JP2005100875A - Photoelectric conversion element module - Google Patents

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    • Y02E10/542Dye sensitized solar cells

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a translucent photoelectric conversion element module which can be used for manufacturing a solar cell module or a solar cell array having the translucency. <P>SOLUTION: The photoelectric conversion element module, including a plurality of photoelectric conversion elements, is provided with a first electrode to which a semiconductor layer carrying a sensitized dye is coated; a second electrode facing the semiconductor layer of the first electrode; and an electrolyte disposed between the semiconductor layer of the first electrode and the second electrode. The first electrode of one photoelectric conversion element and the second electrode of the other photoelectric conversion element among adjacent photoelectric conversion elements are electrically connected by a translucency conductive material containing conductive particles of 1-15 volume% in a transparent insulating material. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、色素増感太陽電池などに用いるのに適した光電変換素子モジュールに関する。   The present invention relates to a photoelectric conversion element module suitable for use in a dye-sensitized solar cell or the like.

グレッツェルらが提唱した新しいタイプの色素増感太陽電池は、従来の色素増感太陽電池に比べて、飛躍的に高い変換効率(7%台)を示し注目を浴びてきた。色素増感太陽電池は、光を捕集した色素が生成する励起電子を半導体内に注入することによって光電変換を実現している。したがって、光捕集力を高めるために増感色素を半導体に多量に担持させること、さらに増感色素からできるだけ早く半導体へ電子を注入させることが重要である。グレッツェル・セルとも言われるこの新しい色素増感太陽電池は、超微粒子の酸化チタンからなる多孔質膜に増感色素であるルテニウム錯体を担持させることで、この課題を解決している(例えば、非特許文献1参照)。
グレッツェル(Gratzel)、外1名、「ネイチャー(Nature)」、(英国)、1991年10月24日、第353巻、p.737−740
A new type of dye-sensitized solar cell proposed by Gretzell et al. Has attracted attention as it exhibits a dramatically higher conversion efficiency (on the order of 7%) than conventional dye-sensitized solar cells. The dye-sensitized solar cell realizes photoelectric conversion by injecting excited electrons generated by a dye that collects light into a semiconductor. Therefore, it is important that a large amount of a sensitizing dye is supported on the semiconductor in order to increase the light collecting ability, and that electrons are injected from the sensitizing dye into the semiconductor as soon as possible. This new dye-sensitized solar cell, also referred to as a Gretzel cell, solves this problem by supporting a ruthenium complex, which is a sensitizing dye, on a porous film made of ultrafine titanium oxide (for example, non-particles). Patent Document 1).
Gratzel, 1 other, “Nature” (UK), Oct. 24, 1991, volume 353, p. 737-740

このグレッツェル・セルは、酸化チタンの超微粒子を分散したペーストを透明電極に塗布し、増感色素を担持させ、対電極との間に電解質を充填するだけで組み立てることができる。したがって、従来の太陽電池と比べて、簡便な装置で製造が可能であり、次世代太陽電池の一つとして注目されている。   This Gretzel cell can be assembled by simply applying a paste in which ultrafine particles of titanium oxide are dispersed to a transparent electrode, carrying a sensitizing dye, and filling an electrolyte between the counter electrode. Therefore, it can be manufactured with a simple device as compared with a conventional solar cell, and is attracting attention as one of the next-generation solar cells.

このグレッツェル・セルの大きな特徴として光電変換素子自身に透光性を有していることが挙げられる。このことはグレッツェル・セルの大きな特徴の一つとして広く認知され、発電する窓や発電する遮蔽板などの透光性を有する発電デバイスへの応用が期待されている。グレッツェル・セル以外のタイプの太陽電池は、結晶シリコン、アモルファスシリコン、CdTe、CuInSeなどの材料から構成されているため、光電変換素子が透光性を有さず、したがって、透光性を有する発電デバイスに応用することが困難である。   A major feature of the Gretzel cell is that the photoelectric conversion element itself has translucency. This is widely recognized as one of the major features of the Gretzel cell, and is expected to be applied to light-transmitting power generation devices such as power generation windows and power generation shielding plates. Solar cells other than Gretzel cells are made of materials such as crystalline silicon, amorphous silicon, CdTe, CuInSe, etc., so the photoelectric conversion element does not have translucency, and thus has power transmission. It is difficult to apply to devices.

ところで、現状のグレッツェル・セルは、単体で1V以下の開放端電圧であり、実用的な電気機器をグレッツェル・セルで駆動させるには、複数のセルを直列接続して出力電圧を大きくすることが必須であり、既にグレッツェル・セルを直列接続したモジュール構造はいくつか提案されている(特許文献1〜5参照)。
特表平11−514787号公報 特表2002−540559号公報 特表2002−535808号公報 特開2001−357897号公報 EP0855726号明細書
By the way, the current Gretzel cell has an open-circuit voltage of 1 V or less as a single unit, and in order to drive a practical electrical device with a Gretzel cell, it is possible to increase the output voltage by connecting a plurality of cells in series. Several module structures that are essential and have already been connected in series with Gretzel cells have been proposed (see Patent Documents 1 to 5).
Japanese National Patent Publication No. 11-514787 Special Table 2002-540559 Special Table 2002-535808 JP 2001-357897 A EP 0855726 Specification

すなわち、特許文献1(特表平11−514787号公報)には、1枚の基板上に直列接続したモジュールを構成する構造並びにその製造方法が提案されている。通常のグレッツェル・セルは光電極と対電極との間に電解質を挟んだサンドイッチ構造であり、2枚の基板を必要とする。これに対して、特許文献1に記載の構造であれば、基板を1枚にすることができ、軽量化や低コスト化などの利点がある。   That is, Patent Document 1 (Japanese Patent Publication No. 11-514787) proposes a structure constituting a module connected in series on a single substrate and a manufacturing method thereof. A typical Gretzel cell has a sandwich structure in which an electrolyte is sandwiched between a photoelectrode and a counter electrode, and requires two substrates. On the other hand, the structure described in Patent Document 1 can provide a single substrate, which has advantages such as weight reduction and cost reduction.

しかしながら、特許文献1のように、基板を1枚にする構造では、ドライプロセスで作製するシリコン系太陽電池には適したモジュール構造であるが、ウェットプロセスでグレッツェル・セルを作製する場合、隣接する素子を接続するための電極を塗布するのが非常に難しいという問題があった。また、これに用いられる対電極はカーボンを成分とする材料を塗布して形成したものであるため光電変換素子自身の透光性を得ることが困難であった。   However, as in Patent Document 1, the structure with a single substrate is a module structure suitable for a silicon-based solar cell manufactured by a dry process, but it is adjacent when a Gretzel cell is manufactured by a wet process. There is a problem that it is very difficult to apply an electrode for connecting elements. Moreover, since the counter electrode used for this was formed by applying a material containing carbon as a component, it was difficult to obtain the translucency of the photoelectric conversion element itself.

特許文献2(特表2002−540559号公報)には、サンドイッチ構造のセルで、隣接する2つの光電極と対電極とを、導電性粒子を含む電気的通電材料によって、電解質の保持と電気的接続を両立させ、3次元的に直列接続する方法が提案されている。この方法は、電解質の保持と電気的接続を同時に行うことが可能でモジュール全体に占める電極面積を大きくでき、かつ電子の透明導電層の移動距離を短く抵抗損失ロスを最小限にすることが可能であることから、高出力できる利点がある。   Patent Document 2 (Japanese Patent Publication No. 2002-540559) discloses a sandwich-structured cell in which two adjacent photoelectrodes and counter electrodes are electrically held and electrically retained by an electrically conducting material containing conductive particles. A method has been proposed in which the connections are compatible and three-dimensionally connected in series. This method allows the electrolyte to be retained and electrically connected at the same time, increasing the electrode area occupied by the entire module, and shortening the distance traveled by the transparent conductive layer of electrons and minimizing the loss of resistance loss Therefore, there is an advantage of high output.

しかしながら、特許文献2の構造では、電気的通電材料中に含まれる導電性粒子の含有量が多いため、導電性粒子が視認できるようになり、透明な光電変換素子モジュールとなり得ない。また、特許文献2には、透光性を発現させる具体的な方法が明記されていないため、透光性を有する光電変換素子モジュールとするには不充分である。しかも、電気的通電材料中に含まれる導電性粒子の含有量が大きいため、隣り合う光電変換素子間での短絡が懸念され、その結果、出力低下が懸念されるという問題があった。   However, in the structure of Patent Document 2, since the content of the conductive particles contained in the electrically conducting material is large, the conductive particles can be visually recognized and cannot be a transparent photoelectric conversion element module. Further, Patent Document 2 does not specify a specific method for expressing translucency, and thus is not sufficient for a photoelectric conversion element module having translucency. In addition, since the content of the conductive particles contained in the electrically conducting material is large, there is a concern that a short circuit between adjacent photoelectric conversion elements may occur, and as a result, there is a concern that output may be reduced.

また、特許文献3(特表2002−535808号公報)には、サンドイッチ構造のセルで、隣接する2つの光電変換素子のうちの一方の光電変換素子の光電極と他方の光電変換素子の対電極とを、金属ワイヤの周囲を絶縁性物質で覆った導電性ワイヤによって、電解質の保持と電気的接続とを両立させ、3次元的に直列接続する方法が提案されている。この方法は、電解質の保持と電気的接続とを同時に行うことが可能であって、光電変換素子モジュール全体中で占める電極面積を大きくでき、かつ電子の透明導電層での移動距離を短く抵抗損失ロスを最小限にすることが可能であることから、高出力できる利点がある。   Patent Document 3 (Japanese Patent Publication No. 2002-535808) discloses a sandwich-structured cell in which one of two adjacent photoelectric conversion elements has a photoelectrode and a counter electrode of the other photoelectric conversion element. In other words, a method has been proposed in which three-dimensional series connection is performed by using a conductive wire in which the periphery of a metal wire is covered with an insulating material so as to achieve both electrolyte retention and electrical connection. In this method, the electrolyte can be held and the electrical connection can be performed at the same time, the electrode area occupied in the entire photoelectric conversion element module can be increased, and the movement distance of the electron in the transparent conductive layer can be shortened to reduce the resistance loss. Since loss can be minimized, there is an advantage that high output can be achieved.

しかしながら、導電性材料として用いられている金属ワイヤは線として見えることとなり透明な光電変換素子モジュールとはなり得ない。しかも、上記導電性ワイヤは、金属ワイヤを絶縁性物質でコーティングするプロセスを必要とし、さらに均一に絶縁性物質を金属ワイヤにコーティングするには高度な技術が必要であるため、コストアップと生産性の低下が懸念される。また、この導電性ワイヤでモジュール化するには、製造時に所望の場所にこの導電性ワイヤを、場合によっては複数本を、精度良く配置する高度な技術が必要であることから、生産性の低下が懸念されるという問題があった。   However, the metal wire used as the conductive material appears as a line and cannot be a transparent photoelectric conversion element module. In addition, the conductive wire requires a process for coating a metal wire with an insulating material, and further requires a high level of technology to uniformly coat the insulating material on the metal wire. There is concern about the decline. In addition, in order to make a module with this conductive wire, it is necessary to have an advanced technique for accurately placing the conductive wire in a desired place at the time of manufacturing, and in some cases, a plurality of wires are required. There was a problem of concern.

特許文献4(特開2001−357897号公報)には、サンドイッチ構造のセルで、隣接する2つの光電変換素子のうちの一方の光電変換素子の光電極と他方の光電変換素子の対電極とを異方導電性材料によって、電解質の保持と電気的接続とを両立させ、3次元的に直列接続する方法が提案されている。この方法は、電解質の保持と電気的接続とを同時に行うことが可能であって、モジュール全体中に占める電極面積を大きくでき、かつ電子の透明導電層での移動距離を短く抵抗損失ロスを最小限にすることが可能であることから、低コスト、高電圧化できる利点がある。   In Patent Document 4 (Japanese Patent Laid-Open No. 2001-357897), in a sandwich cell, a photoelectrode of one of the two adjacent photoelectric conversion elements and a counter electrode of the other photoelectric conversion element are provided. A method has been proposed in which an anisotropic conductive material is used to achieve both electrolyte retention and electrical connection, and to make a three-dimensional series connection. In this method, the electrolyte can be retained and the electrical connection can be performed simultaneously, the electrode area occupying the entire module can be increased, and the movement distance of electrons through the transparent conductive layer can be shortened to minimize the loss of resistance loss. Therefore, there is an advantage that the cost can be reduced and the voltage can be increased.

しかしながら、この特許文献4に記載の方法では、必ずしも透光性を有する光電変換素子モジュールとすることができず、不充分である。例えば、導電性材料にITO、ATO,FTOなどの透明導電酸化物の粒子を含む場合、ITOなどの粒子はそれ自身の体積抵抗率が高いことから、ITO粒子の含率を高くしないと導電性が悪くなるため良好な異方導電性材料とはなり得ない。ITO粒子は、体積抵抗が10-4〜10-3Ω・cmであり、金属の10-6〜10-4Ω・cmに対して数10〜100倍抵抗が高いため、金属粒子を用いた場合に比べて数10〜100倍の含有率が必要となってくる。一般に異方導電性を示すためには体積含率で15%以下にすることが必要であるが、ITO粒子の含率を大きくすることが必要であるため異方導電性が得られない。また、ITO粒子の含率を大きくするため、それによって、隣り合う光電変換素子間での短絡が懸念され、その結果、出力低下が懸念されるという問題があった。 However, the method described in Patent Document 4 is not necessarily sufficient because it cannot be a photoelectric conversion element module having translucency. For example, when the conductive material contains particles of transparent conductive oxides such as ITO, ATO, FTO, etc., the particles such as ITO have a high volume resistivity. Therefore, it cannot be a good anisotropic conductive material. The ITO particles have a volume resistance of 10 −4 to 10 −3 Ω · cm, and have a resistance several tens to 100 times higher than that of metal 10 −6 to 10 −4 Ω · cm, so metal particles were used. Compared with the case, the content of several 10 to 100 times is required. In general, in order to show anisotropic conductivity, it is necessary to make the volume content 15% or less. However, since it is necessary to increase the content of ITO particles, anisotropic conductivity cannot be obtained. Moreover, since the content rate of ITO particle | grains is enlarged, there existed a problem that a short circuit between adjacent photoelectric conversion elements might be anxious about it, and, as a result, an output fall might be anxious.

また、特許文献4に記載の方法では、導電性材料に金属材料を含む場合、導電性材料の含率が多くなると、基板に対して水平に連続した線状になり線と視認されてしてしまうため透明な光電変換素子モジュールとはなり得ない。また、線として視認できない程度の含有量であっても、粒子状導電体が凝集していたり、大きな粒子を使用していれば粒子として視認されてしまう。これらのことから目立たない程度の粒径の粒子状導電体を均一に分散させることが必須になる。また、特許文献4には、透光性を発現させる具体的な方法が明記されていないため、透光性を有する光電変換素子モジュールとするには不充分である。さらに、特許文献4には絶縁性材料の透光性について具体的に明記されていない。これらより特許文献4では透光性を有する導電性材料とすることが困難であり、透光性を有する光電変換素子モジュールとするには不充分である。また、カーボン材料を含む場合も同様であり、導電性の高い金、銀、銅などを用いた場合には電解質中のヨウ素と反応し変質してしまうため導電性を悪くしてしまう。特に絶縁性材料がエポキシ樹脂、シリコーン樹脂などの有機材料である場合には、電解質の浸透のためにヨウ素とより反応しやすくなり実使用が可能な光電変換素子モジュールとはなり得ない。絶縁性材料がガラスフリットなどの無機材料である場合、ガラスフリットが透光性を有していないことから透光性を有する光電変換素子モジュールとはなり得ない。   Further, in the method described in Patent Document 4, when the conductive material includes a metal material, if the content of the conductive material is increased, the conductive material is visually recognized as a line that is horizontally continuous with respect to the substrate. Therefore, it cannot be a transparent photoelectric conversion element module. Further, even if the content is in a level that cannot be visually recognized as a line, if the particulate conductor is aggregated or a large particle is used, it is visually recognized as a particle. For these reasons, it is essential to uniformly disperse the particulate conductor having an inconspicuous particle size. Moreover, since the specific method to express translucency is not specified in patent document 4, it is inadequate for setting it as the photoelectric conversion element module which has translucency. Further, Patent Document 4 does not specifically describe the translucency of the insulating material. From these, in Patent Document 4, it is difficult to obtain a light-transmitting conductive material, which is insufficient for a light-transmitting photoelectric conversion element module. The same applies to the case where a carbon material is included. When gold, silver, copper, or the like having high conductivity is used, it reacts with iodine in the electrolyte and deteriorates, so that the conductivity is deteriorated. In particular, when the insulating material is an organic material such as an epoxy resin or a silicone resin, it is more likely to react with iodine due to the permeation of the electrolyte, so that it cannot be a photoelectric conversion element module that can be actually used. When the insulating material is an inorganic material such as glass frit, the glass frit does not have translucency, and thus cannot be a photoelectric conversion element module having translucency.

