JP2005181417A

JP2005181417A - 光学部品およびその製造方法

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Publication number: JP2005181417A
Application number: JP2003418275A
Authority: JP
Inventors: Satoshi Kito; 聡鬼頭
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2003-12-16
Filing date: 2003-12-16
Publication date: 2005-07-07

Abstract

【課題】所望のＮＡを有するレンズを備えた光学部品およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明にかかる光学部品１００は，基体１１０の上方に形成された凹状曲面１０を有する第１光路調整層１２０と、凹状曲面１０の上方に凸状曲面１２を有する第２光路調整層４０と、を含む。
【選択図】図１

Description

本発明は、光学部品およびその製造方法に関する。

光の結合効率を向上させることなどを目的として、発光素子の出射部、受光素子の入射部、あるいは光ファイバの光結合部などに、レンズなどの光学部品を設置することがある。この場合、該レンズのＮＡ（ＮｕｍｅｒｉｃａｌＡｐｅｒｔｕｒｅ：開口数）が高くなるほど、広い放射角を持つ発光素子の光をコリメートする場合や、光ファイバからの光を撮像素子やフォトディテクターなどの受光素子に受光させる場合などに有利となる。

本発明の目的は、所望のＮＡを有するレンズを備えた光学部品およびその製造方法を提供することにある。

本発明にかかる光学部品は、
基体の上方に形成された凹状曲面を有する第１光路調整層と、
前記凹状曲面の上方に凸状曲面を有する第２光路調整層と、を含む。

本発明にかかる光学部品において、特定のもの（以下、「Ａ」という）の上方に他の特定のもの（以下、「Ｂ」という）が形成されるとは、Ａ上に直接、Ｂが形成される場合と、Ａ上の他のものを介して、Ｂが形成される場合と、を含む。このことは、本発明にかかる光学部品の製造方法においても同様である。

本発明にかかる光学部品によれば、前記第１光路調整層に形成された前記凹状曲面および前記第２光路調整層に形成された前記凸状曲面を有する。すなわち、本発明にかかる光学部品では、前記凹状曲面および前記凸状曲面がレンズとして機能する。本発明にかかる光学部品の有するレンズの面数は２面である。したがって、レンズの面数が１面である場合に比べ、本発明にかかる光学部品の有するレンズのＮＡを高くすることができる。

本発明にかかる光学部品において、
前記第２光路調整層の屈折率は、前記第１光路調整層の屈折率より大きくすることができる。

本発明にかかる光学部品において、
前記凹状曲面の曲率は、前記凸状曲面の曲率と異なるようにすることができる。

本発明にかかる光学部品において、
前記凹状曲面および前記凸状曲面はマイクロレンズであって、
複数の前記マイクロレンズを有することができる。

本発明にかかる光学部品の製造方法は、
基体の上方に第１前駆体層を形成する工程と、
前記第１前駆体層の上方にマスク層を形成する工程と、
前記マスク層をパターニングする工程と、
前記マスク層をマスクとして前記第１前駆体層をエッチングすることにより、該第１前駆体層に凹状曲面を形成する工程と、
前記第１前駆体層を硬化して第１光路調整層を形成する工程と、
前記凹状曲面に向けて液滴を吐出することにより、該凹状曲面の上方に凸状曲面を有する第２前駆体層を形成する工程と、
前記第２前駆体層を硬化して第２光路調整層を形成する工程と、を含む。

本発明にかかる光学部品の製造方法によれば、前記第２光路調整層を形成する工程において、前記液滴は、液体であるために自動的に位置が補正される。そして、平面視において前記凹状曲面の中心と前記凸状曲面の中心とがほぼ同じ位置となる。したがって、平面視において２面のレンズ面の中心がほぼ一致するレンズが形成される。本発明にかかる光学部品１００の製造方法によれば、高精度の位置合わせ技術を用いてレンズ面が２面であるレンズを形成する場合、たとえばレンズを貼り合わせてレンズ面が２面であるレンズを形成するような場合に比べ、位置合わせを容易かつ正確に行うことができる。

本発明にかかる光学部品の製造方法において、
前記マスク層は、前記第１前駆体層をエッチングする工程において用いられるエッチャントに対して撥液性を有する撥液膜であることができる。

