JP2005181923A - 光偏向器 - Google Patents

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安志 溝口
Kazutoshi Torashima
和敏 虎島
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Abstract

【課題】電磁力利用して大振幅動作可能な小型可動ミラーを有する小型で消費電力の小さい光偏向器、及びそれを用いた光学機器を提供する。
【解決手段】導体を渦巻き状に巻き回した多層平面コイルでかつ、隣接する前記導体間および隣接する層間に空気の流路を有し、走査ミラーと略平行にかつ、前記コイルの中心と前記走査ミラーの中心が略同一軸上に配置される光偏向器であり、前記コイルがめっきにより形成された多層平面コイルであり、前記走査ミラーが支持基板に、該支持基板に対して角変位可能に軸支するトーションバーと一体形成されており、永久磁石が、前記トーションバーに対して角度をなして着磁されている。
【選択図】図1

Description

本発明は、入射光を偏向して光走査する光偏向器に関し、特に、電磁力利用して大振幅動作可能な小型可動ミラーを有する光偏向器及びそれを用いた光学機器に関し、さらに特には、従来の光偏向器に比べて小型で消費電力の小さい光偏向器及びそれを用いた光学機器に関する。
現在、レーザー光等の光ビームを偏向・走査する装置(以下光偏向器)は、レーザービームプリンタ、バーコードリーダ等の光学機器に広く用いられている。レーザー光を偏向走査する走査ミラーとしてガルバノミラーがある。ガルバノミラーの駆動原理は磁界中に配置した可動コイルに電流を流すと、電流と磁束とに関連して電磁力が発生して電流に比例したトルクが生じる。このトルクとバネ力とが平衡する角度まで可動コイルが回転し、この可動コイルを介して指針を振らせて電流の有無や大小を検出するというガルバノメータの原理を利用したもので、可動コイルと一体に回転する軸に、前記指針の代わりに反射鏡を設けて構成される。
しかしながら、ガルバノミラーでは機械巻きの駆動コイルと磁界発生のための大型ヨークが必要であり、主に出力トルクの理由から、これらの機械要素の小型化には限度がある。また同時に、各構成部材を組み上げる際のスペース等から、光偏向のための装置全体のサイズが大きくなっていた。
小型の光偏向器としては、半導体製造技術を応用して微小機械を半導体基板上に一体形成するマイクロマシニング技術を用いて作製した光偏向器がある。これは、例えば、特許文献1、特許文献2に開示されている。
図8(a)は上記特許文献1に記載された光偏向器を示す平面図、図8(b)は断面図である。この光偏向器は静電力を利用して駆動するところに特徴がある。即ち、駆動対象のミラーのすぐ下にわずかなギャップを空けて駆動電極が配置され、導体からなるミラーとで一つのコンデンサが構成されている。ミラーとこのミラーに対向する駆動電極間に電圧を加えると静電力が生じるため、ミラーは駆動電極に引き寄せられ、ミラーは回転軸を中心とした回転運動を起こすというものである。
具体的に説明すると、同公報の光偏向器は、光を反射し、x軸方向に変位可能なミラー301と、ミラー301を両側から支持するx軸走査用の梁部302と一体でその外側に形成され、x軸方向と直交するy軸方向に変位可能な静電吸引部303と、静電吸引部303を両側で支持するy軸走査用の梁部304と、ミラー301と静電吸引部303の裏側に対向する位置に配置されたx軸、y軸方向駆動電極305、306と、これらの駆動電極が形成された電極基板307と、駆動電極305、306とミラー301の間に存在して駆動電極305、306を絶縁するための絶縁膜308と、ミラーの変位に対しミラーの撓みが生じないように支持し、ミラーと駆動電極間のギャップをきめる支持スペーサー部309とから構成されている。ミラー301、x軸、y軸走査用の梁部302、304及び静電吸引部303はシリコン基板によって形成されている。更に、静電駆動電極305、306の配線部311は、静電力がミラー301に作用しない平面上に形成されている。