また、通常用いられる異方導電フィルム、異方導電ゴム、異方導電接着剤の場合、異方導電フィルムのフィルムや異方導電接着剤のバインダなどの絶縁材料に透明な素材を用いておらず、したがって、特許文献4に記載の方法では、透光性を有する光電変換素子モジュールになり得ない。また、一般に異方導電フィルムは金メッキした樹脂粒子をエポキシ樹脂中に分散したものが多用されているが、エポキシ樹脂は電解質溶媒として多用されているニトリル系溶媒やカーボネート系溶媒に溶解しやすいこと、金はヨウ素と反応しやすいことなどから電解質の保持と電気的接続とを行うことは困難である。   In the case of anisotropic conductive film, anisotropic conductive rubber, and anisotropic conductive adhesive that are usually used, transparent materials are not used for insulating materials such as anisotropic conductive film and anisotropic conductive adhesive binders. Therefore, the method described in Patent Document 4 cannot be a photoelectric conversion element module having translucency. In general, anisotropic conductive films are often used in which gold-plated resin particles are dispersed in an epoxy resin, but the epoxy resin is easily dissolved in a nitrile solvent or a carbonate solvent that is frequently used as an electrolyte solvent. Since gold easily reacts with iodine, it is difficult to hold the electrolyte and make an electrical connection.

以上のことから、特許文献4に記載の方法では、異方導電性材料による電解質の保持と電気的接続と透光性とを両立させたモジュールにはなり得ない。   From the above, the method described in Patent Document 4 cannot be a module that achieves both electrolyte retention, electrical connection, and translucency with an anisotropic conductive material.

さらに、特許文献6(EP0855726号明細書)には、サンドイッチ構造のセルで、隣接する2つの光電変換素子のうちの一方の光電変換素子の光電極と他方の光電変換素子の対電極とを、隣接する光電変換素子間以外の部分で3次元的に直列接続する方法が提案されている。この方法は、シート抵抗の比較的大きな透明導電膜層を伝達する電子の距離が長くなり、ITO、 FTO、ATOなどの酸化物からなる透明導電膜層が金属の数10〜100倍の比抵抗を有するため、抵抗損失が大きくなり電力をロスしてしまう問題があるものの、特許文献1〜4に比べて複雑な構造でないため高度な試作技術を必要とせず容易に出力電圧を大きくできるという利点がある。   Further, in Patent Document 6 (EP 0855726), in a sandwich cell, a photoelectrode of one of the two adjacent photoelectric conversion elements and a counter electrode of the other photoelectric conversion element, A method of three-dimensionally connecting in series in a portion other than between adjacent photoelectric conversion elements has been proposed. This method increases the distance of electrons transmitted through the transparent conductive film layer having a relatively large sheet resistance, and the transparent conductive film layer made of an oxide such as ITO, FTO, or ATO has a specific resistance several tens to 100 times that of the metal. However, since it has a problem that resistance loss increases and power is lost, it is not a complicated structure as compared to Patent Documents 1 to 4, so that it is possible to easily increase the output voltage without requiring advanced prototype technology. There is.

しかしながら、この特許文献5には、透光性を発現させる具体的な方法が明記されていないため、透光性を有する光電変換素子モジュールを作製するには不充分である。   However, since this Patent Document 5 does not specify a specific method for expressing translucency, it is insufficient for producing a photoelectric conversion element module having translucency.

以上のように、特許文献1〜5のいずれに記載のモジュール構造も電気的接続のための導電性接続材料の透光性が得られないため、透光性を有する光電変換素子モジュールを製造することは困難である。   As described above, since the module structure described in any of Patent Documents 1 to 5 cannot obtain the translucency of the conductive connecting material for electrical connection, a photoelectric conversion element module having translucency is manufactured. It is difficult.

一方、現在実用化されているシリコン系などの光電変換素子(太陽電池)モジュールは、光電変換部分で発電した電力を、ITOなどの透明導電膜を経由し、その上部に金属ペーストなどから形成された櫛形収集電極やその外周部に配されたAg,Cu,Ni,Moおよびそれらの合金、カーボンブラックなどからなる配線電極を経由させることで集電しているが、特開平11−340490号公報、特開2001−44474などでは、電子機器に搭載する場合にそれらの集電極に使われている電気的接続材料が導電性粒子を主成分としているために透光性の付与や色調の調整が困難であり、そのため光電変換部分と集電極での色調が異なりデザイン面での制約を受けてしまうことや、それによって、光電変換素子モジュールを搭載した電子機器などのデザイン上の調和などを保つことができないことを問題としている。   On the other hand, a silicon-based photoelectric conversion element (solar cell) module that is currently in practical use is formed from a metal paste or the like on top of the electric power generated in the photoelectric conversion portion via a transparent conductive film such as ITO. The current is collected through a comb-shaped collecting electrode and wiring electrodes made of Ag, Cu, Ni, Mo and their alloys, carbon black, etc. disposed on the outer periphery of the comb-shaped collecting electrode. In JP 2001-44474 A, for example, when the electrical connection material used for the collector electrode is mainly composed of conductive particles when mounted on an electronic device, it is possible to impart translucency and adjust the color tone. For this reason, the color tone of the photoelectric conversion part and the collector electrode are different, and the design is restricted. I have a problem that you can not keep and harmony on the design of such equipment.

これまでに実用化されているシリコン系などの光電変換素子(太陽電池)モジュールは、光電変換部分に透光性を有しておらず透光性を有する光電変換モジュールとすることができない。これに対して、グレッツェル・セルは光電変換部分に透光性を持たすことが可能な光電変換素子である。このグレッツェル・セルは、実使用を考えた場合、複数の光電変換素子を接続して面積を拡大させることで光電変換素子モジュールとした上で、この光電変換素子モジュールを所要数接続して光電変換素子アレイとなすことによって所望の出力を得る必要がある。これは従来のシリコン系などの光電変換素子モジュールも、所要数接続して所望の出力を持つ光電変換素子モジュールとしており、同様のことであるが、この従来の光電変換素子モジュールの接続に用いられている導電性材料は、前記のように、導電性接着剤やハンダ付けや異方導電性樹脂などの透光性の有していない材料から構成されており、これを用いた光電変換素子モジュールは、電気接続部分の透光性が得られず接続部分の線状または格子状のパターンが生じることとなるため、透光性を有する光電変換素子モジュールとすることが困難であった。   The silicon-based photoelectric conversion element (solar cell) module that has been put to practical use so far does not have a light-transmitting property in the photoelectric conversion portion and cannot be a light-transmitting photoelectric conversion module. On the other hand, the Gretzel cell is a photoelectric conversion element capable of providing translucency to the photoelectric conversion portion. In the case of practical use, this Gretzel cell is connected to a plurality of photoelectric conversion elements to enlarge the area, and then a photoelectric conversion element module is connected to the required number of photoelectric conversion element modules. It is necessary to obtain a desired output by forming an element array. This is the same as a conventional photoelectric conversion element module such as a silicon-based module that has a desired output and is connected to the conventional photoelectric conversion element module. As described above, the conductive material is composed of a non-translucent material such as a conductive adhesive, soldering, or anisotropic conductive resin, and a photoelectric conversion element module using the same Since the translucency of the electrical connection portion is not obtained and a linear or lattice pattern of the connection portion is generated, it is difficult to obtain a photoelectric conversion element module having translucency.

本発明は、前記のような従来技術の問題点を解決し、透光性を有する太陽電池モジュールや太陽電池アレイを作製することが可能な透光性を有する光電変換素子モジュールを提供することを目的とする。   This invention solves the problems of the prior art as described above, and provides a translucent photoelectric conversion element module capable of producing a translucent solar cell module or solar cell array. Objective.

本発明は、増感色素を担持した半導体層が被着された第1の電極と、前記第1の電極の半導体層と対峙する第2の電極と、前記第1の電極の半導体層と第2の電極との間に配置された電解質とを備えた光電変換素子を複数含む光電変換素子モジュールにおいて、隣接する光電変換素子のうちの一方の光電変換素子の第1の電極と他方の光電変換素子の第2の電極とを、透明絶縁性材料中に導電性粒子を1〜15体積%含んだ透光性導電性材料により電気的に接続して光電変換素子モジュールを構成することによって、前記課題を解決したものである。   The present invention includes a first electrode on which a semiconductor layer carrying a sensitizing dye is deposited, a second electrode facing the semiconductor layer of the first electrode, a semiconductor layer of the first electrode, and a first electrode In a photoelectric conversion element module including a plurality of photoelectric conversion elements each including an electrolyte disposed between two electrodes, the first electrode of one of the adjacent photoelectric conversion elements and the other photoelectric conversion By electrically connecting the second electrode of the element with a translucent conductive material containing 1 to 15% by volume of conductive particles in a transparent insulating material to constitute a photoelectric conversion element module, It solves the problem.

本発明の光電変換素子モジュールは、透光性を有している。したがって、本発明の光電変換素子モジュールは、透光性を有する太陽電池モジュールや太陽電池アレイを作製することが可能であり、また、発電する窓や発電する遮蔽板など、これまでにない新たな透光性を有する発電デバイスへの応用も期待できる。   The photoelectric conversion element module of the present invention has translucency. Therefore, the photoelectric conversion element module of the present invention can produce a solar cell module or a solar cell array having translucency, and has a new and unprecedented structure such as a window for generating power and a shielding plate for generating power. Applications to light-transmitting power generation devices can also be expected.

以下、本発明を実施するための最良の形態について説明する。   Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described.

本発明の光電変換素子モジュールは、前記のように、増感色素を担持した半導体層が被着された第1の電極と、前記第1の電極の半導体層と対峙する第2の電極と、前記第1の電極の半導体層と前記第2の電極との間に配置された電解質とを備えた光電変換素子を複数含む光電変換素子モジュールであって、隣接する光電変換素子のうちの一方の光電変換素子の第1の電極と他方の光電変換素子の第2の電極の前記の透光性導電性材料によって接続されていることを特徴としているが、前記透光性導電性材料としては、550nmにおける透過率が0.1%以上であることが好ましく、1%以上であることがより好ましく、5%以上であることがさらに好ましく、また、60%以下であることが好ましい。   As described above, the photoelectric conversion element module of the present invention includes a first electrode on which a semiconductor layer carrying a sensitizing dye is deposited, a second electrode facing the semiconductor layer of the first electrode, A photoelectric conversion element module including a plurality of photoelectric conversion elements including an electrolyte disposed between the semiconductor layer of the first electrode and the second electrode, wherein one of adjacent photoelectric conversion elements The light-transmitting conductive material is connected to the first electrode of the photoelectric conversion element and the second electrode of the other photoelectric conversion element, but as the light-transmitting conductive material, The transmittance at 550 nm is preferably 0.1% or more, more preferably 1% or more, further preferably 5% or more, and preferably 60% or less.

本発明の光電変換素子モジュールの第1実施形態は、増感色素を担持した半導体層が被着された第1の電極と、前記第1の電極の半導体層と対峙する第2の電極と、前記第1の電極の半導体層と前記第2の電極との間に配置された電解質とを備えた光電変換素子を複数含む光電変換素子モジュールにおいて、前記透光性導電性材料が、隣接する光電変換素子のうちの一方の光電変換素子の第1の電極と他方の光電変換素子の第2の電極とを電気的に接続するとともに、隣接する光電変換素子間の電解質を分離している。   The first embodiment of the photoelectric conversion element module of the present invention includes a first electrode on which a semiconductor layer carrying a sensitizing dye is deposited, a second electrode facing the semiconductor layer of the first electrode, In the photoelectric conversion element module including a plurality of photoelectric conversion elements each including an electrolyte disposed between the semiconductor layer of the first electrode and the second electrode, the translucent conductive material includes adjacent photoelectric elements. While electrically connecting the 1st electrode of one photoelectric conversion element and the 2nd electrode of the other photoelectric conversion element among the conversion elements, the electrolyte between adjacent photoelectric conversion elements is isolate | separated.

この第1実施形態の構造は、隣接する光電変換素子間の分離と隣接する光電変換素子のうちの一方の光電変換素子の第1の電極と他方の光電変換素子の第2の電極との電気的接続とを同時に行うことによって光電変換素子モジュール内において占める透光性導電性材料の面積割合を下げ、光電変換素子の面積割合を高くすることができるので、光電変換素子モジュールの面積あたりの出力を高くすることができる。この光電変換素子モジュールにおいては、光電変換素子間の電気的接続が透光性導電性材料によって行われているので、透光性を有する光電変換素子モジュールとすることができる。また、光電変換素子間の分離と電極間の電気的接続とを同時に行うために高度な作製技術が必要になるものの、工程数を少なくすることができ、大量生産しやすい。また、熱硬化性の透明絶縁性材料に導電性粒子を分散させた透光性導電性材料を用いれば、スクリーン印刷やディスペンサー塗布が可能となるので、さらに工程数を少なくすることができ、大量生産しやすくなる。   The structure of this 1st Embodiment is the isolation | separation between adjacent photoelectric conversion elements, and the electricity of the 1st electrode of one photoelectric conversion element of the adjacent photoelectric conversion elements, and the 2nd electrode of the other photoelectric conversion element. The area ratio of the translucent conductive material occupying in the photoelectric conversion element module can be reduced by increasing the area ratio of the photoelectric conversion element module, so that the output per area of the photoelectric conversion element module can be increased. Can be high. In this photoelectric conversion element module, since the electrical connection between the photoelectric conversion elements is performed by the translucent conductive material, the photoelectric conversion element module having translucency can be obtained. In addition, although advanced fabrication techniques are required to simultaneously perform the separation between the photoelectric conversion elements and the electrical connection between the electrodes, the number of steps can be reduced and mass production is easy. In addition, if a translucent conductive material in which conductive particles are dispersed in a thermosetting transparent insulating material is used, screen printing and dispenser coating can be performed. Easy to produce.

本発明の光電変換素子モジュールの第2実施形態は、増感色素を担持した半導体層が被着された第1の電極と、前記第1の電極の半導体層と対峙する第2の電極と、前記第1の電極の半導体層と第2の電極との間に配置された電解質とを備えた光電変換素子を複数含む光電変換素子モジュールであって、前記透光性導電性材料が隣接する光電変換素子のうちの一方の光電変換素子の第1の電極と他方の光電変換素子の第2の電極とを電気的に接続するとともに、光電変換素子モジュールの端部の光電変換素子の第1の電極または第2の電極が電気的接続部を備え、それと接続させようとする光電変換素子または光電変換素子モジュールの端部の光電変換素子の第2の電極または第1の電極の電気的接続部とを前記透光性導電性材料によって接続していることを特徴とする。ただし、この第2実施形態においても、光電変換素子モジュールに他の光電変換素子または光電変換素子モジュールを直列に接続するため、基本となる光電変換素子モジュールの電気的接続部が第1の電極の場合はこれに接続する光電変換素子または光電変換素子モジュールの電気的接続部は第2の電極の電気的接続部となり、基本となる光電変換素子モジュールの電気的接続部が第2の電極の電気的接続部の場合は接続しようとする光電変換素子または光電変換素子モジュールの電気的接続部は第1の電極の電気的接続部となる。   A second embodiment of the photoelectric conversion element module of the present invention includes a first electrode on which a semiconductor layer carrying a sensitizing dye is deposited, a second electrode facing the semiconductor layer of the first electrode, A photoelectric conversion element module including a plurality of photoelectric conversion elements including an electrolyte disposed between a semiconductor layer of the first electrode and a second electrode, wherein the light-transmitting conductive material is adjacent to the photoelectric conversion element module. The first electrode of one of the conversion elements and the second electrode of the other photoelectric conversion element are electrically connected, and the first photoelectric conversion element at the end of the photoelectric conversion element module is connected. The electrode or the second electrode has an electrical connection, and the electrical connection of the second or first electrode of the photoelectric conversion element at the end of the photoelectric conversion element or photoelectric conversion element module to be connected to the electrode or the second electrode Are connected by the translucent conductive material. And characterized in that it. However, also in this second embodiment, since the other photoelectric conversion elements or photoelectric conversion element modules are connected in series to the photoelectric conversion element module, the electrical connection part of the basic photoelectric conversion element module is the first electrode. In this case, the electrical connection part of the photoelectric conversion element or photoelectric conversion element module connected to this becomes the electrical connection part of the second electrode, and the electrical connection part of the basic photoelectric conversion element module is the electrical connection part of the second electrode. In the case of a general connection part, the electrical connection part of the photoelectric conversion element or the photoelectric conversion element module to be connected becomes the electrical connection part of the first electrode.

この第2実施形態の構造は、光電変換素子モジュールにさらに他の光電変換素子または光電変換素子モジュールを電気的に接続する場合に適用される。光電変換素子モジュールの実使用時には、それにさらに他の光電変換素子または光電変換素子モジュールを任意に電気的に接続することで任意の出力とすることができる。その際の接続には、通常、異方導電性材料、はんだ付け、導電箔、導線、導電テープ、導電性塗料などが用いられるが、いずれも不透光な材料であることから、電気的接続部分の透光性が得られなかった。しかしながら、この本発明の第2実施形態の光電変換素子モジュールでは、各光電変換素子の電気的接続部は、透光性導電性材料によって電気的に直列に接続されているため、透光性を有する光電変換素子モジュールとすることができる。   The structure of the second embodiment is applied when another photoelectric conversion element or a photoelectric conversion element module is further electrically connected to the photoelectric conversion element module. When the photoelectric conversion element module is actually used, any other photoelectric conversion element or photoelectric conversion element module can be arbitrarily connected to the output to obtain an arbitrary output. Usually, anisotropic conductive materials, soldering, conductive foil, conductive wires, conductive tapes, conductive paints, etc. are used for the connection at that time. The translucency of the part was not obtained. However, in the photoelectric conversion element module according to the second embodiment of the present invention, since the electrical connection portions of the photoelectric conversion elements are electrically connected in series by the light-transmitting conductive material, the light-transmitting property is reduced. It can be set as the photoelectric conversion element module which has.

