JP2005181417A - 光学部品およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 所望のNAを有するレンズを備えた光学部品およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明にかかる光学部品100は,基体110の上方に形成された凹状曲面10を有する第1光路調整層120と、凹状曲面10の上方に凸状曲面12を有する第2光路調整層40と、を含む。
【選択図】 図1
【解決手段】 本発明にかかる光学部品100は,基体110の上方に形成された凹状曲面10を有する第1光路調整層120と、凹状曲面10の上方に凸状曲面12を有する第2光路調整層40と、を含む。
【選択図】 図1
Description
本発明は、光学部品およびその製造方法に関する。
光の結合効率を向上させることなどを目的として、発光素子の出射部、受光素子の入射部、あるいは光ファイバの光結合部などに、レンズなどの光学部品を設置することがある。この場合、該レンズのNA(Numerical Aperture:開口数)が高くなるほど、広い放射角を持つ発光素子の光をコリメートする場合や、光ファイバからの光を撮像素子やフォトディテクターなどの受光素子に受光させる場合などに有利となる。
本発明の目的は、所望のNAを有するレンズを備えた光学部品およびその製造方法を提供することにある。
本発明にかかる光学部品は、
基体の上方に形成された凹状曲面を有する第1光路調整層と、
前記凹状曲面の上方に凸状曲面を有する第2光路調整層と、を含む。
基体の上方に形成された凹状曲面を有する第1光路調整層と、
前記凹状曲面の上方に凸状曲面を有する第2光路調整層と、を含む。
本発明にかかる光学部品において、特定のもの(以下、「A」という)の上方に他の特定のもの(以下、「B」という)が形成されるとは、A上に直接、Bが形成される場合と、A上の他のものを介して、Bが形成される場合と、を含む。このことは、本発明にかかる光学部品の製造方法においても同様である。
本発明にかかる光学部品によれば、前記第1光路調整層に形成された前記凹状曲面および前記第2光路調整層に形成された前記凸状曲面を有する。すなわち、本発明にかかる光学部品では、前記凹状曲面および前記凸状曲面がレンズとして機能する。本発明にかかる光学部品の有するレンズの面数は2面である。したがって、レンズの面数が1面である場合に比べ、本発明にかかる光学部品の有するレンズのNAを高くすることができる。
本発明にかかる光学部品において、
前記第2光路調整層の屈折率は、前記第1光路調整層の屈折率より大きくすることができる。
前記第2光路調整層の屈折率は、前記第1光路調整層の屈折率より大きくすることができる。
本発明にかかる光学部品において、
前記凹状曲面の曲率は、前記凸状曲面の曲率と異なるようにすることができる。
前記凹状曲面の曲率は、前記凸状曲面の曲率と異なるようにすることができる。
本発明にかかる光学部品において、
前記凹状曲面および前記凸状曲面はマイクロレンズであって、
複数の前記マイクロレンズを有することができる。
前記凹状曲面および前記凸状曲面はマイクロレンズであって、
複数の前記マイクロレンズを有することができる。
本発明にかかる光学部品の製造方法は、
基体の上方に第1前駆体層を形成する工程と、
前記第1前駆体層の上方にマスク層を形成する工程と、
前記マスク層をパターニングする工程と、
前記マスク層をマスクとして前記第1前駆体層をエッチングすることにより、該第1前駆体層に凹状曲面を形成する工程と、
前記第1前駆体層を硬化して第1光路調整層を形成する工程と、
前記凹状曲面に向けて液滴を吐出することにより、該凹状曲面の上方に凸状曲面を有する第2前駆体層を形成する工程と、
前記第2前駆体層を硬化して第2光路調整層を形成する工程と、を含む。
基体の上方に第1前駆体層を形成する工程と、
前記第1前駆体層の上方にマスク層を形成する工程と、
前記マスク層をパターニングする工程と、
