JP2005268738A - 固体撮像素子とその製造方法、及び半導体集積回路装置とその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 基板両面に構成要素を形成した固体撮像素子、半導体集積回路装置における高信頼性化を図る。
【解決手段】 半導体基板2に、該半導体基板2と識別可能な材料による埋め込み層19からなり、埋め込み層19の面を半導体基板2の面と同一面としたアライメントマーク17が形成され、半導体基板2の表面側及び裏面側に、アライメントマーク17を基準に形成した構成要素9、PD、14、15等が設けられて成る。
【選択図】 図1
【解決手段】 半導体基板2に、該半導体基板2と識別可能な材料による埋め込み層19からなり、埋め込み層19の面を半導体基板2の面と同一面としたアライメントマーク17が形成され、半導体基板2の表面側及び裏面側に、アライメントマーク17を基準に形成した構成要素9、PD、14、15等が設けられて成る。
【選択図】 図1
Description
本発明は、半導体基板の表裏両面に構成要素を形成して成る、固体撮像素子とその製造方法、及び半導体集積回路装置とその製造方法に関する。
固体撮像素子としては、電荷転送型であるCCD固体撮像素子(いわゆるCCDイメージセンサ)と、XーYアドレスを指定して読み出すCMOS固体撮像素子(いわゆるCMOSイメージセンサ)が代表的である。これら何れの固体撮像素子も2次元に配置されたフォトダイオードに入射した光を光電変換し、そのうちの一方の電荷(例えば電子)を信号電荷とする点で類似している。
例えばCMOS固体撮像素子の場合には、各画素内に読出しトランジスタ、リセットトランジスタ、増幅トランジスタ等のMOSトランジスタを有し、フォトダイオードで光電変換した信号電荷を処理している。また、各画素の選択を垂直方向の配線(X方向の配線)と水平方向の配線(Y方向の配線)で行っており、各画素の上部にはアルミニウム(Al)や銅(Cu)などの金属配線が多層で存在している。CMOS固体撮像素子では、画素上に形成したオンチップレンズからフォトダイオードに光を集光する際に、多層配線により光が蹴られ感度が低下することが知られている。さらに、これらの多層配線で蹴られた光が、隣接画素に入射して混色等の原因とる可能性がある。
また、CCD固体撮像素子においても、素子上の層間絶縁層膜に光が吸収されて感度が低下することが知られている(特許文献1参照)。これら撮像素子では、シリコン半導体基板の裏面側を研磨して薄膜化し、基板裏面側から光を入射して光電変換する構造が提案されている(特許文献参照1)。さらに、CCD固体撮像素子において、半導体基板の表面側に電荷転送部が形成され、裏面側に電荷蓄積部が形成された構成を有し、これら電荷転送部及び電荷蓄積部の形成の際に、表裏面のパターンのアライメントを行うために専用の凹凸状のアライメントマークを形成するようにした製造方法が提案されている(特許文献2参照)。
特開平6ー29506号公報
特開2002ー151676号公報
ところで、従来例の半導体基板の裏面あるいは表面に形成した凹凸状のアライメントマークを用いて、基板の裏面、あるいは表面にそれぞれカラーフィルタ、オンチップレンズ、あるいはフォトダイオード、MOSトランジスタ、多層配線の層間絶縁膜等を形成する際に、フォトレジストやSOG(Spin On Glass)等の塗布系材料を塗布する工程で、凹凸状のアライメントマークが塗布むらを誘起する。この塗布むらは、例えばフォトレジストパターンの解像性に影響を与えたり、均一な厚さの層間膜の形成ができず、固体撮像素子の各構成要素のパターンの不良につながる虞れがあった。とりわけ、半導体基板の表面側に形成される各構成要素のパターン精度が重要であった。したがって、少なくとも半導体基板の表面側の各構成要素のパターン不良は避けねばならない。
このような問題は、固体撮像素子に限らず、例えば半導体基板の表裏両面に半導体素子又は/及び配線を形成するようにした半導体集積回路装置においても、起こり得る。
本発明は、上述の点に鑑み、半導体基板の表裏両面側に精度良く各構成要素が形成された固体撮像素子とその製造方法、及び半導体集積回路装置とその製造方法を提供するものである。
本発明に係る固体撮像素子は、半導体基板に基板面と同一面とした識別可能な材料の埋め込み層からなるアライメントマークを形成し、半導体基板の表面側及び裏面側にアライメントマークを基準に形成した構成要素を設けられて成ることを特徴とする。
本発明に係る半導体集積回路装置は、半導体基板に基板面と同一面とした埋め込み層からなるアライメントマークを有し、半導体基板の表面側及び裏面側にアライメントマークを基準に形成した構成要素を設けられて成ることを特徴とする。
本発明の好ましい形態としては、上記半導体基板にシリコン基板を用い、アライメントマークをシリコン基板に形成した溝内にシリコンと異なる材料の埋め込み層を形成して構成する。このシリコンと異なる材料としては、SiO,SiN,SiC,SiON,SiOC,SiCN,ポリシリコンのいずれかの材料を用いることができる。
アライメントマークを形成する溝の開口幅または開口径に対する溝深さのアスペクト比としては、1.0以上とするのが好ましい。
アライメントマークを形成する溝の開口幅または開口径に対する溝深さのアスペクト比としては、1.0以上とするのが好ましい。
本発明の好ましい形態としては、SOI基板を用い、SOI基板の少なくとも他方のシリコン層を除去し後の一方のシリコン層で半導体基板を形成し、アライメントマークをSOI基板の絶縁層に達する溝に埋め込まれた埋め込み層で形成する。
アライメントマークとしては、半導体基板の表面側から裏面側に到達するように形成される。
アライメントマークとしては、溝内に形成した基板のシリコンと異なる第1材料の薄膜と、第1材料と異なる第2材料の埋め込み層とからなる多層構造で形成することができる。第1材料の薄膜としては、溝の開口付近の側壁部を除いて形成すること好ましい。
アライメントマークとしては、溝内に形成した基板のシリコンと異なる第1材料の薄膜と、第1材料と異なる第2材料の埋め込み層とからなる多層構造で形成することができる。第1材料の薄膜としては、溝の開口付近の側壁部を除いて形成すること好ましい。
薄膜の第1材料としては、SiO,SiN,SiCN,SiC,SiOC,SiOまたはSiONのいずれかの材料を用い、埋め込み層の第2材料としては、薄膜とエッチング選択比がとれる材料を用いることができる。
SOI基板を用いた場合、必要に応じて絶縁層を除去し、あるいは残すようにして構成することができる。
アライメントマークとしては、平面的にみて、各辺が離れた状態の角形形状に形成することができる。
アライメントマークとしては、平面的にみて、各辺が離れた状態の角形形状に形成することができる。
本発明の好ましい形態としては、半導体基板にシリコン基板を用い、アライメントマークがシリコン基板深さ方向の溝の開口部側に形成したシリコンと異なる材料の第1埋め込み層と溝内に形成した第1埋め込み層と異なる材料の第2埋め込み層で構成される。
第1埋め込み層の膜厚としては、5nm以上とするのが好ましい。
第1埋め込み層の材料としては、窒化シリコン、ポリシリコン、アモルファスシリコン、カーボンを含むシリコンのいずれかを用いることができる。
第1埋め込み層の膜厚としては、5nm以上とするのが好ましい。
第1埋め込み層の材料としては、窒化シリコン、ポリシリコン、アモルファスシリコン、カーボンを含むシリコンのいずれかを用いることができる。
本発明に係る固体撮像素子の製造方法は、半導体基板に、この半導体基板と識別可能な材料による埋め込み層からなり、埋め込み層の面が半導体基板の面と同一面とされたアライメントマークを形成する工程と、半導体基板の最終的に得られる所要の厚みの半導体基板の表面側及び裏面側にアライメントマークを基準にして、構成要素を形成する工程を有することを特徴とする。
本発明に係る半導体集積回路装置の製造方法は、半導体基板に、この半導体基板と識別可能な材料による埋め込み層からなり、埋め込み層の面が半導体基板の面と同一面とされたアライメントマークを形成する工程と、半導体基板の最終的に得られる所要の厚みの半導体基板の表面側及び裏面側にアライメントマークを基準にして、構成要素を形成する工程を有することを特徴とする。
上記製造方法の好ましい形態としては、半導体基板にシリコン基板を用い、溝内にシリコンと異なる材料の埋込み層を形成してアライメントマークを形成する。
このシリコンと異なる材料としては、SiO,SiN,SiC,SiON,SiOC,SiCN,ポリシリコンのいずれかの材料を用いることができる。
アライメントマークを形成するための溝のアスペクト比、すなわち溝幅または溝径Bに対する溝深さAの比A/Bを、1,0以上にすることが好ましい。
このシリコンと異なる材料としては、SiO,SiN,SiC,SiON,SiOC,SiCN,ポリシリコンのいずれかの材料を用いることができる。
アライメントマークを形成するための溝のアスペクト比、すなわち溝幅または溝径Bに対する溝深さAの比A/Bを、1,0以上にすることが好ましい。
上記製造方法の好ましい形態としては、半導体基板としてSOI基板を用い、その絶縁層をエッチング阻止層として、最終的に得られる半導体基板となる一方のシリコン層に絶縁層に達する溝を形成し、溝内に埋込み層を形成してアライメントマークを形成する工程を有する。
アライメントマークは、最終的に得られる半導体基板の表面側から裏面側に到達するように形成することが好ましい。
