JP2005279673A - レーザ加工ヘッドおよびレーザ加工方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】従来のエアシャッターの機能だけでは吹き飛ばしきれないような比較的大きな運動エネルギーをもつスパッタ等であってもこれらを効率良く排除できるようにしたレーザ加工ヘッドを提供する。
【解決手段】 レーザ溶接に伴って発生するスパッタS等を、モータ8にて回転駆動されるプロペラファン9にて排除する。レーザ光Laの照射タイミングとプロペラファン9の回転位相を制御装置10にて同期制御し、プロペラファン9がレーザ光路を横切ったとしてもレーザ光Laと干渉しないようにする。
【選択図】 図1
【解決手段】 レーザ溶接に伴って発生するスパッタS等を、モータ8にて回転駆動されるプロペラファン9にて排除する。レーザ光Laの照射タイミングとプロペラファン9の回転位相を制御装置10にて同期制御し、プロペラファン9がレーザ光路を横切ったとしてもレーザ光Laと干渉しないようにする。
【選択図】 図1
Description
本発明は、レーザ溶接に代表されるような各種レーザ加工のためのレーザ加工ヘッドに関し、例えばレーザ溶接とイナートガスアーク溶接の一つであるMIG溶接もしくはTIG溶接等とを併用していわゆるハイブリッド溶接を行うにあたり、特に溶接副次物であるスパッタやヒュームのレーザ光学系への付着を抑制するようにしたレーザ加工ヘッドに関するものである。
レーザ溶接のほかレーザ溶接とMIG溶接とを併用するいわゆるハイブリッド溶接では、レーザ光学系と溶接点との間、多くの場合には最終の集光レンズ(焦点レンズ)の前面側に保護ガラスを設けて、溶接副次物であるスパッタやヒューム(以下、スパッタ等という)の付着によるレーザ光学系の損傷防止対策を施しているのが一般的である。
しかしながら、集光レンズ等を保護することができたとしても、保護ガラスそのものへのスパッタ等の付着もまた不可避であることから、溶接点でのレーザ出力の低下による溶接品質への影響や、保護ガラスの交換頻度の増加によるコストアップ、さらには生産性の低下が余儀なくされることになる。特に亜鉛めっき鋼板やアルミニウム系材料の溶接では、スパッタ等の発生量が多いために上記の傾向が一段と顕著となる。
そこで、特許文献1に記載のように、レーザ光学系を保護している保護ガラスと溶接点との間に、溶接部平面とほぼ平行な空気の流れを積極的に生成していわゆるエアシャッターの機能を具備させたものが提案されている。
特開2002−192374号公報(図1)
しかしながら、特許文献1に記載の技術では、エアシャッターの機能だけでは吹き飛ばしきれないような比較的大きな運動エネルギーをもつスパッタやヒュームに対しては必ずしも有効な対策とはならず、なおも改善の余地を残している。
本発明はこのような課題に着目してなされたものであり、いわゆるハイブリッド溶接に代表されるようなレーザ加工において、レーザ光学系もしくはそのレーザ光学系を保護している保護ガラスへの溶接副次物であるスパッタ等の付着を一段と抑制し、特に従来のエアシャッターの機能だけでは吹き飛ばしきれないような比較的大きな運動エネルギーをもつスパッタやヒュームであってもこれらを効率良く排除できるようにしたレーザ加工ヘッドを提供するものである。
請求項1に記載の発明は、ハウジングに収容されたレーザ光学系から被加工物に対しレーザ光を照射してレーザ加工を施すレーザ加工ヘッドにおいて、レーザ光学系と加工点との間に、レーザ光路を間歇的に横切るプロペラファン等の加工副次物飛散偏向手段を配置したことを特徴とする。
この場合、請求項2に記載のように、ハウジングのレーザ光照射口にレーザ光学系を保護する保護ガラスを装着することが望ましく、また請求項4に記載のように、いわゆるパルスレーザを使うことにより被加工物に対してレーザ光を間歇的に照射するとともに、レーザ光と加工副次物飛散偏向手段とが干渉することがないように、レーザ光の照射タイミングに同期して加工副次物飛散偏向手段が回転するように設定することが望ましい。
したがって、請求項1に記載の発明では、レーザ加工と並行して加工副次物飛散偏向手段を回転駆動させることにより、加工点で発生したスパッタやヒューム等の加工副次物がレーザ光学系に向かって飛散したとしても、それらの加工副次物は飛散方向が偏向されるか、もしくは加工副次物飛散偏向手段に付着することで強制的に排除されることになる。これは、従来のエアシャッターでは排除しきれないような比較的大きな運動エネルギーをもつ加工副次物に特に有効である。その結果として、レーザ光学系の方向を指向する加工副次物が極端に少なくなる。
