thioglycolic acid esters, Polycarboxylic acids such as polyacrylic acid and methyl vinyl ether / maleic acid copolymer, inorganic such as boric acid, titanyl sulfate, Cu, Al, Sn, V, Cr salts Crosslinking agents, such as modified polyamide polyimide resin. In addition, a crosslinking catalyst such as ammonium chloride, a silane coupling agent, a titanate coupling agent, or the like can be used in combination.

本発明の感光−感熱層は、前記熱反応基の反応を開始または促進する反応促進剤を含有することができる。かかる反応促進剤としては、前記の、変色系における光酸発生剤またはラジカル発生剤、重合系におけるラジカル重合開始剤を好適なものとして挙げることが
できる。 The photosensitive-thermosensitive layer of the present invention may contain a reaction accelerator that initiates or accelerates the reaction of the thermally reactive group. Preferred examples of the reaction accelerator include the above-mentioned photoacid generator or radical generator in the color-changing system and radical polymerization initiator in the polymerization system.

上記反応促進剤は２種以上を組み合わせて用いることもできる。また、反応促進剤の感光−感熱層への添加は、感光−感熱層塗布液への直接添加でも、ポリマー微粒子中に含有させた形での添加でもよい。感光−感熱層中の反応促進剤の含有量は、感光−感熱層全固形分の０．０１〜２０質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜１０質量％である。この範囲内で、機上現像性を損なわず、良好な反応開始または促進効果が得られる。   Two or more kinds of the reaction accelerators can be used in combination. Further, the reaction accelerator may be added to the photosensitive-thermosensitive layer directly to the photosensitive-thermosensitive layer coating solution or may be added in the form of polymer fine particles. The content of the reaction accelerator in the photosensitive-thermosensitive layer is preferably from 0.01 to 20 mass%, more preferably from 0.1 to 10 mass%, based on the total solids of the photosensitive-thermosensitive layer. Within this range, good reaction initiation or acceleration effect can be obtained without impairing on-press developability.

本発明の疎水化前駆体系の感光−感熱層には、耐刷力を一層向上させるために多官能モノマーを感光−感熱層マトリックス中に添加することができる。この多官能モノマーとしては、重合性化合物として例示したものを用いることができる。なかでも好ましいモノマーとしては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートなどを挙げることができる。   In order to further improve the printing durability, a polyfunctional monomer can be added to the photosensitive-thermosensitive layer matrix in the photosensitive-thermosensitive layer of the hydrophobized precursor system of the present invention. As this polyfunctional monomer, those exemplified as the polymerizable compound can be used. Among them, preferable monomers include trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, and the like.

また、本発明の疎水化前駆体系の感光−感熱層には、前記重合系感光−感熱層の＜その他の感光−感熱層成分＞に記載の界面活性剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機微粒子、低分子親水性化合物などの添加剤を、必要に応じて含有させることができる。   In addition, the hydrophobized precursor-based photosensitive-thermosensitive layer of the present invention includes a surfactant, a polymerization inhibitor, a higher fatty acid derivative, a plasticizer described in <Other photosensitive-thermosensitive layer components> of the polymerization-based photosensitive-thermosensitive layer. Additives such as an agent, inorganic fine particles, and a low molecular weight hydrophilic compound can be contained as necessary.

＜疎水化前駆体系の感光−感熱層の形成＞
本発明の疎水化前駆体系の感光−感熱層は、前記ラジカル重合系感光−感熱層の場合と同様に、必要な上記各成分を溶剤に分散または溶解した塗布液を調製し、支持体上に塗布、乾燥して形成される。 <Formation of photosensitive-thermosensitive layer of hydrophobized precursor system>
As in the case of the radical polymerization type photosensitive / thermosensitive layer, the hydrophobic precursor system photosensitive / thermosensitive layer of the present invention is prepared on a support by preparing a coating solution in which the necessary components are dispersed or dissolved in a solvent. It is formed by coating and drying.

塗布、乾燥後に得られる支持体上の感光−感熱層塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、一般的に０．５〜５．０ｇ／ｍ2が好ましい。 Coating the photosensitive on the support obtained after drying - thermosensitive layer coating amount (solid content) may be varied according to the intended purpose, generally 0.5 to 5.0 g / m 2 is preferred.

上記疎水化前駆体系の感光−感熱層を用いると、機上現像可能な平版印刷版原版を作ることができる。
一方、上記疎水化前駆体系の感光−感熱層を未露光でも十分な耐刷力のある「架橋構造を有する親水性層」にすることによって、本発明の平版印刷版原版を無処理（無現像）型の平版印刷版原版に適用することができる。 When the photosensitive / thermosensitive layer of the hydrophobized precursor system is used, a lithographic printing plate precursor capable of on-press development can be produced.
On the other hand, the lithographic printing plate precursor of the present invention is not processed (no development) by making the photosensitive-thermosensitive layer of the hydrophobized precursor system a “hydrophilic layer having a crosslinked structure” having sufficient printing durability even when unexposed. ) Applicable to lithographic printing plate precursors of molds.

かかる架橋構造を有する親水性層としては、架橋構造を形成してなる親水性樹脂、および、ゾル−ゲル変換によって形成される無機親水性結着樹脂のうちの少なくとも１種を含むことが好ましい態様である。これらのうち、まず、親水性樹脂について説明する。この親水性樹脂を添加することにより、エマルジョンインク中の親水成分との親和性が良好となり、かつ、感光−感熱層自体の皮膜強度も向上するという利点をも有する。親水性樹脂としては、例えばヒドロキシル、カルボキシル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、アミノ、アミノエチル、アミノプロピル、カルボキシメチルなどの親水基を有するものが好ましい。   The hydrophilic layer having such a crosslinked structure preferably includes at least one of a hydrophilic resin formed with a crosslinked structure and an inorganic hydrophilic binder resin formed by sol-gel conversion. It is. Of these, the hydrophilic resin will be described first. By adding this hydrophilic resin, the affinity with the hydrophilic component in the emulsion ink is improved, and the film strength of the photosensitive-thermosensitive layer itself is also improved. As the hydrophilic resin, those having a hydrophilic group such as hydroxyl, carboxyl, hydroxyethyl, hydroxypropyl, amino, aminoethyl, aminopropyl, carboxymethyl and the like are preferable.

親水性樹脂の具体例として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、カルボキシメチルセルロースおよびそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸類およびそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルアクリ
レートのホモポリマーおよびコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、ならびに加水分解度が少なくとも６０モル％、好ましくは少なくとも８０モル％の加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマーおよびポリマー、Ｎ−メチロールアクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー等を挙げることができる。 Specific examples of hydrophilic resins include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and its sodium salt, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids and Salts thereof, polymethacrylic acids and their salts, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl acrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl acrylate, hydroxybutyl Methacrylate homopolymers and copolymers, hydroxybutyl acrylate homopolymers and copolymers Homopolymers of limers, polyethylene glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, and hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, acrylamide having a degree of hydrolysis of at least 60 mol%, preferably at least 80 mol% And copolymers, methacrylamide homopolymers and polymers, N-methylolacrylamide homopolymers and copolymers, and the like.

上記親水性樹脂を本発明に係る感光−感熱層に用いる場合には、親水性樹脂を架橋して用いればよい。架橋構造を形成するために用いる架橋剤としては、前記段落番号［０１８３］に記載のものが用いられる。   When the above hydrophilic resin is used in the photosensitive-thermosensitive layer according to the present invention, the hydrophilic resin may be used after being crosslinked. As the crosslinking agent used for forming the crosslinked structure, those described in the paragraph [0183] are used.

また、無処理（無現像）型の感光−感熱層の好ましい態様として、ゾル−ゲル変換によって形成される無機親水性結着樹脂を含有させるものを挙げることができる。好適なゾル−ゲル変換系結着樹脂は、多価元素から出ている結合基が酸素原子を介して網目状構造、すなわち、三次元架橋構造を形成し、同時に多価金属は未結合の水酸基やアルコキシ基も有していてこれらが混在した樹脂状構造となっている高分子体であって、アルコキシ基や水酸基が多い段階ではゾル状態であり、脱水縮合が進行するに伴って網目状の樹脂構造が強固となる。ゾル−ゲル変換を行う水酸基やアルコキシ基を有する化合物の多価結合元素は、アルミニウム、珪素、チタンおよびジルコニウムなどであり、これらはいずれも本発明に用いることができる。中でも、より好ましいのは珪素を用いたゾル−ゲル変換系であり、特に好ましのはゾル−ゲル変換が可能な、少なくとも一つのシラノール基を有するシラン化合物を含んだ系である。以下に、珪素を用いたゾル−ゲル変換系について説明するが、アルミニウム、チタン、ジルコニウムを用いたゾル−ゲル変換系は、下記説明の珪素をそれぞれの元素に置き換えて実施することができる。   Moreover, what contains the inorganic hydrophilic binder resin formed by sol-gel conversion as a preferable aspect of an unprocessed (non-development) type photosensitive-thermosensitive layer can be mentioned. A preferred sol-gel conversion binder resin is that a bonding group coming out of a polyvalent element forms a network structure, that is, a three-dimensional cross-linked structure via an oxygen atom, and at the same time, the polyvalent metal is an unbonded hydroxyl group. And a polymer having a resinous structure in which these are mixed, and is in a sol state at a stage where there are many alkoxy groups and hydroxyl groups, and has a network shape as dehydration condensation proceeds. The resin structure becomes strong. Examples of the polyvalent bonding element of the compound having a hydroxyl group or an alkoxy group that performs sol-gel conversion include aluminum, silicon, titanium, and zirconium, and any of these can be used in the present invention. Among these, a sol-gel conversion system using silicon is more preferable, and a system including a silane compound having at least one silanol group capable of sol-gel conversion is particularly preferable. Hereinafter, a sol-gel conversion system using silicon will be described. However, a sol-gel conversion system using aluminum, titanium, and zirconium can be implemented by replacing silicon described below with each element.

ゾル−ゲル変換系結着樹脂は、好ましくはシロキサン結合およびシラノール基を有する樹脂であり、本発明の感光−感熱層には、少なくとも一つのシラノール基を有する化合物を含んだゾル系である塗布液を用い、塗布乾燥過程でシラノール基の縮合が進んでゲル化し、シロキサン骨格の構造が形成されるプロセスによって含有させられる。   The sol-gel conversion binder resin is preferably a resin having a siloxane bond and a silanol group, and the photosensitive-thermosensitive layer of the present invention is a coating solution which is a sol system containing at least one compound having a silanol group. In the process of coating and drying, the condensation of silanol groups proceeds to gel, and the siloxane skeleton structure is formed.

また、ゾル−ゲル変換系結着樹脂を含む感光−感熱層は、膜強度、膜の柔軟性など、物理的性能の向上や塗布性の改良などを目的として、前記親水性樹脂や架橋剤と併用することも可能である。   In addition, the photosensitive-thermosensitive layer containing the sol-gel conversion binder resin is used for the purpose of improving physical properties such as film strength and film flexibility and improving coating properties, and the hydrophilic resin and the crosslinking agent. It can also be used in combination.

