JP2006205397A - On-press developing type lithographic printing-form original plate and lithographic printing method using the same - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an on-press developing type lithographic printing-form original plate, the direct making-up of which can be obtained by scanning infrared laser based on digital signals developed by a computer or the like, the image visibility after exposure of which is favorable, the image-forming layer of which can be formed without nonuniform coating and, at the same time, printing with which can be executed without passing through a development treatment process and a lithographic printing method, in which printing is performed by employing the on-press developing type lithographic printing-form original plate. <P>SOLUTION: In the on-press developing type lithographic printing-form original plate, in which an alterant-containing layer is provided on a support and the difference between the logP value of the alterant and the average logP value of the components except the alterant of the alterant-containing layer is below 3.5. In addition, the lithographic printing method using thereof is provided. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、色画像形成層を有する平版印刷版原版及びそれを用いる平版印刷方法に関する。詳しくは、コンピュータ等のデジタル信号に基づいて赤外線レーザーを走査することにより直接製版することができる平版印刷版原版であって、露光後の画像視認性が良好で、現像処理工程を経ることなく印刷可能な機上現像型平版印刷版原版、及び、該機上現像型平版印刷版原版を用いて印刷する平版印刷方法に関する。   The present invention relates to a lithographic printing plate precursor having a color image forming layer and a lithographic printing method using the same. Specifically, it is a lithographic printing plate precursor that can be directly made by scanning an infrared laser based on a digital signal from a computer, etc., and has good image visibility after exposure and can be printed without going through a development processing step. The present invention relates to an on-press development type lithographic printing plate precursor and a lithographic printing method for printing using the on-press development type lithographic printing plate precursor.

機上現像型平版印刷版原版の画像形成層は、印刷機上で非画像部を現像するために湿し水に対して親和性を有する必要がある。しかしながら、通常の変色剤は、疎水性であるために相溶性が悪く、画像形成層から分離し、ムラを生じる等の問題があった。   The image forming layer of the on-press development type lithographic printing plate precursor needs to have an affinity for dampening water in order to develop the non-image area on the printing press. However, ordinary color-changing agents have a problem that they are poorly compatible because they are hydrophobic and are separated from the image forming layer to cause unevenness.

一方、最近、波長７６０〜１２００ｎｍの赤外線を放射する半導体レーザー、ＹＡＧレーザー等の高出力レーザーが安価に入手できるようになってきたことから、デジタル化技術に組み込みやすい走査露光による平版印刷版の製造方法として、これらの高出力レーザーを画像記録手段として用いる方法が有望視されるようになっている。 従来の製版方法では、感光性の平版印刷版原版に対して、低照度から中照度で像様露光を行い、画像記録層における光化学反応による像様の物性変化によって画像記録を行う。これに対して、上述した高出力レーザーを用いる方法では、露光領域に極短時間に大量の光エネルギーを照射して、光エネルギーを効率的に熱エネルギーに変換させ、その熱により、画像記録層において化学変化、相変化、形態又は構造の変化等の熱変化を起こさせ、その変化を画像記録に利用する。したがって、画像情報はレーザー光等の光エネルギーによって入力されるが、画像記録は光エネルギーに加えて熱エネルギーによる反応も加味された状態で行われる。通常、このような高パワー密度露光による発熱を利用した記録方式はヒートモード記録と呼ばれ、光エネルギーを熱エネルギーに変えることは光熱変換と呼ばれる。本発明では、このような画像記録層を感光−感熱層と呼んでいる。   On the other hand, recently, high-power lasers such as semiconductor lasers and YAG lasers that emit infrared light having a wavelength of 760 to 1200 nm have become available at low cost, so that lithographic printing plates can be manufactured by scanning exposure that can be easily incorporated into digitization technology. As a method, a method using these high-power lasers as an image recording means is considered promising. In the conventional plate-making method, imagewise exposure is performed on a photosensitive lithographic printing plate precursor at low to medium illuminance, and image recording is performed by image-like physical property change due to a photochemical reaction in an image recording layer. On the other hand, in the method using the above-described high-power laser, a large amount of light energy is irradiated to the exposure region in a very short time, and the light energy is efficiently converted into heat energy. In the process, a thermal change such as a chemical change, a phase change, a form or a structure is caused, and the change is used for image recording. Accordingly, image information is input by light energy such as laser light, but image recording is performed in a state in which reaction by heat energy is taken into account in addition to light energy. Usually, such a recording method using heat generated by high power density exposure is called heat mode recording, and changing light energy to heat energy is called photothermal conversion. In the present invention, such an image recording layer is called a photosensitive-thermosensitive layer.

ヒートモード記録を用いる製版方法の大きな長所は、室内照明のような通常の照度レベルの光では画像記録層が感光しないこと、及び、高照度露光によって記録された画像の定着が必須ではないことにある。つまり、ヒートモード記録に用いられる平版印刷版原版は、露光前には室内光により感光してしまうおそれがなく、露光後には画像の定着が必須ではない。したがって、例えば、高出力レーザーを用いた露光により不溶化し又は可溶化する画像記録層を用い、露光した画像記録層を像様にして平版印刷版とする製版工程を機上現像で行えば、露光後、たとえ室内の環境光に暴露されても、画像が影響を受けないような印刷システムが可能となる。よって、ヒートモード記録を利用すれば、機上現像に好適に用いられる平版印刷版原版を得ることも可能となると期待される。   The major advantages of the plate making method using heat mode recording are that the image recording layer is not exposed to light at a normal illuminance level such as indoor lighting, and that fixing of images recorded by high illuminance exposure is not essential. is there. That is, the lithographic printing plate precursor used for heat mode recording is not likely to be exposed to room light before exposure, and image fixing is not essential after exposure. Therefore, for example, if an image recording layer that is insolubilized or solubilized by exposure using a high-power laser is used, and a plate-making process is performed by on-press development, the exposed image recording layer is imaged to form a lithographic printing plate. Later, a printing system is possible in which the image is not affected even if it is exposed to ambient light in the room. Therefore, if heat mode recording is used, it is expected that a lithographic printing plate precursor suitably used for on-press development can be obtained.

これに対して、例えば、特許文献１には、親水性結合剤中に疎水性熱可塑性重合体粒子を分散させた像形成層を親水性支持体上に設けた平版印刷版原版が記載されている。この特許文献１には、上記平版印刷版原版を赤外線レーザーにより露光して、疎水性熱可塑性重合体粒子を熱により合体させて画像を形成させた後、印刷機のシリンダー上に取り付け、湿し水及び／又はインキにより機上現像することが可能である旨記載されている。 しかし、上記のような微粒子の単なる熱融着による合体で画像を形成させる方法は、良好な機上現像性を示すものの、画像強度が弱く、耐刷性が不十分であることが分かった。   On the other hand, for example, Patent Document 1 describes a lithographic printing plate precursor in which an image forming layer in which hydrophobic thermoplastic polymer particles are dispersed in a hydrophilic binder is provided on a hydrophilic support. Yes. In this Patent Document 1, the above lithographic printing plate precursor is exposed by an infrared laser, and the hydrophobic thermoplastic polymer particles are coalesced by heat to form an image, which is then mounted on a cylinder of a printing press and moistened. It is described that it is possible to perform on-press development with water and / or ink. However, it has been found that the above-described method for forming an image by merging the fine particles by simple thermal fusion exhibits good on-press developability but has low image strength and insufficient printing durability.

そのため、重合反応を利用して耐刷性を改良することが提案されている。例えば、特許文献２には、親水性支持体上に、重合性化合物を内包するマイクロカプセルを含む画像記
録層（感熱層）を有する平版印刷版原版が記載されている。さらに、特許文献３には、支持体上に、赤外線吸収剤とラジカル重合開始剤と重合性化合物とを含有する画像記録層（感光層）を設けた平版印刷版原版が記載されている。
特許第２９３８３９７号明細書 特開２００１−２７７７４０号公報 特開２００２−２８７３３４号公報 For this reason, it has been proposed to improve printing durability using a polymerization reaction. For example, Patent Document 2 describes a lithographic printing plate precursor having an image recording layer (thermosensitive layer) containing microcapsules encapsulating a polymerizable compound on a hydrophilic support. Furthermore, Patent Document 3 describes a lithographic printing plate precursor in which an image recording layer (photosensitive layer) containing an infrared absorber, a radical polymerization initiator, and a polymerizable compound is provided on a support.
Japanese Patent No. 2938397 JP 2001-277740 A JP 2002-287334 A

本発明の目的は、レーザー露光により視認性良好な色画像を形成することができる機上現像型平版印刷版原版であって、画像形成層をムラを生じること無く塗布することができる機上現像型平版印刷版原版及びそれを用いた平版印刷方法を提供することにある。   An object of the present invention is an on-press development type lithographic printing plate precursor capable of forming a color image with good visibility by laser exposure, wherein the on-press development is capable of coating an image forming layer without causing unevenness. An object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor and a lithographic printing method using the same.

本発明は、以下の通りである。   The present invention is as follows.

（１） 支持体上に、変色剤を含有する層を設けてなる機上現像型平版印刷版原版であって、該変色剤のｌｏｇＰ値と、変色剤を含有する層のその他成分の平均ｌｏｇＰ値との差が３．５未満であることを特徴とする機上現像型平版印刷版原版。   (1) An on-press development type lithographic printing plate precursor provided with a layer containing a color changing agent on a support, and the log P value of the color changing agent and the average log P of the other components of the layer containing the color changing agent An on-press development type lithographic printing plate precursor having a difference from the value of less than 3.5.

（２） 変色剤が、水不溶性であることを特徴とする（１）に記載の機上現像型平版印刷版原版。   (2) The on-press development type lithographic printing plate precursor as described in (1), wherein the color changing agent is water-insoluble.

（３） 変色剤を含有する層が、更に赤外線吸収剤を含有することを特徴とする（１）又は（２）に記載の機上現像型平版印刷版原版。   (3) The on-press development type lithographic printing plate precursor as described in (1) or (2), wherein the layer containing a color changing agent further contains an infrared absorber.

（４） 変色剤を含有する層が、更にラジカル重合開始剤及びラジカル重合性モノマーを含有することを特徴とする（１）〜（３）のいずれかに記載の機上現像型平版印刷版原版。   (4) The on-press development type lithographic printing plate precursor as described in any one of (1) to (3), wherein the layer containing a color changing agent further contains a radical polymerization initiator and a radical polymerizable monomer .

（５） 変色剤、赤外線吸収剤、ラジカル重合開始剤、ラジカル重合性モノマーの内の少なくとも一種類がマイクロカプセルに内包されていることを特徴とする（１）〜（４）のいずれかに記載の機上現像型平版印刷版原版。   (5) In any one of (1) to (4), at least one of a color changing agent, an infrared absorber, a radical polymerization initiator, and a radical polymerizable monomer is encapsulated in a microcapsule. On-press development type lithographic printing plate precursor.

（６） （１）〜（５）のいずれかに記載の平版印刷版原版を、画像記録後に現像処理工程を経ることなく印刷機に装着するか、又は、印刷機装着後に画像記録することにより、印刷することを特徴とする平版印刷方法。   (6) By mounting the lithographic printing plate precursor according to any one of (1) to (5) on a printing press without performing a development processing step after image recording, or by recording an image after mounting the printing press A lithographic printing method characterized by printing.

本発明によれば、レーザー露光により視認性良好な色画像を形成することができる機上現像型平版印刷版原版であって、画像形成層をムラを生じること無く塗布することができる機上現像型平版印刷版原版及びそれを用いた平版印刷方法を提供することができる。   According to the present invention, an on-press development type lithographic printing plate precursor capable of forming a color image with good visibility by laser exposure, the on-press development capable of coating an image forming layer without causing unevenness. A lithographic printing plate precursor and a lithographic printing method using the same can be provided.

以下、本発明について詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

〔機上現像型平版印刷版原版〕
本発明の機上現像型平版印刷版原版は、支持体上に、変色剤を含有する層を有し、該変色剤のｌｏｇＰ値と、変色剤を含有する層のその他成分の平均ｌｏｇＰ値との差が３．５未満である。 [On-press development type lithographic printing plate precursor]
The on-press development type lithographic printing plate precursor of the present invention has a layer containing a color changing agent on a support, and has a log P value of the color changing agent and an average log P value of other components of the layer containing the color changing agent. Is less than 3.5.

本発明に用いられる変色剤は、熱及び／又は光によって自身が変化して変色する化合物や熱及び／又は光によって分解する化合物から形成される分解物との相互作用によって変色する化合物であって、該変色剤自身のｌｏｇＰ値と該変色剤を含む層のその他成分の平均ｌｏｇＰとの差が３．５未満である限り、いずれの変色剤も好適に使用することができる。   The color-changing agent used in the present invention is a compound that changes color by interaction with a compound that changes its color by heat and / or light or a compound that decomposes by heat and / or light. As long as the difference between the log P value of the color changing agent itself and the average log P of the other components of the layer containing the color changing agent is less than 3.5, any color changing agent can be preferably used.

本発明に於ける、ｌｏｇＰ値とは、Ｃ．Ｈａｎｓｃｈ，Ａ．Ｌｅｏ，"Ｓｕｂｓｔｉｔｕｅｎｔ Ｃｏｎｓｔａｎｔｓ ｆｏｒ Ｃｏｒｒｅｌａｔｉｏｎ Ａｎａｌｙｓｉｓ ｉｎ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｂｉｏｌｏｇｙ"，Ｊ．Ｗｉｌｅ ＆ Ｓｏｎｓ，１９７９に記載の疎水性パラメータとして一般的に使用されるものである。具体的には、各化合物について、Ａ．Ｋ．Ｇｈｏｓｅ ｅｔ．ａｌ．， "Ｊ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｃｈｅｍ．" ９，８０（１９８８）に記載の方法に基づき、既知データより計算し、求められるものである。   In the present invention, the log P value is C.I. Hansch, A.M. Leo, “Substituent Constants for Correlation Analysis in Chemistry and Biology”, J. Am. It is generally used as the hydrophobicity parameter described in Wille & Sons, 1979. Specifically, for each compound, A. K. Gose et. al. , "J. Comput. Chem." 9, 80 (1988).

熱及び／又は光によって自身が変化して変色する化合物や熱及び／又は光によって分解する化合物から形成される分解物との相互作用によって変色する化合物の具体例としては、例えば、ロイコクリスタルバイオレット、ロイコオパールブルー、ロイコベルベリンブルーＩ、ロイコマラカイトグリーン、ロイコローザニリン等のロイコトリアリールメタン化合物、３，６−ビス（ジメチルアミノ）−９−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）キサンテン等のロイコキサンテン化合物、３，６−ビス（ジメチルアミノ）−９−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）チオキサンテン等のロイコチオキサンテン化合物、クリスタルバイオレットラクトン、フェノールフタレイン、ｏ−クレゾールフタレイン等のトリアリールメタンラクトン（フタリド）化合物、ブロモフェノールブルー、ブロモクレゾールパープル、クロロフェノールレッド、ブロモクレゾールグリーン、ブロモチモールブルー、フェノールレッド、クレゾールレッド、キシレノールブルー、チモールブルー等のトリアリールメタンサルトン化合物、アルカリブルー６Ｂ、ペンタメトキシレッド、マラカイトグリーンカルビノール塩酸塩等のトリアリールカルビノール化合物、オーラミンベース等のビスアリールメタン化合物、クリスタルバイオレット、マラカイトグリーン、エチルバイオレット、ビクトリアピュアブルー、ブリリアントグリーン等のトリアリールメタン化合物、フルオレセイン、エオシンＢ、ローズベンガルラクトン、ローダミンＢベース、ピロガロールレッド、３−ジエチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン等のフルオラン化合物、メチレンバイオレット、メチレンブルー、トルイジンブルーＯ等のチアジン化合物、１，３，３−トリメチルインドリノベンゾピリロスピラン、１，３，３−トリメチルインドリノ−８’−メトキシベンゾピリロスピラン、１，３，３−トリメチルインドリノ−６’−ニトロベンゾピリロスピラン、１，３，３−トリメチルインドリノナフトスピロオキサジン、１，３，３−トリメチルインドリノ−８’−ピペリジノナフトスピロオキサジン等のスピロ化合物、メチルイエロー、メチルオレンジ、コンゴーレッド、メチルレッド、アリザリンイエロー等のアゾ化合物、ニュートラルレッド、インドシアニンＢ、アニリンブラック等のアジン化合物、ナイルブルー等のオキサジン化合物、ステインズ−オール（ＳＴＡＩＮＳ−ＡＬＬ）、スルホプロピルスルフォプロピル−ナフトチアゾイリデンメチルブチニルナフトチアゾール、３，３’−ジエチルオキサカルボシアニンアイオダイド、２−｛４−（ジメチルアミノ）スチリル｝−１−メチルキナリニウムアイオダイド、キナリジンレッド、チアゾールオレンジ、ニューインドシアニングリーン、３，３’−ジエチルチオカルボシアニンアイオダイド等のシアニン色素、エチリデンコハク酸誘導体（フルギド系化合物）、ジアリールエテン化合物、オキソノール系化合物等が挙げられる。   Specific examples of a compound that changes its color by heat and / or light and a compound that changes color by interaction with a decomposition product formed from a compound that decomposes by heat and / or light include, for example, leuco crystal violet, Leuco opal blue, leuco berberine blue I, leucomalachite green, leuco triarylmethane compounds such as leuco rosaniline, leuco xanthene compounds such as 3,6-bis (dimethylamino) -9- (p-dimethylaminophenyl) xanthene, Leuthiothioxanthene compounds such as 3,6-bis (dimethylamino) -9- (p-dimethylaminophenyl) thioxanthene, triarylmethanelactone (phthalide) such as crystal violet lactone, phenolphthalein, o-cresolphthalein Compound , Bromophenol blue, bromocresol purple, chlorophenol red, bromocresol green, bromothymol blue, phenol red, cresol red, xylenol blue, thymol blue and other triarylmethane sultone compounds, alkali blue 6B, pentamethoxy red, malachite Triarylcarbinol compounds such as green carbinol hydrochloride, bisarylmethane compounds such as auramine base, triarylmethane compounds such as crystal violet, malachite green, ethyl violet, Victoria pure blue, brilliant green, fluorescein, eosin B, Rose bengal lactone, rhodamine B base, pyrogallol red, 3-diethylamino-6-methyl-7-anily Fluorane compounds such as fluorane, thiazine compounds such as methylene violet, methylene blue, and toluidine blue O, 1,3,3-trimethylindolinobenzopyrospirane, 1,3,3-trimethylindolino-8′-methoxybenzopyrilos Pyran, 1,3,3-trimethylindolino-6'-nitrobenzopyrospirane, 1,3,3-trimethylindolinonaphthospiroxazine, 1,3,3-trimethylindolino-8'-piperidino Spiro compounds such as naphthospiroxazine, azo compounds such as methyl yellow, methyl orange, congo red, methyl red and alizarin yellow, azine compounds such as neutral red, indocyanine B and aniline black, oxazine compounds such as nile blue, and stains Oar (STAINS-ALL), sulfopropylsulfopropyl-naphthothiazoylidenemethylbutynylnaphthothiazole, 3,3′-diethyloxacarbocyanine iodide, 2- {4- (dimethylamino) styryl} -1-methylquinali Cyanine dyes such as nium iodide, quinalidine red, thiazole orange, new indocyanine green, 3,3′-diethylthiocarbocyanine iodide, ethylidene succinic acid derivative (fulgide compound), diarylethene compound, oxonol compound, etc. Can be mentioned.

本発明に用いられる変色剤は、添加する層の組成によって異なるが、具体的には以下に記載するような化合物が好ましい。但し、本発明はこれらに限定されるものではなく、変色剤のｌｏｇＰ値と、該変色剤を含有する層のその他の成分の平均ｌｏｇＰ値との差が３
．５未満であれば何れでもよい。 Although the color changing agent used in the present invention varies depending on the composition of the layer to be added, specifically, compounds as described below are preferable. However, the present invention is not limited to these, and the difference between the log P value of the color changing agent and the average log P value of the other components of the layer containing the color changing agent is 3
. Any number may be used as long as it is less than 5.

本発明で使用し得る変色剤は、熱及び／又は光によって自身が変化して変色する化合物でもよいし、熱及び／又は光によって分解する化合物（例えば、ラジカル発生剤、酸発生剤、塩基発生剤等）が発生ずる分解物（例えば、ラジカル、酸、塩基等）との相互作用によって変色する化合物でもよい。
ラジカルとの相互作用によって変色する変色剤としては、例えば、トリアリールメタン化合物、ビスアリールメタン化合物等を挙げることができる。
酸との相互作用によって変色する変色剤としては、例えば、キサンテン化合物、フルオラン化合物、チアジン化合物、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、トリアリールメタン化合物、ビスアリールメタン化合物等を挙げることができる。酸との相互作用
によって変色する変色剤は、通常、酸発生剤、酸増殖剤とともに使用される。
塩基との相互作用によって変色する変色剤としては、例えば、シアニン色素の如きポリメチン色素等を挙げることができる。塩基との相互作用によって変色する変色剤は、通常、塩基発生剤、塩基増殖剤とともに使用される。 The color-changing agent that can be used in the present invention may be a compound that changes its color by heat and / or light, or a compound that decomposes by heat and / or light (for example, radical generator, acid generator, base generator). It may be a compound that changes color due to the interaction with decomposition products (for example, radicals, acids, bases, etc.) generated by the agent.
Examples of the color changing agent that changes color by interaction with a radical include triarylmethane compounds and bisarylmethane compounds.
Examples of the color changing agent that changes color by interaction with an acid include xanthene compounds, fluorane compounds, thiazine compounds, spiropyran compounds, spirooxazine compounds, triarylmethane compounds, and bisarylmethane compounds. A color-changing agent that changes color by interaction with an acid is usually used together with an acid generator and an acid-growing agent.
Examples of the color changing agent that changes color by interaction with a base include polymethine dyes such as cyanine dyes. A color-changing agent that changes color by interaction with a base is usually used together with a base generator and a base proliferating agent.

［酸発生剤］
本発明において用いられる酸発生剤は、光または熱により酸を発生する化合物であり、たとえば特開平１０−２８２６４４号公報の〔００３９〕〜〔００６３〕に記載されている化合物などを挙げることができる。 [Acid generator]
The acid generator used in the present invention is a compound that generates an acid by light or heat, and examples thereof include compounds described in [0039] to [0063] of JP-A-10-282644. .

具体的には、Ｓ．Ｉ．Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，１８，３８７（１９７４）、Ｔ．Ｓ．Ｂａｌ ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ，２１，４２３（１９８０）等に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，０６９，０５５号明細書、同４，０６９，０５６号明細書、特開平３−１４０，１４０号公報等に記載のアンモニウム塩、Ｄ．Ｃ．Ｎｅｃｋｅｒ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１７，２４６８（１９８４）、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ ｅｔ ａｌ， Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ ＡＳＩＡ， ｐ４７８ Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ．（１９８８）、米国特許第４，０６９，０５５号明細書、同４，０６９，０５６号明細書等に記載のホスホニウム塩、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ， Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１０ （６），１３０７（１９７７）、Ｃｈｅｍ． ＆ Ｅｎｇ． Ｎｅｗｓ，Ｎｏｖ．２８，ｐ３１（１９８８）、欧州特許第１０４，１４３号明細書、米国特許第３３９，０４９号明細書、同第４１０，２０１号明細書、特開平２−１５０，８４８号、特開平２−２９６，５１４号等に記載の ヨードニウム塩、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ， Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｊ．１７，７３（１９８５）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４３，３０５５（１９７８）、Ｗ．Ｒ．Ｗａｔｔ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ． Ｅｄ．，２２，１７８９（１９８４）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｂｕｌｌ．，１４，２７９（１９８５）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ， Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１４ （５），１１４１（１９８１）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，２８７７（１９７９）、欧州特許第３７０，６９３号明細書、米国特許３，９０２，１１４号明細書、欧州特許第２３３，５６７号明細書、同２９７，４４３号明細書、同２９７，４４２号明細書、米国特許第４， ９３３，３７７号明細書、同４１０，２０１号明細書、同３３９，０４９号明細書、同４，７６０，０１３号明細書、同４，７３４，４４４号明細書、同２，８３３，８２７号明細書、獨国特許第２， ９０４，６２６号明細書、同３，６０４，５８０号明細書、同３，６０４，５８１号明細書等に記載のスルホニウム塩、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ， Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ， １０ （６）， １３０７ （１９７７）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ， Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．， Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．， １７， １０４７ （１９７９）等に記載のセレノニウム塩、 Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ ｅｔ ａｌ， Ｔｅｈ， Ｐｒｏｃ． Ｃｏｎｆ． Ｒａｄ． Ｃｕｒｉｎｇ ＡＳＩＡ， ｐ４７８ Ｔｏｋｙｏ， Ｏｃｔ．（１９８８）等に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩、米国特許第３，９０５，８１５号明細書、特公昭４６−４６０５号公報、特開昭４８−３６２８１号公報、特開昭５５−３２０７０号公報、特開昭６０−２３９７３６号公報、特開昭６１−１６９８３５号公報、特開昭６１−１６９８３７号公報、特開昭６２−５８２４１号公報、特開昭６２−２１２４０１号公報、特 開昭６３−７０２４３号公報、特開昭６３−２９８３３９号公報等に記載の有機ハロゲン化合物、Ｋ．Ｍｅｉｅｒ ｅｔ ａｌ， Ｊ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ， １３（４），２６ （１９８６）、Ｔ．Ｐ．Ｇｉｌｌ ｅｔ ａｌ， Ｉｎｏｒｇ． Ｃｈｅｍ．，１９，
３００７ （１９８０）、 Ｄ．Ａｓｔｒｕｃ， Ａｃｃ． Ｃｈｅｍ． Ｒｅｓ．，
１９ （１２），３７７ （１８９６）、 特開平２−１６１４４５号公報等に記載の有機金属／有機ハロゲン化物、Ｓ． Ｈａｙａｓｅ ｅｔ ａｌ， Ｊ． Ｐｏｌｙｍｅｒ
Ｓｃｉ．， ２５， ７５３ （１９８７）、 Ｅ． Ｒｅｉｃｈｍａｎｉｓ ｅｔ ａｌ， Ｊ． Ｐｈｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．， Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ． Ｅｄ．，
２３， １ （１９８５）、 Ｑ． Ｑ． Ｚｈｕ ｅｔ ａｌ， Ｊ． Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍ．， ３６， ８５， ３９， ３１７ （１９８７）、 Ｂ． Ａｍｉｔ ｅｔ ａｌ， Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．， （２４） ２２０５ （１９７３）、 Ｄ． Ｈ． Ｒ． Ｂａｒｔｏｎ ｅｔ ａｌ， Ｊ． Ｃｈｅｍ Ｓｏｃ．， ３５７１ （１９６５）、 Ｐ． Ｍ． Ｃｏｌｌｉｎｓ ｅｔ ａｌ， Ｊ． Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ．， Ｐｅｒｋｉｎ Ｉ， １６９５ （１９７５）、 Ｍ． Ｒｕｄｉｎｓｔｅｉｎ ｅｔ ａｌ， Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．， （１７）， １４４５ （１９７５）、 Ｊ． Ｗ． Ｗａｌｋｅｒ ｅｔ ａｌ， Ｊ． Ａｍ． Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ．， １１０， ７１７０ （１９８８）、 Ｓ． Ｃ． Ｂｕｓｍａｎ
ｅｔ ａｌ， Ｊ． Ｉｍａｇｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌ．， １１（４）， １９１ （１９８５）、 Ｈ． Ｍ． Ｈｏｕｌｉｈａｎ ｅｔ ａｌ， Ｍａｃｏｒｍｏｌｅｃｕｌｅｓ， ２１， ２００１ （１９８８）、 Ｐ．Ｍ．Ｃｏｌｌｉｎｓ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，５３２ （１９７２）、 Ｓ．
Ｈａｙａｓｅｅｔａｌ， Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ， １８， １７９９ （１９８５）、 Ｅ． Ｒｅｉｃｈｍａｎｉｓ ｅｔ ａｌ，Ｊ． Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍ． Ｓｏｃ．， Ｓｏｌｉｄ Ｓｔａｔｅ Ｓｃｉ． Ｔｅｃｈｎｏｌ．， １３０ （６）、 Ｆ． Ｍ． Ｈｏｕｌｉｈａｎ ｅｔ ａｌ， Ｍａｃｒｏｍｏｌｃｕｌｅｓ，
２１， ２００１ （１９８８）、 欧州特許第０２９０，７５０号明細書、同０４６，０８３号明細書、同１５６，５３５号明細書、同２７１，８５１号明細書、同０，３８８，３４３号明細書、米国特許第３，９０１，７１０ 号明細書、同４，１８１，５３１号明細書、特開昭６０−１９８５３８号公報、特開昭５３−１３３０２２号公報等に記載のｏ−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、 Ｍ．ＴＵＮＯＯＫＡ ｅｔ ａｌ， Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ Ｊａｐａｎ， ３５ （８）、 Ｇ． Ｂｅｒｎｅｒ ｅｔ ａｌ， Ｊ． Ｒａｄ． Ｃｕｒｉｎｇ，１３ （４）、 Ｗ． Ｊ．
Ｍｉｊｓ ｅｔ ａｌ， Ｃｏａｔｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌ．， ５５ （６９７），
４５ （１９８３）， Ａｋｚｏ、Ｈ．Ａｄａｃｈｉ ｅｔ ａｌ， Ｐｏｌｙｍｅｒ
Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ， Ｊａｐａｎ， ３７ （３）、欧州特許第０１９９，６７２号明細書、同８４５１５号明細書、同１９９，６７２号明細書、同０４４，１１５号明細書、同０１０１，１２２号明細書、米国特許第４，６１８，５６４号明細書、同４， ３７１，６０５号明細書、同４，４３１，７７４号明細書、特開昭６４−１８１４３号公報、特開平２−２４５７５６号公報、特開平４−３６５０４８号公報等に記載のイミノスルフォネート等に代表される光分解してスルホン酸を発生する化合物、特開昭６１−１６６５４４号公報等に記載のジスルホン化合物、特開昭５０−３６２０９号公報（米国特許第３９６９１１８号明細書）記載のｏ−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸ハライド、特開昭５５−６２４４４号公報（英国特許第２０３８８０１号明細書）記載あるいは特公平１−１１９３５号公報記載のｏ−ナフトキノンジアジド化合物を挙げることができる。 Specifically, S.M. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Diazonium salts described in Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), U.S. Pat. Nos. 4,069,055, 4,069,056, JP-A-3-140,140 Ammonium salts described in the above, and the like. C. Necker et al, Macromolecules, 17, 2468 (1984), C.I. S. Wen et al, Theh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct. (1988), U.S. Pat. Nos. 4,069,055 and 4,069,056, and the like. V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31 (1988), European Patent No. 104,143, U.S. Pat. No. 339,049, No. 410,201, JP-A-2-150,848, JP-A-2-296. Iodonium salts described in No. 514, J. V. Crivello et al, Polymer J. et al. 17, 73 (1985), J. Am. V. Crivello et al. J. et al. Org. Chem. 43, 3055 (1978); R. Watt et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 22, 1789 (1984), J. Am. V. Crivello et al, Polymer Bull. 14, 279 (1985), J. Am. V. Crivello et al, Macromolecules, 14 (5), 1141 (1981), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 2877 (1979), European Patent No. 370,693, US Patent No. 3,902,114, European Patent No. 233,567, No. 297,443, No. 297, No. 442, U.S. Pat. Nos. 4,933,377, 410,201, 339,049, 4,760,013, 4,734,444 No. 2,833,827, Korean Patent No. 2,904,626, 3,604,580, 3,604,581, etc. Salt, J.M. V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al, J. MoI. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979) and the like, C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct. (1988) and the like, U.S. Pat. No. 3,905,815, Japanese Examined Patent Publication No. 46-4605, Japanese Unexamined Patent Publication No. 48-36281, Japanese Unexamined Patent Publication No. 55-32070. JP, 60-609736, JP 61-169835, JP 61-169837, JP 62-58241, JP 62-212401, JP Organic halogen compounds described in JP-A 63-70243, JP-A 63-298339, and the like; Meier et al, J.M. Rad. Curing, 13 (4), 26 (1986), T.A. P. Gill et al, Inorg. Chem. , 19,
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その他の酸発生剤としては、シクロヘキシルシトレート、ｐ−アセトアミノベンゼンスルホン酸シクロヘキシルエステル、ｐ−ブロモベンゼンスルホン酸シクロヘキシルエステル等のスルホン酸アルキルエステル、下記構造式で表されるアルキルスルホン酸エステル等を用いることができる。   Examples of other acid generators include sulfonic acid alkyl esters such as cyclohexyl citrate, p-acetaminobenzenesulfonic acid cyclohexyl ester, p-bromobenzenesulfonic acid cyclohexyl ester, and alkylsulfonic acid esters represented by the following structural formula. Can be used.

上記光、熱または放射線の照射により分解して酸を発生する化合物の中で、特に有効に用いられるものについて以下に例示する。   Of the compounds that generate acid upon decomposition by irradiation with light, heat, or radiation, those that are particularly effective are exemplified below.

（１）トリハロメチル基が置換した下記一般式（ＰＡＧ１）で表されるオキサゾール誘導体または一般式（ＰＡＧ２）で表されるＳ−トリアジン誘導体。   (1) An oxazole derivative represented by the following general formula (PAG1) substituted with a trihalomethyl group or an S-triazine derivative represented by the general formula (PAG2).

式中、Ｒ¹ は置換もしくは未置換のアリール基、アルケニル基、Ｒ² は置換もしくは未置換のアリール基、アルケニル基、アルキル基、−ＣＹ₃ を示す。Ｙは塩素原子または臭素原子を示す。具体的には以下の化合物を挙げることができるがこれらに限定されるものではない。 In the formula, R ¹ represents a substituted or unsubstituted aryl group or alkenyl group, and R ² represents a substituted or unsubstituted aryl group, alkenyl group, alkyl group, or —CY ₃ . Y represents a chlorine atom or a bromine atom. Specific examples include the following compounds, but are not limited thereto.

（２）下記の一般式（ＰＡＧ３）で表されるヨードニウム塩、または一般式（ＰＡＧ４）で表されるスルホニウム塩、もしくはジアソニウム塩。   (2) An iodonium salt represented by the following general formula (PAG3), a sulfonium salt represented by the general formula (PAG4), or a diazonium salt.

ここで式Ａｒ¹ 、Ａｒ² は各々独立に置換もしくは未置換のアリール基を示す。好ましい置換基としては、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、メルカプト基およびハロゲン原子が挙げられる。 Here, the formulas Ar ¹ and Ar ² each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group. Preferred substituents include alkyl groups, haloalkyl groups, cycloalkyl groups, aryl groups, alkoxy groups, nitro groups, carboxyl groups, alkoxycarbonyl groups, hydroxy groups, mercapto groups, and halogen atoms.

Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ は 各々独立に、置換もしくは未置換のアルキル基、アリール基を示
す。好ましくは炭素数６〜１４のアリール基、炭素数１〜８のアルキル基およびそれらの置換誘導体である。好ましい置換基としては、アリール基に対しては炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数１〜８のアルキル基、ニトロ基、カルボキシル基、ヒドロキ シ基およびハロゲン原子であり、アルキル基に対しては炭素数１〜８のアルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基である。
またＲ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ のうちの２つおよびＡｒ¹ 、Ａｒ² はそれぞれの単結合または置換基を介して結合してもよい。 R ³ , R ⁴ and R ⁵ each independently represents a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group. Preferred are an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms and substituted derivatives thereof. Preferred substituents are an aryl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a nitro group, a carboxyl group, a hydroxy group, and a halogen atom. Is an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a carboxyl group, or an alkoxycarbonyl group.
Two of R ³ , R ⁴ and R ⁵ and Ar ¹ and Ar ² may be bonded via a single bond or a substituent.

Ｚ^- は対アニオンを示し、例えば ＢＦ₄ ^- 、ＡｓＦ₆ ^- 、ＰＦ₆ ^- 、ＳｂＦ₆ ^- 、ＳｉＦ₆ ^2-、ＣｌＯ₄ ^- 、ＣＦ₃ ＳＯ₃ ^-，Ｃ₄Ｆ₉ ＳＯ₃ ^- 等 のパーフルオロアルカンスルホン酸アニオン、ペンタフルオロベンゼンスルホン酸アニオン、ナフタレン−１−スルホン酸アニオン等の結合多核芳香族スルホン 酸アニオン、アントラキノンスルホン酸アニオン、スルホン酸基含有染料等を挙げることができるがこれらに限定されるものではない。 Z ⁻ represents a counter anion, such as BF ₄ ⁻ , AsF ₆ ⁻ , PF ₆ ⁻ , SbF ₆ ⁻ , SiF ₆ ²⁻ , ClO ₄ ⁻ , CF ₃ SO ₃ ⁻ , C ₄ F ₉ SO ₃ ^{− and the} like. Examples include, but are not limited to, bonded polynuclear aromatic sulfonate anions such as fluoroalkane sulfonate anion, pentafluorobenzene sulfonate anion, naphthalene-1-sulfonate anion, anthraquinone sulfonate anion, and sulfonate group-containing dyes. Is not to be done.

具体例としては以下に示す化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Specific examples include the following compounds, but are not limited thereto.

一般式（ＰＡＧ３）、（ＰＡＧ４）で示される上記オニウム塩は公知であり、たとえばＪ．Ｗ．Ｋｎａｐｃｚｙｋ ｅｔａｌ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，９１，１４５（１９６９）、Ａ．Ｌ．Ｍａｙｃｏｋ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，３５， ２５３２，（１９７０）、Ｂ．Ｇｏｅｔｈａｓ ｅｔａｌ，Ｂｕｌｌ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｂｅｌｇ．，７３，５４６，（１９６４）、Ｈ．Ｍ．Ｌｅｉｃｅｓｔｅｒ，Ｊ．Ａｍｅ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，５１，３５８７（１９２９）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１８，２６７７（１９８０）、米国特許第２，８０７，６４８号および同４，２４７，４７３号明細書、特開昭５３−１０１３３１号公報等に記載の方法により合成することができる。   The above-mentioned onium salts represented by the general formulas (PAG3) and (PAG4) are publicly known. W. Knapczzyk et al. Am. Chem. Soc. 91, 145 (1969), A.A. L. Maycok et al, J.A. Org. Chem. , 35, 2532, (1970), B.I. Goethas et al., Bull. Soc. Chem. Belg. 73, 546, (1964), H .; M.M. Leicester, J .; Ame. Chem. Soc. 51, 3587 (1929); V. Crivello et al. Polym. Chem. Ed. 18, 2677 (1980), U.S. Pat. Nos. 2,807,648 and 4,247,473, and JP-A-53-101331.