請求項1,2に記載の発明によれば、レーザ光学系あるいはそれを保護している保護ガラスへのスパッタやヒューム等の加工副次物の付着が大幅に抑制されて溶接等の加工品質が向上するほか、保護ガラスの交換頻度の低減による工数削減と生産性の向上が図れる。
図1,2は本発明のより具体的な実施の形態を示し、同図ではレーザ溶接にイナートガスアーク溶接の一つであるMIG溶接を併用するいわゆるハイブリッド溶接のためのレーザ溶接ヘッドの例を示している。そして、図1の(A)はレーザ溶接ヘッドの側面図を、同図(B)は同図(A)の平面図を、図2は図1を下方から見上げた要部斜視図をそれぞれ示している。
図1において、Wは平板状の被溶接物(被加工物)、1はレーザ加工ヘッドとしてのレーザ溶接ヘッド、2はレーザ溶接ヘッド1と近接配置されたMIG溶接トーチである。
レーザ溶接ヘッド1の筒状のハウジング3内には、図示外のレーザ発振器から出力されたYAGレーザ等のレーザ光Laが導入されるようになっているとともに、レーザ光学系を形成することになる集光レンズ4が収容配置されていて、集光レンズ4が臨んでいるハウジング3のレーザ照射口3aの前面すなわち集光レンズ4よりも被溶接物W側にはその集光レンズ4を保護するための固定式の保護ガラス5が配置されている。したがって、ハウジング3内に導入されたレーザ光Laは、集光レンズ4で集光された上で被溶接物W上の溶接点(加工点もしくは加工部位)Pに所定のスポット径にて照射される。
なお、ここでは、レーザ光Laとして、後述するようにレーザ発振器から所定の周波数で間歇的に出力されるいわゆるパルスレーザタイプのものが使用される。
そして、例えば被溶接物Wを固定側、レーザ溶接ヘッド1およびMIG溶接トーチ2を可動側とした場合に、レーザ溶接ヘッド1とMIG溶接トーチ2を溶接方向に一体的に所定速度で移動させることで被溶接物W上のレーザ光Laの照射部位Pに溶接が施され、同時にそのレーザ溶接部位Pを追いかけるようにしてMIG溶接が施されることになる。なお、同図の符号Sは、溶接の際にその発生と飛散が不可避とされる溶接副次物(加工副次物)としてのスパッタやヒューム(以下、総称してスパッタ等という)を示す。
レーザ溶接ヘッド1のハウジング3と被溶接物Wとの間には、矩形状をなす遮蔽板6がレーザ光路を横切るように水平に配置されている。この遮蔽板6は、溶接点Pで発生したスパッタS等が保護ガラス5側に向かって飛散するのを抑制するために設けられているもので、その遮蔽板6には図2にも示すようにレーザ光Laの透過を許容する円形の光路穴7が開口形成されている。
遮蔽板6上には、加工副次物(溶接副次物)飛散偏向手段としてモータ8を駆動源とする4枚羽根タイプのプロペラファン9が配置されている。プロペラファン9は4枚のブレード9aをいわゆる十字状もしくはX字状に組み合わせたものであって、その回転中心がレーザ光Laの光軸と平行もしくはほぼ平行になるように設定されているとともに、プロペラファン9の回転中心はレーザ光Laの光軸に対して所定量だけオフセットしている。そして、プロペラファン9を回転させたときには各ブレード9aのがレーザ光路を間歇的に横切るように設定されている。つまり、プロペラファン9の回転中心がレーザ光Laの光軸から所定量だけオフセットしてはいても、図1の(A)から明らかなように、各ブレード9aの先端の回転軌跡は、保護ガラス5の端縁のうちプロペラファン9の回転中心から最も離れた位置までも及ぶように設定してある。
ここで、図1のレーザ溶接ヘッド1には、図示外のレーザ発振器の発振周波数とプロペラファン9の回転位相とを同期制御するための制御装置10が付帯していて、レーザ光Laの照射タイミングに同期してプロペラファン9を回転駆動させることにより、レーザ光路を間歇的に横切るようにプロペラファン9が回転したとしても、その回転中のプロペラファン9のブレード9aとレーザ光Laが干渉することがないように予め設定されている。
