JP2005211289A - Toxic gas removing apparatus and method - Google Patents

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JP2005211289A JP2004021306A JP2004021306A JP2005211289A JP 2005211289 A JP2005211289 A JP 2005211289A JP 2004021306 A JP2004021306 A JP 2004021306A JP 2004021306 A JP2004021306 A JP 2004021306A JP 2005211289 A JP2005211289 A JP 2005211289A
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Naoki Sugita
直記 杉田
Tomoyuki Saito
智之 齋藤
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Midori Anzen Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To easily and surely remove toxic gas in atmosphere. <P>SOLUTION: When the toxic gas such as carbon monoxide and VOC gas contained in air in an atmosphere is removed by short wavelength ultraviolet rays irradiated from an excimer lamp 14 from an ultraviolet region formed in a wind passage 11, through the air in the atmosphere, nitrogen gas and rare gas are fed from an oxygen concentration reducing gas feeder 12 to the ultraviolet ray region and reduce the oxygen concentration in the ultraviolet ray region to prevent the short wavelength ultraviolet rays from being absorbed by the oxygen as much as possible and allow the short wavelength ultraviolet rays to efficiently contribute to the oxidation reaction of the toxic gas such as the carbon monoxide gas and VOC gas. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、有害ガス除去装置及び有害ガス除去方法に関し、特に、大気中に含まれる有害ガスを除去するために用いて好適なものである。   The present invention relates to a harmful gas removal apparatus and a harmful gas removal method, and is particularly suitable for use in removing harmful gas contained in the atmosphere.

従来から、室内環境を快適にしたいという要望に応えるために、大気中に存在する有害ガスを除去する技術が提案されている。
例えば、オゾン灯から発生したオゾンと、水蒸気とを混合させ、混合させた領域に空気を導入して、上記空気を清浄する技術が提案されている(例えば、特許文献1を参照。)。このように、オゾン灯を利用することで、オゾンによる高湿度下での空気清浄を容易に実現することができる。
2. Description of the Related Art Conventionally, techniques for removing harmful gases present in the atmosphere have been proposed in order to meet the demand for a comfortable indoor environment.
For example, a technique has been proposed in which ozone generated from an ozone lamp and water vapor are mixed and air is introduced into the mixed region to clean the air (see, for example, Patent Document 1). Thus, by using an ozone lamp, air cleaning under high humidity by ozone can be easily realized.

特開2002−224206号公報JP 2002-224206 A

ところで、近年、分煙化が至る所で実施されていること等の理由から、煙草から発せられる有害ガスを除去するようにする技術が強く求められている。
しかしながら、本願発明者らは、上述したような従来の技術では、煙草から発せられる有害ガスを確実に除去することが困難であるという知見を得た。
本発明は、上述の問題点に鑑みてなされたものであり、大気中の有害ガスを、容易に且つ確実に除去することができるようにすることを目的とする。
By the way, in recent years, there has been a strong demand for a technique for removing harmful gases emitted from cigarettes, for example, because smoke separation is being carried out everywhere.
However, the inventors of the present application have found that it is difficult to reliably remove harmful gases emitted from cigarettes with the conventional techniques described above.
The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to make it possible to easily and reliably remove harmful gases in the atmosphere.

かかる目的を達成するため、本発明の有害ガス除去装置は、短波長紫外線を照射する紫外線照射手段を有し、上記紫外線照射手段により短波長紫外線が照射される領域に、大気中の気体を通して上記気体内の有害ガスを除去する有害ガス除去装置であって、上記紫外線照射手段により短波長紫外線が照射される領域の酸素ガスの濃度を低減させる酸素濃度低減手段を有することを特徴とする。   In order to achieve such an object, the harmful gas removal apparatus of the present invention has ultraviolet irradiation means for irradiating short wavelength ultraviolet rays, and passes the gas in the atmosphere to the region irradiated with short wavelength ultraviolet rays by the ultraviolet irradiation means. A harmful gas removing device for removing harmful gas in a gas, characterized by comprising oxygen concentration reducing means for reducing the concentration of oxygen gas in a region irradiated with short wavelength ultraviolet rays by the ultraviolet irradiation means.

本発明の有害ガス除去方法は、短波長紫外線を照射する紫外線照射ステップを有し、上記紫外線照射ステップにより短波長紫外線が照射される領域に、大気中の気体を通して上記気体内の有害ガスを除去する有害ガス除去方法であって、上記紫外線照射ステップにより短波長紫外線が照射される領域の酸素ガスの濃度を低減させる酸素濃度低減ステップを有することを特徴とする。   The harmful gas removal method of the present invention has an ultraviolet irradiation step for irradiating short wavelength ultraviolet rays, and removes harmful gases in the gas through a gas in the atmosphere to the region irradiated with short wavelength ultraviolet rays by the ultraviolet irradiation step. A noxious gas removing method comprising: an oxygen concentration reduction step of reducing the concentration of oxygen gas in a region irradiated with short-wavelength ultraviolet rays by the ultraviolet irradiation step.

本発明によれば、短波長紫外線を照射し、上記照射した領域に、大気中の気体を通して上記気体内の有害ガスを除去するに際し、上記短波長紫外線の照射領域の酸素ガスの濃度を低減させるようにしたので、短波長紫外線が酸素ガスに吸収されることを可及的に防止することができる。これにより、上記有害ガスの酸化反応に上記短波長紫外線を効率よく寄与させることができ、上記有害ガスを容易に且つ確実に除去することができる。   According to the present invention, the concentration of oxygen gas in the irradiation region of the short-wavelength ultraviolet light is reduced when the harmful gas in the gas is passed through the gas in the atmosphere through irradiation with the short-wavelength ultraviolet light. Since it did in this way, it can prevent as much as possible that a short wavelength ultraviolet-ray is absorbed by oxygen gas. Thereby, the short wavelength ultraviolet rays can be efficiently contributed to the oxidation reaction of the harmful gas, and the harmful gas can be easily and reliably removed.

また、本発明の他の特徴によれば、上記短波長紫外線を照射した領域に、水蒸気を常休するようにしたので、上記領域にOHラジカルを生成することができる。これにより、上記有害ガスの酸化反応に上記OHラジカルが効率よく寄与するようになり、上記有害ガスをより確実に除去することができる。   According to another feature of the present invention, water vapor is constantly rested in the region irradiated with the short wavelength ultraviolet rays, so that OH radicals can be generated in the region. As a result, the OH radicals contribute efficiently to the oxidation reaction of the harmful gas, and the harmful gas can be more reliably removed.

次に、添付の図面を参照しながら、本発明の有害ガス除去装置及び有害ガス除去方法の実施の形態について詳細に説明する。   Next, embodiments of the harmful gas removal apparatus and the harmful gas removal method of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

図1は、本実施の形態における有害ガス除去装置の構成の一例を示した図である。
図1において、有害ガス除去装置10は、酸素濃度低減用ガス供給装置12と、加湿装置13と、エキシマランプ14と、送風機15とを有している。
FIG. 1 is a diagram showing an example of the configuration of the harmful gas removal device in the present embodiment.
In FIG. 1, the harmful gas removal device 10 includes an oxygen concentration reducing gas supply device 12, a humidifying device 13, an excimer lamp 14, and a blower 15.

送風機15は、通風路11の下流側に配設されており、通風路11内を通風させるためのものである。すなわち、本実施形態の有害ガス除去装置10は、有害ガスを含む大気中の空気を通風路11に流入させ、通風路11内で上記有害ガスを除去し、上記有害ガスが除去された空気を大気中に放出する構成となる。   The blower 15 is disposed on the downstream side of the ventilation path 11 and is used to ventilate the ventilation path 11. That is, the harmful gas removal apparatus 10 of the present embodiment allows air in the atmosphere including harmful gas to flow into the ventilation path 11, removes the harmful gas in the ventilation path 11, and removes the air from which the harmful gas has been removed. It is configured to be released into the atmosphere.

酸素濃度低減手段として配設される酸素濃度低減用ガス供給装置12は、送風機15によって通風されている通風路11に、酸素濃度低減用ガスを供給するためのものである。
この酸素濃度低減用ガスは、例えば、アルゴンガス(Arガス)、ヘリウムガス(Heガス)、ネオンガス(Neガス)、キセノンガス(Xeガス)、クリプトンガス(Krガス)などの希ガス、または窒素ガス(N2ガス)である。
このように酸素濃度低減用ガスが通風路11内に供給されると、後述するエキシマランプ14により通風路11内に形成される紫外線領域の酸素濃度が低減する。
The oxygen concentration reducing gas supply device 12 disposed as the oxygen concentration reducing means is for supplying the oxygen concentration reducing gas to the ventilation path 11 ventilated by the blower 15.
This oxygen concentration reducing gas is, for example, a rare gas such as argon gas (Ar gas), helium gas (He gas), neon gas (Ne gas), xenon gas (Xe gas), krypton gas (Kr gas), or nitrogen. Gas (N 2 gas).
When the oxygen concentration reducing gas is supplied into the ventilation path 11 as described above, the oxygen concentration in the ultraviolet region formed in the ventilation path 11 by the excimer lamp 14 described later is reduced.