本発明にかかる光学部品の製造方法において、
前記マスク層はレジスト層であることができる。

本発明にかかる光学部品の製造方法において、
前記第１前駆体層をエッチングする工程において、エッチャントの吐出は液滴吐出法により行うことができる。

本発明にかかる光学部品の製造方法において、
前記第２前駆体層を形成する工程において、前記液滴の吐出は液滴吐出法により行うことができる。

本発明にかかる光学部品の製造方法において、
前記凹状曲面および前記凸状曲面はマイクロレンズであって、
複数の前記マイクロレンズを配置することができる。

以下、本発明の好適な実施の形態について、図面を参照しながら説明する。

１．第１の実施の形態
１−１．光学部品の構造
図１は、本発明を適用した一実施の形態に係る光学部品１００を模式的に示す断面図である。図２は、図１に示す光学部品１００を模式的に示す平面図である。なお、図１は、図２のＡ−Ａ線における断面を示す図である。

本実施の形態の光学部品１００は、基体１１０と、凹状曲面１０を有する第１光路調整層１２０と、凸状曲面１２を有する第２光路調整層４０と、を含む。以下、図１および図２を参照して、本実施の形態にかかる光学部品１００の各構成要素について説明する。

基体１０としては、例えばシリコン基板やＧａＡｓ基板等の半導体基板、ガラス基板、あるいはプラスチック基板などを用いることができるが、特に限定されない。

第１光路調整層１２０は、基体１１０上に形成されている。第１光路調整層１２０は、凹状曲面１０を有する。

第２光路調整層４０は、第１光路調整層１２０に形成された凹状曲面１０上に形成されている。第２光路調整層４０は、凸状曲面１２を有する。第２光路調整層４０の凸状曲面１２は、その中心が凹状曲面１０の中心と平面視においてほぼ一致するように形成されている。

凸状曲面１２の曲率は、凹状曲面１０の曲率と同じとすることもできるが、異なるようにすることもできる。凸状曲面１２の曲率と、凹状曲面１０の曲率とを調整することにより、後述する本実施の形態にかかる光学部品１００の有するレンズの収差を抑えることができる。

第２光路調整層４０の屈折率は、第１光路調整層１２０の屈折率よりも大きくすることが好ましい。第２光路調整層４０の屈折率が、第１光路調整層１２０の屈折率よりも大きいことにより、後述する本実施の形態にかかる光学部品１００の有するレンズのＮＡ（ＮｕｍｅｒｉｃａｌＡｐｅｒｔｕｒｅ：開口数）をより高くすることができる。第１光路調整層１２０の屈折率と、第２光路調整層４０の屈折率との差を大きくするほど、レンズのＮＡを高くすることができる。

１−２．光学部品の製造方法
次に、図１および図２に示す光学部品１００の製造方法について、図３〜図８を参照して説明する。図３〜図８はそれぞれ、図１および図２に示す光学部品１００の一製造工程を模式的に示す断面図であり、それぞれ図１に示す断面に対応している。

（１）まず、図３に示すように、基体１１０上に第１光路調整層１２０を形成する。第１光路調整層１２０は、所定波長の光を通過させる材質からなる。第１光路調整層１２０は、所定波長の光を吸収する材質からなることもできる。第１光路調整層１２０としては、たとえば熱または光等のエネルギーを付与することによって硬化可能なものを用いることができる。

したがって、第１光路調整層１２０としては、たとえば紫外線硬化型樹脂または熱硬化型樹脂を用いることができる。紫外線硬化型樹脂としては、たとえば紫外線硬化型のアクリル系樹脂およびエポキシ系樹脂が挙げられる。また、熱硬化型樹脂としては、たとえば熱硬化型のポリイミド系樹脂が例示できる。

以下に、第１光路調整層１２０の材料としてポリイミド系樹脂を用いた場合について述べる。まず、図３に示すように、基体１１０上にポリイミドの第１前駆体層１２２を形成する。第１前駆体層１２２の形成方法としては、スピンコート法、ディッピング法、スプレーコート法、液滴吐出法等の公知技術を利用できる。

次いで、図４に示すように、第１前駆体層１２２上の凹状曲面１０（図１および図２参照）の形成領域以外の領域にマスク層１２４を形成する。マスク層１２４のパターンは、図１および図２に示す凹状曲面１０に対応した部分が開口されたものである。すなわち、この例ではマスク層１２４のパターンは、平面視において円形の開口部１２６を有する。この開口部１２６の中心軸は、前述の凹状曲面１０の中心軸と一致するように形成される。

