JP2005206452A - フッ素添加シリカガラス体の製造方法、光ファイバプリフォームおよび光ファイバの製造方法、ならびに光ファイバ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 フッ素添加シリカガラス体は、(1)シリカガラススートを堆積させシリカガラススート堆積体を得る工程、及び(2)少なくともフッ素原子を含有する第一のガス、および還元性を有しフッ素原子ならびに水素原子を含有しない第二のガスを含む雰囲気中で堆積体を加熱する工程を経て製造される。前記ガラス体を使用して得た光ファイバプリフォームを線引きし、または、前記フッ素添加シリカガラス体を加工してガラスパイプにし、これに別途用意したガラスロッドを挿入して一体化しながら線引きして光ファイバとされる。光ファイバは、クラッドがフッ素を含有し、波長1380nmでの伝送損失が0.32dB/km以下である。
【選択図】 図1
Description
(1)シリカガラススートを堆積させ、シリカガラススート堆積体を得る工程と、少なくともフッ素原子を含有する第一のガスおよび還元性を有しフッ素原子ならびに水素原子を含有しない第二のガスを含む雰囲気中で前記堆積体を加熱する工程とを有することを特徴とするフッ素添加シリカガラス体の製造方法。
(2)前記第二のガスが非金属元素の塩化物であることを特徴とする前記(1)に記載のフッ素添加シリカガラス体の製造方法。
(3)前記第一のガスが、SiF4、Si2F6、クロロフルオロカーボン、六フッ化硫黄、NF3、およびF2からなる群から選ばれる一種であり、前記第二のガスが、フッ化ケイ素以外のハロゲン化ケイ素、BCl3、CCl4、GeCl4、窒素、および硫黄からなる群から選ばれる一種であることを特徴とする前記(1)または(2)に記載のフッ素添加シリカガラス体の製造方法。
(5)前記第一のガスがSiF4であり、前記第二のガスがSiCl4であり、SiCl4の前記雰囲気全体に対する濃度は0.01体積%〜10体積%であることを特徴とする前記(1)〜(3)のいずれかに記載のフッ素添加シリカガラス体の製造方法。
(6)前記濃度が1〜10体積%であることを特徴とする前記(5)に記載のフッ素添加シリカガラス体の製造方法。
(8)前記酸素濃度が10体積ppm以下であることを特徴とする前記(7)に記載のフッ素添加シリカガラス体の製造方法。
(9)前記堆積体を加熱する工程の少なくとも一部は、1400℃以上の前記雰囲気中で行われることを特徴とする前記(1)〜(8)のいずれかに記載のフッ素添加シリカガラス体の製造方法。
(12)前記(1)〜(9)のいずれかに記載のフッ素添加シリカガラス体の製造方法によって得たフッ素添加シリカガラス体を加工して、ガラスパイプにする工程と、別途用意したガラスロッドを前記ガラスパイプに挿入して一体化しながら線引きする工程とを有することを特徴とする光ファイバの製造方法。
(14)前記クラッドが0.5重量%上のフッ素および0.1重量%以上の塩素を含有することを特徴とする前記(13)に記載の光ファイバ。
Cl2+H2O ⇔ 2HCl+1/2 O2・・・(1)
この反応は酸素(O2)濃度が高くなると左向きに進む。このため、O2が多い雰囲気では、Cl2を加えてもCl2の消費量に対し効果的にH2O分圧を下げることができない。
SiCl4+2H2O ⇔ SiO2+4HCl ・・・(2)
SiCl4+O2 → SiO2+Cl2 ・・(3)
脱水反応と同時にO2を消費する反応も進むので、(1)式の反応の平衡を右側にシフトさせ、H2Oの残存量を減らすことが可能である。また、生成したSiO2がそのままガラス堆積体の一部になるため、とくに好適である。このように、SiCl4の混合はH2O分圧の低減に関して効果が大きく、SiCl4をH2O分圧の10倍にすると、SiF4のみの場合に比べ約0.2%までH2O残留量を低減できることが図1からわかる。なお、SiF4もH2Oと反応するはずであるが、生成するHFはSiO2と反応しやすいため、反応時にH2Oを再び発生させ、SiCl4を混合した場合と比べてOH基量を低減することは困難である。
また、特に、第一のガスがSiF4であり、第二のガスがSiCl4であって、SiCl4の濃度が0.01〜10%、より好ましくは1〜10体積%であるのが好ましい。これら範囲の濃度とすることにより、シリカガラススート堆積体の加熱工程において外部から混入するH2Oやガラス中に残存するH2Oを十分除去できる。
炉芯管の外側から加熱雰囲気にOHが透過することがあるため、炉心管についても注意するべきである。表IIは、シリカガラススート堆積体のコンソリデートに使用した炉心管の肉厚と、そのシリカガラス体を用いて製造した光ファイバのOH基吸収によるロス増(ΔOH)をまとめたものである。OH基吸収によるロス増が小さい光ファイバを得るためには、炉心管の肉厚を3mm以上、好ましくは、5mm以上にする必要がある。
なお、第二のガスの還元性を有する物質としてはSiCl4を加熱雰囲気中4体積%の濃度で用いた。図2及び図3の比較から、本発明の光ファイバプリフォームの製造方法で得られる光ファイバプリフォームはクラッド層のCl含有量が従来法によるものに比べて非常に多いことがわかる。
図5の(a)は、本発明の光ファイバの製造方法で製造される光ファイバの断面図、図5の(b)は、この光ファイバの屈折率プロファイルを示す模式図である。この光ファイバ10のコア領域11は純シリカガラスからなり、クラッド領域12はフッ素添加シリカガラスからなり、実施例1においては、コア領域11の外径2aは8.6μm、クラッド領域12の外径2bは125μmであり、クラッド領域12の屈折率を基準としてコア領域11の比屈折率差Δnは0.3%である。