ゲル構造を形成するシロキサン樹脂は、下記一般式(II）で、又少なくとも一つのシラノール基を有するシラン化合物は、下記一般式(III）で示される。又、感光−感熱層に添加される物質系は、必ずしも一般式(III）のシラン化合物単独である必要はなく、一般には、シラン化合物が部分縮合したオリゴマーもしくは一般式(III）のシラン化合物とオリゴマーの混合物あってもよい。   The siloxane resin forming the gel structure is represented by the following general formula (II), and the silane compound having at least one silanol group is represented by the following general formula (III). In addition, the material system added to the photosensitive-thermosensitive layer does not necessarily need to be a silane compound of the general formula (III) alone. In general, an oligomer obtained by partially condensing a silane compound or a silane compound of the general formula (III) There may be a mixture of oligomers.

Figure 2005297517
Figure 2005297517

一般式(II）のシロキサン樹脂は、一般式(III）で示されるシラン化合物の少なくとも１種を含有する分散液からゾル−ゲル変換によって形成される。ここで、一般式(II）のＲ01〜Ｒ03の少なくとも一つは水酸基を表し、他は一般式(III）中の記号Ｒ0およびＹから選ばれる有機残基を表す。 The siloxane resin of the general formula (II) is formed by sol-gel conversion from a dispersion containing at least one silane compound represented by the general formula (III). Here, at least one of R 01 to R 03 in the general formula (II) represents a hydroxyl group, and the other represents an organic residue selected from the symbols R 0 and Y in the general formula (III).

一般式(III） （Ｒ0）nＳｉ（Ｙ）4-n Formula (III) (R 0 ) n Si (Y) 4-n

ここで、Ｒ0は水酸基、炭化水素基またはヘテロ環基を表す。Ｙは水素原子、ハロゲン原子、−ＯＲ1、−ＯＣＯＲ2、またはＮ（Ｒ3）（Ｒ4）を表す。Ｒ1、Ｒ2は、それぞれ炭化水素基を表し、Ｒ3、Ｒ4は同じでも異なっていてもよく、炭化水素基または水素原子を表す。ｎは０、１、２または３を表す。 Here, R 0 represents a hydroxyl group, a hydrocarbon group or a heterocyclic group. Y represents a hydrogen atom, a halogen atom, —OR 1 , —OCOR 2 , or N (R 3 ) (R 4 ). R 1 and R 2 each represent a hydrocarbon group, and R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group or a hydrogen atom. n represents 0, 1, 2 or 3.

Ｒ0の炭化水素基またはヘテロ環基とは、例えば炭素数１〜１２の置換されてもよい直鎖状もしくは分岐状のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基等；これらの基に置換される基としては、ハロゲン原子（塩素原子、フッ素原子、臭素原子）、ヒドロキシル基、チオール基、カルボキシル基、スルホ基、シアノ基、エポキシ基、−ＯＲ'基（Ｒ'は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、２−ヒドロキシエチル基、３−クロロプロピル基、２−シアノエチル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル基、２−ブロモエチル基、２−（２−メトキシエチル）オキシエチル基、２−メトキシカルボニルエチル基、３−カルボキシエチル基、３−カルボキシプロピル基、ベンジル基等を示す）、 The hydrocarbon group or heterocyclic group for R 0 is, for example, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group). Group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group, etc .; these groups include halogen atoms (chlorine atom, fluorine atom, bromine atom), hydroxyl group, thiol group , Carboxyl group, sulfo group, cyano group, epoxy group, —OR ′ group (R ′ is methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, propenyl group, butenyl group) Group, hexenyl group, octenyl group, 2-hydroxyethyl group, 3-chloropropyl group, 2-cyanoethyl group, N, N-dimethylaminoethyl group, 2-bromo An ethyl group, 2- (2-methoxyethyl) oxyethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 3-carboxyethyl group, 3-carboxypropyl group, benzyl group and the like),

−ＯＣＯＲ''基（Ｒ''は、前記Ｒ'と同一の内容を表す）、−ＣＯＯＲ''基、−ＣＯＲ''基、−Ｎ(Ｒ''')(Ｒ''')基（Ｒ'''は、水素原子または前記Ｒ'と同一内容を表し、それぞれ同一でも異なってもよい）、−ＮＨＣＯＮＨＲ''基、−ＮＨＣＯＯＲ''基、―Ｓｉ（Ｒ''）3基、−ＣＯＮＨＲ''基等が挙げられる。これらの置換基はアルキル基中に複数置換されてもよい。炭素数２〜１２の置換されてもよい直鎖状または分岐状のアルケニル基（例えば、ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、デセニル基、ドデセニル基等；これらの基に置換される基としては、前記アルキル基に置換される基と同一内容のものが挙げられる）、炭素数７〜１４の置換されてもよいアラルキル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、２−ナフチルエチル基等；これらに置換される基としては、前記アルキル基に置換される基と同一内容のものが挙げられ、又複数個置換されてもよい）、炭素数５〜１０の置換されてもよい脂環式基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、２−シクロヘキシルエチル基、ノルボニル基、アダマンチル基等；これらに置換される基としては、前記アルキル基に置換される基と同一内容のものが挙げられ、又複数個置換されてもよい）、炭素数６〜１２の置換されてもよいアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基で、置換基としては、前記アルキル基に置換される基と同一内容のものが挙げられ、又複数個置換されてもよい）、または、窒素原子、酸素原子、イオウ原子から選ばれる少なくとも１種の原子を含有する縮環してもよいヘテロ環基（例えば、ピラン環、フラン環、チオフェン環、モルホリン環、ピロール環、チアゾール環、オキサゾール環、ピリジン環、ピペリジン環、ピロリドン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、テトラヒドロフラン環等で、置換基を含有してもよい。置換基としては、前記アルキル基に置換される基と同一内容のものが挙げられ、又複数個置換されてもよい）、を表す。 —OCOR ″ group (R ″ represents the same content as R ′), —COOR ″ group, —COR ″ group, —N (R ′ ″) (R ′ ″) group ( R ′ ″ represents a hydrogen atom or the same content as R ′, and may be the same or different from each other), —NHCONHR ″ group, —NHCOOR ″ group, —Si (R ″) 3 group, — CONHR ″ group and the like. A plurality of these substituents may be substituted in the alkyl group. A linear or branched alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example, vinyl group, propenyl group, butenyl group, pentenyl group, hexenyl group, octenyl group, decenyl group, dodecenyl group, etc .; Examples of the group substituted by the group include those having the same contents as the group substituted by the alkyl group, and an aralkyl group having 7 to 14 carbon atoms which may be substituted (for example, benzyl group, phenethyl group, 3 -Phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, etc .; examples of the group substituted by these include those having the same content as the group substituted by the alkyl group, and a plurality thereof may be substituted. ), An alicyclic group having 5 to 10 carbon atoms which may be substituted (for example, cyclopentyl group, cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, norbornyl group, ada A group substituted with these, the same group as the group substituted with the alkyl group may be mentioned, or a plurality of groups may be substituted), or a group having 6 to 12 carbon atoms may be substituted. A good aryl group (for example, a phenyl group, a naphthyl group, and the substituent includes the same content as the group substituted by the alkyl group, or a plurality of substituents may be substituted), or a nitrogen atom, Heterocyclic group which may be condensed, containing at least one atom selected from oxygen atom and sulfur atom (for example, pyran ring, furan ring, thiophene ring, morpholine ring, pyrrole ring, thiazole ring, oxazole ring, pyridine) A ring, a piperidine ring, a pyrrolidone ring, a benzothiazole ring, a benzoxazole ring, a quinoline ring, a tetrahydrofuran ring, etc. may contain a substituent. , Can be mentioned those groups having the same content which is substituted in the alkyl group, or may be a plurality substituted) it represents.

一般式(III）のＹの−ＯＲ1基、−ＯＣＯＲ2基またはＮ（Ｒ3）（Ｒ4）基の置換基とし
ては、例えば以下の置換基を表す。−ＯＲ1基において，Ｒ1は炭素数１〜１０の置換されてもよい脂肪族基〔例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、ペンチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘプテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、デセニル基、２−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシプロピル基、２−メトキシエチル基、２−（２−メトキシエチル）オキシエチル基、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル基、２−メトキシプロピル基、２−シアノエチル基、３−メチルオキシプロピル基、２−クロロエチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、シクロオクチル基、クロロシクロヘキシル基、メトキシシクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、ジメトキシベンジル基、メチルベンジル基、ブロモベンジル基等が挙げられる〕を表す。 As the substituent of the —OR 1 group, —OCOR 2 group or N (R 3 ) (R 4 ) group of Y in the general formula (III), for example, the following substituents are represented. In the —OR 1 group, R 1 is an optionally substituted aliphatic group having 1 to 10 carbon atoms [eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, pentyl group, octyl group, Nonyl group, decyl group, propenyl group, butenyl group, heptenyl group, hexenyl group, octenyl group, decenyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-hydroxypropyl group, 2-methoxyethyl group, 2- (2-methoxyethyl) Oxyethyl group, 2- (N, N-dimethylamino) ethyl group, 2-methoxypropyl group, 2-cyanoethyl group, 3-methyloxypropyl group, 2-chloroethyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, cyclooctyl group, chloro Cyclohexyl, methoxycyclohexyl, benzyl, phenethyl, dimethoxybenzyl, methyl A rubenzyl group, a bromobenzyl group, and the like.

−ＯＣＯＲ2基においてＲ2はＲ1と同一の内容の脂肪族基または炭素数６〜１２の置換されてもよい芳香族基（芳香族基としては、前記Ｒのアリール基で例示したと同様のものが挙げられる）を表す。又−Ｎ（Ｒ3）（Ｒ4）基において、Ｒ3、Ｒ4は、互いに同じでも異なってもよく、それぞれ水素原子または炭素数１〜１０の置換されてもよい脂肪族基（例えば、前記の−ＯＲ1基のＲ1と同様の内容のものが挙げられる）を表す。より好ましくは，Ｒ3とＲ4の炭素数の総和が１６以内である。一般式(III）で示されるシラン化合物の具体例としては、以下のものが挙げられるが、これに限定されるものではない。 In the —OCOR 2 group, R 2 is an aliphatic group having the same contents as R 1 or an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms which may be substituted (the aromatic group is the same as that exemplified for the aryl group of R above) Are included). In the —N (R 3 ) (R 4 ) group, R 3 and R 4 may be the same or different from each other, and each is a hydrogen atom or an aliphatic group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted (for example, And those having the same contents as R 1 of the —OR 1 group. More preferably, the total number of carbon atoms of R 3 and R 4 is 16 or less. Specific examples of the silane compound represented by the general formula (III) include the following, but are not limited thereto.

テトラクロルシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラｎ−プロピルシラン、メチルトリクロルシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリクロルシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリクロルシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、フェニルトリクロルシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジメトキシジトリエトキシシラン、ジメチルジクロルシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、トリエトキシヒドロシラン、トリメトキシヒドロシラン、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどが挙げらる。   Tetrachlorosilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetra n-propylsilane, methyltrichlorosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrichlorosilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane N-propyltrichlorosilane, n-propyltrimethoxysilane, n-hexyltrimethoxysilane, n-decyltrimethoxysilane, phenyltrichlorosilane, phenyltrimethoxysilane, dimethoxyditriethoxysilane, dimethyldichlorosilane, dimethyldimethoxysilane , Diphenyldimethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, triethoxyhydrosilane, trimethoxyhydrosilane, vinyltrichlorosilane, Nyltrimethoxysilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropylpropyl Methoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, β- (3,4- (Epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane and the like.

本発明の感光−感熱層には一般式(III）のシラン化合物と共に、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ａｌ等のゾル−ゲル変換の際に樹脂に結合して製膜可能な金属化合物を併用することができる。用いられる金属化合物として、例えば、Ｔｉ（ＯＲ''）4、ＴｉＣｌ4、Ｚｎ（ＯＲ''）2、Ｚｎ（ＣＨ3ＣＯＣＨＣＯＣＨ3）2、Ｓｎ（ＯＲ''）4、Ｓｎ（ＣＨ3ＣＯＣＨＣＯＣＨ3）4、Ｓｎ（ＯＣＯＲ''）4、ＳｎＣｌ4、Ｚｒ（ＯＲ''）4、Ｚｒ（ＣＨ3ＣＯＣＨＣＯＣＨ3）4、（ＮＨ4）2ＺｒＯ（ＣＯ3）2、Ａｌ（ＯＲ''）3、Ａｌ（ＣＨ3ＣＯＣＨＣＯＣＨ3）3等が挙げられる。ここでＲ''は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等を表す。 The photosensitive-thermosensitive layer of the present invention is used in combination with a silane compound of the general formula (III) and a metal compound capable of forming a film by bonding to a resin during sol-gel conversion such as Ti, Zn, Sn, Zr, Al, etc. can do. Examples of the metal compound used include Ti (OR ″) 4 , TiCl 4 , Zn (OR ″) 2 , Zn (CH 3 COCHCOCH 3 ) 2 , Sn (OR ″) 4 , Sn (CH 3 COCHCOCH 3 ) 4 , Sn (OCOR ″) 4 , SnCl 4 , Zr (OR ″) 4 , Zr (CH 3 COCHCOCH 3 ) 4 , (NH 4 ) 2 ZrO (CO 3 ) 2 , Al (OR ″) 3 , Al (CH 3 COCHCOCH 3 ) 3 and the like. Here, R ″ represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, or the like.

更に一般式(III）で示される化合物、更に併用する前記金属化合物の加水分解および重縮合反応を促進するために、酸性触媒または塩基性触媒を併用することが好ましい。触媒は、酸または塩基性化合物をそのままか、または水もしくはアルコールなどの溶媒に溶解させた状態のもの（以下、それぞれ酸性触媒、塩基性触媒という）を用いる。その時の濃度については特に限定しないが、濃度が濃い場合は加水分解、重縮合速度が速くなる傾向
がある。ただし、濃度の濃い塩基性触媒を用いると、ゾル溶液中で沈殿物が生成する場合があるため、塩基性触媒の濃度は１Ｎ（水溶液での濃度換算）以下が望ましい。 Further, in order to promote the hydrolysis and polycondensation reaction of the compound represented by the general formula (III) and the metal compound used in combination, it is preferable to use an acidic catalyst or a basic catalyst in combination. As the catalyst, an acid or a basic compound is used as it is or in a state in which it is dissolved in a solvent such as water or alcohol (hereinafter referred to as an acidic catalyst and a basic catalyst, respectively). The concentration at that time is not particularly limited, but when the concentration is high, the hydrolysis and polycondensation rates tend to increase. However, when a basic catalyst having a high concentration is used, a precipitate may be generated in the sol solution. Therefore, the concentration of the basic catalyst is preferably 1 N (concentration in aqueous solution) or less.

酸性触媒の具体例としては、塩酸などのハロゲン化水素酸、硝酸、硫酸、亜硫酸、硫化水素、過塩素酸、過酸化水素、炭酸、蟻酸や酢酸などのカルボン酸、ベンゼンスルホン酸などのスルホン酸が挙げられる。塩基性触媒の具体例としては、アンモニア水などのアンモニア性塩基、エチルアミンやアニリンなどのアミン類などが挙げられるが、これらに限定されない。   Specific examples of the acidic catalyst include hydrohalic acid such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, sulfurous acid, hydrogen sulfide, perchloric acid, hydrogen peroxide, carbonic acid, carboxylic acid such as formic acid and acetic acid, and sulfonic acid such as benzenesulfonic acid. Is mentioned. Specific examples of the basic catalyst include, but are not limited to, an ammoniacal base such as aqueous ammonia and amines such as ethylamine and aniline.

以上述べたゾル−ゲル法を用いた感光−感熱層は、本発明に係る感光−感熱層の構成として特に好ましい。上記ゾル−ゲル法の更に詳細は、作花済夫著「ゾル−ゲル法の科学」（株）アグネ承風社刊（1988年）、平島碩著「最新ゾル−ゲル法による機能性薄膜作成技術」総合技術センター刊（1992年）等に記載されている。   The photosensitive-thermosensitive layer using the sol-gel method described above is particularly preferable as the configuration of the photosensitive-thermosensitive layer according to the present invention. For further details of the sol-gel method, see Sakuo Sakuo, “Science of Sol-Gel Method”, published by Agne Jofusha Co., Ltd. (1988), Satoshi Hirashima “Functional Thin Film Preparation by Latest Sol-Gel Method” Technology ", published by the General Technology Center (1992).

架橋構造を有する感光−感熱層における親水性樹脂の添加量は、感光−感熱層固形分の５〜７０質量％が好ましく、５〜５０質量％がさらに好ましい。   The amount of the hydrophilic resin added in the photo-thermosensitive layer having a crosslinked structure is preferably 5 to 70% by mass, more preferably 5 to 50% by mass, based on the solid content of the photo-thermosensitive layer.

〔支持体〕
本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体は、特に限定されず、寸度的に安定な板状物であればよい。例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）、上述した金属がラミネートされまたは蒸着された紙またはプラスチックフィルム等が挙げられる。好ましい支持体としては、ポリエステルフィルムおよびアルミニウム板が挙げられる。なかでも、寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板が好ましい。 [Support]
The support used for the lithographic printing plate precursor according to the invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate. For example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate) Cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic films on which the above-mentioned metals are laminated or deposited. Preferable supports include a polyester film and an aluminum plate. Among these, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is preferable.

アルミニウム板は、純アルミニウム板、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、または、アルミニウムもしくはアルミニウム合金の薄膜にプラスチックがラミネートされているものである。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は１０質量％以下であるのが好ましい。本発明においては、純アルミニウム板が好ましいが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、わずかに異元素を含有するものでもよい。アルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、公知公用の素材のものを適宜利用することができる。   The aluminum plate is a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of different elements, or a plastic laminated on a thin film of aluminum or an aluminum alloy. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is preferably 10% by mass or less. In the present invention, a pure aluminum plate is preferable, but completely pure aluminum is difficult to manufacture in terms of refining technology, and therefore may contain a slightly different element. The composition of the aluminum plate is not specified, and a publicly known material can be used as appropriate.

支持体の厚さは０．１〜０．６ｍｍであるのが好ましく、０．１５〜０．４ｍｍであるのがより好ましい。   The thickness of the support is preferably from 0.1 to 0.6 mm, more preferably from 0.15 to 0.4 mm.

アルミニウム板を使用するに先立ち、粗面化処理、陽極酸化処理等の表面処理を施すのが好ましい。表面処理により、親水性の向上および感光−感熱層と支持体との密着性の確保が容易になる。アルミニウム板を粗面化処理するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための界面活性剤、有機溶剤、アルカリ性水溶液等による脱脂処理が行われる。   Prior to using the aluminum plate, it is preferable to perform a surface treatment such as roughening treatment or anodizing treatment. By the surface treatment, it is easy to improve hydrophilicity and secure adhesion between the photosensitive-thermosensitive layer and the support. Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution or the like for removing rolling oil on the surface is performed as desired.

アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理（電気化学的に表面を溶解させる粗面化処理）、化学的粗面化処理（化学的に表面を選択溶解させる粗面化処理）が挙げられる。
機械的粗面化処理の方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。また、アルミニウムの圧延段階において凹凸を設けたロールで凹凸形状を転写する転写法も用いてもかまわない。
電気化学的粗面化処理の方法としては、例えば、塩酸、硝酸等の酸を含有する電解液中で交流または直流により行う方法が挙げられる。また、特開昭５４−６３９０２号公報に記載されているような混合酸を用いる方法も挙げられる。 The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, mechanical surface roughening treatment, electrochemical surface roughening treatment (electrochemical surface roughening treatment that dissolves the surface), chemical treatment, etc. Surface roughening treatment (roughening treatment that chemically selectively dissolves the surface).
As a method for the mechanical surface roughening treatment, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used. Also, a transfer method in which the uneven shape is transferred with a roll provided with unevenness in the aluminum rolling step may be used.
Examples of the electrochemical surface roughening treatment include a method in which an alternating current or a direct current is used in an electrolytic solution containing an acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Another example is a method using a mixed acid as described in JP-A-54-63902.

粗面化処理されたアルミニウム板は、必要に応じて、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水溶液を用いてアルカリエッチング処理を施され、更に、中和処理された後、所望により、耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施される。   The surface-roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment using an aqueous solution of potassium hydroxide, sodium hydroxide or the like, if necessary, further neutralized, and if desired, wear resistant. In order to increase the anodic oxidation treatment.

アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成させる種々の電解質の使用が可能である。一般的には、硫酸、塩酸、シュウ酸、クロム酸またはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
陽極酸化処理の条件は、用いられる電解質により種々変わるので一概に特定することはできないが、一般的には、電解質濃度１〜８０質量％溶液、液温５〜７０℃、電流密度５〜６０Ａ／ｄｍ2、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０秒〜５分であるのが好ましい。形成される陽極酸化皮膜の量は、１．０〜５．０ｇ／ｍ2であるのが好ましく、１．５〜４．０ｇ／ｍ2であるのがより好ましい。この範囲で、良好な耐刷性と平版印刷版の非画像部の良好な耐傷性が得られる。 As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.
The conditions for anodizing treatment vary depending on the electrolyte used and cannot be specified in general. In general, however, the electrolyte concentration is 1 to 80% by mass solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A / dm 2 , voltage 1 to 100 V, and electrolysis time 10 seconds to 5 minutes are preferable. The amount of the anodized film formed is preferably from 1.0 to 5.0 g / m 2, and more preferably 1.5 to 4.0 g / m 2. Within this range, good printing durability and good scratch resistance of the non-image area of the lithographic printing plate can be obtained.