マスク層１２４としては、レジスト層を用いることができるが、後述するエッチャント２０に対してマスクとして機能するものであれば、特に限定されない。マスク層１２４としてレジスト層を用いた場合には、マスク層１２４のパターニングは、公知のリソグラフィ技術を用いて行うことができる。

また、マスク層１２４としては、たとえばＦＡＳ（フルオロアルキルシラン）膜などの撥液膜を用いることもできる。撥液膜とは、後述するエッチャント２０に対して撥液性を有する膜をいう。エッチャント２０に対して撥液性を有することから、マスク層１２４の形成された領域と、マスク層１２４の形成されていない領域との間にエッチャント２０の濡れ性の差が生じる。この濡れ性の差によって、後述する第１前駆体層１２２をエッチングする工程（図５および図６参照）において、エッチャント２０をマスク層１２４の開口部１２６（図４参照）のみに濡れ広げることができる。

マスク層１２４にＦＡＳを用いる場合、マスク層１２４のパターニングの方法としては、たとえば以下の方法が挙げられる。

まず、マスク層１２４の開口部１２６の形成領域にリソグラフィ技術を用いてレジスト層を形成する。次に、第１前駆体層１２２の形成された半導体基板１０１をＦＡＳガスの雰囲気中に投入することによって、第１前駆体層１２２の露出した表面にＦＡＳの単分子膜を形成する。次に、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）などを用いて、レジスト層を除去する。その結果、開口部１２６を有するＦＡＳの単分子膜（マスク層１２４）が形成される。

他の方法としては、まず、第１前駆体層１２２の形成された半導体基板１０１をＦＡＳガスの雰囲気中に投入することによって、第１前駆体層１２２の表面にＦＡＳの単分子膜を形成する。次に、マスク層１２４の開口部１２６の形成領域のみにガラスマスクなどを通して紫外線を照射する。その結果、ＦＡＳの単分子膜の紫外線が照射された領域が分解・除去されて、開口部１２６を有するＦＡＳの単分子膜（マスク層１２４）が形成される。

なお、マスク層１２４に、たとえばレジスト層などのような撥液膜以外の層を用いた場合に、この層の露出している面上にさらに前記撥液膜をコーティングすることもできる。この場合、マスク層１２４は、レジスト層などのような撥液膜以外の層と、撥液膜と、を含む。その結果、後述する第１前駆体層１２２をエッチングする工程（図５および図６参照）において、マスク層１２４は、より効果的にエッチングのマスクの役割を果たすことができる。すなわち具体的には、第１前駆体層１２２のマスク層１２４によって覆われている領域がエッチングされるのを、より確実に防ぐことができる。

次に、第１前駆体層１２２をエッチングすることによって、凹状曲面１０（図１および図２参照）を形成する。具体的には、以下の通りである。

まず、図５に示すように、マスク層１２４の開口部１２６（図４参照）に対して、液滴吐出法によりエッチャント２０を滴下する。その結果、マスク層１２４で囲まれた領域、すなわちマスク層１２４の開口部１２６にエッチャント２０が濡れ広がる。そして、エッチャント２０によって第１前駆体層１２２が等方的にエッチングされ、図６に示すように、第１前駆体層１２２に凹状曲面１０が形成される。

凹状曲面１０の曲率は、エッチャント２０によって第１前駆体層１２２が等方的にエッチングされる際のエッチングレートを変化させることによって制御することができる。

液滴吐出法としては、たとえば、（ｉ）熱により液体（ここではエッチャント２０）中の気泡の大きさを変化させることで圧力を生じさせ、液体をインクジェットヘッド１１４のノズル１１２から吐出させる方法や、（ii）圧電素子により生じた圧力によって液体をインクジェットヘッド１１４のノズル１１２から吐出させる方法などがある。圧力の制御性の観点からは、前記（ii）の方法が望ましい。

インクジェットヘッド１１４のノズル１１２の位置と、エッチャント２０の吐出位置とのアライメントは、一般的な半導体集積回路の製造工程における露光工程や検査工程で用いられる公知の画像認識技術を用いて行なわれる。たとえば、図５に示すように、インクジェットヘッド１１４のノズル１１２の位置と、マスク層１２４の開口部１２６（図４参照）とのアライメントを画像認識により行なう。アライメント後、インクジェットヘッド１１４に印加する電圧を制御した後、エッチャント２０を吐出する。