上記製造方法の好ましい形態としては、シリコン基板の溝にシリコンと異なる第1材料の薄膜と第1の材料と異なる第2材料の埋込み層を形成して多層構造のアライメントマークを形成する。
上記第1材料の薄膜としては、溝の開口付近の側壁部分を除いて形成することが好ましい。
上記第1材料の薄膜としては、溝の開口付近の側壁部分を除いて形成することが好ましい。
上記薄膜の第1材料として、SiO,SiN,SiCN,SiC,SiOC,SiOまたはSiONのいずれかの材料を用い、埋め込み層の第2材料として、薄膜とエッチング選択比がとれる材料を用いることができる。
SOI基板を用いた場合、必要に応じて絶縁層を除去してもよいし、絶縁層を残しすこともできる。
アライメントマークとしては、平面的に見て各辺が離れた状態の角形形状に形成することもできる。
アライメントマークとしては、平面的に見て各辺が離れた状態の角形形状に形成することもできる。
本発明の好ましい形態は、絶縁層の両面にシリコン層を有するSOI基板を用い、
最終的に得られる所要の厚みの一方のシリコン層に絶縁層をエッチング阻止層として、一方のシリコン層の主面から絶縁層に達する溝を形成する工程と、溝内に、溝開口部分を除いてシリコンと異なる材料の第2埋め込み層を形成する工程と、溝開口部分にシリコン及び第2埋め込み層と異なる材料の第1埋め込み層を形成する工程とを有し、溝と、溝内の第1埋め込み層及び第2埋め込み層とによりアライメントマークを形成する。
第1埋め込み層の材料としては、窒化シリコン、ポリシリコン、アモルファスシリコン、カーボンを含むシリコンのいずれかを用い、第2埋め込み層の材料としては、酸化シリコンを用いることができる。
最終的に得られる所要の厚みの一方のシリコン層に絶縁層をエッチング阻止層として、一方のシリコン層の主面から絶縁層に達する溝を形成する工程と、溝内に、溝開口部分を除いてシリコンと異なる材料の第2埋め込み層を形成する工程と、溝開口部分にシリコン及び第2埋め込み層と異なる材料の第1埋め込み層を形成する工程とを有し、溝と、溝内の第1埋め込み層及び第2埋め込み層とによりアライメントマークを形成する。
第1埋め込み層の材料としては、窒化シリコン、ポリシリコン、アモルファスシリコン、カーボンを含むシリコンのいずれかを用い、第2埋め込み層の材料としては、酸化シリコンを用いることができる。
本発明に係る固体撮像素子によれば、半導体基板に、識別可能な材料による埋込み層の面を半導体基板の面と同一面としたアライメントマークを有することにより、半導体基板の表裏両面からそれぞれ所要の構成要素を形成する際の、塗布材料の塗布むらが回避される。従って、半導体基板の表面側及び裏面側にパターン不良がない精度のよい構成要素、特に光学特性に優れたカラーフィルタ、オンチップレンズを有した信頼性の高い固体撮像素子を提供することができる。
本発明に係る半導体集積回路装置によれば、半導体基板に、識別可能な材料による埋込み層の面を半導体基板の面と同一面としたアライメントマークを有することにより、半導体基板の表裏両面からそれぞれ所要の構成要素を形成する際の、塗布材料の塗布むらが回避される。従って、半導体基板の表面側及び裏面側にパターン不良がない精度のよい構成要素、例えば特性に優れたトランジスタ、あるいは多層の配線層などを有した信頼性の高い半導体集積回路装置を提供することができる。
アライメントマークとして、半導体基板好ましくはシリコン基板の厚み方向に形成した溝内に、シリコンと異なる材料、例えばSiO,SiN,SiC,SiON,SiOC,SiCN,ポリシリコンのいずれかの材料による埋込み層を埋設して構成するときは、表裏両面から識別可能な精度のよいアライメントマークとなる。
アライメントマークを形成するための溝のアスペクト比、すなわち溝幅または溝径Bに対する溝深さAの比A/Bを1.0以上にすることにより、アライメントマークの露出面に凹凸、あるいはボイド等が発生しない良好なアライメントマークが得られる。
アライメントマークを形成するための溝のアスペクト比、すなわち溝幅または溝径Bに対する溝深さAの比A/Bを1.0以上にすることにより、アライメントマークの露出面に凹凸、あるいはボイド等が発生しない良好なアライメントマークが得られる。
SOI基板を用いて本発明の固体撮像素子を構成するときは、アライメントマークが、一方のシリコン層の主面からエッチング阻止層となる絶縁層に達する溝内部に埋め込まれた埋込み層で形成されるので、アライメントマークの一方のシリコン層の裏面表層では凹凸が発生しない。
アライメントマークとして、平面的に見て各辺が離れた状態の角形形状に形成するときは、4隅部分でのボイドの発生が回避し、良好な構成要素を形成することができる。
アライメントマークとして、平面的に見て各辺が離れた状態の角形形状に形成するときは、4隅部分でのボイドの発生が回避し、良好な構成要素を形成することができる。
アライメントマークを、シリコン基板の深さ方向の溝の開口部側に形成した第1埋め込み層と、溝内に形成した第1埋め込み層と異なる材料の第2埋め込み層で構成するときは、
シリコン基板の表面側に所要の構成要素を形成する際に、アライメントマーク中に埋設した第2埋め込み層が第1埋め込み層によってエッチングされることを防止することができる。また、シリコン基板の裏面の構成要素を作り込む際に懸念される表面側の構成要素、特に第2埋め込み層と同材料の構成要素のエッチングも同時に防止することができる。
第1埋め込み層の膜厚が5nm以上であると、充分にエッチングストッパとしての役割を果たし、表面側の構成要素を損なうことがない。
第1埋め込み層の材料に、窒化シリコン、ポリシリコン、アモルファスシリコン、カーボンを含むシリコンのいずれかを用い、第2埋め込み層の材料に、酸化シリコンを用いるときは、表裏両面から識別可能な精度のよいアライメントマークとなる。
シリコン基板の表面側に所要の構成要素を形成する際に、アライメントマーク中に埋設した第2埋め込み層が第1埋め込み層によってエッチングされることを防止することができる。また、シリコン基板の裏面の構成要素を作り込む際に懸念される表面側の構成要素、特に第2埋め込み層と同材料の構成要素のエッチングも同時に防止することができる。
第1埋め込み層の膜厚が5nm以上であると、充分にエッチングストッパとしての役割を果たし、表面側の構成要素を損なうことがない。
第1埋め込み層の材料に、窒化シリコン、ポリシリコン、アモルファスシリコン、カーボンを含むシリコンのいずれかを用い、第2埋め込み層の材料に、酸化シリコンを用いるときは、表裏両面から識別可能な精度のよいアライメントマークとなる。
本発明に係る固体撮像素子の製造方法によれば、半導体基板に識別可能な材料による埋込み層の面を半導体基板の面と同一面としたアライメントマークを形成するので、製造に際して塗布材料の塗布むらを生じさせることなく、半導体基板の表裏両面に所要の構成要素を形成することができる。
本発明に係る半導体集積回路装置の製造方法によれば、半導体基板に識別可能な材料による埋込み層の面を半導体基板の面と同一面としたアライメントマークを形成するので、製造に際して塗布材料の塗布むらを生じさせることなく、半導体基板の表裏両面に所要の構成要素を形成することができる。
上記製造方法において、半導体基板にシリコン基板を用い、基板の厚み方向に溝を形成してこの溝内にシリコンと異なる材料、例えばSiO,SiN,SiC,SiON,SiOC,SiCN,ポリシリコンのいずれかの材料による埋込み層を埋設してアライメントマークを形成することにより、表裏両面から識別可能な精度のよいアライメントマークを形成することができる。
上記製造方法において、アライメントマークを形成する溝のアスペクト比(A/B比)を1.0以上に設定することにより、アライメントマークの露出面に凹凸、あるいはボイド等が発生しないアライメントマークを形成することができる。
上記製造方法において、アライメントマークを形成する溝のアスペクト比(A/B比)を1.0以上に設定することにより、アライメントマークの露出面に凹凸、あるいはボイド等が発生しないアライメントマークを形成することができる。
SOI基板を用い、一方にシリコン層にその主面からエッチング阻止層となる絶縁層に達する溝を形成し、この溝内に埋込み層を埋設してアライメントマークを形成することにより、信頼性の高い固体撮像素子、あるいは半導体集積回路装置を形成するコトガえきる。
アライメントマークを、最終的に得られる半導体基板の表面側から裏面側に到達するように形成することにより、基板の表裏両面への構成要素の形成の際のアライメンを容易、正確に行うことができる。
アライメントマークを、最終的に得られる半導体基板の表面側から裏面側に到達するように形成することにより、基板の表裏両面への構成要素の形成の際のアライメンを容易、正確に行うことができる。
上記製造方法において、アライメントマークをシリコンと異なる第1材料の薄膜と第1材料と異なる第2材料の埋込み層とによる多層構造で形成するときは、特にSOI基板を用いたときの他方のシリコン層及び絶縁層の除去工程で、アライメントマークの埋込み層を除去することがない。
第1材料としてSiO,SiN,SiCN,SiC,SiOC,SiOまたはSiONのいずれかの材料を用い、埋め込み層の第2材料として薄膜とエッチング選択比がとれる材料を用いることにより、多層構造のアライメントマークを精度良く形成することができる。
さらに第1材料の薄膜を、溝の開孔付近の側壁部分を除いて形成するときは、第1材料の薄膜が基板表面に延在せず、基板表面の平坦性を確保することができる。
