JP2005181721A - ハーフトーン位相シフトマスク - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 透過光の位相を180°反転させるハーフトーン位相シフト膜1を用いて形成された位相シフト部を備え、上記位相シフト部は、中央部に上記透過光の位相を反転させない膜2を有することを特徴とする。上記ハーフトーン位相シフト膜1は、光透過率が4〜20%であり、上記膜2は、光透過率が0〜100%の膜であることを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
従来のハーフトーン位相シフトマスクを適用し、露光装置を用いてフォトレジストへ転写すると、ハーフトーン位相シフト領域を通った光と、ハーフトーン位相シフト膜のない透過領域を通った光の回折光とが重なり合い、強いサイドローブ光となる。これにより、フォトレジストの膜減りを生じさせる。特にラインパターンや、ラインやホールパターンが密である場合には、ハーフトーン位相シフト領域を挟む複数の透過領域の回折光が重なり合うため、フォトレジストの膜減りが顕著となる。
上記位相シフト部は、中央部に上記透過光の位相を反転させない位相無反転部を有することを特徴とする。
上記位相無反転部は、光透過率が0〜100%の膜であることを特徴とする。
上記位相無反転部は、上記所定のパターン幅に対し、10〜50%の幅を有することを特徴とする。
上記位相無反転部は、上記ホールパターン部の端から所定のホール幅或いは所定のホール径の10〜100%の距離が離れた上記位相シフト部の中央部に配置されたことを特徴とする。
上記所定の膜は、250nm以下の波長領域の光に対し耐光性を有する材料を用いることを特徴とする。
上記所定の膜は、材料として、タンタルシリサイド(TaSi)とジルコンシリサイド(ZrSi)とモリブデンシリサイド(MoSi)とクロムフロライド(CrF)とシリコンオキサイド(SiO2)とのうち少なくとも1つを含有することを特徴とする。
以下に説明するように、実施の形態1では、ハーフトーン位相シフトマスクを用いて露光する際に発生するサイドローブを抑制し、サイドローブの光強度によるフォトレジストの膜減りを著しく低減し、かつ光強度のコントラストを向上させ、フォトレジストの解像度を著しく向上させる。
図2は、15%の透過率を有するハーフトーン位相シフト膜1で形成された100nm孤立ラインパターンの中央に、幅30nmで、15%の透過率を有する位相0°の膜2を挿入する形で配置した実施の形態1におけるハーフトーン位相シフトマスクを使用し、波長157nmの露光光を用いた場合の光強度分布についてシミュレーションにて求めた結果を示す図である。
次いで、現像し(工程(i))、電子線レジスト5をマスクとして、膜2をエッチングする。この際、エッチストップ膜6がハードマスクとして働き、ハーフトーン位相シフト膜1はエッチングされずに残る(工程(j))。
実施の形態1では、ラインパターンの場合を説明したが、実施の形態2では、ホールパターンの場合を説明する。
Claims (8)
- 透過光の位相を180°反転させるハーフトーン位相シフト膜を用いて形成された位相シフト部を備え、
上記位相シフト部は、中央部に上記透過光の位相を反転させない位相無反転部を有することを特徴とするハーフトーン位相シフトマスク。 - 上記ハーフトーン位相シフト膜は、光透過率が4〜20%であり、
上記位相無反転部は、光透過率が0〜100%の膜であることを特徴とする請求項1記載のハーフトーン位相シフトマスク。 - 上記位相シフト部は、所定のパターン幅に形成され、
上記位相無反転部は、上記所定のパターン幅に対し、10〜50%の幅を有することを特徴とする請求項1記載のハーフトーン位相シフトマスク。 - 上記ハーフトーン位相シフトマスクは、さらに、上記位相シフト部に隣接する、所定のホール幅或いは所定のホール径のホールパターン部を有し、
上記位相無反転部は、上記ホールパターン部の端から所定のホール幅或いは所定のホール径の10〜100%の距離が離れた上記位相シフト部の中央部に配置されたことを特徴とする請求項1記載のハーフトーン位相シフトマスク。 - 上記ハーフトーン位相シフト膜は、250nm以下の波長領域の光に対し耐光性を有する材料を用いることを特徴とする請求項1記載のハーフトーン位相シフトマスク。
- 上記ハーフトーン位相シフト膜は、材料として、タンタルシリサイド(TaSi)とジルコンシリサイド(ZrSi)とモリブデンシリサイド(MoSi)とクロムフロライド(CrF)とシリコンオキサイド(SiO2)とのうち少なくとも1つを含有することを特徴とする請求項1記載のハーフトーン位相シフトマスク。
- 上記位相無反転部は、所定の膜により形成され、
上記所定の膜は、250nm以下の波長領域の光に対し耐光性を有する材料を用いることを特徴とする請求項1記載のハーフトーン位相シフトマスク。 - 上記位相無反転部は、所定の膜により形成され、
上記所定の膜は、材料として、タンタルシリサイド(TaSi)とジルコンシリサイド(ZrSi)とモリブデンシリサイド(MoSi)とクロムフロライド(CrF)とシリコンオキサイド(SiO2)とのうち少なくとも1つを含有することを特徴とする請求項1記載のハーフトーン位相シフトマスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2003422899A JP2005181721A (ja) | 2003-12-19 | 2003-12-19 | ハーフトーン位相シフトマスク |
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JP2003422899A JP2005181721A (ja) | 2003-12-19 | 2003-12-19 | ハーフトーン位相シフトマスク |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2003422899A Pending JP2005181721A (ja) | 2003-12-19 | 2003-12-19 | ハーフトーン位相シフトマスク |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2005181721A (ja) |
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