この場合、ノズル１１２から吐出されるエッチャント２０の吐出角度にはある程度のばらつきがあるが、エッチャント２０が着弾した位置が開口部１２６の内側であれば、マスク層１２４で囲まれた領域にエッチャント２０が濡れ広がり、自動的に位置の補正がなされる。

なお、第１前駆体層１２２のエッチング方法は、上述のような液滴吐出法のみならず、第１前駆体層１２２に凹状曲面１０を形成することができる方法であれば特に限定されない。たとえば、図７に示すように、半導体基板１０１をエッチャント２０に浸し、第１前駆体層１２２をエッチングする方法を用いることもできる。

エッチャント２０としては、第１前駆体層１２２をエッチングできる公知のエッチャントを用いることが可能である。たとえば、第１前駆体層１２２がポリイミド系樹脂の前駆体である場合には、アルカリ性の現像液などを用いることができる。

次に、必要に応じて、マスク層１２４を除去する。マスク層１２４の除去は、たとえばマスク層１２４としてレジスト層を用いた場合には、アッシングにより行うことができる。たとえばマスク層１２４としてＦＡＳの単分子膜を用いた場合には、紫外線を照射することによって分解・除去することができる。

次いで、第１前駆体層１２２の表面を洗浄した後、ホットプレートや炉を用いて半導体基板１０１を加熱することにより、第１前駆体層１２２に熱を供給してこれを硬化（イミド化）し、図１および図２に示す第１光路調整層１２０を形成する。

（２）次に、第２光路調整層４０（図１および図２参照）を形成する工程について述べる。

本実施の形態では、第２光路調整層４０としては、上述の第１光路調整層１２０と同様に、所定波長の光を通過させる材質からなる。第２光路調整層４０は、所定波長の光を吸収する材質からなることもできる。第２光路調整層４０としては、たとえば熱または光等のエネルギーを付与することによって硬化可能なものを用いることができる。

したがって、第２光路調整層４０としては、たとえば紫外線硬化型樹脂または熱硬化型樹脂を用いることができる。紫外線硬化型樹脂としては、たとえば紫外線硬化型のアクリル系樹脂およびエポキシ系樹脂が挙げられる。また、熱硬化型樹脂としては、たとえば熱硬化型のポリイミド系樹脂が例示できる。上述したように、第２光路調整層４０は、第１光路調整層１２０の屈折率より大きな屈折率となるような材料で形成されていることが望ましい。

以下に、第２光路調整層４０の材料としてポリイミド系樹脂を用いた場合について述べる。まず、図８に示すように、第１光路調整層１２０に形成された凹状曲面１０に向けて、液滴吐出法により液滴４２を吐出する。その結果、凹状曲面１０上に液滴４２が濡れ広がる。そして、凹状曲面１０上に凸状曲面１２を有する第２前駆体層４４が形成される。

凸状曲面１２の曲率は、液滴吐出法により吐出される液滴４２の液滴数を変化させることによって制御することができる。

液滴吐出法としては、たとえば、（I）熱により液体（ここでは液滴４２）中の気泡の大きさを変化させることで圧力を生じさせ、液体をインクジェットヘッド１１５のノズル１１３から吐出させる方法や、（II）圧電素子により生じた圧力によって液体をインクジェットヘッド１１５のノズル１１３から吐出させる方法などがある。圧力の制御性の観点からは、前記（II）の方法が望ましい。

インクジェットヘッド１１５のノズル１１３の位置と、液滴４２の吐出位置とのアライメントは、一般的な半導体集積回路の製造工程における露光工程や検査工程で用いられる公知の画像認識技術を用いて行なわれる。たとえば、図８に示すように、インクジェットヘッド１１５のノズル１１３の位置と、凹状曲面１０とのアライメントを画像認識により行なう。アライメント後、インクジェットヘッド１１５に印加する電圧を制御した後、液滴４２を吐出する。

この場合、ノズル１１３から吐出される液滴４２の吐出角度にはある程度のばらつきがあるが、液滴４２が着弾した位置が凹状曲面１０上であれば、凹状曲面１０上に液滴４２が濡れ広がり、自動的に位置の補正がなされる。すなわち、平面視において凹状曲面１０の中心と凸状曲面１２の中心とがほぼ同じ位置になるよう自動的に補正がなされる。