したがって、このように構成されたレーザ溶接ヘッド1によれば、被溶接物Wに対してレーザ溶接ヘッド1とMIG溶接トーチ2とを一体的に移動させ、レーザ溶接ヘッド1から溶接点Pに向けてレーザ光Laを所定の周波数で間歇的に照射する一方で、溶極として機能することになる図示外の溶接ワイヤをMIG溶接トーチ2の先端から繰り出して、その溶接ワイヤと被溶接物Wとの間にアークを発生させて、レーザ光照射部位Pを追いかけるようにしてそのレーザ溶接とMIG溶接とを併用して従来と同様にいわゆるハイブリッド溶接を行う。
同時に、溶接動作と並行して、レーザ光Laの照射タイミングすなわちレーザ光Laの発振周波数に同期してプロペラファン9を所定の回転数で回転駆動させる。このようにレーザ光Laの照射タイミングとプロペラファン9の回転位相とを同期させることにより、回転中のプロペラファン9のブレード9aがレーザ光路を横切ったとしても実際にはそのブレード9aとレーザ光Laとが干渉することはない。
溶接動作の進行に伴って溶接点Pからは溶接副次物であるスパッタS等が発生して飛散する。それらのスパッタS等のうち多くのものは遮蔽板6に当接もしくは付着することによって、それよりも上方への飛散が阻止される一方、残りの一部のスパッタS等がレーザ光Laの光路方向を指向しつつ遮蔽板6の光路穴7を通過して遮蔽板6の上方まで、すなわちプロペラファン9の回転領域まで飛散する。
遮蔽板6の光路穴7を通過してプロペラファン9の回転領域にまで飛散したスパッタS等は、飛散距離が長くなるほどその運動エネルギーが低下していることから、プロペラファン9の回転によって飛散方向が偏向する。その形態としては、プロペラファン9による風圧にて跳ね返るようにして吹き飛ばされる場合のほか、回転中のプロペラファン9のブレード9aそのものに付着することによって捕集されることが考えられる。
さらに、上記のように遮蔽板6の光路穴7を通過してプロペラファン9の回転領域にまで飛散したスパッタS等のうちごく一部のものは、図1の(A)に示すように保護ガラス5まで及び、一部のスパッタS等はその保護ガラス5にて跳ね返って落下する一方、残された極々一部のスパッタS等が保護ガラス5に付着することになる。
図3には、先に述べた制御装置10にて制御されるレーザ光Laの発振周波数もしくは照射タイミングとプロペラファン9の回転位相との関係を示す。なお、(A)はいわゆるパルスレーザの波形を、(B)は同図(A)の拡大図を、(C)はプロペラファン9の回転位相をそれぞれ示している。また、図3では、次の第2の実施の形態の保護板11を開示しているが、第1の実施の形態の理解にあたっては当該保護板11はないものとする。
図3から明らかなように、本実施の形態では、レーザ光Laの照射パルス1パルスに対してプロペラファン9を例えば最大で3000rpm程度の回転性能をもつモータ8にて1/2回転の条件で同期させている。すなわち、図3から明らかなように、レーザ光Laを100Hzで1パルス当たりの照射時間を4msに設定する一方で、プロペラファン9を20msで1回転するように制御することにより、溶接動作中においてレーザ光Laとプロペラファン9のブレード9aが干渉することがなく、且つプロペラファン9によるスパッタS等の排除機能を効率よく発揮させることができる。
より詳しくは、図3の(C)に示すように、いずれか一枚のブレード9aがレーザ光路を通過し終えた瞬間に1パルス分(4ms分)のレーザ光Laの照射を開始し、次のブレード9aがレーザ光路を横切る前にその1パルス分のレーザ光Laの照射を終えるようにレーザ光Laの照射タイミングとプロペラファン9の回転との同期をとることにより、レーザ光Laとプロペラファン9との干渉を回避しながら溶接動作を行うことができる。
ここで、先に述べたように、プロペラファン9の1回転に要する時間は20ms(=0.02s)であり、図3に示すようにプロペラファン9が5ms(=0.005s)で1/4回転(90°回転)する間に4msだけレーザ光Laを照射し、且つ溶接に伴って発生するスパッタS等の飛散速度よりも速い速度で所定の高さ寸法hを有するブレードを回転させれば効率的なスパッタS等の除去が行える。つまり、図1の要部拡大図である図4および図5に示すように、プロペラファン9を形成している各ブレード9aの高さ寸法hおよび幅寸法rのうち特に高さ寸法hは溶接副次物であるスパッタS等の飛散速度Vsを考慮して決定する必要がある。