（３）下記一般式（ＰＡＧ５）で表されるジスルホン誘導体または一般式（ＰＡＧ６）で表されるイミノスルホネート誘導体。   (3) A disulfone derivative represented by the following general formula (PAG5) or an iminosulfonate derivative represented by the general formula (PAG6).

式中Ａｒ³ 、Ａｒ⁴ は各々独立に置換もしくは未置換のアリール基を示す。Ｒ⁶ は置換もしくは未置換のアルキル基、アリール基を示す。Ａは置換もしくは未置換のアルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基を示す。
具体例としては以下に示す化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 In the formula, Ar ³ and Ar ⁴ each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group. R ⁶ represents a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group. A represents a substituted or unsubstituted alkylene group, alkenylene group, or arylene group.
Specific examples include the following compounds, but are not limited thereto.

上記酸発生剤の使用量は、変色剤を含有する層の全固形分に対して通常０．１〜５０質量％、より好ましくは１〜４０質量％である。上記範囲内において、感度および画像強度が良好となる。   The usage-amount of the said acid generator is 0.1-50 mass% normally with respect to the total solid of the layer containing a color change agent, More preferably, it is 1-40 mass%. Within the above range, sensitivity and image intensity are good.

［酸増殖剤］
本発明において用いる酸増殖剤は、酸触媒反応によって更に酸を発生して反応系内の酸濃度を上昇させることができる化合物であり、酸が存在しない状態では安定に存在する化合物である。このような化合物は、１回の反応で１つ以上の酸が増えるため、反応の進行に伴って加速的に反応が進むが、発生した酸自体が自己分解を誘起するため、ここで発生する酸の強度は、酸解離定数、ｐＫａとして３以下であるのが好ましく、特に２以下であるのが好ましい。
酸増殖剤の具体例としては、特開平１０−１５０８号公報〔０２０３〕〜〔０２２３〕、特開平１０−２８２６４２号公報〔００１６〕〜〔００５５〕及び特表平９−５１２４９８号公報第３９頁１２行目〜第４７頁２行目に記載の化合物を挙げることができる。更に具体的には、以下の通りである。 [Acid multiplication agent]
The acid proliferating agent used in the present invention is a compound that can further generate an acid by an acid-catalyzed reaction to increase the acid concentration in the reaction system, and is a compound that exists stably in the absence of an acid. In such a compound, since one or more acids increase in one reaction, the reaction proceeds at an accelerated rate as the reaction proceeds. However, the generated acid itself induces self-decomposition, and is generated here. The acid strength is preferably 3 or less as an acid dissociation constant, pKa, and particularly preferably 2 or less.
Specific examples of the acid proliferating agent include JP-A-10-1508 [0203] to [0223], JP-A-10-282642 [0016] to [0055] and JP-A-9-512498, page 39. The compounds described on the 12th line to the 47th line on the 2nd line can be mentioned. More specifically, it is as follows.

本発明で用いることができる酸増殖剤としては、酸発生剤から発生した酸によって分解し、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、フェニルホスホン酸などのｐＫａが３以下の酸を発生させる化合物を挙げることができる。具体的には以下の低分子化合物を例示することができる。第一に、一般式（２）で表される有機酸エステル化合物を挙げることができる。   Examples of the acid proliferating agent that can be used in the present invention include pKa such as dichloroacetic acid, trichloroacetic acid, methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, and phenylphosphonic acid, which are decomposed by an acid generated from the acid generator. Examples include compounds that generate 3 or less acids. Specifically, the following low molecular weight compounds can be exemplified. First, an organic acid ester compound represented by the general formula (2) can be given.

（式中、Ａ¹ は炭素原子数１〜６までのアルキル基または芳香環炭素原子数６〜２０のアリール基を示し、Ａ² は炭素原子数１〜６までのアルキル基を示し、Ａ³ はビス（ｐ−アルコキシフェニル）メチル基、２−アルキル−２−プロピル基、２−アリール−２−プロピル基、シクロヘキシル基またはテトラヒドロピラニル基から選択される基を示し、Ｚ'は酸解離定数（ｐＫａ）が３以下であるＺ'ＯＨで示される酸の残基を示す。）
この化合物に酸が作用すると、エステル基が分解してカルボン酸となり、これがさらに脱カルボン酸を起こしてから（Ｚ'ＯＨ）が容易に脱離する。具体的な例を以下に示す。 (In the formula, A ¹ represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 20 aromatic ring carbon atoms, A ² represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and A ³ Represents a group selected from a bis (p-alkoxyphenyl) methyl group, a 2-alkyl-2-propyl group, a 2-aryl-2-propyl group, a cyclohexyl group or a tetrahydropyranyl group, and Z ′ represents an acid dissociation constant. (PKa) represents an acid residue represented by Z′OH having 3 or less.)
When an acid acts on this compound, the ester group is decomposed to become a carboxylic acid, which further causes decarboxylation, and (Z′OH) is easily eliminated. Specific examples are shown below.

第二に、一般式（３）で表されるアセタールまたはケタール基を持つ有機酸エステルを挙げることができる。   Secondly, organic acid esters having an acetal or ketal group represented by the general formula (3) can be mentioned.

（式中、Ｚ'は前記と同じ意味を持ち、Ｂ¹ は水素原子、炭素原子数１〜６のアルキル基または芳香環炭素原子数６〜２０のアリール基であり、Ｂ² 、Ｂ³ はメチルあるいはエチル基または両者でエチレンまたはプロピレン基を形成し、Ｂ⁴は水素原子またはメチル基を示す。）
この化合物は酸の作用でアセタールあるいはケタールが分解してβ−アルデヒドあるいはケトンとなり、これからＺ'ＯＨが容易に脱離する。具体的な例を以下に示す。 (In the formula, Z ′ has the same meaning as described above, B ¹ is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 aromatic ring carbon atoms, and B ² and B ³ are (A methyl or ethyl group or both form an ethylene or propylene group, and B ⁴ represents a hydrogen atom or a methyl group.)
In this compound, acetal or ketal is decomposed by the action of an acid to form β-aldehyde or ketone, from which Z′OH is easily eliminated. Specific examples are shown below.

第三に、一般式（４）で表される有機酸エステルを挙げることができる。   Thirdly, an organic acid ester represented by the general formula (4) can be mentioned.

（式中、Ｚ'は前記と同じ意味を持ち、Ｄ¹ 、Ｄ² は水素原子、炭素原子数１〜６のアルキル基または芳香環炭素原子数６〜２０のアリール基を示し、Ｄ³は炭素原子数１〜６のアルキル基を示し、Ｄ² とＤ³ で脂環状構造を形成するアルキレンあるいは置換アルキレン基を示す。）
この化合物は、酸触媒によって水酸基が脱離してカルボカチオンを形成し、水素移動してからＺ'ＯＨが発生するものと推定される。具体的な例を以下に示す。 (In the formula, Z ′ has the same meaning as described above, D ¹ and D ² represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 aromatic ring carbon atoms, and D ³ represents An alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and an alkylene or substituted alkylene group forming an alicyclic structure with D ² and D ³ .
It is presumed that this compound generates Z′OH after the hydroxyl group is eliminated by an acid catalyst to form a carbocation and hydrogen moves. Specific examples are shown below.

第四に、一般式（５）で表されるエポキシ基を有する有機酸エステルを挙げることができる。   Fourthly, an organic acid ester having an epoxy group represented by the general formula (5) can be mentioned.

（式中、Ｚ'は前記と同じ意味を持ち、Ｅは炭素原子数１〜６までのアルキル基またはフェニル基を示す。）
この化合物に酸が作用すると、エポキシ環の開環の生成に伴ってβ−炭素にカチオンが形成され、水素移動の結果として有機酸が発生するものと推定される。具体的な例を以下に示す。 (In the formula, Z ′ has the same meaning as described above, and E represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group.)
When an acid acts on this compound, it is presumed that a cation is formed on the β-carbon as the epoxy ring opens, and an organic acid is generated as a result of hydrogen transfer. Specific examples are shown below.

これらの化合物は酸が作用しない限り室温で安定に存在する。これらの化合物の酸触媒分解が引き起こされるためには一定以上の酸強度が必要とされるが、酸解離定数ｐＫａで約３以下であることが望ましい。これ以上の酸解離定数、すなわち、これ以上に弱い酸であれば、酸増殖剤の反応を引き起こすことができない。
このような低分子化合物を酸増殖剤として用いる場合、その使用量は、上記酸発生剤１００質量部に対して１００〜２０００質量部とするのが、露光部と未露光部との色差を鮮明にする点で好ましく、１５０〜１５００質量部とするのが更に好ましい。 These compounds exist stably at room temperature unless acid acts. In order to cause acid-catalyzed decomposition of these compounds, an acid strength of a certain level or more is required, but an acid dissociation constant pKa of about 3 or less is desirable. An acid dissociation constant higher than this, that is, an acid weaker than this, cannot cause the reaction of the acid proliferating agent.
When such a low molecular weight compound is used as an acid growth agent, the amount used is 100 to 2000 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acid generator, and the color difference between the exposed part and the unexposed part is clear. It is preferable at the point which makes it, and it is still more preferable to set it as 150-1500 mass parts.

また、本発明においては、側鎖に酸分解性末端基とスルホン酸発生基とを有する高分子化合物を酸増殖剤として用いることもできる。
この高分子化合物は、エステル基、ケタール基、チオケタール基、アセ タール基及び第三級アルコール基から選択される、酸により分解する末端基と、該末端基に隣接して該末端基が分解することにより分解してスルホン酸を発生させる基とを側鎖に有するが、より具体的にはこの側鎖構造は、下記一般式（Ｉ）で表されるものであることが好ましい。
一般式（Ｉ）
−Ｌ−ＳＯ₃ −Ｗ¹
（式中、Ｗ¹ はエステル基、ケタール基、チオケタール基、アセタール基及び第三級アルコール基から選択される、酸により分解する基を示し、Ｌは一般式（Ｉ）で表される構造単位をポリマー骨格に連結するのに必要な多価の非金属原子から成る連結基を示す。）
即ち、上記一般式（Ｉ）中、−Ｌ−ＳＯ₃ −で表される部分は、末端のＷ¹ で表される酸分解性基の分解に伴って分解して、スルホン酸を発生させる基を表し、Ｌは非金属原子からなる多価の連結基であって、より具体的には下記の構造単位が組み合わさって構成されるものを挙げることができる。 In the present invention, a polymer compound having an acid-decomposable terminal group and a sulfonic acid generating group in the side chain can also be used as an acid proliferating agent.
This polymer compound is composed of an ester group, a ketal group, a thioketal group, an acetal group and a tertiary alcohol group, which is decomposed by an acid, and the terminal group is decomposed adjacent to the terminal group. The side chain has a group that decomposes to generate a sulfonic acid in the side chain. More specifically, the side chain structure is preferably one represented by the following general formula (I).
Formula (I)
-L-SO ₃ -W ¹
(W ¹ represents a group decomposable by an acid selected from an ester group, a ketal group, a thioketal group, an acetal group and a tertiary alcohol group, and L represents a structural unit represented by the general formula (I) Represents a linking group composed of polyvalent non-metallic atoms necessary for linking to the polymer backbone.)
That is, in the above general formula (I), the moiety represented by -L-SO ₃ -is decomposed along with the decomposition of the acid-decomposable group represented by terminal W ¹ to generate a sulfonic acid. And L is a polyvalent linking group composed of a nonmetallic atom, and more specifically, includes a combination of the following structural units.

多価の連結基が置換基を有する場合、置換基としてはメチル、エチルなどの炭素数１〜２０までのアルキル基、フェニル、ナフチルなどの炭素数６〜１６までのアリール基、水酸基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキシのような炭素数１〜６までのアシルオキシ基、メトキシ、エトキシのような炭素数１〜６までのアルコキシ基、塩素、臭素のようなハロゲン原子、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、シクロヘキシルオキ シカルボニルのような炭素数２〜７までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネートのような炭酸エステル基などを用いることができる。 また、Ｗ¹ は酸によって分解する末端基を示し、エステル基、ケタール基、チオケタール基、アセタール基及び第三級アルコール基から選択されるものである。以上説明したような、好ましくは一般式（Ｉ）で示される如き構造単位を側鎖に有する高分子化合物（以下、適宜、スルホン酸発生型 高分子化合物と称する）における一般式（Ｉ）は、好ましくは、下記一般式（１ａ）〜（４ａ）で示される構造単位を側鎖に有する高分子化合物を指す。 When the polyvalent linking group has a substituent, the substituent includes an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as methyl and ethyl, an aryl group having 6 to 16 carbon atoms such as phenyl and naphthyl, a hydroxyl group and a carboxyl group. , Sulfonamido group, N-sulfonylamido group, acyloxy group having 1 to 6 carbon atoms such as acetoxy, alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as methoxy and ethoxy, halogen atom such as chlorine and bromine, An alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, and cyclohexyloxycarbonyl, a cyano group, a carbonate group such as t-butyl carbonate, and the like can be used. W ¹ represents a terminal group that is decomposed by an acid, and is selected from an ester group, a ketal group, a thioketal group, an acetal group, and a tertiary alcohol group. As described above, the general formula (I) in the polymer compound having a structural unit preferably represented by the general formula (I) in the side chain (hereinafter, appropriately referred to as a sulfonic acid-generating polymer compound) is: Preferably, the polymer compound which has a structural unit shown by the following general formula (1a)-(4a) in a side chain is pointed out.

（式中、Ａ¹はアルキル基、もしくはアリール基を示し、Ａ²は水素原子、アルキル基、もしくはアリール基を示し、Ａ³は酸の作用により分解するカルボキシル基の保護基を表す。） (In the formula, A ¹ represents an alkyl group or an aryl group, A ² represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and A ³ represents a protecting group for a carboxyl group that is decomposed by the action of an acid.)

（式中、Ｂ¹およびＢ⁴は水素原子、アルキル基、もしくはアリール基を示し、Ｘ は酸素原子、もしくは硫黄原子、Ｂ²およびＢ³はアルキル基、もしくはアリール基を表す。） (In the formula, B ¹ and B ⁴ represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, X represents an oxygen atom or a sulfur atom, and B ² and B ³ represent an alkyl group or an aryl group.)

（式中、Ｄ¹およびＤ²は水素原子、アルキル基、もしくはアリール基を示し、Ｄ³はアルキル基、もしくはアリール基を表す。） (In the formula, D ¹ and D ² represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and D ³ represents an alkyl group or an aryl group.)

（式中、Ｅ は水素原子、アルキル基、もしくはアリール基を表す。）   (In the formula, E represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group.)

前記一般式（１ａ）において、Ａ¹はアルキル基、もしくはアリール基を示し、Ａ²は水素原子、アルキル基、もしくはアリール基を示し、Ａ³は酸の作用により分解するカルボキシル基の保護基を表す。ここで、Ａ¹はメチル、エチルなどの炭素数１〜２０までのアルキル基；フェニル、４ーメトキシフェニルなどの如き炭素数６〜２０までのアリール基を表す。Ａ²は水素原子もしくはメチル、エチルなどの炭素数１〜２０までのアルキル基、もしくはフェニル、４ーメトキシフェニルなどのような炭素数６〜２０までのアリール基を表す。Ａ¹又はＡ²は、さらにアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、アルコキシ基、フェノキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アミド基などの置換基で置換されていてもよい。Ａ³は 酸の作用により分解する基であり一般的にカルボキシル基の保護基として用いられる原子団を有用に用いることができる。この様な原子団としては Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ著 ”Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ
Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ” Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ
＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ（１９９１）に記載の、カルボキシル基の保護基であり、かつ酸の作用により脱保護される原子団を挙げることができる。これらの原子団のうち、特に好ましいＡ³の具体的な例としては下記一般式（１Ａ）〜（１Ｄ）の構造を用いることができる。 In the general formula (1a), A ¹ represents an alkyl group or an aryl group, A ² represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and A ³ represents a protective group for a carboxyl group that is decomposed by the action of an acid. To express. Here, A ¹ represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as methyl or ethyl; and an aryl group having 6 to 20 carbon atoms such as phenyl or 4-methoxyphenyl. A ² represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as methyl or ethyl, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms such as phenyl or 4-methoxyphenyl. A ¹ or A ² is further substituted with a substituent such as an alkyl group, aryl group, halogen atom, cyano group, amino group, alkoxy group, phenoxy group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, acyl group or amide group. Also good. A ³ is a group that is decomposed by the action of an acid, and an atomic group generally used as a protecting group for a carboxyl group can be used effectively. As such an atomic group, T.W. W. "Protective" by Greene
“Groups in Organic Synthesis” John Wiley
& Sons, Inc (1991), which is a protecting group for a carboxyl group and deprotected by the action of an acid. Among these atomic groups, as specific examples of particularly preferred A ³ , the structures of the following general formulas (1A) to (1D) can be used.

一般式（１Ａ）
−Ｃ（−Ｒ¹）（−Ｒ²）（−Ｘ−Ｒ³） General formula (1A)
-C (-R < ¹ >) (-R < ² >) (-X-R < ³ >)

式中、Ｒ¹は水素原子もしくはメチル、エチルなどの炭素数１〜２０までのアルキル基；テトラヒドロフラニルなどのように−Ｘ−Ｒ³ と結合し環を形成する基；１ーメトキシシクロヘキシルなどのように−Ｒ² と結合し環を形成する基を表す。Ｒ²はＲ¹と同義、もしくはメトキシ、エトシキ、２ークロロエトキシなどのような炭素数１〜２０までのアルコキシ基を表す。Ｘは酸素原子、もしくは硫黄原子を、Ｒ³はメチル、エチル、２ークロロエチル、ベンジル、４ーメトキシベンジル、２−（トリメチルシリル）エチル、２−（ｔ−ブチルジメチルシリル）エチル基のような炭素数１〜２０までのアルキル基、フェニル、４ーメトキシフェニルなどのような炭素数６〜２０までのアリール基を表す。ここで、Ｒ¹〜Ｒ³は、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、アル コキシ基、フェノキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アミド基などの置換基で置換されていてもよい。一般式（１Ａ）で表される原子団の具体的な例としては、メトキシメチル、メトキシチオメチル、ベンジルオキシメチル、ｐ−メトキシベンジルオキシメチル、（４−メトキシフェノキシ）メチル、グアイアコルメチル、ｔ−ブトキシメチル、４−ペンテノイルメチル、ｔ−ブチル−ジメチルシリルオキシメチル、２−エトキシメトキシメチル、２，２，２−トリクロロエトキシメチル、ビス（２−クロロエトキシ）メチル、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル、テトラヒドロピラニル、３−ブロモテトラヒド ロピラニル、テトラヒドロチオピラニル、１−メトキシシ
クロヘキシル、４−メトキシテトラヒドロピラニル、４−メトキシテトラヒドロチオピラニル、Ｓ，Ｓ −ジオキシド−４−メトキシテトラヒドロチオピラニル、１−［（２−クロロ−４−メチル）フェニル］−４−メトキシピペリジン−４−イル、１，４ −ジオキサン−２−イル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロチオフラニル、２，３，３ａ，４，５，６，７，７ａ −オクタヒドロ−７，８，８ −トリメチル−４，７−メタノベンゾフラン−２−イルなどの置換メチルエーテルを挙げることができる。 In the formula, R ¹ is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as methyl or ethyl; a group that forms a ring by bonding with —X—R ³ such as tetrahydrofuranyl; 1-methoxycyclohexyl, etc. It represents a group form a ring with -R ² as. R ² is synonymous with R ¹ , or represents an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms such as methoxy, ethoxy, 2-chloroethoxy and the like. X is an oxygen atom or sulfur atom, R ³ is a carbon number such as methyl, ethyl, 2-chloroethyl, benzyl, 4-methoxybenzyl, 2- (trimethylsilyl) ethyl, 2- (t-butyldimethylsilyl) ethyl group. An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and an aryl group having 6 to 20 carbon atoms such as phenyl, 4-methoxyphenyl and the like are represented. Here, R ^{1 to} R ³ are substituted with substituents such as alkyl groups, aryl groups, halogen atoms, cyano groups, amino groups, alkoxy groups, phenoxy groups, carboxyl groups, alkoxycarbonyl groups, acyl groups, amide groups, and the like. May be. Specific examples of the atomic group represented by the general formula (1A) include methoxymethyl, methoxythiomethyl, benzyloxymethyl, p-methoxybenzyloxymethyl, (4-methoxyphenoxy) methyl, guaiacolmethyl, t -Butoxymethyl, 4-pentenoylmethyl, t-butyl-dimethylsilyloxymethyl, 2-ethoxymethoxymethyl, 2,2,2-trichloroethoxymethyl, bis (2-chloroethoxy) methyl, 2- (trimethylsilyl) ethoxy Methyl, tetrahydropyranyl, 3-bromotetrahydropyranyl, tetrahydrothiopyranyl, 1-methoxycyclohexyl, 4-methoxytetrahydropyranyl, 4-methoxytetrahydrothiopyranyl, S, S-dioxide-4-methoxytetrahydrothiopyrani 1- (2-Chloro-4-methyl) phenyl] -4-methoxypiperidin-4-yl, 1,4-dioxane-2-yl, tetrahydrofuranyl, tetrahydrofuranyl, 2,3,3a, 4,5,6 , 7,7a-octahydro-7,8,8-trimethyl-4,7-methanobenzofuran-2-yl and the like substituted methyl ethers.

一般式（１Ｂ）
−Ｃ（−Ｒ⁴）（−Ｒ⁵）（−Ｒ⁶） General formula (1B)
^{-C (-R 4) (- R} 5) (- R 6)

式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶は、それぞれ独立にメチル、エチル、２−クロロエチル，２−フェネチルなどの炭素数１〜２０までのアルキル基を表す。このアルキル基は、アリール基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、アルコキシ基、フェノキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アミド基などの置換基で置換されていてもよ い。一般式（１Ｂ）で表される原子団の具体的な例としては、ｔ−ブチル、ｔ−オクチルなどを挙げることができる。 In the formula, R ⁴ , R ⁵ and R ⁶ each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as methyl, ethyl, 2-chloroethyl, 2-phenethyl and the like. This alkyl group may be substituted with a substituent such as an aryl group, halogen atom, cyano group, amino group, alkoxy group, phenoxy group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, acyl group or amide group. Specific examples of the atomic group represented by the general formula (1B) include t-butyl and t-octyl.

一般式（１Ｃ）
−Ｃ（−Ｒ⁷）（−Ｒ⁸）（−Ｒ⁹） General formula (1C)
^{-C (-R 7) (- R} 8) (- R 9)

式中、Ｒ⁷、Ｒ⁸はそれぞれ独立に水素原子もしくはメチル、エチルなどの炭素数１〜２０までのアルキル基、もしくはフェニル、４−メトキシフェニルなどのような炭素数６〜２０までのアリール基を表し、Ｒ⁹はフェニル、４ーメトキシフェニルなどのような炭素数６〜２０までのアリール基を表す。Ｒ⁷〜Ｒ⁹は、それぞれアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、アルコキシ基、フェノキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アミド基などの置換基で置換されていてもよい。一般式（１Ｃ）で表される原子団の具体的な例としては、４−メトキシベンジル、３，４−ジメトキシベンジル、２−ピコリル、ジフェニルメチル、５−ジベンゾスベリル、トリフェニルメチル、α−ナフチルジフェニルメチル、ｐ−メトキシフェニルジフェニルメチル、４，４'，４"−トリス（ベンゾイルオキシフェニル）メチル、３−（イミダゾール−１−イルメチル）ビス（４'，４"−ジメトキシフェニル）メチル、９−アンスリル、９−（９−フェニル）キサンテニル、９−（９−フェニルー１０ーオキソ）アンスリル、α−メチルシンナミルなどを挙げることができる。 In the formula, R ⁷ and R ⁸ are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as methyl or ethyl, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms such as phenyl or 4-methoxyphenyl. R ⁹ represents an aryl group having 6 to 20 carbon atoms such as phenyl, 4-methoxyphenyl and the like. R ^{7 to} R ⁹ are each substituted with a substituent such as an alkyl group, aryl group, halogen atom, cyano group, amino group, alkoxy group, phenoxy group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, acyl group, amide group and the like. Also good. Specific examples of the atomic group represented by the general formula (1C) include 4-methoxybenzyl, 3,4-dimethoxybenzyl, 2-picolyl, diphenylmethyl, 5-dibenzosuberyl, triphenylmethyl, α- Naphthyldiphenylmethyl, p-methoxyphenyldiphenylmethyl, 4,4 ′, 4 ″ -tris (benzoyloxyphenyl) methyl, 3- (imidazol-1-ylmethyl) bis (4 ′, 4 ″ -dimethoxyphenyl) methyl, 9 -Anthryl, 9- (9-phenyl) xanthenyl, 9- (9-phenyl-10-oxo) anthryl, α-methylcinnamyl and the like.

一般式（１Ｄ）
−Ｓｉ（−Ｒ¹⁰）（−Ｒ¹¹）（−Ｒ¹²） General formula (1D)
^{-Si (-R 10) (- R} 11) (- R 12)

式中、Ｒ¹⁰ 、Ｒ¹¹ 、Ｒ¹² はメチル、エチルなどの炭素数１〜２０までのアルキル基、もしくはフェニル、４−ブロモフェニル、４−メトキシフェニルなどのような炭素数６〜２０までのアリール基を表す。Ｒ¹⁰ 〜Ｒ¹² はそれぞれアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、アルコキシ基、フェノキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アミド基などの置換基で置換されていてもよい。一般 式（１Ｄ）で表される原子団の具体的な例としては、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ブチルジフェニルシリル、トリベンジルシリル、トリフェニルシリル、ジフェニルメチルシリル、ｔ−ブチルメトキシフェニルシリルなどを挙げることができる。 In the formula, R ¹⁰ , R ¹¹ and R ¹² are alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms such as methyl and ethyl, or those having 6 to 20 carbon atoms such as phenyl, 4-bromophenyl, 4-methoxyphenyl and the like. Represents an aryl group. R ^{10 to} R ¹² may each be substituted with a substituent such as an alkyl group, aryl group, halogen atom, cyano group, amino group, alkoxy group, phenoxy group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, acyl group or amide group. Good. Specific examples of the atomic group represented by the general formula (1D) include trimethylsilyl, triethylsilyl, t-butyldimethylsilyl, t-butyldiphenylsilyl, tribenzylsilyl, triphenylsilyl, diphenylmethylsilyl, t- Examples thereof include butylmethoxyphenylsilyl.

前記一般式（２ａ）中、Ｂ¹およびＢ⁴は水素原子、アルキル基、もしくはアリール基を示し、Ｘは酸素原子、もしくは硫黄原子、Ｂ²およびＢ³はアルキル基、もしくはアリール基を表す。Ｂ¹〜Ｂ⁴のアルキル基、アリール基としてはメチル、エチルなどの炭素数１〜
２０までのアルキル基、もしくはフェニル、４−メトキシフェニルなどのような、炭素数６〜２０までのアリール基を挙げることができる。Ｂ²、Ｂ³はともに結合して環を形成していても良い。Ｂ¹〜Ｂ⁴はそれぞれアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、アルコキシ基、フェノキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アミド基などの置換基で置換されていてもよい。−Ｃ（−ＸＢ²）（−ＸＢ³） を含む構造の具体例としては、ジメチルアセタール、ジメチルケタール、ビス（２、２、２−トリクロロエチル）ケタール、ジベンジルアセタール、ジベンジルケタール、１，３−ジオキソラン、４−フェニル−１，３−ジオキソランジオキソラン、４−ブロモ−１，３−ジオキソラン、１，３−ジオキサン、４−フェニル−１，３−ジオキサン、４−ブロモ−１，３−ジオキサン、１，３−オキサチオランなどのケタールおよびアセタールを挙げることができる。 In the general formula (2a), B ¹ and B ⁴ represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, X represents an oxygen atom or a sulfur atom, and B ² and B ³ represent an alkyl group or an aryl group. The alkyl group and aryl group of B ^{1 to} B ^{4 have} 1 to
Mention may be made of alkyl groups of up to 20 or aryl groups of up to 6-20 carbon atoms, such as phenyl, 4-methoxyphenyl and the like. B ² and B ³ may be bonded together to form a ring. B ^{1 to} B ⁴ may each be substituted with a substituent such as an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, a cyano group, an amino group, an alkoxy group, a phenoxy group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, an acyl group, or an amide group. Good. Specific examples of the structure containing —C (—XB ² ) (— XB ³ ) include dimethyl acetal, dimethyl ketal, bis (2,2,2-trichloroethyl) ketal, dibenzyl acetal, dibenzyl ketal, 1, 3-dioxolane, 4-phenyl-1,3-dioxolane dioxolane, 4-bromo-1,3-dioxolane, 1,3-dioxane, 4-phenyl-1,3-dioxane, 4-bromo-1,3-dioxane And ketals and acetals such as 1,3-oxathiolane.

前記一般式（３ａ）式中、Ｄ¹およびＤ²は水素原子、アルキル基、もしくはアリール基を示し、Ｄ³はアルキル基、もしくはアリール基を表す。Ｄ¹〜Ｄ³のアルキル基、アリール基としてはメチル、エチルなどの炭素数１〜２０までのアルキル基、もしくはフェニル、４ーメトキシフェニルなどのような炭素数６〜２０までのアリール基を挙げることができる。Ｄ¹、Ｄ²はともに結合して環を形成していても良い。Ｄ¹〜Ｄ³のアルキル基、アリール基は、それぞれアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、アルコキシ基、フェノキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アミド基などの置換基で置換されていてもよい。 In the general formula (3a), D ¹ and D ² represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and D ³ represents an alkyl group or an aryl group. Alkyl group of D ¹ to D ^3, the aryl group include methyl, an alkyl group of up to 20 carbon atoms such as ethyl, or phenyl, the aryl group having up to 20 carbon atoms, such as 4-methoxyphenyl be able to. D ¹ and D ² may be bonded together to form a ring. The alkyl group and aryl group of D ^{1 to} D ³ are each substituted with an alkyl group, aryl group, halogen atom, cyano group, amino group, alkoxy group, phenoxy group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, acyl group, amide group, etc. It may be substituted with a group.

前記一般式（４ａ）式中、Ｅは水素原子、アルキル基、もしくはアリール基を表す。Ｅのアルキル基、アリール基としてはメチル、エチルなどの炭素数１〜２０までのアルキル基、もしくはフェニル、４−メトキシフェニルなどのような炭素数６〜２０までのアリール基を挙げることができる。前記Ｅのアルキル基、アリール基は、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、アルコキシ基、フェノキシ基、カルボキシル基、アルコキシカル ボニル基、アシル基、アミド基などの置換基で置換されていてもよい。   In the general formula (4a), E represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group. Examples of the alkyl group and aryl group of E include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as methyl and ethyl, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms such as phenyl and 4-methoxyphenyl. The alkyl group or aryl group of E is substituted with a substituent such as an alkyl group, aryl group, halogen atom, cyano group, amino group, alkoxy group, phenoxy group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, acyl group or amide group. May be.

本発明に用い得る一般式（１ａ）〜（４ａ）に示す官能基を側鎖に有する高分子化合物に代表される如きスルホン酸発生型高分子化合物をより具体的に示すと、下記に示すモノマーをラジカル重合して得られる高分子化合物を挙げることができる。モノマーの具体例としては下記化合物を挙げることができるが、本発明はこれにより限定されるものでない。   More specifically, the sulfonic acid-generating polymer compound represented by the polymer compound having a functional group represented by the general formulas (1a) to (4a) in the side chain that can be used in the present invention is shown below. And a polymer compound obtained by radical polymerization. Specific examples of the monomer include the following compounds, but the present invention is not limited thereto.

上記高分子化合物は、上述のモノマーを用い、ラジカル重合により得られるものが好ましく用いられるが、このようなスルホン酸発生型の高分子化合物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、一般式（Ｉ）に代表されるスルホン酸発生構造単位を有するモノマーと、それ以外の他のモノマーとの共重合体であっても良い。本発明において、さらに好適に使用されるスルホン酸発生型の高分子化合物は、上記一般式（Ｉ）で表される構造単位を有するモノマーと公知の他のモノマーを用い、ラジカル重合により得られる共重合体である。   As the polymer compound, those obtained by radical polymerization using the above-mentioned monomers are preferably used. However, such a sulfonic acid-generating polymer compound has a general formula ( It may be a copolymer of a monomer having a sulfonic acid-generating structural unit represented by I) and another monomer other than that. In the present invention, the sulfonic acid-generating polymer compound more preferably used is a copolymer obtained by radical polymerization using a monomer having the structural unit represented by the general formula (I) and another known monomer. It is a polymer.

共重合体に用いられる上記の他のモノマーとしては、例えばアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド等の公知のモノマーが挙げられる。アクリル酸エステル類の具体例としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、（ｎ −またはｉ−）プロピルアクリレート、（ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−またはｔ−）ブチルアクリレート、アミルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ド デシルアクリレート、クロロエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、アリルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、ベンジルアクリ
レート、メトキシベンジルアクリレート、クロロベンジルアクリレート、ヒドロキシベンジルアクリレート、ヒドロキシフェネチルアクリレート、ジヒドロキシフェネチルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェニルアクリレート、ヒドロキシフェニルアクリレート、クロロフェニルアクリレート、スルファモイルフェニルアクリレート、２−（ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）エチルアクリレート等が挙げられる。 Examples of the other monomers used in the copolymer include acrylic esters, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes, acrylic acid, methacrylic acid, acrylonitrile, maleic anhydride. And known monomers such as maleic imide. Specific examples of acrylic esters include methyl acrylate, ethyl acrylate, (n- or i-) propyl acrylate, (n-, i-, sec- or t-) butyl acrylate, amyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, Dodecyl acrylate, chloroethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, cyclohexyl acrylate, allyl acrylate, trimethylolpropane monoacrylate, pentaerythritol monoacrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate, Chlorobenzyl acrylate, hydroxybenzyl acrylate, hydroxyphenethyl acrylate, dihydroxyphenyl Phenethyl acrylate, furfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, phenyl acrylate, hydroxyphenyl acrylate, chlorophenyl acrylate, sulfamoylphenyl acrylate, 2- (hydroxyphenyl carbonyloxy) ethyl acrylate.

メタクリル酸エステル類の具体例としては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、（ｎ−またはｉ−）プロピルメタクリレート、（ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−またはｔ−）ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、５−ヒド ロキシペンチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アリルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、メトキシベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、ヒドロキシベ ンジルメタクリレート、ヒドロキシフェネチルメタクリレート、ジヒドロキシフェネチルメタクリレート、フルフリルメタクリレー、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリレート、ヒドロキシフェニルメタクリレート、クロロフェニルメタクリレート、スルファモイルフェニルメタクリレート、２−（ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）エチルメタクリレート等が挙げられる。   Specific examples of methacrylic acid esters include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, (n- or i-) propyl methacrylate, (n-, i-, sec- or t-) butyl methacrylate, amyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, Dodecyl methacrylate, chloroethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 5-hydroxypentyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, allyl methacrylate, trimethylolpropane monomethacrylate, pentaerythritol monomethacrylate, glycidyl methacrylate, benzyl methacrylate, methoxy Benzyl methacrylate, chlorobenzyl methacrylate, hydroxybenzene Methacrylate, hydroxyphenethyl methacrylate, dihydroxyphenethyl methacrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, phenyl methacrylate, hydroxyphenyl methacrylate, chlorophenyl methacrylate, sulfamoylphenyl methacrylate, 2- (hydroxyphenylcarbonyloxy) ethyl methacrylate, etc. It is done.

アクリルアミド類の具体例としては、アクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−トリルアクリルアミド、Ｎ−（ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（スルファモイルフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（フェニルスルホニル）アクリルアミド、Ｎ−（トリルスルホニル）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアクリルアミド等が挙げられる。   Specific examples of acrylamides include acrylamide, N-methylacrylamide, N-ethylacrylamide, N-propylacrylamide, N-butylacrylamide, N-benzylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, and N-tolylacrylamide. N- (hydroxyphenyl) acrylamide, N- (sulfamoylphenyl) acrylamide, N- (phenylsulfonyl) acrylamide, N- (tolylsulfonyl) acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-methyl-N-phenylacrylamide , N-hydroxyethyl-N-methylacrylamide and the like.

メタクリルアミド類の具体例としては、メタクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−エチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピルメタクリルアミド、Ｎ−ブチルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、Ｎ−フェニルメタクリルアミ ド、Ｎ−トリルメタクリルアミド、Ｎ−（ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（スルファモイルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（フェニルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ−（トリルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメタクリルアミド等が挙げられる。   Specific examples of methacrylamides include methacrylamide, N-methylmethacrylamide, N-ethylmethacrylamide, N-propylmethacrylamide, N-butylmethacrylamide, N-benzylmethacrylamide, N-hydroxyethylmethacrylamide, N -Phenylmethacrylamide, N-tolylmethacrylamide, N- (hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (sulfamoylphenyl) methacrylamide, N- (phenylsulfonyl) methacrylamide, N- (tolylsulfonyl) methacrylamide, N, N-dimethylmethacrylamide, N-methyl-N-phenylmethacrylamide, N-hydroxyethyl-N-methylmethacrylamide and the like can be mentioned.

ビニルエステル類の具体例としては、ビニルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート等が挙げられる。スチレン類の具体例としては、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘキシルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシスチレン 等が挙げられる。   Specific examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate and the like. Specific examples of styrenes include styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, propyl styrene, cyclohexyl styrene, chloromethyl styrene, trifluoromethyl styrene, ethoxymethyl styrene, acetoxymethyl styrene, methoxy styrene, dimethoxy styrene. Chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, carboxystyrene, and the like.