図11は上記特許文献2に記載された光偏向器を示す斜視分解図である。この光偏向器は静電駆動で、ミラーと電極基板の間に生じるダンピングを抑制するところに特徴がある。即ち、電極基板に外気と連通する貫通孔を形成したことを特徴としている。駆動原理は特許文献1と同様である。
具体的に説明すると、同公報の光偏向器は、電極基板2と、ミラー基板4とを備えている。ミラー基板4はシリコンあるいはアルミニウム等から構成されており、枠状でかつ矩形の基部6と矩形板状のミラー部8と、基部6とミラー部8を連結し、かつミラー部8を所定の角度範囲で回転可能に支持する1対のトーションバー部10とを備えている。ミラー部8の一方の面には、高反射率の膜によりミラー面12が形成されており、ミラー部8の他方の主面には、1対の矩形の電極板14a、14bからなる第1電極が形成されている。電極基板2ぼミラー部8との対向面には、矩形の貫通孔16と1対の電極板18a、18bからなる第2電極とが形成されている。第2電極の一方の電極板18aは、第1電極の一方の電極板14aに対向しており、第2電極の他方の電極板18bは、第1電極の他方の電極板14bと対向している。貫通孔16はトーションバーを軸芯とする対称形状である。電極板14a、14bは電気的にお互いに接続され、接地されている。
特開平6−180428号公報 特開2001−13443号公報
しかしながら、上記の光偏向器をレーザーディスプレイを用いたビデオプロジェクタやレーザビームプリンタに使うには、高速且つ広い偏向角が必要とされて、この光偏向器は、以下に述べる理由で、それに適しているとは言えない。
たとえば、VGAの解像度(水平走査線数480本)の水平走査を光偏向器にて達成しようとすると、垂直走査速度を60Hzとし、光線往復走査を利用した場合で、走査周波数として14kHz以上が必要となる。
また、携帯機器に実装することを考えると、電池もしくはバッテリーによる駆動を前提とするため、消費電力が小さいことが必要となる。
特許文献1の光偏向器において、大きな偏向角を得るためには、ミラーの回転する角度を大きくすればよい。また、走査速度を高めるには駆動軸のバネを硬くすればよい。そのためには、ミラーに作用するトルクを大きくする必要がある。静電力を利用した光偏向器は、静電力がミラーと駆動電極間距離の2乗に反比例するため、ミラーを駆動するのに十分な静電力を与えるためにはミラーに対向して狭いギャップを介して駆動電極を配置することが必要である。そのため、ミラーの回転運動は駆動電極との接触により制限され、ミラーの回転角を大きく設定すると駆動電圧は非常に大きくなり、駆動回路で消費される電力は非常に大きくなる。また同公報での光偏向器では、電極基板とミラーのギャップが狭いとミラーを駆動した時にミラーと電極基板との間に存在する空気の粘性の影響でダンピングが発生しミラーの駆動力の低下を生じため、さらに消費電力を高くすることになる。
特許文献2の光偏向器のように電極基板に外気と連通する貫通孔を設けることによりダンピングによるトルクの低下を抑えることはできるが、特許文献1と同様に、ミラーの回転角を大きく設定すると駆動電圧は非常に大きくなり、駆動回路で消費される電力は非常に大きくなる。また、同公報のように貫通孔を設けたために第2電極の面積が小さくなり、さらにミラーの端に対応した位置に配置することになり、トルクに有効な静電引力を第2電極とミラー間で発生することができない。これにより、トルクの低下を招き、大きな駆動電圧を必要とし、駆動回路で消費される電力は非常に大きくなる。
したがって上記従来技術では、大きな偏向角を有し、高速走査でき、小型で、消費電力を小さくできる光偏向器としては十分であるとはいえない。本発明は上記問題点に鑑みてなされたものである。本発明の目的は、
入射された光を偏向して光走査する光偏向器に関し、
小型で、
低消費電力、
大偏向角かつ高速走査、
が可能な小型光偏向器および光偏向器を用いた装置を提供することである。
かかる目的を達成する本発明の光偏向器は、
第一に、基板上に形成されるコイルと、前記コイルに通電して発生する磁気に応じて角変位する、一方面側が反射鏡部で、他方面側が着磁した薄膜状の永久磁石が形成された平板状の走査ミラーを有する光偏向器において、前記コイルが、導体を渦巻き状に巻き回した多層平面コイルでかつ、隣接する前記導体間および隣接する層間に空気の流路を有し、前記走査ミラーと略平行にかつ、前記コイルの中心と前記走査ミラーの中心が略同一軸上に配置されることを特徴とする。