第1材料としてSiO,SiN,SiCN,SiC,SiOC,SiOまたはSiONのいずれかの材料を用い、埋め込み層の第2材料として薄膜とエッチング選択比がとれる材料を用いることにより、多層構造のアライメントマークを精度良く形成することができる。
さらに第1材料の薄膜を、溝の開孔付近の側壁部分を除いて形成するときは、第1材料の薄膜が基板表面に延在せず、基板表面の平坦性を確保することができる。
アライメントマークを、平面的に見て各辺が離れた状態の角形形状に形成するときは、角形形状の4隅で発生し易いボイドの発生を阻止することができる。
SOI基板を用いて、一方のシリコン層に絶縁層に達する溝を形成し、溝内に、溝開口部分を除いてシリコンと異なる材料の第2埋め込み層を形成し、溝開口部分にシリコン及び前記第2埋め込み層と異なる材料の第1埋め込み層を形成して、アライメントマークを形成することにより、シリコン層の表面側に所要の構成要素を形成する際に、アライメントマーク中に埋設した第2埋め込み層のエッチングを第1埋め込み層によって防止することができる。また、シリコン層の裏面の構成要素を作り込む際も、懸念される表面側の構成要素、特に第2埋め込み層と同材料の構成要素のエッチングを防止することができる。
第1埋め込み層の材料として窒化シリコン、ポリシリコン、アモルファスシリコン、カーボンを含むシリコンのいずれかを用い、第2埋め込み層の材料として酸化シリコンを用いることにより、アライメントマークを精度良く形成することができる。
第1埋め込み層の材料として窒化シリコン、ポリシリコン、アモルファスシリコン、カーボンを含むシリコンのいずれかを用い、第2埋め込み層の材料として酸化シリコンを用いることにより、アライメントマークを精度良く形成することができる。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
図1は、本発明に係る固体撮像素子を、裏面照射型のCMOS固体撮像素子に適用した場合の一実施の形態を示す。なお、図1は、画素がマトリックスじょうに配列された撮像領域とその周辺に形成された周辺回路部と含む要部の概略構成を示している。
本実施の形態に係る裏面照射型のCMOS固体撮像素子1は、半導体基板、例えばシリコン半導体基板2の撮像領域3に1つのフォトダイオードPDと複数のMOSトランジスタTr1 で構成された単位画素5がマトリックス状に複数形成され、周辺領域4に複数のCMOSトランジスタからなる周辺回路部6が形成されて成る。
本実施の形態に係る裏面照射型のCMOS固体撮像素子1は、半導体基板、例えばシリコン半導体基板2の撮像領域3に1つのフォトダイオードPDと複数のMOSトランジスタTr1 で構成された単位画素5がマトリックス状に複数形成され、周辺領域4に複数のCMOSトランジスタからなる周辺回路部6が形成されて成る。
半導体基板2は薄膜化されており、フォトダイオードPDは半導体基板2の表面側から裏面側に至るように形成される。また、周辺回路部6のCMOSトランジスタTr2 も、それぞれ半導体基板2に形成した対のソース・ドレイン領域間上にゲート絶縁膜を介してゲート電極21を形成して構成される。半導体基板2の撮像領域3及び周辺領域4の表面上には、層間絶縁膜8を介して多層の配線層9は形成される。この多層配線層9は、フォトダイオードPD上に重なるように形成されて良い。さらに、配線層9上には固体撮像素子の機械的強度を保持するために、例えばシリコン基板などによる支持基板10が接着層11を介して貼り合わされる。一方、半導体基板2の裏面側には、反射防止膜12を介してカラーフィルタ14及びその上に各画素5に対応したオンチップレンズ15が形成される。このCMOS固体撮像素子1においては、基板裏面からオンチップレンズ15を通じてフォトダイオードPDに対して光が照射されるようになされる。
そして、本実施の形態においては、特に、半導体基板2に表裏両面を平坦化したアライメントマーク17が形成される。このアライメントマーク17は、基板表面側から各画素5のフォトダイオードPDやMOSトランジスタTr1 、周辺回路部6のCMOSトランジスタTr2 、多層配線層9等の構成要素を形成するときと、これら基板表面側の構成要素のパターンに合わせて基板裏面側からカラーフィルタ14、オンチップレンズ15等の構成要素を形成するときのパターン合せに用いられる。アライメントマーク17は、半導体基板2の厚み方向(すなわち深さ方向)に基板表面から基板裏面に達するように形成した溝(いわゆるトレンチまたはヴィアホール)8内に、半導体基板2の例えばシリコンと識別可能な材料の埋込み層19を形成し、埋込み層19の表面及び裏面を半導体基板2の表面及び裏面と同一面となるようにして構成される。
アライメントマーク17は、固体撮像素子内のいずれかの部分に形成されてもよいが、好ましくは撮像領域3及び周辺回路部6から離れた周辺のフィールド領域に20形成するのが適当である。製造時には、このアライメントマーク17を基準にして、すなわち、基板の表面側及び裏面側からアライメントマーク17を識別してパターン合わせが行われ、各フォトダイオード、MOSトランジスタ、多層配線層、カラーフィルタ、オンチップレンズ等の構成要素が形成される。
アライメントマーク17としては、シリコンと異なる材料、例えば酸化シリコン(SiO)、窒化シリコン(SiN)、炭化シリコン(SiC)、酸化窒化シリコン(SiON)、酸化炭化シリコン(SiOC)、炭化窒化シリコン(SiCN),ポリシリコン等により形成することができる。
本実施の形態のCMOS固体撮像素子1は、絶縁層を挟んで両面にシリコン層を有したいわゆるSOI基板を用いて構成することができる。SOI基板は、一方のシリコン層を支持基板としてその上面に絶縁層を介して素子形成部となる薄膜の他方のシリコン層を形成した通常のSOI基板で形成される。SOI基板を用いた場合は、薄膜のシリコン層が上記した半導体基板2に相当する。このときのアライメントマーク17は、絶縁層をエッチング阻止層として薄膜のシリコン層に、表面から絶縁層に達するようにエッチングにより溝18を形成し、この溝18内にシリコンと異なる上記材料の埋込み層19を埋め込んで形成される。薄膜のシリコン層の表面側からフォトダイオードPD、MOSトランジスタTr1 ,Tr2 、多層配線層9等の構成要素を形成し、支持基板10を貼り合せた後、他方のシリコン層、従ってシリコン基板を研磨、エッチング等により除去し、薄膜のシリコン層の裏面を露出させる。この裏面側にカラーフィルタ14、オンチップレンズ15等の構成要素が形成される。
なお、SOI基板を用いた場合、必要に応じて絶縁層を最終的に残すようにして固体撮像素子1を構成することができる。
なお、SOI基板を用いた場合、必要に応じて絶縁層を最終的に残すようにして固体撮像素子1を構成することができる。
図2に裏面照射型のCMOS固体撮像素子1の単位画素5の具体的一例を示す。この例では、第1導電型、例えばn型のシリコン基板2に各画素領域31を区画するように第2導電型であるp型の半導体領域からなる画素分離領域32が形成される。画素領域31のn型半導体基板2は比較的に低不純物濃度のp型半導体領域で形成される。画素領域31のn型半導体基板2には、その表面にp型画素分離領域32に接続して一部画素領域31内に延在するようにp型半導体ウェル領域33が形成される。光電変換部となるフォトダイオードPDは、p型画素分離領域32及びp型半導体ウェル領域33により囲まれたn型半導体基板2で形成される。すなわち、フォトダイオードPDは、n型半導体領域2Aとその表面側の高不純物濃度のn+半導体領域2Bとにより形成される。n+半導体領域2Bの表面側の界面には、暗電流発生を抑制するための高不純物濃度のp型半導体領域からなるp+アキュミュレーション層34が形成される。さらに、各画素領域31に共通に、n型半導体基板2の裏面、すなわちn型半導体領域2Aの裏面側の界面に暗電流発生を抑制するための高不純物濃度のp半導体領域からなるp+アキュミュレーション層35が形成される。
このフォトダイオードPDは、n+半導体領域2Bの表面及びn半導体領域2Aの裏面にp+アキュミュレーション層34及び35を有するので、いわゆるHAD(Hole Accumulation Diode)センサとして構成される。また、フォトダイオードPDは、n半導体領域2Aがp型半導体ウェル領域33の下方に延在するので、画素領域の全体にわたるように大面積で形成される。
一方、MOSトランジスタTr1 は、p型半導体ウェル領域33に形成される。すなわち、1画素を1フォトダイオードPDと4つのMOSトランジスタで構成するときは、MOSトランジスタTr1 は、読出しトランジスタ、リセットトランジスタ、アンプトランジスタ及び垂直選択トランジスタを有する。図2では、p型半導体ウェル領域33内にフォトダイオードに近接して一方のn+ソース・ドレイン領域37が形成され、この一方のn+ソース・ドレイン領域37と他方のソース・ドレイン領域を兼ねるフォトダイオードPDのn+半導体領域2B間のp型半導体ウェル領域33上にゲート絶縁膜を介してゲート電極7が形成されて読出しトランジスタTr11が形成される。p型半導体ウェル領域3の他部には、各対応したn+ソース・ドレイン領域38、39が形成され、両n+ソース・ドレイン領域38及び39間のp型半導体ウェル領域33上にゲート絶縁膜を介してゲート電極7が形成されて、他のMOSトランジスタ、すなわちリセットトランジスタTr12,アンプトランジスタTr13,垂直選択トランジスタTr14が形成される。