これらの他のモノマーのうち特に好適に使用されるのは、炭素数２０以下のアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類及び、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリルである。ま
たこれらのモノマーの他に、架橋反応性を有するモノマーと共重合してもよい。架橋反応性を有するモノマーとしては、グリシジルメタクリレート、Ｎ−メチロールメタクリル アミド、オメガー（トリメトキシシリル）プロピルメタクリレート、２−イソシアネートエチルアクリレートなどを好ましく用いることができる。これらを用いた共重合体中に含まれるスルホン酸発生基を含む構成単位（モノマー）の割合は、５質量％以上であることが好ましく、さらに好ましくは１０質量％以上である。５質量％以上とすることにより、現像が好適となり、１０質量％以上とすることにより、現像後に現像残膜が発生することを防ぐことができる。また、本発明で使用されるスルホン酸発生型高分子化合物の分子量は、好ましくは質量平均分子量で２０００以上であり、更に好ましくは５０００〜３０万の範囲であり、数平均分子量で好ましくは８００以上であり、更に好ましくは １０００〜２５万の範囲である。多分散度（質量平均分子量／数平均分子量）は１以上が好ましく、更に好ましくは１．１〜１０の範囲である。これらの高分子化合物は、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれでも良いが、ランダムポリマーであることが好ましい。 Among these other monomers, particularly preferred are those having 20 or less carbon atoms, such as acrylic acid esters, methacrylic acid esters, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes, acrylic acid, methacrylic acid. Acid, acrylonitrile. In addition to these monomers, they may be copolymerized with monomers having crosslinking reactivity. As the monomer having crosslinking reactivity, glycidyl methacrylate, N-methylol methacrylamide, omega- (trimethoxysilyl) propyl methacrylate, 2-isocyanatoethyl acrylate, and the like can be preferably used. The proportion of the structural unit (monomer) containing a sulfonic acid generating group contained in a copolymer using these is preferably 5% by mass or more, and more preferably 10% by mass or more. By setting the content to 5% by mass or more, development is suitable, and by setting the content to 10% by mass or more, it is possible to prevent the development residual film from being generated after development. The molecular weight of the sulfonic acid-generating polymer compound used in the present invention is preferably 2000 or more in terms of mass average molecular weight, more preferably in the range of 5000 to 300,000, and preferably 800 or more in terms of number average molecular weight. More preferably, it is the range of 1000-250,000. The polydispersity (mass average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1 or more, more preferably in the range of 1.1-10. These polymer compounds may be random polymers, block polymers, graft polymers, or the like, but are preferably random polymers.

上記高分子化合物を合成する際に用いられる好適な溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、２−メトキシエチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、 Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、水等が挙げられる。これらの溶媒は単独であるいは ２種以上混合して用いられる。   Suitable solvents used in the synthesis of the polymer compound include, for example, tetrahydrofuran, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, Diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide, water, etc. Is mentioned. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

上記高分子化合物を合成する際に用いられるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物開始剤等重合開始剤として公知の化合物を任意に選択して使用できる。   As the radical polymerization initiator used when synthesizing the polymer compound, a known compound such as an azo initiator or a peroxide initiator can be arbitrarily selected and used.

上記高分子化合物は単独で用いても混合して用いてもよい。これら高分子化合物は、上記酸発生剤１００質量部に対して１００〜１００００質量部とするのが、露光部と未露光部との色差を鮮明にする点で好ましく、１５０〜５０００質量部とするのが更に好ましい。   The above polymer compounds may be used alone or in combination. These polymer compounds are preferably 100 to 10,000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the acid generator from the viewpoint of sharpening the color difference between the exposed part and the unexposed part, and 150 to 5000 parts by weight. Is more preferable.

本発明で使用される高分子化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれにより限定されるものでない。   Specific examples of the polymer compound used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

また、本発明においては、３，４−二置換−シクロブテ−３−エン−１，２−ジオン（以下、「スクエア酸誘導体」という場合がある）を上記酸増殖剤として用いることもできる。該スクエア酸誘導体は酸感受性物質の色変化を行うのに非常に適した強力な酸であり、好ましく用いることができる。特に好ましいスクエア酸誘導体は、スクエア酸環に、酸
素原子、アルキル基またはアルキレン基、部分的に水素化したアリール基またはアリレン基、またはアラルキル基を介して結合するものである。これらのスクエア酸誘導体の酸触媒分解は、誘導体の元のアルコキシ、アルキレンオキシ、アリールオキシ、アリレンオキシ、またはアラルコキシ基の水酸基との置換を生じ、これにより水酸基を１つ有するスクエア酸またはスクエア酸誘導体を生成する。 In the present invention, 3,4-disubstituted-cyclobut-3-ene-1,2-dione (hereinafter sometimes referred to as “squaric acid derivative”) can also be used as the acid proliferating agent. The squaric acid derivative is a strong acid that is very suitable for changing the color of an acid-sensitive substance, and can be preferably used. Particularly preferred squaric acid derivatives are those bonded to the squaric acid ring through an oxygen atom, an alkyl group or an alkylene group, a partially hydrogenated aryl group or an arylene group, or an aralkyl group. Acid-catalyzed decomposition of these squaric acid derivatives results in substitution of the original alkoxy, alkyleneoxy, aryloxy, aryleneoxy, or aralkoxy group of the derivative with a hydroxyl group, thereby producing a squaric acid or squaric acid derivative having one hydroxyl group. Generate.

本発明において用いることができるスクエア酸誘導体としてのスクエア酸エステルとしては、以下のもの等が挙げられる。
（ａ）スクエア酸の一級エステルまたは二級エステルであって、エステルのα−炭素原子（すなわち、スクエア酸環の−Ｏ−原子に直接結合した炭素原子）が非塩基性のカチオン安定化基を有するエステルである。このカチオン安定化基は、例えば、ｓｐ²もしくはｓｐ混成炭素原子、または酸素原子であり得る；
（ｂ）スクエア酸の三級エステルであって、エステルのα−炭素原子が、それに直接結合したｓｐ²またはｓｐ混成炭素原子を有しないエステルである；および
（ｃ）スクエア酸の四級エステルであって、エステルのα−炭素原子が、それに直接結合したｓｐ²またはｓｐ混成炭素原子を有するエステルである。ただし、このｓｐ²またはｓｐ混成炭素原子（または、１つよりも多いこのような原子がα−炭素原子に直接結合している場合、少なくとも１つのこれらのｓｐ²またはｓｐ混成炭素原子）が電子吸引基と結合している。 Examples of the squaric acid ester as the squaric acid derivative that can be used in the present invention include the following.
(A) a squaric acid primary or secondary ester, wherein the α-carbon atom of the ester (ie, the carbon atom directly bonded to the —O— atom of the squaric acid ring) is a non-basic cation stabilizing group; It is ester which has. The cation stabilizing group can be, for example, an sp ² or sp hybrid carbon atom, or an oxygen atom;
(B) a tertiary ester of squaric acid wherein the α-carbon atom of the ester does not have an sp ² or sp hybridized carbon atom directly attached thereto; and (c) a quaternary ester of squaric acid. An ester in which the α-carbon atom of the ester has an sp ² or sp hybridized carbon atom bonded directly thereto. Provided that the sp ² or sp hybrid carbon atom (or at least one of these sp ² or sp hybrid carbon atoms if more than one such atom is bonded directly to the α-carbon atom) is an electron Combined with a suction group.

このような酸増殖剤の配合割合は、上記酸発生剤１００質量部に対して、１００〜２０００質量部とするのが、露光部と未露光部との色差を鮮明にする点で好ましく、１５０〜１５００質量部とするのが更に好ましい。   The blending ratio of such an acid proliferating agent is preferably 100 to 2000 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acid generator from the viewpoint of sharpening the color difference between the exposed part and the unexposed part, 150 More preferably, it is set to ˜1500 parts by mass.

［塩基発生剤］
本発明に用いられる上記塩基発生剤としては、特開平２−１６６４５０号公報の第６頁上段左２行目〜同頁上段右１５行目に記載されているような化合物、具体的には、加熱により脱炭酸する有機酸と塩基との塩、分子内求核置換反応、ロッセン転移、ベックマン転移などの反応によってアミン類を放出する化合物など、加熱により何らかの反応を起こして塩基を放出するものが好ましく用いられる。
具体的には、塩基の酸塩が挙げられ、該塩基としては、例えば、グアニジン、トリフェニルグアニジン、トリシクロヘキシルグアニジン、ピペリジン、モルホリン、ｐ−トルイジン、２−ピコリンなどが挙げられ、酸としては、例えば、酢酸、トリクロロ酢酸、フェニルスルホニル酢酸、４−メチルスルフォニルフェニルスルホニル酢酸、４−アセチルアミノメチルプロピオン酸、蓚酸、マレイン酸、コハク酸、フマル酸、炭酸、重炭酸などが挙げられる。
これらの塩基発生剤は、固体状のまま画像形成層用の組成物中に分散して粒子状物として層中に導入しても良く、また後述するマイクロカプセルの中に内包された状態で導入しても良い。
また、塩基発生剤の添加量は、下記赤外線吸収剤１００質量部に対して１０〜１０００質量部とするのが、露光部の視認性の点で好ましく、３０〜８００質量部とするのが更に好ましい。 [Base generator]
Examples of the base generator used in the present invention include compounds described in JP-A-2-166450, page 6, upper left column, second row to the same page upper column, right row 15, specifically, Some compounds that release some bases by heating, such as salts of organic acids and bases decarboxylated by heating, compounds that release amines by reactions such as intramolecular nucleophilic substitution, Lossen transfer, Beckmann transfer, etc. Preferably used.
Specific examples include base acid salts. Examples of the base include guanidine, triphenylguanidine, tricyclohexylguanidine, piperidine, morpholine, p-toluidine, 2-picoline, and the acid. Examples thereof include acetic acid, trichloroacetic acid, phenylsulfonylacetic acid, 4-methylsulfonylphenylsulfonylacetic acid, 4-acetylaminomethylpropionic acid, succinic acid, maleic acid, succinic acid, fumaric acid, carbonic acid, and bicarbonate.
These base generators may be dispersed in the composition for the image forming layer in a solid state and introduced into the layer as particulate matter, or introduced in the state of being encapsulated in microcapsules described later. You may do it.
The addition amount of the base generator is preferably 10 to 1000 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the following infrared absorber from the viewpoint of the visibility of the exposed part, and more preferably 30 to 800 parts by mass. preferable.

［塩基増殖剤］
本発明において用いられる上記塩基増殖剤は、塩基の作用により分解して塩基を発生し、また、この際に発生する塩基と同一の塩基を作用させると、分解して塩基を発生する特性を有するものである。従って、上記塩基増殖剤は、その一定量に対してそれより少ない当量の塩基を作用させるだけで、自己増殖的に分解し、最終的にその全量が分解し、その塩基増殖剤量に対応する多量の塩基を発生させることができる。このような塩基増殖剤としては、特開２０００−３３０２７０号公報の（００１０）〜（００３２）に記載されて
いる化合物などを挙げることができる。 [Base proliferating agent]
The above-mentioned base proliferating agent used in the present invention has the property of decomposing by the action of a base to generate a base, and decomposing to generate a base when the same base as that generated at this time is allowed to act. Is. Therefore, the base proliferating agent decomposes in a self-propagating manner by allowing a smaller equivalent amount of base to act on the fixed amount, and finally the entire amount decomposes, corresponding to the amount of the base proliferating agent. A large amount of base can be generated. Examples of such a base proliferating agent include compounds described in JP-A 2000-330270 (0010) to (0032).

具体的には、上記塩基増殖剤としては、前記特性を有するウレタン系化合物を好ましく挙げることができる。このような上記塩基増殖剤は、少なくとも１つのウレタン結合を含有するウレタン系化合物からなり、該ウレタン系化合物は、該ウレタン結合を形成するアミノ基由来の塩基（アンモニア又はアミン）の作用により分解し、該ウレタン結合由来の塩基（アンモニア又はアミン）を発生するものである。もちろん、そのウレタン結合を形成するアミノ基由来の塩基とは異った塩基を作用させても、分解して塩基を発生する。   Specifically, preferred examples of the base proliferating agent include urethane compounds having the above characteristics. Such a base proliferating agent comprises a urethane compound containing at least one urethane bond, and the urethane compound is decomposed by the action of an amino group-derived base (ammonia or amine) that forms the urethane bond. The base (ammonia or amine) derived from the urethane bond is generated. Of course, even if a base different from the base derived from the amino group forming the urethane bond is allowed to act, it decomposes to generate a base.

このようなウレタン化合物が塩基増殖剤としての機能を有するか否かは、以下に示す簡単な予備実験により判定することができる。
（塩基増殖判定法）
ウレタン系化合物の２ｗｔ％メタノール−ｄ₄溶液に、そのウレタン系化合物のウレタン結合（−ＯＣＯＮＲ¹Ｒ²）を形成するアミノ基ＮＲ¹Ｒ²に由来の塩基と同一の塩基ＨＮＲ¹Ｒ²を０．１ｗｔ％添加した溶液をＮＭＲスペクトル測定用試料管に入れ、これを封管してから１００℃に加熱してＮＭＲスペクトルを測定する。ウレタン化合物の分解で生成するオレフィンのＮＭＲシグナルの増加によって、ウレタン系化合物は塩基増殖機能を有するものと判定される。 Whether such a urethane compound has a function as a base proliferating agent can be determined by a simple preliminary experiment shown below.
(Base proliferation determination method)
In a 2 wt% methanol-d ₄ solution of a urethane compound, the same base HNR ¹ R ² as the base derived from the amino group NR ¹ R ² forming the urethane bond (—OCONR ¹ R ² ) of the urethane compound is added to 0. .1 wt% added solution is put into a sample tube for NMR spectrum measurement, which is sealed and heated to 100 ° C. to measure the NMR spectrum. The urethane compound is determined to have a base-growing function based on an increase in the NMR signal of the olefin generated by the decomposition of the urethane compound.

上記のウレタン化合物からなる上記塩基増殖剤は、一般的には、下記一般式（１ｂ）で表されるウレタン系化合物を挙げることができる。   In general, examples of the base proliferating agent made of the above urethane compound include a urethane compound represented by the following general formula (1b).

前記式中、Ｒ₁及びＲ₂は水素原子、置換基又は電子吸引性基であり、その少なくとも一方は電子吸引性基である。Ｒ₃及びＲ₄は水素原子又は置換基であり、Ｚはアミノ基である。 In the above formula, R ₁ and R ₂ are a hydrogen atom, a substituent, or an electron withdrawing group, and at least one of them is an electron withdrawing group. R ₃ and R ₄ are a hydrogen atom or a substituent, and Z is an amino group.

前記電子吸引性基には、有機電子論等において慣用の電子吸引性基、例えば、フルオレニル基、有機スルホキシド基、シアノ基、ニトロ基、エステル基、カルボニル基、アミド基、ピリジル基等が包含される。   Examples of the electron-withdrawing group include electron-withdrawing groups commonly used in organic electron theory, such as a fluorenyl group, an organic sulfoxide group, a cyano group, a nitro group, an ester group, a carbonyl group, an amide group, and a pyridyl group. The

前記有機スルホキシド基には、下記一般式（２ｂ）で表されるものが包含される。   The organic sulfoxide group includes those represented by the following general formula (2b).

前記式中、Ａｒは置換基を表し、好ましくはアリール基である。その具体例としては、フェニル、トリル、ナフチル等が挙げられる。Ａｒの炭素数は、６〜１８、好ましくは６〜１２である。   In the above formula, Ar represents a substituent, preferably an aryl group. Specific examples thereof include phenyl, tolyl, naphthyl and the like. The carbon number of Ar is 6-18, preferably 6-12.

前記置換基には、好ましくは炭素数１〜１２、更に好ましくは１〜６のアルキル基、好ましくは炭素数５〜１０更に好ましくは炭素数６〜８のシクロアルキル基、好ましくは炭素数６〜１４、更に好ましくは炭素数６〜１０のアリール基、好ましくは炭素数７〜１５、更に好ましくは７〜１１のアリールアルキル基等が包含される。その具体例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、シクロヘキシル、フェニル、トリル、ナフチル、ベンジル、フェネチル、ナフチルメチル等が挙げられる。   The substituent is preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, preferably 5 to 10 carbon atoms, more preferably a cycloalkyl group having 6 to 8 carbon atoms, preferably 6 to 6 carbon atoms. 14, more preferably an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, preferably an arylalkyl group having 7 to 15 carbon atoms, and more preferably 7 to 11 carbon atoms. Specific examples thereof include methyl, ethyl, propyl, butyl, cyclohexyl, phenyl, tolyl, naphthyl, benzyl, phenethyl, naphthylmethyl and the like.

前記アミノ基には、未置換アミノ基及び置換アミノ基が包含される。置換アミノ基にはモノ置換アミノ基及びジ置換アミノ基が包含される。前記アミノ基は、下記一般式（３ｂ）で表すことができる。   The amino group includes an unsubstituted amino group and a substituted amino group. The substituted amino group includes a mono-substituted amino group and a di-substituted amino group. The amino group can be represented by the following general formula (3b).

前記式中、Ｒ₅及びＲ₆は水素原子又は置換基を示す。置換基として好ましくは炭素数１〜１８、更に好ましくは６〜１２である。この置換基には、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アリールアルキル基が包含される。アルキル基としては、特に、好ましくは炭素数１〜１２、更に好ましくは２〜６のもの、例えば、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル等が挙げられる。シクロアルキル基としては、好ましくは炭素数５〜１０、更に好ましくは６〜８のもの、例えば、シクロヘキシル、シクロオクチル等が挙げられる。アリール基としては、好ましくは炭素数６〜１４、更に好ましくは６〜１０のもの、例えば、フェニル、トリル、ナフチル等が挙げられる。アリールアルキル基としては、好ましくは炭素数が７〜１５、更に好ましくは７〜１１のもの、例えば、ベンジル、フェネチル、ナフチルメチル等が挙げられる。前記アルキル基、シクロアルキル基、アリール基及びアリールアルキル基は、置換基を有していてもよい。この場合の置換基としては、アミノ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、ヒドロキシ基等が挙げられる。 In the above formula, R ₅ and R ₆ represent a hydrogen atom or a substituent. Preferably it is C1-C18 as a substituent, More preferably, it is 6-12. This substituent includes an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, and an arylalkyl group. Especially as an alkyl group, Preferably it is C1-C12, More preferably, the thing of 2-6, for example, ethyl, propyl, butyl, hexyl, etc. are mentioned. Preferred examples of the cycloalkyl group include those having 5 to 10 carbon atoms, more preferably 6 to 8 carbon atoms, such as cyclohexyl and cyclooctyl. The aryl group preferably has 6 to 14 carbon atoms, more preferably 6 to 10 carbon atoms, such as phenyl, tolyl, naphthyl and the like. The arylalkyl group preferably has 7 to 15 carbon atoms, more preferably 7 to 11 carbon atoms, such as benzyl, phenethyl, naphthylmethyl and the like. The alkyl group, cycloalkyl group, aryl group and arylalkyl group may have a substituent. Examples of the substituent in this case include an amino group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, an acyl group, an acyloxy group, and a hydroxy group.

前記一般式（３ｂ）のアミノ基において、Ｒ₅とＲ₆は連結して含窒素環を形成することができる。この場合の含窒素環の環構成原子数は好ましくは３〜１２、更に好ましくは５〜８である。また、前記含窒素環は、その環構成原子に複数のヘテロ原子（Ｎ、Ｏ、Ｓ等）を含有することができる。 In the amino group of the general formula (3b), R ₅ and R ₆ can be linked to form a nitrogen-containing ring. In this case, the number of atoms constituting the nitrogen-containing ring is preferably 3 to 12, and more preferably 5 to 8. Further, the nitrogen-containing ring can contain a plurality of heteroatoms (N, O, S, etc.) in the ring constituent atoms.

本発明においては、前記アミノ基としては、下記一般式（４ｂ）で表されるものを好ましいものとして挙げることができる。   In the present invention, preferred examples of the amino group include those represented by the following general formula (4b).

前記式中、ｎ及びｍは好ましくは１〜６、更に好ましくは２〜４の数を示す。ｎ＋ｍは好ましくは４〜１２、更に好ましくは４〜８である。Ｒ₇は水素原子の他、炭化水素基、炭化水素オキシ基、アシル基等の置換基を示すが、塩基増殖機能を有するウレタン系化合物の残基であってもよい。炭化水素基、炭化水素オキシ基における炭化水素基及びアシル基における炭化水素基の炭素数は好ましくは１〜１２、更に好ましくは１〜８である。この炭化水素基には、アルキル、シクロアルキル、アリール、アリールアルキルが包含される。 In the above formula, n and m are preferably 1 to 6, more preferably 2 to 4. n + m is preferably 4 to 12, and more preferably 4 to 8. R ₇ represents a hydrogen atom, or a substituent such as a hydrocarbon group, a hydrocarbon oxy group, or an acyl group, but may be a residue of a urethane compound having a base-growing function. The hydrocarbon group, the hydrocarbon group in the hydrocarbon oxy group, and the hydrocarbon group in the acyl group preferably have 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms. This hydrocarbon group includes alkyl, cycloalkyl, aryl, arylalkyl.

上記塩基増殖剤として用いられるウレタン系化合物は２つ又はそれ以上のウレタン結合を含有することができる。このようなウレタン系化合物としては、下記一般式（５ｂ）及び（６ｂ）で表されるものを挙げることができる。   The urethane compound used as the base proliferating agent can contain two or more urethane bonds. Examples of such urethane compounds include those represented by the following general formulas (5b) and (6b).

前記一般式（５ｂ）において、Ｒ₁及びＲ₂は水素原子、置換基又は電子吸引性基であり、その少なくとも一方は電子吸引性基である。Ｒ₃及びＲ₄は水素原子又は置換基である。Ｒ₁'及びＲ₂'は水素原子、置換基又は電子吸引性基であり、その少なくとも一方は電子吸引性基である。Ｒ₃'及びＲ₄'は水素原子又は置換基である。ｎ及びｍは好ましくは１〜６、更に好ましくは２〜４の数を示す。ｎ＋ｍは好ましくは４〜１２、更に好ましくは４〜８である。 In the general formula (5b), R ₁ and R ₂ are a hydrogen atom, a substituent, or an electron withdrawing group, and at least one of them is an electron withdrawing group. R ₃ and R ₄ are a hydrogen atom or a substituent. R ₁ ′ and R ₂ ′ are a hydrogen atom, a substituent or an electron withdrawing group, at least one of which is an electron withdrawing group. R ₃ ′ and R ₄ ′ are a hydrogen atom or a substituent. n and m are preferably 1 to 6, more preferably 2 to 4. n + m is preferably 4 to 12, and more preferably 4 to 8.

前記一般式（６ｂ）において、Ｒ₁及びＲ₂は水素原子、置換基又は電子吸引性基であり、その少なくとも一方は電子吸引性基である。Ｒ₃及びＲ₄は水素原子又は置換基である。Ｒ₁'及びＲ₂'は水素原子、置換基又は電子吸引性基であり、その少なくとも一方は電子吸引性基である。Ｒ₃'及びＲ₄'は水素原子又は置換基である。Ｙは炭素数好ましくは１〜８、更に好ましくは２〜６のアルキレン基である。ｎ及びｍは好ましくは１〜６、更に好ましくは２〜４の数を示す。ｎ＋ｍは好ましくは４〜１２、更に好ましくは４〜８である。ｐ及びｑは好ましくは１〜６、更に好ましくは２〜４の数を示す。ｐ＋ｑは好ましくは４〜１２、更に好ましくは４〜８である。 In the general formula (6b), R ₁ and R ₂ are a hydrogen atom, a substituent, or an electron withdrawing group, and at least one of them is an electron withdrawing group. R ₃ and R ₄ are a hydrogen atom or a substituent. R ₁ ′ and R ₂ ′ are a hydrogen atom, a substituent or an electron withdrawing group, at least one of which is an electron withdrawing group. R ₃ ′ and R ₄ ′ are a hydrogen atom or a substituent. Y is an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably 2 to 6 carbon atoms. n and m are preferably 1 to 6, more preferably 2 to 4. n + m is preferably 4 to 12, and more preferably 4 to 8. p and q are preferably 1 to 6, more preferably 2 to 4. p + q is preferably 4 to 12, more preferably 4 to 8.

前記電子吸引性基及び置換基の具体例としては、前記一般式（１ｂ）との関連で示したものを例示することができる。   Specific examples of the electron-withdrawing group and the substituent include those shown in relation to the general formula (1b).

上述の塩基増殖剤は、ウレタン結合を含有し、そしてそのウレタン基（カルバモイル基）が結合する炭素原子に隣接する炭素原子に電子吸引性基と水素原子とが結合しているものである。従って、このような構造的特徴のために、その電子吸引性基が結合している炭素原子に結合している水素原子は、酸的性質を帯び、塩基の作用により引き抜き可能となっている。上記塩基増殖剤による塩基増殖反応のメカニズムを示すと、先ず、塩基の作用により前記水素原子の引抜きが起り、次いでカルバミン酸が脱離し、これがさらに分解して塩基と二酸化炭素を発生する。そして、この際に生成した塩基が他の塩 基増殖剤分子に作用して、その分子を分解させて、塩基を発生させる。このようにして、塩基増殖剤は連鎖反応的に分解され、結局、少量の塩基により多量の塩基を発生させる。前記塩基増殖反応を、前記一般式（１ｂ）のウレタン系化合物を例にとって反応式で示すと、以下の通りである。   The above-mentioned base proliferating agent contains a urethane bond, and an electron-withdrawing group and a hydrogen atom are bonded to a carbon atom adjacent to the carbon atom to which the urethane group (carbamoyl group) is bonded. Therefore, due to such structural characteristics, the hydrogen atom bonded to the carbon atom to which the electron-withdrawing group is bonded has acid properties and can be extracted by the action of the base. The mechanism of the base growth reaction by the base proliferating agent will be described. First, the hydrogen atoms are extracted by the action of the base, and then carbamic acid is eliminated, which further decomposes to generate a base and carbon dioxide. The base generated at this time acts on other base proliferating agent molecules to decompose the molecules and generate bases. In this way, the base proliferating agent is decomposed in a chain reaction, and eventually a large amount of base is generated by a small amount of base. The base growth reaction is represented by the following reaction formula using the urethane compound of the general formula (1b) as an example.

前記反応式におけるＨ−Ｚがウレタン結合に結合しているアミノ基由来の塩基を示す。
この塩基はアンモニア又は好ましくはアミンである。上記塩基増殖剤を調製するには、アルコールにクロロ蟻酸エステルを反応させて非対称的な炭酸ジエステルを生成し、次いでこの炭酸ジエステルに塩基を反応させればよい。 HZ in the above reaction formula represents a base derived from an amino group bonded to a urethane bond.
This base is ammonia or preferably an amine. In order to prepare the base proliferating agent, an asymmetric carbonic acid diester is produced by reacting a chloroformate with alcohol, and then a base is reacted with the carbonic acid diester.

本発明において好ましく用いられる塩基増殖剤の具体例を以下に示す。   Specific examples of the base proliferating agent preferably used in the present invention are shown below.

前記Ｎｏ．１−１〜１−１１の化合物は電子吸引性基としてフルオレニル基が結合しているフルオレン系塩基増殖剤の例を示し、アミンを増殖的に発生する。一方、前記Ｎｏ．２−１〜２−４の化合物は、電子吸引性基として有機スルホキシド基が結合しているスルホン系塩基増殖剤の例を示し、アミンを増殖的に発生する。   No. The compounds 1-1 to 1-11 show examples of fluorene base proliferating agents to which a fluorenyl group is bonded as an electron-withdrawing group and generate amines in a proliferative manner. On the other hand, the No. The compounds 2-1 to 2-4 show examples of sulfone base proliferating agents to which organic sulfoxide groups are bonded as electron-withdrawing groups, and generate amines in a proliferative manner.

上記塩基増殖剤は、室温で熱的に安定であり、長期にわたって保存することができる。
この塩基増殖剤を有機溶剤中に溶解し、これに、初期の触媒反応を引き起こす塩基を少量添加して加熱反応させると、特定の反応時間から急激に分解が起こり、塩基増殖反応が進行していることが確認できる。
上記塩基増殖剤の添加量は、上記塩基発生剤１００質量部に対して、１００〜１００００質量部とするのが、露光部の視認性の点で好ましく、２００〜９０００質量部とするの
が更に好ましい。 The base proliferating agent is thermally stable at room temperature and can be stored for a long time.
When this base proliferating agent is dissolved in an organic solvent, and a small amount of a base that causes an initial catalytic reaction is added thereto and reacted by heating, decomposition occurs rapidly from a specific reaction time, and the base proliferating reaction proceeds. It can be confirmed.
The addition amount of the base proliferating agent is preferably 100 to 10,000 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the base generator, from the viewpoint of visibility of the exposed part, and more preferably 200 to 9000 parts by mass. preferable.

本発明の機上現像型平版印刷版原版においては、変色剤のｌｏｇＰ値と、変色剤を含有する層のその他成分の平均ｌｏｇＰ値との差が３．５未満となるように、変色剤と、その他成分とを選択、調整する。
本発明において、変色剤を含有する層の変色剤以外のその他成分の平均ｌｏｐＰ値は、各成分のｌｏｇＰ値に各成分の質量分率をかけた値を合計したものである。ここで各成分の質量分率とは、各成分の添加質量を変色剤以外の全成分の添加質量で除した値である。 In the on-press development type lithographic printing plate precursor of the present invention, the color changing agent is used so that the difference between the log P value of the color changing agent and the average log P value of the other components of the layer containing the color changing agent is less than 3.5. Select and adjust other components.
In the present invention, the average lopP value of other components other than the color change agent of the layer containing the color change agent is the sum of values obtained by multiplying the log P value of each component by the mass fraction of each component. Here, the mass fraction of each component is a value obtained by dividing the added mass of each component by the added mass of all components other than the discoloring agent.

変色剤を含有する層は、それ自体が画像形成層であってもよく、画像形成層に隣接する層、例えば、オーバーコート層であっても良いが、画像形成層が好ましい。   The layer containing the color changing agent itself may be an image forming layer or a layer adjacent to the image forming layer, for example, an overcoat layer, but an image forming layer is preferred.

変色剤の添加量は、層全体の固形分質量に対して１質量％以上５０質量％以下が好ましく、２質量％以上４５質量％以下がより好ましい。   The addition amount of the color changing agent is preferably 1% by mass or more and 50% by mass or less, and more preferably 2% by mass or more and 45% by mass or less based on the solid content mass of the entire layer.

以下、画像形成層の構成成分について詳しく説明する。   Hereinafter, the constituent components of the image forming layer will be described in detail.

［赤外線吸収剤］
本発明において画像形成層に用いられる赤外線吸収剤は、赤外線レーザーに対する感度を高めるために用いられる成分である。該赤外線吸収剤は、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有している。本発明において使用される赤外線吸収剤は、波長７６０〜１２００ｎｍに吸収極大を有する染料又は顔料であるのが好ましい。 [Infrared absorber]
In the present invention, the infrared absorbent used in the image forming layer is a component used to increase sensitivity to an infrared laser. The infrared absorber has a function of converting absorbed infrared rays into heat. The infrared absorber used in the present invention is preferably a dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 760 to 1200 nm.

染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。   As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, etc. Is mentioned.

好ましい染料としては、例えば、特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭６０−７８７８７号等に記載されているシアニン染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号等の公報に記載されているメチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３７４４号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号等の公報に記載されているスクワリリウム色素、英国特許第４３４，８７５号明細書記載のシアニン染料等を挙げることができる。   Examples of preferable dyes include cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-60-78787, JP-A-58-173696, Methine dyes described in JP-A Nos. 58-181690 and 58-194595, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A Naphthoquinone dyes described in JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, etc., squarylium dyes described in JP-A-58-112792, etc., British Patent No. And cyanine dyes described in the specification of 434,875.

また、米国特許第５，１５６，９３８号明細書記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第３，８８１，９２４号明細書記載の置換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号公報（米国特許第４，３２７，１６９号明細書）記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号公報記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３５１４号、同５−１９７０２号公報に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料として好ましい別の例として米国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、（ＩＩ）として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
また、上記赤外線吸収色素の好ましい他の例としては、以下に例示するような特開２０
０２−２７８０５７号公報記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。 In addition, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) described in US Pat. No. 3,881,924 is also suitable. ) Pyrylium salt, trimethine thiapyrylium salt described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59- No. 41363, 59-84248, 59-84249, 59-146063, 59-146061, pyranyl compounds described in JP-A-59-216146, cyanine dyes described in US It is disclosed in the pentamethine thiopyrylium salt described in Japanese Patent No. 4,283,475, and Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702. Pyrylium compounds are also preferably used. Another example of a preferable dye is a near-infrared absorbing dye described as formulas (I) and (II) in US Pat. No. 4,756,993.
Further, as another preferred example of the infrared absorbing dye, JP-A-20
Specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-02-278057.

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。さらに、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい一つの例として下記一般式（Ｉ）で示されるシアニン色素が挙げられる。   Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferred, and one particularly preferred example is a cyanine dye represented by the following general formula (I).

一般式（Ｉ）中、Ｘ¹は、水素原子、ハロゲン原子、−ＮＰｈ₂、Ｘ²−Ｌ¹又は以下に示す基を表す。ここで、Ｘ²は酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子を示し、Ｌ¹は、炭素原子数１〜１２の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数１〜１２の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、Ｎ、Ｓ、Ｏ、ハロゲン原子、
Ｓｅを示す。 In the general formula (I), X ¹ represents a hydrogen atom, a halogen atom, -NPh _2, X ² -L ¹ or a group shown below. Here, X ² represents an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom, and L ¹ represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or 1 to 1 carbon atom containing a hetero atom. 12 hydrocarbon groups are shown. Here, the hetero atom means N, S, O, a halogen atom,
Se is shown.

Ｒ¹及びＲ²は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜１２の炭化水素基を示す。画像形成層塗布液の保存安定性から、Ｒ¹及びＲ²は、炭素原子数２個以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、Ｒ¹とＲ²とは互いに結合し、５員環又は６員環を形成していることが特に好ましい。 R ¹ and R ² each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the image forming layer coating solution, R ¹ and R ² are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R ¹ and R ² are bonded to each other to form a 5-membered ring. Alternatively, it is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ａｒ¹、Ａｒ²は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数１２個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基が挙げられる。Ｙ¹、Ｙ²は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数１２個以下のジアルキルメチレン基を示す。Ｒ³、Ｒ⁴は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数２０個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷及びＲ⁸は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数１２個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Ｚａ^-は、対アニオンを示す。ただし、一般式（Ｉ）で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはＺａ^-は必要ない。好ましいＺａ^-は、記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。 Ar ¹ and Ar ² may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y ¹ and Y ² may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R ³ and R ⁴ may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R ⁵ , R ⁶ , R ⁷ and R ⁸ may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Za ⁻ represents a counter anion. However, Za ⁻ is not necessary when the cyanine dye represented by formula (I) has an anionic substituent in its structure and neutralization of charge is not necessary. Preferred Za ⁻ is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, a hexagonal salt, in view of the storage stability of the recording layer coating solution. Fluorophosphate ion and aryl sulfonate ion.

本発明において、好適に用いることのできる一般式（Ｉ）で示されるシアニン色素の具体例としては、特開２００１−１３３９６９号公報の段落番号［００１７］から［００１９］に記載されたものを挙げることができる。
また、特に好ましい他の例としてさらに、前記した特開２００２−２７８０５７号公報に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。 Specific examples of the cyanine dye represented by formula (I) that can be suitably used in the present invention include those described in paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969. be able to.
Further, other particularly preferable examples include specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-2002-278057 described above.

本発明において使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔料が利用できる。   Examples of the pigment used in the present invention include commercially available pigments and color index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986), “Printing Ink Technology”, CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオ
インジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。 Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.

これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等）を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。   These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Applications of Metal Soap” (Yokoshobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は０．０１〜１０μｍの範囲にあることが好ましく、０．０５〜１μｍの範囲にあることがさらに好ましく、特に０．１〜１μｍの範囲にあることが好ましい。この範囲で、顔料分散物の画像形成層塗布液中での良好な安定性と画像形成層の良好な均一性が得られる。   The particle diameter of the pigment is preferably in the range of 0.01 to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 to 1 μm. Within this range, good stability of the pigment dispersion in the image forming layer coating solution and good uniformity of the image forming layer can be obtained.

顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

これらの赤外線吸収剤は、他の成分と同一の層に添加してもよいし、画像形成層を２層以上の層で構成して他の成分（例えば、ラジカル重合開始剤、ラジカル重合性モノマー）とは別々の層に添加してもよい。また、マイクロカプセルに内包させて添加することもできる。
添加量としては、ネガ型の平版印刷版原版を作成した際に、画像形成層の波長７６０ｎｍ〜１２００ｎｍの範囲における極大吸収波長での吸光度が、反射測定法で０．３〜１．２の範囲にあるように添加することが好ましく、より好ましくは、０．４〜１．１の範囲である。この範囲で、画像形成層の深さ方向での均一な重合反応が進行し、良好な画像部の膜強度と支持体に対する密着性が得られる。画像形成層の吸光度は、画像形成層に添加する赤外線吸収剤の量と画像形成層の厚みにより調整することができる。吸光度の測定は常法により行うことができる。測定方法としては、例えば、アルミニウム等の反射性の支持体上に、乾燥後の塗布量が平版印刷版として必要な範囲において適宜決定された厚みの画像形成層を形成し、反射濃度を光学濃度計で測定する方法、積分球を用いた反射法により分光光度計で測定する方法等が挙げられる。 These infrared absorbers may be added to the same layer as other components, or the image forming layer is composed of two or more layers and other components (for example, radical polymerization initiator, radical polymerizable monomer). ) May be added to a separate layer. Moreover, it can also be included in a microcapsule and added.
As the addition amount, when a negative lithographic printing plate precursor is prepared, the absorbance at the maximum absorption wavelength in the wavelength range of 760 nm to 1200 nm of the image forming layer is in the range of 0.3 to 1.2 by the reflection measurement method. It is preferable to add so that it may exist in this, More preferably, it is the range of 0.4-1.1. Within this range, a uniform polymerization reaction proceeds in the depth direction of the image forming layer, and good film strength of the image area and adhesion to the support can be obtained. The absorbance of the image forming layer can be adjusted by the amount of the infrared absorber added to the image forming layer and the thickness of the image forming layer. Absorbance can be measured by a conventional method. As a measuring method, for example, on a reflective support such as aluminum, an image forming layer having a thickness appropriately determined in a range in which the coating amount after drying is necessary as a lithographic printing plate is formed, and the reflection density is set to the optical density. And a method of measuring with a spectrophotometer by a reflection method using an integrating sphere.

〔画像を形成するためのその他の要素〕
画像形成層に使用可能なその他の要素として、（ａ）ラジカル重合を利用する画像形成要素、及び（ｂ）疎水化前駆体の熱融着や熱反応を利用する画像形成要素の少なくともいずれかを用いることができる。（ａ）の要素を用いれば、ラジカル重合系の画像形成層となり、（ｂ）の要素を用いれば、疎水性前駆体系の画像形成層となる。以下、これらの要素について、各要素を用いた場合に加えられる他の成分についても言及しつつ説明する。 [Other elements for forming an image]
As other elements usable in the image forming layer, at least one of (a) an image forming element utilizing radical polymerization and (b) an image forming element utilizing thermal fusion or thermal reaction of a hydrophobized precursor is used. Can be used. When the element (a) is used, a radical polymerization type image forming layer is formed, and when the element (b) is used, a hydrophobic precursor system image forming layer is formed. Hereinafter, these elements will be described with reference to other components added when each element is used.