前記マスク層をマスクとして前記第1前駆体層をエッチングすることにより、該第1前駆体層に凹状曲面を形成する工程と、
前記第1前駆体層を硬化して第1光路調整層を形成する工程と、
前記凹状曲面に向けて液滴を吐出することにより、該凹状曲面の上方に凸状曲面を有する第2前駆体層を形成する工程と、
前記第2前駆体層を硬化して第2光路調整層を形成する工程と、を含む。
本発明にかかる光学部品の製造方法によれば、前記第2光路調整層を形成する工程において、前記液滴は、液体であるために自動的に位置が補正される。そして、平面視において前記凹状曲面の中心と前記凸状曲面の中心とがほぼ同じ位置となる。したがって、平面視において2面のレンズ面の中心がほぼ一致するレンズが形成される。本発明にかかる光学部品100の製造方法によれば、高精度の位置合わせ技術を用いてレンズ面が2面であるレンズを形成する場合、たとえばレンズを貼り合わせてレンズ面が2面であるレンズを形成するような場合に比べ、位置合わせを容易かつ正確に行うことができる。
本発明にかかる光学部品の製造方法において、
前記マスク層は、前記第1前駆体層をエッチングする工程において用いられるエッチャントに対して撥液性を有する撥液膜であることができる。
前記マスク層は、前記第1前駆体層をエッチングする工程において用いられるエッチャントに対して撥液性を有する撥液膜であることができる。
本発明にかかる光学部品の製造方法において、
前記マスク層はレジスト層であることができる。
前記マスク層はレジスト層であることができる。
本発明にかかる光学部品の製造方法において、
前記第1前駆体層をエッチングする工程において、エッチャントの吐出は液滴吐出法により行うことができる。
前記第1前駆体層をエッチングする工程において、エッチャントの吐出は液滴吐出法により行うことができる。
本発明にかかる光学部品の製造方法において、
前記第2前駆体層を形成する工程において、前記液滴の吐出は液滴吐出法により行うことができる。
前記第2前駆体層を形成する工程において、前記液滴の吐出は液滴吐出法により行うことができる。
本発明にかかる光学部品の製造方法において、
前記凹状曲面および前記凸状曲面はマイクロレンズであって、
複数の前記マイクロレンズを配置することができる。
前記凹状曲面および前記凸状曲面はマイクロレンズであって、
複数の前記マイクロレンズを配置することができる。
以下、本発明の好適な実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
1.第1の実施の形態
1−1.光学部品の構造
図1は、本発明を適用した一実施の形態に係る光学部品100を模式的に示す断面図である。図2は、図1に示す光学部品100を模式的に示す平面図である。なお、図1は、図2のA−A線における断面を示す図である。
1−1.光学部品の構造
図1は、本発明を適用した一実施の形態に係る光学部品100を模式的に示す断面図である。図2は、図1に示す光学部品100を模式的に示す平面図である。なお、図1は、図2のA−A線における断面を示す図である。
本実施の形態の光学部品100は、基体110と、凹状曲面10を有する第1光路調整層120と、凸状曲面12を有する第2光路調整層40と、を含む。以下、図1および図2を参照して、本実施の形態にかかる光学部品100の各構成要素について説明する。
基体10としては、例えばシリコン基板やGaAs基板等の半導体基板、ガラス基板、あるいはプラスチック基板などを用いることができるが、特に限定されない。
第1光路調整層120は、基体110上に形成されている。第1光路調整層120は、凹状曲面10を有する。
第2光路調整層40は、第1光路調整層120に形成された凹状曲面10上に形成されている。第2光路調整層40は、凸状曲面12を有する。第2光路調整層40の凸状曲面12は、その中心が凹状曲面10の中心と平面視においてほぼ一致するように形成されている。
凸状曲面12の曲率は、凹状曲面10の曲率と同じとすることもできるが、異なるようにすることもできる。凸状曲面12の曲率と、凹状曲面10の曲率とを調整することにより、後述する本実施の形態にかかる光学部品100の有するレンズの収差を抑えることができる。