水蒸気供給手段として配設される加湿装置13は、送風機15によって通風されている通風路11に水蒸気を供給するためのものである。
このように水蒸気が通風路11内に供給されると、後述するエキシマランプ14により通風路11内に形成される紫外線領域の湿度が上昇する。
The humidifier 13 disposed as the water vapor supply means is for supplying water vapor to the ventilation path 11 that is ventilated by the blower 15.
When water vapor is supplied into the ventilation path 11 as described above, the humidity in the ultraviolet region formed in the ventilation path 11 by the excimer lamp 14 described later increases.

エキシマランプ14は、通風路11内に短波長紫外線(UV−C)を照射するためのものである。ここで、短波長紫外線とは、波長が100[nm]以上、280[nm]以下の光である。   The excimer lamp 14 is for irradiating short wavelength ultraviolet rays (UV-C) in the ventilation path 11. Here, the short wavelength ultraviolet light is light having a wavelength of 100 [nm] or more and 280 [nm] or less.

そして、本実施の形態の有害物質除去装置10では、加湿装置13によって加湿された、上記大気中の空気及び上記酸素濃度低減用ガスを、エキシマランプ14により照射された短波長紫外線によって形成される紫外線領域に供給するようにしている。   In the harmful substance removing apparatus 10 of the present embodiment, the atmospheric air and the oxygen concentration reducing gas humidified by the humidifying apparatus 13 are formed by the short wavelength ultraviolet rays irradiated by the excimer lamp 14. Supply to the ultraviolet region.

このように、短波長紫外線が照射されることにより形成された紫外線領域に、大気中の空気が供給されると、上記大気中の空気に含まれている一酸化炭素ガスやVOC(揮発性有機化合物)ガスなどの有害ガスの酸化反応が促進する。なお、上記VOCガスは、例えば、アセトアルデヒド、ホルムアルデヒド及びベンゼンなどである。   As described above, when air in the atmosphere is supplied to the ultraviolet region formed by irradiating short wavelength ultraviolet rays, carbon monoxide gas and VOC (volatile organic compounds) contained in the air in the atmosphere are supplied. Compound) The oxidation reaction of harmful gases such as gas is promoted. The VOC gas is, for example, acetaldehyde, formaldehyde or benzene.

また、上記紫外線領域に水蒸気が供給されると、OHラジカルが発生する。この発生したOHラジカルにより、大気中の空気に含まれている一酸化炭素ガスやVOCガスなどの有害ガスの酸化反応が一層促進する。   When water vapor is supplied to the ultraviolet region, OH radicals are generated. The generated OH radical further promotes the oxidation reaction of harmful gases such as carbon monoxide gas and VOC gas contained in the air in the atmosphere.

また、短波長紫外線は、酸素に吸収されやすい。例えば172[nm]の波長を有する短波長紫外線を大気中に照射すると、その短波長紫外線は、10〜20[mm]程度で減衰してしまう。したがって、上述したようにして酸素濃度低減用ガスを供給して、上記紫外線領域における酸素ガスの濃度を低減させると、短波長紫外線を可及的に遠方まで照射させることができ、一酸化炭素ガスやVOCガスなどの有害ガスに、短波長紫外線が寄与する度合いが低減してしまうことを可及的に防止することができる。   Moreover, short wavelength ultraviolet rays are easily absorbed by oxygen. For example, when short wavelength ultraviolet rays having a wavelength of 172 [nm] are irradiated into the atmosphere, the short wavelength ultraviolet rays are attenuated by about 10 to 20 [mm]. Therefore, when the oxygen concentration reducing gas is supplied as described above to reduce the concentration of oxygen gas in the ultraviolet region, short wavelength ultraviolet rays can be irradiated as far as possible, and carbon monoxide gas It is possible to prevent as much as possible that the degree of contribution of short wavelength ultraviolet rays to harmful gases such as VOC gas and VOC gas is reduced.

本実施の形態の有害ガス除去装置10では、以上のようにして、一酸化炭素ガスやVOCガスなどを酸化させて有害ガスが除去されるようにし、この有害ガスが除去された空気が、送風路11の下流から大気中に放出されるようにしている。   In the harmful gas removal apparatus 10 of the present embodiment, as described above, the carbon monoxide gas, the VOC gas, or the like is oxidized to remove the harmful gas, and the air from which the harmful gas has been removed is blown. The air is discharged from the downstream of the passage 11 into the atmosphere.

(試験例)
本願発明者らは、上述したようにして構成される有害ガス除去装置10が、大気中の空気に含まれている有害ガスをどの程度除去するのかを詳細に調査した。
(Test example)
The inventors of the present application investigated in detail how much the harmful gas removal device 10 configured as described above removes harmful gases contained in air in the atmosphere.

(試験装置)
図2は、図1に示した有害ガス除去装置10の性能を確認するための試験装置の構成の一例を示した図である。
図2において、試験装置20は、除去対象ガスボンベ21aと、空気ボンベ21bと、添加ガスボンベ21cと、除去対象ガス流量調節器22と、空気流量調節器22bと、添加ガス流量調節器22cと、通風路23と、流量計24と、加湿装置13と、エキシマランプ14と、アクリル製の箱25と、濃度測定器26と、流量計27と、ポンプ28a、28bとを有している。
(Test equipment)
FIG. 2 is a diagram showing an example of the configuration of a test apparatus for confirming the performance of the harmful gas removal apparatus 10 shown in FIG.
In FIG. 2, the test apparatus 20 includes a removal target gas cylinder 21a, an air cylinder 21b, an addition gas cylinder 21c, a removal target gas flow controller 22, an air flow controller 22b, an additive gas flow controller 22c, and ventilation. It has a passage 23, a flow meter 24, a humidifier 13, an excimer lamp 14, an acrylic box 25, a concentration measuring device 26, a flow meter 27, and pumps 28a and 28b.

除去対象ガスボンベ21aには、除去対象ガス(上記有害ガス)が入っている。除去対象ガスボンベ21aから流出する上記除去対象ガスは、除去対象ガス流量調節器22aによって流量が調節されて、通風路23に供給される。なお、試験装置20では、従来では殆ど除去することができなかった一酸化炭素ガスを上記除去対象ガスとして用いた。また、VOCガスであるアセトアルデヒドも上記除去対象ガスとして用いた。   The removal target gas cylinder 21a contains the removal target gas (the harmful gas). The removal target gas flowing out from the removal target gas cylinder 21 a is supplied to the ventilation path 23 with the flow rate adjusted by the removal target gas flow controller 22 a. In the test apparatus 20, carbon monoxide gas that could hardly be removed in the past was used as the gas to be removed. Further, acetaldehyde, which is a VOC gas, was also used as the removal target gas.

空気ボンベ21bには、79[%]の窒素ガスと、21[%]の酸素ガスとの混合ガスが入っている。空気ボンベ21bから流出する混合ガスは、空気流量調節器22bによって流量が調節されて、通風路23に供給される。以下、空気ボンベ21bに入っている混合ガスを、必要に応じて空気と称する。   The air cylinder 21b contains a mixed gas of 79 [%] nitrogen gas and 21 [%] oxygen gas. The mixed gas flowing out from the air cylinder 21b is supplied to the ventilation path 23 after the flow rate is adjusted by the air flow rate regulator 22b. Hereinafter, the mixed gas contained in the air cylinder 21b is referred to as air as necessary.

添加ガスボンベ21bには、上記酸素濃度低減用ガスが入っている。添加ガスボンベ21bから流出する上記酸素濃度低減用ガスは、添加ガス流量調節器22bによって流量が調節されて、通風路23に供給される。なお、試験装置20では、窒素ガスまたはアルゴンガスを上記酸素濃度低減用ガスとして通風路23に添加した。   The additive gas cylinder 21b contains the oxygen concentration reducing gas. The oxygen concentration reducing gas flowing out of the additive gas cylinder 21 b is supplied to the ventilation path 23 with the flow rate adjusted by the additive gas flow rate controller 22 b. In the test apparatus 20, nitrogen gas or argon gas was added to the ventilation path 23 as the oxygen concentration reducing gas.

このように、試験装置20では、除去対象ガスボンベ21aと、除去対象ガス流量調節器22aと、空気ボンベ21bと、空気流量調節器22bとによって、図1に示した通風路11の上流側から下流側に通風される、有害ガスを含む空気に相当する構成が得られるようにしている。
また、添加ガスボンベ21cと、添加ガス流量調節器22cとによって、図1に示した酸素濃度低減用ガス供給装置12から通風路11に供給される酸素濃度低減用ガスに相当する構成が得られるようにしている。
As described above, in the test apparatus 20, the removal target gas cylinder 21a, the removal target gas flow rate regulator 22a, the air cylinder 21b, and the air flow rate regulator 22b are downstream from the upstream side of the ventilation path 11 shown in FIG. The structure corresponding to the air containing harmful gas ventilated to the side is obtained.
In addition, the additive gas cylinder 21c and the additive gas flow controller 22c can be configured to correspond to the oxygen concentration reducing gas supplied to the ventilation path 11 from the oxygen concentration reducing gas supply device 12 shown in FIG. I have to.