（ａ）ラジカル重合を利用する画像形成要素
ラジカル重合系要素は、画像形成の感度が高いので、露光エネルギーを焼き出し画像形成に有効に分配することができ、視認性の良好な焼き出し画像を得るのに好適である。
ラジカル重合系要素は、ラジカル重合性モノマー及びラジカル重合開始剤を基本成分としている。 (A) Image forming element using radical polymerization Since the radical polymerization type element has high image forming sensitivity, it is possible to effectively distribute exposure energy to print out image formation, and to produce a printed image with good visibility. It is suitable to obtain.
The radical polymerization element includes a radical polymerizable monomer and a radical polymerization initiator as basic components.

＜ラジカル重合性モノマー＞
本発明に用いることができるラジカル重合性モノマー（以下では単に重合性化合物ともいう）は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。また、本明細書において、「ラジカル重合性モノマー」とは、単なる単量体だけでなく、プレポリマー、すなわち２量体、３量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などを含めて意味する。モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、及び単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。 <Radically polymerizable monomer>
The radical polymerizable monomer (hereinafter also simply referred to as a polymerizable compound) that can be used in the present invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and has at least one ethylenically unsaturated bond. It is selected from compounds having, preferably two or more. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention. In the present specification, the term “radical polymerizable monomer” refers not only to a simple monomer but also to a prepolymer, that is, a dimer, a trimer and an oligomer, or a mixture thereof and a copolymer thereof. It means including. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and esters and amides thereof. In this case, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, amino group or mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and monofunctional or polyfunctional A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or In addition, a substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー、イソシアヌール酸ＥＯ変性トリアクリレート等がある。   Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer, isocyanuric acid There are EO-modified triacrylate and the like.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。   Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate. Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate. Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭５１−４７３３４、特開昭５７−１９６２３１記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭５９−５２４０、特開昭５９−５２４１、特開平２−２２６１４９記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平１−１６５６１３記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。   Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-51-47334 and JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, JP-A-59-5241, and JP-A-2-226149. Those having the aromatic skeleton described above and those having an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used. Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭５４−２１７２６記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。   Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like. Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４８−４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式（ａ）で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   In addition, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinyl urethane containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula (a) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. Compounds and the like.

ＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ₄）ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｒ₅）ＯＨ （ａ）
（ただし、Ｒ₄及びＲ₅は、Ｈ又はＣＨ₃を示す。） _{CH 2 = C (R 4)} COOCH 2 CH (R 5) OH (a)
(However, R ₄ and R ₅ represent H or CH _3. )

また、特開昭５１−３７１９３号、特公平２−３２２９３号、特公平２−１６７６５号に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−４９８６０号、特公昭５６−１７６５４号、特公昭６２−３９４１７号、特公昭６２−３９４１８号記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭６３−２７７６５３号、特開昭６３−２６０９０９号、特開平１−１０５２３８号に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。   Also, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, and JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654, Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable. Further, by using addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238, It is possible to obtain a photopolymerizable composition having a very high photosensitive speed.

その他の例としては、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭４６−４３９４６号、特公平１−４０３３７号、特公平１−４０３３６号記載の特定の不飽和化合物や、特開平２−２５４９３号記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭６１−２２０４８号記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８ページ（１９８４年）に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することが
できる。 Other examples include polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, and JP-B-52-30490. Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. Further, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337 and JP-B-1-40336, vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493, and the like can also be mentioned. . In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

これらの重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。
感度の点では１分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、２官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、３官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基（例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物）のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。
また、画像形成層中の他の成分（例えばバインダーポリマー、開始剤、着色剤等）との相溶性、分散性に対しても、重合化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、２種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、基板や後述の保護層等の密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。 About these polymerizable compounds, the details of usage such as the structure, single use or combination, addition amount, etc. can be arbitrarily set according to the performance design of the final lithographic printing plate precursor. For example, it is selected from the following viewpoints.
From the viewpoint of sensitivity, a structure having a large unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable. Further, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrenic compound, vinyl ether type). A method of adjusting both sensitivity and strength by using a compound) is also effective.
In addition, the selection and use method of the polymerized compound is an important factor for the compatibility and dispersibility with other components (for example, binder polymer, initiator, colorant, etc.) in the image forming layer. The compatibility may be improved by using a low-purity compound or using two or more kinds in combination. In addition, a specific structure may be selected for the purpose of improving the adhesion of the substrate and the protective layer described later.

重合性化合物は、添加される層の全固形分に対して、好ましくは５〜８０質量％、更に好ましくは２５〜７５質量％の範囲で使用される。また、これらは単独で用いても２種以上併用してもよい。そのほか、重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、更に場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施しうる。   The polymerizable compound is preferably used in the range of 5 to 80% by mass, more preferably 25 to 75% by mass, based on the total solid content of the layer to be added. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, the usage of the polymerizable compound can be arbitrarily selected from the viewpoint of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging, refractive index change, surface adhesiveness, etc. The layer construction and coating method such as undercoating and overcoating can also be carried out.

＜ラジカル重合開始剤＞
本発明に用いられるラジカル重合開始剤としては、光、熱又はその両方のエネルギーによりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を開始、促進する化合物を示す。本発明に使用できるラジカル重合開始剤としては、公知の熱重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤、さらに光酸化剤又は焼き出し剤などと呼ばれている公知のラジカル発生剤などを挙げることができる。中でも、本発明において好適に用いられるラジカル重合開始剤は、熱エネルギーによりラジカルを発生する化合物である。
以下、本発明で用いるラジカル重合開始剤についてより具体的に説明するが、かかるラジカル重合開始剤は、単独又は２種以上を併用して用いることができる。 <Radical polymerization initiator>
The radical polymerization initiator used in the present invention is a compound that generates radicals by light, heat, or both, and initiates and accelerates polymerization of a compound having a polymerizable unsaturated group. As the radical polymerization initiator that can be used in the present invention, a known thermal polymerization initiator, a compound having a bond having a small bond dissociation energy, a photopolymerization initiator, and a known photooxidizer or bake-out agent are known. A radical generator can be mentioned. Among these, the radical polymerization initiator suitably used in the present invention is a compound that generates radicals by thermal energy.
Hereinafter, although the radical polymerization initiator used by this invention is demonstrated more concretely, this radical polymerization initiator can be used individually or in combination of 2 or more types.

このようなラジカル重合開始剤としては、例えば、有機ハロゲン化合物、カルボニル化合物、有機過酸化物、アゾ系化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ素化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物、が挙げられる。   Examples of such radical polymerization initiators include organic halogen compounds, carbonyl compounds, organic peroxides, azo compounds, azide compounds, metallocene compounds, hexaarylbiimidazole compounds, organic boron compounds, disulfone compounds, and oxime ester compounds. And onium salt compounds.

上記有機ハロゲン化合物としては、具体的には、若林等、「Ｂｕｌｌ Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ Ｊａｐａｎ」４２、２９２４（１９６９）、米国特許第３，９０５，８１５号明細書、特公昭４６−４６０５号、特開昭４８−３６２８１号、特開５３−１３３４２８号、特開昭５５−３２０７０号、特開昭６０−２３９７３６号、特開昭６１−１６９８３５号、特開昭６１−１６９８３７号、特開昭６２−５８２４１号、特開昭６２−２１２４０１号、特開昭６３−７０２４３号、特開昭６３−２９８３３９号の各公報、Ｍ．Ｐ．Ｈｕｔｔ”Ｊｕｒｎａｌ ｏｆ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”１（Ｎｏ３），（１９７０）」に記載の化合物が挙げられる。中でも、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物及びＳ−トリアジン化合物が好適である。   Specific examples of the organic halogen compound include Wakabayashi et al., “Bull Chem. Soc Japan” 42, 2924 (1969), US Pat. No. 3,905,815, Japanese Patent Publication No. 46-4605, JP 48-36281, JP 53-133428, JP 55-3070, JP 60-239736, JP 61-169835, JP 61-169837, JP 62- 58241, JP-A 62-212401, JP-A 63-70243, JP-A 63-298339, P. Examples thereof include compounds described in Hutt “Journal of Heterocyclic Chemistry” 1 (No 3), (1970) ”. Of these, oxazole compounds and S-triazine compounds substituted with a trihalomethyl group are preferred.

より好適には、すくなくとも一つのモノ、ジ、又はトリハロゲン置換メチル基がｓ−ト
リアジン環に結合したｓ−トリアジン誘導体、具体的には、例えば、２，４，６−トリス（モノクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（ジクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２―ｎ−プロピル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（α，α，β−トリクロロエチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３，４−エポキシフェニル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔１−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−ブタジエニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ｉ−プロピルオキシスチリル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ナトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニルチオ−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ベンジルチオ−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（ジブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−メトキシ−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン等が挙げられる。 More preferably, an s-triazine derivative having at least one mono, di, or trihalogen-substituted methyl group bonded to the s-triazine ring, specifically, for example, 2,4,6-tris (monochloromethyl)- s-triazine, 2,4,6-tris (dichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl)- s-triazine, 2-n-propyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (α, α, β-trichloroethyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, -(3,4-epoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-chlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [1 -(P-methoxyphenyl) -2,4-butadienyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-styryl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- ( p-methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (pi-propyloxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p -Tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-natoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-pheni Thio-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-benzylthio-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (dibromomethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (tribromomethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (tribromomethyl) -s-triazine, 2-methoxy-4,6-bis (tribromomethyl) -S-triazine and the like.

上記カルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェノン、２−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドトキシ−２−メチルフェニルプロパノン、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル−（ｐ−イソプロピルフェニル）ケトン、１−ヒドロキシ−１−（ｐ−ドデシルフェニル）ケトン、２−メチルー（４'−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノ−１−プロパノン、１，１，１−トリクロロメチル−（ｐ−ブチルフェニル）ケトン等のアセトフェノン誘導体、チオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体等を挙げることができる。   Examples of the carbonyl compound include benzophenone, Michler ketone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone, 2-carboxybenzophenone and other benzophenone derivatives, 2,2-dimethoxy- 2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, α-hydroxy-2-methylphenylpropanone, 1-hydroxy-1-methylethyl- (p-isopropylphenyl) ketone, 1- Hydroxy-1- (p-dodecylphenyl) ketone, 2-methyl- (4 ′-(methylthio) phenyl) -2-morpholino-1-propanone, 1,1,1-trichloromethyl- (p-butylphenyl) Acetophenone derivatives such as ketones, thioxanthone derivatives such as thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, p- Examples thereof include benzoic acid ester derivatives such as ethyl dimethylaminobenzoate and ethyl p-diethylaminobenzoate.

上記アゾ系化合物としては例えば、特開平８−１０８６２１号公報に記載のアゾ化合物等を使用することができる。   As the azo compound, for example, an azo compound described in JP-A-8-108621 can be used.

上記有機過酸化物としては、例えば、トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，２−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、２，５−オキサノイルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシ
ジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ（３−メチル−３−メトキシブチル）パーオキシジカーボネート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシオクタノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシラウレート、ターシルカーボネート、３，３'，４，４'−テトラ−（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３'，４，４'−テトラ−（ｔ−ヘキシルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３'，４，４'−テトラ−（ｐ−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、カルボニルジ（ｔ−ブチルパーオキシ二水素二フタレート）、カルボニルジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート）等が挙げられる。 Examples of the organic peroxide include trimethylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis (tert-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (tert-butyl). Peroxy) cyclohexane, 2,2-bis (tert-butylperoxy) butane, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydro Peroxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, tert-butylcumyl peroxide, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) hexane, 2, -Oxanoyl peroxide, succinic peroxide, benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, di-2-ethoxyethyl peroxydicarbonate , Dimethoxyisopropyl peroxycarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate, tert-butyl peroxyacetate, tert-butyl peroxypivalate, tert-butyl peroxyneodecanoate, tert- Butyl peroxyoctanoate, tert-butyl peroxylaurate, tersyl carbonate, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4 ′ − Tra- (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, carbonyldi (t-butylperoxydihydrogen diphthalate), carbonyl And di (t-hexylperoxydihydrogen diphthalate).

上記メタロセン化合物としては、特開昭５９−１５２３９６号公報、特開昭６１−１５１１９７号公報、特開昭６３−４１４８４号公報、特開平２−２４９号公報、特開平２−４７０５号公報、特開平５−８３５８８号公報記載の種々のチタノセン化合物、例えば、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジ−フルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、特開平１−３０４４５３号公報、特開平１−１５２１０９号公報記載の鉄−アレーン錯体等が挙げられる。   Examples of the metallocene compound include JP-A-59-152396, JP-A-61-151197, JP-A-63-41484, JP-A-2-249, JP-A-2-4705, Various titanocene compounds described in JP-A-5-83588, such as di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, Di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-di-fluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluorophen-1-yl, di- -Cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-penta Fluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluoropheny -1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4 , 5,6-pentafluorophen-1-yl, iron-arene complexes described in JP-A-1-304453 and JP-A-1-152109, and the like.

上記ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特公平６−２９２８５号公報、米国特許第３，４７９，１８５号、同第４，３１１，７８３号、同第４，６２２，２８６号の各明細書等に記載の種々の化合物、具体的には、２，２'−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４'，５，５'−テトラフェニルビイミダゾール、２，２'−ビス（ｏ−ブロモフェニル））４，４'，５，５'−テトラフェニルビイミダゾール、２，２'−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４'，５，５'−テトラフェニルビイミダゾール、２，２'−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４'，５，５'−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）ビイジダゾール、２，２'−ビス（ｏ，ｏ'−ジクロロフェニル）−４，４'，５，５'−テトラフェニルビイミダゾール、２，２'−ビス（ｏ−ニトロフェニル）−４，４'，５，５'−テトラフェニルビイミダゾール、２，２'−ビス（ｏ−メチルフェニル）−４，４'，５，５'−テトラフェニルビイミダゾール、２，２'−ビス（ｏ−トリフルオロフェニル）−４，４'，５，５'−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。   Examples of the hexaarylbiimidazole compound include those described in Japanese Patent Publication No. 6-29285, US Pat. Nos. 3,479,185, 4,311,783, and 4,622,286. Etc., specifically 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-bromo) Phenyl)) 4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2 '-Bis (o-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) biidazole, 2,2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4 ', 5 5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2 '-Bis (o-nitrophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-methylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl Examples include biimidazole and 2,2′-bis (o-trifluorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole.

上記有機ホウ素化合物としては、例えば、特開昭６２−１４３０４４号、特開昭６２−１５０２４２号、特開平９−１８８６８５号、特開平９−１８８６８６号、特開平９−１８８７１０号、特開２０００−１３１８３７号、特開２００２−１０７９１６号の各公報、特許第２７６４７６９号明細書、特開２００２−１１６５３９号公報、及び、Ｋｕｎｚ，Ｍａｒｔｉｎ”Ｒａｄ Ｔｅｃｈ'９８．Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇ Ａｐｒｉｌ １９−２２，１９９８，Ｃｈｉｃａｇｏ”等に記載される有機ホウ酸塩、特開平６−１５７６２３号公報、特開平６−１７５５６４号公報、特開平６−１７５５６１号公報に記載の有機ホウ素スルホニウム錯体或いは有機ホウ素オキソスルホニウム錯体、特開平６−１７５５５４号公報、特開平６−１７５５５３号公報に記載の有機ホウ素ヨードニウム錯体、特開
平９−１８８７１０号公報に記載の有機ホウ素ホスホニウム錯体、特開平６−３４８０１１号公報、特開平７−１２８７８５号公報、特開平７−１４０５８９号公報、特開平７−３０６５２７号公報、特開平７−２９２０１４号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が挙げられる。 Examples of the organoboron compound include JP-A-62-143044, JP-A-62-1050242, JP-A-9-188585, JP-A-9-188686, JP-A-9-188710, JP-A 2000-. 131837, JP-A-2002-107916, Japanese Patent No. 2764769, JP-A-2002-116539, and Kunz, Martin “Rad Tech'98. Proceeding April 19-22, 1998, Chicago”, etc. Organoboron salts described in JP-A-6-157623, JP-A-6-175564, JP-A-6-175561, and organic boron oxosulfonium complexes, No. 175554, JP-A-6-175553 Organoboron iodonium complexes described in JP-A-9-188710, organoboron phosphonium complexes described in JP-A-9-188710, JP-A-6-348011, JP-A-7-128785, JP-A-7-140589, Examples thereof include organoboron transition metal coordination complexes such as Kaihei 7-306527 and JP-A-7-292014.

上記ジスルホン化合物としては、特開昭６１−１６６５４４号公報、特開２００２−３２８４６５号公報等記載される化合物が挙げられる。   Examples of the disulfone compound include compounds described in JP-A Nos. 61-166544 and 2002-328465.

上記オキシムエステル化合物としては、Ｊ．Ｃ．Ｓ． Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ （１９７９ ）１６５３−１６６０）、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ （１９７９）１５６−１６２、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５）２０２−２３２、特開２０００−６６３８５号公報記載の化合物、特開２０００−８００６８号公報記載の化合物、具体的には、下記の構造式で示される化合物が挙げられる。   Examples of the oxime ester compound include J.M. C. S. Perkin II (1979) 1653-1660), J. MoI. C. S. Perkin II (1979) 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) 202-232, compounds described in JP-A 2000-66385, compounds described in JP-A 2000-80068, specifically, And a compound represented by the structural formula:

上記オニウム塩化合物としては、例えば、Ｓ．Ｉ．Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，１８，３８７（１９７４）、Ｔ．Ｓ．Ｂａｌ ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ，２１，４２３（１９８０）に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，０６９，０５５号明細書、特開平４−３６５０４９号公報等に記載のアンモニウム塩、米国特許第４，０６９，０５５号、同第４，０６９，０５６号の各明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第１０４、１４３号、米国特許第３３９，０４９号、同第４１０，２０１号の各明細書、特開平２−１５０８４８号、特開平２−２９６５１４号の各公報に記載のヨードニウム塩、欧州特許第３７０，６９３号、同第３９０，２１４号、同第２３３，５６７号、同第２９７，４４３号、同第２９７，４４２号、米国特許第４，９３３，３７７号、同第１６１，８１１号、同第４１０，２０１号、同第３３９，０４９号、同第４，７６０，０１３号、同第４，７３４，４４４号、同第２，８３３，８２７号、独国特許第２
，９０４，６２６号、同第３，６０４，５８０号、同第３，６０４，５８１号の各明細書に記載のスルホニウム塩、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，１０４７（１９７９）に記載のセレノニウム塩、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ ｅｔ ａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ ＡＳＩＡ，ｐ４７８ Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。 Examples of the onium salt compound include S.I. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Diazonium salts described in Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), ammonium salts described in US Pat. No. 4,069,055, JP-A-4-365049, etc., US Pat. No. 4,069 , 055, 4,069,056, phosphonium salts described in European Patent Nos. 104,143, U.S. Pat. Nos. 339,049, 410,201, The iodonium salts described in the publications of Kaihei 2-150848 and JP-A-2-296514, European Patents 370,693, 390,214, 233,567, 297,443, No. 297,442, U.S. Pat. Nos. 4,933,377, 161,811, 410,201, 339,049, 4,760,0 No. 3, the same No. 4,734,444, the same No. 2,833,827, DE 2
, 904, 626, 3,604, 580, and 3,604, 581, the sulfonium salts described in the respective specifications; V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt described in C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), and onium salts such as arsonium salts.

特に反応性、安定性の面から好適なものとして、上記オキシムエステル化合物又はオニウム塩（ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩もしくはスルホニウム塩）が挙げられる。   Particularly preferred from the standpoint of reactivity and stability are the oxime ester compounds or onium salts (diazonium salts, iodonium salts or sulfonium salts).

本発明において好適に用いられるオニウム塩は、下記一般式（ＲＩ−Ｉ）〜（ＲＩ−ＩＩＩ）で表されるオニウム塩である。   The onium salt suitably used in the present invention is an onium salt represented by the following general formulas (RI-I) to (RI-III).

式（ＲＩ−Ｉ）中、Ａｒ₁₁は置換基を１〜６個有していても良い炭素数２０以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルケニル基、炭素数１〜１２のアルキニル基、炭素数１〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキルアミノ基、炭素数１〜１２のジアルキルアミノ基、炭素数１〜１２のアルキルアミド基又はアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数１〜１２のチオアルキル基、炭素数１〜１２のチオアリール基が挙げられる。Ｚ₁₁ ^-は１価の陰イオンを表し、具体的には、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも安定性の面から、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン及びスルフィン酸イオンが好ましい。 In the formula (RI-I), Ar ₁₁ represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and a carbon number. 1-12 alkenyl group, C1-C12 alkynyl group, C1-C12 aryl group, C1-C12 alkoxy group, C1-C12 aryloxy group, halogen atom, C1-C1 12 alkylamino groups, C1-C12 dialkylamino groups, C1-C12 alkylamide groups or arylamide groups, carbonyl groups, carboxyl groups, cyano groups, sulfonyl groups, C1-C12 thioalkyl groups And a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z ₁₁ ^- represents a monovalent anion, specifically a halogen ion, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, thiosulfonate ion, a sulfate ion Can be mentioned. Among these, from the viewpoint of stability, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion and sulfinate ion are preferable.

式（ＲＩ−ＩＩ）中、Ａｒ₂₁及びＡｒ₂₂は、各々独立に置換基を１〜６個有していても良い炭素数２０以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルケニル基、炭素数１〜１２のアルキニル基、炭素数１〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキルアミノ基、炭素数１〜１２のジアルキルアミノ基、炭素数１〜１２のアルキルアミド基又はアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数１〜１２のチオアルキル基、炭素数１〜１２のチオアリール基が挙げられる。Ｚ₂₁ ^-は１価の陰イオンを表し、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン
酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンであり、安定性、反応性の面から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。 In the formula (RI-II), Ar ₂₁ and Ar ₂₂ each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents include 1 to 1 carbon atoms. 12 alkyl groups, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms, Halogen atom, C1-C12 alkylamino group, C1-C12 dialkylamino group, C1-C12 alkylamide group or arylamide group, carbonyl group, carboxyl group, cyano group, sulfonyl group, carbon Examples thereof include a thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms and a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z ₂₁ ⁻ represents a monovalent anion, which is a halogen ion, a perchlorate ion, a hexafluorophosphate ion, a tetrafluoroborate ion, a sulfonate ion, a sulfinate ion, a carboxylate ion, a thiosulfonate ion, or a sulfate ion. From the viewpoints of stability and reactivity, perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, and carboxylate ions are preferable.

式（ＲＩ−ＩＩＩ）中、Ｒ₃₁、Ｒ₃₂及びＲ₃₃は、各々独立に置換基を１〜６個有していても良い炭素数２０以下のアリール基又はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基を表す。中でも反応性、安定性の面から好ましいのは、アリール基である。置換基としては、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルケニル基、炭素数１〜１２のアルキニル基、炭素数１〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキルアミノ基、炭素数１〜１２のジアルキルアミノ基、炭素数１〜１２のアルキルアミド基又はアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数１〜１２のチオアルキル基、炭素数１〜１２のチオアリール基が挙げられる。Ｚ₃₁ ^-は１価の陰イオンを表す。具体例としては、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも安定性、反応性の面から、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。より好ましいものとして特開２００１−３４３７４２号公報記載のカルボン酸イオン、特に好ましいものとして特開２００２−１４８７９０号公報記載のカルボン酸イオンが挙げられる。
上記式（ＲＩ−Ｉ）〜（ＲＩ−ＩＩＩ）で表されるオニウム塩の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。 In the formula (RI-III), R ₃₁ , R ₃₂ and R ₃₃ are each independently an aryl group having a carbon number of 20 or less, an alkyl group, an alkenyl group or an alkynyl group which may have 1 to 6 substituents. Represents. Among them, an aryl group is preferable from the viewpoint of reactivity and stability. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, Aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms, halogen atom, alkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, dialkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, alkylamide group or arylamide group having 1 to 12 carbon atoms, carbonyl group, carboxyl Group, a cyano group, a sulfonyl group, a thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z ₃₁ ^- represents a monovalent anion. Specific examples include halogen ions, perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, carboxylate ions, thiosulfonate ions, and sulfate ions. Among these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, and carboxylate ion are preferable from the viewpoints of stability and reactivity. More preferred are the carboxylate ions described in JP-A No. 2001-343742, and particularly preferred are the carboxylate ions described in JP-A No. 2002-148790.
Specific examples of the onium salts represented by the above formulas (RI-I) to (RI-III) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

これらのラジカル重合開始剤は、添加される層を構成する全固形分に対し０．１〜５０質量％、好ましくは０．５〜３０質量％、特に好ましくは１〜２０質量％の割合で添加することができる。この範囲内で耐刷性が更に向上する。これらのラジカル重合開始剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。また、これらのラジカル重合開始剤を他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。   These radical polymerization initiators are added in a proportion of 0.1 to 50% by mass, preferably 0.5 to 30% by mass, particularly preferably 1 to 20% by mass, based on the total solid content constituting the layer to be added. can do. Within this range, the printing durability is further improved. These radical polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. Further, these radical polymerization initiators may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.

＜その他の画像形成層成分＞
本発明の画像形成層には、その他に、バインダーポリマー、界面活性剤、着色剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機微粒子、低分子親水性化合物などの添加剤を、必要に応じて含有させることができる。以下、それらについて説明する。 <Other image forming layer components>
In addition to the image forming layer of the present invention, additives such as a binder polymer, a surfactant, a colorant, a polymerization inhibitor, a higher fatty acid derivative, a plasticizer, inorganic fine particles, and a low molecular weight hydrophilic compound are optionally added. Can be contained. These will be described below.

＜バインダーポリマー＞
画像形成層には、バインダーポリマーを含有させることができる。本発明に用いることができるバインダーポリマーは、従来公知のものを制限なく使用でき、皮膜性を有する線状有機ポリマーが好ましい。このようなバインダーポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられる。 <Binder polymer>
The image forming layer can contain a binder polymer. As the binder polymer that can be used in the present invention, conventionally known binder polymers can be used without limitation, and a linear organic polymer having a film property is preferable. Examples of such binder polymers include acrylic resins, polyvinyl acetal resins, polyurethane resins, polyurea resins, polyimide resins, polyamide resins, epoxy resins, methacrylic resins, polystyrene resins, novolac phenolic resins, polyester resins, and synthetic rubbers. And natural rubber.

バインダーポリマーは、画像部の皮膜強度を向上するために、架橋性を有していることが好ましい。バインダーポリマーに架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を高分子の主鎖中又は側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導入してもよい。   The binder polymer preferably has crosslinkability in order to improve the film strength of the image area. In order to impart crosslinkability to the binder polymer, a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond may be introduced into the main chain or side chain of the polymer. The crosslinkable functional group may be introduced by copolymerization.

分子の主鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、ポリ−１，４−ブタジエン、ポリ−１，４−イソプレン等が挙げられる。
分子の側鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、アクリル酸又はメタクリル酸のエステル又はアミドのポリマーであって、エステル又はアミドの残基（−
ＣＯＯＲ又はＣＯＮＨＲのＲ）がエチレン性不飽和結合を有するポリマーを挙げることができる。 Examples of the polymer having an ethylenically unsaturated bond in the main chain of the molecule include poly-1,4-butadiene and poly-1,4-isoprene.
An example of a polymer having an ethylenically unsaturated bond in the side chain of the molecule is a polymer of an ester or amide of acrylic acid or methacrylic acid, the residue of the ester or amide (-
Mention may be made of polymers in which R of COOR or CONHR has an ethylenically unsaturated bond.

エチレン性不飽和結合を有する残基（上記Ｒ）の例としては、−（ＣＨ₂ ）_n ＣＲ¹ ＝ＣＲ² Ｒ³ 、−（ＣＨ₂ Ｏ）_n ＣＨ₂ ＣＲ¹ ＝ＣＲ² Ｒ³ 、−（ＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｏ）_n ＣＨ₂ ＣＲ¹ ＝ＣＲ² Ｒ³ 、−（ＣＨ₂ ）_n ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−ＣＨ₂ ＣＲ¹ ＝ＣＲ² Ｒ³ 、−（ＣＨ₂ ）_n −Ｏ−ＣＯ−ＣＲ¹ ＝ＣＲ² Ｒ³ 及び（ＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｏ）₂ −Ｘ（式中、Ｒ¹ 〜Ｒ³ はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、アルコキシ基もしくはアリールオキシ基を表し、Ｒ¹ とＲ² 又はＲ³ とは互いに結合して環を形成してもよい。ｎは、１〜１０の整数を表す。Ｘは、ジシクロペンタジエニル残基を表す。）を挙げることができる。 Examples of the residue (the R) having an ethylenically unsaturated _{bond, - (CH 2) n CR} 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - _{(CH 2 CH 2 O) n} CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n NH-CO-O-CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n -O-CO —CR ¹ ═CR ² R ³ and (CH ₂ CH ₂ O) ₂ —X (wherein R ^{1 to} R ³ are each a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, and alkoxy. R ¹ and R ² or R ³ may be bonded to each other to form a ring, n represents an integer of 1 to 10. X represents a dicyclopentadienyl residue. Represents a group).

エステル残基の具体例としては、−ＣＨ₂ ＣＨ＝ＣＨ₂ （特公平７−２１６３３号公報に記載されている。）、−ＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｏ−ＣＨ₂ ＣＨ＝ＣＨ₂ 、−ＣＨ₂ Ｃ（ＣＨ₃ ）＝ＣＨ₂ 、−ＣＨ₂ ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ₆ Ｈ₅ 、−ＣＨ₂ ＣＨ₂ ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−Ｃ₆ Ｈ₅ 、−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −ＮＨＣＯＯ−ＣＨ₂ ＣＨ＝ＣＨ₂ 及びＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｏ−Ｘ（式中、Ｘはジシクロペンタジエニル残基を表す。）が挙げられる。
アミド残基の具体例としては、−ＣＨ₂ ＣＨ＝ＣＨ₂ 、−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −Ｙ（式中、Ｙはシクロヘキセン残基を表す。）、−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ₂ が挙げられる。 Specific examples of the ester _{residue, -CH 2 CH = CH 2,} ( described in JP Kokoku _{7-21633.) - CH 2 CH 2} O-CH 2 CH = CH 2, -CH 2 C _{(CH 3) = CH 2,} -CH 2 CH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 OCOCH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 -NHCOO-CH 2 CH = CH 2 and CH ₂ CH ₂ O—X (wherein X represents a dicyclopentadienyl residue).
Specific examples of the amide residue include —CH ₂ CH═CH ₂ , —CH ₂ CH ₂ —Y (wherein Y represents a cyclohexene residue), —CH ₂ CH ₂ —OCO—CH═CH _2. Is mentioned.

架橋性を有するバインダーポリマーは、例えば、その架橋性官能基にフリーラジカル（重合開始ラジカル又は重合性化合物の重合過程の生長ラジカル）が付加し、ポリマー間で直接に又は重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。又は、ポリマー中の原子（例えば、官能性架橋基に隣接する炭素原子上の水素原子）がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、それが互いに結合することによって、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。   The binder polymer having crosslinkability, for example, has a free radical (polymerization initiation radical or a growth radical in the polymerization process of the polymerizable compound) added to the crosslinkable functional group, and the polymerization chain of the polymerizable compound is formed directly between the polymers. Through addition polymerization, a cross-link is formed between the polymer molecules and cured. Alternatively, atoms in the polymer (eg, hydrogen atoms on carbon atoms adjacent to the functional bridging group) are abstracted by free radicals to form polymer radicals that are bonded together, thereby causing cross-linking between polymer molecules. Forms and cures.

バインダーポリマー中の架橋性基の含有量（ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量）は、バインダーポリマー１ｇ当たり、好ましくは０．１〜１０．０ｍｍｏｌ、より好ましくは１．０〜７．０ｍｍｏｌ、最も好ましくは２．０〜５．５ｍｍｏｌである。この範囲で、良好な感度と良好な保存安定性が得られる。   The content of the crosslinkable group in the binder polymer (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.1 to 10.0 mmol, more preferably 1.0, per 1 g of the binder polymer. -7.0 mmol, most preferably 2.0-5.5 mmol. Within this range, good sensitivity and good storage stability can be obtained.

また、機上現像性向上の観点から、バインダーポリマーは、インキ及び／又湿し水に対する溶解性又は分散性が高いことが好ましい。
インキに対する溶解性又は分散性を向上させるためには、バインダーポリマーは、親油的な方が好ましく、湿し水に対する溶解性又は分散性を向上させるためには、バインダーポリマーは、親水的な方が好ましい。このため、本発明においては、親油的なバインダーポリマーと親水的なバインダーポリマーを併用することも有効である。 From the viewpoint of improving on-press developability, the binder polymer preferably has high solubility or dispersibility in ink and / or fountain solution.
In order to improve solubility or dispersibility in ink, the binder polymer is preferably oleophilic, and in order to improve solubility or dispersibility in dampening water, the binder polymer is hydrophilic. Is preferred. For this reason, in the present invention, it is also effective to use a lipophilic binder polymer and a hydrophilic binder polymer in combination.

親水的なバインダーポリマーとしては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、ポリオキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基、スルホン酸基、リン酸基等の親水性基を有するものが好適に挙げられる。   Examples of hydrophilic binder polymers include hydroxy groups, carboxyl groups, carboxylate groups, hydroxyethyl groups, polyoxyethyl groups, hydroxypropyl groups, polyoxypropyl groups, amino groups, aminoethyl groups, aminopropyl groups, and ammonium. Preferred are those having a hydrophilic group such as a group, an amide group, a carboxymethyl group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group.

具体例として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、デンプン誘導体、カルボキシメチルセルロース及びそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類及びそれらの塩、ポリメタクリル酸類及びそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレ
ートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシピロピルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、加水分解度が６０モル％以上、好ましくは８０モル％以上である加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマー及びコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマー及びポリマー、Ｎ−メチロールアクリルアミドのホモポリマー及びコポリマー、ポリビニルピロリドン、アルコール可溶性ナイロン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパンとエピクロロヒドリンとのポリエーテル等が挙げられる。 Specific examples include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and its sodium salt, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids and their salts, Polymethacrylic acids and their salts, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl acrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl acrylate, homopolymers of hydroxybutyl methacrylate Polymers and copolymers, homopolymers and copolymers of hydroxybutyl acrylate, polyethylene glycol , Hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, acrylamide homopolymers and copolymers having a hydrolysis degree of 60 mol% or more, preferably 80 mol% or more Methacrylamide homopolymers and polymers, N-methylolacrylamide homopolymers and copolymers, polyvinylpyrrolidone, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, etc. Is mentioned.

バインダーポリマーは、重量平均分子量が５０００以上であるのが好ましく、１万〜３０万であるのがより好ましく、また、数平均分子量が１０００以上であるのが好ましく、２０００〜２５万であるのがより好ましい。多分散度（重量平均分子量／数平均分子量）は、１．１〜１０であるのが好ましい。   The binder polymer preferably has a weight average molecular weight of 5000 or more, more preferably 10,000 to 300,000, and a number average molecular weight of 1,000 or more, preferably 2000 to 250,000. More preferred. The polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 10.

バインダーポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマーのいずれでもよいが、ランダムポリマーがより好ましい。また、バインダーポリマーは単独で用いても２種以上を混合して用いてもよい。   The binder polymer may be any of a random polymer, a block polymer, and a graft polymer, but a random polymer is more preferable. Moreover, a binder polymer may be used independently or may be used in mixture of 2 or more types.

バインダーポリマーは、従来公知の方法により合成することができる。合成する際に用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、２−メトキシエチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、水が挙げられる。これらは単独で又は２種以上混合して用いられる。
バインダーポリマーを合成する際に用いられるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物開始剤等の公知の化合物を用いることができる。 The binder polymer can be synthesized by a conventionally known method. Solvents used in the synthesis include, for example, tetrahydrofuran, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy. Examples include 2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide, and water. These may be used alone or in combination of two or more.
As the radical polymerization initiator used for synthesizing the binder polymer, known compounds such as an azo initiator and a peroxide initiator can be used.

バインダーポリマーの含有量は、画像形成層の全固形分に対して、１０〜９０質量％であり、２０〜８０質量％であるのが好ましく、３０〜７０質量％であるのがより好ましい。この範囲で、良好な画像部の強度と画像形成性が得られる。
また、重合性化合物とバインダーポリマーは、質量比で１／９〜７／３となる量で用いるのが好ましい。 The content of the binder polymer is 10 to 90% by mass, preferably 20 to 80% by mass, and more preferably 30 to 70% by mass with respect to the total solid content of the image forming layer. Within this range, good image area strength and image formability can be obtained.
Moreover, it is preferable to use a polymeric compound and a binder polymer in the quantity used as 1 / 9-7 / 3 by mass ratio.

＜界面活性剤＞
本発明において、画像形成層には、印刷開始時の機上現像性を促進させるため、及び、塗布面状を向上させるために界面活性剤を用いるのが好ましい。界面活性剤としては、ノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、フッ素系界面活性剤等が挙げられる。界面活性剤は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。 <Surfactant>
In the present invention, it is preferable to use a surfactant in the image forming layer in order to promote on-press developability at the start of printing and to improve the coated surface state. Examples of the surfactant include nonionic surfactants, anionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, and fluorosurfactants. Surfactant may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

本発明に用いられるノニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、
プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、ショ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、Ｎ，Ｎ−ビス−２−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシド、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールの共重合体が挙げられる。 The nonionic surfactant used for this invention is not specifically limited, A conventionally well-known thing can be used. For example, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan fatty acid partial esters, pentaerythritol Fatty acid partial esters,
Propylene glycol mono fatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters, polyoxyethylenated castor oil , Polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides, N, N-bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamine, triethanolamine fatty acid ester, trialkylamine oxide, polyethylene glycol, polyethylene And a copolymer of glycol and polypropylene glycol.

本発明に用いられるアニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、Ｎ−メチル−Ｎ−オレイルタウリンナトリウム塩、Ｎ−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン／無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン／無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類が挙げられる。   The anionic surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known anionic surfactants can be used. For example, fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonates, alkane sulfonates, dialkyl sulfosuccinate esters, linear alkyl benzene sulfonates, branched alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl phenoxy poly Oxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salt, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated beef oil, fatty acid alkyl esters Sulfates, alkyl sulfates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alcohols Ruphenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphates, styrene / maleic anhydride Examples thereof include partial saponification products of polymers, partial saponification products of olefin / maleic anhydride copolymers, and naphthalene sulfonate formalin condensates.

本発明に用いられるカチオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。
本発明に用いられる両性界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミタゾリン類が挙げられる。 The cationic surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known cationic surfactants can be used. Examples thereof include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.
The amphoteric surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known amphoteric surfactants can be used. Examples thereof include carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfuric esters, and imidazolines.

なお、上記界面活性剤の中で、「ポリオキシエチレン」とあるものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン等の「ポリオキシアルキレン」に読み替えることもでき、本発明においては、それらの界面活性剤も用いることができる。   Of the above surfactants, the term “polyoxyethylene” can be read as “polyoxyalkylene” such as polyoxymethylene, polyoxypropylene, polyoxybutylene, etc. These surfactants can also be used.