第2光路調整層40の屈折率は、第1光路調整層120の屈折率よりも大きくすることが好ましい。第2光路調整層40の屈折率が、第1光路調整層120の屈折率よりも大きいことにより、後述する本実施の形態にかかる光学部品100の有するレンズのNA(Numerical Aperture:開口数)をより高くすることができる。第1光路調整層120の屈折率と、第2光路調整層40の屈折率との差を大きくするほど、レンズのNAを高くすることができる。
1−2.光学部品の製造方法
次に、図1および図2に示す光学部品100の製造方法について、図3〜図8を参照して説明する。図3〜図8はそれぞれ、図1および図2に示す光学部品100の一製造工程を模式的に示す断面図であり、それぞれ図1に示す断面に対応している。
次に、図1および図2に示す光学部品100の製造方法について、図3〜図8を参照して説明する。図3〜図8はそれぞれ、図1および図2に示す光学部品100の一製造工程を模式的に示す断面図であり、それぞれ図1に示す断面に対応している。
(1)まず、図3に示すように、基体110上に第1光路調整層120を形成する。第1光路調整層120は、所定波長の光を通過させる材質からなる。第1光路調整層120は、所定波長の光を吸収する材質からなることもできる。第1光路調整層120としては、たとえば熱または光等のエネルギーを付与することによって硬化可能なものを用いることができる。
したがって、第1光路調整層120としては、たとえば紫外線硬化型樹脂または熱硬化型樹脂を用いることができる。紫外線硬化型樹脂としては、たとえば紫外線硬化型のアクリル系樹脂およびエポキシ系樹脂が挙げられる。また、熱硬化型樹脂としては、たとえば熱硬化型のポリイミド系樹脂が例示できる。
以下に、第1光路調整層120の材料としてポリイミド系樹脂を用いた場合について述べる。まず、図3に示すように、基体110上にポリイミドの第1前駆体層122を形成する。第1前駆体層122の形成方法としては、スピンコート法、ディッピング法、スプレーコート法、液滴吐出法等の公知技術を利用できる。
次いで、図4に示すように、第1前駆体層122上の凹状曲面10(図1および図2参照)の形成領域以外の領域にマスク層124を形成する。マスク層124のパターンは、図1および図2に示す凹状曲面10に対応した部分が開口されたものである。すなわち、この例ではマスク層124のパターンは、平面視において円形の開口部126を有する。この開口部126の中心軸は、前述の凹状曲面10の中心軸と一致するように形成される。
マスク層124としては、レジスト層を用いることができるが、後述するエッチャント20に対してマスクとして機能するものであれば、特に限定されない。マスク層124としてレジスト層を用いた場合には、マスク層124のパターニングは、公知のリソグラフィ技術を用いて行うことができる。
また、マスク層124としては、たとえばFAS(フルオロアルキルシラン)膜などの撥液膜を用いることもできる。撥液膜とは、後述するエッチャント20に対して撥液性を有する膜をいう。エッチャント20に対して撥液性を有することから、マスク層124の形成された領域と、マスク層124の形成されていない領域との間にエッチャント20の濡れ性の差が生じる。この濡れ性の差によって、後述する第1前駆体層122をエッチングする工程(図5および図6参照)において、エッチャント20をマスク層124の開口部126(図4参照)のみに濡れ広げることができる。
マスク層124にFASを用いる場合、マスク層124のパターニングの方法としては、たとえば以下の方法が挙げられる。
まず、マスク層124の開口部126の形成領域にリソグラフィ技術を用いてレジスト層を形成する。次に、第1前駆体層122の形成された半導体基板101をFASガスの雰囲気中に投入することによって、第1前駆体層122の露出した表面にFASの単分子膜を形成する。次に、イソプロピルアルコール(IPA)などを用いて、レジスト層を除去する。その結果、開口部126を有するFASの単分子膜(マスク層124)が形成される。