本発明の光電変換素子モジュールの第3実施形態は、増感色素を担持した半導体層が被着された第1の電極と、前記第1の電極の半導体層と対峙する第2の電極と、前記第1の電極の半導体層と前記第2の電極との間に配置された電解質とを備えた光電変換素子を複数含む光電変換素子モジュールであって、隣接する光電変換素子の間には封止材が配置され、光電変換素子の第1の電極の端部および第2の電極の端部にはそれぞれ電気的接続部が備えられ、電気的接続部は前記光電変換素子の間に配置された封止材とは接触せずに配置され、隣接する光電変換素子のうち一方の光電変換素子の第1の電極の電気的接続部と、他方の光電変換素子の第2の電極の電気的接続部とが前記透光性導電性材料によって接続されている。この第3実施形態の光電変換素子モジュールでは、隣接する光電変換素子のうちの一方の光電変換素子の第1の電極と他方の光電変換素子の第2の電極とを直列に接続することに関しては、前記第1実施形態の光電変換素子モジュールと同じであるが、前記第1実施形態の光電変換素子モジュールではモジュール内部で隣接する光電変換素子間を直列に接続していたのに対して、この第3実施形態の光電変換素子モジュールでは、光電変換素子の封止材より外側の部分を利用して直列に接続することになる。   A third embodiment of the photoelectric conversion element module of the present invention includes a first electrode on which a semiconductor layer carrying a sensitizing dye is deposited, a second electrode facing the semiconductor layer of the first electrode, A photoelectric conversion element module including a plurality of photoelectric conversion elements each including an electrolyte disposed between the semiconductor layer of the first electrode and the second electrode, and is sealed between adjacent photoelectric conversion elements. A stopper is disposed, and an end of the first electrode and an end of the second electrode of the photoelectric conversion element are each provided with an electrical connection, and the electrical connection is disposed between the photoelectric conversion elements. The electrical connection portion of the first electrode of one of the adjacent photoelectric conversion elements and the electrical connection of the second electrode of the other photoelectric conversion element are arranged without contact with the sealing material. The connection part is connected by the translucent conductive material. In the photoelectric conversion element module according to the third embodiment, the first electrode of one of the adjacent photoelectric conversion elements and the second electrode of the other photoelectric conversion element are connected in series. The photoelectric conversion element module of the first embodiment is the same as the photoelectric conversion element module of the first embodiment, but in the photoelectric conversion element module of the first embodiment, adjacent photoelectric conversion elements are connected in series inside the module. In the photoelectric conversion element module of 3rd Embodiment, it connects in series using the part outside the sealing material of a photoelectric conversion element.

この第3実施形態の構造は、隣接する光電変換素子間の電気的接続を、光電変換素子の封止材より外側の部分を利用して行うため、必然的に抵抗の比較的大きな透明導電膜を伝達する電子の距離が長くなる。一般にITO、 FTO、ATOなどからなる酸化物透明導電膜は金属の数10〜100倍の比抵抗を有するため、抵抗損失が大きくなり電力をロスしてしまうが、隣接する光電変換素子間の電気的接続をモジュール内で行う場合に比べて複雑な構造でないため高度な試作技術を必要とせず容易に出力電圧を大きくできる。この場合においても、各光電変換素子の電気的接続は、透光性導電性材料によって直列に接続されているので、透光性を有する光電変換素子モジュールとすることができる。   In the structure of the third embodiment, since the electrical connection between the adjacent photoelectric conversion elements is performed using a portion outside the sealing material of the photoelectric conversion elements, a transparent conductive film having a relatively large resistance is inevitably required. The distance of electrons that transmit is increased. Generally, an oxide transparent conductive film made of ITO, FTO, ATO, or the like has a specific resistance several tens to 100 times that of a metal, so that resistance loss increases and power is lost. The output voltage can be easily increased without the need for advanced prototyping technology because the structure is not complicated compared to the case where the internal connection is made in the module. Also in this case, since the electrical connection of each photoelectric conversion element is connected in series by the translucent conductive material, a photoelectric conversion element module having translucency can be obtained.

前記透光性導電性材料は導電性粒子を透明絶縁性材料に分散させることによって構成されるが、この導電性粒子としては、少なくとも金属導体を含む微粒子であることが好ましい。これは金属粒子または金属メッキした樹脂粒子などの体積抵抗率の低い金属導体の微粒子によって確実な電気的接続を行うことができるからである。   The translucent conductive material is constituted by dispersing conductive particles in a transparent insulating material, and the conductive particles are preferably fine particles containing at least a metal conductor. This is because reliable electrical connection can be achieved by fine particles of a metal conductor having a low volume resistivity such as metal particles or metal-plated resin particles.

また、前記導電性粒子としては、少なくともAu、Pt、Ag、Cu、Al、Ni、Zn、Ti、W、Cr、Moのいずれかを含む微粒子であることがより好ましく、これらの金属微粒子はそれぞれ単独で用いてもよいし、また、任意の種類、任意の粒径の導電性粒子と混合して用いてもよい。   The conductive particles are more preferably fine particles containing at least one of Au, Pt, Ag, Cu, Al, Ni, Zn, Ti, W, Cr, and Mo. They may be used alone or in combination with conductive particles of any kind and any particle size.

また、透光性導電性材料が、光電変換素子間の分離と電極間の電気的接続とを同時に行う場合、前記導電性粒子としては、少なくともPt、Ni、Ti、Wのいずれかを含む微粒子であることが好ましい。これはそれらの金属が電解質中に多用されているヨウ素と反応しにくく、電気的接続の信頼性を向上させることができるからである。そして、上記の金属微粒子はそれぞれ単独で用いてもよいし、また、任意の種類、任意の粒径の導電性粒子と混合して用いてもよい。   In the case where the translucent conductive material simultaneously performs separation between photoelectric conversion elements and electrical connection between electrodes, the conductive particles include fine particles containing at least one of Pt, Ni, Ti, and W. It is preferable that This is because these metals are unlikely to react with iodine frequently used in the electrolyte, and the reliability of electrical connection can be improved. The metal fine particles may be used alone or in combination with conductive particles of any kind and any particle size.

透明絶縁性材料としては、後述する封止材と同じものを使用できるが、少なくともシリコーン樹脂、アクリル樹脂、アイオノマー樹脂、エポキシ樹脂、オレフィン樹脂、ブチルゴム、熱硬化性オレフィン樹脂、フッ素を含む樹脂からなることが好ましい。これはそれらの樹脂が透明性と被着体との良好な接着力を有していて、確実に電気的接続を行うことができるからである。   As the transparent insulating material, the same material as the sealing material described later can be used, but at least a silicone resin, an acrylic resin, an ionomer resin, an epoxy resin, an olefin resin, a butyl rubber, a thermosetting olefin resin, and a resin containing fluorine. It is preferable. This is because these resins have transparency and good adhesion to the adherend, and can be reliably connected electrically.

また、透光性導電性材料が光電変換素子間の分離と電極間の電気的接続とを同時に行う場合、前記透明絶縁性材料としては、少なくともシリコーン樹脂、アイオノマー樹脂、オレフィン樹脂、熱硬化性オレフィン樹脂からなることが好ましい。これはそれらの樹脂が電解質溶媒として多用されていれるニトリル系溶媒やカーボネート系溶媒などの極性の高い溶媒と相溶性が低い、すなわち、電解質に溶けにくく長期間に亘り構造の保持が可能であって、光電変換モジュールの長期信頼性を向上させることができるからである。   Further, when the translucent conductive material simultaneously performs separation between photoelectric conversion elements and electrical connection between electrodes, the transparent insulating material includes at least a silicone resin, an ionomer resin, an olefin resin, and a thermosetting olefin. It is preferable to consist of resin. This is because these resins have low compatibility with highly polar solvents such as nitrile solvents and carbonate solvents, which are frequently used as electrolyte solvents, that is, they are difficult to dissolve in electrolytes and can maintain their structure over a long period of time. This is because the long-term reliability of the photoelectric conversion module can be improved.

導電性粒子としては、前記のように、金属粒子、金属メッキ処理した樹脂粒子、ガラスビーズ、ガラスファイバー、ゴム粒子などを用いることができるが、別種類の金属が多重メッキされていてもよい。   As the conductive particles, metal particles, resin particles subjected to metal plating treatment, glass beads, glass fibers, rubber particles, and the like can be used as described above, but different types of metals may be multiply plated.

本発明においては、透光性導電性材料中における導電性粒子の含有量を1〜15体積%とするが、これは、導電性粒子の含有量が1体積%より少ない場合は透光性は良くなるものの導電性が悪くなり、導電性粒子の含有量が15体積%より多い場合は導電性は良くなるものの透光性が悪くなるからである。そして、透光性導電性材料中における導電性粒子の含有量としては、1〜10体積%が好ましく、3〜10体積%がより好ましく、3〜8体積%がさらに好ましい。   In the present invention, the content of the conductive particles in the translucent conductive material is 1 to 15% by volume. This is because the translucency is less when the content of the conductive particles is less than 1% by volume. This is because although the conductivity is improved, the conductivity is deteriorated, and when the content of the conductive particles is more than 15% by volume, the conductivity is improved but the translucency is deteriorated. And as content of the electroconductive particle in a translucent conductive material, 1-10 volume% is preferable, 3-10 volume% is more preferable, and 3-8 volume% is further more preferable.

透明絶縁性材料中への導電性粒子の混合方法としては、透明絶縁性材料が熱硬化性の場合、硬化する前であれば任意のタイミングで混入することが可能であるが、あらかじめ透明絶縁性材料に導電性粒子を混入し、混錬、真空脱泡を所定回数繰り返し分散、脱泡して透光性導電性材料を調製しておくことが好ましく、そのようにして調製した透光性導電性材料はディスペンサーやスクリーン印刷などの既知の手法によって用いることができる。また、透明絶縁性材料が熱可塑性の場合は、任意のタイミングで混入することが可能であるが、あらかじめ透明絶縁性材料に導電性粒子を混入し混錬、真空脱泡を所定回数繰り返し分散、脱泡して透光性導電性材料を調製しておくことが好ましく、そのようにして調製した透光性導電性材料はシート状に成形し、パターニングして環状など所望の形状にして用いることができる。   As a method of mixing the conductive particles into the transparent insulating material, if the transparent insulating material is thermosetting, it can be mixed at any timing before it is cured. It is preferable to prepare a translucent conductive material by mixing conductive particles in the material, kneading and vacuum defoaming a predetermined number of times repeatedly and defoaming, and preparing the translucent conductive material thus prepared. The material can be used by a known method such as a dispenser or screen printing. In addition, when the transparent insulating material is thermoplastic, it can be mixed at any timing, but the conductive particles are mixed in advance in the transparent insulating material, kneaded, and vacuum defoaming is repeatedly dispersed a predetermined number of times. It is preferable to prepare a light-transmitting conductive material by defoaming, and the light-transmitting conductive material thus prepared is formed into a sheet shape and patterned to be used in a desired shape such as an annular shape. Can do.

前記導電性粒子は、ウエット洗浄、ケミカル洗浄、CVD処理、プラズマ処理、オゾン処理、紫外線照射処理、超音波処理、表面研磨処理などを行い粒子表面の洗浄や酸化膜の除去を行うことによって導電性を向上させることができる。また、導電性粒子と第1の電極(透明電極)と第2の電極(対電極)との密着性を高めるために粒子表面をシランカップリング剤やチタネートカップリング剤の表面処理剤で処理してもよい。   The conductive particles are made conductive by performing wet cleaning, chemical cleaning, CVD processing, plasma processing, ozone processing, ultraviolet irradiation processing, ultrasonic processing, surface polishing processing, etc., and cleaning the particle surface and removing the oxide film. Can be improved. In addition, in order to improve the adhesion between the conductive particles, the first electrode (transparent electrode) and the second electrode (counter electrode), the surface of the particles is treated with a surface treatment agent such as a silane coupling agent or a titanate coupling agent. May be.

前記導電性粒子としては、粒径が平均粒径で0.1〜300μmであることが好ましく、1〜100μmであることがより好ましい。この導電性粒子としては、粒度分布が狭く粒径が均一に揃ったものが好ましいが、それらは非常に高価あるため、粒度分布の広く粒径が均一でないものを用いてもよい。   The conductive particles preferably have an average particle size of 0.1 to 300 μm, and more preferably 1 to 100 μm. As the conductive particles, particles having a narrow particle size distribution and a uniform particle size are preferable. However, since they are very expensive, particles having a wide particle size distribution and a non-uniform particle size may be used.

また、透明絶縁性樹脂には、被着面との接着力を高めるるために、シランカップリング剤やチタネートカップリング剤などを添加しても良い。また、あらかじめ被着面にウエット洗浄、ケミカル洗浄、プラズマ処理、オゾン処理、紫外線照射処理、超音波処理、表面研磨処理など行い被着面の洗浄や活性化を行ってもよい。   In addition, a silane coupling agent, a titanate coupling agent, or the like may be added to the transparent insulating resin in order to increase the adhesive force with the adherend surface. Alternatively, the adherend surface may be cleaned or activated in advance by wet cleaning, chemical cleaning, plasma treatment, ozone treatment, ultraviolet irradiation treatment, ultrasonic treatment, surface polishing treatment, or the like.

また、透明絶縁性樹脂は、それらの耐候性を向上させるために、架橋剤、紫外線吸収剤などを適宜混合して使用することができる。   Moreover, in order to improve those weather resistance, a transparent insulating resin can mix and use a crosslinking agent, a ultraviolet absorber, etc. suitably.

透光性導電性材料は、導電性粒子の存在が気にならず、透光性を有していることから任意の色調に調整することが容易である。このような色調の調整は顔料や染料などの色素や色素によって着色された微粒子などを混入したり有色フィルムなどを張り合わせることによって実現することができる。また、顔料や着色微粒子などを用いる場合、その粒径は、導電性粒子とほぼ同サイズあるか、導電性粒子よりも小さいことが好ましい。   The translucent conductive material is easy to adjust to an arbitrary color tone because it does not mind the presence of conductive particles and has translucency. Such adjustment of the color tone can be realized by mixing pigments such as pigments and dyes, fine particles colored by pigments, or pasting colored films. Moreover, when using a pigment, colored fine particles, etc., it is preferable that the particle size is substantially the same as that of the conductive particles or smaller than the conductive particles.

次に、本発明の光電変換素子モジュールの好適な実施形態を図面を参照しつつ説明する。   Next, a preferred embodiment of the photoelectric conversion element module of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1実施形態
図1は本発明の光電変換素子モジュールの第1実施形態を示す断面図である。この第1実施形態の光電変換素子モジュールは、5個の光電変換素子を直列に接続したものであるが、図1に示すように、この第1実施形態の光電変換素子モジュール1を構成する各光電変換素子2.1〜2.5は、基板3の一方の面には第1の電極(透明電極)5.1〜5.5が形成され、その第1の電極5.1〜5.5の一方の面には増感色素が担持された半導体層7.1〜7.5が被着されている。そして、この増感色素が担持された半導体層7.1〜7.5に対峙して第2の電極(対電極)11.1〜11.5が別の基板21の一方の面に形成され、第1の電極5.1〜5.5の半導体層7.1〜7.5と第2の電極11.1〜11. 5との間にはそれぞれ電解質9.1〜9.5が配置されている。なお、複数設けられている部材に関する参照符号は、その複数設けられている部材を総称的に示す場合は、単に整数位の数字だけで示し、それらの部材を個別に示す必要があるときは、その整数位の数字の後にその部材間における識別のための数字をピリオドを介して付記した状態で示す。例えば、第1の電極を総称的に示す場合は「5」のみで示し、それらの第1の電極について個別に示す必要があるときは、「5.1」、「5.2」、「5.3」、「5.4」、「5.5」のように示す。そして、これは他の複数設けられている部材に関しても同様である。
First Embodiment FIG. 1 is a sectional view showing a first embodiment of a photoelectric conversion element module according to the present invention. The photoelectric conversion element module of the first embodiment is formed by connecting five photoelectric conversion elements in series. As shown in FIG. 1, each of the photoelectric conversion element modules 1 constituting the photoelectric conversion element module 1 of the first embodiment is configured. In the photoelectric conversion elements 2.1 to 2.5, first electrodes (transparent electrodes) 5.1 to 5.5 are formed on one surface of the substrate 3, and the first electrodes 5.1 to 5. On one surface of 5, semiconductor layers 7.1 to 7.5 carrying a sensitizing dye are deposited. Then, second electrodes (counter electrodes) 11.1-11.5 are formed on one surface of another substrate 21 in opposition to the semiconductor layers 7.1-7.5 carrying the sensitizing dye. Electrolytes 9.1 to 9.5 are disposed between the semiconductor layers 7.1 to 7.5 of the first electrodes 5.1 to 5.5 and the second electrodes 11.1 to 11.5, respectively. Has been. In addition, when the reference numerals regarding the members provided in a plurality are indicated generically by the members provided in a plurality, only the integer digits are indicated, and when these members need to be indicated individually, The number for the identification between the members is shown in a state appended with a period after the number of the integer place. For example, when the first electrodes are generically indicated, only “5” is indicated, and when the first electrodes need to be indicated individually, “5.1”, “5.2”, “5” .3 "," 5.4 ", and" 5.5 ". This also applies to a plurality of other members provided.