第二に、前記コイルがめっきにより形成された多層平面コイルであることを特徴とする。
第三に、前記走査ミラーが支持基板に、該支持基板に対して角変位可能に軸支するトーションバーと一体形成されており、前記永久磁石が、前記トーションバーに対して角度をなして着磁されていることを特徴とする。
第四に、前記基板が前記走査ミラー近傍に、少なくとも一つの貫通孔を有することを特徴とする。第五に、第一から第四に記載の光偏向器を用いた光学機器。
本発明の光偏向器は、コイルが半導体フォトリソグラフィーとめっきを用いて形成されており、コイル配線を密に巻き回でき、コイルに通電して大きな磁場を発生できる。また、コイル配線間および層間に流路を設けてあり、走査ミラーと基板の間の空気は外部に自由に出入りすることができ、空気の粘性によるダンピングを抑制することができる。さらに、コイルの配線間におよび層間に流路を設けるために、コイルの配置を変更する必要がなく、コイルに通電して発生する永久磁石に作用する磁場は、流路の有無により変化しない。これにより高速走査のために走査ミラーを支持するトーションバーを硬くした場合でも、消費電力を低く抑えて走査ミラーを大きく角変位させることができ、かつ小型な光偏向器が実現できた。
以上が本発明の基本的な構成要素及びより具体的な態様であり、その詳細及び作用について典型的な例によって以下に説明する。図1は本発明の光偏向器の一実施形態の構成を示す分解斜視図である。図2は、図1の破線A−A’での断面図である。図3は図1の破線B−B’での断面図である。図4は、コイル配線の巻き方向および接続を説明する図である。
この実施形態において、トーションバー101は走査ミラー102に対して一直線上にかつ、走査ミラーの重心を両側で支持するように位置する。このトーションバー101および、走査ミラー102は支持基板103を除去加工して一体形成する。支持基板には、例えば半導体基板を用いることができる。走査ミラー102の一方面にはアルミ等を蒸着して入射してくる光を反射する反射鏡104、他方面にはSmCo(サマリウムコバルト)等の希土類系の永久磁石または、フェライト磁石または、FeCoCr等の合金磁石105がスパッタリング等により薄膜状に形成されている。また永久磁石はトーションバー101に対して角度をなして着磁する。
コイルは絶縁膜(不図示)を形成した基板106上に形成される第一平面コイル107と第二平面コイル108からなる多層平面コイルである。図4に示すように、第一平面コイル107と第二平面コイル108とは、逆方向に巻き回されておりかつ、各平面コイルの最内周端でコンタクト部109により電気的に接続されている。コイルは、半導体フォトリソグラフィーおよびめっきにより形成する。第一平面コイル107と第二平面コイル108の間および、各平面コイルの配線間には流路110が形成されている。第二平面コイル108は絶縁体からなる支持部111により基板106上に固定、支持されている。絶縁膜はスパッタリング等で薄膜上に形成される酸化膜でもよい。
走査ミラー102およびトーションバー101を形成した支持基板103とコイルを形成した基板106はスペーサー112を挟んで固定される。スペーサー112の形状はコの字型であっても、枠状であってもよく、特に制限はない。このとき、走査ミラーの中心位置とコイルの中心位置が一致するようにアライメントされている。スペーサーの高さは走査ミラーの角変位を妨げないように設定されている。
この構成の光偏向器は、コイルが半導体フォトリソグラフィーとめっきを用いて形成されており、コイル配線を密に巻き回でき、コイルに通電して大きな磁場を発生できる。また、コイル配線間および層間に流路を設けてあり、走査ミラーと基板の間の空気は外部に自由に出入りすることができ、空気の粘性によるダンピングを抑制することができる。さらに、コイルの配線間におよび層間に流路を設けるために、コイルの配置を変更する必要がなく、コイルに通電して発生する永久磁石に作用する磁場は、流路の有無により変化しない。これにより高速走査のために走査ミラーを支持するトーションバーを硬くした場合でも、消費電力を低く抑えて走査ミラーを大きく角変位させることができ、かつ小型な光偏向器が実現できる。