流量計24は、除去対象ガスボンベ21a、空気ボンベ21b、及び添加ガスボンベ21cから供給されたガスの流量を計測するためのものである。
加湿装置13は、図1に示したものと同じものであり、除去対象ガスボンベ21a、空気ボンベ21b、及び添加ガスボンベ21cから、アクリル製の箱25に供給されるガスを加湿するためのものである。
The flow meter 24 is for measuring the flow rate of the gas supplied from the removal target gas cylinder 21a, the air cylinder 21b, and the additive gas cylinder 21c.
The humidifier 13 is the same as that shown in FIG. 1 and is for humidifying the gas supplied to the acrylic box 25 from the removal target gas cylinder 21a, the air cylinder 21b, and the additive gas cylinder 21c. .

エキシマランプ14は、図1に示したものと同じものであり、短波長紫外線14aを照射して、アクリル製の箱25の内部の少なくとも一部の領域に、上記紫外線領域を形成するためのものである。試験装置20では、172[nm]の波長を有する短波長紫外線を照射するようにした。   The excimer lamp 14 is the same as that shown in FIG. 1, and irradiates the short wavelength ultraviolet ray 14a to form the ultraviolet ray region in at least a partial region inside the acrylic box 25. It is. In the test apparatus 20, short wavelength ultraviolet rays having a wavelength of 172 [nm] were irradiated.

アクリル製の箱25は、概ね中空直方体形状を有している。アクリル製の箱25の一端面の一部には、除去対象ガスボンベ21a、空気ボンベ21b、及び添加ガスボンベ21cから供給されたガスをアクリル製の箱25の内部に流入させるための気体流入口25aが形成されている。また、アクリル製の箱25の他端面の一部には、上記除去対象ガスが除去されたガスを流出させるための気体流出口25bが形成されている。また、アクリル製の箱25の側面の一部には、エキシマランプ14を装着するための開口部が形成されている。   The acrylic box 25 has a generally hollow rectangular parallelepiped shape. A gas inlet 25 a for allowing the gas supplied from the removal target gas cylinder 21 a, the air cylinder 21 b, and the additive gas cylinder 21 c to flow into the acrylic box 25 is provided in a part of one end surface of the acrylic box 25. Is formed. In addition, a gas outlet 25b is formed on a part of the other end surface of the acrylic box 25 to allow the gas from which the removal target gas has been removed to flow out. An opening for mounting the excimer lamp 14 is formed in a part of the side surface of the acrylic box 25.

このように、試験装置20では、アクリル製の箱25が通風路23の一部を形成するようにしている。なお、アクリル製の箱25の形状は、中空直方体形状に限定されず、例えば、中空円筒形状などであってもよいということは言うまでもない。   As described above, in the test apparatus 20, the acrylic box 25 forms a part of the ventilation path 23. Needless to say, the shape of the acrylic box 25 is not limited to a hollow rectangular parallelepiped shape, and may be, for example, a hollow cylindrical shape.

以上のようにして構成されたアクリル製の箱25の気体流出口25bから流出されたガスは、2つの経路に分かれて大気中に放出される。
これら2つの経路のうちの一方の経路には、濃度測定器26と、流量計27と、ポンプ28aとが配設されている。試験装置20では、除去対象ガスボンベ21aから通風路23に供給された上記除去対象ガスが、どの程度除去されたのかを、この濃度測定器26を用いて計測するようにしている。この濃度測定器26は、FT−IR(フーリエ変換赤外分光分析計:Fourier Transform Infrared Spectrophotometer)と称されているものであり、アクリル製の箱25から流出したガスに含まれる上記除去対象ガスの濃度を測定して表示する装置である。
The gas flowing out from the gas outlet 25b of the acrylic box 25 configured as described above is divided into two paths and released into the atmosphere.
A concentration measuring device 26, a flow meter 27, and a pump 28a are disposed in one of these two routes. In the test apparatus 20, the concentration measuring device 26 is used to measure how much the removal target gas supplied from the removal target gas cylinder 21a to the ventilation path 23 has been removed. The concentration measuring device 26 is called an FT-IR (Fourier Transform Infrared Spectrophotometer), and the concentration measuring device 26 contains the gas to be removed contained in the gas flowing out from the acrylic box 25. It is a device that measures and displays the concentration.

ポンプ28aは、アクリル製の箱25から流出したガスを濃度測定器26に供給するためのものである。試験装置20では、濃度測定器26に供給されるガスの流量を、流量計27により監視するようにしている。   The pump 28 a is for supplying the gas flowing out from the acrylic box 25 to the concentration measuring device 26. In the test apparatus 20, the flow rate of the gas supplied to the concentration measuring device 26 is monitored by a flow meter 27.

一方、上記2つの経路のうちの他方の経路には、ポンプ28bが配設されている。このポンプ28bは、アクリル製の箱25から流出したガスを大気中に放出するためのものである。このように、試験装置20では、ポンプ28bによって、図1に示した送風機15に相当する構成が得られるようにしている。   On the other hand, a pump 28b is disposed on the other of the two paths. The pump 28b is for discharging the gas flowing out from the acrylic box 25 into the atmosphere. Thus, in the test apparatus 20, the structure equivalent to the air blower 15 shown in FIG. 1 is obtained by the pump 28b.

本願発明者らは、以上のような構成を有する試験装置20を種々の条件で動作させて、上記除去対象ガスの除去率を調査した。   The inventors of the present application operated the test apparatus 20 having the above-described configuration under various conditions, and investigated the removal rate of the removal target gas.

(第1の試験例)
本試験例では、上記除去対象ガスを一酸化炭素ガスとし、上記紫外線領域に流入する一酸化炭素ガスの流量と、その除去率との関係について試験を行った。
具体的に説明すると、添加ガス流量調節器22cによって、添加ガスボンベ21cから上記酸素濃度低減用ガスが通風路23に供給されないようにするとともに、加湿装置13を動作させてアクリル製の箱25内の相対湿度が略60[%]になるようにした。
(First test example)
In this test example, carbon monoxide gas was used as the removal target gas, and the relationship between the flow rate of carbon monoxide gas flowing into the ultraviolet region and the removal rate was tested.
More specifically, the oxygen concentration reducing gas is prevented from being supplied from the additive gas cylinder 21c to the ventilation passage 23 by the additive gas flow controller 22c, and the humidifier 13 is operated so that the inside of the acrylic box 25 is The relative humidity was set to approximately 60 [%].

そして、除去対象ガス流量調節器22aと、空気流量調節器22bとを調節することによって、除去対象ガスボンベ21aから通風路23に供給される一酸化炭素ガスと、空気ボンベ21bから通風路23に供給される空気との流量を変えて、一酸化炭素ガスの除去率を濃度測定器26で測定した。なお、一酸化炭素ガスと空気の流量は、流量計24で計測するようにした。また、一酸化炭素ガスのアクリル製の箱25内における濃度が100[ppm]で一定になるように、一酸化炭素ガスと空気との総流量を変えるようにした。   Then, by adjusting the removal target gas flow controller 22a and the air flow controller 22b, the carbon monoxide gas supplied from the removal target gas cylinder 21a to the ventilation path 23, and supplied from the air cylinder 21b to the ventilation path 23. The removal rate of carbon monoxide gas was measured with the concentration measuring device 26 while changing the flow rate with the air. The flow rates of carbon monoxide gas and air were measured with a flow meter 24. Further, the total flow rate of the carbon monoxide gas and air was changed so that the concentration of the carbon monoxide gas in the acrylic box 25 was constant at 100 [ppm].

このような条件で試験装置20を動作させたときの一酸化炭素ガスの除去率の測定結果を図3に示す。図3は、上記紫外線領域に流入するガスの流量と、一酸化炭素ガスの除去率との関係を示した図である。   FIG. 3 shows the measurement result of the carbon monoxide gas removal rate when the test apparatus 20 is operated under such conditions. FIG. 3 is a graph showing the relationship between the flow rate of gas flowing into the ultraviolet region and the removal rate of carbon monoxide gas.

本願発明者らは、二酸化マンガン粒子などの固形触媒を用いたオゾン分解装置では、一酸化炭素ガスの除去率が最大でも7[%]程度であるという知見を得ている。これに対し、図3に示す特性線31から分かるように、本試験例では、一酸化炭素ガスの除去率は、最低でも15[%]となった。このことは、上記のようなオゾン分解装置よりも試験装置20(有害ガス除去装置10)の方が、一酸化炭素ガスを確実に除去することができることを裏付けている。   The inventors of the present application have found that in a ozonolysis apparatus using a solid catalyst such as manganese dioxide particles, the removal rate of carbon monoxide gas is at most about 7%. On the other hand, as can be seen from the characteristic line 31 shown in FIG. 3, in this test example, the removal rate of the carbon monoxide gas was at least 15%. This confirms that the test apparatus 20 (the harmful gas removing apparatus 10) can remove the carbon monoxide gas more reliably than the ozonolysis apparatus as described above.