各光電変換素子2.1〜2.5の第1の電極5.1〜5.5間は、基板3上のギャップ15. 2〜15. 5によって分離され、同様に、第2の電極11.1〜11. 5間は、基板21上のギャップ17. 1〜17. 4によって分離されている。そして、隣接する光電変換素子間では、一方の光電変換素子の第1の電極と他方の光電変換素子の第2の電極とは透明絶縁性材料に導電性粒子を分散させた透光性導電性材料13によって直列に接続されている。これを具体的に説明すると、光電変換素子2.1と光電変換素子2.2との間では、光電変換素子2.1の第1の電極5.1と光電変換素子2.2の第2の電極11.2とは前記透光性導電性材料13によって接続され、光電変換素子2.2と光電変換素子2.3との間では、光電変換素子2.2の第1の電極5.2と光電変換素子2.3の第2の電極11.3とが前記透光性導電性材料13によって接続され、光電変換素子2.3と光電変換素子2.4との間では、光電変換素子2.3の第1の電極5.3と光電変換素子2.4の第2の電極11.4とが前記透光性導電性材料13によって接続され、光電変換素子2.4と光電変換素子2.5との間では、光電変換素子2.4の第1の電極5.4と光電変換素子2.5の第2の電極11.5とが前記透光性導電性材料13によって接続されている。なお、前記ギャップ15.1〜15.6に関してその位置を基板3上とし、ギャップ17.1〜17.6に関してもその位置を基板21上としているが、これは光電変換素子ないし光電変換素子モジュールの内部側を「上」と表現しているからである。   The first electrodes 5.1 to 5.5 of the photoelectric conversion elements 2.1 to 2.5 are separated by gaps 15.2 to 15.5 on the substrate 3, and similarly, the second electrode 11 is used. .1 to 11.5 are separated by gaps 17.1 to 17.4 on the substrate 21. Between the adjacent photoelectric conversion elements, the first electrode of one photoelectric conversion element and the second electrode of the other photoelectric conversion element are translucent conductive materials in which conductive particles are dispersed in a transparent insulating material. They are connected in series by material 13. More specifically, between the photoelectric conversion element 2.1 and the photoelectric conversion element 2.2, the first electrode 5.1 of the photoelectric conversion element 2.1 and the second of the photoelectric conversion element 2.2. The electrode 11.2 of the photoelectric conversion element 2.2 is connected to the electrode 11.2 of the translucent conductive material 13 between the photoelectric conversion element 2.2 and the photoelectric conversion element 2.3. 2 and the second electrode 11.3 of the photoelectric conversion element 2.3 are connected by the translucent conductive material 13, and photoelectric conversion is performed between the photoelectric conversion element 2.3 and the photoelectric conversion element 2.4. The first electrode 5.3 of the element 2.3 and the second electrode 11.4 of the photoelectric conversion element 2.4 are connected by the translucent conductive material 13, and the photoelectric conversion element 2.4 and the photoelectric conversion are connected. Between the element 2.5, the 1st electrode 5.4 of the photoelectric conversion element 2.4 and the 2nd electrode 11. Bets are connected by the light-transmitting conductive material 13. The positions of the gaps 15.1 to 15.6 are on the substrate 3, and the positions of the gaps 17.1 to 17.6 are also on the substrate 21. This is a photoelectric conversion element or photoelectric conversion element module. This is because the inner side of is expressed as “up”.

また、この第1実施形態の光電変換素子モジュール1では、上記のように、透光性導電性材料13が上記のように隣接する光電変換素子間の電気的接続をするとともに、電解質の分離も行っている。これを具体的に説明すると、光電変換素子2.1の電解質9.1と光電変換素子2.2の電解質9.2とは透光性導電性材料13によって分離され、光電変換素子2.2の電解質9.2と光電変換素子2.3の電解質9.3とは透光性導電性材料13によって分離され、光電変換素子2.3の電解質9.3と光電変換素子2.4の電解質9.4とは透光性導電性材料によって分離され、光電変換素子2.4の電解質9.4と光電変換素子2.5の電解質9.5とは透光性導電性材料13によって分離されている。ただし、そのように、電解質間の分離をすべて透光性導電性材料13によって行わなくても、その一部を透明絶縁性材料で行ってもよい。   In the photoelectric conversion element module 1 of the first embodiment, as described above, the translucent conductive material 13 makes electrical connection between adjacent photoelectric conversion elements as described above, and also separates the electrolyte. Is going. More specifically, the electrolyte 9.1 of the photoelectric conversion element 2.1 and the electrolyte 9.2 of the photoelectric conversion element 2.2 are separated by the translucent conductive material 13, and the photoelectric conversion element 2.2. The electrolyte 9.2 of the photoelectric conversion element 2.3 and the electrolyte 9.3 of the photoelectric conversion element 2.3 are separated by the translucent conductive material 13, and the electrolyte 9.3 of the photoelectric conversion element 2.3 and the electrolyte of the photoelectric conversion element 2.4 9.4 is separated by the translucent conductive material, and the electrolyte 9.4 of the photoelectric conversion element 2.4 and the electrolyte 9.5 of the photoelectric conversion element 2.5 are separated by the translucent conductive material 13. ing. However, as described above, not all the separation between the electrolytes may be performed by the translucent conductive material 13, but a part thereof may be performed by the transparent insulating material.

これらの光電変換素子2.1〜2.5のうち、左端に位置する光電変換素子2.1では、その左側端部において、基板3と基板21との間が封止材19によって封止され、右端に位置する光電変換素子2.5では、その右側端部において、基板3と基板21との間が封止材19によって封止されている。   Among these photoelectric conversion elements 2.1 to 2.5, in the photoelectric conversion element 2.1 located at the left end, the space between the substrate 3 and the substrate 21 is sealed by the sealing material 19 at the left end. In the photoelectric conversion element 2.5 located at the right end, the space between the substrate 3 and the substrate 21 is sealed with the sealing material 19 at the right end portion.

そして、光電変換素子2.5の右端部では封止材19の外側、すなわち、図1では、封止材19の右側に第1の電極5.5側の電気的接続部5.5aが設けられており、光電変換素子2.1の左端部では封止材19の外側、すなわち、図1では、封止材19の左側に第2の電極11.5の電気的接続部11.5aが設けられている。この第1実施形態の光電変換素子モジュール1で、基板3が透明性ガラス板などの透明基板で構成されているので、基板3から入射光27を受ける。   And the electrical connection part 5.5a by the side of the 1st electrode 5.5 is provided in the outer side of the sealing material 19 in the right end part of the photoelectric conversion element 2.5, ie, the right side of the sealing material 19 in FIG. In the left end portion of the photoelectric conversion element 2.1, the electrical connection portion 11.5a of the second electrode 11.5 is provided outside the sealing material 19, that is, on the left side of the sealing material 19 in FIG. Is provided. In the photoelectric conversion element module 1 according to the first embodiment, since the substrate 3 is configured by a transparent substrate such as a transparent glass plate, the incident light 27 is received from the substrate 3.

第2実施形態
図2は、本発明の光電変換素子モジュールの第2実施形態を示す断面図である。この図2に示す第2実施形態の光電変換素子モジュールは、前記の図1に示す第1実施形態の光電変換素子モジュールが5個の光電変換素子で構成されていたのに対して、2個の光電変換素子でモジュールを構成した以外は、基本的に第1実施形態の光電変換素子モジュールと同様である。
2nd Embodiment FIG. 2: is sectional drawing which shows 2nd Embodiment of the photoelectric conversion element module of this invention. The photoelectric conversion element module according to the second embodiment shown in FIG. 2 has two photoelectric conversion element modules according to the first embodiment shown in FIG. 1, which is composed of five photoelectric conversion elements. This is basically the same as the photoelectric conversion element module of the first embodiment except that the module is configured with the photoelectric conversion elements.

すなわち、この図2に示す第2実施形態の光電変換素子モジュール1においても、それを構成する各光電変換素子2.1〜2.2は、基板3の一方の面に第1の電極(透明電極)5.1〜5.2が形成され、その第1の電極5.1〜5.2の一方の面には増感色素が担持された半導体層7.1〜7.2が被着されている。そして、この増感色素が担持された半導体層7.1〜7.5に対峙して第2の電極(対電極)11.1〜11.5が別の基板21の一方の面に形成され、第1の電極5.1〜5.2の半導体層7.1〜7.2と第2の電極11.1〜11. 2との間にはそれぞれ電解質9.1〜9.2が配置されている。   That is, also in the photoelectric conversion element module 1 according to the second embodiment shown in FIG. 2, each of the photoelectric conversion elements 2.1 to 2.2 constituting the first conversion electrode (transparent) is formed on one surface of the substrate 3. Electrode) 5.1 to 5.2 is formed, and a semiconductor layer 7.1 to 7.2 carrying a sensitizing dye is deposited on one surface of the first electrode 5.1 to 5.2 Has been. Then, second electrodes (counter electrodes) 11.1-11.5 are formed on one surface of another substrate 21 in opposition to the semiconductor layers 7.1-7.5 carrying the sensitizing dye. The electrolytes 9.1 to 9.2 are disposed between the semiconductor layers 7.1 to 7.2 of the first electrodes 5.1 to 5.2 and the second electrodes 11.1 to 11.2, respectively. Has been.

各光電変換素子2.1〜2.2の第1の電極5.1〜5.2間は、基板3上のギャップ15. 2によって分離され、同様に、第2の電極11.1〜11. 2間は、基板21上のギャップ17. 1によって分離されている。そして、隣接する光電変換素子間では、光電変換素子2.1の第1の電極5.1と光電変換素子5.2の第2の電極11.2とは透明絶縁性材料に導電性粒子を分散させた透光性導電性材料13によって直列に接続されている。また、この第2実施形態の光電変換素子モジュール1では、透光性導電性材料13が上記のように隣接する光電変換素子の電極間の電気的接続をするとともに、隣接する光電変換素子間の電解質の分離も行っている。これを具体的に説明すると、光電変換素子2.1の電解質9.1と光電変換素子2.2の電解質9.2とは透光性導電性材料13によって分離されている。   The first electrodes 5.1 to 5.2 of the photoelectric conversion elements 2.1 to 2.2 are separated by a gap 15.2 on the substrate 3, and similarly, the second electrodes 11.1 to 11 are separated. The two are separated by a gap 17.1 on the substrate 21. Between the adjacent photoelectric conversion elements, the first electrode 5.1 of the photoelectric conversion element 2.1 and the second electrode 11.2 of the photoelectric conversion element 5.2 are made of conductive particles in a transparent insulating material. The light-transmitting conductive material 13 dispersed is connected in series. Moreover, in the photoelectric conversion element module 1 of this 2nd Embodiment, while the translucent conductive material 13 electrically connects between the electrodes of adjacent photoelectric conversion elements as mentioned above, between adjacent photoelectric conversion elements Electrolyte separation is also performed. More specifically, the electrolyte 9.1 of the photoelectric conversion element 2.1 and the electrolyte 9.2 of the photoelectric conversion element 2.2 are separated by the translucent conductive material 13.

これらの光電変換素子2.1〜2.2のうち、左側に位置する光電変換素子2.1では、その左側端部において、基板3と基板21との間が封止材19によって封止され、右端に位置する光電変換素子2.5では、その右側端部において、基板3と基板21との間が封止材19によって封止されている。   Among these photoelectric conversion elements 2.1 to 2.2, in the photoelectric conversion element 2.1 located on the left side, the gap between the substrate 3 and the substrate 21 is sealed by the sealing material 19 at the left end. In the photoelectric conversion element 2.5 located at the right end, the space between the substrate 3 and the substrate 21 is sealed with the sealing material 19 at the right end portion.

そして、光電変換素子2.2の右端部では封止材19の外側、すなわち、図2では、封止材19の右側に第1の電極5.2側の電気的接続部5.2aが設けられており、光電変換素子2.1の左端部では封止材19の外側、すなわち、図2では、封止材19の左側に第2の電極11.2の電気的接続部11.2aが設けられている。この第2実施形態の光電変換素子モジュール1でも、基板3が透明性ガラス板などの透明基板で構成されているので、基板3から入射光27を受ける。   The right end portion of the photoelectric conversion element 2.2 is provided with an electrical connection portion 5.2a on the first electrode 5.2 side on the outside of the sealing material 19, that is, on the right side of the sealing material 19 in FIG. The electrical connection portion 11.2a of the second electrode 11.2 is located outside the sealing material 19 at the left end of the photoelectric conversion element 2.1, that is, on the left side of the sealing material 19 in FIG. Is provided. Also in the photoelectric conversion element module 1 of the second embodiment, the substrate 3 is made of a transparent substrate such as a transparent glass plate, and therefore receives incident light 27 from the substrate 3.

これら第1実施形態の光電変換素子モジュールや第2実施形態の光電変換素子モジュールでは、透光性導電性材料13が隣接する光電変換素子間の第1の電極と第2の電極との電気的な直列接続と電解質の分離とを同時に行っているので、光電変換素子モジュール内で光電変換素子以外の部材が占める面積割合を下げることができ、その結果、光電変換素子のモジュール内で占める面積割合を高めることができるため、光電変換素子モジュールの面積あたりの出力を高くすることができる。しかも、各光電変換素子の電気的接続を透光性導電性材料によって電気的に直列に接続しているので、高出力で透光性を有する光電変換素子モジュールとすることができる。また、この第1実施形態や第2実施形態の光電変換素子モジュールでは、隣接する光電変換素子間の電気的接続と電解質の分離を同時に行うために高度な作製技術が必要になるものの、工程数を少なくすることができ、大量生産しやすい。また、熱硬化性の透明絶縁性材料に導電性粒子を分散させた透光性導電性材料を用いれば、スクリーン印刷やディスペンサー塗布が可能となるので、さらに工程数を少なくすることができ、大量生産しやすくなる。   In the photoelectric conversion element module according to the first embodiment and the photoelectric conversion element module according to the second embodiment, the electrical connection between the first electrode and the second electrode between the photoelectric conversion elements adjacent to the light-transmitting conductive material 13 is performed. Since the series connection and the separation of the electrolyte are performed at the same time, the area ratio occupied by the members other than the photoelectric conversion element in the photoelectric conversion element module can be reduced, and as a result, the area ratio occupied in the module of the photoelectric conversion element Therefore, the output per area of the photoelectric conversion element module can be increased. And since the electrical connection of each photoelectric conversion element is electrically connected in series by the translucent conductive material, it can be set as the photoelectric conversion element module which has high output and translucency. Further, in the photoelectric conversion element modules of the first embodiment and the second embodiment, advanced fabrication techniques are required to simultaneously perform electrical connection between adjacent photoelectric conversion elements and separation of the electrolyte. It is easy to mass-produce. In addition, if a translucent conductive material in which conductive particles are dispersed in a thermosetting transparent insulating material is used, screen printing and dispenser coating can be performed. Easy to produce.

第3実施形態
図3は本発明の光電変換素子モジュールの第3実施形態の断面図であり、この第3実施形態の光電変換素子モジュールは、前記第2実施形態の光電変換素子モジュールの電気的接続部5.2aと同様に第2実施形態の光電変換素子モジュールの電気的接続部11.1aとを透明絶縁性材料に導電性粒子を分散させた透光性導電性材料13によって電気的に接続したものである。従って、その接続部以外の構成は、前記第2実施形態の光電変換素子モジュールで説明したのと同様である。
Third Embodiment FIG. 3 is a cross-sectional view of a third embodiment of the photoelectric conversion element module according to the present invention. The photoelectric conversion element module according to the third embodiment is an electric circuit of the photoelectric conversion element module according to the second embodiment. Similarly to the connection part 5.2a, the electrical connection part 11.1a of the photoelectric conversion element module according to the second embodiment is electrically connected to the transparent conductive material 13 in which conductive particles are dispersed in a transparent insulating material. Connected. Therefore, the configuration other than the connection portion is the same as that described in the photoelectric conversion element module of the second embodiment.

この第3実施形態の光電変換素子モジュールを構成する2個の光電変換素子モジュールは、前記第2実施形態の光電変換素子モジュールで説明したのと同様に構成されている。   The two photoelectric conversion element modules constituting the photoelectric conversion element module of the third embodiment are configured in the same manner as described in the photoelectric conversion element module of the second embodiment.

この第3実施形態の構造は、基本となる光電変換素子モジュールに他の光電変換素子または光電変換素子モジュールを電気的に接続する場合に用いることができる。光電変換素子モジュールの実使用時には、さらに他の光電変換素子または光電変換素子モジュールを電気的に接続することで出力を高めることができる。その際、接続には、通常、異方導電性材料、はんだ付け、導電箔、導線、導電テープ、導電塗料などが用いられるが、いずれも不透光な材料であることから、電気的接続部分の透光性が得られなかった。しかしながら、この第3実施形態の光電変換素子モジュールでは、各光電変換素子の電気的接続部が透光性導電性材料によって電気的に直列に接続されているので、透光性を有するモジュールとすることができる。光電変換素子や光電変換素子モジュールとの組み合わせは任意に接続可能であるが、接続する光電変換素子や光電変換素子モジュールも透光性を有することが好ましい。   The structure of the third embodiment can be used when another photoelectric conversion element or a photoelectric conversion element module is electrically connected to the basic photoelectric conversion element module. When the photoelectric conversion element module is actually used, the output can be increased by electrically connecting another photoelectric conversion element or a photoelectric conversion element module. At that time, anisotropically conductive materials, soldering, conductive foils, conductive wires, conductive tapes, conductive paints, etc. are usually used for connection. The translucency of was not obtained. However, in the photoelectric conversion element module according to the third embodiment, since the electrical connection portions of the photoelectric conversion elements are electrically connected in series by the translucent conductive material, the module has translucency. be able to. Although the combination with a photoelectric conversion element and a photoelectric conversion element module can be connected arbitrarily, it is preferable that the connected photoelectric conversion element and photoelectric conversion element module also have translucency.