本発明で用いられる支持体としては、上記のような表面処理をされ陽極酸化皮膜を有する基板そのままでもよいが、上層との接着性、親水性、汚れ難さ、断熱性などの一層改良のため、必要に応じて、特開２００１−２５３１８１号や特開２００１−３２２３６５号に記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理、や封孔処理および親水性化合物を含有する水溶液に浸漬する表面親水化処理などを適宜選択して行うことができる。もちろんこれら拡大処理、封孔処理は、これらに記載のものに限られたものではなく従来公知の何れも方法も行うことができる。   As the support used in the present invention, the substrate having the above-mentioned surface treatment and having an anodized film may be used as it is, but for further improvement in adhesion to the upper layer, hydrophilicity, resistance to contamination, heat insulation and the like. If necessary, a surface immersed in an aqueous solution containing a micropore enlargement treatment, sealing treatment and a hydrophilic compound described in JP-A Nos. 2001-253181 and 2001-322365 A hydrophilic treatment or the like can be appropriately selected and performed. Of course, these enlargement processing and sealing processing are not limited to those described above, and any conventionally known methods can be performed.

封孔処理としては、蒸気封孔のほかフッ化ジルコン酸の単独処理、フッ化ナトリウムによる処理など無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、塩化リチウムを添加した蒸気封孔、熱水による封孔処理でも可能である。
なかでも、無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、水蒸気による封孔処理および熱水による封孔処理が好ましい。以下にそれぞれ説明する。 Sealing treatment includes vapor sealing, single treatment with zirconic fluoride, treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound such as treatment with sodium fluoride, vapor sealing with addition of lithium chloride, sealing with hot water. Hole processing is also possible.
Of these, sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound, sealing treatment with water vapor, and sealing treatment with hot water are preferable. Each will be described below.

＜無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理＞
無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理に用いられる無機フッ素化合物としては、金属フッ化物が好適に挙げられる。
具体的には、例えば、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ジルコン酸ナトリウム、フッ化ジルコン酸カリウム、フッ化チタン酸ナトリウム、フッ化チタン酸カリウム、フッ化ジルコン酸アンモニウム、フッ化チタン酸アンモニウム、フッ化チタン酸カリウム、フッ化ジルコン酸、フッ化チタン酸、ヘキサフルオロケイ酸、フッ化ニッケル、フッ化鉄、フッ化リン酸、フッ化リン酸アンモニウムが挙げられる。なかでも、フッ化ジルコン酸ナトリウム、フッ化チタン酸ナトリウム、フッ化ジルコン酸、フッ化チタン酸が好ましい。 <Sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound>
As the inorganic fluorine compound used for the sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound, a metal fluoride is preferably exemplified.
Specifically, for example, sodium fluoride, potassium fluoride, calcium fluoride, magnesium fluoride, sodium fluoride zirconate, potassium fluoride zirconate, sodium fluoride titanate, potassium fluoride titanate, zircon fluoride Ammonium acid, ammonium fluoride titanate, potassium fluoride titanate, zirconate fluoride, titanate fluoride, hexafluorosilicic acid, nickel fluoride, iron fluoride, phosphor fluoride, ammonium fluoride phosphate It is done. Of these, sodium fluorinated zirconate, sodium fluorinated titanate, fluorinated zirconic acid, and fluorinated titanic acid are preferable.

水溶液中の無機フッ素化合物の濃度は、陽極酸化皮膜のマイクロポアの封孔を十分に行う点で、０．０１質量％以上であるのが好ましく、０．０５質量％以上であるのがより好ましく、また、耐汚れ性の点で、１質量％以下であるのが好ましく、０．５質量％以下で
あるのがより好ましい。 The concentration of the inorganic fluorine compound in the aqueous solution is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.05% by mass or more, from the viewpoint of sufficiently sealing the micropores of the anodized film. Further, in terms of stain resistance, it is preferably 1% by mass or less, and more preferably 0.5% by mass or less.

無機フッ素化合物を含有する水溶液は、更に、リン酸塩化合物を含有するのが好ましい。リン酸塩化合物を含有すると、陽極酸化皮膜の表面の親水性が向上するため、機上現像性および耐汚れ性を向上させることができる。   It is preferable that the aqueous solution containing an inorganic fluorine compound further contains a phosphate compound. When the phosphate compound is contained, the hydrophilicity of the surface of the anodized film is improved, so that on-machine developability and stain resistance can be improved.

リン酸塩化合物としては、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属等の金属のリン酸塩が好適に挙げられる。
具体的には、例えば、リン酸亜鉛、リン酸アルミニウム、リン酸アンモニウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸一アンモニウム、リン酸一カリウム、リン酸一ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸カルシウム、リン酸水素アンモニウムナトリウム、リン酸水素マグネシウム、リン酸マグネシウム、リン酸第一鉄、リン酸第二鉄、リン酸二水素ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸鉛、リン酸二アンモニウム、リン酸二水素カルシウム、リン酸リチウム、リンタングステン酸、リンタングステン酸アンモニウム、リンタングステン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、リンモリブデン酸ナトリウム、亜リン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸ナトリウムが挙げられる。なかでも、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウムが好ましい。
無機フッ素化合物とリン酸塩化合物の組み合わせは、特に限定されないが、水溶液が、無機フッ素化合物として、少なくともフッ化ジルコン酸ナトリウムを含有し、リン酸塩化合物として、少なくともリン酸二水素ナトリウムを含有するのが好ましい。 Suitable examples of the phosphate compound include phosphates of metals such as alkali metals and alkaline earth metals.
Specifically, for example, zinc phosphate, aluminum phosphate, ammonium phosphate, diammonium hydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, monoammonium phosphate, monopotassium phosphate, monosodium phosphate, dihydrogen phosphate Potassium, dipotassium hydrogen phosphate, calcium phosphate, sodium ammonium hydrogen phosphate, magnesium hydrogen phosphate, magnesium phosphate, ferrous phosphate, ferric phosphate, sodium dihydrogen phosphate, sodium phosphate, hydrogen phosphate Disodium, lead phosphate, diammonium phosphate, calcium dihydrogen phosphate, lithium phosphate, phosphotungstic acid, phosphotungstic acid, sodium phosphotungstate, ammonium phosphomolybdate, sodium phosphomolybdate, sodium phosphite , Tripolyphosphate Potassium, and sodium pyrophosphate. Of these, sodium dihydrogen phosphate, disodium hydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, and dipotassium hydrogen phosphate are preferable.
The combination of the inorganic fluorine compound and the phosphate compound is not particularly limited, but the aqueous solution contains at least sodium zirconate fluoride as the inorganic fluorine compound and contains at least sodium dihydrogen phosphate as the phosphate compound. Is preferred.

水溶液中のリン酸塩化合物の濃度は、機上現像性および耐汚れ性の向上の点で、０．０１質量％以上であるのが好ましく、０．１質量％以上であるのがより好ましく、また、溶解性の点で、２０質量％以下であるのが好ましく、５質量％以下であるのがより好ましい。   The concentration of the phosphate compound in the aqueous solution is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.1% by mass or more, from the viewpoint of improving on-press developability and stain resistance. Further, in terms of solubility, it is preferably 20% by mass or less, and more preferably 5% by mass or less.

水溶液中の各化合物の割合は、特に限定されないが、無機フッ素化合物とリン酸塩化合物の質量比が、１／２００〜１０／１であるのが好ましく、１／３０〜２／１であるのがより好ましい。
また、水溶液の温度は、２０℃以上であるのが好ましく、４０℃以上であるのがより好ましく、また、１００℃以下であるのが好ましく、８０℃以下であるのがより好ましい。
また、水溶液は、ｐＨ１以上であるのが好ましく、ｐＨ２以上であるのがより好ましく、また、ｐＨ１１以下であるのが好ましく、ｐＨ５以下であるのがより好ましい。 The ratio of each compound in the aqueous solution is not particularly limited, but the mass ratio of the inorganic fluorine compound and the phosphate compound is preferably 1/200 to 10/1, and preferably 1/30 to 2/1. Is more preferable.
Further, the temperature of the aqueous solution is preferably 20 ° C. or higher, more preferably 40 ° C. or higher, preferably 100 ° C. or lower, more preferably 80 ° C. or lower.
Further, the aqueous solution preferably has a pH of 1 or more, more preferably has a pH of 2 or more, preferably has a pH of 11 or less, and more preferably has a pH of 5 or less.

無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理の方法は、特に限定されず、例えば、浸漬法、スプレー法が挙げられる。これらは単独で１回または複数回用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
なかでも、浸漬法が好ましい。浸漬法を用いて処理する場合、処理時間は、１秒以上であるのが好ましく、３秒以上であるのがより好ましく、また、１００秒以下であるのが好ましく、２０秒以下であるのがより好ましい。 The method for sealing with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound is not particularly limited, and examples thereof include an immersion method and a spray method. These may be used alone or in combination, or may be used in combination of two or more.
Of these, the dipping method is preferred. When the treatment is performed using the dipping method, the treatment time is preferably 1 second or longer, more preferably 3 seconds or longer, and preferably 100 seconds or shorter, and 20 seconds or shorter. More preferred.

＜水蒸気による封孔処理＞
水蒸気による封孔処理は、例えば、加圧または常圧の水蒸気を連続的にまたは非連続的に、陽極酸化皮膜に接触させる方法が挙げられる。
水蒸気の温度は、８０℃以上であるのが好ましく、９５℃以上であるのがより好ましく、また、１０５℃以下であるのが好ましい。
水蒸気の圧力は、（大気圧−５０ｍｍＡｑ）から（大気圧＋３００ｍｍＡｑ）までの範囲（１．００８×１０5 〜１．０４３×１０5 Ｐａ）であるのが好ましい。
また、水蒸気を接触させる時間は、１秒以上であるのが好ましく、３秒以上であるのがより好ましく、また、１００秒以下であるのが好ましく、２０秒以下であるのがより好ましい。 <Sealing treatment with water vapor>
Examples of the sealing treatment with water vapor include a method in which pressurized or normal pressure water vapor is brought into contact with the anodized film continuously or discontinuously.
The temperature of the water vapor is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 95 ° C. or higher, and preferably 105 ° C. or lower.
The water vapor pressure is preferably in the range (1.008 × 10 5 to 1.043 × 10 5 Pa) from (atmospheric pressure−50 mmAq) to (atmospheric pressure + 300 mmAq).
Further, the time for which the water vapor is contacted is preferably 1 second or longer, more preferably 3 seconds or longer, 100 seconds or shorter, more preferably 20 seconds or shorter.

＜熱水による封孔処理＞
水蒸気による封孔処理は、例えば、陽極酸化皮膜を形成させたアルミニウム板を熱水に浸漬させる方法が挙げられる。
熱水は、無機塩（例えば、リン酸塩）または有機塩を含有していてもよい。
熱水の温度は、８０℃以上であるのが好ましく、９５℃以上であるのがより好ましく、また、１００℃以下であるのが好ましい。
また、熱水に浸漬させる時間は、１秒以上であるのが好ましく、３秒以上であるのがより好ましく、また、１００秒以下であるのが好ましく、２０秒以下であるのがより好ましい。 <Sealing treatment with hot water>
Examples of the sealing treatment with water vapor include a method in which an aluminum plate on which an anodized film is formed is immersed in hot water.
The hot water may contain an inorganic salt (for example, phosphate) or an organic salt.
The temperature of the hot water is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 95 ° C. or higher, and preferably 100 ° C. or lower.
Further, the time of immersion in hot water is preferably 1 second or longer, more preferably 3 seconds or longer, more preferably 100 seconds or shorter, and even more preferably 20 seconds or shorter.

