JP2005109497A - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】パターニング手段を入れた搬送容器を、内部に保管スペースを形成する保管容器に結合し、パターニング手段を保管スペースに移してから摺動壁で囲んでその中を排気して真空室にするので、搬送容器自体は真空適合性がある必要はなく、従来の容器が使える。また、この搬送でパターニング手段と一緒に保管スペースの中へ入るのは、搬送容器と保管容器の僅かな部分に過ぎないので、たとえこれらの容器が汚染されていても、その僅かしか保管スペースに持込まれず、保管スペースを容易に本質的に粒子のないままに保つことができる。
【選択図】図2A
Description
1.ステップモードでは、投影ビームに与えた全パターンを目標部分C上に一度に(即ち、単一静的露光で)投影しながら、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTを本質的に固定して保持する。次に基板テーブルWTをXおよび/またはY方向に移動して異なる目標部分Cを露光できるようにする。ステップモードでは、露光領域の最大サイズが単一静的露光で結像する目標部分Cのサイズを制限する。
2.走査モードでは、投影ビームの与えたパターンを目標部分C上に投影(即ち、単一動的露光で)しながら、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTを同期して走査する。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPLの(縮)倍率および像反転特性によって決る。走査モードでは、露光領域の最大サイズが単一動的露光での目標部分の(非走査方向の)幅を制限し、一方走査運動の長さが目標部分の(走査方向の)高さを決める。
上に説明した使用モードの組合せおよび/または変形または全く異なった使用モードも使ってよい。
4 保管容器
6 搬送容器
8 パターニング構造体
10 第2シャッタ
16 保管スペース
18 第1シャッタ
28 通路
30 ホルダ
32 摺動可能壁
36 真空室
38 真空ポンプ
40 真空室
42 通路
46 搬送機構
C 目標部分
IL 照明システム
MA パターニング構造体
MT 支持構造体
PB 投影ビーム、放射線ビーム
PL 投影システム
SO 線源
W 基板
WT 基板テーブル
Claims (11)
- 放射線の投影ビームを提供するための照明システム、
この投影ビームの断面にパターンを与えるのに役立つパターニング構造体を支持するための支持構造体、
基板を保持するための基板テーブル、
このパターン化したビームをこの基板の目標部分上に投影するための投影システム、
少なくとも一つのパターニング構造体を収納するための保管スペースを形成する、粒子を通さない保管容器であって、搬送容器との間の閉鎖可能通路を通してパターニング構造体を交換するためにこの搬送容器と結合するように構成してある保管容器、および
該保管容器を介して、またはそれからパターニング構造体を受けるための真空室、を含むリソグラフィ装置。 - 前記搬送容器が粒子を通さない請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記真空室からガスを排出するために真空ポンプをさらに含む請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 真空閉鎖可能な通路を介して前記真空室と流体連通している更なる真空室および通路を通してパターニング構造体を搬送するための搬送機構をさらに含む請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記保管容器の第1シャッタの一部と前記搬送容器の第2シャッタの一部を同時に前記保管スペースの中へ移動するために結合するように、前記保管容器が前記搬送容器と結合するように構成・配置してある請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記第1および第2シャッタの少なくとも一つが前記パターニング構造体を支持するように構成してある請求項5に記載されたリソグラフィ装置。
- 使用する際、前記パターニング構造体を前記保管スペースの中へ動かしている間、それぞれのシャッタのそれぞれの外側部品を前記保管スペースの外へ動かし、およびそれぞれのシャッタのそれぞれの内側部品を前記保管スペースの中へ前記パターニング構造体と共に動かす請求項5に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記保管スペースの内部で動かすとき、前記パターニング構造体を保持するためのホルダをさらに含む請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記真空室の壁を作る摺動可能壁をさらに含む請求項8に記載されたリソグラフィ装置。
- 実質的に粒子を通さないが非真空適合性の搬送容器をリソグラフィ装置の外部に対して粒子を通さない搬送位置に結合する工程、
パターニング構造体をこの搬送容器からこのリソグラフィ装置の実質的に粒子を通さないが非真空適合性の保管スペースの中へ搬送する工程、
パターニング構造体を保管スペースから真空室の中へ搬送する工程、
この搬送したパターニング構造体を放射線ビームで照明してパターン化した放射線ビームを作る工程、および
このパターン化した放射線ビームを基板の目標部分上に投影する工程、を含むデバイス製造方法。 - 前記真空室を排気して実質的に真空の雰囲気を作る工程、
前記パターニング構造体を前記真空室から実質的に真空状態の更なる真空室の中へ搬送し、前記パターン化したビームを作るために前記パターニング構造体を更なる真空室の中で照明位置に置く工程、をさらに含む請求項10に記載されたデバイス製造方法。
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