そして、半導体基板2の表面には、例えば酸化シリコン膜等による層間絶縁膜8を介して多層配線9が形成され、層間絶縁膜8上に例えばシリコン基板による支持基板10が接合される。半導体基板2の裏面の光照射面41には、反射防止膜12が形成され、この反射防止膜12の上にカラーフィルタ14を介してオンチップレンズ15が形成される。
次に、図3〜図7を用いて上述した裏面照射型のCMOS固体撮像素子1の製造方法の一実施の形態を説明する。
本実施の形態においては、先ず、図3Aに示すように、絶縁層51の両面にシリコン層52及び53を有するSOI基板54を用いる。ここでは、シリコン層53がシリコン基板となり、この基板53上に絶縁層51を介して薄膜のシリコン層52を形成したSOI基板54を用いる。この絶縁層53は、シリコン層52をエッチングする後工程でエッチング阻止層となるもので、シリコンと異なるエッチング比をもつ材料で形成する。本例では絶縁層51をシリコン酸化層で形成される。
本実施の形態においては、先ず、図3Aに示すように、絶縁層51の両面にシリコン層52及び53を有するSOI基板54を用いる。ここでは、シリコン層53がシリコン基板となり、この基板53上に絶縁層51を介して薄膜のシリコン層52を形成したSOI基板54を用いる。この絶縁層53は、シリコン層52をエッチングする後工程でエッチング阻止層となるもので、シリコンと異なるエッチング比をもつ材料で形成する。本例では絶縁層51をシリコン酸化層で形成される。
次に、図3Bに示すように、SOI基板54の一方のシリコン層(表面側のシリコン層)52にアライメントマークのパターンと同じパターンの溝18をシリコン層52の厚さ方向(いわゆる深さ方向)に形成する。すなわち、シリコン層52の所要の領域、本例では各撮像チップの周辺部のフィールド領域に対応する領域20に、シリコン層52の表面52aから裏面52bに達するように、アライメントマークと同じパターンの溝18を形成する。このとき、絶縁層51がエッチング阻止層として作用し、絶縁層51上までエッチングして溝18を形成する。
次に、図4Cに示すように、シリコン層52の溝18内に例えばCVD法等によりシリコンと識別可能でかつシリコンとエッチング比がとれる材料、本例では酸化シリコン膜19aを埋め込む。このとき、酸化シリコン膜19aは、溝18内を充填すると共に、シリコン層52の表面上にも堆積する。
次いで、図4Dに示すように、シリコン層52の上面の酸化シリコン膜19aをエッチバック等により除去して、酸化シリコン膜19aによる埋込み層19を形成してアライメントマーク17を形成する。このとき、アライメントマーク17の面はシリコン層の表面52aと同一面となる。
次いで、図4Dに示すように、シリコン層52の上面の酸化シリコン膜19aをエッチバック等により除去して、酸化シリコン膜19aによる埋込み層19を形成してアライメントマーク17を形成する。このとき、アライメントマーク17の面はシリコン層の表面52aと同一面となる。
次に、図5Eに示すように、アライメントマーク17を基準として、シリコン層52の撮像領域3に表面側から画素分離領域、半導体ウェル領域、フォトダイオードPD、MOSトランジスタTr1 、周辺領域4のCMOSトランジスタTr2 等を形成し、さらに、アライメントマーク17を基準として、撮像領域3及び周辺領域4上に層間絶縁膜8を介して多層の配線層9を形成する。
次に、図5Fに示すように、シリコン層52側の層間絶縁膜8上に、支持基板10を貼り合せるために例えば有機膜や、SOG材料からなる接着層11を形成する。
次に、図6Gに示すように、接着層11を介して例えばシリコンSiや酸化シリコンSiO2等からなる支持基板11とSOI基板54の上の層間絶縁膜8とを貼り合せる。
次に、図6Gに示すように、接着層11を介して例えばシリコンSiや酸化シリコンSiO2等からなる支持基板11とSOI基板54の上の層間絶縁膜8とを貼り合せる。
次に、図6Hに示すように、SOI基板54を反転させる。
次に、図7Iに示すように、シリコン層(シリコン基板)53をフォトダイオードPDが表層に臨むように、研磨、エッチング等により酸化シリコン層51とエッチング選択比を取りながら精度良く除去氏、続いてエッチング阻止層である酸化シリコン層51をシリコンとエッチング選択比を取りながら除去する。これによって、薄膜のシリコン層52の裏面52bが露出する。
次に、図7Iに示すように、シリコン層(シリコン基板)53をフォトダイオードPDが表層に臨むように、研磨、エッチング等により酸化シリコン層51とエッチング選択比を取りながら精度良く除去氏、続いてエッチング阻止層である酸化シリコン層51をシリコンとエッチング選択比を取りながら除去する。これによって、薄膜のシリコン層52の裏面52bが露出する。
次に、図7Jに示すように、薄膜のシリコン層52の裏面52bの全面に反射防止膜12を形成し、さらにアライメントマーク17を基準にしてフォトダイオードPDと位置整合するように、カラーフィルタ14及びオンチップレンズ15を形成する。
次に、図示せざるも、このウェハをスクライブラインから分離して各撮像チップ、すなわち図1に示す裏面照射型のCMOS固体撮像素子1を得る。
なお、アライメントマーク17は、各撮像チップ毎に形成する以外に、露光工程でのステッパーの各1ショット露光領域毎に、撮像素子に影響を与えない複数箇所に形成することも可能である。また、アライメントマーク17の形成場所としては、各撮像チップを分離するためのスクライブライン上に形成するようにしても良い。
上例では、裏面52b側から形成する構成要素は、カラーフィルタ14、オンチップレンズ15としたが、原理的には表面52a側から形成したフォトダイオードPD等の構成要素を、裏面52b側から形成することも可能である。
上例では、SOI基板を用いて固体撮像素子1を製造したが、シリコンのバルク基板を用いて同様に製造することが可能である。その場合、溝18は基板の一定深さまで形成するようになし、シリコン基板の薄膜化では、フォトダイオードPDが表層にくるように基板裏面を研磨、エッチングして薄膜化する。
上例では、SOI基板を用いて固体撮像素子1を製造したが、シリコンのバルク基板を用いて同様に製造することが可能である。その場合、溝18は基板の一定深さまで形成するようになし、シリコン基板の薄膜化では、フォトダイオードPDが表層にくるように基板裏面を研磨、エッチングして薄膜化する。
上述の本実施の形態に係る裏面照射型のCMOS固体撮像素子1によれば、シリコン基板2に基板両面と同一面を有するように形成した埋込み層19によるアライメントマーク17を設けることにより、表面側からフォトダイオードPD、MOSトランジスタTr1 ,CMOSトランジスタTr2 、多層の配線層9などの構成要素を形成する際、また裏面側からカラーフィルタ14、オンチップレンズ15等の構成要素を形成する際に、塗布材料の塗布むらの発生がなく、パターン不良が発生しない精度の良いこれらの構成要素を形成することができる。また、光学的にコントラストが取れるシリコン以外の材料で埋込み層19を埋設してアライメントマーク17を形成することにより、通常の露光装置において表裏面のアライメントを実施することができる。従って、構成要素のパターン不良がなく、信頼性の高い裏面照射型のCMOS固体撮像素子を提供することができる。
SOI基板54を用いて裏面照射型のCMOS固体撮像素子1を構成するときは、SOI基板54の絶縁層51が溝18の形成に際のエッチング阻止層として作用し、溝18を一定深さで形成することができる。そしてこの溝18内に埋込み層を埋設してアライメントマーク17が形成されるので、表面側のシリコン層53を薄膜化した際に、裏面側の薄膜のシリコン層42の裏面表層に凹凸が発生せず、平坦化された基板面となる。従って、構成要素のパターン不良がなく、信頼性の高い裏面照射型のCMOS固体撮像素子を提供することができる。
SOI基板54を用いて裏面照射型のCMOS固体撮像素子1を構成するときは、SOI基板54の絶縁層51が溝18の形成に際のエッチング阻止層として作用し、溝18を一定深さで形成することができる。そしてこの溝18内に埋込み層を埋設してアライメントマーク17が形成されるので、表面側のシリコン層53を薄膜化した際に、裏面側の薄膜のシリコン層42の裏面表層に凹凸が発生せず、平坦化された基板面となる。従って、構成要素のパターン不良がなく、信頼性の高い裏面照射型のCMOS固体撮像素子を提供することができる。
次に、図8から図10を用いてアライメントマーク17の構造に関してさらに説明する。図8Aは、アライメントマーク17の断面構造を示し、前述の図3Dの工程に相当する。フォトダイオードPDが形成されるシリコン層52の表面側からエッチングで溝(いわゆるトレンチ、あるいはヴィアホール)18を形成する。SOI基板54を用いた場合には、絶縁層(例えばSiO2層)51とエッチング選択比をとることができるため、精度よく溝18の深さを制御することができる。
溝18を形成した後、シリコン以外の材料、例えば酸化シリコン(SiO2)、窒化シリコン(SiN)、酸化窒化シリコン(SiON)、炭化シリコン(SiC)、酸化炭化シリコン(SiOC)、炭化窒化シリコン(SiCN),ポリシリコンなどの材料を溝18内に、例えばCVD法や塗布法によって埋設する。このとき、溝18に起因した段差を発生させないために、アライメントマーク17のアスペクト比A:B(図10参照)は、1:1以上(つまり、溝18の溝幅Bに対する溝深さAの比=A/Bが1.0以上)に設定することが好ましい。これは次のような理由による。アスペクト比(A/B比)が1.0以上のときは、図10Aに示すように、埋込み層19の材料を溝深さAの1/2の膜厚(A/2)で成膜しも段差が発生しない。これに対して、アスペクト比(A/B比)が1.0より小さくなると、図10Bに示すように、埋込み層19の材料を溝深さAの1/2の膜厚(A/2)で成膜すると段差が発生する。