本発明に用いられる親水化処理としては、米国特許第２，７１４，０６６号、同第３，１８１，４６１号、同第３，２８０，７３４号および同第３，９０２，７３４号の各明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケート法がある。この方法においては、支持体をケイ酸ナトリウムなどの水溶液で浸漬処理し、または電解処理する。そのほかに、特公昭３６−２２０６３号公報に記載されているフッ化ジルコン酸カリウムで処理する方法、米国特許第３，２７６，８６８号、同第４，１５３，４６１号および同第４，６８９，２７２号の各明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法などが挙げられる。   Examples of the hydrophilization treatment used in the present invention include US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734 and 3,902,734. There is an alkali metal silicate method as described in the book. In this method, the support is immersed in an aqueous solution such as sodium silicate or electrolytically treated. In addition, the treatment with potassium zirconate fluoride described in JP-B 36-22063, U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,689, And a method of treating with polyvinylphosphonic acid as described in each specification of No.272.

本発明の支持体は、中心線平均粗さが０．１０〜１．２μｍであるのが好ましい。この範囲で、感光−感熱層との良好な密着性、良好な耐刷性と良好な汚れ難さが得られる。   The support of the present invention preferably has a center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm. Within this range, good adhesion to the photosensitive-thermosensitive layer, good printing durability and good stain resistance can be obtained.

〔バックコート層〕
支持体に表面処理を施した後または下塗層を形成させた後、必要に応じて、支持体の裏面にバックコートを設けることができる。
バックコートとしては、例えば、特開平５−４５８８５号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平６−３５１７４号公報に記載されている有機金属化合物または無機金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好適に挙げられる。中でも、Ｓｉ（ＯＣＨ3 ）4 、Ｓｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）4 、Ｓｉ（ＯＣ3 Ｈ7 ）4 、Ｓｉ（ＯＣ4 Ｈ9 ）4 等のケイ素のアルコキシ化合物を用いるのが、原料が安価で入手しやすい点で好ましい。 [Back coat layer]
After the surface treatment is performed on the support or after the undercoat layer is formed, a back coat can be provided on the back surface of the support, if necessary.
Examples of the back coat include hydrolysis and polycondensation of organic polymer compounds described in JP-A-5-45885, organometallic compounds or inorganic metal compounds described in JP-A-6-35174. A coating layer made of a metal oxide obtained in this manner is preferred. Among them, it is inexpensive to use a silicon alkoxy compound such as Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , Si (OC 4 H 9 ) 4. It is preferable in terms of easy availability.

〔下塗層〕
本発明の平版印刷版原版においては、必要に応じて、感光−感熱層と支持体との間に下塗層を設けることができる。下塗層が断熱層として機能することにより、赤外線レーザーによる露光により発生した熱が支持体に拡散せず、効率よく利用されるようになるため、高感度化が図れるという利点がある。また、未露光部においては、感光−感熱層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、機上現像性が向上する。
下塗層としては、具体的には、特開平１０−２８２６７９号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平２−３０４４４１号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物等が好適に挙げられる。
下塗層の塗布量（固形分）は、０．１〜１００ｍｇ／ｍ2 であるのが好ましく、１〜３０ｍｇ／ｍ2 であるのがより好ましい。 [Undercoat layer]
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, an undercoat layer can be provided between the photosensitive-thermosensitive layer and the support, if necessary. Since the undercoat layer functions as a heat insulating layer, heat generated by exposure with an infrared laser is not diffused to the support and can be used efficiently, so that there is an advantage that high sensitivity can be achieved. Further, in the unexposed area, the on-press developability is improved because peeling of the photosensitive-thermosensitive layer from the support is likely to occur.
As the undercoat layer, specifically, a silane coupling agent having an addition polymerizable ethylenic double bond reactive group described in JP-A-10-282679, JP-A-2-304441. Preferred examples include phosphorus compounds having an ethylenic double bond reactive group described in the publication.
The coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably from 0.1-100 mg / m 2, and more preferably 1 to 30 mg / m 2.

〔中間層〕
本発明の平版印刷版原版においては、必要に応じ、感光−感熱層と支持体との間、または、感光−感熱層と下塗り層との間に、中間層を設けることができる。中間層は、親水性であることが好ましく、例えば、特開２００１−１９９１７５号公報に記載の、ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、珪素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモンおよび遷移金属から選択される少なくとも１つの元素の酸化物または水酸化物のコロイドを含有する塗布液を塗布してなる親水層や、特開２００２−７９７７２号公報に記載の、有機親水性ポリマーを架橋あるいは擬似架橋することにより得られる有機親水性マトリックスを有する親水層や、ポリアルコキシシラン、チタネート、ジルコネートまたはアルミネートの加水分解、縮合反応からなるゾル−ゲル変換により得られる無機親水性マトリックスを有する親水層、あるいは、金属酸化物を含有する表面を有する無機薄膜からなる親水層が好ましい。中でも、珪素の酸化物または水酸化物のコロイドを含有する塗布液を塗布してなる親水層が好ましい。
また、中間層中には、露光部の感光−感熱層との密着性を向上させるために、前述のラジカル重合性化合物等の熱反応性化合物や前述の無機微粒子等を含有してもよい。
中間層の塗布量（固形分）は、０．０５〜２ｇ／ｍ2であるのが好ましく、０．１〜１ｇ／ｍ2であるのがより好ましい。 [Middle layer]
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, an intermediate layer can be provided between the photosensitive-thermosensitive layer and the support, or between the photosensitive-thermosensitive layer and the undercoat layer, if necessary. The intermediate layer is preferably hydrophilic, for example, beryllium, magnesium, aluminum, silicon, titanium, boron, germanium, tin, zirconium, iron, vanadium, antimony and transition described in JP-A-2001-199175. A hydrophilic layer formed by applying a coating solution containing an oxide or hydroxide colloid of at least one element selected from metals, or an organic hydrophilic polymer described in JP-A-2002-79772 is crosslinked or A hydrophilic layer having an organic hydrophilic matrix obtained by quasi-crosslinking or a hydrophilic layer having an inorganic hydrophilic matrix obtained by sol-gel conversion comprising hydrolysis, condensation reaction of polyalkoxysilane, titanate, zirconate or aluminate Or have a surface containing metal oxides Comprising an inorganic thin hydrophilic layer is preferably that. Among these, a hydrophilic layer formed by applying a coating solution containing a silicon oxide or a hydroxide colloid is preferable.
Further, the intermediate layer may contain a heat-reactive compound such as the above-mentioned radical polymerizable compound, the above-mentioned inorganic fine particles, etc. in order to improve the adhesion between the exposed portion and the photosensitive-thermosensitive layer.
The coating amount (solid content) of the intermediate layer is preferably from 0.05 to 2 g / m 2, and more preferably 0.1 to 1 g / m 2.

〔保護層〕
本発明の平版印刷方法に用いられる本発明の平版印刷版原版においては、感光−感熱層における傷等の発生防止、酸素遮断、高照度レーザー露光時のアブレーション防止のため、必要に応じて、感光−感熱層の上に保護層を設けることができる。
本発明においては、通常、露光を大気中で行うが、保護層は、感光−感熱層中で露光により生ずる画像形成反応を阻害する大気中に存在する酸素、塩基性物質等の低分子化合物の感光−感熱層への混入を防止し、大気中での露光による画像形成反応の阻害を防止する。従って、保護層に望まれる特性は、酸素等の低分子化合物の透過性が低いことであり、更に、露光に用いられる光の透過性が良好で、感光−感熱層との密着性に優れ、かつ、露光後の機上現像処理工程で容易に除去することができるものであるのが好ましい。このような特性を有する保護層については、以前より種々検討がなされており、例えば、米国特許第３、４５８、３１１号明細書および特公昭５５−４９７２９号公報に詳細に記載されている。 [Protective layer]
In the lithographic printing plate precursor of the present invention used in the lithographic printing method of the present invention, the photolithographic printing plate precursor of the present invention is optionally exposed to light to prevent scratches in the photosensitive-thermosensitive layer, to block oxygen, and to prevent ablation during high-intensity laser exposure. -A protective layer can be provided on the thermosensitive layer.
In the present invention, the exposure is usually carried out in the atmosphere, but the protective layer is composed of low molecular weight compounds such as oxygen and basic substances present in the atmosphere that inhibit the image forming reaction caused by exposure in the photosensitive-thermosensitive layer. Mixing into the photosensitive-thermosensitive layer is prevented, and inhibition of image formation reaction due to exposure in the air is prevented. Therefore, the properties desired for the protective layer are low permeability of low-molecular compounds such as oxygen, furthermore, good transparency of light used for exposure, and excellent adhesion to the photosensitive-thermosensitive layer, And it is preferable that it can be easily removed in the on-press development process after exposure. Various studies have been made on the protective layer having such characteristics, and are described in detail, for example, in US Pat. No. 3,458,311 and JP-B-55-49729.

保護層に用いられる材料としては、例えば、比較的、結晶性に優れる水溶性高分子化合物が挙げられる。具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸等の水溶性ポリマーが挙げられる。中でも、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を主成分として用いると、酸素遮断性、現像除去性等の基本的な特性に対して最も良好な結果を与える。ポリビニルアルコールは、保護層に必要な酸素遮断性と水溶性を与えるための未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテルまたはアセタールで置換されていてもよく、一部が他の共重合成分を有していてもよい。   Examples of the material used for the protective layer include water-soluble polymer compounds that are relatively excellent in crystallinity. Specific examples include water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, and polyacrylic acid. Among these, when polyvinyl alcohol (PVA) is used as a main component, the best results are obtained for basic characteristics such as oxygen barrier properties and development removability. The polyvinyl alcohol may be partially substituted with an ester, ether or acetal as long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit for providing the oxygen barrier property and water solubility necessary for the protective layer, and a part of the other You may have a copolymerization component.

ポリビニルアルコールの具体例としては、７１〜１００モル％加水分解された重合度３００〜２４００の範囲のものが好適に挙げられる。具体的には、例えば、株式会社クラレ製のＰＶＡ−１０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１１７Ｈ、ＰＶＡ−１２０、ＰＶＡ−１２４、ＰＶＡ−１２４Ｈ、ＰＶＡ−ＣＳ、ＰＶＡ−ＣＳＴ、ＰＶＡ−ＨＣ、ＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２０４、ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−２１０、ＰＶＡ−２１７、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２２４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２１７Ｅ、ＰＶＡ−２２０Ｅ、ＰＶＡ−２２４Ｅ、ＰＶＡ−４０５、ＰＶＡ−４２０、ＰＶＡ−６１３、Ｌ−８が挙げられる。   As specific examples of polyvinyl alcohol, those having a hydrolysis degree of 71 to 100 mol% and a polymerization degree of 300 to 2400 are preferably mentioned. Specifically, for example, Kuraray Co., Ltd. PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA- HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA-420, PVA-613, and L-8 are mentioned.