第4実施形態
図4は本発明の光電変換素子モジュールの第4実施形態を示す断面図であり、この第4実施形態の光電変換素子モジュールは5個の光電変換素子で構成されている。図4において、本実施形態の光電変換素子モジュール1を構成する各光電変換素子2.1〜2.5は、基板3の一方の面に第1の電極(透明電極)5.1〜5.5を形成し、その第1の電極5.1〜5.5の一方の面には増感色素が担持された半導体層7.1〜7.5が被着されている。そして、この増感色素が担持された半導体層7.1〜7.5に対峙して第2の電極(対電極)11.1〜11.5が別の基板21の一方の面に形成され、半導体層7.1〜7.5と第2の電極11.1〜11.5との間には電解質9.1〜9.5が配置されている。
Fourth Embodiment FIG. 4 is a cross-sectional view showing a fourth embodiment of the photoelectric conversion element module of the present invention, and the photoelectric conversion element module of the fourth embodiment is composed of five photoelectric conversion elements. In FIG. 4, each photoelectric conversion element 2.1-2.5 which comprises the photoelectric conversion element module 1 of this embodiment is 1st electrode (transparent electrode) 5.1-5. 5 is formed, and semiconductor layers 7.1 to 7.5 carrying a sensitizing dye are deposited on one surface of the first electrodes 5.1 to 5.5. Then, second electrodes (counter electrodes) 11.1-11.5 are formed on one surface of another substrate 21 in opposition to the semiconductor layers 7.1-7.5 carrying the sensitizing dye. The electrolytes 9.1 to 9.5 are disposed between the semiconductor layers 7.1 to 7.5 and the second electrodes 11.1 to 11.5.

各光電変換素子2.1〜2.5の第1の電極5.1〜5.5は、基板3上のギャップ15.2〜15.5によって分離され、同様に、第2の電極11.1〜11.5は、基板21上のギャップ17.2〜17.5によって分離されている。そして、基板3上のギャップ15.1〜15.6と基板21上のギャップ17.1〜17.6との間には封止材19が配置され、各光電変換素子2.1〜2.5は封止材19によって分離されている。   The first electrodes 5.1 to 5.5 of the photoelectric conversion elements 2.1 to 2.5 are separated by the gaps 15.2 to 15.5 on the substrate 3, and similarly, the second electrodes 11. 1 to 11.5 are separated by gaps 17.2 to 17.5 on the substrate 21. A sealing material 19 is disposed between the gaps 15.1 to 15.6 on the substrate 3 and the gaps 17.1 to 17.6 on the substrate 21, and the photoelectric conversion elements 2.1 to 2. 5 are separated by a sealing material 19.

図5は、上記第4実施形態の光電変換素子モジュールの平面図であり、図4の入射光27が入射する方向の反対側から見た平面図である。光電変換素子2.1〜2.5の第1の電極5.1〜5.5は、その端部に電気的接続部5.1a〜5.5aを備えている。ただし、それらの方向は奇数位のものと偶数位のものとでは反対側に配置していて、奇数位の電気的接続部5.1aと5.3aと5.5aは図5における上部側に配置し、偶数位の電気的接続部5.2aと5.4aは図5における下部側に配置している。そして、第2の電極11.1〜11.5も同様にその端部に電気的接続部11.1a〜11.5aを備えている。ただし、それらの方向は奇数位のものと偶数位のものとは反対方向に配置していて、前記第1の電極の電気的接続部5.1a〜5.5aと直列に接続しやすくなるようになされている。具体的には、奇数位の電気的接続部11.1aと11.3aと11.5aは図5における下部側に配置し、偶数位の電気的接続部11.2aと11.4aは図5における上部側に配置している。また、この電気的接続部5.1a〜5.5aや電気的接続部11.1a〜11.5aは、光電変換素子間に配置された封止材19とは接触しないように、光電変換素子モジュールの端部に配置されている。これにより、電気的接続部を広く確保できるので、電気的接続部の強度を増加させることができる。また、光電変換素子間での電気的接続と封止とを両立させる必要がなくなるため、光電変換素子間の封止強度を高めることができる。   FIG. 5 is a plan view of the photoelectric conversion element module according to the fourth embodiment, and is a plan view seen from the side opposite to the direction in which the incident light 27 in FIG. 4 is incident. The 1st electrodes 5.1-5.5 of the photoelectric conversion elements 2.1-2.5 are equipped with the electrical connection parts 5.1a-5.5a in the edge part. However, the odd-numbered and even-numbered directions are arranged on the opposite side, and the odd-numbered electrical connections 5.1a, 5.3a, and 5.5a are on the upper side in FIG. The even-numbered electrical connections 5.2a and 5.4a are arranged on the lower side in FIG. Similarly, the second electrodes 11.1 to 11.5 are provided with electrical connection portions 11.1a to 11.5a at their ends. However, these directions are arranged in the opposite direction to the odd-numbered ones and even-numbered ones so that it is easy to connect in series with the electrical connection portions 5.1a to 5.5a of the first electrode. Has been made. Specifically, odd-numbered electrical connections 11.1a, 11.3a and 11.5a are arranged on the lower side in FIG. 5, and even-numbered electrical connections 11.2a and 11.4a are shown in FIG. It is arranged on the upper side. In addition, the photoelectric connection elements 5.1a to 5.5a and the electrical connection parts 11.1a to 11.5a are not in contact with the sealing material 19 disposed between the photoelectric conversion elements. Located at the end of the module. Thereby, since an electrical connection part can be ensured widely, the intensity | strength of an electrical connection part can be increased. Moreover, since it becomes unnecessary to make electrical connection and sealing between photoelectric conversion elements compatible, the sealing strength between photoelectric conversion elements can be increased.

そして、電気的接続部11.1aと電気的接続部5.2a、電気的接続部11.2aと電気的接続部5.3a、電気的接続部11.3aと電気的接続部5.4a、電気的接続部11.4aと電気的接続部5.5aとが、それぞれ透光性導電性材料13によって直列に接続されている。電解質注入孔23.1〜23.5は、第2の電極11.1〜11.5の部分に基板21側から穿孔されて形成されている。電解質注入孔23.1〜23.5の封止材25.1〜25.5は、基板21の第2の電極11.1〜11.5が形成されていない側から、電解質注入孔23.1〜23.5を封止する位置に配置されている。なお、図5において、28は外部端子である。   And electrical connection part 11.1a and electrical connection part 5.2a, electrical connection part 11.2a and electrical connection part 5.3a, electrical connection part 11.3a and electrical connection part 5.4a, The electrical connection portion 11.4a and the electrical connection portion 5.5a are connected in series by the translucent conductive material 13, respectively. Electrolyte injection holes 23.1 to 23.5 are formed by being drilled from the substrate 21 side in the portions of the second electrodes 11.1 to 11.5. The sealing materials 25.1 to 25.5 of the electrolyte injection holes 23.1 to 23.5 are arranged on the side of the substrate 21 where the second electrodes 11.1 to 11.5 are not formed. It arrange | positions in the position which seals 1-23.5. In FIG. 5, reference numeral 28 denotes an external terminal.

この第4実施形態の構造では、隣接する光電変換素子の相互間の電気的接続を、光電変換素子の封止材より外側の部分で、透光性導電性材料によって行うので、光電変換素子モジュールの内部で電気的接続を行う場合に比べて複雑な構造でないため高度な作製技術を必要とせず容易に透光性を有する光電変換素子モジュールとすることができる。このとき、電気的接続部は、面積を任意に設定することができ、面積を広くすることによって信頼性の高いモジュールとすることができるが、モジュール全体の面積に占める光電変換素子の面積が小さくなるので、できる限り小さいほうが好ましい。   In the structure of the fourth embodiment, the electrical connection between the adjacent photoelectric conversion elements is performed by the translucent conductive material at the portion outside the sealing material of the photoelectric conversion element. Compared with the case where the electrical connection is made inside, the photoelectric conversion element module having a light-transmitting property can be easily obtained without requiring an advanced manufacturing technique because it is not a complicated structure. At this time, the area of the electrical connection portion can be arbitrarily set, and by increasing the area, a highly reliable module can be obtained, but the area of the photoelectric conversion element occupying the area of the entire module is small. Therefore, the smallest possible is preferable.

本発明の光電変換素子モジュールにおいて、基板3は透光性を有する材料で構成され、通常、この基板3にはガラスやフィルムが使用されるが、透光性を有する樹脂板の使用も可能である。基板3の光透過率は高いほどよく、好ましい光透過率は50%以上であり、より好ましくは80%以上である。また、可撓性のある透明フィルムを基板に用いると、電極の大量生産が容易となり、製造コストの低減を図ることができる。   In the photoelectric conversion element module of the present invention, the substrate 3 is made of a light-transmitting material, and usually glass or film is used for the substrate 3, but a light-transmitting resin plate can also be used. is there. The higher the light transmittance of the substrate 3, the better, and the preferable light transmittance is 50% or more, more preferably 80% or more. In addition, when a flexible transparent film is used for the substrate, mass production of the electrodes is facilitated, and the manufacturing cost can be reduced.

基板3に用いる透明フィルムや透明樹脂板としては、例えば、再生セルロースフィルム、ジアセテートセルロースフィルム、トリアセテートセルロースフィルム、テトラアセチルセルロースフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリエーテルサルフォンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、ポリアリレートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ノルボルネン樹脂フィルム、ポリスチレンフィルム、塩酸ゴムフィルム、ナイロンフィルム、ポリアクリレートフィルム、ポリフッ化ビニルフィルム、ポリ四フッ化エチレンフィルムなどが挙げられる。これらの中でも、特にポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリエーテルサルフォンフィルム、ポリイミドフィルム、ポリアリレートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ノルボルネン樹脂フィルムなどは、強靭でかつ耐熱性に優れていることから好ましい。   Examples of the transparent film or transparent resin plate used for the substrate 3 include a regenerated cellulose film, a diacetate cellulose film, a triacetate cellulose film, a tetraacetyl cellulose film, a polyethylene film, a polypropylene film, a polyvinyl chloride film, a polyvinylidene chloride film, and polyvinyl. Alcohol film, polyethylene terephthalate film, polycarbonate film, polyethylene naphthalate film, polyethersulfone film, polyetheretherketone film, polysulfone film, polyetherimide film, polyimide film, polyarylate film, cycloolefin polymer film, norbornene resin Film, polystyrene film, hydrochloric acid rubber film Nylon film, a polyacrylate film, polyvinyl fluoride films, such as polytetrafluoroethylene film. Among these, polyethylene terephthalate film, polyethylene naphthalate film, polyethersulfone film, polyimide film, polyarylate film, cycloolefin polymer film, norbornene resin film, etc. are particularly preferable because they are tough and excellent in heat resistance. .

基板3の一方の面に形成される第1の電極5.1〜5.5は、各光電変換素子の負極として機能し、基板3上に導電材層を積層することによって形成される。好ましい導電材としては、透明導電性の金属酸化物、例えば、インジウム−錫複合酸化物、アンチモンをドープした酸化錫、フッ素をドープした酸化錫などが挙げられる。この第1の電極5.1〜5.5は、基板3の一方の面に形成されていて、パターニングされたギャップ15.1〜15.6によって仕切られている。このギャップ15.1〜15.6の形成は、パターンに沿って、表面掘削、レーザスクライビング、エッチングなどにより、前記透明導電膜を取り除くことによって行われるが、特にエッチングを採用することが好ましい。このエッチングとしては、例えば、ウェットエッチング、ドライエッチング、電解エッチング、レーザーエッチング、フォトエッチングなどが挙げられるが、特にレーザーエッチングが好ましい。レーザーエッチングはドライでエッチングすることが可能で、ウエットエッチングの場合に必要な、パターンのマスク形成、薬液処理、洗浄、乾燥などの工程を簡素化することが可能である。さらに、レーザーエッチングは前記半導体層7.1〜7.5の形成前でも、形成後でも行うことができ、任意のタイミングでエッチングすることが可能である。   The first electrodes 5.1 to 5.5 formed on one surface of the substrate 3 function as a negative electrode of each photoelectric conversion element, and are formed by laminating a conductive material layer on the substrate 3. Preferable conductive materials include transparent conductive metal oxides such as indium-tin composite oxide, tin oxide doped with antimony, tin oxide doped with fluorine, and the like. The first electrodes 5.1 to 5.5 are formed on one surface of the substrate 3 and are partitioned by patterned gaps 15.1 to 15.6. The gaps 15.1 to 15.6 are formed by removing the transparent conductive film along the pattern by surface excavation, laser scribing, etching, or the like, but it is particularly preferable to employ etching. Examples of the etching include wet etching, dry etching, electrolytic etching, laser etching, and photo etching, and laser etching is particularly preferable. Laser etching can be performed by dry etching, and it is possible to simplify processes such as pattern mask formation, chemical treatment, cleaning, and drying necessary for wet etching. Further, laser etching can be performed before or after the formation of the semiconductor layers 7.1 to 7.5, and can be performed at an arbitrary timing.

第1の電極5.1〜5.5は、表面抵抗が低いほど好ましく、好ましい表面抵抗値は、50Ω/□以下であり、より好ましくは30Ω/□以下である。下限値に特に制限はないが、通常0.1Ω/□以上である。   The first electrodes 5.1 to 5.5 are preferably as low in surface resistance as possible, and a preferable surface resistance value is 50Ω / □ or less, and more preferably 30Ω / □ or less. The lower limit is not particularly limited, but is usually 0.1Ω / □ or more.

また、第1の電極5.1〜5.5は、光透過率が高いほど好ましく、好ましい光透過率値は、50%以上であり、より好ましくは80%以上である。第1の電極5.1〜5.5の厚みは、0.1〜10μmの範囲内にあることが好ましい。この範囲内の厚みであれば、均一な厚みの電極を形成することが容易となり、また、光透過性が低下せず、充分な光を半導体層7.1〜7.5に入射させることができるからである。第1の電極5.1〜5.5が透明な場合は、基板3側から光を入射させることが好ましい。   In addition, the first electrodes 5.1 to 5.5 are more preferable as the light transmittance is higher, and a preferable light transmittance value is 50% or more, and more preferably 80% or more. The thickness of the first electrodes 5.1 to 5.5 is preferably in the range of 0.1 to 10 μm. If the thickness is within this range, it becomes easy to form an electrode having a uniform thickness, and light transmittance is not lowered, and sufficient light can be incident on the semiconductor layers 7.1 to 7.5. Because it can. When the first electrodes 5.1 to 5.5 are transparent, it is preferable that light is incident from the substrate 3 side.

前記第1の電極5.1〜5.5の対電極となる第2の電極11.1〜11.5は、光電変換素子モジュール1の正極として機能し、前記増感色素が担持された半導体層7.1〜7.5が形成される側の第1の電極5.1〜5.5と同様に形成することができる。この第2の電極11.1〜11.5を光電変換素子モジュール1の正極として効率よく作用させるためには、第2の電極11.1〜11.5の形成にあたって、電解質の還元体に電子を与える触媒作用を有する素材を使用することが好ましい。このような素材としては、例えば、白金、金、銀、銅、アルミニウム、ロジウム、インジウムなどの金属、またはグラファイト、白金を担持したカーボン、カーボンナノチューブ、カーボンナノホーンなどのカーボン材料、またはポリチオフェン誘導体(PEDOT)、N、 N−ジ(ナフタレン−1−ニル)−N、 N−ジフェニル−ベンジデン誘導体(NPB)、ポリ[ 2−メトキシ−5−(2' −エチルヘキシルオキシ)−1、 4−フェニレンビニレン] (MEH−PPV)などの導電性高分子材料、またはインジウム−錫複合酸化物、アンチモンをドープした酸化錫、フッ素をドープした酸化錫などの導電性の金属酸化物などが挙げられるが、これらの中でも、白金やポリチオフェン誘導体などが特に好ましい。この第2の電極11.1〜11.5が形成される基板21は、第2の電極11.1〜11.5の形成面側に透明導電膜(図示せず。)を有することもできる。この透明導電膜は、例えば、第1の電極5.1〜5.5の場合と同じ材料から形成することができる。このとき、第2の電極11.1〜11.5は、光電変換素子モジュールの透光性を失わないようできるかぎり薄層化し、透明にすることが好ましい。   The second electrodes 11.1 to 11.5, which are counter electrodes of the first electrodes 5.1 to 5.5, function as a positive electrode of the photoelectric conversion element module 1 and are semiconductors carrying the sensitizing dye. It can be formed in the same manner as the first electrodes 5.1 to 5.5 on the side where the layers 7.1 to 7.5 are formed. In order to efficiently operate the second electrodes 11.1 to 11.5 as the positive electrode of the photoelectric conversion element module 1, in the formation of the second electrodes 11.1 to 11.5, electrons are added to the electrolyte reductant. It is preferable to use a material having a catalytic action to give the. Examples of such a material include metals such as platinum, gold, silver, copper, aluminum, rhodium, and indium, or carbon materials such as graphite, carbon carrying platinum, carbon nanotubes, and carbon nanohorns, or polythiophene derivatives (PEDOT). ), N, N-di (naphthalene-1-nyl) -N, N-diphenyl-benzylidene derivative (NPB), poly [2-methoxy-5- (2′-ethylhexyloxy) -1, 4-phenylene vinylene] (MEH-PPV) conductive polymer materials, or indium-tin composite oxide, antimony-doped tin oxide, fluorine-doped conductive metal oxides such as tin oxide, and the like. Of these, platinum and polythiophene derivatives are particularly preferable. The substrate 21 on which the second electrodes 11.1 to 11.5 are formed can also have a transparent conductive film (not shown) on the formation surface side of the second electrodes 11.1 to 11.5. . This transparent conductive film can be formed from the same material as the case of the first electrodes 5.1 to 5.5, for example. At this time, it is preferable to make the second electrodes 11.1 to 11.5 as thin and transparent as possible so as not to lose the translucency of the photoelectric conversion element module.