図4,5において、溶接点Pから上方に向かって飛散するスパッタS等の飛散速度Vsを測定したところ、Vs=2〜10m/s程度であった。ここで、仮にブレード9aの幅寸法rを80mm(=0.08m)、高さ寸法hを50mm(=0.05m)とすると、そのブレード9aの幅寸法rを二分する位置(r/2相当位置)がレーザ光Laの光軸相当位置を通過する時の速度Vbは次のようになる。
Vb=rπ/s(m/s)=rπ/0.02(m/s)
=4π(m/s)
≒12.5(m/s)
これにより、プロペラファン9の回転速度VbがスパッタS等の飛散速度Vsよりも大きいことが望ましいという第1条件を満足できる。
=4π(m/s)
≒12.5(m/s)
これにより、プロペラファン9の回転速度VbがスパッタS等の飛散速度Vsよりも大きいことが望ましいという第1条件を満足できる。
次に、高さ寸法hのブレード9aが5ms(=0.005s=t)かけて1/4回転する間に上方に向かって飛散するスパッタS等を効率よく排除するためには、h=Vs・tの関係が成り立つ必要がある。また、プロペラファン9を形成しているブレード9aの総数をn(本実施の形態では4枚)、プロペラファン9の回転周期をT(s)とすると、h=Vs・T/nとなる。そして、溶接副次物であるスパッタS等の最高飛散速度Vsmaxを10m/sとすると、プロペラファン9を形成しているブレード9aの高さ寸法hは先に述べたようにh=50mm(0.05m)であれば全てのスパッタS等を排除することができる。このブレード9aの高さ寸法hの設定に際してはh≧Vsmax・T/n=10・T/nの関係を充足することが望ましい。
また、図4に示すように、プロペラファン9の回転中心から各ブレード9aの先端までの距離(ブレード9aの幅寸法)をr、プロペラファン9の回転中心からレーザ光Laの光軸までの距離をd、保護ガラス5の端縁のうちレーザ光Laの光軸をはさんでプロペラファン9の回転中心とは反対側の位置(レーザ光照射口3aの開口縁のうちプロペラファン9の回転中心から最も遠い位置)とレーザ光Laの光軸とのなす距離をlとした場合に、r≧d+lとなるように設定することがスパッタS等を効率良く排除する上でより望ましい。
このように本実施の形態によれば、遮蔽板6の上方まで飛散したスパッタS等を回転式のプロペラファン9にて排除することで、レーザ光学系を保護している保護ガラス5へのスパッタS等の付着を最小限に抑えることができ、溶接品質の向上と併せて保護ガラス5の交換頻度の低下と生産性の向上に寄与できる。
図6の(A),(B)は本発明の第2の実施の形態を示し、先に説明した第1の実施の形態である図1,2と共通する部分には同一符号を付してある。
この第2の実施の形態では、プロペラファン9の下側に扇形状の一対の保護板11を一体に設けた点で第1の実施の形態のものと異なっている。そして、この保護板11は下方の遮蔽板6と同等の機能を発揮するものであり、プロペラファン9の回転領域側への溶接副次物であるスパッタS等の飛散をより確実に抑制できる利点がある。
しかも、図3から明らかなように、プロペラファン9を第1の実施の形態と同条件で回転させるかぎりでは、保護板11がレーザ光Laを遮ってしまうことはない。
図7,8は本発明の第3の実施の形態を示し、同様にして図1,2と共通する部分には同一符号を付してある。
この第3の実施の形態では、プロペラファン9の下側に円形の大きな保護板12を一体に設けた点で第1の実施の形態と異なっている。そして、この円形の保護板12が付帯しているプロペラファン9を第1,第2の実施の形態のものと同条件で回転させた場合には、図3から明らかなようにその保護板12がレーザ光Laと干渉してこれを遮ってしまうことから、その円形の保護板12のうち相対向する二つの扇形領域、すなわち先の第2の実施の形態において扇形状の保護板11が付帯していない領域に相当する部分について、レーザ光Laの透過を許容する円弧状の光路穴13を開口形成してある。
したがって、この第3の実施の形態によれば、円形の保護板12を付帯させたとしても、光路穴13が設けられていることによってレーザ光Laと干渉することがなくなり、第2の実施の形態と同様の効果が得られることになる。
なお、各実施の形態ではレーザ溶接にMIG溶接を併用するいわゆるハイブリッド溶接の場合を例にとって説明したが、本発明をハイブリッド溶接以外の各種レーザ加工にも同様に適用できることは言うまでもない。
1…レーザ溶接ヘッド(レーザ加工ヘッド)
3…ハウジング
4…集光レンズ(レーザ光学系)
5…保護ガラス
6…遮蔽板