(実施例)
以下、実施例を用いて本発明を、より詳細に説明する。
(第一実施例)
本実施例では図5ないし7に示す光偏向器の設計、製作した。図5は本発明の光偏向器の本実施例の構成を示す分解斜視図である。図6は、図5の破線A−A’での断面図である。図7は、図5の破線B−B’’での断面図である。支持基板として厚さ200μmの単結晶シリコン基板201を用い、この単結晶シリコン基板201をICP−RIE装置を用いて垂直エッチングすることにより、走査ミラー202とトーションバー203を単結晶シリコン基板201に一体形成した。走査ミラー202の一方の面には反射鏡204として、アルミ薄膜を蒸着により成膜し、もう一方の面には永久磁石205としてSmCo薄膜をスパッタにより形成した後に、トーションバーに対して角度をなして着磁した。コイルは渦巻き状の平面コイルで、絶縁膜(不図示)として熱酸化膜を形成したシリコン基板210上に半導体フォトリソグラフィーを用いてコイル配線の型を作製して、電気めっきでCu配線を形成した第一平面コイル206と第二平面コイル207からなる2層平面コイルである。第一平面コイル206と第二平面コイル207とは、逆方向に巻き回されておりかつ、各平面コイルの最内周端で電気的に接続されている。コイルを形成した後に、型を除去することで、コイル配線間および、第一平面コイル206と第二平面コイル207の間に流路208を形成する。第二平面コイル207は絶縁体からなる支持部209によりシリコン基板210上に固定、支持されている。ICP−RIE装置を用いてシリコン基板210を垂直エッチングすることにより貫通孔211が形成される。
走査ミラー202およびトーションバー203を形成した単結晶シリコン基板201とコイルを形成したシリコン基板210はスペーサー212を挟んで固定される。スペーサー212の形状はコの字型であっても、枠状であってもよく、特に制限はない。このとき、走査ミラーの中心位置とコイルの中心位置が一致するようにアライメントされている。スペーサーの高さは走査ミラーの角変位を妨げないように設定されている。
この構成の光偏向器は、コイルが半導体フォトリソグラフィーとめっきを用いて形成されており、コイル配線を密に巻き回でき、コイルに通電して大きな磁場を発生できる。また、コイル配線間および層間に流路を設けてあり、走査ミラーと基板の間の空気は外部に自由に出入りすることができ、空気の粘性によるダンピングを抑制することができる。またコイルを形成する基板に貫通孔が設けられており、更に、ダンピングの抑制が可能である。さらに、コイルの配線間におよび層間に流路を設けるために、コイルの配置を変更する必要がなく、コイルに通電して発生する永久磁石に作用する磁場は、流路の有無により変化しない。これにより高速走査のために走査ミラーを支持するトーションバーを硬くした場合でも、消費電力を低く抑えて走査ミラーを大きく角変位させることができ、かつ小型な光偏向器が実現できた。
(第二実施例)
本実施例では第一実施例で示した光偏向器を用いた場合の光学機器について説明する。図10は光学機器として画像表示装置の場合を例として示す図である。図10において、501は図1ないし4または図5ないし7の光偏向器を偏向方向が互いに直交するように2個配置した光偏向器群501であり、この場合は水平・垂直方向に入射光をラスタスキャンする光スキャナ装置として用いている。502はレーザ光源である。503はレンズ或いはレンズ群であり、504は書き込みレンズ又はレンズ群、505は投影面である。レーザー光源502から入射したレーザ光は光走査のタイミングと関係した所定の強度変調を受けて、光偏向器群501により2次元的に走査する。走査されたレーザ光は書き込みレンズ504により投影面505上に画像を形成する。
これにより、高速かつ大走査角を特徴としかつ、低消費電力な光スキャナ装置を実現できた。
(第三実施例)