アライメントマーク17のアスペクト比の上限は、絶縁膜の埋め込みの特性限界からA/B=50とするのが好ましい。
なお、シリコン層52の表面上に成膜されたアライメントマーク部以外の上記材料膜は、例えばCMP(化学的機械的研磨)法やEB(エッチバック)法で除去する(図4C,D参照)。
アライメントマーク17のアスペクト比の上限は、絶縁膜の埋め込みの特性限界からA/B=50とするのが好ましい。
なお、シリコン層52の表面上に成膜されたアライメントマーク部以外の上記材料膜は、例えばCMP(化学的機械的研磨)法やEB(エッチバック)法で除去する(図4C,D参照)。
このように、アライメントマーク17の溝18のアスペクト比(A/B)を1.0以上に選定することにより、基板を裏面側からシリコンを薄膜化してアライメントマーク17が露出しても、アライメントマーク17の露出面に凹凸が発生しない。さらにシリコンとのコントラストがとれるため、裏面形成時の塗布膜系の不良が発生せず、精度よく表面側のパターンとアライメントすることができる。
なお、図10において、場合によっては、溝18を絶縁層51内に入るように、少しオーバーエッチングして形成し、アライメントマークを出っ張らすこともできる。この方が、良好にアライメントがとれる場合がある。
なお、図10において、場合によっては、溝18を絶縁層51内に入るように、少しオーバーエッチングして形成し、アライメントマークを出っ張らすこともできる。この方が、良好にアライメントがとれる場合がある。
図8B及び図8Cに、図8Aのアライメントマーク17を上面から見たパターン形状の例を示す。図8Bのアライメントマーク17は、細長い長方形をなす複数の線状部17aを平行配列したパターン形状とした場合である。図8Cのアライメントマーク17は、円形の複数の粒状部17bを配列したパターン形状とすいた場合である。この場合、複数の粒状部17bを縦方向に配列した粒状列17bbを複数配列したパターン形状としており、複数(例えば5つ)の粒状列17bbで、図8Bの1本分の線状部17aに相当する。図10Bに示すような段差を発生させないためにアスペクト比A/Bを大きくした場合、シリコン酸化膜19aの埋設が厳しくなる可能性がある。このような場合には、図8Cに示す円形の粒状部17bによるパターンを適用することが好ましい。粒状部17aを並べることにより、あたかも1つの細長い長方形にパターンのように検出される。
また、アスペクト比A/Bが大きい場合には、図9Aに示すように、中間を除いた環状長方形のパターンにアライメントマーク17を形成することができる。さらに、図9Aのパターンにおいて、4隅部分Qにボイド発生の虞がある。このときには、図9Bに示すように、ボイド発生を抑制するために、4隅部分を削除した長方形パターンのアライメントマーク17とすることができる。この場合には、各辺へのシリコン酸化膜17aが埋設し易くなる。
図11は、本発明に係る固体撮像素子のアライメントマークの部分の他の実施の形態を示す。前述の図8Aで示すアライメントマーク17をシリコン酸化膜で埋設して形成した場合、SOI基板54の裏面側を薄膜化する工程の中で、エッチング阻止層であるシリコン層51をエッチングする際に、アライメントマーク17となるシリコン酸化層52をも一部同時にエッチングしてしまう虞がある。この対策に適した構成を図11に示す。
本実施の形態においては、SOI基板54の素子形成部となる一方のシリコン層52側に形成した溝18の内面に、シリコン酸化層51とエッチング選択比を有する第1材料による薄膜57をライナー(裏打ち)膜として形成し、その後溝17内に第1材料の薄膜57と異なる第2材料の埋め込み層19を埋設形成して、多層構造のアライメントマーク17を形成する。第1材料としては、SiN,SiC,SiOC等の絶縁材料を用いることができる。第2材料は、第1材料と異なり且つ第1材料とエッチング選択比を有する材料、本例ではSiOを用いることができる。SOI基板54の絶縁層51としてSiO2層以外の絶縁層で形成されるときは、第1材料としてSiOを用いることができる。第1材料、第2材料は、上記の材料に限定されるものではない。
本実施の形態の多層構造のアライメントマーク17によれば、SOI基板54の裏面からシリコン酸化層51をエッチングする際に、埋め込み層19であるリコン酸化膜19aがエッチングされることがなく、正常なアライメントマーク17が形成できる。
本実施の形態の多層構造のアライメントマーク17によれば、SOI基板54の裏面からシリコン酸化層51をエッチングする際に、埋め込み層19であるリコン酸化膜19aがエッチングされることがなく、正常なアライメントマーク17が形成できる。
図12は、本発明に係る固体撮像素子のアライメントマークの部分の他の実施の形態を示す。本実施の形態においては、前述の図11の多層構造のアライメントマーク17において、その溝18内の開口付近の第1材料の薄膜57を除去して構成される。
本実施の形態の多層構造のアライメントマーク17によれば、第1材料の薄膜57の形成において、この薄膜57がシリコン層52の表面に一部延長して形成されたとしても、最終的に溝18内の開口付近には薄膜57が形成されないようにしたので、シリコン層52の表面の平坦性を確保することができる。
本実施の形態の多層構造のアライメントマーク17によれば、第1材料の薄膜57の形成において、この薄膜57がシリコン層52の表面に一部延長して形成されたとしても、最終的に溝18内の開口付近には薄膜57が形成されないようにしたので、シリコン層52の表面の平坦性を確保することができる。
図13〜図16は、本発明に係る固体撮像素子、すなわち前述と同様の裏面照射型のCMOS固体撮像素子の更に他の実施の形態を示す。同図ではアライメントマークの部分のみを、その製造工程と共に示す。
前述のアライメントマーク17をシリコン酸化膜で埋設して形成した場合、アライメントマーク形成後の素子、配線層を形成する工程において、アライメントマーク17となる溝18中に埋設したシリコン酸化膜19aがエッチングされ、膜はがれ、層間膜のエッチングなどが発生する虞がある。さらに、裏面素子を作り込む際に、シリコン層52の表面側に素子、多層配線層などを形成したSOI基板54と、支持基板10とを貼り合わせた後、裏面研削工程(シリコン基板を機械的に削り、薄くする工程)や裏面研削工程後のCMP(化学的機械的研磨)工程、その後にSi剥離の為の薬液処理を行い、その後、SOI基板のエッチング阻止層であるシリコン酸化層51を濃度の高いフッ酸を用いて剥離する。このフッ酸によるシリコン酸化層51のエッチング除去のとき、図17に示すように、アライメントマーク17となる溝18内のシリコン酸化膜19aがエッチングされ、さらにはシリコン層52の表面側に形成した層間絶縁膜、多層配線からなる表面形成層79までもエッチングし、空洞82が形成されてしまう虞がある。本実施の形態は、この対策に適するものである。
前述のアライメントマーク17をシリコン酸化膜で埋設して形成した場合、アライメントマーク形成後の素子、配線層を形成する工程において、アライメントマーク17となる溝18中に埋設したシリコン酸化膜19aがエッチングされ、膜はがれ、層間膜のエッチングなどが発生する虞がある。さらに、裏面素子を作り込む際に、シリコン層52の表面側に素子、多層配線層などを形成したSOI基板54と、支持基板10とを貼り合わせた後、裏面研削工程(シリコン基板を機械的に削り、薄くする工程)や裏面研削工程後のCMP(化学的機械的研磨)工程、その後にSi剥離の為の薬液処理を行い、その後、SOI基板のエッチング阻止層であるシリコン酸化層51を濃度の高いフッ酸を用いて剥離する。このフッ酸によるシリコン酸化層51のエッチング除去のとき、図17に示すように、アライメントマーク17となる溝18内のシリコン酸化膜19aがエッチングされ、さらにはシリコン層52の表面側に形成した層間絶縁膜、多層配線からなる表面形成層79までもエッチングし、空洞82が形成されてしまう虞がある。本実施の形態は、この対策に適するものである。
すなわち、本実施の形態においては、先ず、図13Aに示すように、前述と同様のシリコン酸化層51を挟んで両面にシリコン層52及び53を有したSOIキバン4を用いる。このSOI基板54の一方のシリコン層52の表面に熱シリコン酸化膜71、シリコン窒化膜72及びシリコン酸化膜73を形成し、このシリコン酸化膜73上にアライメントマークを形成するための所望パターンのレジストマスク(図示せず)を形成する。レジストマスクは、フォトレジスト膜を形成し、リソグラフィ法を用いパターニングして形成される。このレジストマスクを介して、下層に形成されているシリコン酸化膜73、シリコン窒化膜72からなるいわゆるハードマスク75をドライエッチング法でパターニングし、アライメントマークのパターンに対応した開口74を形成する。このときのハードマスク75は、後述する深い溝18を形成するために必要となる。
次に、図13Bに示すように、シリコン酸化膜73及びシリコン窒化膜72からなるハードマスク75を介して、素子を形成する活性層となるシリコン層72を選択エッチングしてシリコン酸化層51に達する溝18を形成する。そして、ハードマスク65を例えば薬液処理などで一部シリコン窒化膜72が薄く残るように剥離する。なお、ハードマスク75は、剥離を行わずに次の工程処理を行ってもよい。