また、上記紫外線領域に流入するガス(一酸化炭素ガス)の流量が小さいほど、一酸化炭素ガスの除去率が向上する。すなわち、一酸化炭素ガスの除去率が、上記紫外線領域に流入する一酸化炭素ガスの流量に反比例する。このことから、上記紫外線領域に流入する一酸化炭素ガスの流量を調節することにより、より確実に一酸化炭素ガスを除去することができることが分かった。   Moreover, the removal rate of carbon monoxide gas improves as the flow rate of the gas (carbon monoxide gas) flowing into the ultraviolet region decreases. That is, the removal rate of carbon monoxide gas is inversely proportional to the flow rate of carbon monoxide gas flowing into the ultraviolet region. From this, it was found that the carbon monoxide gas can be more reliably removed by adjusting the flow rate of the carbon monoxide gas flowing into the ultraviolet region.

(第2の試験例)
本試験例では、上記除去対象ガスを一酸化炭素ガスとし、上記紫外線領域における湿度と、上記紫外線領域に流入した一酸化炭素ガスの除去率との関係について試験を行った。
具体的に説明すると、添加ガス流量調節器22cによって、添加ガスボンベ21cから上記酸素濃度低減用ガスが通風路23に供給されないようにするとともに、除去対象ガス流量調節器22aと、空気流量調節器22bとを調節することによって、除去対象ガスボンベ21aから通風路23に供給される一酸化炭素ガスと、空気ボンベ21bから通風路23に供給される空気との総流量が略25[リットル/分]になるようにした。そして、加湿装置13によりアクリル製の箱25内の相対湿度を変えて、一酸化炭素ガスの除去率を濃度測定器26で測定した。なお、一酸化炭素ガスと空気との総流量を、流量計24で計測するようにした。また、また、一酸化炭素ガスのアクリル製の箱25内における濃度が100[ppm]で一定になるようにした。
(Second test example)
In this test example, carbon monoxide gas was used as the removal target gas, and the relationship between the humidity in the ultraviolet region and the removal rate of the carbon monoxide gas flowing into the ultraviolet region was tested.
More specifically, the oxygen concentration reducing gas is not supplied from the additive gas cylinder 21c to the ventilation path 23 by the additive gas flow controller 22c, and the removal target gas flow controller 22a and the air flow controller 22b are removed. And the total flow rate of the carbon monoxide gas supplied from the removal target gas cylinder 21a to the ventilation path 23 and the air supplied from the air cylinder 21b to the ventilation path 23 is approximately 25 [liter / min]. It was made to become. Then, the relative humidity in the acrylic box 25 was changed by the humidifier 13, and the carbon monoxide gas removal rate was measured by the concentration measuring device 26. The total flow rate of carbon monoxide gas and air was measured with the flow meter 24. In addition, the concentration of carbon monoxide gas in the acrylic box 25 was made constant at 100 [ppm].

このような条件で試験装置20を動作させたときの一酸化炭素ガスの除去率の測定結果を図4に示す。図4は、上記紫外線領域における相対湿度と、一酸化炭素ガスの除去率との関係を示した図である。
図4に示す特性線41のように、本試験例では、紫外線領域における相対湿度が高いほど、一酸化炭素ガスの除去率が向上することが確認された。このことは、水蒸気を上記紫外線領域に供給するほど、(水(H2O)と短波長紫外線とが反応して)多量のOHラジカルが発生し、このOHラジカルが一酸化炭素ガスの酸化反応を促進させることを裏付けている。
FIG. 4 shows the measurement results of the carbon monoxide gas removal rate when the test apparatus 20 is operated under such conditions. FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the relative humidity in the ultraviolet region and the removal rate of carbon monoxide gas.
As in the characteristic line 41 shown in FIG. 4, in this test example, it was confirmed that the higher the relative humidity in the ultraviolet region, the higher the carbon monoxide gas removal rate. This is because as the water vapor is supplied to the ultraviolet region, a large amount of OH radicals are generated (reaction of water (H 2 O) and short wavelength ultraviolet rays), and this OH radical is oxidized by carbon monoxide gas. It is supported to promote.

(第3の試験例)
本試験例では、上記除去対象ガスを一酸化炭素ガスとし、上記紫外線領域における酸素濃度と、上記紫外線領域に流入した一酸化炭素ガスの除去率との関係を、上記酸素濃度低減用ガスとして窒素ガスを用いた場合について試験した。
具体的に説明すると、除去対象ガス流量調節器22aと、空気流量調節器22bと、添加ガス流量調節器22cとを調節することによって、除去対象ガスボンベ21aから通風路23に供給される一酸化炭素ガスと、空気ボンベ21bから通風路23に供給される空気と、添加ガス流量調節器22cから通風路23に供給される窒素ガスとの総流量が略5[リットル/分]になるようにするとともに、加湿装置13を動作させてアクリル製の箱25(上記紫外線領域)内の相対湿度が略60[%]になるようにした。そして、添加ガス流量調節器22cによって、添加ガスボンベ21cから通風路23に供給される窒素ガスの流量を調節して、アクリル製の箱25の内部の酸素濃度を変えるようにした。なお、本試験例においては、一酸化炭素ガスのアクリル製の箱25内における濃度が100[ppm]で一定になるようにした。また、一酸化炭素ガスと空気と窒素ガスとの総流量を、流量計24で計測するようにした。
(Third test example)
In this test example, the gas to be removed is carbon monoxide gas, and the relationship between the oxygen concentration in the ultraviolet region and the removal rate of the carbon monoxide gas that has flowed into the ultraviolet region is defined as nitrogen gas as the oxygen concentration reducing gas. The case where gas was used was tested.
More specifically, carbon monoxide supplied from the removal target gas cylinder 21a to the ventilation path 23 by adjusting the removal target gas flow controller 22a, the air flow controller 22b, and the additive gas flow controller 22c. The total flow rate of the gas, the air supplied from the air cylinder 21b to the ventilation path 23, and the nitrogen gas supplied from the additive gas flow controller 22c to the ventilation path 23 is set to approximately 5 [liter / min]. At the same time, the humidifier 13 was operated so that the relative humidity in the acrylic box 25 (the ultraviolet region) was approximately 60%. Then, the flow rate of nitrogen gas supplied from the additive gas cylinder 21c to the ventilation path 23 is adjusted by the additive gas flow rate controller 22c, so that the oxygen concentration inside the acrylic box 25 is changed. In this test example, the concentration of carbon monoxide gas in the acrylic box 25 was set constant at 100 [ppm]. Further, the total flow rate of carbon monoxide gas, air, and nitrogen gas was measured with the flow meter 24.

このような条件で試験装置20を動作させたときの一酸化炭素ガスの除去率の測定結果を図5に示す。図5は、上記紫外線領域における酸素濃度と、一酸化炭素ガスの除去率との関係を示した図である。
図5に示す特性線51のように、本試験例では、上記紫外線領域における酸素濃度が低いほど、一酸化炭素ガスの除去率が向上することが確認された。このことは、上記紫外線領域における酸素ガスの濃度を低減させるほど、短波長紫外線が一酸化炭素ガスに寄与する度合いが高くなることを裏付けている。
FIG. 5 shows the measurement result of the carbon monoxide gas removal rate when the test apparatus 20 is operated under such conditions. FIG. 5 is a graph showing the relationship between the oxygen concentration in the ultraviolet region and the carbon monoxide gas removal rate.
As in the characteristic line 51 shown in FIG. 5, in this test example, it was confirmed that the lower the oxygen concentration in the ultraviolet region, the higher the removal rate of carbon monoxide gas. This confirms that the degree of contribution of short wavelength ultraviolet rays to carbon monoxide gas increases as the concentration of oxygen gas in the ultraviolet region is reduced.

また、本試験例では、上記紫外線領域における酸素濃度が10[%]以下になると、一酸化炭素ガスの除去率が65[%]を超えることが確認された。さらに、上記紫外線領域における酸素濃度が2[%]以上12.5[%]以下の範囲における特性線51の傾きは、上記紫外線領域における酸素濃度が12.5[%]以上20[%]以下の範囲における特性線51の傾きよりも急峻になることが確認された。   Further, in this test example, it was confirmed that the removal rate of carbon monoxide gas exceeded 65 [%] when the oxygen concentration in the ultraviolet region was 10 [%] or less. Further, the slope of the characteristic line 51 in the range where the oxygen concentration in the ultraviolet region is 2 [%] or more and 12.5 [%] or less indicates that the oxygen concentration in the ultraviolet region is 12.5 [%] or more and 20 [%] or less. It has been confirmed that the slope is steeper than the slope of the characteristic line 51 in this range.

