JP2005235741A - 有機電界発光表示装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 有機電界発光表示装置は、絶縁基板上にR、G、B画素の下部電極を形成し、絶縁基板上に形成された有機膜層を形成し、有機膜層上に上部電極を形成した構成を含む。有機膜層を形成する際には、R、G、B画素の正孔注入層と正孔輸送層を共通層として全面に形成する。R、G発光層はR、Gカラーで要求されるR、G発光層の厚さからB発光層の厚さ分を差し引いた厚さで、有機膜がパターニングされた転写層を備える熱転写素子を用いた熱転写方式によってパターニングされる構成を含む。
【選択図】 図2
Description
211、411 R画素のアノード電極
213、413 G画素のアノード電極
215、415 B画素のアノード電極
220、420 正孔注入層
230、431、433 正孔輸送層
241、441 R画素の発光層
243、443 G画素の発光層
250、450 B画素の発光層
260、460 電子輸送層
270、470 カソード電極
610、630 熱転写素子
Claims (6)
- 絶縁基板上にR、G、B画素の下部電極を形成し、
前記絶縁基板上に形成された有機膜層を形成し、
前記有機膜上に上部電極を形成することを含み、
前記有機膜層を形成することはR、G、B画素の正孔注入層と正孔輸送層を共通層として全面形成し、
前記R、G発光層は、R、Gカラーで要求されるR、G発光層の厚さからB発光層の厚さを差し引いた分の厚さで、有機膜がパターニングされた転写層を備える熱転写素子を用いた熱転写方式によってパターニングされることを特徴とする有機電界発光表示装置の製造方法。 - 前記有機膜層は薄膜の有機膜で、前記薄膜の有機膜として要求されるR、G発光層の厚さは300ないし400Åであり、B発光層の厚さは100ないし200Åで、パターニングされたR、G発光層の厚さは、それぞれ100ないし300Å、50ないし250Åであり、各厚さは50ないし200Åの許容範囲を有することを特徴とする請求項1に記載の有機電界発光表示装置の製造方法。
- 絶縁基板上にR、G、B画素の下部電極を形成し、
前記絶縁基板上に形成された有機膜層を形成し、
前記有機膜上に上部電極を形成することを含み、
前記有機膜層を形成することはR、G、B画素の正孔注入層を全面形成し、
R、G画素の正孔輸送層をパターニングし、
前記R、G画素の発光層をパターニングし、
B画素の発光層を全面形成することを含み、
前記R、G、B画素の正孔輸送層と発光層は、それぞれ正孔輸送層と発光層がパターニングされた有機膜を転写層として備えた熱転写素子を用いた熱転写方式によって同時に形成し、
前記R及びG画素の正孔輸送層の厚さは、R及びG画素の正孔注入層と正孔輸送層の厚さの合計とB画素の正孔注入層の厚さとの差であることを特徴とする有機電界発光表示装置の製造方法。 - 前記R、G、B発光層と正孔注入層及び正孔輸送層は、厚膜の有機膜を含み、R、G、B画素の中から最も薄い厚さの正孔輸送層を備える画素はB画素であり、前記B画素の正孔注入層の厚さは1350Åであり、R及びG画素の正孔輸送層の厚さはそれぞれ1350Å、350Åであることを特徴とする請求項3に記載の有機電界発光表示装置の製造方法。
- 前記R、G発光層は、前記R、Gカラーで要求されるR、G発光層の厚さからB発光層の厚さを差し引いた分の厚さでパターニングすることを特徴とする請求項1に記載の有機電界発光表示装置の製造方法。
- 前記要求されるR、G発光層の厚さは300ないし400Åであり、B発光層の厚さは100ないし200Åで、パターニングされたR、G発光層の厚さはそれぞれ100ないし300Å、50ないし250Åであり、各厚さは50ないし200Åの許容範囲を有することを特徴とする請求項5に記載の有機電界発光表示装置の製造方法。
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