次に、図13Cに示すように、溝18内に例えば減圧TEOS(有機シラン)膜、すなわち減圧CVDのシリコン酸化膜19aを充填する。このとき、ハードマスクとして用いたシリコン窒化膜72上にもシリコン酸化膜18aは堆積する。
次に、図14Dに示すように、溝18内のシリコン酸化膜18aのみを残し、CMP(化学的機械的研磨)法を用いて、表面に堆積されているシリコン酸化膜19aを、ハードマスクとして用いたシリコン窒化膜72が露出するまで研磨する。
次に、図14Eに示すように、フッ酸などの薬液処理を行い、溝18内に埋設されているシチコン酸化膜19aの一部を所要の深さまで除去する。本例では溝18に埋設したシリコン酸化膜19aの表面を、SOI基板54側のシリコン層52が露出程度までエッチングし、溝18の開口に段差66を形成する。
次に、図14Fに示すように、溝18の段差66を埋め込むように全面にSOI基板54のエッチング阻止層となるシリコン酸化層51及び溝18に埋設されたシリコン酸化膜18aとエッチング選択比が異なる材料層、例えばシリコン窒化膜78を形成する。本例では減圧CVD法を用いてシリコン窒化膜78を形成する。
次に、図15Gに示すように、溝18内(すなわち溝開口付近)のシリコン窒化膜78が残るようにシリコン層52表面上のシリコン窒化膜78及びハードマスクとして用いたシリコン窒化膜52を例えば熱リン酸処理により剥離する。残すシリコン窒化膜78の膜厚は、後述のシリコン酸化膜19aがエッチングされるときに充分エッチングストッパとなり得る5nm以上とする。シリコン窒化膜78の膜厚の上限は、アライメントマークのバリエーションと、SiNCVD特性を考慮して1000nm程度とすることができる。なお、熱リン酸処理に限らず、例えばフッ酸グリセロール、フッ酸エチレングリコールなどの混合液を用いてもよい。このようにして、溝18内にシリコン酸化膜19a及びシリコン窒化膜78が充填されアライメントマーク17が形成される。
次に、アライメントマーク17を用いてシリコン層52に素子分離領域を形成し、さらに図15Hに示すように、シリコン層52の表面側に素子(例えばMOSトランジスタ、フォトダイオードなど)を形成し、さらにゲート絶縁膜、ゲート電極、層間前絶縁膜を介して多層配線を形成した、いわゆる表面形成層79を形成する。
次に、図15Iに示すように、SOI基板54の表面形成層79側に接着層11を介して支持基板10を貼り合わせる。
次にで、図16Jに示すように、裏面研削処理、CMP処理、薬液によるエッチング処理などを行い、エッチング阻止層であるシリコン酸化層51が露出するまで、シリコン層53を除去する。
次にで、図16Jに示すように、裏面研削処理、CMP処理、薬液によるエッチング処理などを行い、エッチング阻止層であるシリコン酸化層51が露出するまで、シリコン層53を除去する。
次に、シリコン酸化層51をエッチング除去する。このエッチングを濃度の高いフッ酸で処理した場合、図16Kに示すように、溝18の底が露出して溝18内に埋設されているシリコン酸化膜19aがエッチングされたとても、溝18の開口側にシリコン窒化膜78が埋設されているので、このシリコン窒化膜68により、エッチング液のそれ以上の侵入を防止し、表面形成層79をエッチングすることはない。
これ以後は、前述と同様に、シリコン層52の裏面側に反射防止膜を形成し、さらにアライメントマーク17を基準にフォトダイオードPDと位置整合するように、カラーフィルタ及びオンチップレンズを形成する。
これにより、裏面側からSOI基板を薄膜化してアライメントマーク17が露出しても、アライメントマーク17はシリコン(Si)とコントラストがとれるので、裏面形成時の塗布膜系の不良及びが発生せず、精度よく表面側のパターンとアライメントができる。
本実施の形態にかかる裏面照射型のCMOS固体撮像素子によれば、シリコン層52に基板面と同一面を有するように形成した埋め込み層19a、78によるアライメントマーク17を設けることにより、表面側からフォトダイオード、MOSトランジスタ、多層配線層の表面形成層79などの構成要素を形成する際に、塗布材料の塗布むらの発生がなく、パターン不良が発生しない精度の良いこれらの構成要素を形成することができる。また、光学的ニコントラストが取れるシリコン以外に材料で埋め込み層19a、78を埋設してアライメントマーク17を形成することにより、通常の露光装置において表裏面のアライメントを実施することができる。裏面側にカラーフィルタ、オンチップレンズを形成するが、このときにアライメントマーク17に空洞が露出しても(図16K参照)、カラーフィルタ、オンチップレンズのパターン精度に大きな問題は生じない。従って、構成要素のパターン不良がなく、信頼性の高い裏面照射型のCMOS固体撮像素子を提供することができる。
そして、本実施の形態では、上述したようにアライメンマークを構成する溝18内にシリコン酸化膜19aと共にシリコン窒化膜78が埋め込まれているので、フォトダイオード、MOSトランジスタなどの素子、多層配線などの表面形成層79を形成する際に、アライメントマーク17中に埋設したシリコン酸化膜19aがエッチングされることを防止することができる。アライメントマークの平坦性を維持することができる。さらに、裏面の構成要素(反射防止膜、カラーフィルタ、オンチップレンズなど)などを作り込む際に懸念される表面形成層79、特にその層間絶縁膜のエッチングも同時に防止することができる。
そして、本実施の形態では、上述したようにアライメンマークを構成する溝18内にシリコン酸化膜19aと共にシリコン窒化膜78が埋め込まれているので、フォトダイオード、MOSトランジスタなどの素子、多層配線などの表面形成層79を形成する際に、アライメントマーク17中に埋設したシリコン酸化膜19aがエッチングされることを防止することができる。アライメントマークの平坦性を維持することができる。さらに、裏面の構成要素(反射防止膜、カラーフィルタ、オンチップレンズなど)などを作り込む際に懸念される表面形成層79、特にその層間絶縁膜のエッチングも同時に防止することができる。
図18は、本発明に係る固体撮像素子のアライメントマークの部分のさらに他の実施の形態を示す。本実施の形態においては、図18A(図16J工程に対応する)に示すように、シリコン層52に溝18を形成し、溝18の表面側開口付近にシリコン窒化膜78を埋設すると共に、溝18の内壁にもシリコン窒化膜を形成し、シリコン窒化膜78,80で囲まれるように溝18内にシリコン酸化膜19aを埋設してアライメントマーク17を形成する。この場合、シリコン酸化膜19aの底もシリコン窒化膜80で被覆され、アライメントマーク17はシリコン層52の面と同一面に形成される。
次に、図18Bに示すように、濃度の高いフッ酸でシリコン酸化層51を除去する。このとき、アライメントマーク17の内壁、特に溝底に形成したシリコン窒化膜80が破綻して(図18Bの符号83参照)、埋設されているシリコン酸化膜19aがエッチングされても、溝開口付近に形成したシリコン窒化膜78により、表面形成層79へのフッ酸の侵入を抑制できる。
図18の実施の形態にかかる裏面照射型のCMOS固体撮像素子によれば、シリコン層52に基板両面と同一面を有するように形成した埋め込み層19a、78、80によるアライメントマーク17を設けることにより、表面側からフォトダイオード、MOSトランジスタ、多層配線層の表面形成層79などの構成要素を形成する際に、また裏面側からマラーフィルタ、オンチップレンズなどの構成要素を形成する際に、塗布材料の塗布むらの発生がなく、パターン不良が発生しない精度の良いこれらの構成要素を形成することができる。また、光学的ニコントラストが取れるシリコン以外に材料で埋め込み層19a、78を埋設してアライメントマーク17を形成することにより、通常の露光装置において表裏面のアライメントを実施することができる。裏面側にカラーフィルタ、オンチップレンズを形成するが、このときにアライメントマーク17に空洞が露出しても(図16K参照)、カラーフィルタ、オンチップレンズのパターン精度に大きな問題は生じない。従って、構成要素のパターン不良がなく、信頼性の高い裏面照射型のCMOS固体撮像素子を提供することができる。
そして、本実施の形態では、上述したようにアライメンマークを構成する溝18内にシリコン酸化膜19aと供に、シリコン酸化膜19aを取り囲むようにシリコン窒化膜78が埋め込まれているので、フォトダイオード、MOSトランジスタなどの素子、多層配線などの表面形成層79を形成する際に、アライメントマーク17中に埋設したシリコン酸化膜19aがエッチングされることを防止することができる。アライメントマークの平坦性を維持することができる。さらに、裏面の構成要素(反射防止膜、カラーフィルタ、オンチップレンズなど)などを作り込む際に、図18Bに示すように、溝底のシリコン窒化膜80が破綻したとしても(図18Bの符号83参照)、シリコン窒化膜78により懸念される表面形成層79、特にその層間絶縁膜のエッチングも同時に防止することができる。このときにアライメントマーク17に空洞が露出しても(図18B参照)、カラーフィルタ、オンチップレンズのパターン精度に大きな問題は生じない。