次いで、第２前駆体層４４の表面を洗浄した後、ホットプレートや炉を用いて基体１１０を加熱することにより、第２前駆体層４４に熱を供給してこれを硬化（イミド化）し、図１および図２に示す第２光路調整層４０を形成する。

以上のプロセスにより、図１および図２に示す光学部品１００が得られる。

１−３．作用効果
以下に、本実施の形態にかかる光学部品１００およびその製造方法の主な作用効果について述べる。

本実施の形態にかかる光学部品１００によれば、第１光路調整層１２０に形成された凹状曲面１０および第２光路調整層４０に形成された凸状曲面１２を有する。すなわち、本実施の形態にかかる光学部品１００では、凹状曲面１０および凸状曲面１２がレンズとして機能する。本実施の形態にかかる光学部品１００の有するレンズの面数は２面である。したがって、レンズの面数が１面である場合に比べ、本実施の形態にかかる光学部品１００の有するレンズのＮＡは高くなる。これにより、本実施の形態にかかる光学部品１００によれば、レンズの面数が１面である場合に比べ、以下のような利点を有する。

（１）レンズの焦点距離が短くなるため、この光学部品１００をたとえば面発光型半導体レーザなどの発光素子の出射部に設置した場合、この光学部品１００から外部に出射される光の放射角を小さくすることや、出射される光をコリメートすることが可能である。また、レンズに入射する光は、より広い放射角を有することが可能である。

この場合、上述したように出射される光の放射角を小さくすることが可能である。言い換えるならば、出射光の放射角が一定であるならば、レンズの面数が１面であるレンズに比べ、レンズの面数が２面であるレンズの方が薄くすることができる。すなわち、本実施の形態にかかる光学部品１００によれば、デバイスの微細化を図ることができる。

（２）この光学部品１００をたとえばフォトダイオードなどの受光素子の入射部に設置した場合、入射した光の放射角を小さくすることや、入射した光をコリメートすることが容易になる。

（３）光ファイバ等の光導波路にこの光学部品１００を結合させる場合、結合効率を向上させることができる。また、光のアライメントを容易に行うことができる。

本実施の形態にかかる光学部品１００の製造方法によれば、第２光路調整層４０を形成する工程において、液滴４２（図８参照）は、液体であるために自動的に位置が補正される。そして、平面視において凹状曲面１０の中心と凸状曲面１２の中心とがほぼ同じ位置となる。したがって、平面視において２面のレンズ面の中心がほぼ一致するレンズが形成される。本実施の形態にかかる光学部品１００の製造方法によれば、高精度の位置合わせ技術を用いてレンズ面が２面であるレンズを形成する場合、たとえばレンズを貼り合わせてレンズ面が２面であるレンズを形成するような場合に比べ、位置合わせを容易かつ正確に行うことができる。

２．第２の実施の形態
２−１．光学部品の構造
図９は、本発明の第２の実施の形態にかかる光学部品２００を模式的に示す断面図である。図１０は、図９に示す光学部品２００を模式的に示す平面図である。なお、図９は、図１０のＡ−Ａ線に沿った断面を模式的に示す図である。

本実施の形態にかかる光学部品２００は、複数の第１の実施の形態にかかる光学部品１００を配列した例を示している。本実施の形態にかかる光学部品２００は、たとえばマイクロレンズをアレイ状に配置したマイクロレンズ基板として用いることができる。マイクロレンズ基板では、上述の第１の実施の形態にかかる光学部品１００が有する凹状曲面１０および凸状曲面１２をマイクロレンズとして用いることができる。本実施の形態にかかる光学部品２００は例えば、液晶ディスプレイパネルの画素部、固体撮像装置（ＣＣＤ）の受光面、光ファイバの光結合部に設置される。

図９および図１０に示すように、光学部品２００は、基体１１０と、基体１１０の上方に設置された複数の第１の実施の形態にかかる光学部品１００と、を含む。この複数の第１の実施の形態にかかる光学部品１００は、所定の方向に配列されている。基体１１０は、例えばガラス基板やプラスチック基板からなる。

また、この光学部品２００においては、複数の第１の実施の形態にかかる光学部品１００が格子状に配列している場合について説明したが、第１の実施の形態にかかる光学部品１００の配列方式はこれに限定されるわけではなく、例えば、千鳥状等、種々の配列方式が適用可能である。