7…光路穴
8…モータ
9…プロペラファン(加工副次物飛散偏向手段)
9a…ブレード
10…制御装置
11,12…保護板
13…光路穴
La…レーザ光
P…溶接点(加工点)
W…被溶接物(被加工物)
3…ハウジング
4…集光レンズ(レーザ光学系)
5…保護ガラス
6…遮蔽板
7…光路穴
8…モータ
9…プロペラファン(加工副次物飛散偏向手段)
9a…ブレード
10…制御装置
11,12…保護板
13…光路穴
La…レーザ光
P…溶接点(加工点)
W…被溶接物(被加工物)
Claims (11)
- ハウジングに収容されたレーザ光学系から被加工物に対しレーザ光を照射してレーザ加工を施すレーザ加工ヘッドにおいて、
レーザ光学系と加工点との間に、レーザ光路を間歇的に横切る加工副次物飛散偏向手段を配置したことを特徴とするレーザ加工ヘッド。 - ハウジングのレーザ光照射口に、レーザ光学系を保護する保護ガラスを装着したことを特徴とする請求項1に記載のレーザ加工ヘッド。
- 上記加工副次物飛散偏向手段は、回転することによりレーザ光路を横切るものであることを特徴とする請求項1または2に記載のレーザ加工ヘッド。
- 被加工物に対してレーザ光を間歇的に照射するとともに、
レーザ光と加工副次物飛散偏向手段とが干渉することがないように、レーザ光の照射タイミングに同期して加工副次物飛散偏向手段が回転するように設定したことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のレーザ加工ヘッド。 - レーザ光の光軸と加工副次物飛散偏向手段の回転中心がほぼ平行となるように設定する一方、
レーザ光路を横切る保護板を加工副次物飛散偏向手段に設けるとともに、
その保護板に、レーザ光の照射タイミングではそのレーザ光の通過を許容する光路穴を形成したことを特徴とする請求項4に記載のレーザ加工ヘッド。 - 上記加工副次物飛散偏向手段がプロペラファンであることを特徴とする請求項3〜5のいずれかに記載のレーザ加工ヘッド。
- プロペラファンを形成しているブレードの高さをh、ブレードの枚数をn、プロペラファンの回転周期をT、加工副次物の最高飛散速度をVsmaxとしたとき、
h≧Vsmax・T/nの関係を満たすように設定したことを特徴とする請求項3〜6のいずれかに記載のレーザ加工ヘッド。 - プロペラファンの回転中心からブレードの最外周端までの距離をr、プロペラファンの回転中心とレーザ光の光軸とのなす距離をd、ハウジングのレーザ光照射口の端縁のうちプロペラファンの回転中心から最も遠い部位とそのプロペラファンの回転中心とのなす距離をlとしたとき、
r≧l+dの関係を満たすように設定したことを特徴とする請求項3〜7のいずれかに記載のレーザ加工ヘッド。 - レーザ光学系と加工点との間に、その加工点側からレーザ光学系への加工副次物の飛散を抑制する遮蔽板を配置するとともに、
レーザ光学系と遮蔽板との間に加工副次物飛散偏向手段としてプロペラファンを配置したことを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載のレーザ加工ヘッド。 - レーザ加工が、レーザ溶接とアーク溶接を併用するハイブリッド溶接であることを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載のレーザ加工ヘッド。
- ハウジングに収容されたレーザ光学系から被加工物に対しレーザ光を照射してレーザ加工を施すにあたり、
レーザ光学系と加工点との間に配置した加工副次物飛散偏向手段をもってレーザ光路を間歇的に横切らせて、
加工副次物の飛散方向を偏向しながらレーザ加工を行うことを特徴とするレーザ加工方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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ID=35178607
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2004
- 2004-03-29 JP JP2004094292A patent/JP2005279673A/ja active Pending
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