この第2の電極11.1〜11.5間を分離するギャップ17.1〜17.6は、パターンに沿って、表面掘削、レーザスクライビング、エッチングなどにより、前記透明導電膜を取り除くことによって形成することができるが、特にエッチングを採用することが好ましい。このエッチングとしては、例えば、ウェットエッチング、ドライエッチング、電解エッチング、レーザーエッチング、フォトエッチングなどが挙げられるが、特にレーザーエッチングが好ましい。レーザーエッチングはドライエッチングすることが可能で、ウェットエッチングの場合に必要な、パターンのマスク形成、薬液処理、洗浄、乾燥などの工程を簡素化することが可能である。また、レーザーエッチングはパターン化されていない第2の電極と透明導電膜とを同時にエッチングすることが可能であり、さらなる工程の簡素化が可能である。例えば、ウェットエッチングは、パターニングされた透明導電膜上に、第2の電極11.1〜11.5として白金を被着するには、前記透明導電膜と同一のパターンのマスクを用いて真空成膜により白金を堆積させたり、塩化白金酸の熱処理で白金粒子を被着したり、めっきしたりする方法を用いることになる。これに対し、レーザーエッチングは前記透明導電膜の一面に白金を被着したのち、これを同時にエッチングしてパターンを形成するとともに第2の電極11.1〜11.5とすることが可能である。   The gaps 17.1 to 17.6 separating the second electrodes 11.1 to 11.5 are formed by removing the transparent conductive film by surface drilling, laser scribing, etching, or the like along the pattern. In particular, it is preferable to employ etching. Examples of the etching include wet etching, dry etching, electrolytic etching, laser etching, and photo etching, and laser etching is particularly preferable. Laser etching can be dry-etched, and can simplify processes such as pattern mask formation, chemical treatment, cleaning, and drying that are necessary for wet etching. In addition, laser etching can simultaneously etch the second electrode and the transparent conductive film that are not patterned, and can further simplify the process. For example, in wet etching, in order to deposit platinum on the patterned transparent conductive film as the second electrodes 11.1 to 11.5, vacuum deposition is performed using a mask having the same pattern as the transparent conductive film. A method of depositing platinum by a film, depositing platinum particles by a heat treatment of chloroplatinic acid, or plating is used. On the other hand, in the laser etching, after platinum is deposited on one surface of the transparent conductive film, it can be simultaneously etched to form a pattern and to form the second electrodes 11.1 to 11.5. .

第2の電極11.1〜11.5を形成する基板21には、基板3と同じ材料を使用することができる。原理的には、不透明な金属などを使用することができるが、光電変換モジュールの透光性が失われてしまうため、透明フィルムや透明ガラスを用いることが好ましい。   The same material as the substrate 3 can be used for the substrate 21 on which the second electrodes 11.1 to 11.5 are formed. In principle, an opaque metal or the like can be used. However, since the translucency of the photoelectric conversion module is lost, it is preferable to use a transparent film or transparent glass.

半導体層7.1〜7.5の形成にあたっては、半導体粒子の分散塗料を公知慣用の方法、例えば、ドクターブレードやバーコータなどを使う塗布方法、スプレー法、ディップコーティング法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、スピンコート法、電着法などにより、第1の電極5.1〜5.5の表面に成膜し、その後、必要に応じて半導体層の固定化処理を行うことが好ましい。その固定化処理法としては、加熱処理や加圧処理などが挙げられる。加熱処理条件としては、電気炉やホットプレート、マイクロ波などによる加熱方式が好ましく、ガラス基板の場合400〜600℃程度、フィルム基板の場合80℃〜250℃程度が好ましい。また、また、加圧処理としては、プレス機やカレンダなどが挙げられ、圧力としては1MPa〜200MPa程度が好ましい。また、半導体層7.1〜7.5のパターンは、半導体層7.1〜7.5が第1の電極5.1〜5.5の表面に形成されるパターンであればよい。   In the formation of the semiconductor layers 7.1 to 7.5, a known method is used to disperse the semiconductor particle dispersion paint, for example, a coating method using a doctor blade or a bar coater, a spray method, a dip coating method, a screen printing method, a gravure printing. It is preferable to form a film on the surface of the first electrodes 5.1 to 5.5 by a method, a spin coating method, an electrodeposition method, and the like, and thereafter, a semiconductor layer is fixed as necessary. Examples of the immobilization method include heat treatment and pressure treatment. As the heat treatment conditions, a heating method using an electric furnace, a hot plate, microwaves, or the like is preferable. Moreover, as a pressurization process, a press machine, a calendar, etc. are mentioned, About 1 MPa-200 MPa are preferable as a pressure. Moreover, the pattern of the semiconductor layers 7.1-7.5 should just be a pattern in which the semiconductor layers 7.1-7.5 are formed in the surface of the 1st electrodes 5.1-5.5.

半導体層7.1〜7.5の厚みは0.1〜100μmの範囲内であることが好ましい。この範囲内であれば、充分な光電変換効果が得られ、また、可視光および近赤外光に対する透過性が悪化することもないからである。半導体層7.1〜7.5の厚みのより好ましい範囲は1〜50μmであり、さらに好ましい範囲は5〜30μmであり、最も好ましい範囲は10〜20μmである。   The thickness of the semiconductor layers 7.1 to 7.5 is preferably in the range of 0.1 to 100 μm. This is because, within this range, a sufficient photoelectric conversion effect can be obtained, and the transmittance for visible light and near infrared light is not deteriorated. The more preferable range of the thickness of the semiconductor layers 7.1 to 7.5 is 1 to 50 μm, the more preferable range is 5 to 30 μm, and the most preferable range is 10 to 20 μm.

上記半導体層7.1〜7.5の形成にあたって使用する半導体材料としては、例えば、Cd、Zn、In、Pb、Mo、W、Sb、Bi、Cu、Hg、Ti、Ag、Mn、Fe、V、Sn、Zr、Sr、Ga、Si、Crなどの金属元素の酸化物、SrTiO3 、CaTiO3 などのペロブスカイト、またはCdS、ZnS、In2 3 、PbS、Mo2 S、WS2 、Sb2 3 、Bi2 3 、ZnCdS2 、Cu2 Sなどの硫化物、CdSe、In2 Se3 、WSe2 、HgS、PbSe、CdTeなどの金属カルコゲナイド、その他GaAs、Si、Se、Cd2 3 、Zn2 3 、InP、AgBr、PbI2 、HgI2 、BiI3 など、または前記半導体材料から選ばれる少なくとも1種類以上を含む複合体、例えば、CdS/TiO2 、CdS/AgI、Ag2 S/AgI、CdS/ZnO、CdS/HgS、CdS/PbS、ZnO/ZnS、ZnO/ZnSe、CdS/HgS、CdSx /CdSe1-x 、CdSx /Te1-x 、CdSex /Te1-x 、ZnS/CdSe、ZnSe/CdSe、CdS/ZnS、TiO2 /Cd3 2 、CdS/CdSeCdy Zn1-y S、CdS/HgS/CdSなどが挙げられる。それらの中でも、TiO2 が、グレッツェル・セルにおいて、電解質中への光溶解の回避と高い光電変換特性を実現できる点で好ましい。 Examples of the semiconductor material used for forming the semiconductor layers 7.1 to 7.5 include Cd, Zn, In, Pb, Mo, W, Sb, Bi, Cu, Hg, Ti, Ag, Mn, Fe, Oxides of metal elements such as V, Sn, Zr, Sr, Ga, Si, Cr, perovskites such as SrTiO 3 , CaTiO 3 , or CdS, ZnS, In 2 S 3 , PbS, Mo 2 S, WS 2 , Sb Sulfides such as 2 S 3 , Bi 2 S 3 , ZnCdS 2 , Cu 2 S, metal chalcogenides such as CdSe, In 2 Se 3 , WSe 2 , HgS, PbSe, CdTe, and others GaAs, Si, Se, Cd 2 P 3 , Zn 2 P 3 , InP, AgBr, PbI 2 , HgI 2 , BiI 3 or the like, or a composite containing at least one selected from the semiconductor materials, for example, CdS / TiO 2 , CdS / AgI, Ag 2 S / AgI, CdS / ZnO, CdS / HgS, CdS / PbS, ZnO / ZnS, ZnO / ZnSe, CdS / HgS, CdS x / CdSe 1-x , CdS x / Te 1- x, CdSe x / Te 1- x, ZnS / CdSe, ZnSe / CdSe, CdS / ZnS, TiO 2 / Cd 3 P 2, CdS / CdSeCd y Zn 1-y S, such as CdS / HgS / CdS, and the like. Among these, TiO 2 is preferable in the Gretzel cell because it can avoid photodissolution in the electrolyte and can realize high photoelectric conversion characteristics.

上記半導体材料は通常粒子形状で用いるが、その際の半導体粒子の粒径は、一般的に5〜1000nmの範囲内であることが好ましい。この範囲内であれば、半導体層7.1〜7.5の細孔径が適切な孔径になり、電解質が半導体層7.1〜7.5の中に充分に浸透して、優れた光電変換特性を得ることができるからである。特に好ましい半導体粒子の粒径の範囲は、10〜100nmである。   Although the said semiconductor material is normally used with a particle shape, it is preferable that the particle size of the semiconductor particle in that case is generally in the range of 5-1000 nm. Within this range, the pore size of the semiconductor layers 7.1 to 7.5 becomes an appropriate pore size, and the electrolyte sufficiently penetrates into the semiconductor layers 7.1 to 7.5, so that excellent photoelectric conversion is achieved. This is because characteristics can be obtained. A particularly preferable range of the particle diameter of the semiconductor particles is 10 to 100 nm.

半導体層7の厚みまたは半導体粒子の粒径を制御することにより、半導体層7のラフネスファクター(基板面積に対する半導体層内部の実面積の割合)を決定することができる。ラフネスファクターは20以上であることが好ましく、150以上であることがより好ましい。この範囲内であれば、増感色素の担持量が充分となり、光電変換特性を向上させることができる。ラフネスファクターの上限値は一般に5000程度である。ラフネスファクターは半導体層7の厚みを厚くすると大きくなって、半導体層7の表面積が広がり、増感色素の担持量の増加が期待できる。しかし、厚みが厚くなりすぎると、半導体層7の光透過率および抵抗損失への影響が現れ始める。   By controlling the thickness of the semiconductor layer 7 or the particle size of the semiconductor particles, the roughness factor of the semiconductor layer 7 (ratio of the actual area inside the semiconductor layer to the substrate area) can be determined. The roughness factor is preferably 20 or more, more preferably 150 or more. If it is in this range, the carrying amount of the sensitizing dye is sufficient, and the photoelectric conversion characteristics can be improved. The upper limit of the roughness factor is generally about 5000. The roughness factor increases as the thickness of the semiconductor layer 7 increases, and the surface area of the semiconductor layer 7 increases, and an increase in the amount of sensitizing dye supported can be expected. However, if the thickness becomes too thick, an influence on the light transmittance and resistance loss of the semiconductor layer 7 starts to appear.

また、半導体層7の形成に界面活性剤やポリエチレングリコール、セルロース系材料などを添加し、半導体層7の加熱処理時にそれらを燃焼することによって半導体層7を多孔質にしたり、半導体粒子の粒径を変更したりすることで半導体層7のポロシティーを高くすれば、厚みを厚くしなくてもラフネスファクターを大きくすることは可能である。しかし、ポロシティーが高くなりすぎると、半導体粒子間の接触面積が減少して抵抗損失への影響を考慮しなくてはならなくなる。このようなことから、半導体層7のポロシティーは50%以上が好ましく、その上限値は一般的に約80%程度である。半導体層7のポロシティーは液体窒素温度下で窒素ガスまたはクリプトンガスの吸着−脱離等温曲線の測定結果から算出することができる。   Further, a surfactant, polyethylene glycol, cellulose-based material or the like is added to the formation of the semiconductor layer 7, and the semiconductor layer 7 is made porous by burning them during the heat treatment of the semiconductor layer 7, or the particle size of the semiconductor particles If the porosity of the semiconductor layer 7 is increased by changing the roughness, it is possible to increase the roughness factor without increasing the thickness. However, if the porosity becomes too high, the contact area between the semiconductor particles decreases, and the influence on the resistance loss must be taken into consideration. For this reason, the porosity of the semiconductor layer 7 is preferably 50% or more, and its upper limit is generally about 80%. The porosity of the semiconductor layer 7 can be calculated from the measurement result of the adsorption-desorption isotherm curve of nitrogen gas or krypton gas at the liquid nitrogen temperature.

増感色素としては、従来からも色素増感性光電変換素子に常用されている色素であればいずれも使用することができる。そのような色素としては、例えば、RuL2 (H2 O)2 タイプのルテニウム−シス−ジアクア−ビピリジル錯体またはルテニウム−トリス(RuL3 )、ルテニウム−ビス(RuL2 )、オスニウム−トリス(OsL3 )、オスニウム−ビス(OsL2 )タイプの遷移金属錯体、または亜鉛−テトラ(4−カルボキシフェニル)ポルフィリン、鉄−ヘキサシアニド錯体、フタロシアニンなどが挙げられる。また、有機色素としては、9−フェニルキサンテン系色素、クマリン系色素、アクリジン系色素、トリフェニルメタン系色素、テトラフェニルメタン系色素、キノン系色素、アゾ系色素、インジゴ系色素、シアニン系色素、メロシアニン系色素、キサンテン系色素などが挙げられる。それらの増感色素の中でも、ルテニウム−ビス(RuL2 )誘導体は、可視光域で広い吸収スペクトルを有するので、特に好ましい。 As the sensitizing dye, any dye that has been conventionally used in dye-sensitized photoelectric conversion elements can be used. Examples of such a dye include a RuL 2 (H 2 O) 2 type ruthenium-cis-diaqua-bipyridyl complex or ruthenium-tris (RuL 3 ), ruthenium-bis (RuL 2 ), osnium-tris (OsL 3). ), Transition metal complexes of the osnium-bis (OsL 2 ) type, or zinc-tetra (4-carboxyphenyl) porphyrin, iron-hexocyanide complex, phthalocyanine, and the like. Examples of organic dyes include 9-phenylxanthene dyes, coumarin dyes, acridine dyes, triphenylmethane dyes, tetraphenylmethane dyes, quinone dyes, azo dyes, indigo dyes, cyanine dyes, Examples include merocyanine dyes and xanthene dyes. Among these sensitizing dyes, ruthenium-bis (RuL 2 ) derivatives are particularly preferable because they have a broad absorption spectrum in the visible light region.

半導体層7.1〜7.5に増感色素を担持させる方法としては、例えば、増感色素を溶解させた溶液に、半導体層7.1〜7.5を形成した第1の電極5.1〜5.5を備えた基板3を浸漬する方法が挙げられる。この溶液の溶媒としては、水、アルコール、トルエン、ジメチルホルムアミドなどの増感色素を溶解可能なものであればいずれも使用できる。また、浸漬方法として、増感色素溶液に半導体層7.1〜7.5を形成した第1の電極5.1〜5.5を有する基板3を一定時間浸漬している時に、加熱還流や超音波を印加することもできる。半導体層7.1〜7.5への増感色素の担持後、担持せずに半導体層7.1〜7.5に残ってしまった増感色素を取り除くために、アルコールで洗浄するかまたは加熱還流することが好ましい。さらに、増感色素が担持されてない半導体粒子の表面を被覆するために、アルコール中にt−ブチルピリジンを溶かしておいてもよい。アルコール中にt−ブチルピリジンが存在すると、半導体粒子と電解質との界面では、増感色素およびt−ブチルピリジンによって半導体粒子の表面と電解質とをセパレートすることができ、漏れ電流を抑制することが可能なので、光電変換素子の特性を著しく向上させることができる。   As a method for supporting the sensitizing dye on the semiconductor layers 7.1 to 7.5, for example, the first electrode 5 in which the semiconductor layers 7.1 to 7.5 are formed in a solution in which the sensitizing dye is dissolved. The method of immersing the board | substrate 3 provided with 1-5.5 is mentioned. Any solvent can be used as the solvent for the solution as long as it can dissolve sensitizing dyes such as water, alcohol, toluene, and dimethylformamide. In addition, as a dipping method, when the substrate 3 having the first electrodes 5.1 to 5.5 in which the semiconductor layers 7.1 to 7.5 are formed in the sensitizing dye solution is dipped for a predetermined time, heating reflux or Ultrasonic waves can also be applied. After the sensitizing dye is supported on the semiconductor layers 7.1 to 7.5, in order to remove the sensitizing dye remaining on the semiconductor layers 7.1 to 7.5 without being supported, it is washed with alcohol or It is preferable to heat to reflux. Furthermore, t-butylpyridine may be dissolved in alcohol in order to coat the surface of the semiconductor particles on which no sensitizing dye is supported. When t-butylpyridine is present in the alcohol, the surface of the semiconductor particles and the electrolyte can be separated by the sensitizing dye and t-butylpyridine at the interface between the semiconductor particles and the electrolyte, thereby suppressing leakage current. Since it is possible, the characteristic of a photoelectric conversion element can be improved significantly.