他の方法としては、まず、第1前駆体層122の形成された半導体基板101をFASガスの雰囲気中に投入することによって、第1前駆体層122の表面にFASの単分子膜を形成する。次に、マスク層124の開口部126の形成領域のみにガラスマスクなどを通して紫外線を照射する。その結果、FASの単分子膜の紫外線が照射された領域が分解・除去されて、開口部126を有するFASの単分子膜(マスク層124)が形成される。
なお、マスク層124に、たとえばレジスト層などのような撥液膜以外の層を用いた場合に、この層の露出している面上にさらに前記撥液膜をコーティングすることもできる。この場合、マスク層124は、レジスト層などのような撥液膜以外の層と、撥液膜と、を含む。その結果、後述する第1前駆体層122をエッチングする工程(図5および図6参照)において、マスク層124は、より効果的にエッチングのマスクの役割を果たすことができる。すなわち具体的には、第1前駆体層122のマスク層124によって覆われている領域がエッチングされるのを、より確実に防ぐことができる。
次に、第1前駆体層122をエッチングすることによって、凹状曲面10(図1および図2参照)を形成する。具体的には、以下の通りである。
まず、図5に示すように、マスク層124の開口部126(図4参照)に対して、液滴吐出法によりエッチャント20を滴下する。その結果、マスク層124で囲まれた領域、すなわちマスク層124の開口部126にエッチャント20が濡れ広がる。そして、エッチャント20によって第1前駆体層122が等方的にエッチングされ、図6に示すように、第1前駆体層122に凹状曲面10が形成される。
凹状曲面10の曲率は、エッチャント20によって第1前駆体層122が等方的にエッチングされる際のエッチングレートを変化させることによって制御することができる。
液滴吐出法としては、たとえば、(i)熱により液体(ここではエッチャント20)中の気泡の大きさを変化させることで圧力を生じさせ、液体をインクジェットヘッド114のノズル112から吐出させる方法や、(ii)圧電素子により生じた圧力によって液体をインクジェットヘッド114のノズル112から吐出させる方法などがある。圧力の制御性の観点からは、前記(ii)の方法が望ましい。
インクジェットヘッド114のノズル112の位置と、エッチャント20の吐出位置とのアライメントは、一般的な半導体集積回路の製造工程における露光工程や検査工程で用いられる公知の画像認識技術を用いて行なわれる。たとえば、図5に示すように、インクジェットヘッド114のノズル112の位置と、マスク層124の開口部126(図4参照)とのアライメントを画像認識により行なう。アライメント後、インクジェットヘッド114に印加する電圧を制御した後、エッチャント20を吐出する。
この場合、ノズル112から吐出されるエッチャント20の吐出角度にはある程度のばらつきがあるが、エッチャント20が着弾した位置が開口部126の内側であれば、マスク層124で囲まれた領域にエッチャント20が濡れ広がり、自動的に位置の補正がなされる。
なお、第1前駆体層122のエッチング方法は、上述のような液滴吐出法のみならず、第1前駆体層122に凹状曲面10を形成することができる方法であれば特に限定されない。たとえば、図7に示すように、半導体基板101をエッチャント20に浸し、第1前駆体層122をエッチングする方法を用いることもできる。
エッチャント20としては、第1前駆体層122をエッチングできる公知のエッチャントを用いることが可能である。たとえば、第1前駆体層122がポリイミド系樹脂の前駆体である場合には、アルカリ性の現像液などを用いることができる。
次に、必要に応じて、マスク層124を除去する。マスク層124の除去は、たとえばマスク層124としてレジスト層を用いた場合には、アッシングにより行うことができる。たとえばマスク層124としてFASの単分子膜を用いた場合には、紫外線を照射することによって分解・除去することができる。