更に好ましい界面活性剤としては、分子内にパーフルオロアルキル基を含有するフッ素系界面活性剤が挙げられる。このようなフッ素系界面活性剤としては、例えば、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステル等のアニオン型；パーフルオロアルキルベタイン等の両性型；パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩等のカチオン型；パーフルオロアルキルアミンオキサイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基及び親水性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基及び親油性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基及び親油性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基及び親油性基を含有するウレタン等のノニオン型が挙げられる。また、特開昭６２−１７０９５０号、同６２−２２６１４３号及び同６０−１６８１４４号の各公報に記載されているフッ素系界面活性剤も好適に挙げられる。   More preferable surfactants include fluorine-based surfactants containing a perfluoroalkyl group in the molecule. Examples of such fluorosurfactants include anionic types such as perfluoroalkyl carboxylates, perfluoroalkyl sulfonates, and perfluoroalkyl phosphates; amphoteric types such as perfluoroalkyl betaines; Cation type such as trimethylammonium salt; perfluoroalkylamine oxide, perfluoroalkylethylene oxide adduct, oligomer containing perfluoroalkyl group and hydrophilic group, oligomer containing perfluoroalkyl group and lipophilic group, perfluoroalkyl Nonionic types such as an oligomer containing a group, a hydrophilic group and a lipophilic group, and a urethane containing a perfluoroalkyl group and a lipophilic group. Moreover, the fluorine-type surfactant described in each gazette of Unexamined-Japanese-Patent No. 62-170950, 62-226143, and 60-168144 is also mentioned suitably.

界面活性剤は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
界面活性剤の含有量は、画像形成層の全固形分に対して、０．００１〜１０質量％であ
るのが好ましく、０．０１〜７質量％であるのがより好ましい。 Surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types.
The content of the surfactant is preferably 0.001 to 10% by mass and more preferably 0.01 to 7% by mass with respect to the total solid content of the image forming layer.

＜着色剤＞
本発明では、更に必要に応じてこれら以外に種々の化合物を添加してもよい。例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができる。具体的には、オイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上オリエント化学工業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、ローダミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン（ＣＩ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）等、及び特開昭６２−２９３２４７号に記載されている染料を挙げることができる。また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタン等の顔料も好適に用いることができる。 <Colorant>
In the present invention, various compounds other than these may be added as necessary. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as an image colorant. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (orientated chemistry) Kogyo Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI522015), etc., and JP-A-62-2 And dyes described in No. 293247. Also, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, titanium oxide, etc. can be suitably used.

これらの着色剤は、画像形成後、画像部と非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好ましい。なお、添加量は、画像形成層の全固形分に対し、０．０１〜１０質量％の割合である。   These colorants are preferably added since it is easy to distinguish an image area from a non-image area after image formation. The amount added is 0.01 to 10% by mass with respect to the total solid content of the image forming layer.

＜重合禁止剤＞
画像形成層には、画像形成層の製造中又は保存中においてラジカル重合性モノマーの不要な熱重合を防止するために、少量の熱重合防止剤を添加するのが好ましい。
熱重合防止剤としては、例えば、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩が好適に挙げられる。
熱重合防止剤の添加量は、画像形成層の全固形分に対して、約０．０１〜約５質量％であるのが好ましい。 <Polymerization inhibitor>
A small amount of a thermal polymerization inhibitor is preferably added to the image forming layer in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the radical polymerizable monomer during the production or storage of the image forming layer.
Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t- (Butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum salt are preferred.
The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01 to about 5% by mass with respect to the total solid content of the image forming layer.

＜高級脂肪酸誘導体等＞
画像形成層には、酸素による重合阻害を防止するために、ベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で画像形成層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、画像形成層の全固形分に対して、約０．１〜約１０質量％であるのが好ましい。 <Higher fatty acid derivatives, etc.>
In order to prevent polymerization inhibition by oxygen, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide is added to the image forming layer and is unevenly distributed on the surface of the image forming layer in the drying process after coating. Also good. The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.1 to about 10% by mass with respect to the total solid content of the image forming layer.

＜可塑剤＞
画像形成層は、機上現像性を向上させるために、可塑剤を含有してもよい。
可塑剤としては、例えば、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフタレート、オクチルカプリルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジアリルフタレート等のフタル酸エステル類；ジメチルグリコールフタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、トリエチレングリコールジカプリル酸エステル等のグリコールエステル類；トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類；ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレエート等の脂肪族二塩基酸エステル類；ポリグリシジルメタクリレート、クエン酸トリエチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチル等が好適に挙げられる。
可塑剤の含有量は、画像形成の全固形分に対して、約３０質量％以下であるのが好まし
い。 <Plasticizer>
The image forming layer may contain a plasticizer in order to improve on-press developability.
Examples of the plasticizer include phthalates such as dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diisobutyl phthalate, dioctyl phthalate, octyl capryl phthalate, dicyclohexyl phthalate, ditridecyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diisodecyl phthalate, diallyl phthalate; Glycol esters such as glycol phthalate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalyl ethyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, triethylene glycol dicaprylate; Phosphate esters such as tricresyl phosphate and triphenyl phosphate Diisobutyl adipate, dioctyl adipate, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, dioct Ruazereto, aliphatic dibasic acid esters such as dibutyl maleate; polyglycidyl methacrylate, triethyl citrate, glycerin triacetyl ester, butyl laurate in.
The content of the plasticizer is preferably about 30% by mass or less based on the total solid content of image formation.

＜無機微粒子＞
画像形成層は、画像部の硬化皮膜強度向上及び非画像部の機上現像性向上のために、無機微粒子を含有してもよい。
無機微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化チタン、炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウム又はこれらの混合物が好適に挙げられる。これらは光熱変換性でなくても、皮膜の強化、表面粗面化による界面接着性の強化等に用いることができる。
無機微粒子は、平均粒径が５ｎｍ〜１０μｍであるのが好ましく、０．５〜３μｍであるのがより好ましい。上記範囲であると、画像形成層中に安定に分散して、画像形成層の膜強度を十分に保持し、印刷時の汚れを生じにくい親水性に優れる非画像部を形成することができる。
上述したような無機微粒子は、コロイダルシリカ分散物等の市販品として容易に入手することができる。
無機微粒子の含有量は、画像形成層の全固形分に対して、２０質量％以下であるのが好ましく、１０質量％以下であるのがより好ましい。 <Inorganic fine particles>
The image forming layer may contain inorganic fine particles in order to improve the strength of the cured film in the image area and to improve the on-press developability of the non-image area.
As the inorganic fine particles, for example, silica, alumina, magnesium oxide, titanium oxide, magnesium carbonate, calcium alginate, or a mixture thereof is preferably exemplified. Even if they are not photothermally convertible, they can be used for strengthening the film, enhancing interfacial adhesion by surface roughening, and the like.
The inorganic fine particles preferably have an average particle size of 5 nm to 10 μm, and more preferably 0.5 to 3 μm. Within the above range, it is possible to form a non-image portion excellent in hydrophilicity that is stably dispersed in the image forming layer, sufficiently retains the film strength of the image forming layer, and hardly causes stains during printing.
The inorganic fine particles as described above can be easily obtained as a commercial product such as a colloidal silica dispersion.
The content of the inorganic fine particles is preferably 20% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less, based on the total solid content of the image forming layer.

＜低分子親水性化合物＞
画像形成層は、機上現像性向上のため、親水性低分子化合物を含有しても良い。親水性低分子化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類及びそのエーテル又はエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール等のポリヒドロキシ類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミンモノエタノールアミン等の有機アミン類及びその塩、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類及びその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類及びその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類及びその塩等が挙げられる。 <Low molecular hydrophilic compound>
The image forming layer may contain a hydrophilic low molecular weight compound for improving on-press developability. Examples of the hydrophilic low-molecular compound include water-soluble organic compounds such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol and the like, and ether or ester derivatives thereof, glycerin, Polyhydroxys such as pentaerythritol, organic amines such as triethanolamine and diethanolamine monoethanolamine and salts thereof, organic sulfonic acids such as toluenesulfonic acid and benzenesulfonic acid and salts thereof, organic phosphonic acids such as phenylphosphonic acid and the like Examples thereof include organic carboxylic acids such as salts thereof, tartaric acid, oxalic acid, citric acid, malic acid, lactic acid, gluconic acid, and amino acids, and salts thereof.

＜ラジカル重合系画像形成層の形成＞
本発明において、画像形成層を形成させる方法として、いくつかの態様を用いることができる。一つは、例えば、特開２００２−２８７３３４号公報に記載のごとく、該構成成分を適当な溶媒に溶解して塗布する態様であり、もう一つは、例えば、特開２００１−２７７７４０号公報、特開２００１−２７７７４２号公報に記載のごとく、画像形成層の構成成分をマイクロカプセルに内包させて画像形成層を形成させる態様（マイクロカプセル型画像形成層）である。さらに、マイクロカプセル型画像形成層において、該構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。マイクロカプセル型画像形成層においては、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包させ、親水性構成成分をマイクロカプセル外に含有させることがより好ましい態様である。
画像形成層の構成成分のうち、赤外線吸収剤と、変色剤とをマイクロカプセル化することは、焼き出し画像形成反応系と印刷画像形成反応系とを分離することによってお互いの反応を阻害することが避けられるため、良好な焼き出し画像と良好な耐刷性を得るのにより好ましい態様である。 <Formation of radical polymerization type image forming layer>
In the present invention, several modes can be used as a method for forming an image forming layer. One is an aspect in which the constituent components are dissolved and applied in a suitable solvent as described in, for example, JP-A-2002-287334, and the other is, for example, JP-A-2001-277740, As described in JP-A-2001-277742, the image forming layer is formed by encapsulating the constituent components of the image forming layer in microcapsules (microcapsule type image forming layer). Further, in the microcapsule type image forming layer, the constituent component may be contained outside the microcapsule. In the microcapsule type image forming layer, it is a more preferable embodiment that the hydrophobic constituent component is encapsulated in the microcapsule and the hydrophilic constituent component is contained outside the microcapsule.
Among the components of the image forming layer, the microencapsulation of the infrared absorber and the color changing agent inhibits the reaction between the image forming reaction system and the printing image forming reaction system by separating them from each other. Therefore, this is a more preferable embodiment for obtaining a good printout image and good printing durability.

画像形成層構成成分をマイクロカプセル化する方法としては、公知の方法が適用できる。例えばマイクロカプセルの製造方法としては、米国特許第２８００４５７号、同第２８００４５８号明細書にみられるコアセルベーションを利用した方法、米国特許第３２８７１５４号の各明細書、特公昭３８−１９５７４号、同４２−４４６号の各公報にみられる界面重合法による方法、米国特許第３４１８２５０号、同第３６６０３０４号明細書にみられるポリマーの析出による方法、米国特許第３７９６６６９号明細書に見られるイソシ
アナートポリオール壁材料を用いる方法、米国特許第３９１４５１１号明細書に見られるイソシアナート壁材料を用いる方法、米国特許第４００１１４０号、同第４０８７３７６号、同第４０８９８０２号の各明細書にみられる尿素―ホルムアルデヒド系又は尿素ホルムアルデヒド−レゾルシノール系壁形成材料を用いる方法、米国特許第４０２５４４５号明細書にみられるメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ヒドロキシセルロース等の壁材を用いる方法、特公昭３６−９１６３号、同５１−９０７９号の各公報にみられるモノマー重合によるｉｎ ｓｉｔｕ法、英国特許第９３０４２２号、米国特許第３１１１４０７号明細書にみられるスプレードライング法、英国特許第９５２８０７号、同第９６７０７４号の各明細書にみられる電解分散冷却法などがあるが、これらに限定されるものではない。 As a method for microencapsulating the constituent components of the image forming layer, known methods can be applied. For example, as a method for producing microcapsules, a method using coacervation found in US Pat. Nos. 2,800,547 and 2,800,498, each specification of US Pat. No. 3,287,154, Japanese Patent Publication No. 38-19574, 42-446 by the interfacial polymerization method, US Pat. No. 3,418,250, US Pat. No. 3,660,304 by precipitation of polymer, US Pat. No. 3,796,669, isocyanate polyol A method using a wall material, a method using an isocyanate wall material found in US Pat. No. 3,914,511, and a urea-formaldehyde system found in US Pat. Nos. 4,001,140, 4,087,376 and 4,089,802. Or urea formaldehyde-resorcinol A method using a wall forming material, a method using a wall material such as melamine-formaldehyde resin, hydroxycellulose, etc. found in US Pat. No. 4,025,445, and Japanese Patent Publication Nos. 36-9163 and 51-9079. In situ method by monomer polymerization, spray drying method found in British Patent No. 930422, US Pat. No. 3,111,407, electrolytic dispersion cooling method seen in British Patent Nos. 952807 and 967074, etc. However, it is not limited to these.

本発明に用いられる好ましいマイクロカプセル壁は、３次元架橋を有し、溶剤によって膨潤する性質を有するものである。このような観点から、マイクロカプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、及びこれらの混合物が好ましく、特に、ポリウレア及びポリウレタンが好ましい。また、マイクロカプセル壁に、前記バインダーポリマー導入可能なエチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を有する化合物を導入しても良い。   A preferable microcapsule wall used in the present invention has a three-dimensional cross-linking and has a property of swelling with a solvent. From such a viewpoint, the wall material of the microcapsule is preferably polyurea, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyamide, and a mixture thereof, and particularly preferably polyurea and polyurethane. Further, a compound having a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond capable of introducing the binder polymer may be introduced into the microcapsule wall.

上記のマイクロカプセルの平均粒径は、０．０１〜３．０μｍが好ましい。０．０５〜２．０μｍがさらに好ましく、０．１０〜１．０μｍが特に好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。   The average particle size of the microcapsules is preferably 0.01 to 3.0 μm. 0.05-2.0 micrometers is further more preferable, and 0.10-1.0 micrometer is especially preferable. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained.

また、本発明においては、上述した画像形成層の各成分、特に好ましくは各上記赤外線吸収剤、変色剤が、それぞれ、樹脂微粒子に内包されている態様とすることもできる。
このような態様は、各成分を溶媒に溶解した後、高分子溶液（好ましくは高分子水溶液）とホモジナイザー等を用いて混合して得られる樹脂微粒子分散液を調製し、これを用いることにより達成できる。
この際用いることができる上記溶媒としては、酢酸エチル、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ジイソプロピルエーテル、ジクロロメタン、クロロホルム、トルエン、ジクロロエタン、これらの混合溶媒を挙げることができる。
また、上記高分子としては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリアクリルアミド、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸ナトリウム、ポリメタクリルアミド、ポリスチレンスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム、アクリル酸−アクリル酸メチルコポリマー、メタクリル酸−メタクリル酸メチルコポリマー、スチレン−スチレンスルホン酸ナトリウムコポリマー等が挙げられる。 In the present invention, the above-described components of the image forming layer, particularly preferably each of the infrared absorber and the color change agent may be included in the resin fine particles.
Such an embodiment is achieved by preparing a resin fine particle dispersion obtained by dissolving each component in a solvent and then mixing with a polymer solution (preferably a polymer aqueous solution) and a homogenizer. it can.
Examples of the solvent that can be used in this case include ethyl acetate, methyl ethyl ketone (MEK), diisopropyl ether, dichloromethane, chloroform, toluene, dichloroethane, and mixed solvents thereof.
Examples of the polymer include polyvinyl alcohol (PVA), polyacrylic acid, sodium polyacrylate, polyacrylamide, polymethacrylic acid, polysodium methacrylate, polymethacrylamide, polystyrene sulfonic acid, sodium polystyrene sulfonate, acrylic acid. -Methyl acrylate copolymer, methacrylic acid-methyl methacrylate copolymer, styrene-sodium styrene sulfonate copolymer and the like.

画像形成層は、必要な上記各成分を溶剤に分散、又は溶かして塗布液を調製し、塗布される。ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン、水等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。これらの溶剤は、単独又は混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは１〜５０質量％である。上記画像形成層は、同一又は異なる上記各成分を同一又は異なる溶剤に分散、又は溶かした塗布液を複数調製し、複数回の塗布、乾燥を繰り返して形成することも可能である。   The image forming layer is coated by preparing a coating solution by dispersing or dissolving the necessary components described above in a solvent. Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, toluene, water and the like. However, the present invention is not limited to this. These solvents are used alone or in combination. The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by mass. The image forming layer may be formed by preparing a plurality of coating solutions in which the same or different components are dispersed or dissolved in the same or different solvents, and repeating a plurality of coating and drying operations.

また塗布、乾燥後に得られる支持体上の画像形成層塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、一般的に０．３〜３．０ｇ／ｍ²が好ましい。この範囲で、良好な感度と画像形成層の良好な皮膜特性が得られる。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げられる。 The coating amount (solid content) of the image forming layer on the support obtained after coating and drying varies depending on the use, but generally 0.3 to 3.0 g / m ² is preferable. Within this range, good sensitivity and good film properties of the image forming layer can be obtained.
Various methods can be used as a coating method. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

（ｂ）疎水化前駆体系の画像形成要素
＜疎水性化前駆体＞
本発明において疎水性化前駆体とは、熱が加えられたときに親水性の画像形成層を疎水性に変換できる微粒子である。この微粒子としては、熱可塑性ポリマー微粒子及び熱反応性ポリマー微粒子から選ばれる少なくともひとつの微粒子であることが好ましい。また、熱反応性基を有する化合物を内包したマイクロカプセルであってもよい。 (B) Image forming element of hydrophobized precursor system <Hydrophobized precursor>
In the present invention, the hydrophobized precursor is a fine particle capable of converting a hydrophilic image forming layer to hydrophobic when heat is applied. The fine particles are preferably at least one fine particle selected from thermoplastic polymer fine particles and heat-reactive polymer fine particles. Moreover, the microcapsule which included the compound which has a thermoreactive group may be sufficient.

画像形成層に用いられる熱可塑性ポリマー微粒子としては、１９９２年１月のＲｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ Ｎｏ．３３３０３、特開平９−１２３３８７号公報、同９−１３１８５０号公報、同９−１７１２４９号公報、同９−１７１２５０号公報及び欧州特許第９３１６４７号明細書などに記載の熱可塑性ポリマー微粒子を好適なものとして挙げることができる。かかるポリマー微粒子を構成するポリマーの具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾールなどのモノマーのホモポリマーもしくはコポリマー又はそれらの混合物を挙げることができる。その中で、より好適なものとして、ポリスチレン、ポリメタクリル酸メチルを挙げることができる。   As the thermoplastic polymer fine particles used in the image forming layer, Research Disclosure No. 1 of January 1992 was used. 33303, JP-A-9-123387, JP-A-9-131850, JP-A-9-171249, JP-A-9-171250, European Patent No. 931647, and the like are suitable. Can be cited as Specific examples of the polymer constituting the polymer fine particle include homopolymers of monomers such as ethylene, styrene, vinyl chloride, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, vinylidene chloride, acrylonitrile, vinyl carbazole, or the like. Mention may be made of copolymers or mixtures thereof. Among them, more preferred are polystyrene and polymethyl methacrylate.

本発明に用いられる熱可塑性ポリマー微粒子の平均粒径は０．０１〜２．０μｍが好ましい。このような熱可塑性ポリマー微粒子の合成方法としては、乳化重合法、懸濁重合法の他に、これら化合物を非水溶性の有機溶剤に溶解し、これを分散剤が入った水溶液と混合乳化し、さらに熱をかけて、有機溶剤を飛ばしながら微粒子状に固化させる方法（溶解分散法）がある。   The average particle size of the thermoplastic polymer fine particles used in the present invention is preferably 0.01 to 2.0 μm. As a method for synthesizing such thermoplastic polymer fine particles, in addition to emulsion polymerization and suspension polymerization, these compounds are dissolved in a water-insoluble organic solvent, and this is mixed and emulsified with an aqueous solution containing a dispersant. Further, there is a method (solution dispersion method) in which heat is further applied to solidify into fine particles while the organic solvent is being blown away.

本発明に用いられる熱反応性ポリマー微粒子としては、熱硬化性ポリマー微粒子及び熱反応性基を有するポリマー微粒子が挙げられる。   Examples of the heat-reactive polymer fine particles used in the present invention include thermosetting polymer fine particles and polymer fine particles having a heat-reactive group.

上記熱硬化性ポリマーとしては、フェノール骨格を有する樹脂、尿素系樹脂（例えば、尿素又はメトキシメチル化尿素など尿素誘導体をホルムアルデヒドなどのアルデヒド類により樹脂化したもの）、メラミン系樹脂（例えば、メラミン又はその誘導体をホルムアルデヒドなどのアルデヒド類により樹脂化したもの）、アルキド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂等を挙げることができる。中でも、特に好ましいのは、フェノール骨格を有する樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂及びエポキシ樹脂である。   Examples of the thermosetting polymer include a resin having a phenol skeleton, a urea resin (for example, a urea derivative such as urea or methoxymethylated urea resinized with an aldehyde such as formaldehyde), a melamine resin (for example, melamine or Examples thereof include those obtained by converting the derivatives into resins with aldehydes such as formaldehyde, alkyd resins, unsaturated polyester resins, polyurethane resins, and epoxy resins. Among these, resins having a phenol skeleton, melamine resins, urea resins and epoxy resins are particularly preferable.

好適なフェノール骨格を有する樹脂としては、例えば、フェノール、クレゾールなどをホルムアルデヒドなどのアルデヒド類により樹脂化したフェノール樹脂、ヒドロキシスチレン樹脂、及びＮ−（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、ｐ−ヒドロキシフェニルメタクリレートなどのフェノール骨格を有するメタクリルアミドもしくはアクリルアミド又はメタクリレートもしくはアクリレートの重合体又は共重合体を挙げることができる。   Suitable resins having a phenol skeleton include, for example, phenol resins obtained by resinizing phenol, cresol, etc. with aldehydes such as formaldehyde, hydroxystyrene resins, N- (p-hydroxyphenyl) methacrylamide, and p-hydroxyphenyl methacrylate. Examples thereof include a polymer or copolymer of methacrylamide or acrylamide or methacrylate or acrylate having a phenol skeleton.

本発明に用いられる熱硬化性ポリマー微粒子の平均粒径は０．０１〜２．０μｍが好ましい。このような熱硬化性ポリマー微粒子は、溶解分散法で容易に得られるが、熱硬化性ポリマーを合成する際に微粒子化してもよい。しかし、これらの方法に限らない。   The average particle diameter of the thermosetting polymer fine particles used in the present invention is preferably 0.01 to 2.0 μm. Such thermosetting polymer fine particles can be easily obtained by a solution dispersion method, but may be formed into fine particles when the thermosetting polymer is synthesized. However, it is not restricted to these methods.

本発明に用いる熱反応性基を有するポリマー微粒子の熱反応性基としては、化学結合が
形成されるならば、どのような反応を行う官能基でも良いが、ラジカル重合反応を行うエチレン性不飽和基（例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など）、カチオン重合性基（例えば、ビニル基、ビニルオキシ基など）、付加反応を行うイソシアナート基又はそのブロック体、エポキシ基、ビニルオキシ基及びこれらの反応相手である活性水素原子を有する官能基（例えば、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基など）、縮合反応を行うカルボキシル基及び反応相手であるヒドロキシル基又はアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物及び反応相手であるアミノ基又はヒドロキシル基などを好適なものとして挙げることができる。 The thermally reactive group of the polymer fine particle having a thermally reactive group used in the present invention may be any functional group that performs a reaction as long as a chemical bond is formed, but is an ethylenically unsaturated group that performs a radical polymerization reaction. Group (for example, acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, allyl group, etc.), cationically polymerizable group (for example, vinyl group, vinyloxy group, etc.), isocyanate group that performs addition reaction or its block, epoxy group, vinyloxy group And a functional group having an active hydrogen atom as a reaction partner (for example, an amino group, a hydroxyl group, a carboxyl group, etc.), a carboxyl group for performing a condensation reaction, a hydroxyl group or an amino group as a reaction partner, a ring-opening addition reaction The acid anhydride to be used and the amino group or hydroxyl group as the reaction partner may be mentioned as suitable ones. Kill.

これらの官能基のポリマー微粒子への導入は、重合時に行ってもよいし、重合後に高分子反応を利用して行ってもよい。   The introduction of these functional groups into the polymer fine particles may be performed at the time of polymerization, or may be performed using a polymer reaction after the polymerization.

重合時に導入する場合は、上記の官能基を有するモノマーを乳化重合又は懸濁重合することが好ましい。上記の官能基を有するモノマーの具体例として、アリルメタクリレート、アリルアクリレート、ビニルメタクリレート、ビニルアクリレート、２−（ビニルオキシ）エチルメタクリレート、ｐ−ビニルオキシスチレン、ｐ−｛２−（ビニルオキシ）エチル｝スチレン、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、２−イソシアナートエチルメタクリレート又はそのアルコールなどによるブロックイソシアナート、２−イソシアナートエチルアクリレート又はそのアルコールなどによるブロックイソシアナート、２−アミノエチルメタクリレート、２−アミノエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、２官能アクリレート、２官能メタクリレートなどが挙げられるが、これらに限定されない。   When introduced at the time of polymerization, it is preferable to carry out emulsion polymerization or suspension polymerization of the monomer having the above functional group. Specific examples of the monomer having the above functional group include allyl methacrylate, allyl acrylate, vinyl methacrylate, vinyl acrylate, 2- (vinyloxy) ethyl methacrylate, p-vinyloxystyrene, p- {2- (vinyloxy) ethyl} styrene, Block isocyanate with glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, 2-isocyanatoethyl methacrylate or alcohol thereof, block isocyanate with 2-isocyanate ethyl acrylate or alcohol thereof, 2-aminoethyl methacrylate, 2-aminoethyl acrylate, 2- Hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, bifunctional acrylate, 2 officers Methacrylate, and the like, but not limited thereto.

本発明では、これらのモノマーと、これらのモノマーと共重合可能な、熱反応性基をもたないモノマーとの共重合体も用いることができる。熱反応性基をもたない共重合モノマーとしては、例えば、スチレン、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート、アクリロニトリル、酢酸ビニルなどを挙げることができるが、熱反応性基をもたないモノマーであれば、これらに限定されない。   In the present invention, a copolymer of these monomers and a monomer that is copolymerizable with these monomers and does not have a thermally reactive group can also be used. Examples of the copolymer monomer having no heat-reactive group include styrene, alkyl acrylate, alkyl methacrylate, acrylonitrile, vinyl acetate, and the like. It is not limited to.

熱反応性基の導入を重合後に行う場合に用いる高分子反応としては、例えば、国際公開第９６／３４３１６号パンフレットに記載されている高分子反応を挙げることができる。   Examples of the polymer reaction used when the introduction of the thermally reactive group is carried out after the polymerization include the polymer reaction described in International Publication No. 96/34316 pamphlet.

上記熱反応性基を有するポリマー微粒子の中で、ポリマー微粒子同志が熱により合体するものが好ましく、その表面は親水性で水に分散するものが特に好ましい。ポリマー微粒子のみを塗布し、凝固温度よりも低い温度で乾燥して作製した皮膜の接触角（空中水滴）が、凝固温度より高い温度で乾燥して作製した皮膜の接触角（空中水滴）よりも低くなることが好ましい。このようにポリマー微粒子表面を親水性にするには、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコールなどの親水性ポリマーもしくはオリゴマー又は親水性低分子化合物をポリマー微粒子表面に吸着させてやればよい。しかし、表面親水化の方法は、これに限定されない。   Among the polymer fine particles having a heat-reactive group, those in which the polymer fine particles are coalesced by heat are preferable, and those having a hydrophilic surface and being dispersed in water are particularly preferable. The contact angle (water droplets) of the film prepared by applying only polymer fine particles and drying at a temperature lower than the solidification temperature is higher than the contact angle (water droplets) of the film prepared by drying at a temperature higher than the solidification temperature. It is preferable to lower. In order to make the surface of the polymer fine particles hydrophilic in this way, a hydrophilic polymer or oligomer such as polyvinyl alcohol or polyethylene glycol or a hydrophilic low molecular weight compound may be adsorbed on the surface of the polymer fine particles. However, the surface hydrophilization method is not limited to this.

これらの熱反応性基を有するポリマー微粒子の凝固温度は、７０℃以上が好ましいが、経時安定性を考えると１００℃以上がさらに好ましい。ポリマー微粒子の平均粒径は、０．０１〜２．０μｍが好ましいが、その中でも０．０５〜２．０μｍがさらに好ましく、特に０．１〜１．０μｍが最適である。この範囲内で良好な解像度及び経時安定性が得られる。   The solidification temperature of the polymer fine particles having these thermoreactive groups is preferably 70 ° C. or higher, but more preferably 100 ° C. or higher in view of the stability over time. The average particle size of the polymer fine particles is preferably 0.01 to 2.0 μm, more preferably 0.05 to 2.0 μm, and most preferably 0.1 to 1.0 μm. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained.

本発明に用いられる熱反応性基を有する化合物を内包するマイクロカプセルにおける熱反応性基としては、前記の熱反応性基を有するポリマー微粒子に用いられるものと同じ熱
反応性基を好適なものとして挙げることができる。以下に、熱反応性基を有する化合物について説明する。 As the heat-reactive group in the microcapsule encapsulating the compound having a heat-reactive group used in the present invention, the same heat-reactive group as that used for the polymer fine particles having the heat-reactive group is preferable. Can be mentioned. Below, the compound which has a thermoreactive group is demonstrated.

ラジカル重合性不飽和基を有する化合物としては、前記ラジカル重合系のマイクロカプセルように示したのと同じ化合物が好適に用いられる。   As the compound having a radical polymerizable unsaturated group, the same compounds as those shown as the radical polymerization type microcapsules are preferably used.

本発明に好適なビニルオキシ基を有する化合物としては、特開２００２−２９１６２号公報に記載の化合物が挙げられる。具体例として、テトラメチレングリコールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、１，４−ビス｛２−（ビニルオキシ）エチルオキシ｝ベンゼン、１，２−ビス｛２−（ビニルオキシ）エチルオキシ｝ベンゼン、１，３−ビス｛２−（ビニルオキシ）エチルオキシ｝ベンゼン、１，３，５−トリス｛２−（ビニルオキシ）エチルオキシ｝ベンゼン、４，４´−ビス｛２−（ビニルオキシ）エチルオキシ｝ビフェニル、４，４´−ビス｛２−（ビニルオキシ）エチルオキシ｝ジフェニルエーテル、４，４´−ビス｛２−（ビニルオキシ）エチルオキシ｝ジフェニルメタン、１，４−ビス｛２−（ビニルオキシ）エチルオキシ｝ナフタレン、２，５−ビス｛２−（ビニルオキシ）エチルオキシ｝フラン、２，５−ビス｛２−（ビニルオキシ）エチルオキシ｝チオフェン、２，５−ビス｛２−（ビニルオキシ）エチルオキシ｝イミダゾール、２，２−ビス［４−｛２−（ビニルオキシ）エチルオキシ｝フェニル］プロパン｛ビスフェノールＡのビス（ビニルオキシエチル）エーテル｝、２，２−ビス｛４−（ビニルオキシメチルオキシ）フェニル｝プロパン、２，２−ビス｛４−（ビニルオキシ）フェニル｝プロパンなどが挙げられるが、これに限定されるものではない。   Examples of the compound having a vinyloxy group suitable for the present invention include compounds described in JP-A-2002-29162. Specific examples include tetramethylene glycol divinyl ether, trimethylolpropane trivinyl ether, tetraethylene glycol divinyl ether, pentaerythritol divinyl ether, pentaerythritol trivinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, 1,4-bis {2- (vinyloxy) ethyloxy} Benzene, 1,2-bis {2- (vinyloxy) ethyloxy} benzene, 1,3-bis {2- (vinyloxy) ethyloxy} benzene, 1,3,5-tris {2- (vinyloxy) ethyloxy} benzene, 4 , 4′-bis {2- (vinyloxy) ethyloxy} biphenyl, 4,4′-bis {2- (vinyloxy) ethyloxy} diphenyl ether, 4,4′-bis {2- (vinyloxy) ester Ruoxy} diphenylmethane, 1,4-bis {2- (vinyloxy) ethyloxy} naphthalene, 2,5-bis {2- (vinyloxy) ethyloxy} furan, 2,5-bis {2- (vinyloxy) ethyloxy} thiophene, , 5-bis {2- (vinyloxy) ethyloxy} imidazole, 2,2-bis [4- {2- (vinyloxy) ethyloxy} phenyl] propane {bis (vinyloxyethyl) ether of bisphenol A}, 2,2- Examples include, but are not limited to, bis {4- (vinyloxymethyloxy) phenyl} propane, 2,2-bis {4- (vinyloxy) phenyl} propane, and the like.

本発明に好適なエポキシ基を有する化合物としては、２個以上エポキシ基を有する化合物が好ましく、多価アルコールや多価フェノールなどとエピクロロヒドリンとの反応によって得られるグリシジルエーテル化合物又はそのプレポリマー、更に、アクリル酸グリシジル又はメタクリ酸グリシジルの重合体もしくは共重合体等を挙げることができる。   As the compound having an epoxy group suitable for the present invention, a compound having two or more epoxy groups is preferable, and a glycidyl ether compound obtained by reaction of a polyhydric alcohol or a polyhydric phenol with epichlorohydrin or a prepolymer thereof. Furthermore, a polymer or copolymer of glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate can be used.

具体例としては、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル、ヒドロキノンジグリシジルエーテル、レソルシノールジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル又はエピクロロヒドリン重付加物、ビスフェノールＦのジグリシジルエーテル又はエピクロロヒドリン重付加物、ハロゲン化ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル又はエピクロロヒドリン重付加物、ビフェニル型ビスフェノールのジグリシジルエーテル又はエピクロロヒドリン重付加物、ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物等、更に、メタクリ酸メチル／メタクリ酸グリシジル共重合体、メタクリ酸エチル／メタクリ酸グリシジル共重合体等が挙げられる。   Specific examples include propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, diglycidyl ether of hydrogenated bisphenol A, hydroquinone diglycidyl. Ether, resorcinol diglycidyl ether, diglycidyl ether or epichlorohydrin polyadduct of bisphenol A, diglycidyl ether or epichlorohydrin polyadduct of bisphenol F, diglycidyl ether or epichlorohydride of halogenated bisphenol A Phosphorus polyadduct, diglycidyl ether of biphenyl type bisphenol or epichlorohydrin polyadduct, novolak tree Etc. glycidyl ethers, furthermore, methyl methacrylate / glycidyl methacrylate copolymer, methacrylic acid ethyl / glycidyl methacrylate copolymer, and the like.

上記化合物の市販品としては、例えば、ジャパンエポキシレジン（株）製のエピコート１００１（分子量約９００、エポキシ当量４５０〜５００）、エピコート１００２（分子量約１６００、エポキシ当量６００〜７００）、エピコート１００４（約１０６０、エポキシ当量８７５〜９７５）、エピコート１００７（分子量約２９００、エポキシ当量２０００）、エピコート１００９（分子量約３７５０、エポキシ当量３０００）、エピコート１０１０（分子量約５５００、エポキシ当量４０００）、エピコート１１００Ｌ（エポキシ当量４０００）、エピコートＹＸ３１５７５（エポキシ当量１２００）、住友化学（株）製のスミエポキシＥＳＣＮ−１９５ＸＨＮ、ＥＳＣＮ−１９５ＸＬ、ＥＳＣＮ−１９５ＸＦ等を挙げることができる。   Commercially available products of the above compounds include, for example, Epicoat 1001 (molecular weight: about 900, epoxy equivalent: 450 to 500), Epicoat 1002 (molecular weight: about 1600, epoxy equivalent: 600 to 700), Epicoat 1004 (about) manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd. 1060, epoxy equivalent 875-975), Epicoat 1007 (molecular weight about 2900, epoxy equivalent 2000), Epicoat 1009 (molecular weight about 3750, epoxy equivalent 3000), Epicoat 1010 (molecular weight about 5500, epoxy equivalent 4000), Epicoat 1100L (epoxy equivalent) 4000), Epicoat YX31575 (epoxy equivalent 1200), Sumitomo Chemical Co., Ltd. Sumiepoxy ESCN-195XHN, ESCN-195XL, ESCN-195XF, and the like.

本発明に好適なイソシアナート化合物としては、トリレンジイソシアナート、ジフェニルメタンジイソシアナート、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアナート、キシリレンジイソシアナート、ナフタレンジイソシアナート、シクロヘキサンフェニレンジイソシアナート、イソホロンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナート、シクロヘキシルジイソシアナート、又は、これらをアルコールもしくはアミンでブロックした化合物を挙げることができる。   Suitable isocyanate compounds for the present invention include tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, polymethylene polyphenyl polyisocyanate, xylylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, cyclohexanephenylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, Examples include hexamethylene diisocyanate, cyclohexyl diisocyanate, and compounds obtained by blocking these with alcohol or amine.

本発明に好適なアミン化合物としては、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ヘキサメチレンジアミン、プロピレンジアミン、ポリエチレンイミンなどが挙げられる。   Suitable amine compounds for the present invention include ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, hexamethylenediamine, propylenediamine, polyethyleneimine and the like.

本発明に好適なヒドロキシル基を有する化合物としては、末端メチロール基を有する化合物、ペンタエリスリトールなどの多価アルコール、ビスフェノール・ポリフェノール類などを挙げることができる。   Examples of the compound having a hydroxyl group suitable for the present invention include a compound having a terminal methylol group, a polyhydric alcohol such as pentaerythritol, and bisphenol / polyphenols.

本発明に好適なカルボキシル基を有する化合物としては、ピロメリット酸、トリメリット酸、フタル酸などの芳香族多価カルボン酸、アジピン酸などの脂肪族多価カルボン酸などが挙げられる。本発明に好適な酸無水物としては、ピロメリット酸無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物などが挙げられる。   Examples of the compound having a carboxyl group suitable for the present invention include aromatic polyvalent carboxylic acids such as pyromellitic acid, trimellitic acid and phthalic acid, and aliphatic polyvalent carboxylic acids such as adipic acid. Examples of the acid anhydride suitable for the present invention include pyromellitic acid anhydride and benzophenone tetracarboxylic acid anhydride.

上記の熱反応性基を有する化合物のマイクロカプセル化は、ラジカル重合系の説明で前記した公知の方法で行うことができる。   Microencapsulation of the above-mentioned compound having a thermoreactive group can be carried out by the known method described above in the explanation of the radical polymerization system.