保護層の成分（ＰＶＡの選択、添加剤の使用等）、塗布量等は、酸素遮断性および現像
除去性のほか、カブリ性、密着性、耐傷性等を考慮して適宜選択される。一般には、ＰＶＡの加水分解率が高いほど（すなわち、保護層中の未置換ビニルアルコール単位含有率が高いほど）、また、膜厚が厚いほど、酸素遮断性が高くなり、感度の点で好ましい。また、製造時および保存時に不要な重合反応、画像露光時の不要なカブリおよび画線の太り等を防止するためには、酸素透過性が高くなりすぎないことが好ましい。従って、２５℃、１気圧下における酸素透過性Ａが０．２≦Ａ≦２０（ｃｃ／ｍ2・ｄａｙ）であることが好ましい。 The components of the protective layer (selection of PVA, use of additives, etc.), coating amount, etc. are appropriately selected in consideration of fogging properties, adhesion, scratch resistance, etc. in addition to oxygen barrier properties and development removability. Generally, the higher the hydrolysis rate of PVA (that is, the higher the content of the unsubstituted vinyl alcohol unit in the protective layer), and the thicker the film thickness, the higher the oxygen barrier property, which is preferable in terms of sensitivity. . Further, in order to prevent unnecessary polymerization reaction during production and storage, unnecessary fogging during image exposure, image line thickening, and the like, it is preferable that the oxygen permeability is not excessively high. Accordingly, the oxygen permeability A at 25 ° C. and 1 atm is preferably 0.2 ≦ A ≦ 20 (cc / m 2 · day).

保護層の他の組成物として、グリセリン、ジプロピレングリコール等を水溶性高分子化合物に対して数質量％相当量添加して可撓性を付与することができ、また、アルキル硫酸ナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウム等のアニオン界面活性剤；アルキルアミノカルボン酸塩、アルキルアミノジカルボン酸塩等の両性界面活性剤；ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等の非イオン界面活性剤を（共）重合体に対して数質量％添加することができる。
保護層の膜厚は、０．１〜５μｍが適当であり、特に０．２〜２μｍが好適である。 As another composition of the protective layer, glycerin, dipropylene glycol and the like can be added in an amount corresponding to several mass% with respect to the water-soluble polymer compound, and flexibility can be imparted. Anionic surfactants such as sodium acid salts; amphoteric surfactants such as alkylaminocarboxylates and alkylaminodicarboxylates; nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkylphenyl ethers based on (co) polymers Mass% can be added.
The thickness of the protective layer is suitably from 0.1 to 5 μm, particularly preferably from 0.2 to 2 μm.

また、画像部との密着性、耐傷性等も平版印刷版原版の取り扱い上、極めて重要である。すなわち、水溶性高分子化合物を含有するため親水性である保護層を、感光−感熱層が親油性である場合に、感光−感熱層に積層すると、接着力不足による保護層のはく離が生じやすく、はく離部分において、酸素による重合阻害に起因する膜硬化不良等の欠陥を引き起こすことがある。   In addition, adhesion to the image area, scratch resistance, and the like are extremely important in handling the lithographic printing plate precursor. That is, when a photosensitive protective layer containing a water-soluble polymer compound is hydrophilic and the photosensitive-thermosensitive layer is oleophilic, the protective layer is easily peeled off due to insufficient adhesion. In the peeled portion, defects such as defective film hardening due to polymerization inhibition by oxygen may occur.

これに対して、感光−感熱層と保護層との間の接着性を改良すべく、種々の提案がなされている。例えば、特開昭４９−７０７０２号公報および英国特許出願公開第１３０３５７８号明細書には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルション、水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体等を２０〜６０質量％混合させ、感光−感熱層上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明においては、これらの公知の技術をいずれも用いることができる。保護層の塗布方法については、例えば、米国特許第３，４５８，３１１号明細書および特公昭５５−４９７２９号公報に詳細に記載されている。   On the other hand, various proposals have been made to improve the adhesion between the photosensitive-thermosensitive layer and the protective layer. For example, JP-A-49-70702 and British Patent Application No. 1303578 disclose an acrylic emulsion, a water-insoluble vinylpyrrolidone-vinyl acetate copolymer, etc. in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol. It is described that sufficient adhesiveness can be obtained by mixing 20 to 60% by mass and laminating on a photosensitive-thermosensitive layer. Any of these known techniques can be used in the present invention. The method for applying the protective layer is described in detail, for example, in US Pat. No. 3,458,311 and JP-B-55-49729.

更に、保護層には、他の機能を付与することもできる。例えば、露光に用いられる赤外線の透過性に優れ、かつ、それ以外の波長の光を効率よく吸収しうる、着色剤（例えば、水溶性染料）の添加により、感度低下を引き起こすことなく、セーフライト適性を向上させることができる。   Furthermore, other functions can be imparted to the protective layer. For example, by adding a colorant (for example, a water-soluble dye) that is excellent in the transparency of infrared rays used for exposure and that can efficiently absorb light of other wavelengths, safe light is not caused. Suitability can be improved.

〔露光〕
本発明に適用し得る露光光源としては、特に限定されないが例えば、カーボンアーク、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ランプ、タングステンランプ、ハロゲンランプ、紫外光レーザー、可視光レーザー、赤外光レーザーが挙げられる。
特に、本発明の感光-感熱層に赤外線吸収剤を含有する場合は、デジタルデータに従って、赤外線レーザーで画像様に走査露光することが好ましい。
本発明に用いられる赤外線レーザーは、特に限定されないが、波長７６０〜１２００ｎｍの赤外線を放射する固体レーザーおよび半導体レーザーが好適に挙げられる。赤外線レーザーの出力は、１００ｍＷ以上であるのが好ましい。また、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザーデバイスを用いるのが好ましい。１画素あたりの露光時間は、２０μ秒以内であるのが好ましい。また、照射エネルギー量は、１０〜３００ｍＪ／ｃｍ2であるのが好ましい。 〔exposure〕
The exposure light source applicable to the present invention is not particularly limited, but for example, carbon arc, high-pressure mercury lamp, xenon lamp, metal halide lamp, fluorescent lamp, tungsten lamp, halogen lamp, ultraviolet laser, visible light laser, infrared laser Is mentioned.
In particular, when the photosensitive-thermosensitive layer of the present invention contains an infrared absorber, it is preferable to perform imagewise scanning exposure with an infrared laser according to digital data.
Although the infrared laser used for this invention is not specifically limited, The solid laser and semiconductor laser which radiate | emit infrared rays with a wavelength of 760-1200 nm are mentioned suitably. The output of the infrared laser is preferably 100 mW or more. In order to shorten the exposure time, it is preferable to use a multi-beam laser device. The exposure time per pixel is preferably within 20 μsec. Moreover, it is preferable that irradiation energy amount is 10-300 mJ / cm < 2 >.

〔印刷方法〕
本発明の平版印刷方法においては、上述したように、本発明の平版印刷版原版を活性光線で画像様に露光した後、（加圧処理を施し、色画像を形成させ画像を確認した後、）なんらの現像処理工程を経ることなく油性インキと水性成分とを供給して印刷する。
具体的には、平版印刷版原版を活性光線で画像様に露光した後、現像処理工程を経ることなく印刷機に装着して印刷する方法、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上においてレーザーで露光し、現像処理工程を経ることなく印刷する方法等が挙げられる。 [Printing method]
In the planographic printing method of the present invention, as described above, after exposing the planographic printing plate precursor of the present invention imagewise with actinic rays, (after applying pressure treatment, forming a color image and confirming the image, ) Supplying and printing oil-based ink and water-based component without any development processing steps.
Specifically, after a lithographic printing plate precursor is exposed imagewise with actinic rays, it is mounted on a printing machine without passing through a development process, and printing is performed after the lithographic printing plate precursor is mounted on a printing machine. Examples include a method of performing exposure with a laser on a machine and printing without going through a development process.

例えば、ネガ型の機上現像型平版印刷版原版の一態様では、平版印刷版原版を赤外線レーザーで画像様に露光した後、金属ローラーで全面加圧し、色画像を形成し、その後湿式現像処理工程等の現像処理工程を経ることなく湿し水と印刷インキとを供給して印刷すると、感光−感熱層の露光部においては、露光により硬化した感光−感熱層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。一方、未露光部においては、供給された水性成分および／または油性インキによって、未硬化の感光−感熱層が溶解しまたは分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。
その結果、水性成分は露出した親水性の表面に付着し、油性インキは露光領域の感光−感熱層に着肉し、印刷が開始される。ここで、最初に版面に供給されるのは、水性成分でもよく、油性インキでもよいが、水性成分が未露光部の感光−感熱層により汚染されることを防止する点で、最初に油性インキを供給するのが好ましい。水性成分および油性インキとしては、通常の平版印刷用の湿し水と印刷インキが用いられる。
このようにして、平版印刷版原版はオフセット印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。 For example, in one aspect of a negative on-press development type lithographic printing plate precursor, the lithographic printing plate precursor is exposed imagewise with an infrared laser, then pressed entirely with a metal roller to form a color image, and then wet developed. When printing is performed by supplying dampening water and printing ink without going through a development processing step such as a step, in the exposed portion of the photosensitive-thermosensitive layer, the photosensitive-thermosensitive layer cured by exposure has an oleophilic surface. An ink receiving part is formed. On the other hand, in the unexposed area, the uncured photosensitive-thermosensitive layer is dissolved or dispersed and removed by the supplied aqueous component and / or oil-based ink, and a hydrophilic surface is exposed at that portion.
As a result, the aqueous component adheres to the exposed hydrophilic surface, and the oil-based ink is deposited on the light-sensitive layer in the exposed area, and printing is started. Here, an aqueous component or an oil-based ink may be supplied to the printing plate first, but the oil-based ink is first used in order to prevent the aqueous component from being contaminated by the unexposed portion of the photosensitive-thermosensitive layer. Is preferably supplied. As the aqueous component and oil-based ink, a dampening water and printing ink for ordinary lithographic printing are used.
In this way, the lithographic printing plate precursor is subjected to on-press development on an offset printing machine and used as it is for printing a large number of sheets.

以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these.