次いで、第1前駆体層122の表面を洗浄した後、ホットプレートや炉を用いて半導体基板101を加熱することにより、第1前駆体層122に熱を供給してこれを硬化(イミド化)し、図1および図2に示す第1光路調整層120を形成する。
(2)次に、第2光路調整層40(図1および図2参照)を形成する工程について述べる。
本実施の形態では、第2光路調整層40としては、上述の第1光路調整層120と同様に、所定波長の光を通過させる材質からなる。第2光路調整層40は、所定波長の光を吸収する材質からなることもできる。第2光路調整層40としては、たとえば熱または光等のエネルギーを付与することによって硬化可能なものを用いることができる。
したがって、第2光路調整層40としては、たとえば紫外線硬化型樹脂または熱硬化型樹脂を用いることができる。紫外線硬化型樹脂としては、たとえば紫外線硬化型のアクリル系樹脂およびエポキシ系樹脂が挙げられる。また、熱硬化型樹脂としては、たとえば熱硬化型のポリイミド系樹脂が例示できる。上述したように、第2光路調整層40は、第1光路調整層120の屈折率より大きな屈折率となるような材料で形成されていることが望ましい。
以下に、第2光路調整層40の材料としてポリイミド系樹脂を用いた場合について述べる。まず、図8に示すように、第1光路調整層120に形成された凹状曲面10に向けて、液滴吐出法により液滴42を吐出する。その結果、凹状曲面10上に液滴42が濡れ広がる。そして、凹状曲面10上に凸状曲面12を有する第2前駆体層44が形成される。
凸状曲面12の曲率は、液滴吐出法により吐出される液滴42の液滴数を変化させることによって制御することができる。
液滴吐出法としては、たとえば、(I)熱により液体(ここでは液滴42)中の気泡の大きさを変化させることで圧力を生じさせ、液体をインクジェットヘッド115のノズル113から吐出させる方法や、(II)圧電素子により生じた圧力によって液体をインクジェットヘッド115のノズル113から吐出させる方法などがある。圧力の制御性の観点からは、前記(II)の方法が望ましい。
インクジェットヘッド115のノズル113の位置と、液滴42の吐出位置とのアライメントは、一般的な半導体集積回路の製造工程における露光工程や検査工程で用いられる公知の画像認識技術を用いて行なわれる。たとえば、図8に示すように、インクジェットヘッド115のノズル113の位置と、凹状曲面10とのアライメントを画像認識により行なう。アライメント後、インクジェットヘッド115に印加する電圧を制御した後、液滴42を吐出する。
この場合、ノズル113から吐出される液滴42の吐出角度にはある程度のばらつきがあるが、液滴42が着弾した位置が凹状曲面10上であれば、凹状曲面10上に液滴42が濡れ広がり、自動的に位置の補正がなされる。すなわち、平面視において凹状曲面10の中心と凸状曲面12の中心とがほぼ同じ位置になるよう自動的に補正がなされる。
次いで、第2前駆体層44の表面を洗浄した後、ホットプレートや炉を用いて基体110を加熱することにより、第2前駆体層44に熱を供給してこれを硬化(イミド化)し、図1および図2に示す第2光路調整層40を形成する。
以上のプロセスにより、図1および図2に示す光学部品100が得られる。
1−3.作用効果
以下に、本実施の形態にかかる光学部品100およびその製造方法の主な作用効果について述べる。
以下に、本実施の形態にかかる光学部品100およびその製造方法の主な作用効果について述べる。
本実施の形態にかかる光学部品100によれば、第1光路調整層120に形成された凹状曲面10および第2光路調整層40に形成された凸状曲面12を有する。すなわち、本実施の形態にかかる光学部品100では、凹状曲面10および凸状曲面12がレンズとして機能する。本実施の形態にかかる光学部品100の有するレンズの面数は2面である。したがって、レンズの面数が1面である場合に比べ、本実施の形態にかかる光学部品100の有するレンズのNAは高くなる。これにより、本実施の形態にかかる光学部品100によれば、レンズの面数が1面である場合に比べ、以下のような利点を有する。