＜その他の画像形成層成分＞
画像形成層には、機上現像性や画像形成層自体の皮膜強度向上のため親水性樹脂を含有させることができる。親水性樹脂としては、例えばヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基、アミド基などの親水基を有するものが好ましい。
また、親水性樹脂は、疎水化前駆体の有する熱反応性基と反応し架橋することによって画像強度が高まり、高耐刷化されるので、熱反応性基と反応する基を有することが好ましい。例えば、疎水化前駆体がビニルオキシ基又はエポキシ基を有する場合は、親水性樹脂としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基などを有するものが好ましい。中でも、ヒドロキシル基又はカルボキシル基を有する親水性樹脂が好ましい。 <Other image forming layer components>
The image forming layer can contain a hydrophilic resin for improving the on-press developability and the film strength of the image forming layer itself. As hydrophilic resin, what has hydrophilic groups, such as a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, a phosphoric acid group, a sulfonic acid group, an amide group, is preferable, for example.
The hydrophilic resin preferably has a group that reacts with the heat-reactive group because it reacts with the heat-reactive group of the hydrophobizing precursor and crosslinks to increase the image strength. . For example, when the hydrophobizing precursor has a vinyloxy group or an epoxy group, the hydrophilic resin preferably has a hydroxyl group, a carboxyl group, a phosphoric acid group, a sulfonic acid group, or the like. Among these, a hydrophilic resin having a hydroxyl group or a carboxyl group is preferable.

親水性樹脂の具体例として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、ソヤガム、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース及びそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類及びそれらの塩、ポリメタクリル酸類及びそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシプロピルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマー及びコポリー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、加水分解度が少なくとも６０モル％、好ましくは少なくとも８０モル％の加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマー及びコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマー及びコポリマー、Ｎ−メチロールアクリルアミドのホモポリマー及びコポリマー、２−アクリルアミド−２−メチル−１−プロパンスルホン酸のホモポリマー及びコポリマー、２−メタクロイルオキシエチルホ
スホン酸のホモポリマー及びコポリマー等を挙げることができる。 Specific examples of hydrophilic resins include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, soya gum, hydroxypropylcellulose, methylcellulose, carboxymethylcellulose and its sodium salt, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-malein Acid copolymers, polyacrylic acids and their salts, polymethacrylic acids and their salts, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl acrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl methacrylate, hydroxypropyl acrylate Homopolymers and copolymers, hydroxybutyl methacrylate homopolymers and copolymers, Butyl acrylate homopolymers and copolymers, polyethylene glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, hydrolyzed polyvinyl acetate having a degree of hydrolysis of at least 60 mol%, preferably at least 80 mol%, polyvinyl formal, polyvinylpyrrolidone, acrylamide Homopolymers and copolymers, methacrylamide homopolymers and copolymers, N-methylolacrylamide homopolymers and copolymers, 2-acrylamido-2-methyl-1-propanesulfonic acid homopolymers and copolymers, 2-methacryloyloxyethylphosphonic acid And homopolymers and copolymers thereof.

上記親水性樹脂の画像形成層への添加量は、２０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましい。   The amount of the hydrophilic resin added to the image forming layer is preferably 20% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less.

また、上記親水性樹脂は印刷機上で未露光部が機上現像できる程度に架橋して用いてもよい。架橋剤としては、グリオキザール、メラミンホルムアルデヒド樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂などのアルデヒド類、Ｎ−メチロール尿素やＮ−メチロールメラミン、メチロール化ポリアミド樹脂などのメチロール化合物、ジビニルスルホンやビス（β−ヒドロキシエチルスルホン酸）などの活性ビニル化合物、エピクロルヒドリンやポリエチレングリコ−ルジグリシジルエーテル、ポリアミド、ポリアミン、エピクロロヒドリン付加物、ポリアミドエピクロロヒドリン樹脂などのエポキシ化合物、モノクロル酢酸エステルやチオグリコール酸エステルなどのエステル化合物、ポリアクリル酸やメチルビニルエーテル／マレイン酸共重合物などのポリカルボン酸類、ホウ酸、チタニルスルフェート、Ｃｕ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｖ、Ｃｒ塩などの無機系架橋剤、変性ポリアミドポリイミド樹脂などが挙げられる。その他、塩化アンモニウム、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤等の架橋触媒を併用できる。   Further, the hydrophilic resin may be used after being cross-linked to such an extent that an unexposed portion can be developed on-press on a printing press. Cross-linking agents include glyoxal, aldehydes such as melamine formaldehyde resin, urea formaldehyde resin, methylol compounds such as N-methylol urea, N-methylol melamine, and methylolated polyamide resin, divinyl sulfone and bis (β-hydroxyethylsulfonic acid) Active vinyl compounds such as, epoxy compounds such as epichlorohydrin and polyethylene glycol diglycidyl ether, polyamides, polyamines, epichlorohydrin adducts, polyamide epichlorohydrin resins, ester compounds such as monochloroacetic acid esters and thioglycolic acid esters, Polycarboxylic acids such as polyacrylic acid and methyl vinyl ether / maleic acid copolymer, inorganic such as boric acid, titanyl sulfate, Cu, Al, Sn, V, Cr salts Crosslinking agents, such as modified polyamide polyimide resin. In addition, a crosslinking catalyst such as ammonium chloride, a silane coupling agent, a titanate coupling agent can be used in combination.

画像形成層は、前記熱反応基の反応を開始又は促進する反応促進剤を含有することができる。かかる反応促進剤としては、前記のラジカル重合開始剤を好適なものとして挙げることができる。   The image forming layer may contain a reaction accelerator that initiates or accelerates the reaction of the thermally reactive group. As such a reaction accelerator, the above radical polymerization initiator can be mentioned as a suitable one.

上記反応促進剤は２種以上を組み合わせて用いることもできる。また、反応促進剤の画像形成層への添加は、画像形成層塗布液への直接添加でも、ポリマー微粒子中に含有させた形での添加でもよい。画像形成層中の反応促進剤の含有量は、画像形成層全固形分の０．０１〜２０質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜１０質量％である。この範囲内で、機上現像性を損なわず、良好な反応開始又は促進効果が得られる。   Two or more kinds of the reaction accelerators can be used in combination. The reaction accelerator may be added directly to the image forming layer coating solution or may be added in the form of polymer fine particles. The content of the reaction accelerator in the image forming layer is preferably from 0.01 to 20% by mass, more preferably from 0.1 to 10% by mass, based on the total solid content of the image forming layer. Within this range, good reaction initiation or acceleration effect can be obtained without impairing on-press developability.

上記の疎水化前駆体系の画像形成層には、耐刷力を一層向上させるために多官能モノマーを画像形成層マトリックス中に添加することができる。この多官能モノマーとしては、重合性化合物として例示したものを用いることができる。なかでも好ましいモノマーとしては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートなどを挙げることができる。   In order to further improve the printing durability, a polyfunctional monomer can be added to the image forming layer matrix in the above-described hydrophobized precursor system image forming layer. As this polyfunctional monomer, those exemplified as the polymerizable compound can be used. Among them, preferable monomers include trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, and the like.

また、上記の疎水化前駆体系の画像形成層には、前記重合系画像形成層の＜その他の画像形成層成分＞に記載の界面活性剤、着色剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機微粒子、低分子親水性化合物などの添加剤を、必要に応じて含有させることができる。   The hydrophobic precursor system image-forming layer includes a surfactant, a colorant, a polymerization inhibitor, a higher fatty acid derivative, and a plasticizer described in <Other image-forming layer components> of the polymerized image-forming layer. In addition, additives such as inorganic fine particles and low molecular weight hydrophilic compounds can be contained as necessary.

＜疎水化前駆体系の画像形成層の形成＞
上記の疎水化前駆体系の画像形成層は、前記ラジカル重合系画像形成層の場合と同様に、必要な上記各成分を溶剤に分散又は溶解した塗布液を調製し、支持体上に塗布、乾燥して形成される。 <Formation of image forming layer of hydrophobized precursor system>
As in the case of the radical polymerization image forming layer, the hydrophobic precursor system image forming layer is prepared by coating or drying on a support by preparing a coating solution in which each of the necessary components is dispersed or dissolved in a solvent. Formed.

塗布、乾燥後に得られる支持体上の画像形成層の塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、一般的に０．５〜５．０ｇ／ｍ²が好ましい。 The coating amount (solid content) of the image forming layer on the support obtained after coating and drying varies depending on the use, but is generally preferably 0.5 to 5.0 g / m ² .

上記疎水化前駆体系の画像形成層を用いると、機上現像可能な平版印刷版原版を作ることができる。
一方、上記疎水化前駆体系の画像形成層を未露光でも十分な耐刷力のある「架橋構造を
有する親水性層」にすることによって、本発明の平版印刷版原版を無処理（無現像）型の平版印刷版原版に適用することができる。 When the hydrophobic precursor system image forming layer is used, an on-press developable lithographic printing plate precursor can be produced.
On the other hand, the lithographic printing plate precursor of the present invention is not treated (no development) by making the image forming layer of the hydrophobized precursor system a “hydrophilic layer having a crosslinked structure” having sufficient printing durability even when unexposed. It can be applied to the lithographic printing plate precursor of the mold.

かかる架橋構造を有する親水性層としては、架橋構造を形成してなる親水性樹脂、及び、ゾル−ゲル変換によって形成される無機親水性結着樹脂のうちの少なくとも１種を含むことが好ましい態様である。これらのうち、まず、親水性樹脂について説明する。この親水性樹脂を添加することにより、エマルジョンインク中の親水成分との親和性が良好となり、且つ、画像形成層自体の皮膜強度も向上するという利点をも有する。親水性樹脂としては、例えばヒドロキシル、カルボキシル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、アミノ、アミノエチル、アミノプロピル、カルボキシメチルなどの親水基を有するものが好ましい。   The hydrophilic layer having such a crosslinked structure preferably includes at least one of a hydrophilic resin formed with a crosslinked structure and an inorganic hydrophilic binder resin formed by sol-gel conversion. It is. Of these, the hydrophilic resin will be described first. By adding this hydrophilic resin, the affinity with the hydrophilic component in the emulsion ink is improved, and the film strength of the image forming layer itself is also improved. As the hydrophilic resin, those having a hydrophilic group such as hydroxyl, carboxyl, hydroxyethyl, hydroxypropyl, amino, aminoethyl, aminopropyl, carboxymethyl and the like are preferable.

親水性樹脂の具体例として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、カルボキシメチルセルロース及びそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類及びそれらの塩、ポリメタクリル酸類及びそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシプロピルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、ならびに加水分解度が少なくとも６０モル％、好ましくは少なくとも８０モル％の加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマー及びコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマー及びポリマー、Ｎ−メチロールアクリルアミドのホモポリマー及びコポリマー等を挙げることができる。   Specific examples of hydrophilic resins include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and its sodium salt, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acid and Salts thereof, polymethacrylic acids and salts thereof, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl acrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl acrylate, hydroxybutyl Methacrylate homopolymers and copolymers, hydroxybutyl acrylate homopolymers and copolymers, polyethylene Glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, and hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, acrylamide homopolymers and copolymers having a degree of hydrolysis of at least 60 mol%, preferably at least 80 mol% Methacrylamide homopolymers and polymers, N-methylolacrylamide homopolymers and copolymers, and the like.

上記親水性樹脂を本発明に係る画像形成層に用いる場合には、親水性樹脂を架橋して用いればよい。架橋構造を形成するために用いる架橋剤としては、前記したものが用いられる。   When the above hydrophilic resin is used for the image forming layer according to the present invention, the hydrophilic resin may be used after being crosslinked. As the crosslinking agent used for forming the crosslinked structure, those described above are used.

また、無処理（無現像）型の画像形成層の好ましい態様として、ゾル−ゲル変換によって形成される無機親水性結着樹脂を含有させるものを挙げることができる。好適なゾル−ゲル変換系結着樹脂は、多価元素から出ている結合基が酸素原子を介して網目状構造、即ち、三次元架橋構造を形成し、同時に多価金属は未結合の水酸基やアルコキシ基も有していてこれらが混在した樹脂状構造となっている高分子体であって、アルコキシ基や水酸基が多い段階ではゾル状態であり、脱水縮合が進行するに伴って網目状の樹脂構造が強固となる。ゾル−ゲル変換を行う水酸基やアルコキシ基を有する化合物の多価結合元素は、アルミニウム、珪素、チタン及びジルコニウムなどであり、これらはいずれも本発明に用いることができる。中でも、より好ましいのは珪素を用いたゾル−ゲル変換系であり、特に好ましいのはゾル−ゲル変換が可能な、少なくとも一つのシラノール基を有するシラン化合物を含んだ系である。以下に、珪素を用いたゾル−ゲル変換系について説明するが、アルミニウム、チタン、ジルコニウムを用いたゾル−ゲル変換系は、下記説明の珪素をそれぞれの元素に置き換えて実施することができる。   Further, as a preferred embodiment of the non-processing (non-development) type image forming layer, there can be mentioned those containing an inorganic hydrophilic binder resin formed by sol-gel conversion. A preferred sol-gel conversion binder resin is that a bonding group coming out of a polyvalent element forms a network structure, that is, a three-dimensional crosslinked structure via an oxygen atom, and at the same time, the polyvalent metal is an unbonded hydroxyl group. And a polymer having a resinous structure in which these are mixed, and is in a sol state at a stage where there are many alkoxy groups and hydroxyl groups, and has a network shape as dehydration condensation proceeds. The resin structure becomes strong. Examples of the polyvalent binding element of the compound having a hydroxyl group or an alkoxy group that performs sol-gel conversion include aluminum, silicon, titanium, and zirconium, and any of these can be used in the present invention. Among them, a sol-gel conversion system using silicon is more preferable, and a system including a silane compound having at least one silanol group capable of sol-gel conversion is particularly preferable. Hereinafter, a sol-gel conversion system using silicon will be described. However, a sol-gel conversion system using aluminum, titanium, and zirconium can be implemented by replacing silicon described below with each element.

ゾル−ゲル変換系結着樹脂は、好ましくはシロキサン結合及びシラノール基を有する樹脂であり、上記画像形成層には、少なくとも一つのシラノール基を有する化合物を含んだゾル系である塗布液を用い、塗布乾燥過程でシラノール基の縮合が進んでゲル化し、シロキサン骨格の構造が形成されるプロセスによって含有させられる。   The sol-gel conversion binder resin is preferably a resin having a siloxane bond and a silanol group, and for the image forming layer, a coating solution which is a sol containing at least one compound having a silanol group is used. It is contained by a process in which condensation of silanol groups proceeds and gels in the process of coating and drying to form a siloxane skeleton structure.

また、ゾル−ゲル変換系結着樹脂を含む画像形成層は、膜強度、膜の柔軟性など、物理的性能の向上や塗布性の改良などを目的として、前記親水性樹脂や架橋剤と併用することも可能である。   In addition, the image forming layer containing the sol-gel conversion binder resin is used in combination with the hydrophilic resin and the crosslinking agent for the purpose of improving physical properties such as film strength and film flexibility and improving coating properties. It is also possible to do.

ゲル構造を形成するシロキサン樹脂は、下記一般式（Ｖ）で、又少なくとも一つのシラノール基を有するシラン化合物は、下記一般式（ＶＩ）で示される。又、画像形成層に添加される物質系は、必ずしも一般式（ＶＩ）のシラン化合物単独である必要はなく、一般には、シラン化合物が部分縮合したオリゴマーもしくは一般式（ＶＩ）のシラン化合物とオリゴマーの混合物あってもよい。   The siloxane resin forming the gel structure is represented by the following general formula (V), and the silane compound having at least one silanol group is represented by the following general formula (VI). In addition, the substance system added to the image forming layer does not necessarily need to be a silane compound of the general formula (VI) alone, and is generally an oligomer in which a silane compound is partially condensed or a silane compound and an oligomer of the general formula (VI). There may be a mixture of.

一般式（Ｖ）のシロキサン樹脂は、一般式（ＶＩ）で示されるシラン化合物の少なくとも１種を含有する分散液からゾル−ゲル変換によって形成される。ここで、一般式（Ｖ）のＲ⁰¹〜Ｒ⁰³の少なくとも一つは水酸基を表し、他は一般式（ＶＩ）中の記号Ｒ⁰及びＹから選ばれる有機残基を表す。 The siloxane resin of general formula (V) is formed by sol-gel conversion from a dispersion containing at least one silane compound represented by general formula (VI). Here, at least one of R ^{01 to} R ⁰³ in the general formula (V) represents a hydroxyl group, and the other represents an organic residue selected from the symbols R ⁰ and Y in the general formula (VI).

一般式（ＶＩ） （Ｒ⁰）_nＳｉ（Ｙ）_4-n Formula (VI) (R ⁰ ) _n Si (Y) _4-n

ここで、Ｒ⁰は水酸基、炭化水素基又はヘテロ環基を表す。Ｙは水素原子、ハロゲン原子、−ＯＲ¹、−ＯＣＯＲ²、又は−Ｎ（Ｒ³）（Ｒ⁴）を表す。Ｒ¹、Ｒ²は、それぞれ炭化水素基を表し、Ｒ³、Ｒ⁴は同じでも異なっていてもよく、炭化水素基又は水素原子を表す。ｎは０、１、２又は３を表す。 Here, R ⁰ represents a hydroxyl group, a hydrocarbon group or a heterocyclic group. Y represents a hydrogen atom, a halogen atom, —OR ¹ , —OCOR ² , or —N (R ³ ) (R ⁴ ). R ¹ and R ² each represent a hydrocarbon group, and R ³ and R ⁴ may be the same or different and each represents a hydrocarbon group or a hydrogen atom. n represents 0, 1, 2 or 3.

Ｒ⁰の炭化水素基又はヘテロ環基とは、例えば炭素数１〜１２の置換されてもよい直鎖状もしくは分岐状のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基等；これらの基に置換される基としては、ハロゲン原子（塩素原子、フッ素原子、臭素原子）、ヒドロキシル基、チオール基、カルボキシル基、スルホ基、シアノ基、エポキシ基、−ＯＲ'基（Ｒ'は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、２−ヒドロキシエチル基、３−クロロプロピル基、２−シアノエチル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル基、２−ブロモエチル基、２−（２−メトキシエチル）オキシエチル基、２−メトキシカルボニルエチル基、３−カルボキシエチル基、３−カルボキシプロピル基、ベンジル基等を示す）、 The hydrocarbon group or heterocyclic group for R ⁰ is, for example, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group). Group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group, etc .; these groups are substituted with halogen atom (chlorine atom, fluorine atom, bromine atom), hydroxyl group, thiol group , Carboxyl group, sulfo group, cyano group, epoxy group, —OR ′ group (R ′ is methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, propenyl group, butenyl group) Group, hexenyl group, octenyl group, 2-hydroxyethyl group, 3-chloropropyl group, 2-cyanoethyl group, N, N-dimethylaminoethyl group, 2-bromoethyl Til group, 2- (2-methoxyethyl) oxyethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 3-carboxyethyl group, 3-carboxypropyl group, benzyl group and the like),

−ＯＣＯＲ"基（Ｒ"は、前記Ｒ'と同一の内容を表す）、−ＣＯＯＲ"基、−ＣＯＲ"基、−Ｎ（Ｒ"'）（Ｒ"'）基（Ｒ"'は、水素原子又は前記Ｒ'と同一内容を表し、それぞれ同一でも異なってもよい）、−ＮＨＣＯＮＨＲ"基、−ＮＨＣＯＯＲ"基、―Ｓｉ（Ｒ"）₃基、−ＣＯＮＨＲ"基等が挙げられる。これらの置換基はアルキル基中に複数置換されてもよい。炭素数２〜１２の置換されてもよい直鎖状又は分岐状のアルケニル基（例えば、
ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、デセニル基、ドデセニル基等；これらの基に置換される基としては、前記アルキル基に置換される基と同一内容のものが挙げられる）、炭素数７〜１４の置換されてもよいアラルキル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、２−ナフチルエチル基等；これらに置換される基としては、前記アルキル基に置換される基と同一内容のものが挙げられ、又複数個置換されてもよい）、炭素数５〜１０の置換されてもよい脂環式基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、２−シクロヘキシルエチル基、ノルボニル基、アダマンチル基等；これらに置換される基としては、前記アルキル基に置換される基と同一内容のものが挙げられ、又複数個置換されてもよい）、炭素数６〜１２の置換されてもよいアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基で、置換基としては、前記アルキル基に置換される基と同一内容のものが挙げられ、又複数個置換されてもよい）、又は、窒素原子、酸素原子、イオウ原子から選ばれる少なくとも１種の原子を含有する縮環してもよいヘテロ環基（例えば、ピラン環、フラン環、チオフェン環、モルホリン環、ピロール環、チアゾール環、オキサゾール環、ピリジン環、ピペリジン環、ピロリドン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、テトラヒドロフラン環等で、置換基を含有してもよい。置換基としては、前記アルキル基に置換される基と同一内容のものが挙げられ、又複数個置換されてもよい）、を表す。 -OCOR "group (R" represents the same contents as R '), -COOR "group, -COR" group, -N (R "') (R"') group (R "' is hydrogen Atoms or the same content as R ′, which may be the same or different from each other), —NHCONHR ″ group, —NHCOOR ″ group, —Si (R ″) ₃ group, —CONHR ″ group and the like. A plurality of substituents may be substituted in an alkyl group, and may be a linear or branched alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms (for example,
Vinyl group, propenyl group, butenyl group, pentenyl group, hexenyl group, octenyl group, decenyl group, dodecenyl group, etc .; the group substituted by these groups has the same content as the group substituted by the alkyl group. Aralkyl groups having 7 to 14 carbon atoms which may be substituted (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, etc.); Includes those having the same content as the group to be substituted with the alkyl group, and may be substituted in plural, or an alicyclic group having 5 to 10 carbon atoms (for example, a cyclopentyl group, A cyclohexyl group, a 2-cyclohexylethyl group, a norbornyl group, an adamantyl group, and the like; One content may be mentioned, and a plurality of them may be substituted), an aryl group having 6 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example, a phenyl group or a naphthyl group, and the substituent is the above alkyl group). The same as the group to be substituted may be mentioned, or a plurality of groups may be substituted), or a condensed ring containing at least one atom selected from a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom may be used. Heterocyclic groups (eg, pyran ring, furan ring, thiophene ring, morpholine ring, pyrrole ring, thiazole ring, oxazole ring, pyridine ring, piperidine ring, pyrrolidone ring, benzothiazole ring, benzoxazole ring, quinoline ring, tetrahydrofuran ring, etc. Examples of the substituent include those having the same content as the group substituted with the alkyl group, and a plurality of the substituents may be substituted. It may also be), representing a.

一般式（ＶＩ）のＹの−ＯＲ¹基、−ＯＣＯＲ²基又は−Ｎ（Ｒ³）（Ｒ⁴）基の置換基としては、例えば以下の置換基を表す。−ＯＲ¹基において，Ｒ¹は炭素数１〜１０の置換されてもよい脂肪族基〔例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、ペンチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘプテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、デセニル基、２−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシプロピル基、２−メトキシエチル基、２−（２−メトキシエチル）オキシエチル基、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル基、２−メトキシプロピル基、２−シアノエチル基、３−メチルオキシプロピル基、２−クロロエチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、シクロオクチル基、クロロシクロヘキシル基、メトキシシクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、ジメトキシベンジル基、メチルベンジル基、ブロモベンジル基等が挙げられる〕を表す。 Examples of the substituent of the —OR ¹ group, —OCOR ² group, or —N (R ³ ) (R ⁴ ) group of Y in the general formula (VI) include the following substituents. In the —OR ¹ group, R ¹ is an optionally substituted aliphatic group having 1 to 10 carbon atoms [eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, pentyl group, octyl group, Nonyl group, decyl group, propenyl group, butenyl group, heptenyl group, hexenyl group, octenyl group, decenyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-hydroxypropyl group, 2-methoxyethyl group, 2- (2-methoxyethyl) Oxyethyl group, 2- (N, N-dimethylamino) ethyl group, 2-methoxypropyl group, 2-cyanoethyl group, 3-methyloxypropyl group, 2-chloroethyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, cyclooctyl group, chloro Cyclohexyl, methoxycyclohexyl, benzyl, phenethyl, dimethoxybenzyl, methyl A rubenzyl group, a bromobenzyl group, and the like.

−ＯＣＯＲ²基においてＲ²はＲ¹と同一の内容の脂肪族基又は炭素数６〜１２の置換されてもよい芳香族基（芳香族基としては、前記Ｒのアリール基で例示したと同様のものが挙げられる）を表す。又、−Ｎ（Ｒ³）（Ｒ⁴）基において、Ｒ³、Ｒ⁴は、互いに同じでも異なってもよく、それぞれ水素原子又は炭素数１〜１０の置換されてもよい脂肪族基（例えば、前記の−ＯＲ¹基のＲ¹と同様の内容のものが挙げられる）を表す。より好ましくは，Ｒ³とＲ⁴の炭素数の総和が１６以内である。一般式（ＶＩ）で示されるシラン化合物の具体例としては、以下のものが挙げられるが、これに限定されるものではない。 In the —OCOR ² group, R ² is an aliphatic group having the same content as R ¹ or an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms which may be substituted (the aromatic group is the same as that exemplified for the aryl group of R above. Are included). In the —N (R ³ ) (R ⁴ ) group, R ³ and R ⁴ may be the same as or different from each other, and each is a hydrogen atom or an aliphatic group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted (for example, And those having the same contents as R ¹ of the —OR ¹ group. More preferably, the total number of carbon atoms of R ³ and R ⁴ is 16 or less. Specific examples of the silane compound represented by the general formula (VI) include the following, but are not limited thereto.

テトラクロルシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラｎ−プロピルシラン、メチルトリクロルシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリクロルシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリクロルシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、フェニルトリクロルシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジメトキシジトリエトキシシラン、ジメチルジクロルシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、トリエトキシヒドロシラン、トリメトキシヒドロシラン、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシ
ラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどが挙げられる。 Tetrachlorosilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetra n-propylsilane, methyltrichlorosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrichlorosilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane , N-propyltrichlorosilane, n-propyltrimethoxysilane, n-hexyltrimethoxysilane, n-decyltrimethoxysilane, phenyltrichlorosilane, phenyltrimethoxysilane, dimethoxyditriethoxysilane, dimethyldichlorosilane, dimethyldimethoxysilane , Diphenyldimethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, triethoxyhydrosilane, trimethoxyhydrosilane, vinyltrichlorosilane, Nyltrimethoxysilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-methacryloxyxypropyltri Methoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, β- (3,4- (Epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane and the like.

画像形成層には一般式（ＶＩ）のシラン化合物と共に、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ａｌ等のゾル−ゲル変換の際に樹脂に結合して製膜可能な金属化合物を併用することができる。用いられる金属化合物として、例えば、Ｔｉ（ＯＲ"）₄、ＴｉＣｌ₄、Ｚｎ（ＯＲ"）₂、Ｚｎ（ＣＨ₃ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃）₂、Ｓｎ（ＯＲ"）₄、Ｓｎ（ＣＨ₃ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃）₄、Ｓｎ（ＯＣＯＲ"）₄、ＳｎＣｌ₄、Ｚｒ（ＯＲ"）₄、Ｚｒ（ＣＨ₃ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃）₄、（ＮＨ₄）₂ＺｒＯ（ＣＯ₃）₂、Ａｌ（ＯＲ"）₃、Ａｌ（ＣＨ₃ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃）₃等が挙げられる。ここでＲ"は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、又はヘキシル基等を表す。 In the image forming layer, together with the silane compound of the general formula (VI), a metal compound capable of forming a film by bonding to a resin during sol-gel conversion such as Ti, Zn, Sn, Zr, and Al can be used in combination. . Examples of the metal compound used include Ti (OR ") ₄ , TiCl ₄ , Zn (OR") ₂ , Zn (CH ₃ COCHCOCH ₃ ) ₂ , Sn (OR ") ₄ , Sn (CH ₃ COCHCOCH ₃ ) ₄ , _{sn (OCOR ") 4, SnCl} 4, Zr (OR") 4, Zr (CH 3 COCHCOCH 3) 4, (NH 4) 2 ZrO (CO 3) 2, Al (OR ") 3, Al (CH 3 COCHCOCH ₃ ) ₃ etc. Here, R ″ represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, or the like.

更に一般式（ＶＩ）で示される化合物、更に併用する前記金属化合物の加水分解及び重縮合反応を促進するために、酸性触媒又は塩基性触媒を併用することが好ましい。触媒は、酸又は塩基性化合物をそのままか、又は水もしくはアルコールなどの溶媒に溶解させた状態のもの（以下、それぞれ酸性触媒、塩基性触媒という）を用いる。その時の濃度については特に限定しないが、濃度が濃い場合は加水分解、重縮合速度が速くなる傾向がある。
ただし、濃度の濃い塩基性触媒を用いると、ゾル溶液中で沈殿物が生成する場合があるため、塩基性触媒の濃度は１Ｎ（水溶液での濃度換算）以下が望ましい。 Furthermore, in order to accelerate the hydrolysis and polycondensation reaction of the compound represented by the general formula (VI) and the metal compound used in combination, it is preferable to use an acidic catalyst or a basic catalyst in combination. As the catalyst, an acid or a basic compound is used as it is or in a state in which it is dissolved in a solvent such as water or alcohol (hereinafter referred to as an acidic catalyst and a basic catalyst, respectively). The concentration at that time is not particularly limited, but when the concentration is high, the hydrolysis and polycondensation rates tend to increase.
However, when a basic catalyst having a high concentration is used, a precipitate may be generated in the sol solution. Therefore, the concentration of the basic catalyst is preferably 1 N (concentration in aqueous solution) or less.

酸性触媒の具体例としては、塩酸などのハロゲン化水素酸、硝酸、硫酸、亜硫酸、硫化水素、過塩素酸、過酸化水素、炭酸、蟻酸や酢酸などのカルボン酸、ベンゼンスルホン酸などのスルホン酸が挙げられる。塩基性触媒の具体例としては、アンモニア水などのアンモニア性塩基、エチルアミンやアニリンなどのアミン類などが挙げられるが、これらに限定されない。   Specific examples of the acidic catalyst include hydrohalic acid such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, sulfurous acid, hydrogen sulfide, perchloric acid, hydrogen peroxide, carbonic acid, carboxylic acid such as formic acid and acetic acid, and sulfonic acid such as benzenesulfonic acid. Is mentioned. Specific examples of the basic catalyst include, but are not limited to, an ammoniacal base such as aqueous ammonia and amines such as ethylamine and aniline.

以上述べたゾル−ゲル法を用いた画像形成層は、本発明に係る画像形成層の構成として特に好ましい。上記ゾル−ゲル法の更に詳細は、作花済夫著「ゾル−ゲル法の科学」（株）アグネ承風社刊（１９８８年）、平島碩著「最新ゾル−ゲル法による機能性薄膜作成技術」総合技術センター刊（１９９２年）等に記載されている。   The image forming layer using the sol-gel method described above is particularly preferable as the configuration of the image forming layer according to the present invention. For further details on the sol-gel method, see Sakuo Sakuo, “Science of Sol-Gel Method”, published by Agne Jofusha Co., Ltd. (1988), Satoshi Hirashima “Functional Thin Film Preparation by Latest Sol-Gel Method” Technology ", published by the General Technology Center (1992).

架橋構造を有する画像形成層における親水性樹脂の添加量は、画像形成層固形分の５〜７０質量％が好ましく、５〜５０質量％がさらに好ましい。   The amount of the hydrophilic resin added to the image forming layer having a crosslinked structure is preferably 5 to 70% by mass, more preferably 5 to 50% by mass, based on the solid content of the image forming layer.

また、上記画像形成層の厚さは、０．１〜１０μｍとするのが、耐刷性の点で好ましく、０．５〜５μｍとするのがさらに好ましい。   In addition, the thickness of the image forming layer is preferably 0.1 to 10 μm from the viewpoint of printing durability, and more preferably 0.5 to 5 μm.

〔支持体〕
本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体は、親水性であれば特に限定されず、寸度的に安定な板状物であればよい。例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）、上述した金属がラミネートされ又は蒸着された紙又はプラスチックフィルム等が挙げられる。好ましい支持体としては、ポリエステルフィルム及びアルミニウム板が挙げられる。中でも、寸法安定性がよく、比較的安価であるアル
ミニウム板が好ましい。 [Support]
The support used in the lithographic printing plate precursor according to the invention is not particularly limited as long as it is hydrophilic, and may be a dimensionally stable plate-like material. For example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate) Cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic films on which the above-mentioned metals are laminated or deposited. A preferable support includes a polyester film and an aluminum plate. Among these, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is preferable.

アルミニウム板は、純アルミニウム板、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、又は、アルミニウムもしくはアルミニウム合金の薄膜にプラスチックがラミネートされているものである。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は１０質量％以下であるのが好ましい。本発明においては、純アルミニウム板が好ましいが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、わずかに異元素を含有するものでもよい。アルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、公知公用の素材のものを適宜利用することができる。   The aluminum plate is a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign elements, or a plastic laminated on a thin film of aluminum or an aluminum alloy. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is preferably 10% by mass or less. In the present invention, a pure aluminum plate is preferable, but completely pure aluminum is difficult to manufacture in terms of refining technology, and therefore may contain a slightly different element. The composition of the aluminum plate is not specified, and a publicly known material can be used as appropriate.

支持体の厚さは０．１〜０．６ｍｍであるのが好ましく、０．１５〜０．４ｍｍであるのがより好ましく、０．２〜０．３ｍｍであるのが更に好ましい。   The thickness of the support is preferably from 0.1 to 0.6 mm, more preferably from 0.15 to 0.4 mm, and even more preferably from 0.2 to 0.3 mm.

アルミニウム板を使用するに先立ち、粗面化処理、親水性皮膜形成等の表面処理を施すのが好ましい。表面処理により、親水性の向上及び画像形成層と支持体との密着性の確保が容易になる。アルミニウム板を粗面化処理するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための界面活性剤、有機溶剤、アルカリ性水溶液等による脱脂処理が行われる。   Prior to using the aluminum plate, it is preferable to perform a surface treatment such as roughening treatment or hydrophilic film formation. By the surface treatment, it becomes easy to improve hydrophilicity and secure adhesion between the image forming layer and the support. Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution or the like for removing rolling oil on the surface is performed as desired.

＜粗面化処理＞
アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理（電気化学的に表面を溶解させる粗面化処理）、化学的粗面化処理（化学的に表面を選択溶解させる粗面化処理）が挙げられる。
機械的粗面化処理の方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。
電気化学的粗面化処理の方法としては、例えば、塩酸、硝酸等の酸を含有する電解液中で交流又は直流により行う方法が挙げられる。また、特開昭５４−６３９０２号公報に記載されているような混合酸を用いる方法も挙げられる。 <Roughening treatment>
The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, mechanical surface roughening treatment, electrochemical surface roughening treatment (surface roughening treatment for dissolving the surface electrochemically), chemical treatment, etc. Surface roughening treatment (roughening treatment that chemically selectively dissolves the surface).
As a method for the mechanical surface roughening treatment, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used.
Examples of the electrochemical surface roughening treatment include a method in which an alternating current or a direct current is used in an electrolytic solution containing an acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Another example is a method using a mixed acid as described in JP-A-54-63902.

＜親水性皮膜の形成＞
以上のようにして粗面化処理および必要に応じて他の処理を施されたアルミニウム板に、低熱伝導率の親水性皮膜を設けるための処理を施す。親水性皮膜は、膜厚方向の熱伝導率が０．０５Ｗ／ｍＫ以上であり、好ましくは０．０８Ｗ／ｍＫ以上であり、また、０．５Ｗ／ｍＫ以下であり、好ましくは０．３Ｗ／ｍＫ以下であり、より好ましくは０．２Ｗ／ｍＫ以下である。膜厚方向の熱伝導率を０．０５〜０．５Ｗ／ｍＫとすると、レーザー光の露光により画像形成層に発生する熱が支持体に拡散することを抑制することができる。その結果、本発明の平版印刷版原版を機上現像タイプ、無処理型として用いる場合には、レーザー露光により発生する熱を有効に利用可能となるため感度が高くなり、十分な画像形成及び焼き出し画像形成が可能となる。 <Formation of hydrophilic film>
A treatment for providing a hydrophilic film having a low thermal conductivity is applied to the aluminum plate that has been subjected to the roughening treatment and other treatments as necessary. The hydrophilic film has a thermal conductivity in the film thickness direction of 0.05 W / mK or more, preferably 0.08 W / mK or more, and 0.5 W / mK or less, preferably 0.3 W / m. mK or less, more preferably 0.2 W / mK or less. When the thermal conductivity in the film thickness direction is 0.05 to 0.5 W / mK, it is possible to suppress the diffusion of heat generated in the image forming layer due to laser light exposure to the support. As a result, when the lithographic printing plate precursor according to the present invention is used as an on-press development type or an unprocessed type, heat generated by laser exposure can be used effectively, so that the sensitivity is increased and sufficient image formation and printing are performed. It is possible to form an output image.

以下、本発明で規定する親水性皮膜の膜厚方向の熱伝導率について説明する。薄膜の熱伝導率測定方法としては種々の方法がこれまでに報告されている。１９８６年にはＯＮＯらがサーモグラフを用いて薄膜の平面方向の熱伝導率を報告している。また、薄膜の熱物性の測定に交流加熱方法を応用する試みも報告されている。交流加熱法はその起源を１８６３年の報告にまでさかのぼることができるが、近年においては、レーザーによる加熱方法の開発やフーリエ変換との組み合わせにより様々な測定法が提案されている。レーザーオングストローム法を用いた装置は実際に市販もされている。これらの方法はいずれも薄膜の平面方向（面内方向）の熱伝導率を求めるものである。   Hereinafter, the thermal conductivity in the film thickness direction of the hydrophilic film defined in the present invention will be described. Various methods have been reported so far for measuring the thermal conductivity of thin films. In 1986, ONO et al. Reported the thermal conductivity in the planar direction of the thin film using a thermograph. Attempts have also been made to apply an AC heating method to the measurement of thermophysical properties of thin films. The origin of the AC heating method can be traced back to the report of 1863, but in recent years, various measurement methods have been proposed by combining a heating method using a laser and a Fourier transform. Devices using the laser angstrom method are actually commercially available. All of these methods determine the thermal conductivity in the plane direction (in-plane direction) of the thin film.