１．平版印刷版原版の作製
〔実施例１〕
＜アルミニウム支持体の作製＞
厚み０．３ｍｍのアルミニウム板（材質ＪＩＳ１０５０）の表面の圧延油を除去するため、１０質量％アルミン酸ソーダ水溶液を用いて５０℃で３０秒間、脱脂処理を施した後、毛径０．３ｍｍの束植ナイロンブラシ３本とメジアン径２５μｍのパミス−水懸濁液（比重１．１ｇ／ｃｍ3）を用いアルミニウム板表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を４５℃の２５質量％水酸化ナトリウム水溶液に９秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに６０℃で２０質量％硝酸に２０秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約３ｇ／ｍ2であった。 1. Preparation of planographic printing plate precursor [Example 1]
<Preparation of aluminum support>
In order to remove rolling oil on the surface of a 0.3 mm thick aluminum plate (material JIS1050), a degreasing treatment was performed at 50 ° C. for 30 seconds using a 10 mass% sodium aluminate aqueous solution, and then the hair diameter was 0.3 mm. The surface of the aluminum plate was grained using three bundle-planted nylon brushes and a pumice-water suspension (specific gravity 1.1 g / cm 3 ) having a median diameter of 25 μm and thoroughly washed with water. This plate was etched by being immersed in a 25 mass% sodium hydroxide aqueous solution at 45 ° C for 9 seconds, washed with water, further immersed in 20 mass% nitric acid at 60 ° C for 20 seconds, and washed with water. The etching amount of the grained surface at this time was about 3 g / m 2 .

次に、６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸１質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む）、液温５０℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ＴＰが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１の台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ2 、補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量１７５Ｃ／ｄｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。 Next, an electrochemical roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 1% by mass nitric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and a liquid temperature of 50 ° C. The AC power source waveform is an electrochemical roughening process using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time ratio TP of 0.8 msec and a duty ratio of 1: 1 until the current value reaches a peak from zero, using a carbon electrode as a counter electrode. Went. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. The amount of electricity in the nitric acid electrolysis was 175 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode. Then, water washing by spraying was performed.

次に、塩酸０．５質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む）、液温５０℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量５０Ｃ／ｄｍ2の条件で、上記硝酸電解と同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。この板を１５質量％硫酸（アルミニウムイオンを０．５質量％含む）を電解液として電流密度１５Ａ／ｄｍ2で２．５ｇ／ｍ2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥し、さらに、珪酸ナトリウム２．５質量％水溶液にて３０℃で１０秒処理した。この支持体表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）を直径２μｍの針を用いて測定したところ、０．５１μｍであった。 Next, in a 0.5% by mass aqueous solution of hydrochloric acid (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and an electrolytic solution having a liquid temperature of 50 ° C., the above nitric acid was used under the condition of an electric quantity of 50 C / dm 2 when the aluminum plate was an anode. An electrochemical surface roughening treatment was performed in the same manner as in electrolysis, and then water washing by spraying was performed. The plate was provided with a direct current anodized film of 2.5 g / m 2 at a current density of 15 A / dm 2 using 15 mass% sulfuric acid (containing 0.5 mass% of aluminum ions) as an electrolytic solution, then washed with water and dried. Furthermore, it processed at 30 degreeC for 10 second with 2.5 mass% sodium silicate aqueous solution. The center line average roughness (Ra) of the surface of the support was measured using a needle having a diameter of 2 μm and found to be 0.51 μm.

＜下塗り層の形成＞
上記支持体上に、下記組成の下塗り層塗布液（１）をバー塗布した後、８０℃、２０秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量０．００５ｇ／ｍ2の下塗り層を形成した。 <Formation of undercoat layer>
An undercoat layer coating solution (1) having the following composition was bar-coated on the support and then oven-dried at 80 ° C. for 20 seconds to form an undercoat layer having a dry coating amount of 0.005 g / m 2 .

下塗り層塗布液（１）
・水 １０ｇ
・メタノール ９０ｇ
・下記のポリマー（１） ０．０９ｇ Undercoat layer coating solution (1)
・ Water 10g
・ Methanol 90g
・ The following polymer (1) 0.09 g

Figure 2005297517
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＜感光−感熱層の形成＞
上記下塗り層上に、下記組成の感光−感熱層塗布液（１）をバー塗布した後、７０℃で、６０秒間オーブン乾燥し、乾燥塗布量１．０ｇ／ｍ2の感光−感熱層を形成して平版印刷版原版を得た。 <Formation of photosensitive-thermosensitive layer>
On the undercoat layer, a photosensitive-thermosensitive layer coating solution (1) having the following composition was bar-coated, followed by oven drying at 70 ° C. for 60 seconds to form a photosensitive-thermosensitive layer having a dry coating amount of 1.0 g / m 2. Thus, a lithographic printing plate precursor was obtained.

感光−感熱層塗布液（１）
・下記の赤外線吸収剤（１） ０．３ｇ
・下記の重合開始剤（１） ０．９ｇ
・下記のバインダーポリマー（１） １．８ｇ
・重合性化合物 ２．０ｇ
イソシアヌール酸ＥＯ変性トリアクリレート
（東亞合成（株）製、アロニックスＭ−３１５）
・下記のマイクロカプセル（１）（固形分換算で） ５．０ｇ
・顕色剤
３−Ｔｅｒｔ−ブチルサリチル酸 １．０ｇ
無水フタル酸 １．０ｇ
・下記のフッ素系界面活性剤（１） ０．１ｇ
・メチルエチルケトン ５ｇ
・メタノール ５ｇ
・水 ３５ｇ
・プロピレングリコールモノメチルエーテル ５０ｇ Photosensitive-thermosensitive layer coating solution (1)
・ The following infrared absorber (1) 0.3 g
-0.9 g of the following polymerization initiator (1)
-1.8 g of the following binder polymer (1)
・ Polymerizable compound 2.0g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd., Aronix M-315)
・ The following microcapsule (1) (in terms of solid content) 5.0 g
・ Developer 3-tert-butylsalicylic acid 1.0 g
Phthalic anhydride 1.0g
・ 0.1 g of the following fluorosurfactant (1)
・ Methyl ethyl ketone 5g
・ Methanol 5g
・ Water 35g
・ Propylene glycol monomethyl ether 50g

Figure 2005297517
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Figure 2005297517
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（マイクロカプセル（１）の合成）
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体（三井武田ケミカル(株)製、タケネートＤ−１１０Ｎ）８．７ｇ、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート（昭和電工（株）製、カレンズＭＯＩ）１ｇ、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）製、ＳＲ４４４）３ｇ、変色剤クリスタルバイオレットラクトン（東京化成工業（株）製）３ｇ、およびドデシルベンゼンスルホン酸Ｎａ塩（竹本油脂(株)製、パイオニンＡ−４１Ｃ） ０．１ｇを酢酸エチル１７ｇに溶解した。水相成分としてＰＶＡ−２０５の４質量％水溶液４０ｇを調製した。油相成分および水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて１２０００ｒｐｍで１０分間乳化した。得られた乳化物に、蒸留水２５ｇを添加し、室温で３０分攪拌後、４０℃で３時間攪拌した。このようにして得られたマイクロカプセル液の固形分濃度を、２０質量％になるように蒸留水を用いて希釈した。平均粒径は０．３μｍであった。 (Synthesis of microcapsule (1))
As oil phase components, trimethylolpropane and xylene diisocyanate adduct (Mitsui Takeda Chemicals, Takenate D-110N) 8.7 g, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate (Showa Denko Co., Karenz MOI) 1 g, 3 g of pentaerythritol triacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., SR444), 3 g of the color changer crystal violet lactone (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), and Na salt of dodecylbenzenesulfonic acid (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd., 0.1 g of Piionin A-41C) was dissolved in 17 g of ethyl acetate. As an aqueous phase component, 40 g of a 4% by mass aqueous solution of PVA-205 was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were mixed and emulsified for 10 minutes at 12000 rpm using a homogenizer. To the obtained emulsion, 25 g of distilled water was added, stirred at room temperature for 30 minutes, and then stirred at 40 ° C. for 3 hours. The microcapsule solution thus obtained was diluted with distilled water so that the solid content concentration became 20% by mass. The average particle size was 0.3 μm.

〔実施例２〕
実施例１の感光-感熱層塗布液（１）中の顕色剤（３−Ｔｅｒｔ−ブチルサリチル酸、無水フタル酸）を取り除いて感光-感熱層を形成する以外は、実施例１と同様にして、感光-感熱層を形成した。
次いで、感光-感熱層上に、下記組成のオーバーコート層塗布液（１）をホモジナイザーで５分間攪拌した後、バー塗布し、８０℃、１２０秒でオーブン乾燥して乾燥塗布量２．０ｇ／ｍ2のオーバーコート層を形成して平版印刷版原版を得た。 [Example 2]
The same procedure as in Example 1 was conducted except that the developer (3-Tert-butylsalicylic acid, phthalic anhydride) in the photosensitive-thermosensitive layer coating solution (1) of Example 1 was removed to form a photosensitive-thermosensitive layer. A photosensitive-thermosensitive layer was formed.
Next, an overcoat layer coating solution (1) having the following composition was stirred on the photosensitive-thermosensitive layer for 5 minutes with a homogenizer, then bar-coated, oven-dried at 80 ° C. for 120 seconds, and a dry coating amount of 2.0 g / kg. An m 2 overcoat layer was formed to obtain a lithographic printing plate precursor.

オーバーコート層塗布液（１）
・ポリビニルアルコール（ケン化度９８．５モル％） １．０ｇ
（クラレ（株）製、ＰＶＡ１０５）
・ポリオキシエチレンラウリルエーテル ０．０１ｇ
（日本エマルジョン（株）製、エマレックス７１０）
・顕色剤
炭酸亜鉛 ０．５ｇ
酸性白土 ０．５ｇ
・水 １９．０ｇ Overcoat layer coating solution (1)
・ Polyvinyl alcohol (saponification degree: 98.5 mol%) 1.0 g
(Kuraray Co., Ltd., PVA105)
・ Polyoxyethylene lauryl ether 0.01g
(Emulex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.)
・ Developer Zinc carbonate 0.5g
Acid clay 0.5g
・ Water 19.0g

〔実施例３〕
実施例１の下塗り層上に、さらに、下記組成の中間層塗布液（１）をバー塗布した後、１２０℃、６０秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量０．５ｇ／ｍ2の中間層を形成した以外は実施例１と同様にして平版印刷版原版を得た。 Example 3
Further, an intermediate layer coating solution (1) having the following composition was bar coated on the undercoat layer of Example 1, and then oven-dried at 120 ° C. for 60 seconds to form an intermediate layer having a dry coating amount of 0.5 g / m 2. A lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 1 except that it was formed.