２−２．光学部品の製造方法
第２の実施の形態に係る光学部品２００は、前述の第１の実施の形態に係る光学部品１００の製造プロセスとほぼ同様の工程によって形成することができる。具体的には、複数の第１の実施の形態にかかる光学部品１００を配列させて形成する点を除いて、第１の実施の形態の光学部品１００の製造プロセスとほぼ同様の工程によって形成される。よって、詳しい説明は省略する。

２−３．作用・効果
本実施の形態に係る光学部品２００およびその製造方法は、第１の実施の形態に係る光学部品１００およびその製造方法と実質的に同じ作用および効果を有する。

以上、本発明の好適な実施の形態について述べたが、本発明はこれらに限定されず、各種の態様を取りうる。たとえば、上述した本発明の実施の形態では、光路調整層は、第１光路調整層および第２光路調整層の２層である場合について説明したが、光路調整層は３層以上形成することができる。たとえば、光路調整層が３層である場合には、第２光路調整層の上方に形成された第３光路調整層の屈折率を、第２光路調整層の屈折率に比べ、小さくすることにより、高いＮＡを有するレンズを形成することができる。第３光路調整層は、上述した第２光路調整層の形成方法と同様の方法を用いて、第２光路調整層上に形成することができる。なお、光路調整層を４層以上形成する場合についても同様である。

第１の実施の形態に係る光学部品を模式的に示す断面図。第１の実施の形態に係る光学部品を模式的に示す平面図。第１の実施の形態に係る光学部品の製造方法を示す断面図。第１の実施の形態に係る光学部品の製造方法を示す断面図。第１の実施の形態に係る光学部品の製造方法を示す断面図。第１の実施の形態に係る光学部品の製造方法を示す断面図。第１の実施の形態に係る光学部品の製造方法を示す断面図。第１の実施の形態に係る光学部品の製造方法を示す断面図。第２の実施の形態に係る光学部品を模式的に示す断面図。第２の実施の形態に係る光学部品を模式的に示す平面図。

符号の説明

１０凹状曲面、１２凸状曲面、２０エッチャント、４０第２光路調整層、４２液滴、４４第２前駆体層、１００光学部品、１１２ノズル、１１３ノズル、１１４インクジェットヘッド、１１５インクジェットヘッド、１２０第１光路調整層、１２２第１前駆体層、１２４マスク層、１２６開口部、２００光学部品

Claims

基体の上方に形成された凹状曲面を有する第１光路調整層と、
前記凹状曲面の上方に凸状曲面を有する第２光路調整層と、を含む、光学部品。
請求項１において、
前記第２光路調整層の屈折率は、前記第１光路調整層の屈折率より大きい、光学部品。
請求項１または２において、
前記凹状曲面の曲率は、前記凸状曲面の曲率と異なる、光学部品。
請求項１〜３のいずれかにおいて、
前記凹状曲面および前記凸状曲面はマイクロレンズであって、
複数の前記マイクロレンズを有する、光学部品。
基体の上方に第１前駆体層を形成する工程と、
前記第１前駆体層の上方にマスク層を形成する工程と、
前記マスク層をパターニングする工程と、
前記マスク層をマスクとして前記第１前駆体層をエッチングすることにより、該第１前駆体層に凹状曲面を形成する工程と、
前記第１前駆体層を硬化して第１光路調整層を形成する工程と、
前記凹状曲面に向けて液滴を吐出することにより、該凹状曲面の上方に凸状曲面を有する第２前駆体層を形成する工程と、
前記第２前駆体層を硬化して第２光路調整層を形成する工程と、を含む、光学部品の製造方法。
請求項５において、
前記マスク層は、前記第１前駆体層をエッチングする工程において用いられるエッチャントに対して撥液性を有する撥液膜である、光学部品の製造方法。
請求項５において、
前記マスク層はレジスト層である、光学部品の製造方法。
請求項５〜７のいずれかにおいて、
前記第１前駆体層をエッチングする工程において、エッチャントの吐出は液滴吐出法により行う、光学部品の製造方法。
請求項５〜８のいずれかにおいて、
前記第２前駆体層を形成する工程において、前記液滴の吐出は液滴吐出法により行う、光学部品の製造方法。
請求項５〜９のいずれかにおいて、
前記凹状曲面および前記凸状曲面はマイクロレンズであって、
複数の前記マイクロレンズを配置する、光学部品の製造方法。