さらに、上記紫外線領域における酸素濃度が1[%]以下になると、一酸化炭素ガスの除去率が90[%]を超え、一酸化炭素ガスを略除去することができることが確認された。これは、上記紫外線領域に水蒸気が供給されることにより、水蒸気が水素と酸素とに分解され、この分解された酸素と一酸化炭素ガスとの酸化反応に、アクリル製の箱25内に照射された短波長紫外線が、殆ど酸素に吸収されることなく寄与することができるためであると考えられる。   Furthermore, when the oxygen concentration in the ultraviolet region is 1 [%] or less, the removal rate of carbon monoxide gas exceeds 90 [%], and it was confirmed that the carbon monoxide gas can be substantially removed. This is because when the water vapor is supplied to the ultraviolet region, the water vapor is decomposed into hydrogen and oxygen, and the oxidation reaction between the decomposed oxygen and the carbon monoxide gas is irradiated into the acrylic box 25. This is considered to be because the short wavelength ultraviolet rays can contribute almost without being absorbed by oxygen.

このように、本試験例により、本願発明者らは、上記紫外線領域に酸素を供給しなくても、水蒸気を供給すれば一酸化炭素ガスを酸化させるのには十分な量の酸素が得られるとともに、短波長紫外線が、殆ど酸素に吸収されることなく、アクリル製の箱25内に照射され、上記紫外線領域が、より広範囲に形成され、一酸化炭素ガスを高い除去率で除去することができるという知見を得た。   Thus, according to this test example, the present inventors can obtain a sufficient amount of oxygen to oxidize the carbon monoxide gas by supplying water vapor without supplying oxygen to the ultraviolet region. At the same time, the short wavelength ultraviolet ray is irradiated into the acrylic box 25 with almost no absorption by oxygen, and the ultraviolet ray region is formed in a wider range, and the carbon monoxide gas can be removed at a high removal rate. I got the knowledge that I can do it.

(第4の試験例)
本試験例では、上記除去対象ガスを一酸化炭素ガスとし、上記紫外線領域における酸素濃度と、上記紫外線領域に流入した一酸化炭素ガスの除去率との関係を、上記酸素濃度低減用ガスとして窒素ガスを用いた場合とアルゴンガスを用いた場合との2つの場合について試験した。
(Fourth test example)
In this test example, the gas to be removed is carbon monoxide gas, and the relationship between the oxygen concentration in the ultraviolet region and the removal rate of the carbon monoxide gas that has flowed into the ultraviolet region is defined as nitrogen gas as the oxygen concentration reducing gas. Two cases were tested: using gas and using argon gas.

具体的に説明すると、第1に、除去対象ガス流量調節器22aと、空気流量調節器22bと、添加ガス流量調節器22cとを調節することによって、除去対象ガスボンベ21aから通風路23に供給される一酸化炭素ガスと、空気ボンベ21bから通風路23に供給される空気と、添加ガス流量調節器22cから通風路23に供給される窒素ガスとの総流量が略25[リットル/分]になるようにするとともに、加湿装置13を動作させてアクリル製の箱25(上記紫外線領域)内の相対湿度が略60[%]になるようにした。そして、添加ガス流量調節器22cによって、添加ガスボンベ21cから通風路23に供給される窒素ガスの流量を調節して、アクリル製の箱25の内部の酸素濃度を変えるようにした。なお、本試験例においては、一酸化炭素ガスのアクリル製の箱25内における濃度が100[ppm]で一定になるようにした。また、一酸化炭素ガスと空気と窒素ガスとの総流量を、流量計24で計測するようにした。   More specifically, first, the removal target gas flow controller 22a, the air flow controller 22b, and the additive gas flow controller 22c are adjusted to be supplied from the removal target gas cylinder 21a to the ventilation path 23. The total flow rate of the carbon monoxide gas, the air supplied from the air cylinder 21b to the ventilation path 23, and the nitrogen gas supplied from the additive gas flow controller 22c to the ventilation path 23 is approximately 25 [liter / min]. In addition, the humidifier 13 was operated so that the relative humidity in the acrylic box 25 (the ultraviolet region) was approximately 60%. Then, the flow rate of nitrogen gas supplied from the additive gas cylinder 21c to the ventilation path 23 is adjusted by the additive gas flow rate controller 22c, so that the oxygen concentration inside the acrylic box 25 is changed. In this test example, the concentration of carbon monoxide gas in the acrylic box 25 was set constant at 100 [ppm]. Further, the total flow rate of carbon monoxide gas, air, and nitrogen gas was measured with the flow meter 24.

第2に、除去対象ガス流量調節器22aと、空気流量調節器22bと、添加ガス流量調節器22cとを調節することによって、除去対象ガスボンベ21aから通風路23に供給される一酸化炭素ガスと、空気ボンベ21bから通風路23に供給される空気と、添加ガス流量調節器22cから通風路23に供給されるアルゴンガスとの総流量が略25[リットル/分]になるようにするとともに、加湿装置13を動作させてアクリル製の箱25(上記紫外線領域)内の相対湿度が略60[%]になるようにした。そして、添加ガス流量調節器22cによって、添加ガスボンベ21cから通風路23に供給されるアルゴンガスの流量を調節して、アクリル製の箱25の内部の酸素濃度を変えるようにした。なお、本試験例においては、一酸化炭素ガスのアクリル製の箱25内における濃度が100[ppm]で一定になるようにした。また、一酸化炭素ガスと空気とアルゴンガスとの総流量を、流量計24で計測するようにした。   Second, the carbon monoxide gas supplied from the removal target gas cylinder 21a to the ventilation path 23 by adjusting the removal target gas flow controller 22a, the air flow controller 22b, and the additive gas flow controller 22c. The total flow rate of the air supplied from the air cylinder 21b to the ventilation path 23 and the argon gas supplied from the additive gas flow rate controller 22c to the ventilation path 23 is approximately 25 [liter / min], The humidifier 13 was operated so that the relative humidity in the acrylic box 25 (the ultraviolet region) was approximately 60 [%]. Then, the flow rate of the argon gas supplied from the additive gas cylinder 21c to the ventilation path 23 is adjusted by the additive gas flow rate controller 22c to change the oxygen concentration inside the acrylic box 25. In this test example, the concentration of carbon monoxide gas in the acrylic box 25 was set constant at 100 [ppm]. In addition, the total flow rate of carbon monoxide gas, air, and argon gas was measured with the flow meter 24.

このような条件で試験装置20を動作させたときの一酸化炭素ガスの除去率の測定結果を図に示す。図6は、上記紫外線領域における酸素濃度と、一酸化炭素ガスの除去率との関係を示した図である。
図6に示す特性線61は、酸素濃度低減用ガスとして窒素ガスを用いた場合の特性線であり、特性線62は、酸素濃度低減用ガスとしてアルゴンガスを用いた場合の特性線である。
The measurement results of the carbon monoxide gas removal rate when the test apparatus 20 is operated under such conditions are shown in the figure. FIG. 6 is a graph showing the relationship between the oxygen concentration in the ultraviolet region and the carbon monoxide gas removal rate.
A characteristic line 61 shown in FIG. 6 is a characteristic line when nitrogen gas is used as the oxygen concentration reducing gas, and a characteristic line 62 is a characteristic line when argon gas is used as the oxygen concentration reducing gas.

これらの特性線61、62から分かるように、本試験例では、アクリル製の箱25の内部(上記紫外線領域)における酸素濃度を低減させるために、アルゴンガスなどの希ガスをアクリル製の箱25の内部(上記紫外線領域)に供給しても、一酸化炭素ガスを除去することができ、窒素ガスを用いた場合と略同等の効果が得られることが確認された。   As can be seen from these characteristic lines 61 and 62, in this test example, in order to reduce the oxygen concentration inside the acrylic box 25 (the ultraviolet region), a rare gas such as argon gas is used in the acrylic box 25. It was confirmed that the carbon monoxide gas can be removed even if it is supplied to the inside (the above-mentioned ultraviolet region), and substantially the same effect as that obtained when nitrogen gas is used can be obtained.

(第5の試験例)
本試験例では、上記除去対象ガスを、VOCガスであるアセトアルデヒドとし、上記紫外線領域に流入するアセトアルデヒドの流量と、その除去率との関係を、上記紫外線領域を加湿した場合としない場合との2つの場合ついて試験した。
(Fifth test example)
In this test example, the gas to be removed is acetaldehyde, which is a VOC gas, and the relationship between the flow rate of acetaldehyde flowing into the ultraviolet region and the removal rate thereof is 2 with and without humidifying the ultraviolet region. Two cases were tested.

具体的に説明すると、第1に、添加ガス流量調節器22cによって、添加ガスボンベ21cから上記酸素濃度低減用ガスが通風路23に供給されないようにするとともに、加湿装置13を動作させてアクリル製の箱25内の相対湿度が略60[%]になるようにした。そして、除去対象ガス流量調節器22aと、空気流量調節器22bとを調節することによって、除去対象ガスボンベ21aから通風路23に供給されるアセトアルデヒドと、空気ボンベ21bから通風路23に供給される空気との流量を変えて、アセトアルデヒドの除去率を濃度測定器26で測定した。なお、アセトアルデヒドと空気の流量を、流量計24で計測するようにした。また、アセトアルデヒドのアクリル製の箱25内における濃度が100[ppm]で一定になるように、アセトアルデヒドと空気との総流量を変えるようにした。   Specifically, first, the additive gas flow rate controller 22c prevents the oxygen concentration reducing gas from being supplied from the additive gas cylinder 21c to the ventilation path 23, and the humidifier 13 is operated to make an acrylic product. The relative humidity in the box 25 was set to approximately 60 [%]. Then, by adjusting the removal target gas flow controller 22a and the air flow controller 22b, acetaldehyde supplied from the removal target gas cylinder 21a to the ventilation path 23 and air supplied from the air cylinder 21b to the ventilation path 23. The removal rate of acetaldehyde was measured with the concentration measuring device 26 while changing the flow rate. The flow rate of acetaldehyde and air was measured with a flow meter 24. Further, the total flow rate of acetaldehyde and air was changed so that the concentration of acetaldehyde in the acrylic box 25 would be constant at 100 [ppm].