そして、本実施の形態では、上述したようにアライメンマークを構成する溝18内にシリコン酸化膜19aと供に、シリコン酸化膜19aを取り囲むようにシリコン窒化膜78が埋め込まれているので、フォトダイオード、MOSトランジスタなどの素子、多層配線などの表面形成層79を形成する際に、アライメントマーク17中に埋設したシリコン酸化膜19aがエッチングされることを防止することができる。アライメントマークの平坦性を維持することができる。さらに、裏面の構成要素(反射防止膜、カラーフィルタ、オンチップレンズなど)などを作り込む際に、図18Bに示すように、溝底のシリコン窒化膜80が破綻したとしても(図18Bの符号83参照)、シリコン窒化膜78により懸念される表面形成層79、特にその層間絶縁膜のエッチングも同時に防止することができる。このときにアライメントマーク17に空洞が露出しても(図18B参照)、カラーフィルタ、オンチップレンズのパターン精度に大きな問題は生じない。
上例では、シリコン窒化膜78を用いたが、シリコン窒化膜78に代えて、ポリシリコン膜ヤ、アモルファスシリコン膜を用いることもできる。さらに、シリコン窒化膜78に代えて、SiOC、SiCなど、カーボンを含む膜を用いることもできる。
上述の実施の形態では、裏面照射型のCMOS固体撮像素子に適用したが、その他の固体撮像素子、例えば裏面照射型のCCD固体撮像素子に適用することもできる。
また、本発明は、半導体基板、例えばシリコン基板の両面側に夫々半導体素子及び/または配線層を形成する、半導体集積回路装置に適用することができる。半導体集積回路装置に適用した場合は、半導体基板の両面に形成する半導体素子、配線層の具体的構成が異なるだけで、アライメントマーク17に関しては上例と同様である。
図19に、本発明を半導体集積回路装置に適用した場合の実施の形態を示す。本実施の形態に係る半導体集積回路装置61は、薄膜化されたシリコン基板62に、その厚み方向の溝18に埋込み層19を埋設したアライメントマーク17を形成し、このアライメントマーク17を基準に基板62の表面側にゲート電極64を有するMOSトランジスタ群Tr31及び層間絶縁膜65を介しての多層構造(本例では3層構造)の配線層66を形成し、また、アライメントマーク17を基準に基板62の裏面側にゲート電極67を有するMOSトランジスタ群Tr32及び層間絶縁膜68を介しての多層構造(本例では3層構造)の配線層69を形成して構成される。
図19の例では、シリコン基板62の両面側のそれぞれにMOSトランジスタ群及び多層構造の配線層を形成した構成の半導体集積回路装置に適用したが、その他、シリコン基板62の一方の面側にMOSトランジスタあるいは他の半導体素子を形成し、他方の面側に配線層を形成するなど、種々の形態の半導体集積回路装置にも適用できる。
かかる半導体集積回路装置及びその製造方法においても、前述した固体撮像素子の場合と同様の作用・効果を奏するものである。
1・・裏面照射型の固体撮像素子、2・・半導体基板、3・・撮像領域、4・・周辺領域、5・・画素部、6・・周辺回路部、7、21・・ゲート電極、8・・層間絶縁膜、9・・多層構造の配線層、10・・支持基板、11・・接着層、12・・反射防止膜、14・・カラーフィルタ、15・・オンチップレンズ、17・・アライメントマーク、18・・溝、19・・埋込み層、20・・フィールド領域、PD・・フォトダイオード、Tr1 ,Tr2 ・・MOSトランジスタ、Tr13,Tr14・・MOSトランジスタ群、51・・絶縁層、52、53・・シリコン層、SOI基板・・54、57・・薄膜、61・・半導体集積回路装置、62・・半導体基板、64、67・・ゲート電極、65、68・・層間絶縁膜、66、69・・多層構造の配線層、71・・シリコン熱酸化膜、72・・シリコン窒化膜、73・・シリコン酸化膜、75・・ハードマスク、78,80・・シリコン窒化膜、79・・表面形成層
Claims (58)
- 半導体基板に、該半導体基板と識別可能な材料による埋め込み層からなり、前記埋め込み層の面を前記半導体基板の面と同一面としたアライメントマークが形成され、
前記半導体基板の表面側及び裏面側に、前記アライメントマークを基準に形成した構成要素が設けられている
ことを特徴とする固体撮像素子。 - 前記半導体基板にシリコン基板を用い、
前記アライメントマークが、前記シリコン基板に厚み方向に形成した溝内にシリコンと異なる材料の埋め込み層を形成して構成されている
ことを特徴とする請求項1記載の固体撮像素子。 - 前記シリコンと異なる材料は、SiO,SiN,SiC,SiON,SiOC,SiCN,ポリシリコンのいずれかの材料が用いられる
ことを特徴とする請求項2記載の固体撮像素子。 - 前記アライメントマークを形成する前記溝の開口幅または開口径に対する溝深さのアスペクト比が1以上である
ことを特徴とする請求項1記載の固体撮像素子。 - 絶縁層の両面にシリコン層を有したSOI基板が用いられ、
前記SOI基板の少なくとも他方のシリコン層が除去された後の一方のシリコン層で前記半導体基板が形成され、
前記アライメントマークが、一方のシリコン層の主面からエッチング阻止層となる前記絶縁層に達する溝の内部に埋め込まれた前記埋め込み層で形成されている
ことを特徴とする請求項1記載の固体撮像素子。 - 前記アライメントマークが半導体基板の表面側から裏面側に到達するように形成されている
ことを特徴とする請求項1記載の固体撮像素子。 - 前記半導体基板にシリコン基板を用い、
前記アライメントマークが、前記シリコン基板の深さ方向の溝の内面に形成したシリコンと異なる第1材料の薄膜と、前記溝内に埋設した前記第1材料と異なる第2材料の埋め込み層とからなる多層構造で構成されている
ことを特徴とする請求項1記載の固体撮像素子。 - 前記多層構造のアライメントマークの第1材料の薄膜が、前記溝の開口付近の側壁部分を除いて形成されている
ことを特徴とする請求項7記載の固体撮像素子。 - 前記薄膜の第1材料として、SiO,SiN,SiCN,SiC,SiOC,SiOまたはSiONのいずれかの材料が用いられ、
前記埋め込み層の第2材料として、前記薄膜とエッチング選択比がとれる材料が用いられている
ことを特徴とする請求項7記載の固体撮像素子。 - 前記SOI基板の他方のシリコン層及び前記絶縁層が除去された後の一方のシリコン層で前記半導体基板が形成され、
前記半導体基板に前記アライメントマークが形成されている
ことを特徴とする請求項5記載の固体撮像素子。 - 前記SOI基板の絶縁層を残して他方のシリコン層が除去された後の一方のシリコン層で半導体基板が形成され、
前記半導体基板に前記アライメントマークが形成されている
ことを特徴とする請求項5記載の固体撮像素子。 - 前記アライメントマークが、平面的に見て各辺が離れた状態の角形形状に形成されている
ことを特徴とする請求項1記載の固体撮像素子。 - 前記半導体基板にシリコン基板を用い、
前記アライメントマークが、前記シリコン基板の深さ方向の溝の開口部側に形成したシリコンと異なる材料の第1埋め込み層と、前記溝内に形成した第1埋め込み層と異なる材料の第2埋め込み層で構成されている
ことを特徴とする請求項1記載の固体撮像素子。 - 前記第1埋め込み層の膜厚が5nm以上である
ことを特徴とする請求項13記載の固体撮像素子。 - 前記第1埋め込み層の材料として、窒化シリコン、ポリシリコン、アモルファスシリコン、カーボンを含むシリコンのいずれかを用いる
ことを特徴とする請求項13記載の固体撮像素子。 - 半導体基板に、該半導体基板と識別可能な材料による埋め込み層からなり、前記埋め込み層の面を前記半導体基板の面と同一面としたアライメントマークが形成され、
前記半導体基板の表面側及び裏面側に、前記アライメントマークを基準に形成した構成要素が設けられている
ことを特徴とする半導体集積回路装置。 - 前記半導体基板にシリコン基板を用い、
前記アライメントマークが、前記シリコン基板に厚み方向に形成した溝内にシリコンと異なる材料の埋め込み層を形成して構成されている
ことを特徴とする請求項16記載の半導体集積回路装置。 - 前記シリコンと異なる材料は、SiO,SiN,SiC,SiON,SiOC,SiCN、ポリシリコンのいずれかの材料が用いられる
ことを特徴とする請求項16記載の半導体集積回路装置。 - 前記アライメントマークを形成する前記溝の開口幅または開口径に対する溝深さのアスペクト比が1以上である
ことを特徴とする請求項16記載の半導体集積回路装置。 - 絶縁層の両面にシリコン層を有したSOI基板が用いられ、
前記SOI基板の少なくとも他方のシリコン層が除去された後の一方のシリコン層で前記半導体基板が形成され、
前記アライメントマークが、一方のシリコン層の主面からエッチング阻止層となる前記絶縁層に達する溝の内部に埋め込まれた前記埋め込み層で形成されている
ことを特徴とする請求項16記載の半導体集積回路装置。 - 前記アライメントマークが半導体基板の表面側から裏面側に到達するように形成されている
ことを特徴とする請求項16記載の半導体集積回路装置。 - 前記半導体基板にシリコン基板を用い、
前記アライメントマークが、前記シリコン基板の深さ方向の溝の内面に形成したシリコンと異なる第1材料の薄膜と、前記溝内に埋設した前記第1材料と異なる第2材料の埋め込み層とからなる多層構造で構成されている
ことを特徴とする請求項16記載の半導体集積回路装置。 - 前記多層構造のアライメントマークの第1材料の薄膜が、前記溝の開口付近の側壁部分を除いて形成されている
ことを特徴とする請求項22記載の半導体集積回路装置。 - 前記薄膜の第1材料として、SiO,SiN,SiCN,SiC,SiOC,SiOまたはSiONのいずれかの材料が用いられ、
前記埋め込み層の第2材料として、前記薄膜とエッチング選択比がとれる材料が用いられている