しかし、薄膜の熱伝導を考える際にはむしろ深さ方向への熱拡散が重要な因子である。
種々報告されているように薄膜の熱伝導率は等方的でないといわれており、特に本発明のような場合には直接、膜厚方向の熱伝導率を計測することが極めて重要である。このような観点から薄膜の膜厚方向の熱物性を測定する試みとしてサーモコンパレータを用いた方法がＬａｍｂｒｏｐｏｕｌｏｓらの論文（Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，６６（９）（１Ｎｏｖｅｍｂｅｒ １９８９））及びＨｅｎａｇｅｒらの論文（ＡＰＰＬＩＥＤ ＯＰＴＩＣＳ，Ｖｏｌ．３２，Ｎｏ．１（１ Ｊａｎｕａｒｙ １９９３））で報告されている。更に、近年、ポリマー薄膜の熱拡散率を、フーリエ解析を適用した温度波熱分析により測定する方法が橋本らによって報告されている（Ｎｅｔｓｕ Ｓｏｋｕｔｅｉ，２７（３）（２０００））。 However, when considering the thermal conduction of thin films, thermal diffusion in the depth direction is rather an important factor.
As reported variously, it is said that the thermal conductivity of the thin film is not isotropic, and it is extremely important to directly measure the thermal conductivity in the film thickness direction particularly in the case of the present invention. From this point of view, a method using a thermocomparator as an attempt to measure the thermophysical properties in the film thickness direction of a thin film is described in a paper by Lambropoulos et al. It is reported in a paper (APPLIED OPTICS, Vol. 32, No. 1 (1 January 1993)). Furthermore, in recent years, a method for measuring the thermal diffusivity of a polymer thin film by temperature wave thermal analysis using Fourier analysis has been reported by Hashimoto et al. (Net Sukutei, 27 (3) (2000)).

本発明で規定する親水性皮膜の膜厚方向の熱伝導率は、上記サーモコンパレータを用いる方法で測定される。以下、上記方法を具体的に説明するが、上記方法の基本的な原理については、上述したＬａｍｂｒｏｐｏｕｌｏｓらの論文及びＨｅｎａｇｅｒらの論文に詳細に記載されている。本発明では、特開２００３−１０３９５１号公報の図３に示されているサーモコンパレータを用い、同公報に記載の方法で測定した。   The thermal conductivity in the film thickness direction of the hydrophilic film defined in the present invention is measured by the method using the thermo-comparator. Hereinafter, the method will be described in detail. The basic principle of the method is described in detail in the above-mentioned Lambropoulos et al. Paper and Henger et al. Paper. In the present invention, the measurement was performed by the method described in the publication using a thermo-comparator shown in FIG. 3 of JP-A-2003-103951.

上記各温度と皮膜の熱伝導率の関係は、下記式（１）のようになる。   The relationship between each temperature and the thermal conductivity of the film is expressed by the following formula (1).

ただし、上記式（１）中の符号は、以下の通りである。
Ｔ_t ：チップ先端温度、Ｔ_b ：ヒートシンク温度、Ｔ_r ：リザーバ温度、Ｋ_tf：皮膜熱伝導率、Ｋ₁ ：リザーバ熱伝導率、Ｋ₂ ：チップ熱伝導率（無酸素銅の場合、４００Ｗ／ｍＫ）、Ｋ₄ ：（皮膜を設けない場合の）金属基体熱伝導率、ｒ₁ ：チップ先端曲率半径、Ａ₂ ：リザーバとチップとの接触面積、Ａ₃ ：チップと皮膜との接触面積、ｔ：膜厚、ｔ₂ ：接触厚み（≒０） However, the code | symbol in said Formula (1) is as follows.
T _t : tip temperature, T _b : heat sink temperature, T _r : reservoir temperature, K _tf : film thermal conductivity, K ₁ : reservoir thermal conductivity, K ₂ : chip thermal conductivity (400 W for oxygen-free copper) / MK), K ₄ : metal substrate thermal conductivity (when no film is provided), r ₁ : tip tip radius of curvature, A ₂ : contact area between reservoir and chip, A ₃ : contact area between chip and film , T: film thickness, t ₂ : contact thickness (≈0)

膜厚（ｔ）を変化させて各温度（Ｔ_t 、Ｔ_b 及びＴ_r ）を測定しプロットすることにより、上記式（１）の傾きを求め、皮膜熱伝導率（Ｋ_tf）を求めることができる。即ち、この傾きは上記式（１）から明らかなように、リザーバ熱伝導率（Ｋ₁ ）、チップ先端の曲率半径（ｒ₁ ）、皮膜熱伝導率（Ｋ_tf）及びチップと皮膜との接触面積（Ａ₃ ）によって決まる値であり、Ｋ₁ 、ｒ₁ 及びＡ₃は、既知の値であるから、傾きからＫ_tfの値を求めることができる。 By measuring and plotting each temperature (T _t , T _b and T _r ) while changing the film thickness (t), the slope of the above equation (1) is obtained, and the film thermal conductivity (K _tf ) is obtained. Can do. That is, as is apparent from the above equation (1), this inclination is the reservoir thermal conductivity (K ₁ ), the tip radius of curvature (r ₁ ), the film thermal conductivity (K _tf ), and the contact between the chip and the film. Since it is a value determined by the area (A ₃ ) and K ₁ , r ₁ and A ₃ are known values, the value of K _tf can be obtained from the slope.

本発明者らは、上記の測定方法を用いてアルミニウム基板上に設けた親水性皮膜（陽極酸化皮膜Ａｌ₂ Ｏ₃ ）の熱伝導率を求めた。膜厚を変えて温度を測定し、その結果のグラフの傾きから求められたＡｌ₂ Ｏ₃ の熱伝導率は、０． ６９Ｗ／ｍＫであった。これは、上述したＬａｍｂｒｏｐｏｕｌｏｓらの論文の結果とよい一致を示している。そして、この結果は、薄膜の熱物性値がバルクの熱物性値（バルクのＡｌ₂ Ｏ₃ の熱伝導率は、２８Ｗ／ｍＫ）とは異なることも示している。 The present inventors determined the thermal conductivity of the hydrophilic film (anodized film Al ₂ O ₃ ) provided on the aluminum substrate using the above measurement method. The temperature was measured while changing the film thickness, and the thermal conductivity of Al ₂ O ₃ obtained from the slope of the graph was 0. It was 69 W / mK. This is in good agreement with the results of the above-mentioned Lambropoulos et al. This result also shows that the thermophysical value of the thin film is different from the bulk thermophysical value (the thermal conductivity of bulk Al ₂ O ₃ is 28 W / mK).

本発明の平版印刷版原版の親水性皮膜の膜厚方向の熱伝導率の測定に上記方法を用いると、チップ先端を微小なものにし、かつ、押し付け荷重を一定に保つことにより、平版印刷版用に粗面化された表面についてもバラツキのない結果を得ることができるので好まし
い。熱伝導率の値は、試料上の異なる複数の点、例えば、５点で測定し、その平均値として求めるのが好ましい。 When the above method is used to measure the thermal conductivity in the film thickness direction of the hydrophilic film of the lithographic printing plate precursor according to the present invention, the tip end is made minute and the lithographic printing plate is kept constant by keeping the pressing load constant. For the surface roughened for the purpose, it is preferable because a result without variation can be obtained. The value of thermal conductivity is preferably measured at a plurality of different points on the sample, for example, 5 points, and obtained as an average value.

親水性皮膜の膜厚は、傷付きにくさ及び耐刷性の点で、０．１μｍ以上であるのが好ましく、０．３μｍ以上であるのがより好ましく、０．６μｍ以上であるのが特に好ましく、また、製造コストの観点から、厚い皮膜を設けるためには多大なエネルギーを必要とすることを鑑みると、５μｍ以下であるのが好ましく、３μｍ以下であるのがより好ましく、２μｍ以下であるのが特に好ましい。   The film thickness of the hydrophilic film is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.3 μm or more, particularly 0.6 μm or more in terms of scratch resistance and printing durability. Preferably, from the viewpoint of manufacturing cost, in view of the fact that a great amount of energy is required to provide a thick film, it is preferably 5 μm or less, more preferably 3 μm or less, and 2 μm or less. Is particularly preferred.

上記親水性皮膜は、断熱性への効果及び皮膜強度、印刷での汚れ難さの観点から、密度が１０００〜３２００ｋｇ／ｍ³ であることが好ましい。 The hydrophilic film preferably has a density of 1000 to 3200 kg / m ³ from the viewpoint of the effect on heat insulation, the film strength, and the difficulty of smearing in printing.

密度の測定法としては、例えば、メイソン法（クロム酸／リン酸混合液溶解による陽極酸化皮膜質量法）による質量測定と、断面をＳＥＭで観察して求めた膜厚から、以下の式によって算出することができる。   As the density measurement method, for example, it is calculated by the following formula from the mass measurement by the Mason method (anodized film mass method by dissolution of chromic acid / phosphoric acid mixed solution) and the film thickness obtained by observing the cross section with SEM. can do.

密度（ｋｇ／ｍ³ ）＝（単位面積あたりの親水性皮膜質量／膜厚） Density (kg / m ³ ) = (Hydrophilic film mass / film thickness per unit area)

親水性皮膜を設ける方法としては、特に限定されず、陽極酸化法、蒸着法、ＣＶＤ法、ゾルゲル法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、拡散法等を適宜用いることができる。また、親水性樹脂又はゾルゲル液に中空粒子を混合した溶液を塗布する方法を用いることもできる。   The method for providing the hydrophilic film is not particularly limited, and an anodic oxidation method, a vapor deposition method, a CVD method, a sol-gel method, a sputtering method, an ion plating method, a diffusion method, and the like can be appropriately used. Moreover, the method of apply | coating the solution which mixed the hollow particle in hydrophilic resin or sol-gel liquid can also be used.

中でも、陽極酸化法により酸化物を作成する処理、即ち、陽極酸化処理を用いるのが最も好適である。陽極酸化処理はこの分野で従来行われている方法で行うことができる。具体的には、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等の単独の又は２種以上を組み合わせた水溶液又は非水溶液の中で、アルミニウム板に直流又は交流を流すと、アルミニウム板の表面に、親水性皮膜である陽極酸化皮膜を形成することができる。陽極酸化処理の条件は、使用される電解液によって種々変化するので一概に決定され得ないが、一般的には電解液濃度１〜８０質量％、液温５〜７０℃、電流密度０．５〜６０Ａ／ｄｍ² 、電圧１〜２００Ｖ、電解時間１〜１０００秒であるのが適当である。これらの陽極酸化処理の中でも、英国特許第１，４１２，７６８号明細書に記載されている、硫酸電解液中で高電流密度にて陽極酸化処理する方法、及び、米国特許第３，５１１，６６１号明細書に記載されている、リン酸を電解浴として陽極酸化処理する方法が好ましい。また、硫酸中で陽極酸化処理し、更にリン酸中で陽極酸化処理するなどの多段陽極酸化処理を施すこともできる。 Among them, it is most preferable to use an anodizing process, that is, an anodizing process. The anodizing treatment can be performed by a method conventionally used in this field. Specifically, when direct current or alternating current is applied to an aluminum plate in an aqueous solution or non-aqueous solution of sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, oxalic acid, sulfamic acid, benzenesulfonic acid, etc., alone or in combination of two or more. An anodized film that is a hydrophilic film can be formed on the surface of the aluminum plate. The conditions for anodizing treatment vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be determined unconditionally. In general, however, the electrolyte concentration is 1 to 80% by mass, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 0.5. ˜60 A / dm ² , voltage 1 to 200 V, electrolysis time 1 to 1000 seconds are appropriate. Among these anodizing treatments, a method for anodizing at a high current density in a sulfuric acid electrolyte solution described in British Patent No. 1,412,768, and US Pat. No. 3,511, A method of anodizing treatment using phosphoric acid as an electrolytic bath described in the specification of No. 661 is preferable. Further, multi-stage anodizing treatment such as anodizing treatment in sulfuric acid and further anodizing treatment in phosphoric acid can be performed.

本発明においては、陽極酸化皮膜は、傷付きにくさ及び耐刷性の点で、０．１ｇ／ｍ² 以上であるのが好ましく、０．３ｇ／ｍ² 以上であるのがより好ましく、２ｇ／ｍ² 以上であるのが特に好ましく、３．２ｇ／ｍ² 以上であるのがさらに好ましい。また、厚い皮膜を設けるためには多大なエネルギーを必要とすることを鑑みると、１００ｇ／ｍ² 以下であるのが好ましく、４０ｇ／ｍ² 以下であるのがより好ましく、２０ｇ／ｍ² 以下であるのが特に好ましい。 In the present invention, the anodized film is preferably 0.1 g / m ² or more, more preferably 0.3 g / m ² or more in terms of scratch resistance and printing durability. / M ² or more is particularly preferable, and 3.2 g / m ² or more is more preferable. In view of the fact that enormous energy is required to provide a thick film, it is preferably 100 g / m ² or less, more preferably 40 g / m ² or less, and 20 g / m ² or less. It is particularly preferred.

陽極酸化皮膜には、その表面にマイクロポアと呼ばれる微細な凹部が一様に分布して形成されている。陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアの密度は、処理条件を適宜選択することによって調整することができる。マイクロポアの密度を高くすることにより、陽極酸化皮膜の膜厚方向の熱伝導率を０．０５〜０．５Ｗ／ｍＫとすることができる。また、マイクロポアの径は、処理条件を適宜選択することによって調整することができる。マイクロポアの径を大きくすることにより、陽極酸化皮膜の膜厚方向の熱伝導率を０．０５〜０
．５Ｗ／ｍＫとすることができる。また、マイクロポアの径は、処理条件を適宜選択することによって調整することができる。マイクロポアの径を大きくすることにより、陽極酸化皮膜の膜厚方向の熱伝導率を０．０５〜０．５Ｗ／ｍＫとすることができる。 On the surface of the anodized film, fine recesses called micropores are uniformly distributed. The density of micropores present in the anodized film can be adjusted by appropriately selecting the treatment conditions. By increasing the density of the micropores, the thermal conductivity in the film thickness direction of the anodized film can be set to 0.05 to 0.5 W / mK. Further, the diameter of the micropores can be adjusted by appropriately selecting the processing conditions. By increasing the diameter of the micropore, the thermal conductivity in the film thickness direction of the anodized film is 0.05-0.
. 5 W / mK. Further, the diameter of the micropores can be adjusted by appropriately selecting the processing conditions. By increasing the diameter of the micropore, the thermal conductivity in the film thickness direction of the anodized film can be 0.05 to 0.5 W / mK.

本発明においては、熱伝導率を下げる目的で、陽極酸化処理の後、マイクロポアのポア径を拡げるポアワイド処理を行うことが好ましい。このポアワイド処理は、陽極酸化皮膜が形成されたアルミニウム基板を酸水溶液又はアルカリ水溶液に浸漬することにより、陽極酸化皮膜を溶解し、マイクロポアのポア径を拡大するものである。ポアワイド処理は、陽極酸化皮膜の溶解量が、好ましくは０．０１〜２０ｇ／ｍ² 、より好ましくは０．１〜５ｇ／ｍ² 、特に好ましくは０．２〜４ｇ／ｍ² となる範囲で行われる。 In the present invention, for the purpose of lowering the thermal conductivity, it is preferable to perform a pore wide treatment for expanding the pore diameter of the micropore after the anodizing treatment. In this pore wide treatment, an aluminum substrate on which an anodized film is formed is immersed in an acid aqueous solution or an aqueous alkali solution to dissolve the anodized film and expand the pore diameter of the micropore. In the pore wide treatment, the amount of dissolution of the anodized film is preferably 0.01 to 20 g / m ² , more preferably 0.1 to 5 g / m ² , and particularly preferably 0.2 to 4 g / m ^2. Done.

ポアワイド処理に酸水溶液を用いる場合は、硫酸、リン酸、硝酸、塩酸等の無機酸又はこれらの混合物の水溶液を用いることが好ましい。酸水溶液の濃度は１０〜１０００ｇ／Ｌであるのが好ましく、２０〜５００ｇ／Ｌであるのがより好ましい。酸水溶液の温度は、１０〜９０℃であるのが好ましく、３０〜７０℃であるのがより好ましい。酸水溶液への浸漬時間は、１〜３００秒であるのが好ましく、２〜１００秒であるのがより好ましい。一方、ポアワイド処理にアルカリ水溶液を用いる場合は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム及び水酸化リチウムからなる群から選ばれる少なくとも一つのアルカリの水溶液を用いることが好ましい。アルカリ水溶液のｐＨは、１０〜１３であるのが好ましく、１１．５〜１３．０であるのがより好ましい。アルカリ水溶液の温度は、１０〜９０℃であるのが好ましく、３０〜５０℃であるのがより好ましい。アルカリ水溶液への浸漬時間は、１〜５００秒であるのが好ましく、２〜１００秒であるのがより好ましい。しかしながら、最表面のマイクロポア径を拡大しすぎると、印刷時の汚れ性能が劣化することから、最表面のマイクロポア径は４０ｎｍ以下にすることが好ましく、２０ｎｍ以下にすることがより好ましく、１０ｎｍ以下にすることが最も好ましい。したがって、断熱性と汚れ性能を両立する。より好ましい陽極酸化皮膜形状としては、表面のマイクロポア径が０〜４０ｎｍで、内部のマイクロポア径が２０〜３００ｎｍである。例えば、電解液の種類が同じであれば、電解によって、生成するポアのポア径は電解時の電解電圧に比例することが知られている。その性質を利用して電解電圧を徐々に上昇させていくことで底部分の拡がったポアが生成する方法を用いることができる。また、電解液の種類を変えるとポア径が変化することが知られていて、硫酸、シュウ酸、リン酸の順にポア径が大きくなる。従って、１段階目に電解液に硫酸を用いて、２段階目にリン酸を用いて陽極酸化する方法を用いることができる。また、陽極酸化処理、及びあるいはポアワイド処理して得られた支持体に後述の封孔処理を行ってもよい。   When using an acid aqueous solution for pore wide treatment, it is preferable to use an aqueous solution of an inorganic acid such as sulfuric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, or a mixture thereof. The concentration of the acid aqueous solution is preferably 10 to 1000 g / L, and more preferably 20 to 500 g / L. The temperature of the acid aqueous solution is preferably 10 to 90 ° C, and more preferably 30 to 70 ° C. The immersion time in the acid aqueous solution is preferably 1 to 300 seconds, and more preferably 2 to 100 seconds. On the other hand, when an alkaline aqueous solution is used for pore wide treatment, it is preferable to use an aqueous solution of at least one alkali selected from the group consisting of sodium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide. The pH of the alkaline aqueous solution is preferably 10 to 13, and more preferably 11.5 to 13.0. The temperature of the aqueous alkali solution is preferably 10 to 90 ° C, and more preferably 30 to 50 ° C. The immersion time in the alkaline aqueous solution is preferably 1 to 500 seconds, and more preferably 2 to 100 seconds. However, if the micropore diameter on the outermost surface is enlarged too much, the stain performance at the time of printing deteriorates. Therefore, the micropore diameter on the outermost surface is preferably 40 nm or less, more preferably 20 nm or less. The following is most preferable. Therefore, both heat insulation and dirt performance are achieved. As a more preferable anodic oxide film shape, the surface micropore diameter is 0 to 40 nm and the internal micropore diameter is 20 to 300 nm. For example, it is known that if the type of the electrolytic solution is the same, the pore diameter of the pore generated by electrolysis is proportional to the electrolytic voltage during electrolysis. A method in which pores having an expanded bottom portion can be generated by gradually increasing the electrolysis voltage using this property can be used. Further, it is known that the pore diameter changes when the type of the electrolytic solution is changed, and the pore diameter increases in the order of sulfuric acid, oxalic acid, and phosphoric acid. Therefore, it is possible to use a method in which sulfuric acid is used as the electrolytic solution in the first stage and phosphoric acid is used in the second stage. Moreover, you may perform the below-mentioned sealing process to the support body obtained by the anodizing process and / or the pore wide process.

また、親水性皮膜は、上述した陽極酸化皮膜のほかに、スパッタリング法、ＣＶＤ法等により設けられる無機皮膜であってもよい。無機皮膜を構成する化合物としては、例えば、酸化物、チッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物が挙げられる。また、無機皮膜は、化合物の単体のみから構成されていてもよく、化合物の混合物により構成されていてもよい。無機皮膜を構成する化合物としては、具体的には、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化クロム；チッ化アルミニウム、チッ化ケイ素、チッ化チタン、チッ化ジルコニウム、チッ化ハフニウム、チッ化バナジウム、チッ化ニオブ、チッ化タンタル、チッ化モリブデン、チッ化タングステン、チッ化クロム、チッ化ケイ素、チッ化ホウ素；ケイ化チタン、ケイ化ジルコニウム、ケイ化ハフニウム、ケイ化バナジウム、ケイ化ニオブ、ケイ化タンタル、ケイ化モリブデン、ケイ化タングステン、ケイ化クロム；ホウ化チタン、ホウ化ジルコニウム、ホウ化ハフニウム、ホウ化バナジウム、ホウ化ニオブ、ホウ化タンタル、ホウ化モリブデン、ホウ化タングステン、ホウ化クロム；炭化アルミニウム、炭化ケイ素、炭化チタン、炭化ジルコニウム、炭化ハフニウム、炭化バナジウム、炭化ニオブ、炭化タンタル、炭化モリブデン、炭化タングステン
、炭化クロムが挙げられる。 Further, the hydrophilic film may be an inorganic film provided by a sputtering method, a CVD method or the like in addition to the anodized film described above. Examples of the compound constituting the inorganic film include oxides, nitrides, silicides, borides, and carbides. Further, the inorganic film may be composed of only a single compound or a mixture of compounds. Specific examples of the compound constituting the inorganic film include aluminum oxide, silicon oxide, titanium oxide, zirconium oxide, hafnium oxide, vanadium oxide, niobium oxide, tantalum oxide, molybdenum oxide, tungsten oxide, chromium oxide; aluminum nitride , Silicon nitride, titanium nitride, zirconium nitride, hafnium nitride, vanadium nitride, niobium nitride, tantalum nitride, molybdenum nitride, tungsten nitride, chromium nitride, silicon nitride, boron nitride; Titanium silicide, zirconium silicide, hafnium silicide, vanadium silicide, niobium silicide, tantalum silicide, molybdenum silicide, tungsten silicide, chromium silicide; titanium boride, zirconium boride, hafnium boride, vanadium boride , Niobium boride, boride Tantalum, molybdenum boride, tungsten boride, chromium boride; aluminum carbide, silicon carbide, titanium carbide, zirconium carbide, hafnium carbide, vanadium carbide, niobium carbide, tantalum carbide, molybdenum carbide, tungsten carbide, and a chromium carbide.

＜封孔処理＞
本発明においては、上述したようにして親水性皮膜を設けて得られた親水性支持体に封孔処理を行ってもよい。本発明に用いられる封孔処理としては、特開平４−１７６６９０号公報及び特開平１１−３０１１３５号公報に記載の加圧水蒸気や熱水による陽極酸化皮膜の封孔処理が挙げられる。また、ケイ酸塩処理、重クロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム塩処理、電着封孔処理、トリエタノールアミン処理、炭酸バリウム塩処理、極微量のリン酸塩を含む熱水処理等の公知の方法を用いて行うこともできる。封孔処理皮膜は、例えば、電着封孔処理をした場合にはポアの底部から形成され、また、水蒸気封孔処理をした場合にはポアの上部から形成され、封孔処理の仕方によって封孔処理皮膜の形成され方は異なる。そのほかにも、溶液による浸漬処理、スプレー処理、コーティング処理、蒸着処理、スバッタリング、イオンプレーティング、溶射、鍍金等が挙げられるが、特に限定されるものではない。中でも特に好ましいのは、特開２００２−２１４７６４号公報記載の平均粒径８〜８００ｎｍの粒子を用いた封孔処理が挙げられる。 <Sealing treatment>
In the present invention, the hydrophilic support obtained by providing the hydrophilic film as described above may be subjected to a sealing treatment. Examples of the sealing treatment used in the present invention include sealing treatment of an anodized film with pressurized steam or hot water described in JP-A-4-176690 and JP-A-11-301135. In addition, silicate treatment, dichromate aqueous solution treatment, nitrite treatment, ammonium acetate treatment, electrodeposition sealing treatment, triethanolamine treatment, barium carbonate treatment, hydrothermal treatment containing a trace amount of phosphate It can also carry out using well-known methods, such as. For example, when the electrodeposition sealing process is performed, the sealing treatment film is formed from the bottom of the pore, and when the water vapor sealing process is performed, it is formed from the top of the pore. The formation of the pore-treated film is different. In addition, there are immersion treatment with a solution, spray treatment, coating treatment, vapor deposition treatment, sputtering, ion plating, thermal spraying, plating, etc., but there is no particular limitation. Among these, a sealing treatment using particles having an average particle diameter of 8 to 800 nm described in JP-A No. 2002-214764 is particularly preferable.

粒子を用いた封孔処理は、平均粒径８〜８００ｎｍ、好ましくは平均粒径１０〜５００ｎｍ、より好ましくは平均粒径１０〜１５０ｎｍの粒子によって行われる。この範囲内で、親水性皮膜に存在するマイクロポアの内部に粒子が入り込んでしまうおそれが少なく、高感度化の効果が十分得られ、また、画像形成層との密着性が十分となり、耐刷性が優れたものとなる。粒子層の厚さは、８〜８００ｎｍであるのが好ましく、１０〜５００ｎｍであるのがより好ましい。   The sealing treatment using the particles is performed with particles having an average particle diameter of 8 to 800 nm, preferably an average particle diameter of 10 to 500 nm, and more preferably an average particle diameter of 10 to 150 nm. Within this range, there is little risk of particles entering the inside of the micropores present in the hydrophilic film, sufficiently high sensitivity is obtained, and sufficient adhesion with the image forming layer is obtained, so Excellent in properties. The thickness of the particle layer is preferably 8 to 800 nm, and more preferably 10 to 500 nm.

本発明に用いられる粒子は、熱伝導率が６０Ｗ／ｍＫ以下であるのが好ましく、４０Ｗ／ｍＫ以下であるのがより好ましく、０．３〜１０Ｗ／ｍＫ以下であるのが特に好ましい。熱伝導率が６０Ｗ／ｍＫ以下であると、アルミニウム基板への熱拡散の抑制が十分となり、高感度化の効果が十分に得られる。   The particles used in the present invention preferably have a thermal conductivity of 60 W / mK or less, more preferably 40 W / mK or less, and particularly preferably 0.3 to 10 W / mK or less. When the thermal conductivity is 60 W / mK or less, the thermal diffusion to the aluminum substrate is sufficiently suppressed, and the effect of increasing the sensitivity is sufficiently obtained.

粒子層を設ける方法としては、例えば、溶液による浸漬処理、スプレー処理、コーティング処理、電解処理、蒸着処理、スパッタリング、イオンプレーティング、溶射、鍍金等が挙げられるが、特に限定されるものではない。   Examples of the method for providing the particle layer include, but are not limited to, immersion treatment with a solution, spray treatment, coating treatment, electrolytic treatment, vapor deposition treatment, sputtering, ion plating, thermal spraying, and plating.

電解処理は、直流又は交流を用いることができる。上記電解処理に用いられる交流電流の波形としては、サイン波、矩形波、三角波、台形波等が挙げられる。また、交流電流の周波数は、電源装置を製作するコストの観点から、３０〜２００Ｈｚであるのが好ましく、４０〜１２０Ｈｚであるのがより好ましい。交流電流の波形として台形波を用いる場合、電流が０からピークに達するまでの時間ｔｐはそれぞれ０．１〜２ｍｓｅｃであるのが好ましく、０．３〜１．５ｍｓｅｃであるのがより好ましい。上記ｔｐが０．１ｍｓｅｃ未満であると、電源回路のインピーダンスが影響し、電流波形の立ち上がり時に大きな電源電圧が必要となり、電源の設備コストが高くなる場合がある。   For the electrolytic treatment, direct current or alternating current can be used. Examples of the alternating current waveform used in the electrolytic treatment include a sine wave, a rectangular wave, a triangular wave, and a trapezoidal wave. The frequency of the alternating current is preferably 30 to 200 Hz, and more preferably 40 to 120 Hz, from the viewpoint of the cost of manufacturing the power supply device. When a trapezoidal wave is used as the waveform of the alternating current, the time tp until the current reaches a peak from 0 is preferably 0.1 to 2 msec, and more preferably 0.3 to 1.5 msec. If the tp is less than 0.1 msec, the impedance of the power supply circuit is affected, and a large power supply voltage is required at the rising of the current waveform, which may increase the equipment cost of the power supply.

親水性粒子としては、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＴｉＯ₂ 、ＳｉＯ₂ 及びＺｒＯ₂ を単独で又は２種以上を組み合わせて用いるのが好ましい。電解液は、例えば、前記親水性粒子を含有量が全体の０．０１〜２０質量％となるように、水等に懸濁させて得られる。電解液は、電荷をプラス又はマイナスに帯電させるために、例えば、硫酸を添加するなどして、ｐＨを調整することもできる。電解処理は、例えば、直流を用い、アルミニウム板を陰極として、上記電解液を用い、電圧１０〜２００Ｖで１〜６００秒間の条件で行う。この方法によれば、容易に、陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアの内部に空隙を残しつつ、その口をふさぐことができる。 As the hydrophilic particles, Al ₂ O ₃ , TiO ₂ , SiO ₂ and ZrO ₂ are preferably used alone or in combination of two or more. The electrolytic solution is obtained, for example, by suspending the hydrophilic particles in water or the like so that the content becomes 0.01 to 20% by mass of the whole. In order to charge the electrolyte positively or negatively, the pH of the electrolytic solution can be adjusted, for example, by adding sulfuric acid. The electrolytic treatment is performed, for example, using a direct current, an aluminum plate as a cathode, the above electrolytic solution, and a voltage of 10 to 200 V for 1 to 600 seconds. According to this method, it is possible to easily close the mouth while leaving a void inside the micropore existing in the anodized film.

また、封孔処理として特開昭６０−１４９４９１号公報に記載されている、少なくとも１個のアミノ基と、カルボキシル基及びその塩の基ならびにスルホ基及びその塩の基からなる群から選ばれた少なくとも１個の基とを有する化合物からなる層、特開昭６０−２３２９９８号公報に記載されている、少なくとも１個のアミノ基と少なくとも１個のヒドロキシ基を有する化合物及びその塩から選ばれた化合物からなる層、特開昭６２−１９４９４号公報に記載されているリン酸塩を含む層、特開昭５９−１０１６５１号公報に記載されているスルホ基を有するモノマー単位の少なくとも１種を繰り返し単位として分子中に有する高分子化合物からなる層等をコーティングによって設ける方法が挙げられる。   Further, the sealing treatment was selected from the group consisting of at least one amino group, a carboxyl group and a salt group thereof, and a sulfo group and a salt group described in JP-A-60-149491. A layer comprising a compound having at least one group, selected from compounds having at least one amino group and at least one hydroxy group described in JP-A-60-232998, and salts thereof; A layer comprising a compound, a layer containing a phosphate described in JP-A-62-19494, and at least one monomer unit having a sulfo group described in JP-A-59-101651 The method of providing the layer etc. which consist of a high molecular compound which has in a molecule | numerator as a unit by coating is mentioned.

また、カルボキシメチルセルロース；デキストリン；アラビアガム；２−アミノエチルホスホン酸等のアミノ基を有するホスホン酸類；置換基を有していてもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸、エチレンジホスホン酸等の有機ホスホン酸；置換基を有していてもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸、グリセロリン酸等の有機リン酸エステル；置換基を有していてもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸、グリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸；グリシン、β−アラニン等のアミノ酸類；トリエタノールアミンの塩酸塩等のヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれる化合物の層を設ける方法も挙げられる。   In addition, carboxymethyl cellulose; dextrin; gum arabic; phosphonic acids having an amino group such as 2-aminoethylphosphonic acid; phenylphosphonic acid, naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, which may have a substituent, Organic phosphonic acid such as methylene diphosphonic acid and ethylene diphosphonic acid; organic phosphoric acid ester such as phenyl phosphoric acid, naphthyl phosphoric acid, alkyl phosphoric acid and glycerophosphoric acid which may have a substituent; Organic phosphinic acids such as phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid, glycerophosphinic acid; amino acids such as glycine and β-alanine; hydrochlorides of amines having hydroxy groups such as hydrochloride of triethanolamine Provide a compound layer selected from The method may also be mentioned.

封孔処理には、不飽和基を有するシランカップリング剤を塗設処理してもよい。シランカップリング剤としては、例えば、Ｎ−３−（アクリロキシ−２−ヒドロキシプロピル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、（３−アクリロキシプロピル）ジメチルメトキシシラン、（３−アクリロキシプロピル）メチルジメトキシシラン、（３−アクリロキシプロピル）トリメトキシシラン、３−（Ｎ−アリルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、アリルジメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、３−ブテニルトリエトキシシラン、２−（クロロメチル）アリルトリメトキシシラン、メタクリルアミドプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（３−メタクリロキシ−２−ヒドロキシプロピル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、（メタクリロキシメチル）ジメチルエトキシシラン、メタクリロキシメチルトリエトキシシラン、メタクリロキシメチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルジメチルエトキシシラン、メタクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルトリエトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリス（メトキシエトキシ）シラン、メトキシジメチルビニルシラン、１−メトキシ−３−（トリメチルシロキシ）ブタジエン、スチリルエチルトリメトキシシラン、３−（Ｎ−スチリルメチル−２−アミノエチルアミノ）−プロピルトリメトキシシラン塩酸塩、ビニルジメチルエトキシシラン、ビニルジフェニルエトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、Ｏ−（ビニロキシエチル）−Ｎ−（トリエトキシシリルプロピル）ウレタン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリ−ｔ−ブトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシシラン、ビニルトリフェノキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、ジアリルアミノプロピルメトキシシランが挙げられる。中でも、不飽和基の反応性が速いメタクリロイル基、アクリロイル基を有するシランカップリング剤が好ましい。   In the sealing treatment, a silane coupling agent having an unsaturated group may be applied. Examples of the silane coupling agent include N-3- (acryloxy-2-hydroxypropyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, (3-acryloxypropyl) dimethylmethoxysilane, and (3-acryloxypropyl) methyldimethoxy. Silane, (3-acryloxypropyl) trimethoxysilane, 3- (N-allylamino) propyltrimethoxysilane, allyldimethoxysilane, allyltriethoxysilane, allyltrimethoxysilane, 3-butenyltriethoxysilane, 2- ( Chloromethyl) allyltrimethoxysilane, methacrylamidopropyltriethoxysilane, N- (3-methacryloxy-2-hydroxypropyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, (methacryloxymethyl) dimethylethoxysilane, Tacryloxymethyltriethoxysilane, methacryloxymethyltrimethoxysilane, methacryloxypropyldimethylethoxysilane, methacryloxypropyldimethylmethoxysilane, methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, methacryloxypropylmethyltriethoxysilane , Methacryloxypropylmethyltrimethoxysilane, methacryloxypropyltris (methoxyethoxy) silane, methoxydimethylvinylsilane, 1-methoxy-3- (trimethylsiloxy) butadiene, styrylethyltrimethoxysilane, 3- (N-styrylmethyl-2) -Aminoethylamino) -propyltrimethoxysilane hydrochloride, vinyldimethylethoxysilane, vinyldiphenyl ester Xysilane, vinylmethyldiethoxysilane, vinylmethyldimethoxysilane, O- (vinyloxyethyl) -N- (triethoxysilylpropyl) urethane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltri-t-butoxysilane, vinyltriisopropoxy Examples include silane, vinyltriphenoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, and diallylaminopropylmethoxysilane. Of these, a silane coupling agent having a methacryloyl group or an acryloyl group having a fast reactivity of the unsaturated group is preferable.

そのほかにも、特開平５−５０７７９号公報に記載されているゾルゲルコーティング処理、特開平５−２４６１７１号公報に記載されているホスホン酸類のコーティング処理、特開平６−２３４２８４号公報、特開平６−１９１１７３号公報及び特開平６−２３０５６３号公報に記載されているバックコート用素材をコーティングにより処理する方法、特開平６−２６２８７２号公報に記載されているホスホン酸類の処理、特開平６−２９７８７５号公報に記載されているコーティング処理、特開平１０−１０９４８０号公報に記載
されている陽極酸化処理する方法、特開２０００−８１７０４号公報及び特開２０００−８９４６６号公報に記載されている浸漬処理方法等が挙げられ、いずれの方法を用いてもよい。 In addition, the sol-gel coating treatment described in JP-A-5-50779, the phosphonic acid coating treatment described in JP-A-5-246171, JP-A-6-234284, JP-A-6-6- No. 19173 and JP-A-6-230563, a method for treating a backcoat material by coating, treatment of phosphonic acids described in JP-A-6-262872, and JP-A-6-297875. The coating treatment described in the gazette, the anodizing method described in JP-A-10-109480, the immersion treatment method described in JP-A-2000-81704 and JP-A-2000-89466 Any method may be used.

親水性皮膜を形成した後、必要に応じて、アルミニウム板の表面に親水化処理を施す。
親水化処理としては、米国特許第２，７１４，０６６号、同第３，１８１，４６１号、同第３，２８０，７３４号及び同第３，９０２，７３４号の各明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケート法がある。この方法においては、支持体をケイ酸ナトリウム等の水溶液で浸漬処理し、又は電解処理する。そのほかに、特公昭３６−２２０６３号公報に記載されているフッ化ジルコン酸カリウムで処理する方法、米国特許第３，２７６，８６８号、同第４，１５３，４６１号及び同第４，６８９，２７２号の各明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等が挙げられる。 After forming the hydrophilic film, the surface of the aluminum plate is subjected to a hydrophilic treatment as necessary.
The hydrophilization treatment is described in US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734, and 3,902,734. There are such alkali metal silicate methods. In this method, the support is immersed in an aqueous solution such as sodium silicate or electrolytically treated. In addition, the treatment with potassium zirconate fluoride described in JP-B 36-22063, U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,689, And a method of treating with polyvinylphosphonic acid as described in each specification of No.272.

支持体は、中心線平均粗さが０．１０〜１．２μｍであるのが好ましい。この範囲で、画像形成層との良好な密着性、良好な耐刷性と良好な汚れ難さが得られる。
また、支持体の色濃度としては、反射濃度値として０．１５〜０．６５であるのが好ましい。この範囲で、画像露光時のハレーション防止による良好な画像形成性と現像後の良好な検版性が得られる。 The support preferably has a center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm. Within this range, good adhesion to the image forming layer, good printing durability and good stain resistance can be obtained.
The color density of the support is preferably 0.15 to 0.65 as the reflection density value. Within this range, good image formability by preventing halation during image exposure and good plate inspection after development can be obtained.