第2に、添加ガス流量調節器22cによって、添加ガスボンベ21cから上記酸素濃度低減用ガスが通風路23に供給されないようにするとともに、加湿装置13を動作させずに、アクリル製の箱25内の相対湿度が測定環境と同程度(=略20[%])になるようにした。そして、除去対象ガス流量調節器22aと、空気流量調節器22bとを調節することによって、除去対象ガスボンベ21aから通風路23に供給されるアセトアルデヒドと、空気ボンベ21bから通風路23に供給される空気との流量を変えて、アセトアルデヒドの除去率を濃度測定器26で測定した。なお、アセトアルデヒドと空気の流量を、流量計24で計測するようにした。また、アセトアルデヒドのアクリル製の箱25内における濃度が100[ppm]で一定になるように、アセトアルデヒドと空気との総流量を変えるようにした。   Secondly, the additive gas flow controller 22c prevents the oxygen concentration reducing gas from being supplied from the additive gas cylinder 21c to the ventilation path 23, and the humidifier 13 is not operated. The relative humidity was set to the same level as the measurement environment (= approximately 20 [%]). Then, by adjusting the removal target gas flow controller 22a and the air flow controller 22b, acetaldehyde supplied from the removal target gas cylinder 21a to the ventilation path 23 and air supplied from the air cylinder 21b to the ventilation path 23. The removal rate of acetaldehyde was measured with the concentration measuring device 26 while changing the flow rate. The flow rate of acetaldehyde and air was measured with a flow meter 24. Further, the total flow rate of acetaldehyde and air was changed so that the concentration of acetaldehyde in the acrylic box 25 would be constant at 100 [ppm].

このような条件で試験装置20を動作させたときのアセトアルデヒドの除去率の測定結果を図に示す。図7は、上記紫外線領域に流入するガスの流量と、アセトアルデヒドの除去率との関係を示した図である。
図7に示す特性線71は、加湿した場合の特性線であり、特性線72は、加湿しない場合の特性線である。
The measurement results of the acetaldehyde removal rate when the test apparatus 20 is operated under such conditions are shown in the figure. FIG. 7 is a graph showing the relationship between the flow rate of the gas flowing into the ultraviolet region and the acetaldehyde removal rate.
A characteristic line 71 shown in FIG. 7 is a characteristic line when humidified, and a characteristic line 72 is a characteristic line when not humidified.

これらの特性線71から分かるように、本試験例では、試験装置20(有害ガス除去装置10)を用いると、一酸化炭素ガスだけでなく、アセトアルデヒド(VOCガス)も除去することができ、さらに、上記紫外線領域を加湿した方が、加湿しない場合よりもアセトアルデヒドをより確実に除去することができることが確認された。   As can be seen from these characteristic lines 71, in the present test example, when the test apparatus 20 (the harmful gas removal apparatus 10) is used, not only carbon monoxide gas but also acetaldehyde (VOC gas) can be removed. It was confirmed that acetaldehyde can be removed more reliably when the ultraviolet region is humidified than when it is not humidified.

(第6の試験例)
本試験例では、上記除去対象ガスをアセトアルデヒドとし、上記紫外線領域における酸素濃度と、上記紫外線領域に流入したアセトアルデヒドの除去率との関係を、上記酸素濃度低減用ガスとして窒素ガスを用いた場合について試験した。
具体的に説明すると、除去対象ガス流量調節器22aと、空気流量調節器22bと、添加ガス流量調節器22cとを調節することによって、除去対象ガスボンベ21aから通風路23に供給されるアセトアルデヒドと、空気ボンベ21bから通風路23に供給される空気と、添加ガス流量調節器22cから通風路23に供給される窒素ガスとの総流量が略10[リットル/分]になるようにするとともに、加湿装置13を動作させてアクリル製の箱25(上記紫外線領域)内の相対湿度が略60[%]になるようにした。そして、添加ガス流量調節器22cによって、添加ガスボンベ21cから通風路23に供給される窒素ガスの流量を調節して、アクリル製の箱25の内部の酸素濃度を変えるようにした。なお、本試験例においては、アセトアルデヒドのアクリル製の箱25内における濃度が100[ppm]で一定になるようにした。また、アセトアルデヒドと空気と窒素ガスとの総流量を、流量計24で計測するようにした。
(Sixth test example)
In this test example, the removal target gas is acetaldehyde, and the relationship between the oxygen concentration in the ultraviolet region and the removal rate of acetaldehyde that has flowed into the ultraviolet region is the case where nitrogen gas is used as the oxygen concentration reducing gas. Tested.
More specifically, by adjusting the removal target gas flow rate regulator 22a, the air flow rate regulator 22b, and the additive gas flow rate regulator 22c, acetaldehyde supplied from the removal target gas cylinder 21a to the ventilation path 23; The total flow rate of the air supplied from the air cylinder 21b to the ventilation path 23 and the nitrogen gas supplied from the additive gas flow rate controller 22c to the ventilation path 23 is approximately 10 [liters / minute], and is humidified. The apparatus 13 was operated so that the relative humidity in the acrylic box 25 (the ultraviolet region) was approximately 60 [%]. Then, the flow rate of nitrogen gas supplied from the additive gas cylinder 21c to the ventilation path 23 is adjusted by the additive gas flow rate controller 22c, so that the oxygen concentration inside the acrylic box 25 is changed. In this test example, the concentration of acetaldehyde in the acrylic box 25 was made constant at 100 [ppm]. The total flow rate of acetaldehyde, air, and nitrogen gas was measured with the flow meter 24.

このような条件で試験装置20を動作させたときのアセトアルデヒドの除去率の測定結果を図8に示す。図8は、上記紫外線領域における酸素濃度と、アセトアルデヒドの除去率との関係を示した図である。   FIG. 8 shows the measurement result of the acetaldehyde removal rate when the test apparatus 20 is operated under such conditions. FIG. 8 is a graph showing the relationship between the oxygen concentration in the ultraviolet region and the acetaldehyde removal rate.

図8に示す特性線81のように、本試験例では、上記紫外線領域における酸素濃度が低いほど、アセトアルデヒドの除去率が向上することが確認された。このことは、上記紫外線領域における酸素ガスの濃度を低減させるほど、短波長紫外線がVOCガスに寄与する度合いが高くなることを裏付けている。また、本試験例では、上記紫外線領域における酸素濃度が21[%]でも(すなわち、酸素濃度が大気中に含まれている酸素濃度と同じ濃度であっても)、アセトアルデヒドの除去率は70[%]を超える。このことは、一酸化炭素ガスの方が、アセトアルデヒドなどのVOCガスよりも除去しにくい有害ガスであることを裏付けている。   As shown by the characteristic line 81 shown in FIG. 8, in this test example, it was confirmed that the lower the oxygen concentration in the ultraviolet region, the better the acetaldehyde removal rate. This supports that the degree of contribution of short wavelength ultraviolet rays to VOC gas increases as the concentration of oxygen gas in the ultraviolet region is reduced. In this test example, even when the oxygen concentration in the ultraviolet region is 21 [%] (that is, even when the oxygen concentration is the same as the oxygen concentration contained in the atmosphere), the acetaldehyde removal rate is 70 [ %]. This confirms that carbon monoxide gas is a harmful gas that is more difficult to remove than VOC gas such as acetaldehyde.

また、上記紫外線領域における酸素濃度が5[%]以下になると、一酸化炭素ガスの除去率が90[%]を超え、一酸化炭素ガスを略除去することができることが確認された。   Further, it was confirmed that when the oxygen concentration in the ultraviolet region is 5% or less, the carbon monoxide gas removal rate exceeds 90%, and the carbon monoxide gas can be substantially removed.

このように、本試験例により、一酸化炭素ガスだけでなく、アセトアルデヒド(VOCガス)についても、上記紫外線領域における酸素濃度を低くするほど、除去率が高くなることが確認された。   Thus, according to this test example, it was confirmed that not only carbon monoxide gas but also acetaldehyde (VOC gas), the lower the oxygen concentration in the ultraviolet region, the higher the removal rate.