(1)レンズの焦点距離が短くなるため、この光学部品100をたとえば面発光型半導体レーザなどの発光素子の出射部に設置した場合、この光学部品100から外部に出射される光の放射角を小さくすることや、出射される光をコリメートすることが可能である。また、レンズに入射する光は、より広い放射角を有することが可能である。
この場合、上述したように出射される光の放射角を小さくすることが可能である。言い換えるならば、出射光の放射角が一定であるならば、レンズの面数が1面であるレンズに比べ、レンズの面数が2面であるレンズの方が薄くすることができる。すなわち、本実施の形態にかかる光学部品100によれば、デバイスの微細化を図ることができる。
(2)この光学部品100をたとえばフォトダイオードなどの受光素子の入射部に設置した場合、入射した光の放射角を小さくすることや、入射した光をコリメートすることが容易になる。
(3)光ファイバ等の光導波路にこの光学部品100を結合させる場合、結合効率を向上させることができる。また、光のアライメントを容易に行うことができる。
本実施の形態にかかる光学部品100の製造方法によれば、第2光路調整層40を形成する工程において、液滴42(図8参照)は、液体であるために自動的に位置が補正される。そして、平面視において凹状曲面10の中心と凸状曲面12の中心とがほぼ同じ位置となる。したがって、平面視において2面のレンズ面の中心がほぼ一致するレンズが形成される。本実施の形態にかかる光学部品100の製造方法によれば、高精度の位置合わせ技術を用いてレンズ面が2面であるレンズを形成する場合、たとえばレンズを貼り合わせてレンズ面が2面であるレンズを形成するような場合に比べ、位置合わせを容易かつ正確に行うことができる。
2.第2の実施の形態
2−1.光学部品の構造
図9は、本発明の第2の実施の形態にかかる光学部品200を模式的に示す断面図である。図10は、図9に示す光学部品200を模式的に示す平面図である。なお、図9は、図10のA−A線に沿った断面を模式的に示す図である。
2−1.光学部品の構造
図9は、本発明の第2の実施の形態にかかる光学部品200を模式的に示す断面図である。図10は、図9に示す光学部品200を模式的に示す平面図である。なお、図9は、図10のA−A線に沿った断面を模式的に示す図である。
本実施の形態にかかる光学部品200は、複数の第1の実施の形態にかかる光学部品100を配列した例を示している。本実施の形態にかかる光学部品200は、たとえばマイクロレンズをアレイ状に配置したマイクロレンズ基板として用いることができる。マイクロレンズ基板では、上述の第1の実施の形態にかかる光学部品100が有する凹状曲面10および凸状曲面12をマイクロレンズとして用いることができる。本実施の形態にかかる光学部品200は例えば、液晶ディスプレイパネルの画素部、固体撮像装置(CCD)の受光面、光ファイバの光結合部に設置される。
図9および図10に示すように、光学部品200は、基体110と、基体110の上方に設置された複数の第1の実施の形態にかかる光学部品100と、を含む。この複数の第1の実施の形態にかかる光学部品100は、所定の方向に配列されている。基体110は、例えばガラス基板やプラスチック基板からなる。
また、この光学部品200においては、複数の第1の実施の形態にかかる光学部品100が格子状に配列している場合について説明したが、第1の実施の形態にかかる光学部品100の配列方式はこれに限定されるわけではなく、例えば、千鳥状等、種々の配列方式が適用可能である。
2−2.光学部品の製造方法
第2の実施の形態に係る光学部品200は、前述の第1の実施の形態に係る光学部品100の製造プロセスとほぼ同様の工程によって形成することができる。具体的には、複数の第1の実施の形態にかかる光学部品100を配列させて形成する点を除いて、第1の実施の形態の光学部品100の製造プロセスとほぼ同様の工程によって形成される。よって、詳しい説明は省略する。