〔バックコート層〕
支持体に表面処理を施した後又は下塗層を形成させた後、必要に応じて、支持体の裏面にバックコートを設けることができる。
バックコートとしては、例えば、特開平５−４５８８５号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平６−３５１７４号公報に記載されている有機金属化合物又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好適に挙げられる。中でも、Ｓｉ（ＯＣＨ₃ ）₄ 、Ｓｉ（ＯＣ₂ Ｈ₅ ）₄ 、Ｓｉ（ＯＣ₃ Ｈ₇ ）₄ 、Ｓｉ（ＯＣ₄ Ｈ₉ ）₄ 等のケイ素のアルコキシ化合物を用いるのが、原料が安価で入手しやすい点で好ましい。 [Back coat layer]
A back coat can be provided on the back surface of the support, if necessary, after surface treatment or after forming an undercoat layer on the support.
Examples of the back coat include hydrolysis and polycondensation of organic polymer compounds described in JP-A-5-45885, organometallic compounds or inorganic metal compounds described in JP-A-6-35174. A coating layer made of a metal oxide obtained in this manner is preferred. Among them, it is inexpensive to use a silicon alkoxy compound such as Si (OCH ₃ ) ₄ , Si (OC ₂ H ₅ ) ₄ , Si (OC ₃ H ₇ ) ₄ , Si (OC ₄ H ₉ ) _4. It is preferable in terms of easy availability.

〔下塗層〕
本発明の平版印刷版原版においては、必要に応じて、画像形成層と支持体との間に下塗層を設けることができる。下塗層が断熱層として機能することにより、赤外線レーザーによる露光により発生した熱が支持体に拡散せず、効率よく利用されるようになるため、高感度化が図れるという利点がある。また、未露光部においては、画像形成層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、機上現像性が向上する。
下塗層としては、具体的には、特開平１０−２８２６７９号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平２−３０４４４１号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物等が好適に挙げられる。
下塗層の塗布量（固形分）は、０．１〜１００ｍｇ／ｍ²であるのが好ましく、１〜３０ｍｇ／ｍ²であるのがより好ましい。 [Undercoat layer]
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, an undercoat layer can be provided between the image forming layer and the support, if necessary. Since the undercoat layer functions as a heat insulating layer, heat generated by exposure with an infrared laser does not diffuse to the support and can be used efficiently, so that there is an advantage that high sensitivity can be achieved. Further, in the unexposed portion, the image forming layer is easily peeled off from the support, so that the on-press developability is improved.
As the undercoat layer, specifically, a silane coupling agent having an addition-polymerizable ethylenic double bond reactive group described in JP-A-10-282679, JP-A-2-304441. Preferred examples include phosphorus compounds having an ethylenic double bond reactive group described in the publication.
The coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably from 0.1-100 mg / m ^2, and more preferably 1 to 30 mg / m ^2.

〔保護層（オーバーコート層）〕
本発明の平版印刷版原版においては、画像形成層における傷等の発生防止、酸素遮断、高照度レーザー露光時のアブレーション防止のため、必要に応じて、画像形成層の上に保護層を設けることができる。
本発明においては、通常、露光を大気中で行うが、保護層は、画像形成層中で露光により生じる画像形成反応を阻害する大気中に存在する酸素、塩基性物質等の低分子化合物の画像形成層への混入を防止し、大気中での露光による画像形成反応の阻害を防止する。したがって、保護層に望まれる特性は、酸素等の低分子化合物の透過性が低いことであり、
更に、露光に用いられる光の透過性が良好で、画像形成層との密着性に優れ、かつ、露光後の機上現像処理工程で容易に除去することができるものであるのが好ましい。このような特性を有する保護層については、以前より種々検討がなされており、例えば、米国特許第３、４５８、３１１号明細書及び特開昭５５−４９７２９号公報に詳細に記載されている。 [Protective layer (overcoat layer)]
In the lithographic printing plate precursor according to the present invention, a protective layer is provided on the image forming layer as necessary in order to prevent the occurrence of scratches in the image forming layer, to block oxygen, and to prevent ablation during high-illuminance laser exposure. Can do.
In the present invention, the exposure is usually performed in the atmosphere, but the protective layer is an image of low molecular weight compounds such as oxygen and basic substances present in the atmosphere that inhibit the image forming reaction caused by exposure in the image forming layer. It prevents the formation layer from being mixed and prevents the inhibition of the image forming reaction due to exposure in the atmosphere. Therefore, the property desired for the protective layer is that the permeability of low molecular compounds such as oxygen is low,
Further, it is preferable that the light used for exposure has good transparency, has excellent adhesion to the image forming layer, and can be easily removed in an on-press development process after exposure. Various studies have been made on the protective layer having such characteristics, and are described in detail, for example, in US Pat. No. 3,458,311 and JP-A-55-49729.

保護層に用いられる材料としては、例えば、比較的、結晶性に優れる水溶性高分子化合物が挙げられる。具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸等の水溶性ポリマーが挙げられる。中でも、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を主成分として用いると、酸素遮断性、現像除去性等の基本的な特性に対して最も良好な結果を与える。ポリビニルアルコールは、保護層に必要な酸素遮断性と水溶性を与えるための未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテル又はアセタールで置換されていてもよく、一部が他の共重合成分を有していてもよい。   Examples of the material used for the protective layer include water-soluble polymer compounds that are relatively excellent in crystallinity. Specific examples include water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, and polyacrylic acid. Among these, when polyvinyl alcohol (PVA) is used as a main component, the best results are obtained for basic characteristics such as oxygen barrier properties and development removability. The polyvinyl alcohol may be partially substituted with an ester, ether or acetal as long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit for providing the oxygen barrier property and water solubility necessary for the protective layer, and a part of the other You may have a copolymerization component.

ポリビニルアルコールの具体例としては、７１〜１００モル％加水分解された重合度３００〜２４００の範囲のものが好適に挙げられる。具体的には、例えば、（株）クラレ製のＰＶＡ−１０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１１７Ｈ、ＰＶＡ−１２０、ＰＶＡ−１２４、ＰＶＡ−１２４Ｈ、ＰＶＡ−ＣＳ、ＰＶＡ−ＣＳＴ、ＰＶＡ−ＨＣ、ＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２０４、ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−２１０、ＰＶＡ−２１７、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２２４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２１７Ｅ、ＰＶＡ−２２０Ｅ、ＰＶＡ−２２４Ｅ、ＰＶＡ−４０５、ＰＶＡ−４２０、ＰＶＡ−６１３、Ｌ−８が挙げられる。   As specific examples of polyvinyl alcohol, those having a hydrolysis degree of 71 to 100 mol% and a polymerization degree of 300 to 2400 are preferably mentioned. Specifically, for example, PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA manufactured by Kuraray Co., Ltd. -HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405 , PVA-420, PVA-613, and L-8.

保護層の成分（ＰＶＡの選択、添加剤の使用等）、塗布量等は、酸素遮断性及び現像除去性のほか、カブリ性、密着性、耐傷性等を考慮して適宜選択される。一般には、ＰＶＡの加水分解率が高いほど（即ち、保護層中の未置換ビニルアルコール単位含有率が高いほど）、また、膜厚が厚いほど、酸素遮断性が高くなり、感度の点で好ましい。また、製造時及び保存時に不要な重合反応、画像露光時の不要なカブリ及び画線の太り等を防止するためには、酸素透過性が高くなりすぎないことが好ましい。従って、２５℃、１気圧下における酸素透過性Ａが０．２≦Ａ≦２０（ｃｃ／ｍ²・ｄａｙ）であることが好ましい。 The components of the protective layer (selection of PVA, use of additives, etc.), coating amount, etc. are appropriately selected in consideration of fogging properties, adhesion, scratch resistance, etc. in addition to oxygen barrier properties and development removability. In general, the higher the hydrolysis rate of PVA (that is, the higher the content of unsubstituted vinyl alcohol units in the protective layer), the higher the film thickness, the higher the oxygen barrier property, which is preferable in terms of sensitivity. . Further, in order to prevent unnecessary polymerization reaction during production and storage, unnecessary fogging during image exposure, and thickening of image lines, it is preferable that the oxygen permeability is not excessively high. Accordingly, the oxygen permeability A at 25 ° C. and 1 atm is preferably 0.2 ≦ A ≦ 20 (cc / m ² · day).

保護層の他の組成物として、グリセリン、ジプロピレングリコール等を水溶性高分子化合物に対して数質量％相当量添加して可撓性を付与することができ、また、アルキル硫酸ナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウム等のアニオン界面活性剤；アルキルアミノカルボン酸塩、アルキルアミノジカルボン酸塩等の両性界面活性剤；ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等の非イオン界面活性剤を（共）重合体に対して数質量％添加することができる。
保護層の膜厚は、０．１〜５μｍが適当であり、特に０．２〜２μｍが好適である。 As another composition of the protective layer, glycerin, dipropylene glycol and the like can be added in an amount corresponding to several mass% with respect to the water-soluble polymer compound, and flexibility can be imparted. Anionic surfactants such as sodium acid salts; amphoteric surfactants such as alkylaminocarboxylates and alkylaminodicarboxylates; nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkylphenyl ethers to the (co) polymer Mass% can be added.
The thickness of the protective layer is suitably from 0.1 to 5 μm, particularly preferably from 0.2 to 2 μm.

また、画像部との密着性、耐傷性等も平版印刷版原版の取り扱い上、極めて重要である。即ち、水溶性高分子化合物を含有するため親水性である保護層を、画像形成層が親油性である場合に、画像形成層に積層すると、接着力不足による保護層のはく離が生じやすく、はく離部分において、酸素による重合阻害に起因する膜硬化不良等の欠陥を引き起こすことがある。   In addition, adhesion to the image area, scratch resistance, and the like are extremely important in handling the lithographic printing plate precursor. That is, when a protective layer that is hydrophilic because it contains a water-soluble polymer compound is laminated on the image forming layer when the image forming layer is oleophilic, the protective layer is easily peeled off due to insufficient adhesive force. In some parts, defects such as poor film hardening due to inhibition of polymerization by oxygen may occur.

これに対して、画像形成層と保護層との間の接着性を改良すべく、種々の提案がなされている。例えば、特開昭４９−７０７０２号公報及び英国特許出願公開第１３０３５７８号明細書には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルジョン、水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体等を２０〜６０質量％
混合させ、画像形成層上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明においては、これらの公知の技術をいずれも用いることができる。保護層の塗布方法については、例えば、米国特許第３，４５８，３１１号明細書及び特開昭５５−４９７２９号公報に詳細に記載されている。 On the other hand, various proposals have been made to improve the adhesion between the image forming layer and the protective layer. For example, in JP-A-49-70702 and British Patent Application No. 1303578, a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol, an acrylic emulsion, a water-insoluble vinylpyrrolidone-vinyl acetate copolymer, etc. 20 to 60% by mass
It is described that sufficient adhesion can be obtained by mixing and laminating on an image forming layer. Any of these known techniques can be used in the present invention. The method for applying the protective layer is described in detail, for example, in US Pat. No. 3,458,311 and JP-A-55-49729.

本発明においては、上記保護層に前記の焼き出し画像形成成分（変色剤、ラジカル重合開始剤、赤外線吸収剤）を含有させることができる。これら焼き出し画像形成成分を画像形成層ではなく保護層に入れる態様は、焼き出し画像形成反応が画像形成層における重合反応系と分離され、お互いの反応の阻害を避けることができるので好ましい。また、これらの焼き出し画像形成成分をマイクロカプセルに内包した形で保護層に含有させることも好ましい態様である。焼き出し画像を強化する場合は、上記焼き出し画像形成成分を保護層と画像形成層の両方に含有させることもできる。
更に、保護層には、他の機能を付与することもできる。例えば、露光に用いられる赤外線の透過性に優れ、かつ、それ以外の波長の光を効率よく吸収しうる、着色剤（例えば、水溶性染料）の添加により、感度低下を引き起こすことなく、セーフライト適性を向上させることができる。 In the present invention, the print-out image forming component (a color change agent, a radical polymerization initiator, an infrared absorber) can be contained in the protective layer. An embodiment in which these print-out image forming components are contained in the protective layer instead of the image-forming layer is preferable because the print-out image forming reaction is separated from the polymerization reaction system in the image forming layer and inhibition of the mutual reaction can be avoided. It is also a preferred embodiment that these print-out image forming components are contained in the protective layer in the form of being encapsulated in microcapsules. When enhancing the printout image, the printout image forming component can be contained in both the protective layer and the image forming layer.
Furthermore, other functions can be imparted to the protective layer. For example, by adding a colorant (for example, a water-soluble dye) that is excellent in the transparency of infrared rays used for exposure and that can efficiently absorb light of other wavelengths, safe light is not caused. Suitability can be improved.

〔露光〕
本発明の平版印刷版原版は、赤外線レーザーで画像様に露光して用いる。
この際用いられる赤外線レーザーは、特に限定されないが、波長７６０〜１２００ｎｍの赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適に挙げられる。赤外線レーザーの出力は、１００ｍＷ以上であるのが好ましい。また、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザーデバイスを用いるのが好ましい。
１画素あたりの露光時間は、２０μ秒以内であるのが好ましい。また、照射エネルギー量は、１０〜３００ｍＪ／ｃｍ² であるのが好ましい。 〔exposure〕
The lithographic printing plate precursor according to the invention is used after imagewise exposure with an infrared laser.
Although the infrared laser used in this case is not particularly limited, a solid laser and a semiconductor laser that emit infrared rays having a wavelength of 760 to 1200 nm are preferable. The output of the infrared laser is preferably 100 mW or more. In order to shorten the exposure time, it is preferable to use a multi-beam laser device.
The exposure time per pixel is preferably within 20 μsec. Moreover, it is preferable that irradiation energy amount is 10-300 mJ / cm < ² >.

〔印刷方法〕
本発明の平版印刷版原版は、赤外線レーザーで画像様に露光した後、なんらの現像処理工程を経ることなく油性インキと水性成分とを供給して印刷することができる。
具体的には、平版印刷版原版を赤外線レーザーで露光した後、現像処理工程を経ることなく、印刷機に装着して印刷する方法、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上において赤外線レーザーで露光した後、現像処理工程を経ることなく印刷する方法等が挙げられる。 [Printing method]
The lithographic printing plate precursor of the present invention can be printed by supplying oil-based ink and aqueous component without any development processing step after imagewise exposure with an infrared laser.
Specifically, after exposing the lithographic printing plate precursor with an infrared laser, it is mounted on a printing machine without performing a development process, and after printing the lithographic printing plate precursor on the printing machine, And a method of printing without passing through a development processing step after exposure with an infrared laser.

例えば、ネガ型の機上現像型平版印刷版原版の一態様では、平版印刷版原版を赤外線レーザーで画像様に露光した後、湿式現像処理工程等の現像処理工程を経ることなく水性成分と油性インキとを供給して印刷すると、画像形成層の露光部においては、露光により硬化した画像形成層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。一方、未露光部においては、供給された水性成分および／または油性インキによって、未硬化の画像形成層が溶解しまたは分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。
その結果、水性成分は露出した親水性の表面に付着し、油性インキは露光領域の画像形成層に着肉し、印刷が開始される。ここで、最初に版面に供給されるのは、水性成分でもよく、油性インキでもよいが、水性成分が未露光部の画像形成層により汚染されることを防止する点で、最初に油性インキを供給するのが好ましい。水性成分および油性インキとしては、通常の平版印刷用の湿し水と印刷インキが用いられる。
また、露光部分は変色剤が変色するので視認性に優れる。
このようにして、平版印刷版原版はオフセット印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。 For example, in one embodiment of a negative on-press development type lithographic printing plate precursor, an aqueous component and an oily composition are used without undergoing a development processing step such as a wet development processing step after exposing the lithographic printing plate precursor imagewise with an infrared laser. When ink is supplied and printing is performed, in the exposed portion of the image forming layer, the image forming layer cured by exposure forms an oil-based ink receiving portion having a lipophilic surface. On the other hand, in the unexposed area, the uncured image forming layer is dissolved or dispersed and removed by the supplied aqueous component and / or oil-based ink, and a hydrophilic surface is exposed in that area.
As a result, the aqueous component adheres to the exposed hydrophilic surface, and the oil-based ink is deposited on the image forming layer in the exposed area, and printing is started. Here, the water-based component or the oil-based ink may be first supplied to the plate surface, but the oil-based ink is first used in order to prevent the water-based component from being contaminated by the unexposed image forming layer. It is preferable to supply. As the aqueous component and oil-based ink, a dampening water and printing ink for ordinary lithographic printing are used.
In addition, the exposed portion is excellent in visibility because the color change agent changes color.
In this way, the lithographic printing plate precursor is subjected to on-press development on an offset printing machine and used as it is for printing a large number of sheets.

以下、実施例により本発明を説明するが、本発明は、これに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to this.

実施例１
（親水性支持体の作製）
厚さ０．３ｍｍのＪＩＳ−Ａ−１０５０に従うアルミニウム板を用い、下記に示す工程（ａ）〜（ｋ）をこの順序で実施して処理した。 Example 1
(Preparation of hydrophilic support)
Using an aluminum plate according to JIS-A-1050 having a thickness of 0.3 mm, the following steps (a) to (k) were carried out in this order.

（ａ）機械的粗面化処理
比重１．１２の研磨剤（ケイ砂）と水との懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的な粗面化を行った。研磨剤の平均粒径は８μｍ、最大粒径は５０μｍであった。ナイロンブラシの材質は６・１０ナイロン、毛長５０ｍｍ、毛の直径は０．３ｍｍであった。ナイロンブラシはΦ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラシは３本使用した。ブラシ下部の２本の支持ローラ（Φ２００ｍｍ）の距離は３００ｍｍであった。ブラシローラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して７ｋＷプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。ブラシの回転数は２００ｒｐｍであった。 (A) Mechanical surface roughening treatment While supplying a suspension of abrasive (silica sand) having a specific gravity of 1.12. Roughening was performed. The average particle size of the abrasive was 8 μm, and the maximum particle size was 50 μm. The material of the nylon brush was 6 · 10 nylon, the hair length was 50 mm, and the hair diameter was 0.3 mm. The nylon brush was planted so as to be dense by making a hole in a stainless steel tube having a diameter of 300 mm. Three rotating brushes were used. The distance between the two support rollers (Φ200 mm) at the bottom of the brush was 300 mm. The brush roller was pressed until the load of the drive motor for rotating the brush became 7 kW plus with respect to the load before the brush roller was pressed against the aluminum plate. The rotating direction of the brush was the same as the moving direction of the aluminum plate. The rotation speed of the brush was 200 rpm.

（ｂ）アルカリエッチング処理
得られたアルミニウム板に温度７０℃のＮａＯＨ水溶液（濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％）をスプレーしてエッチング処理を行い、アルミニウム板を６ｇ／ｍ² 溶解した。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。 (B) Alkali etching treatment The obtained aluminum plate was sprayed with an aqueous NaOH solution (concentration 26 mass%, aluminum ion concentration 6.5 mass%) at a temperature of 70 ° C. to dissolve the aluminum plate 6 g / m ^2. did. Thereafter, washing with water was performed using well water.

（ｃ）デスマット処理
温度３０℃の硝酸濃度１質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。 (C) Desmutting treatment Desmutting treatment was performed by spraying with a 1% by weight aqueous solution of nitric acid at a temperature of 30 ° C. (containing 0.5% by weight of aluminum ions), and then washed with water by spraying. The nitric acid aqueous solution used for the desmut was the waste liquid from the step of electrochemical surface roughening using alternating current in nitric acid aqueous solution.

（ｄ）電気化学的粗面化処理
６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸１０．５ｇ／リットル水溶液（アルミニウムイオンを５ｇ／リットル）、温度５０℃であった。交流電源波形は電流値がゼロからピークに達するまでの時間ＴＰが０．８ｍｓ、ＤＵＴＹ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助陽極にはフェライトを用いた。使用した電解槽はラジアルセルタイプのものを使用した。電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ² 、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で２２０Ｃ／ｄｍ² であった。補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。 (D) Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was carried out continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a nitric acid 10.5 g / liter aqueous solution (aluminum ion 5 g / liter) at a temperature of 50 ° C. The AC power supply waveform has an electrochemical surface roughening treatment using a carbon electrode as a counter electrode using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time TP of 0.8 ms until the current value reaches a peak from zero, a duty ratio of 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave alternating current. went. Ferrite was used for the auxiliary anode. The electrolytic cell used was a radial cell type. The current density was 30 A / dm ² at the peak current value, and the amount of electricity was 220 C / dm ² in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. Thereafter, washing with water was performed using well water.

（ｅ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％でスプレーによるエッチング処理を３２℃で行い、アルミニウム板を０．２０ｇ／ｍ² 溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。エッチング量は、３．５ｇ／ｍ² であった。 (E) Alkaline etching treatment An aluminum plate is etched by spraying at a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass at 32 ° C., 0.20 g / m ^{2 of the} aluminum plate is dissolved, The smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated when electrochemical surface roughening was used was removed, and the edge portion of the generated pit was melted to smooth the edge portion. Thereafter, washing with water was performed using well water. The etching amount was 3.5 g / m ² .

（ｆ）デスマット処理
温度３０℃の硝酸濃度１５質量％水溶液（アルミニウムイオンを４．５質量％含む。）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーで水洗した。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。 (F) Desmut treatment Desmut treatment by spraying was performed with a 15% by weight aqueous solution of nitric acid at a temperature of 30 ° C. (including 4.5% by weight of aluminum ions), and then washed with water using well water. The nitric acid aqueous solution used for the desmut was the waste liquid from the step of electrochemical surface roughening using alternating current in nitric acid aqueous solution.

（ｇ）電気化学的粗面化処理
６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、塩酸７．５ｇ／リットル水溶液（アルミニウムイオンを５ｇ／リットル含む。）、温度３５℃であった。交流電源波形は矩形波であり、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽はラジアルセルタイプのものを使用した。電流密度は電流のピーク値で２５Ａ／ｄｍ² 、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で５０Ｃ／ｄｍ² であった。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。 (G) Electrochemical surface roughening treatment An electrochemical surface roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a hydrochloric acid 7.5 g / liter aqueous solution (containing 5 g / liter of aluminum ions) at a temperature of 35 ° C. The AC power supply waveform was a rectangular wave, and an electrochemical surface roughening treatment was performed using a carbon electrode as a counter electrode. Ferrite was used for the auxiliary anode. The electrolytic cell used was a radial cell type. The current density was 25 A / dm ² at the peak current value, and the amount of electricity was 50 C / dm ² in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. Thereafter, washing with water was performed using well water.

（ｈ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％でスプレーによるエッチング処理を３２℃で行い、アルミニウム板を０．１０ｇ／ｍ² 溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。 (H) Alkali etching treatment The aluminum plate was sprayed at a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass at 32 ° C. to dissolve the aluminum plate at 0.10 g / m ² , The smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated during the electrochemical surface roughening treatment was removed, and the edge portion of the generated pit was dissolved to smooth the edge portion. Thereafter, washing with water was performed using well water.

（ｉ）デスマット処理
温度６０℃の硫酸濃度２５質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。 (I) Desmut treatment A desmut treatment by spraying was performed with a 25% by mass aqueous solution of sulfuric acid having a temperature of 60 ° C. (containing 0.5% by mass of aluminum ions), and then water washing by spraying was performed using well water.

（ｊ）陽極酸化処理
電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも硫酸濃度１７０ｇ／リットル（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）、温度は４３℃であった。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。電流密度はともに約３０Ａ／ｄｍ² であった。最終的な酸化皮膜量は２．７ｇ／ｍ² であった。 (J) Anodizing treatment As the electrolytic solution, sulfuric acid was used. The electrolyte solutions all had a sulfuric acid concentration of 170 g / liter (containing 0.5 mass% of aluminum ions), and the temperature was 43 ° C. Thereafter, washing with water was performed using well water. Both current densities were about 30 A / dm ² . The final oxide film amount was 2.7 g / m ² .

（ｋ）アルカリ金属ケイ酸塩処理
得られたアルミニウム板を温度３０℃の３号ケイ酸ソーダ１質量％水溶液の処理層中へ、１０秒間、浸漬することでアルカリ金属ケイ酸塩処理（シリケート処理）を行った。その後、井水を用いたスプレーによる水洗を行うことにより、アルミニウム支持体を作製した。その際のシリケート付着量はいずれも３．６ｍｇ／ｍ² であった。 (K) Alkali metal silicate treatment An alkali metal silicate treatment (silicate treatment) was performed by immersing the obtained aluminum plate in a treatment layer of a 1 mass% aqueous solution of sodium silicate No. 3 at a temperature of 30 ° C. for 10 seconds. ) Then, the aluminum support body was produced by performing the water washing by the spray using well water. The amount of silicate adhering at that time was 3.6 mg / m ² .

（画像形成層の形成）
得られた支持体上に、下記組成の画像形成層塗布液（１）をワイヤーバーで塗布し、８０℃で６０秒間乾燥して画像形成層を形成した。塗布量は、１．０ｇ／ｍ²であった。 (Formation of image forming layer)
On the obtained support, an image forming layer coating solution (1) having the following composition was coated with a wire bar and dried at 80 ° C. for 60 seconds to form an image forming layer. The coating amount was 1.0 g / m ² .

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画像形成層塗布液（１）組成
────────────────────────────────────
下記の赤外線吸収色素（Ｄ−１） ２質量部
下記のラジカル開始剤（Ｉ−１） ３質量部
下記の酸発生剤（Ａ−１） ３質量部
下記のラジカル重合性化合物（Ｍ−１） ５５質量部
下記バインダーポリマー（Ｂ−１） ３２質量部
変色剤（Ｃ−１） ２０質量部
下記のフッ素系界面活性剤（Ｗ−１） ３質量部
メチルエチルケトン ９００質量部
────────────────────────────────────
変色剤を除く画像形成層成分の平均ｌｏｇＰ値は、１．５であった。 ────────────────────────────────────
Image forming layer coating solution (1) Composition ────────────────────────────────────
2 parts by mass of the following infrared absorbing dye (D-1) 3 parts by mass of the following radical initiator (I-1) 3 parts by mass of the following acid generator (A-1) 3 parts by mass of the following radical polymerizable compound (M-1) 55 parts by mass The following binder polymer (B-1) 32 parts by mass Discoloring agent (C-1) 20 parts by mass The following fluorosurfactant (W-1) 3 parts by mass Methyl ethyl ketone 900 parts by mass ─────── ─────────────────────────────
The average log P value of the image forming layer components excluding the color change agent was 1.5.

（平版印刷原版の評価）
得られた平版印刷版原版に対し、以下の評価を実施した。結果を第１表に示す。
１）平版印刷版原版画像形成層塗布むら：
○：ムラ無し
×：ムラ有り
２）検版性：
イメージセッター（Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ ３２４４ＶＸ、Ｃｒｅｏ社製）にてビーム強度１０．２Ｗ、ドラム回転速度１５０ｒｐｍでテストパターンを画像露光した。未露光領域と露光領域のコントラスト、すなわち画像の見え易さ（視認性）を評価した。
◎：優
○：良
△：可
×：不可 (Evaluation of lithographic printing plate)
The following evaluation was performed on the obtained lithographic printing plate precursor. The results are shown in Table 1.
1) Uneven coating of lithographic printing plate precursor image forming layer:
○: Unevenness ×: Unevenness 2) Plate inspection property:
The test pattern was image-exposed with an image setter (Trendsetter 3244VX, manufactured by Creo) at a beam intensity of 10.2 W and a drum rotation speed of 150 rpm. The contrast between the unexposed area and the exposed area, that is, the visibility of the image (visibility) was evaluated.
◎: Excellent ○: Good △: Acceptable ×: Impossible

実施例２
変色剤（Ｃ−１）に代えて、変色剤（Ｃ−４）を用いた以外は、実施例１と同様にして平版印刷版原版を作製した。作製した平版印刷版原版を、実施例１と同様に評価した。結果を第１表に示す。 Example 2
A lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the color changing agent (C-4) was used instead of the color changing agent (C-1). The produced lithographic printing plate precursor was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

実施例３
変色剤（Ｃ−１）に代えて、変色剤（Ｃ−１０）を用いた以外は、実施例１と同様にして平版印刷版原版を作製した。作製した平版印刷版原版を、実施例１と同様に評価した。結果を第１表に示す。 Example 3
A lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the color changing agent (C-10) was used instead of the color changing agent (C-1). The produced lithographic printing plate precursor was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

実施例４
変色剤（Ｃ−１）に代えて、変色剤（Ｃ−１４）を用いた以外は、実施例１と同様にして平版印刷版原版を作製した。作製した平版印刷版原版を、実施例１と同様に評価した。結果を第１表に示す。 Example 4
A lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the color changing agent (C-14) was used instead of the color changing agent (C-1). The produced lithographic printing plate precursor was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

比較例１
変色剤（Ｃ−１）に代えて、下記の変色剤（ＣＣ−１）を用いた以外は、実施例１と同様にして平版印刷版原版を作製した。作製した平版印刷版原版を、実施例１と同様に評価した。結果を第１表に示す。 Comparative Example 1
A lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the following color change agent (CC-1) was used instead of the color change agent (C-1). The produced lithographic printing plate precursor was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

比較例２
変色剤（Ｃ−１）に代えて、下記の変色剤（ＣＣ−２）を用いた以外は、実施例１と同様にして平版印刷版原版を作製した。作製した平版印刷版原版を、実施例１と同様に評価した。結果を第１表に示す。 Comparative Example 2
A lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the following color change agent (CC-2) was used instead of the color change agent (C-1). The produced lithographic printing plate precursor was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

比較例３
変色剤（Ｃ−１）に代えて、下記の変色剤（ＣＣ−３）を用いた以外は、実施例１と同様にして平版印刷版原版を作製した。作製した平版印刷版原版を、実施例１と同様に評価した。結果を第１表に示す。 Comparative Example 3
A lithographic printing plate precursor was produced in the same manner as in Example 1 except that the following color change agent (CC-3) was used instead of the color change agent (C-1). The produced lithographic printing plate precursor was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

実施例５
（マイクロカプセル分散液（１）の調製）
酢酸エチル１６．５質量部に、トリメチロールプロパンとキシリレンジイソシアナートの１：３（モル比）付加物（タケネートＤ−１１０Ｎ、三井武田ケミカル（株）製、２５質量％の酢酸エチル含有）１０質量部、下記の赤外線吸収色素（Ｄ−３）０．６質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３質量部、トリクレジルホスフェート１．５質量部およびアニオン系界面活性剤（パイオニンＰ−Ａ４１Ｃ、竹本油脂（株）製）０．１質量部を溶解・分散して油相を得た。別に、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５、（株）クラレ製）の４質量％水溶液３７．５質量部を調製して水相とした。
油相と水相とを混合し、ホモジナイザーを用いて、水冷下１２０００ｒｐｍにて１０分間乳化した。乳化物に水２４．５質量部を加え、室温で３０分、さらに４０℃で３時間攪
拌した。その後、分散液の固形分濃度が１５質量％となるように純水を加え、マイクロカプセル分散液（１）を調製した。マイクロカプセルの平均粒径は０．３０μｍであった。 Example 5
(Preparation of microcapsule dispersion (1))
16.5 parts by mass of ethyl acetate and a 1: 3 (molar ratio) adduct of trimethylolpropane and xylylene diisocyanate (Takenate D-110N, manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd., containing 25% by mass of ethyl acetate) 10 Parts by mass, 0.6 parts by mass of the following infrared absorbing dye (D-3), 3 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 1.5 parts by mass of tricresyl phosphate, and an anionic surfactant (Pionin P-A41C, Takemoto An oil phase was obtained by dissolving and dispersing 0.1 parts by mass of Ogyu Co., Ltd. Separately, 37.5 parts by mass of a 4% by mass aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA205, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) was prepared as an aqueous phase.
The oil phase and the aqueous phase were mixed and emulsified with a homogenizer at 12000 rpm for 10 minutes under water cooling. 24.5 parts by mass of water was added to the emulsion, followed by stirring at room temperature for 30 minutes and further at 40 ° C. for 3 hours. Thereafter, pure water was added so that the solid content concentration of the dispersion became 15% by mass to prepare a microcapsule dispersion (1). The average particle size of the microcapsules was 0.30 μm.

（画像形成層の形成）
実施例１で作製した支持体の上に、下記組成の画像形成層塗布液（２）をワイヤーバーで塗布し、８０℃で６０秒間乾燥して感光性画像形成層を形成した。塗布量は、１．０ｇ／ｍ² であった。この画像形成層の変色剤以外の成分の平均ｌｏｇＰ値は、１．３であった。 (Formation of image forming layer)
On the support produced in Example 1, an image forming layer coating solution (2) having the following composition was applied with a wire bar and dried at 80 ° C. for 60 seconds to form a photosensitive image forming layer. The coating amount was 1.0 g / m ² . The average log P value of the components other than the color change agent in this image forming layer was 1.3.

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画像形成層塗布液（２）組成
────────────────────────────────────
赤外線吸収色素（Ｄ−１） ２質量部
ラジカル開始剤（Ｉ−１） ３質量部
ラジカル重合性化合物（Ｍ−１） ４０質量部
バインダーポリマー（Ｂ−１） １６質量部
マイクロカプセル分散液（１） ３００質量部
変色剤（Ｃ−１） ３５質量部
フッ素系界面活性剤（Ｗ−１） １質量部
メチルエチルケトン １００質量部
１−メトキシ−２−プロパノール ８５０質量部
純水 ２００質量部
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Image forming layer coating solution (2) Composition ────────────────────────────────────
Infrared absorbing dye (D-1) 2 parts by mass Radical initiator (I-1) 3 parts by mass Radical polymerizable compound (M-1) 40 parts by mass Binder polymer (B-1) 16 parts by mass Microcapsule dispersion (1 ) 300 parts by weight Discoloring agent (C-1) 35 parts by weight Fluorosurfactant (W-1) 1 part by weight Methyl ethyl ketone 100 parts by weight 1-methoxy-2-propanol 850 parts by weight Pure water 200 parts by weight ──── ────────────────────────────────

次に、下記組成の水溶性オーバーコート層塗布液（１）を画像形成層（２）上に乾燥後の塗布量が１．５ｇ／ｍ² となるようにワイヤーバーで塗布、１００℃で９０秒間乾燥し、平版印刷版原版を作製した。作製した平版印刷版原版を、実施例１と同様に評価した。結果を第１表に示す。 Next, a water-soluble overcoat layer coating solution (1) having the following composition was coated on the image forming layer (2) with a wire bar so that the coating amount after drying was 1.5 g / m ^2, and 90 ° C. at 90 ° C. The plate was dried for 2 seconds to prepare a lithographic printing plate precursor. The produced lithographic printing plate precursor was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

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水溶性オーバーコート層塗布液（１）組成
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ポリビニルアルコール（ケン化度：９８モル％、重合度：５００） ９５質量部
ポリビニルピロリドン／酢酸ビニル共重合体 ４質量部
（Ｌｕｖｉｔｅｃ ＶＡ ６４Ｗ、ＢＡＳＦ社製）
ノニオン界面活性剤 １質量部
（ＥＭＡＬＥＸ７１０、日本エマルション（株）製）
純水 ２１５０質量部
──────────────────────────────────── ────────────────────────────────────
Water-soluble overcoat layer coating solution (1) Composition ─────────────────────────────────────
Polyvinyl alcohol (degree of saponification: 98 mol%, degree of polymerization: 500) 95 parts by mass Polyvinylpyrrolidone / vinyl acetate copolymer 4 parts by mass (Luvitec VA 64W, manufactured by BASF)
Nonionic surfactant 1 part by mass (EMALEX 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.)
2150 parts by mass of pure water ─────────────────────────────────────

比較例４
変色剤（Ｃ−１）に代えて、下記の化合物（ＣＣ−４）を用いた以外は、実施例３と同様にして平版印刷版原版を作製した。作製した平版印刷版原版を、実施例１と同様に評価した。結果を第１表に示す。 Comparative Example 4
A lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 3 except that the following compound (CC-4) was used instead of the color change agent (C-1). The produced lithographic printing plate precursor was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

第１表
──────────────────────────────────
平版印刷原版 ｌｏｇＰ値差 塗布ムラ 視認性
──────────────────────────────────
実施例１ ２．８ ○ ◎
実施例２ ２．６ ○ ◎
実施例３ ０．２ ○ ◎
実施例４ ０．９ ○ ◎
実施例５ ３．０ ○ ◎
比較例１ ３．７ × △
比較例２ ７．８ × △
比較例３ ３．９ × △
比較例４ ４．８ × △
───────────────────────────────── Table 1 ──────────────────────────────────
Planographic printing original plate Log P value difference Uneven coating Visibility ──────────────────────────────────
Example 1 2.8 ○ ◎
Example 2 2.6 ○ ◎
Example 3 0.2 ○ ◎
Example 4 0.9 ○ ◎
Example 5 3.0 ○ ◎
Comparative Example 1 3.7 × △
Comparative Example 2 7.8 × Δ
Comparative Example 3 3.9 × △
Comparative Example 4 4.8 × Δ
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第１表から、本発明の機上現像型平版印刷版原版は、画像形成層を形成する際に、塗装ムラを発生せず、視認性に優れていることが明らかである。
From Table 1, it is clear that the on-press development type lithographic printing plate precursor of the present invention is excellent in visibility without causing coating unevenness when the image forming layer is formed.

Claims (6)

支持体上に、変色剤を含有する層を設けてなる機上現像型平版印刷版原版であって、該変色剤のｌｏｇＰ値と、変色剤を含有する層のその他成分の平均ｌｏｇＰ値との差が３．５未満であることを特徴とする機上現像型平版印刷版原版。   An on-press development type lithographic printing plate precursor provided with a layer containing a color changing agent on a support, the log P value of the color changing agent and the average log P value of other components of the layer containing the color changing agent An on-press development type lithographic printing plate precursor having a difference of less than 3.5. 変色剤が、水不溶性であることを特徴とする請求項１に記載の機上現像型平版印刷版原版。   2. The on-press development type lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the color changing agent is insoluble in water. 変色剤を含有する層が、更に赤外線吸収剤を含有することを特徴とする請求項１又は２に記載の機上現像型平版印刷版原版。   3. The on-press development type lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the layer containing the color changing agent further contains an infrared absorber. 変色剤を含有する層が、更にラジカル重合開始剤及びラジカル重合性モノマーを含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の機上現像型平版印刷版原版。   The on-press development type lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 3, wherein the layer containing the color changing agent further contains a radical polymerization initiator and a radical polymerizable monomer. 変色剤、赤外線吸収剤、ラジカル重合開始剤、ラジカル重合性モノマーの内の少なくとも一種類がマイクロカプセルに内包されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の機上現像型平版印刷版原版。   The on-press development type according to any one of claims 1 to 4, wherein at least one of a color changing agent, an infrared absorber, a radical polymerization initiator, and a radical polymerizable monomer is encapsulated in a microcapsule. A lithographic printing plate precursor. 請求項１〜５のいずれかに記載の平版印刷版原版を、画像記録後に現像処理工程を経ることなく印刷機に装着するか、又は、印刷機装着後に画像記録することにより、印刷することを特徴とする平版印刷方法。
Printing the lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 5 by mounting it on a printing machine without image processing after image recording or by recording an image after mounting the printing machine A lithographic printing method characterized.