半導体層への増感色素の担持量としては、1×10-8〜1×10-6mol/cm2 の範囲内が好ましく、特に0.1×10-7〜9.0×10-7mol/cm2 が好ましい。この範囲内であれば、経済的かつ充分に光電変換効率の向上効果を得ることができるからである。 The amount of the sensitizing dye supported on the semiconductor layer is preferably in the range of 1 × 10 −8 to 1 × 10 −6 mol / cm 2 , particularly 0.1 × 10 −7 to 9.0 × 10 −7. Mol / cm 2 is preferred. This is because, within this range, the effect of improving the photoelectric conversion efficiency can be obtained economically and sufficiently.

本発明の光電変換素子モジュールにおける電解質9.1〜9.5を構成するために使用される電解物質としては、酸化体と還元体からなる一対の酸化還元系構成物質が含まれていれば特にその種類は限定されないが、酸化体と還元体が同一電荷を持つ酸化還元系構成物質が好ましい。この明細書における酸化還元系構成物質とは、酸化還元反応において可逆的に酸化体および還元体の形で存在する一対の物質を意味する。このような酸化還元系構成物質としては、例えば、塩素化合物−塩素、ヨウ素化合物−ヨウ素、臭素化合物−臭素、タリウムイオン(III) −タリウムイオン(I)、水銀イオン(II)−水銀イオン(I)、ルテニウムイオン(III) −ルテニウムイオン(II)、銅イオン(II)−銅イオン(I)、鉄イオン(III) −鉄イオン(II)、バナジウムイオン(III) −バナジウムイオン(II)、マンガン酸イオン−過マンガン酸イオン、フェリシアン化物−フェロシアン化物、キノン−ヒドロキノン、フマル酸−コハク酸などが挙げられるが、それら中でも、ヨウ素化合物−ヨウ素が好ましい。上記ヨウ素化合物としては、例えば、ヨウ化リチウム、ヨウ化カリウムなどの金属ヨウ化物、テトラアルキルアンモニウムヨージド、ピリジニウムヨージドなどのヨウ化4級アンモニウム塩化合物、ヨウ化ジメチルプロピルイミダゾリウムなどのヨウ化イミダゾリウム化合物が特に好ましい。   As an electrolytic substance used for constituting the electrolytes 9.1 to 9.5 in the photoelectric conversion element module of the present invention, in particular, as long as a pair of redox constituents composed of an oxidant and a reductant are included. Although the kind is not limited, the oxidation-reduction type | system | group constituent material in which an oxidant and a reductant have the same electric charge is preferable. In this specification, the redox-system constituent substance means a pair of substances that exist reversibly in the form of an oxidized form and a reduced form in a redox reaction. Examples of such a redox component include chlorine compound-chlorine, iodine compound-iodine, bromine compound-bromine, thallium ion (III) -thallium ion (I), mercury ion (II) -mercury ion (I ), Ruthenium ion (III) -ruthenium ion (II), copper ion (II) -copper ion (I), iron ion (III) -iron ion (II), vanadium ion (III) -vanadium ion (II), Manganate ion-permanganate ion, ferricyanide-ferrocyanide, quinone-hydroquinone, fumaric acid-succinic acid and the like can be mentioned, among which iodine compound-iodine is preferable. Examples of the iodine compound include metal iodides such as lithium iodide and potassium iodide, quaternary ammonium salt compounds such as tetraalkylammonium iodide and pyridinium iodide, and iodides such as dimethylpropylimidazolium iodide. Particularly preferred are imidazolium compounds.

電解質は、通常、電解物質を溶媒中に溶解させることによって調製されるが、その電解物質を溶解するための溶媒としては、水性溶媒、有機溶媒のいずれも使用できるが、酸化還元系構成物質などの電解物質をより安定化させるため、有機溶媒が好ましい。この有機溶媒としては、例えば、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、メチルエチルカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなどのカーボネート化合物、酢酸メチル、プロピオン酸メチル、γ−ブチロラクトンなどのエステル化合物、ジエチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、1,3−ジオキソシラン、テトラヒドロフラン、2−メチル−テトラヒドラフランなどのエーテル化合物、3−メチル−2−オキサゾジリノン、2−メチルピロリドンなどの複素環化合物、アセトニトリル、メトキシアセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル化合物、スルフォラン、ジジメチルスルフォキシド、ジメチルフォルムアミドなどの非プロトン性極性化合物などが挙げられる。これらはそれぞれ単独で用いることもできるし、また、2種類以上を混合して併用することもできるが、それらの中でも、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなどのカーボネ−ト化合物、3−メチル−2−オキサゾジリノン、2−メチルピロリドンなどの複素環化合物、アセトニトリル、メトキシアセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル化合物が特に好ましい。電解質は、液状のものに限られることなく、他の形態のものも用いることができるが、例えば、液状の電解質を高分子マトリックスに保持させてゲル状にした状態で用いてもよい。そのような高分子マトリックスとしては、フッ化ビニリデン、ヘキサフロロプロピレン、テトラフロロエチレン、トリフロロエチレン、エチレン、プロピレン、アクリロニトリル、塩化ビニリデン、メチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルメタクリレート、スチレンなどの重合性モノマーを単独で重合させた単独重合体またはそれらのモノマーを2種以上共重合させた共重合体などを用いることができる。   The electrolyte is usually prepared by dissolving an electrolytic substance in a solvent. As the solvent for dissolving the electrolytic substance, either an aqueous solvent or an organic solvent can be used. In order to further stabilize the electrolytic substance, an organic solvent is preferable. Examples of the organic solvent include carbonate compounds such as dimethyl carbonate, diethyl carbonate, methyl ethyl carbonate, ethylene carbonate, and propylene carbonate, ester compounds such as methyl acetate, methyl propionate, and γ-butyrolactone, diethyl ether, 1,2- Ether compounds such as dimethoxyethane, 1,3-dioxosilane, tetrahydrofuran and 2-methyl-tetrahydrafuran, heterocyclic compounds such as 3-methyl-2-oxazodilinone and 2-methylpyrrolidone, acetonitrile, methoxyacetonitrile, propionitrile, etc. Aprotic polar compounds such as nitrile compounds, sulfolane, didimethyl sulfoxide and dimethylformamide. Each of these can be used alone or in combination of two or more. Among them, carbonate compounds such as ethylene carbonate and propylene carbonate, 3-methyl-2-oxazozirinone Particularly preferred are heterocyclic compounds such as 2-methylpyrrolidone, and nitrile compounds such as acetonitrile, methoxyacetonitrile and propionitrile. The electrolyte is not limited to a liquid one but may be in other forms. For example, the electrolyte may be used in a gel state by holding a liquid electrolyte in a polymer matrix. As such a polymer matrix, polymerizable monomers such as vinylidene fluoride, hexafluoropropylene, tetrafluoroethylene, trifluoroethylene, ethylene, propylene, acrylonitrile, vinylidene chloride, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, and styrene are used. A homopolymer obtained by polymerizing alone or a copolymer obtained by copolymerizing two or more of these monomers can be used.

封止材19を構成する基材物質としては、例えば、シリコーン樹脂、ポリオレフィン、ブチルゴム、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン・α−オレフィン共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−メタアクリル酸共重合体、低密度ポリエチレン、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、アイオノマー樹脂のほか、ポリスチレン系、ポリオレフィン系、ポリジエン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、フッ素樹脂系、ポリアミド系のエラストマーなどから選ばれる少なくとも1種を用いることができるが、それらの中でも、シリコーン樹脂、アイオノマー樹脂、エポキシ樹脂、オレフィン樹脂、ブチルゴム、フッ素を含む樹脂などが好ましい。また、電解質溶媒としてニトリル系溶媒、カーボネート系溶媒を使用する場合には、それらの溶媒と相溶性の低い、シリコーン樹脂、アイオノマー樹脂、オレフィン樹脂、熱硬化性オレフィン樹脂が好ましい。これは光電変換素子モジュールの最終形態を考慮し本部位に透光性が必要であるかどうかを適宜判断し選定される。   Examples of the base material constituting the sealing material 19 include silicone resin, polyolefin, butyl rubber, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene / α-olefin copolymer, ethylene-methyl acrylate copolymer, ethylene- Ethyl acrylate copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, low density polyethylene, acrylic resin, silicone resin, ionomer resin, polystyrene, polyolefin, polydiene, At least one selected from polyester-based, polyurethane-based, fluororesin-based, polyamide-based elastomers and the like can be used. Among them, silicone resin, ionomer resin, epoxy resin, olefin resin, butyl rubber, resin containing fluorine Etc. are preferable. Further, when a nitrile solvent or a carbonate solvent is used as the electrolyte solvent, a silicone resin, an ionomer resin, an olefin resin, or a thermosetting olefin resin having low compatibility with these solvents is preferable. In consideration of the final form of the photoelectric conversion element module, this is selected by appropriately determining whether or not this part needs translucency.

また、封止材19には、それらの耐候性を向上させるために、架橋剤、紫外線吸収剤などを適宜混合することができる。   Moreover, in order to improve those weather resistance, the sealing material 19 can be mixed with a crosslinking agent, a ultraviolet absorber, etc. suitably.

さらに、封止材19には、基板3、基板21、第1の電極(透明電極)5.1〜5.5および第2の電極(対電極)11.1〜11.5との接着力を高めるためにシランカップリング剤やチタネートカップリング剤などを添加してもよい。また、あらかじめ基板3、基板21、第1の電極(透明電極)5.1〜5.5および第2の電極(対電極)11.1〜11.5に、ウエット洗浄、ケミカル洗浄、プラズマ処理、オゾン処理、紫外線照射処理、超音波処理、表面研磨処理など行い、その表面の洗浄や表面の活性化を行ってもよい。   Further, the sealing material 19 has an adhesive force to the substrate 3, the substrate 21, the first electrodes (transparent electrodes) 5.1 to 5.5, and the second electrodes (counter electrodes) 11.1 to 11.5. A silane coupling agent, a titanate coupling agent, etc. may be added in order to improve this. Further, the substrate 3, the substrate 21, the first electrode (transparent electrode) 5.1 to 5.5, and the second electrode (counter electrode) 11.1 to 11.5 are preliminarily wet-cleaned, chemically cleaned, and plasma-treated. Further, ozone treatment, ultraviolet irradiation treatment, ultrasonic treatment, surface polishing treatment, etc. may be performed to clean the surface or activate the surface.

また、封止材19には、耐候性を向上させるために、架橋剤、紫外線吸収剤などを適宜混合することができる。   Moreover, in order to improve a weather resistance, a crosslinking agent, a ultraviolet absorber, etc. can be mixed with the sealing material 19 suitably.

また、封止材19中には、第1の電極(透明電極)5.1〜5.5と第2の電極(対電極)11.1〜11.5の電極間距離を規制するためのスペーサーを存在させることが好ましい。そのような目的で用いられるスペーサーとしては、一般にスペーサーとして用いられている公知の絶縁性樹脂ボール、ガラスビーズ、ガラスファイバーなどから適宜選択することができる。また、その粒径は、0.1〜300μmであることが好ましく、1〜100μmであることがより好ましい。   Further, in the sealing material 19, the distance between the electrodes of the first electrodes (transparent electrodes) 5.1 to 5.5 and the second electrodes (counter electrodes) 11.1 to 11.5 is regulated. It is preferred to have a spacer present. The spacer used for such a purpose can be appropriately selected from known insulating resin balls, glass beads, glass fibers and the like generally used as spacers. Moreover, it is preferable that the particle size is 0.1-300 micrometers, and it is more preferable that it is 1-100 micrometers.

封止材19のパターンは、シリコーン樹脂やエポキシ樹脂を使用する場合、ディスペンサーやスクリーン印刷などの既知の手法によって形成することができる。また、ホットメルト樹脂を使用する場合は、シート状のホットメルト樹脂にパターニングした孔を穿けて、封止パターンを形成することができる。   When using a silicone resin or an epoxy resin, the pattern of the sealing material 19 can be formed by a known method such as a dispenser or screen printing. Moreover, when using hot melt resin, the hole patterned in the sheet-like hot melt resin can be made, and a sealing pattern can be formed.

さらに、封止材19の周囲を、樹脂、金属、ガラスなどで補強することによって、二重封止とすることで、光電変換素子モジュールの強度と長期信頼性とを向上させることが可能である。そのような樹脂としては、アクリレートスチレンアクリロニトリル共重合体(AAS)、アクリロニトリルブタジエンスチレン共重合体(ABS)塩素化ポリエチレンアクリロニトリルスチレン共重合体(ACS)アクリル酸エステル共重合体、オレフィンビニルアルコール共重合体、アクリル系樹脂、アルキッド樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ビスマレイミドトリアジン樹脂(BT)、セルロース、塩素化ポリエーテル、クマロン樹脂、塩素化ポリエチレン、アリル樹脂、エチレン−α−オレフィン共重合体、エチレン−酢ビ−塩ビ共重合体、エチレン−塩化ビニル共重合体、エポキシ樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−メタアクリル酸共重合体、線状低密度ポリエチレン、ケトン樹脂、メタクリル酸ブタジエンスチレン共重合体(MBS)、メタクリル−スチレン共重合体(MS)、ニトリル樹脂、オキシベンイルポリエステル、脂肪族炭化水素樹脂、芳香族炭化水素樹脂、テルペン樹脂、フェノール樹脂(PF)、ポリアセタール(POM)、ポリアミド(ナイロン)、ポリアミドイミド(PAI)、ポリアリレート(PAR)、ポリアリルスルホン(PASF)、ポリブタジエン、ポリブチレン、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン(PESF)、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリナフタレンテレフタレート(PEN)、アイオノマー樹脂、ポリイミド(PI)、ポリアミノビスマレイミド(PABM)、メタクリル樹脂(PMMA)、ポリメチルペンテン、ポリプロピレン、ポリフェニレンオキシド(PPO)、ポリフェニレンスルフィド(PPS)、ポリフェニレンスルホン、ポリスルホン(PSF)、ポリスチレン(PS)、スチレンアクリロニトリル樹脂(SAN)、スチレン共重合体、ブタジエン−スチレン樹脂、ポリウレタン(PUR)、ビニルアセテート系樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリ塩化ビニリデン(PVDC)、シリコーン樹脂(SI)、熱硬化オレフィン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、キシレン樹脂、シンジオタクチックポリスチレン、アラミドアラミド系強化繊維、ポリアミノアミド系樹脂、フッ素を含む樹脂、またはそれらの変成物やガラス強化物など、その他にポリスチレン系、ポリオレフィン系、ポリジエン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、フッ素樹脂系、ポリアミド系のエラストマーなどを使用することができ、それらの中から被着面の材質に応じて適宜選択して使用することができる。これは光電変換素子モジュールの最終形態を考慮し本部位に透光性が必要であるかどうかを適宜判断し選定される。特に、経済性、強度、耐衝撃性、被着面との接着力、取り扱いの容易さから、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、アイオノマー樹脂、オレフィン樹脂、フッ素を含む樹脂などを用いることが好ましい。   Furthermore, the strength and long-term reliability of the photoelectric conversion element module can be improved by providing double sealing by reinforcing the periphery of the sealing material 19 with resin, metal, glass, or the like. . Examples of such resins include acrylate styrene acrylonitrile copolymer (AAS), acrylonitrile butadiene styrene copolymer (ABS), chlorinated polyethylene acrylonitrile styrene copolymer (ACS) acrylate copolymer, and olefin vinyl alcohol copolymer. , Acrylic resin, alkyd resin, urea resin, melamine resin, benzoguanamine resin, bismaleimide triazine resin (BT), cellulose, chlorinated polyether, coumarone resin, chlorinated polyethylene, allyl resin, ethylene-α-olefin copolymer , Ethylene-vinyl acetate-vinyl chloride copolymer, ethylene-vinyl chloride copolymer, epoxy resin, ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), ethylene-methyl acrylate copolymer, ethylene-ethyl acrylate copolymer , Ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, linear low density polyethylene, ketone resin, methacrylic acid butadiene styrene copolymer (MBS), methacrylic styrene copolymer (MS), nitrile Resin, oxybenyl polyester, aliphatic hydrocarbon resin, aromatic hydrocarbon resin, terpene resin, phenol resin (PF), polyacetal (POM), polyamide (nylon), polyamideimide (PAI), polyarylate (PAR), Polyallylsulfone (PASF), polybutadiene, polybutylene, polycarbonate resin, polyethersulfone (PESF), polyethylene, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polynaphthalene terephthalate (PEN), polyester Ionomer resin, polyimide (PI), polyaminobismaleimide (PABM), methacrylic resin (PMMA), polymethylpentene, polypropylene, polyphenylene oxide (PPO), polyphenylene sulfide (PPS), polyphenylene sulfone, polysulfone (PSF), polystyrene (PS) ), Styrene acrylonitrile resin (SAN), styrene copolymer, butadiene-styrene resin, polyurethane (PUR), vinyl acetate resin, polyvinyl acetal, polyvinyl alcohol (PVA), polyvinyl chloride (PVC), polyvinylidene chloride (PVDC) ), Silicone resin (SI), thermosetting olefin resin, unsaturated polyester resin, xylene resin, syndiotactic polystyrene, aramid aramid reinforcing fiber, Use reaminoamide resins, fluorine-containing resins, modified products thereof, glass reinforced products, etc., as well as polystyrene, polyolefin, polydiene, polyester, polyurethane, fluororesin, and polyamide elastomers. Among them, it can be used by appropriately selecting them according to the material of the adherend surface. In consideration of the final form of the photoelectric conversion element module, this is selected by appropriately determining whether or not this part needs translucency. In particular, it is preferable to use an epoxy resin, an acrylic resin, an ionomer resin, an olefin resin, a fluorine-containing resin, or the like from the viewpoints of economy, strength, impact resistance, adhesion strength to the adherend surface, and ease of handling.