ことを特徴とする請求項22記載の半導体集積回路装置。 - 前記SOI基板の他方のシリコン層及び前記絶縁層が除去された後の一方のシリコン層で前記半導体基板が形成され、
前記半導体基板に前記アライメントマークが形成されている
ことを特徴とする請求項20記載の半導体集積回路装置。 - 前記SOI基板の絶縁層を残して他方のシリコン層が除去された後の一方のシリコン層で半導体基板が形成され、
前記半導体基板に前記アライメントマークが形成されている
ことを特徴とする請求項20記載の半導体集積回路装置。 - 前記アライメントマークが、平面的に見て各辺が離れた状態の角形形状に形成されている
ことを特徴とする請求項16記載の半導体集積回路装置。 - 前記半導体基板にシリコン基板を用い、
前記アライメントマークが、前記シリコン基板の深さ方向の溝の開口部側に形成したシリコンと異なる材料の第1埋め込み層と、前記溝内に形成した第1埋め込み層と異なる材料の第2埋め込み層で構成されている
ことを特徴とする請求項16記載の半導体集積回路装置。 - 前記第1埋め込み層の膜厚が5nm以上である
ことを特徴とする請求項28記載の半導体集積回路装置。 - 前記第1埋め込み層の材料として、窒化シリコン、ポリシリコン、アモルファスシリコン、カーボンを含むシリコンのいずれかを用いる
ことを特徴とする請求項28記載の半導体集積回路装置。 - 半導体基板に、該半導体基板と識別可能な材料による埋め込み層からなり、前記埋め込み層の面が前記半導体基板の面と同一面とされたアライメントマークを形成する工程と、
前記半導体基板の最終的に得られる所要の厚みの半導体基板の表面側及び裏面側に前記アライメントマークを基準にして、構成要素を形成する工程を有する
ことを特徴とする固体撮像素子の製造方法。 - 前記半導体基板にシリコン基板を用い、
前記シリコン基板に厚み方向の溝を形成し、該溝内にシリコンと異なる材料の埋め込み層を形成して、前記アライメントマークを形成する工程を有する
ことを特徴とする請求項31記載の固体撮像素子の製造方法。 - 前記シリコンと異なる材料として、SiO,SiN,SiC,SiON,SiOC,SiCN,ポリシリコンのいずれかの材料を用いる
ことを特徴とする請求項32記載の固体撮像素子の製造方法。 - 前記アライメントマークを形成するための前記溝のアスペクト比を1以上にする
ことを特徴とする請求項32記載の固体撮像素子の製造方法。 - 前記半導体基板として絶縁層の両面にシリコン層を有するSOI基板を用い、
前記最終的に得られる所要の厚みの半導体基板となる一方のシリコン層に、前記絶縁層をエッチング阻止層として、前記一方のシリコン層の主面から前記絶縁層に達する溝を形成し、
該溝内に前記埋め込み層を形成して前記アライメントマークを形成する工程を有する
ことを特徴とする請求項31記載の固体撮像素子の製造方法。 - 前記アライメントマークを最終的に得られる半導体基板の表面側から裏面側に到達するように形成する
ことを特徴とする請求項31記載の固体撮像素子の製造方法。 - 前記半導体基板にシリコン基板を用い、
前記シリコン基板に深さ方向の溝を形成し、
前記溝の内面にシリコンと異なる第1材料の薄膜を形成した後、溝内に前記第1材料と異なる第2材料の埋め込み層を埋設して多層構造のアライメントマークを形成する
ことを特徴とする請求項31記載の固体撮像素子の製造方法。 - 前記多層構造のアライメントマークの第1材料の薄膜が、前記溝の開口付近の側壁部分を除いて形成する
ことを特徴とする請求項37記載の固体撮像素子の製造方法。 - 前記薄膜の第1材料として、SiO,SiN,SiCN,SiC,SiOC,SiOまたはSiONのいずれかの材料を用い、
前記埋め込み層の第2材料として、前記薄膜とエッチング選択比がとれる材料を用いる
ことを特徴とする請求項37記載の固体撮像素子の製造方法。 - 前記アライメントマークを形成した後、前記SOI基板の他方のシリコン層及び前記絶縁層を除去して、一方のシリコン層を残す
ことを特徴とする請求項35記載の固体撮像素子の製造方法。 - 前記アライメントマークを形成した後、前記SOI基板の他方のシリコン層を除去して、前記絶縁層及び一方のシリコン層を残す
ことを特徴とする請求項35記載の固体撮像素子の製造方法。 - 前記アライメントマークを、平面的に見て各辺が離れた状態の角形形状に形成する
ことを特徴とする請求項31記載の固体撮像素子の製造方法。 - 絶縁層の両面にシリコン層を有するSOI基板を用い、
前記最終的に得られる所要の厚みの一方のシリコン層に、前記絶縁層をエッチング阻止層として、前記一方のシリコン層の主面から前記絶縁層に達する溝を形成する工程と、
前記溝内に、溝開口部分を除いてシリコンと異なる材料の第2埋め込み層を形成する工程と、
前記溝開口部分にシリコン及び前記第2埋め込み層と異なる材料の第1埋め込み層を形成する工程とを有し、
前記溝と、前記溝内の第1埋め込み層及び第2埋め込み層とによりアライメントマークを形成する
ことを特徴とする請求項31記載の固体撮像素子の製造方法。 - 前記第1埋め込み層の材料として、窒化シリコン、ポリシリコン、アモルファスシリコン、カーボンを含むシリコンのいずれかを用い、
前記第2埋め込み層の材料として、酸化シリコンを用いる
ことを特徴とする請求項43記載の固体撮像素子の製造方法。 - 半導体基板に、該半導体基板と識別可能な材料による埋め込み層からなり、前記埋め込み層の面が前記半導体基板の面と同一面とされたアライメントマークを形成する工程と、
前記半導体基板の最終的に得られる所要の厚みの半導体基板の表面側及び裏面側に前記アライメントマークを基準にして、構成要素を形成する工程を有する
ことを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。 - 前記半導体基板にシリコン基板を用い、
前記シリコン基板に厚み方向の溝を形成し、該溝内にシリコンと異なる材料の埋め込み層を形成して、前記アライメントマークを形成する工程を有する
ことを特徴とする請求項45記載の半導体集積回路装置の製造方法。 - 前記シリコンと異なる材料として、SiO,SiN,SiC,SiON,SiOC,SiCN、ポリシリコンのいずれかの材料を用いる
ことを特徴とする請求項46記載の半導体集積回路装置の製造方法。 - 前記アライメントマークを形成するための前記溝のアスペクト比を1以上にする
ことを特徴とする請求項46記載の半導体集積回路装置の製造方法。 - 前記半導体基板として絶縁層の両面にシリコン層を有するSOI基板を用い、
前記最終的に得られる所要の厚みの半導体基板となる一方のシリコン層に、前記絶縁層をエッチング阻止層として、前記一方のシリコン層の主面から前記絶縁層に達する溝を形成し、
該溝内に前記埋め込み層を形成して前記アライメントマークを形成する工程を有する
ことを特徴とする請求項45記載の半導体集積回路装置の製造方法。 - 前記アライメントマークを最終的に得られる半導体層の表面側から裏面側に到達するように形成する
ことを特徴とする請求項45記載の半導体集積回路装置の製造方法。 - 前記半導体基板にシリコン基板を用い、
前記シリコン基板に深さ方向の溝を形成し、
前記溝の内面にシリコンと異なる第1材料の薄膜を形成した後、溝内に前記第1材料と異なる第2材料の埋め込み層を埋設して多層構造のアライメントマークを形成する
ことを特徴とする請求項45記載の半導体集積回路装置の製造方法。 - 前記多層構造のアライメントマークの第1材料の薄膜が、前記溝の開口付近の側壁部分を除いて形成する
ことを特徴とする請求項51記載の半導体集積回路装置の製造方法。 - 前記薄膜の第1材料として、SiO,SiN,SiCN,SiC,SiOC,SiOまたはSiONのいずれかの材料を用い、
前記埋め込み層の第2材料として、前記薄膜とエッチング選択比がとれる材料を用いる
ことを特徴とする請求項51記載の半導体集積回路装置の製造方法。 - 前記アライメントマークを形成した後、前記SOI基板の他方のシリコン層及び前記絶縁層を除去して、一方のシリコン層を残す
ことを特徴とする請求項49記載の半導体集積回路装置の製造方法。 - 前記アライメントマークを形成した後、前記SOI基板の他方のシリコン層を除去して、前記絶縁層及び一方のシリコン層を残す
ことを特徴とする請求項49記載の半導体集積回路装置の製造方法。 - 前記アライメントマークを、平面的に見て各辺が離れた状態の角形形状に形成する
ことを特徴とする請求項45記載の半導体集積回路装置の製造方法。 - 絶縁層の両面にシリコン層を有するSOI基板を用い、
前記最終的に得られる所要の厚みの一方のシリコン層に、前記絶縁層をエッチング阻止層として、前記一方のシリコン層の主面から前記絶縁層に達する溝を形成する工程と、
前記溝内に、溝開口部分を除いてシリコンと異なる材料の第2埋め込み層を形成する工程と、
前記溝開口部分にシリコン及び前記第2埋め込み層と異なる材料の第1埋め込み層を形成する工程とを有し、
前記溝と、前記溝内の第1埋め込み層及び第2埋め込み層とによりアライメントマークを形成する
ことを特徴とする請求項44記載の半導体集積回路装置の製造方法。 - 前記第1埋め込み層の材料として、窒化シリコン、ポリシリコン、アモルファスシリコン、カーボンを含むシリコンのいずれかを用い、
前記第2埋め込み層の材料として、酸化シリコンを用いる
ことを特徴とする請求項57記載の半導体集積回路装置の製造方法。
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