実施例2においても図5の(a)に示される断面を有する光ファイバを製造する。実施例2においては、コア領域10の外径2aは8.3μm、クラッド領域12の外径2bは125μmであり、クラッド領域12の屈折率を基準としてコア領域10の比屈折率差Δnは0.36%である。
シリカガラススート堆積体の加熱工程でSiCl4を使用しないでガラスパイプ1を製造した以外は実施例1と全く同様にして光ファイバを製造したところ、1380nmにおける伝送損失は0.4〜0.5dB/kmであった。
実施例1と同様にして内径9mm、外径117mmのガラスパイプを製造し(比屈折率差−0.33%)、このガラスパイプに外径7.5mmのガラスロッドを挿入し、一体化しながら線引きして光ファイバを得る。この光ファイバの各特性は実施例1のものと同様である。
シリカガラススート堆積体の加熱工程で用いたガスにおいて、SiCl4に代えてN2を用いる以外は実施例1と同様にして、光ファイバを得る。この光ファイバの1380nmにおける伝送損失は0.305dB/kmであり、そのうちOH基に起因する伝送損失は0.041dB/kmである。また、波長1550nmにおける伝送損失は0.173dB/km、カットオフ波長は1.44μmである。
シリカガラススート堆積体の加熱工程で用いたガスにおいて、SiCl4に代えてSiBr4またはSiI4を用いる以外は実施例1と同様にして、光ファイバを得る。この光ファイバの1380nmにおける伝送損失は0.303dB/kmであり、そのうちOH基に起因する伝送損失は0.039dB/kmである。また、波長1550nmにおける伝送損失α1.55は0.171dB/km、カットオフ波長λcは1.41μmである。
3……熱源、 5、6……パイプ、
7……テープヒータ、 8……ガスライン
10……光ファイバ、 11……コア領域、
12……クラッド領域、 13……シリカガラススート堆積体、
14……合成石英出発ロッド、 15……天然石英出発ロッド、
16……反応容器
Claims (14)
- シリカガラススートを堆積させ、シリカガラススート堆積体を得る工程と、少なくともフッ素原子を含有する第一のガスおよび還元性を有しフッ素原子ならびに水素原子を含有しない第二のガスを含む雰囲気中で前記堆積体を加熱する工程とを有することを特徴とするフッ素添加シリカガラス体の製造方法。
- 前記第二のガスが非金属元素の塩化物であることを特徴とする請求項1に記載のフッ素添加シリカガラス体の製造方法。
- 前記第一のガスが、SiF4、Si2F6、クロロフルオロカーボン、六フッ化硫黄、NF3、およびF2からなる群から選ばれる一種であり、前記第二のガスが、フッ化ケイ素以外のハロゲン化ケイ素、BCl3、CCl4、GeCl4、窒素、および硫黄からなる群から選ばれる一種であることを特徴とする請求項1または2に記載のフッ素添加シリカガラス体の製造方法。
- 還元性を有しフッ素原子ならびに水素原子を含有しない物質の濃度の総和が、前記雰囲気全体に対し0.01〜10体積%であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のフッ素添加シリカガラス体の製造方法。
- 前記第一のガスがSiF4であり、前記第二のガスがSiCl4であり、SiCl4の前記雰囲気全体に対する濃度は0.01体積%〜10体積%であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のフッ素添加シリカガラス体の製造方法。
- 前記濃度が1〜10体積%であることを特徴とする請求項5に記載のフッ素添加シリカガラス体の製造方法。
- 前記雰囲気の酸素濃度が20体積ppm以下であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載のフッ素添加シリカガラス体の製造方法。
- 前記酸素濃度が10体積ppm以下であることを特徴とする請求項7に記載のフッ素添加シリカガラス体の製造方法。
- 前記堆積体を加熱する工程の少なくとも一部は、1400℃以上の前記雰囲気中で行われることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載のフッ素添加シリカガラス体の製造方法。
- 請求項1〜9のいずれか1項に記載のフッ素添加シリカガラス体の製造方法によって得たフッ素添加シリカガラス体を加工して、ガラスパイプにする工程と、別途用意したガラスロッドを前記ガラスパイプに挿入して一体化する工程とを有することを特徴とする光ファイバプリフォームの製造方法。
- 請求項10に記載の製造方法で得た光ファイバプリフォームを線引きする工程を有することを特徴とする光ファイバの製造方法。
- 請求項1〜9のいずれか1項に記載のフッ素添加シリカガラス体の製造方法によって得たフッ素添加シリカガラス体を加工して、ガラスパイプにする工程と、別途用意したガラスロッドを前記ガラスパイプに挿入して一体化しながら線引きする工程とを有することを特徴とする光ファイバの製造方法。
- コアおよびクラッドを有し、前記クラッドがフッ素を含有し、波長1380nmでの伝送損失が0.32dB/km以下であることを特徴とする光ファイバ。
- 前記クラッドが0.5重量%上のフッ素および0.1重量%以上の塩素を含有することを特徴とする請求項13に記載の光ファイバ。
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