以上のように、本実施の形態では、エキシマランプ14から照射される短波長紫外線により通風路11内に形成される紫外線領域に大気中の空気を通して、上記大気中の空気に含まれている一酸化炭素やVOCガスなどの有害ガスを除去するに際し、酸素濃度低減用ガス供給装置12から窒素ガスや希ガスを上記紫外線領域に供給して上記紫外線領域における酸素濃度を低減させるようにしたので、短波長紫外線が酸素に吸収されることを可及的に防止することができる。これにより、一酸化炭素ガスやVOCガスなどの有害ガスの酸化反応に短波長紫外線を効率よく寄与させることができ、一酸化炭素ガスやVOCガスなどの有害ガスを容易に且つ確実に除去することができる。   As described above, in the present embodiment, air in the atmosphere passes through the ultraviolet region formed in the ventilation path 11 by the short wavelength ultraviolet rays irradiated from the excimer lamp 14 and is included in the air in the atmosphere. When removing harmful gases such as carbon oxide and VOC gas, nitrogen gas or rare gas is supplied from the oxygen concentration reducing gas supply device 12 to the ultraviolet region to reduce the oxygen concentration in the ultraviolet region. It is possible to prevent short wavelength ultraviolet rays from being absorbed by oxygen as much as possible. Thereby, short wavelength ultraviolet rays can be efficiently contributed to oxidation reaction of harmful gases such as carbon monoxide gas and VOC gas, and harmful gases such as carbon monoxide gas and VOC gas can be easily and reliably removed. Can do.

また、上記紫外線領域に水蒸気を供給することにより、上記紫外線領域を加湿するようにしたので、上記紫外線領域でOHラジカルを生成させることができる。これにより、上記OHラジカルが、一酸化炭素ガスやVOCガスなどの有害ガスの酸化反応に寄与し、これらの有害ガスをより確実に除去することができる。また、上記紫外線領域に水蒸気を供給することにより、上記紫外線領域で酸素を生成させることができる。これにより、上記紫外線領域に酸素を供給しなくても(或いは上記紫外線領域に供給する酸素を少なくしても)、有害ガスを適切に酸化反応させることができる。したがって、短波長紫外線が酸素に吸収されることをより確実に防止することができ、一酸化炭素ガスやVOCガスなどの有害ガスの酸化反応に短波長紫外線を、より一層効率よく寄与させることができる。   Moreover, since the ultraviolet region is humidified by supplying water vapor to the ultraviolet region, OH radicals can be generated in the ultraviolet region. Thereby, the OH radical contributes to the oxidation reaction of harmful gases such as carbon monoxide gas and VOC gas, and these harmful gases can be more reliably removed. Further, oxygen can be generated in the ultraviolet region by supplying water vapor to the ultraviolet region. Thereby, even if oxygen is not supplied to the ultraviolet region (or even if oxygen supplied to the ultraviolet region is reduced), the harmful gas can be appropriately oxidized. Therefore, it is possible to more reliably prevent short wavelength ultraviolet rays from being absorbed by oxygen, and to make short wavelength ultraviolet rays contribute more efficiently to the oxidation reaction of harmful gases such as carbon monoxide gas and VOC gas. it can.

なお、本実施の形態(上述した試験例)では、アクリル製の箱25内に短波長紫外線を照射するようにしたが、上記紫外線領域を形成することができれば、必ずしもアクリル製の箱を用いる必要はない。例えば、ABS(アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン)樹脂製の箱などを用いるようにしてもよい。すなわち、通風路を形成するための材料は、必ずしもアクリルでなくてもよい。   In the present embodiment (the test example described above), the acrylic box 25 is irradiated with short wavelength ultraviolet rays. However, if the ultraviolet region can be formed, an acrylic box is necessarily used. There is no. For example, an ABS (acrylonitrile butadiene styrene) resin box or the like may be used. That is, the material for forming the ventilation path is not necessarily acrylic.

また、本実施の形態(上述した試験例)では、エキシマランプ14から照射される短波長紫外線の波長を172[nm]としたが、エキシマランプ14から照射される短波長紫外線の波長は、これに限定されない。例えば、185[nm]又は126[nm]の波長を有する短波長紫外線を照射するエキシマランプを用いるようにしてもよい。   Further, in the present embodiment (the above-described test example), the wavelength of the short wavelength ultraviolet ray irradiated from the excimer lamp 14 is 172 [nm], but the wavelength of the short wavelength ultraviolet ray irradiated from the excimer lamp 14 is It is not limited to. For example, an excimer lamp that irradiates short wavelength ultraviolet rays having a wavelength of 185 [nm] or 126 [nm] may be used.

なお、本願発明者らは、短波長紫外線であっても、222[nm]以上の波長を有する短波長紫外線では、上述した試験例で示した程の有害ガスの除去効果を得ることができないという知見を得ている。これは、照射する光の波長が長い(すなわち照射する光のエネルギーが低い)と、当該光が有害ガスの酸化反応へ余り大きく寄与しなくなることに起因すると考えられる。一方、短波長紫外線よりも波長の短い光を用いても、有害ガスの除去効果は余り高くならないという知見も得ている。これは、照射する光の波長が短いほど、当該光の気体中における到達距離(発光源から光の強度が0(ゼロ)になるまでの距離)が短くなることに起因すると考えられる。以上のことから、本願発明者らは、短波長紫外線、好ましくは185[nm]以下の波長を有する短波長紫外線を照射するようにするのが好ましいと結論付けた。なお、このような範囲の波長を有する光を通風路内に照射することができれば必ずしもエキシマランプを用いる必要もないということは言うまでもない。   In addition, even if it is a short wavelength ultraviolet ray, the inventors of this application say that the short wavelength ultraviolet ray which has a wavelength of 222 [nm] or more cannot acquire the harmful gas removal effect as shown in the test example mentioned above. We have knowledge. This is considered to be because when the wavelength of the light to be irradiated is long (that is, the energy of the light to be irradiated is low), the light does not contribute to the oxidation reaction of the harmful gas. On the other hand, it has been found that the use of light having a wavelength shorter than that of short-wavelength ultraviolet light does not increase the harmful gas removal effect. This is considered to be due to the fact that the shorter the wavelength of light to be irradiated, the shorter the reach distance of the light in the gas (the distance from the light emitting source until the light intensity becomes zero). From the above, the inventors of the present application concluded that it is preferable to irradiate short wavelength ultraviolet rays, preferably short wavelength ultraviolet rays having a wavelength of 185 [nm] or less. Needless to say, it is not always necessary to use an excimer lamp as long as light having a wavelength in such a range can be irradiated into the air passage.

また、本実施の形態(上述した試験例)では、窒素ガスや希ガスを上記酸素濃度低減用ガスとして用いるようにしたが、上記紫外線領域における酸素濃度を低減させることができれば、必ずしも窒素ガスや希ガスを上記酸素濃度低減用ガスとして用いる必要はない。例えば、異なる希ガスの混合ガスを添加ガスとして用いるようにしてもよい。   Further, in the present embodiment (the test example described above), nitrogen gas or rare gas is used as the oxygen concentration reducing gas. However, if the oxygen concentration in the ultraviolet region can be reduced, nitrogen gas or It is not necessary to use a rare gas as the oxygen concentration reducing gas. For example, a mixed gas of different rare gases may be used as the additive gas.

また、本実施の形態(上述した試験例)では、加湿装置13を用いて水蒸気を供給するようにしたが、必ずしも水蒸気を供給する装置を独立させて設ける必要はない。
例えば、上記酸素濃度低減用ガスと水蒸気との混合ガスを酸素濃度低減用ガス供給装置12で生成し、生成した混合ガスを通風路11供給するようにしてもよい。
In the present embodiment (the test example described above), the humidifier 13 is used to supply water vapor. However, it is not always necessary to provide an apparatus for supplying water vapor independently.
For example, a mixed gas of the oxygen concentration reducing gas and water vapor may be generated by the oxygen concentration reducing gas supply device 12 and the generated mixed gas may be supplied to the ventilation path 11.

さらに、上述したように、上記紫外線領域に水蒸気を供給しなくても、有害ガスを除去することができるので(図7の特性線71などを参照)、加湿装置13を設けずに有害ガス除去装置を構成するようにしてもよい。   Further, as described above, since harmful gas can be removed without supplying water vapor to the ultraviolet region (see the characteristic line 71 in FIG. 7), the harmful gas can be removed without providing the humidifier 13. You may make it comprise an apparatus.