第2の実施の形態に係る光学部品200は、前述の第1の実施の形態に係る光学部品100の製造プロセスとほぼ同様の工程によって形成することができる。具体的には、複数の第1の実施の形態にかかる光学部品100を配列させて形成する点を除いて、第1の実施の形態の光学部品100の製造プロセスとほぼ同様の工程によって形成される。よって、詳しい説明は省略する。
2−3.作用・効果
本実施の形態に係る光学部品200およびその製造方法は、第1の実施の形態に係る光学部品100およびその製造方法と実質的に同じ作用および効果を有する。
本実施の形態に係る光学部品200およびその製造方法は、第1の実施の形態に係る光学部品100およびその製造方法と実質的に同じ作用および効果を有する。
以上、本発明の好適な実施の形態について述べたが、本発明はこれらに限定されず、各種の態様を取りうる。たとえば、上述した本発明の実施の形態では、光路調整層は、第1光路調整層および第2光路調整層の2層である場合について説明したが、光路調整層は3層以上形成することができる。たとえば、光路調整層が3層である場合には、第2光路調整層の上方に形成された第3光路調整層の屈折率を、第2光路調整層の屈折率に比べ、小さくすることにより、高いNAを有するレンズを形成することができる。第3光路調整層は、上述した第2光路調整層の形成方法と同様の方法を用いて、第2光路調整層上に形成することができる。なお、光路調整層を4層以上形成する場合についても同様である。
10 凹状曲面、12 凸状曲面、20 エッチャント、40 第2光路調整層、42 液滴、44 第2前駆体層、100 光学部品、112 ノズル、113 ノズル、114 インクジェットヘッド、115 インクジェットヘッド、120 第1光路調整層、122 第1前駆体層、124 マスク層、126 開口部、200 光学部品
Claims (10)
- 基体の上方に形成された凹状曲面を有する第1光路調整層と、
前記凹状曲面の上方に凸状曲面を有する第2光路調整層と、を含む、光学部品。 - 請求項1において、
前記第2光路調整層の屈折率は、前記第1光路調整層の屈折率より大きい、光学部品。 - 請求項1または2において、
前記凹状曲面の曲率は、前記凸状曲面の曲率と異なる、光学部品。 - 請求項1〜3のいずれかにおいて、
前記凹状曲面および前記凸状曲面はマイクロレンズであって、
複数の前記マイクロレンズを有する、光学部品。 - 基体の上方に第1前駆体層を形成する工程と、
前記第1前駆体層の上方にマスク層を形成する工程と、
前記マスク層をパターニングする工程と、
前記マスク層をマスクとして前記第1前駆体層をエッチングすることにより、該第1前駆体層に凹状曲面を形成する工程と、
前記第1前駆体層を硬化して第1光路調整層を形成する工程と、
前記凹状曲面に向けて液滴を吐出することにより、該凹状曲面の上方に凸状曲面を有する第2前駆体層を形成する工程と、
前記第2前駆体層を硬化して第2光路調整層を形成する工程と、を含む、光学部品の製造方法。 - 請求項5において、
前記マスク層は、前記第1前駆体層をエッチングする工程において用いられるエッチャントに対して撥液性を有する撥液膜である、光学部品の製造方法。 - 請求項5において、
前記マスク層はレジスト層である、光学部品の製造方法。 - 請求項5〜7のいずれかにおいて、
前記第1前駆体層をエッチングする工程において、エッチャントの吐出は液滴吐出法により行う、光学部品の製造方法。 - 請求項5〜8のいずれかにおいて、
前記第2前駆体層を形成する工程において、前記液滴の吐出は液滴吐出法により行う、光学部品の製造方法。 - 請求項5〜9のいずれかにおいて、
前記凹状曲面および前記凸状曲面はマイクロレンズであって、
複数の前記マイクロレンズを配置する、光学部品の製造方法。
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JP2008244262A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Dainippon Printing Co Ltd | 有機半導体素子の製造方法 |
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