中間層塗布液（１）
・ポリビニルアルコール（ケン化度９８．５モル％） ０．５ｇ
（クラレ（株）製、ＰＶＡ１０５）
・ポリオキシエチレンラウリルエーテル ０．０１ｇ
（日本エマルジョン（株）製、エマレックス７１０）
・顕色剤
安息香酸亜鉛 ０．５ｇ
・アシッドホスホオキシポリオキシ
エチレングリコールモノメタクリレート ０．５ｇ
（ユニケミカル（株）製、ホスマーＰＥ）
・ゾルゲル調製液（下記組成） １７ｇ
・水 １９．０ｇ Intermediate layer coating solution (1)
・ Polyvinyl alcohol (saponification degree: 98.5 mol%) 0.5 g
(Kuraray Co., Ltd., PVA105)
・ Polyoxyethylene lauryl ether 0.01g
(Emulex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.)
・ Developer Zinc benzoate 0.5g
・ Acid phosphooxypolyoxyethylene glycol monomethacrylate 0.5g
(Unichemical Co., Ltd., Phosmer PE)
・ Solgel preparation liquid (the following composition) 17g
・ Water 19.0g

（ゾルゲル調製液の作製）
下記組成の液を室温において、１時間熟成してゾルゲル調製液を作製した。
・テトラメトキシシラン １１．０ｇ
・エタノール ２０．７ｇ
・０．１規定 硝酸 ４．５ｇ (Preparation of sol-gel preparation)
A solution having the following composition was aged at room temperature for 1 hour to prepare a sol-gel preparation solution.
・ Tetramethoxysilane 11.0g
・ Ethanol 20.7g
・ 0.1N nitric acid 4.5g

〔比較例１〜３〕
マイクロカプセル（１）の合成においてクリスタルバイオレットラクトンの代わりに、ペンタエリスリトールトリアクリレートをさらに３ｇ添加した以外は、マイクロカプセル（１）の合成と同様に、マイクロカプセル（２）を合成した。
このマイクロカプセル（２）をマイクロカプセル（１）の代わりに使用する以外は、実施例１〜３と各々同様にして、比較例１〜３の平版印刷版原版を得た。 [Comparative Examples 1-3]
Microcapsule (2) was synthesized in the same manner as microcapsule (1) except that 3 g of pentaerythritol triacrylate was added in place of crystal violet lactone in the synthesis of microcapsule (1).
Lithographic printing plate precursors of Comparative Examples 1 to 3 were obtained in the same manner as in Examples 1 to 3, respectively, except that this microcapsule (2) was used instead of the microcapsule (1).

〔実施例４〜６〕
マイクロカプセル（１）の合成においてクリスタルバイオレットラクトンの代わりに、３−ジエチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン（山本化成（株）製、ＯＤＢ）を添加した以外は、マイクロカプセル（１）の合成と同様に、マイクロカプセル（３）を合成した。
このマイクロカプセル（３）をマイクロカプセル（１）の代わりに使用する以外は、実施例１〜３と各々同様にして、実施例４〜６の平版印刷版原版を得た。 [Examples 4 to 6]
Microcapsule (1) except that 3-diethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane (ODB, manufactured by Yamamoto Kasei Co., Ltd.) was added instead of crystal violet lactone in the synthesis of microcapsule (1). The microcapsule (3) was synthesized in the same manner as the above.
Lithographic printing plate precursors of Examples 4 to 6 were obtained in the same manner as in Examples 1 to 3, respectively, except that this microcapsule (3) was used instead of microcapsule (1).

２．露光
得られた平版印刷版原版を水冷式４０Ｗ赤外線半導体レーザー搭載のＣｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４ＶＸにて、版面エネルギー量１００ｍＪ／ｃｍ2にて、解像度２４００ｄｐｉの条件で露光した。 2. Exposure The resulting lithographic printing plate precursor was exposed with a Trendsetter 3244VX manufactured by Creo equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser at a plate surface energy of 100 mJ / cm 2 and a resolution of 2400 dpi.

３．加圧
画像露光後の平版印刷版原版を金属製の加圧ローラーに通した。このときの搬送スピードは、５分／ｍであり、版面に加わる圧力は、約１×１０6Ｎ／ｍ2であった。 3. Pressurization The lithographic printing plate precursor after image exposure was passed through a metal pressure roller. The conveyance speed at this time was 5 minutes / m, and the pressure applied to the printing plate was about 1 × 10 6 N / m 2 .

４．露光部と未露光部の色差ΔＥおよび明度差ΔＬの測定
上記加圧後の平版印刷版原版を色差計（色彩色差計ＣＲ−２２１、ミノルタ（株）製）を用いて、露光部と未露光部の色空間座標の値Ｌ*，ａ*，ｂ*を測定し、ΔＥ（＝［（露光部と未露光部のＬ*の差）2＋（露光部と未露光部のａ*の差）2＋（露光部と未露光部のｂ*の差）2］1/2）および明度差ΔＬ（露光部と未露光部のＬ*の差）を求めた。
その結果、実施例１〜６は、いずれも、未露光部が発色しており、ΔＥが２０以上、ΔＬが８以上であり、露光部と未露光部のコントラストは良好であり、細線や文字がはっきりと認識できた。
一方、比較例１〜３は、ΔＥが１０以下、ΔＬが３以上であり、露光部と未露光部のコントラストは明確ではなく、細線や文字の認識が困難であった。
また、実施例１〜６を加圧しなかった場合も、比較例１〜３と同様であった。 4). Measurement of color difference ΔE and brightness difference ΔL between exposed and unexposed areas The lithographic printing plate precursor after pressurization was subjected to exposure and unexposed using a color difference meter (color difference meter CR-221, manufactured by Minolta Co., Ltd.). Color space coordinate values L * , a * , b * of the area are measured and ΔE (= [(difference of L * between the exposed area and unexposed area) 2 + (difference between a * between the exposed area and the unexposed area) ) 2 + (difference in b * between exposed and unexposed areas) 2 ] 1/2 ) and brightness difference ΔL (difference in L * between exposed and unexposed areas).
As a result, in each of Examples 1 to 6, the unexposed portion is colored, ΔE is 20 or more, ΔL is 8 or more, the contrast between the exposed portion and the unexposed portion is good, and fine lines and characters Was clearly recognizable.
On the other hand, in Comparative Examples 1 to 3, ΔE was 10 or less and ΔL was 3 or more, and the contrast between the exposed part and the unexposed part was not clear, and it was difficult to recognize fine lines and characters.
Moreover, also when Examples 1-6 were not pressurized, it was the same as that of Comparative Examples 1-3.

５．印刷
得られた露光、加圧済みの原版を現像処理することなく、ハイデルベルグ社製印刷機ＳＯＲ−Ｍのシリンダーに取り付けた。湿し水（ＩＦ１０２（富士写真フイルム（株）製）／水＝４／９６（容量比））とＴＲＡＮＳ−Ｇ（Ｎ）墨インキ（大日本インキ化学工業社製）とを用い、湿し水とインクを供給した後、毎時６０００枚の印刷速度で印刷を１００枚行った。 5). Printing The exposed and pressurized original plate was mounted on a cylinder of a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg without developing. Using dampening water (IF102 (Fuji Photo Film Co., Ltd.) / Water = 4/96 (volume ratio)) and TRANS-G (N) black ink (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) And 100 inks were printed at a printing speed of 6000 sheets per hour.

感光−感熱層の未露光部の印刷機上での機上現像が完了し、印刷用紙にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を機上現像性として計測したところ、いずれの平版印刷版原版を用いた場合も、１００枚以内で非画像部の汚れのない印刷物が得られ
た。また、その後、５千枚の印刷を実施したところ、画像部のインキ濃度の低下および非画像部の汚れのない印刷物が得られた。 When the on-machine development on the printing machine of the unexposed part of the photosensitive-thermosensitive layer was completed and the number of printing paper sheets required until the ink was not transferred to the printing paper was measured as on-machine developability, Even when the lithographic printing plate precursor was used, a printed matter having no non-image area stain was obtained within 100 sheets. After that, when 5,000 sheets were printed, a printed matter free from a decrease in ink density in the image area and stains in the non-image area was obtained.

Claims (12)

支持体上に活性光線の露光により画像記録可能な感光−感熱層を有する平版印刷版原版であって、画像露光後に、平版印刷版原版表面に圧力を掛けることにより、露光部と未露光部とに色の差が生ずることを特徴とする平版印刷版原版。   A lithographic printing plate precursor having a photosensitive-thermosensitive layer capable of recording an image by exposure to actinic rays on a support, and by applying pressure to the lithographic printing plate precursor surface after image exposure, an exposed portion and an unexposed portion A lithographic printing plate precursor having a color difference between the two. 加圧により色の変化が生ずる発色系（Ａ）を含有することを特徴とする請求項１記載の平版印刷版原版。   2. The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, comprising a color developing system (A) that changes color when pressed. 前記発色系（Ａ）が発色剤（Ａ１）と顕色剤（Ａ２）からなることを特徴とする請求項２記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 2, wherein the color developing system (A) comprises a color former (A1) and a developer (A2). 前記発色剤（Ａ１）または前記顕色剤（Ａ２）が、マイクロカプセルに内包されていることを特徴とする請求項３記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 3, wherein the color former (A1) or the developer (A2) is encapsulated in a microcapsule. 前記感光−感熱層が、ラジカル重合性化合物（Ｂ）およびラジカル重合開始剤（Ｃ）を含有することを特徴とする請求項１記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the photosensitive-thermosensitive layer contains a radical polymerizable compound (B) and a radical polymerization initiator (C). 前記圧力が２×１０5Ｎ／ｍ2以上であることを特徴とする請求項１記載の平版印刷版原版。 2. The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the pressure is 2 × 10 5 N / m 2 or more. 画像記録後に現像処理工程を経ることなく印刷機に装着するか、または、印刷機装着後に画像記録することにより、印刷可能であることを特徴とする請求項１〜６記載の平版印刷版原版。   7. The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the lithographic printing plate precursor is printable by being mounted on a printing machine without undergoing a development processing step after image recording, or by image recording after mounting of the printing machine. 前記支持体の表面が親水性であり、さらに、前記感光−感熱層が、印刷インキおよび／または湿し水により除去可能である請求項７に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor according to claim 7, wherein the surface of the support is hydrophilic, and the photosensitive-thermosensitive layer is removable with a printing ink and / or fountain solution. 請求項１〜８の平版印刷版原版を活性光線により画像露光した後に、平版印刷版原版表面に圧力を掛けることにより、露光部と未露光部とに色の差を生じさせることを特徴とする平版印刷版原版に色画像を形成する方法。   After the lithographic printing plate precursor according to claim 1 is image-exposed with actinic rays, a pressure difference is caused between the exposed portion and the unexposed portion by applying pressure to the lithographic printing plate precursor surface. A method of forming a color image on a lithographic printing plate precursor. 前記活性光線が、レーザー光であることを特徴とする請求項９の平版印刷版原版に色画像を形成する方法。   10. The method for forming a color image on a lithographic printing plate precursor as claimed in claim 9, wherein the actinic ray is a laser beam. 前記感光−感熱層が、赤外線吸収剤（Ｄ）を含有することを特徴とする請求項１〜８記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the photosensitive-thermosensitive layer contains an infrared absorber (D). 請求項１１記載の平版印刷版原版を赤外線レーザー光により画像露光した後に、平版印刷版原版表面に圧力をかけることにより、露光部と未露光部とに色の差を生じさせることを特徴とする平版印刷版原版に色画像を形成する方法。   The lithographic printing plate precursor according to claim 11 is image-exposed with infrared laser light, and then a pressure is applied to the surface of the lithographic printing plate precursor to cause a color difference between an exposed portion and an unexposed portion. A method of forming a color image on a lithographic printing plate precursor.
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