本発明の実施の形態を示し、有害ガス除去装置の構成の一例を示した図である。It is the figure which showed embodiment of this invention and showed an example of the structure of a noxious gas removal apparatus. 本発明の実施の形態における試験例を示し、有害ガス除去装置の性能を確認するための試験装置の構成の一例を示した図である。It is the figure which showed the example of a test in embodiment of this invention, and showed an example of the structure of the test apparatus for confirming the performance of a noxious gas removal apparatus. 本発明の実施の形態における第1の試験例を示し、紫外線領域に流入するガスの流量と、一酸化炭素ガスの除去率との関係を示した図である。It is the figure which showed the 1st test example in embodiment of this invention, and showed the relationship between the flow volume of the gas which flows in into an ultraviolet region, and the removal rate of carbon monoxide gas. 本発明の実施の形態における第2の試験例を示し、紫外線領域における相対湿度と、一酸化炭素ガスの除去率との関係を示した図である。It is the figure which showed the 2nd test example in embodiment of this invention, and showed the relationship between the relative humidity in an ultraviolet region, and the removal rate of carbon monoxide gas. 本発明の実施の形態における第3の試験例を示し、紫外線領域における酸素濃度と、一酸化炭素ガスの除去率との関係を示した図である。It is the figure which showed the 3rd test example in embodiment of this invention, and showed the relationship between the oxygen concentration in an ultraviolet region, and the removal rate of carbon monoxide gas. 本発明の実施の形態における第4の試験例を示し、紫外線領域における酸素濃度と、一酸化炭素ガスの除去率との関係を示した図である。It is the figure which showed the 4th test example in embodiment of this invention, and showed the relationship between the oxygen concentration in an ultraviolet region, and the removal rate of carbon monoxide gas. 本発明の実施の形態における第5の試験例を示し、紫外線領域に流入するガスの流量と、アセトアルデヒドの除去率との関係を示した図である。It is the figure which showed the 5th test example in embodiment of this invention, and showed the relationship between the flow volume of the gas which flows in into an ultraviolet region, and the removal rate of acetaldehyde. 本発明の実施の形態における第6の試験例を示し、紫外線領域における酸素濃度と、アセトアルデヒドの除去率との関係を示した図である。It is the figure which showed the 6th test example in embodiment of this invention, and showed the relationship between the oxygen concentration in an ultraviolet region, and the removal rate of acetaldehyde.

符号の説明Explanation of symbols

10 有害物質除去装置
11、23 通風路
12 酸素濃度低減用ガス供給装置
13 加湿装置
14 エキシマランプ
15 送風機
20 試験装置
21 ボンベ
22 流量調節器
24、27 流量計
25 アクリル製の箱
26 濃度測定器
28 ポンプ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Toxic substance removal apparatus 11, 23 Ventilation path 12 Oxygen concentration reduction gas supply apparatus 13 Humidification apparatus 14 Excimer lamp 15 Blower 20 Test apparatus 21 Cylinder 22 Flow controller 24, 27 Flow meter 25 Acrylic box 26 Concentration measuring instrument 28 pump

Claims (18)

短波長紫外線を照射する紫外線照射手段を有し、
上記紫外線照射手段により短波長紫外線が照射される領域に、大気中の気体を通して上記気体内の有害ガスを除去する有害ガス除去装置であって、
上記紫外線照射手段により短波長紫外線が照射される領域の酸素ガスの濃度を低減させる酸素濃度低減手段を有することを特徴とする有害ガス除去装置。
Having ultraviolet irradiation means for irradiating short wavelength ultraviolet rays,
A harmful gas removing device that removes harmful gas in the gas through a gas in the atmosphere to a region irradiated with short wavelength ultraviolet rays by the ultraviolet irradiation means,
A harmful gas removing device comprising oxygen concentration reducing means for reducing the concentration of oxygen gas in a region irradiated with short wavelength ultraviolet rays by the ultraviolet irradiation means.
上記紫外線照射手段は、エキシマランプを有することを特徴とする請求項1に記載の有害ガス除去装置。   The harmful gas removing apparatus according to claim 1, wherein the ultraviolet irradiation means includes an excimer lamp. 上記紫外線照射手段は、185[nm]以下の波長を有する短波長紫外線を照射することを特徴とする請求項1または2に記載の有害ガス除去装置。   The harmful gas removal apparatus according to claim 1 or 2, wherein the ultraviolet irradiation means irradiates short wavelength ultraviolet rays having a wavelength of 185 [nm] or less. 上記酸素濃度低減手段は、上記紫外線照射手段により短波長紫外線が照射される領域の酸素ガスの濃度が、10[%]以下になるようにすることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の有害ガス除去装置。   4. The oxygen concentration reducing unit according to claim 1, wherein the concentration of oxygen gas in a region irradiated with short wavelength ultraviolet rays by the ultraviolet irradiation unit is 10% or less. The harmful gas removing device according to item 1. 上記酸素濃度低減手段は、上記紫外線照射手段により短波長紫外線が照射される領域に、希ガスを供給することを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の有害ガス除去装置。   The harmful gas removal apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein the oxygen concentration reducing means supplies a rare gas to a region irradiated with short wavelength ultraviolet rays by the ultraviolet irradiation means. 上記紫外線照射手段により短波長紫外線が照射される領域に、水蒸気を供給する水蒸気供給手段を有することを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の有害ガス除去装置。   The harmful gas removing device according to any one of claims 1 to 5, further comprising a water vapor supply means for supplying water vapor in a region irradiated with short wavelength ultraviolet light by the ultraviolet light irradiation means. 上記酸素濃度低減手段は、上記紫外線照射手段により短波長紫外線が照射される領域の酸素ガスの濃度が、1[%]以下になるようにすることを特徴とする請求項6に記載の有害ガス除去装置。   7. The harmful gas according to claim 6, wherein the oxygen concentration reducing means makes the concentration of oxygen gas in a region irradiated with short wavelength ultraviolet rays by the ultraviolet irradiation means 1% or less. Removal device. 上記気体内の一酸化炭素ガスを含む有害ガスを除去することを特徴とする請求項1〜7の何れか1項に記載の有害ガス除去装置。   The harmful gas removal apparatus according to any one of claims 1 to 7, wherein harmful gas containing carbon monoxide gas in the gas is removed. 上記気体内のVOCガスを含む有害ガスを除去することを特徴とする請求項1〜8の何れか1項に記載の有害ガス除去装置。   The harmful gas removal apparatus according to any one of claims 1 to 8, wherein harmful gas including VOC gas in the gas is removed. 短波長紫外線を照射する紫外線照射ステップを有し、
上記紫外線照射ステップにより短波長紫外線が照射される領域に、大気中の気体を通して上記気体内の有害ガスを除去する有害ガス除去方法であって、
上記紫外線照射ステップにより短波長紫外線が照射される領域の酸素ガスの濃度を低減させる酸素濃度低減ステップを有することを特徴とする有害ガス除去方法。
An ultraviolet irradiation step of irradiating short wavelength ultraviolet rays;
A harmful gas removal method for removing harmful gas in the gas through the gas in the atmosphere to the region irradiated with short wavelength ultraviolet light by the ultraviolet irradiation step,
A harmful gas removal method comprising an oxygen concentration reduction step of reducing the concentration of oxygen gas in a region irradiated with short wavelength ultraviolet rays by the ultraviolet irradiation step.
上記紫外線照射ステップは、エキシマランプを有することを特徴とする請求項10に記載の有害ガス除去方法。   The harmful gas removal method according to claim 10, wherein the ultraviolet irradiation step includes an excimer lamp. 上記紫外線照射ステップは、185[nm]以下の波長を有する短波長紫外線を照射することを特徴とする請求項10または11に記載の有害ガス除去方法。   The harmful gas removal method according to claim 10 or 11, wherein the ultraviolet irradiation step irradiates a short wavelength ultraviolet ray having a wavelength of 185 nm or less. 上記酸素濃度低減ステップは、上記紫外線照射ステップにより短波長紫外線が照射される領域の酸素ガスの濃度が、10[%]以下になるようにすることを特徴とする請求項10〜12の何れか1項に記載の有害ガス除去方法。   The oxygen concentration reduction step is performed so that the concentration of oxygen gas in a region irradiated with short-wavelength ultraviolet light by the ultraviolet irradiation step is 10% or less. The method for removing harmful gases according to item 1. 上記酸素濃度低減ステップは、上記紫外線照射ステップにより短波長紫外線が照射される領域に、希ガスを供給することを特徴とする請求項10〜13の何れか1項に記載の有害ガス除去方法。   The noxious gas removal method according to any one of claims 10 to 13, wherein the oxygen concentration reduction step supplies a rare gas to a region irradiated with the short wavelength ultraviolet rays in the ultraviolet irradiation step. 上記紫外線照射ステップにより短波長紫外線が照射される領域に、水蒸気を供給する水蒸気供給ステップを有することを特徴とする請求項10〜14の何れか1項に記載の有害ガス除去方法。   The harmful gas removal method according to any one of claims 10 to 14, further comprising a water vapor supply step for supplying water vapor to a region irradiated with the short wavelength ultraviolet light in the ultraviolet irradiation step. 上記酸素濃度低減ステップは、上記紫外線照射ステップにより短波長紫外線が照射される領域の酸素ガスの濃度が、1[%]以下になるようにすることを特徴とする請求項15に記載の有害ガス除去方法。   16. The harmful gas according to claim 15, wherein the oxygen concentration reduction step makes the concentration of oxygen gas in the region irradiated with short-wavelength ultraviolet light by the ultraviolet irradiation step 1% or less. Removal method. 上記気体内の一酸化炭素ガスを含む有害ガスを除去することを特徴とする請求項10〜16の何れか1項に記載の有害ガス除去方法。   The harmful gas removal method according to any one of claims 10 to 16, wherein harmful gas containing carbon monoxide gas in the gas is removed. 上記気体内のVOCガスを含む有害ガスを除去することを特徴とする請求項10〜17の何れか1項に記載の有害ガス除去方法。   The harmful gas removal method according to any one of claims 10 to 17, wherein harmful gas including VOC gas in the gas is removed.
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