図9は本発明の光偏向器を画像形成装置に用いた場合の例を示す図である。図9において、401は図1ないし4または図5ないし7に示された光偏向器であり、この場合は入射光を1次元に走査する光スキャナ装置として用いている。402はレーザ光源である。403はレンズ或いはレンズ群であり、404は書き込みレンズ或いはレンズ群、405は感光体である。レーザ光源から射出されたレーザ光は光走査のタイミングと関係した所定の強度変調を受けて、光偏向器401により1次元的に走査する。走査されたレーザ光は書き込みレンズ404により感光体405上へ画像を形成する感光体405は図示しない帯電器により一様に帯電されており、この上に光を走査することにより静電潜像が形成される。次に、図示しない現像器により静電潜像の画像部分にトナー像を形成し、これを例えば図示しない用紙に転写・定着することで用紙上に可視像が形成される。
これにより、高速かつ大走査角を特徴としかつ、低消費電力な画像形成装置が実現できた。
本発明の光偏向器の一実施形態を示す分解斜視図である。 図1の破線A−A’での断面図を示す図である。 図1の破線B−B’での断面図を示す図である。 コイル配線の巻き方向および接続を説明するための図である。 本発明の光偏向器の第一実施例を示す分解斜視図である。 図5の破線A−A’での断面図を示す図である。 図5の破線B−B’での断面図を示す図である。 従来例の第1実施例を示す図である。 本発明の光偏向器を画像形成装置に用いた図。 本発明の光偏向器を用いた光学機器の実施形態を示す図である。 その他の従来例の第1実施例を示す図である。
符号の説明
2 電極基板
4 ミラー基板
6 基部
8 ミラー部
10 トーションバー部
12 ミラー面
14a、14b 電極板(第一電極)
16 貫通孔
18a、18b 電極板(第二電極)
101 トーションバー
102 走査ミラー
103 支持基板
104 反射鏡
105 永久磁石
106 基板
107 第一平面コイル
108 第二平面コイル
109 コンタクト部
110 流路
111 支持部
112 スペーサー
201 単結晶シリコン基板
202 走査ミラー
203 トーションバー
204 反射鏡
205 永久磁石
206 第一平面コイル
207 第二平面コイル
208 流路
209 支持部
210 シリコン基板
211 貫通孔
212 スペーサー
301 ミラー
302 X軸走査用の梁部
303 静電吸引部
304 Y軸走査用の梁部
305 X軸方向駆動電極
306 Y軸方向駆動電極
307 電極基板
308 絶縁膜
309 支持スペーサー
310 シリコン基板
401 光偏向器
402 レーザー
403 レンズ群
404 書き込みレンズ
405 感光体
501 光偏向器
502 レーザー光
503 レンズ
504 書き込みレンズ群
505 投影面

Claims (5)

  1. 基板上に形成されるコイルと、前記コイルに通電して発生する磁気に応じて角変位する、一方面側が反射鏡部で、他方面側が着磁した薄膜状の永久磁石が形成された平板状の走査ミラーを有する光偏向器において、前記コイルが、導体を渦巻き状に巻き回した多層平面コイルでかつ、隣接する前記導体間および隣接する層間に空気の流路を有し、前記走査ミラーと略平行にかつ、前記コイルの中心と前記走査ミラーの中心が略同一軸上に配置されることを特徴とする光偏向器。
  2. 前記コイルがめっきにより形成された多層平面コイルであることを特徴とする請求項1の光偏向器。
  3. 前記走査ミラーが支持基板に、該支持基板に対して角変位可能に軸支するトーションバーと一体形成されており、前記永久磁石が、前記トーションバーに対して角度をなして着磁されていることを特徴とする請求項1〜2の光偏向器。
  4. 前記基板が前記走査ミラー近傍に、少なくとも一つの貫通孔を有することを特徴とする請求項1から3の光偏向器。
  5. 請求項1から請求項4に記載の光偏向器を用いた光学機器。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107643594A (zh) * 2016-07-20 2018-01-30 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 扫描镜装置

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