電解質注入孔23.1〜23.5は、第2の電極11.1〜11.5の部分に基板21側から穿孔されて形成されている。電解質注入孔23.1〜23.5は、電解質を半導体層7.1〜7.5と対電極11.1〜11.5との間に注入するために設けられる。電解質注入孔23.1〜23.5は、少なくとも1つの空孔が基板21から穿孔されていればよいが、注入量が多い場合などは、適宜注入孔の数を増やしてもよい。ここで電解質注入孔23.1〜23.5は基板21の垂直方向となっているが、封止材19を穿孔するなどして水平方向に設けることも可能である。   Electrolyte injection holes 23.1 to 23.5 are formed by being drilled from the substrate 21 side in the portions of the second electrodes 11.1 to 11.5. Electrolyte injection holes 23.1 to 23.5 are provided in order to inject an electrolyte between semiconductor layers 7.1 to 7.5 and counter electrodes 11.1 to 11.5. The electrolyte injection holes 23.1 to 23.5 need only have at least one hole drilled from the substrate 21. However, when the injection amount is large, the number of injection holes may be appropriately increased. Here, the electrolyte injection holes 23.1 to 23.5 are in the vertical direction of the substrate 21;

電解質注入孔23.1〜23.5の封止材25.1〜25.5は、基板21の外側から電解質注入孔23.1〜23.5を封止する位置に配置されている。このような封止材25.1〜25.5としては、例えば、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ホットメルト樹脂、ガラスなどを用いることが好ましい。電解質注入孔23.1〜23.5は電解質の注入後に封止しなければならないので、短時間で封止できるようなシリコーン粘着テープやアイオノマー樹脂の熱融着による封止が好ましい。さらに、電解質注入孔23.1〜23.5の封止強度を高めるために、シリコーン粘着テープや熱融着されたアイオノマー樹脂を覆うように、エポキシ樹脂や紫外線硬化樹脂、ガラスを配置することがより好ましい。これは光電変換素子モジュールの最終形態を考慮し本部位に透光性が必要であるかどうかを適宜判断し選定される。   The sealing materials 25.1 to 25.5 of the electrolyte injection holes 23.1 to 23.5 are arranged at positions for sealing the electrolyte injection holes 23.1 to 23.5 from the outside of the substrate 21. As such a sealing material 25.1 to 25.5, it is preferable to use, for example, a silicone resin, an epoxy resin, a hot melt resin, glass, or the like. Since the electrolyte injection holes 23.1 to 23.5 must be sealed after the electrolyte is injected, it is preferable to seal the silicone adhesive tape or ionomer resin by heat fusion so that the electrolyte can be sealed in a short time. Furthermore, in order to increase the sealing strength of the electrolyte injection holes 23.1 to 23.5, it is possible to arrange an epoxy resin, an ultraviolet curable resin, or glass so as to cover the silicone adhesive tape or the thermally fused ionomer resin. More preferred. In consideration of the final form of the photoelectric conversion element module, this is selected by appropriately determining whether or not this part needs translucency.

外部端子28は光電変換素子から電力を取り出すために設置される。外部端子28は任意に接続可能であり、光電変換素子や光電変換素子モジュール同士の直列または並列接続や外部回路と接続する。これは、導電箔、導線、導電テープ、導電メッシュ、導電塗料などから選択された少なくとも1種で形成されていることが好ましく、第1の電極5.1〜5.5および対電極11.1〜11.5との接続は金属導体とそれらをカバーする異方導電性材料、導電塗料、真空成膜、はんだ付けなどから構成される。これは光電変換素子モジュールの最終形態を考慮し本部位に透光性が必要であるかどうかを適宜判断し選定される。   The external terminal 28 is installed for taking out electric power from the photoelectric conversion element. The external terminal 28 can be arbitrarily connected, and is connected to a series or parallel connection of photoelectric conversion elements and photoelectric conversion element modules or to an external circuit. This is preferably formed of at least one selected from a conductive foil, a conductive wire, a conductive tape, a conductive mesh, a conductive paint, and the like. The first electrodes 5.1 to 5.5 and the counter electrode 11.1 The connection to ˜11.5 includes a metal conductor and an anisotropic conductive material covering the metal conductor, a conductive paint, vacuum film formation, and soldering. In consideration of the final form of the photoelectric conversion element module, this is selected by appropriately determining whether or not this part needs translucency.

本発明の光電変換素子モジュールはフッ素を含む樹脂で覆うことができる(図示せず)。これにより、光電変換素子モジュールの強度を向上させたり耐衝撃性を向上させることができる。このフッ素を含む樹脂は、モジュールの最外層に使用することから、水蒸気などのガスバリヤー性、透明性、強度、耐候性に優れていることが好ましい。   The photoelectric conversion element module of the present invention can be covered with a resin containing fluorine (not shown). Thereby, the intensity | strength of a photoelectric conversion element module can be improved or impact resistance can be improved. Since this fluorine-containing resin is used in the outermost layer of the module, it is preferable that the resin has excellent gas barrier properties such as water vapor, transparency, strength, and weather resistance.

前記フッ素を含む樹脂としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、四フッ化エチレン−エチレン共重合体(ETFE)、三フッ化塩化エチレン(PCTFE)、四フッ化エチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)、四フッ化エチレン−六フッ化プロピレン共重合体(FEP)、フッ化ビニリデン樹脂(PVDF)、フッ化ビニル樹脂(PVF)などが挙げられる。これらは通常フィルムにして用いられる。その際、いずれかの樹脂からなる単独フィルムとして用いてもよく、また、2種以上を積層した積層フィルムとして用いてもよい。また、2種以上を積層した積層フィルムは、耐候性透明フィルムにフッ素樹脂塗料を塗布することによって積層されたフィルムであってもよい。また、それらの耐候性を向上させるために、架橋剤、紫外線吸収剤、カップリング剤などを前記樹脂に適宜混合して使用することもできる。   Examples of the fluorine-containing resin include polytetrafluoroethylene (PTFE), tetrafluoroethylene-ethylene copolymer (ETFE), ethylene trifluoride chloride (PCTFE), and tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether. Examples thereof include a polymer (PFA), a tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer (FEP), a vinylidene fluoride resin (PVDF), and a vinyl fluoride resin (PVF). These are usually used as a film. In that case, you may use as a single film which consists of either resin, and may be used as a laminated film which laminated | stacked 2 or more types. Moreover, the laminated film which laminated | stacked 2 or more types may be the film laminated | stacked by apply | coating a fluororesin coating material to a weather resistant transparent film. In addition, in order to improve the weather resistance, a crosslinking agent, an ultraviolet absorber, a coupling agent and the like can be appropriately mixed and used in the resin.

前記2種以上を積層した積層フィルムに用いられる耐候性透明フィルムとしては、例えば、ポリカーボネートフィルム、ポリアリレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリサルホンフィルム、ポリアクリロニトリルフィルム、セルロースアセテートフィルム、アクリル樹脂フィルム、耐候性ポリエチレンテレフタレートフィルム、耐候性ポリプロピレンフィルム、ガラス繊維強化ポリエステルフィルム、ガラス繊維強化アクリル樹脂フィルム、ガラス繊維強化ポリカーボネートフィルムなどを使用することができる。   Examples of the weather-resistant transparent film used for the laminated film in which two or more kinds are laminated include, for example, polycarbonate film, polyarylate film, polyethersulfone film, polysulfone film, polyacrylonitrile film, cellulose acetate film, acrylic resin film, weather resistance A polyethylene terephthalate film, a weather resistant polypropylene film, a glass fiber reinforced polyester film, a glass fiber reinforced acrylic resin film, a glass fiber reinforced polycarbonate film, or the like can be used.

前記2種以上を積層した積層フィルムに用いられる耐候性透明フィルムとしては、接着性、透明性、耐候性などのほか、充填材としての機能も備えたアクリル系接着剤、エポキシ樹脂、ホットメルト樹脂などの接着剤をフィルム状にして用いることも可能である。中でも、熱流動性に優れたホットメルト樹脂を必要な厚さで用いることが、性能、生産性、経済性などの点で好ましい。   The weather-resistant transparent film used for the laminated film in which two or more kinds are laminated is an adhesive, transparency, weather resistance, acrylic adhesive, epoxy resin, hot melt resin that also has a function as a filler. It is also possible to use an adhesive such as a film. Among them, it is preferable to use a hot melt resin having excellent heat fluidity at a necessary thickness in terms of performance, productivity, economy, and the like.

このようなホットメルト樹脂としては、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−α−オレフィン共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−メタアクリル酸共重合体、線状低密度ポリエチレン、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、アイオノマー樹脂のほか、ポリスチレン系、ポリオレフィン系、ポリジエン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、フッ素樹脂系、ポリアミド系のエラストマーなどを使用することができ、それらの中から、被着面の材質に応じて適宜選択して使用することができる。   Such hot melt resins include ethylene-vinyl acetate copolymers, ethylene-α-olefin copolymers, ethylene-methyl acrylate copolymers, ethylene-ethyl acrylate copolymers, ethylene-acrylic acid copolymers. Polymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, linear low density polyethylene, acrylic resin, silicone resin, ionomer resin, polystyrene, polyolefin, polydiene, polyester, polyurethane, fluororesin, polyamide An elastomer of a system can be used, and among them, it can be appropriately selected and used according to the material of the adherend surface.

また、前記フッ素を含む樹脂の耐候性をさらに向上させるために、光酸化安定剤、紫外線吸収剤、光安定剤を添加することができる。例えば、紫外線吸収剤としては無機微粒子が好適であり、例えばTiO2などの微粒子を用いることができる。さらに、水蒸気その他のガスバリヤー性を向上させたい場合は、それらの樹脂からなるフィルムに酸化珪素、酸化アルミニウムなどの無機酸化物の蒸着層を設けることもできる。このとき、透光性を損なわないよう注意することが必要である。 In order to further improve the weather resistance of the resin containing fluorine, a photooxidation stabilizer, an ultraviolet absorber, and a light stabilizer can be added. For example, inorganic fine particles are suitable as the ultraviolet absorber, and fine particles such as TiO 2 can be used. Furthermore, when it is desired to improve the gas barrier properties such as water vapor, a vapor deposition layer of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide can be provided on a film made of such a resin. At this time, it is necessary to be careful not to impair the translucency.

光電変換素子をフッ素を含む樹脂で覆う方法としては、性能、生産性、経済性などの観点から真空ラミネート法が好ましい。真空ラミネート法の採用によって太陽電池モジュール内に空気を含ませることなく樹脂で覆うことができる。   As a method of covering the photoelectric conversion element with a resin containing fluorine, a vacuum laminating method is preferable from the viewpoints of performance, productivity, economy, and the like. By adopting the vacuum laminating method, the solar cell module can be covered with resin without including air.

前記フッ素を含む樹脂フィルムは、その表面またはその内面側に、光反射防止のための微細な凹凸加工、あるいは、金属化合物または金属の薄膜形成加工をすることができる。これによりフィルムで反射される光を少なくすることができるので、外部から入射する光を有効に利用することができ、太陽電池モジュールの発電効率のアップに寄与できる。前記微細な凹凸加工は、エンボス加工や紫外線硬化性樹脂によるコーティングなどによって行うことが好ましい。また、金属化合物の薄膜形成加工は、MgF2 、ZnS、SnO2 、Cr2 3 などの微粒子を用いた薄膜コートによって行うことが好ましい。さらに、金属を用いる場合は、Alなどを透明性を損なわない程度に薄く蒸着することによって加工できる。 The fluorine-containing resin film can be subjected to fine unevenness processing for preventing light reflection or metal compound or metal thin film formation processing on the surface or the inner surface side thereof. Thereby, since the light reflected by the film can be reduced, the light incident from the outside can be used effectively, and the power generation efficiency of the solar cell module can be increased. The fine asperity processing is preferably performed by embossing or coating with an ultraviolet curable resin. The thin-film formation process of the metal compound, MgF 2, ZnS, is preferably performed by a thin film coated with fine particles such as SnO 2, Cr 2 O 3. Furthermore, when using a metal, it can process by vapor-depositing Al etc. thinly to such an extent that transparency is not impaired.

なお、前記第1の電極および前記第2の電極から選ばれる少なくとも1つは、合成樹脂フィルムからなる基板上に形成されていてもよい。これは基板を合成樹脂フィルムで構成しておくと、基板が可撓性を有するため電極の大量生産が容易となり、製造コストの低減を図ることができるからである。   Note that at least one selected from the first electrode and the second electrode may be formed on a substrate made of a synthetic resin film. This is because if the substrate is made of a synthetic resin film, the substrate is flexible, so that mass production of electrodes is facilitated, and manufacturing costs can be reduced.

次に、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、実施例に先立ち、以下の実施例や比較例において隣接する光電変換素子の電極間を接続するのに使用する導電性材料の550nmの透過性および異方導電性を調べた結果を参考例1として示す。   Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples. Prior to the examples, the results of investigating the 550 nm transparency and anisotropic conductivity of the conductive material used to connect the electrodes of the adjacent photoelectric conversion elements in the following examples and comparative examples are reference examples. Shown as 1.

参考例1
透明絶縁性材料に導電性粒子を後記の表1に示す添加量となるように添加し、混練と真空脱法を繰り返し行い均一分散と気泡の除去を行って透光性導電性材料を調製した。上記導電性粒子としては東邦チタニウム社製のTi粒子" TC450" (商品名、平均粒径45μm)を用い、透明絶縁性材料としては、コニシ社製の熱硬化型エポキシ樹脂" Eセット" (二液混合型)と、スリーボンド社製の熱硬化性オレフィン樹脂" Three Bond1152" (商品名、一液加熱硬化性オレフィン樹脂)をそれぞれ別々に用いた。また、比較用に不透光な絶縁性材料である、東レ・ダウコーニング・シリコーン社製のシリコーン接着剤" SE737" (商品名、水分硬化型)を用い、この不透光性絶縁性材料に前記導電性粒子を後記の表1に示す添加量となるように添加し、前記と同様に均一分散と気泡の除去を行って導電性材料を調製した。
Reference example 1
Conductive particles were added to the transparent insulating material so as to have an addition amount shown in Table 1 below, and kneading and vacuum degassing were repeated to uniformly disperse and remove bubbles to prepare a translucent conductive material. Ti particles “TC450” (trade name, average particle size 45 μm) manufactured by Toho Titanium Co., Ltd. are used as the conductive particles, and a thermosetting epoxy resin “E Set” manufactured by Konishi Co., Ltd. is used as the transparent insulating material. Liquid-mixed type) and a thermosetting olefin resin “Three Bond 1152” (trade name, one-component heat-curable olefin resin) manufactured by ThreeBond Co., Ltd. were used separately. In addition, a silicone adhesive “SE737” (trade name, moisture-curing type) manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd., which is a non-translucent insulating material for comparison, is used for this translucent insulating material. The conductive particles were added so as to have an addition amount shown in Table 1 below, and a conductive material was prepared by uniformly dispersing and removing bubbles in the same manner as described above.

次に、旭硝子社製の導電性ガラス板" F−SnO2"(商品名、フッ素がドープされたSnO2 を表面にコーティングして導電性を付与した透明導電膜付きガラス板、表面抵抗10Ω/□、厚さ1mm)を2枚用い、それらの透明導電膜を有する面が内側になるようにして上記導電性材料を挟み、加圧した後、それぞれの樹脂材料のメーカー推奨条件で硬化することによって透過率と異方導電性測定用のサンプルを作製した。2枚の導電性ガラス間の間隔は導電性粒子であるTi粒子" TC450" で規制した。 Next, a conductive glass plate “F-SnO 2 ” manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. (trade name, a glass plate with a transparent conductive film provided with conductivity by coating SnO 2 doped with fluorine on the surface, a surface resistance of 10Ω / □, thickness of 1 mm), sandwich the conductive material with the transparent conductive film facing inside, pressurize, and then cure under the conditions recommended by the manufacturer of each resin material A sample for measuring transmittance and anisotropic conductivity was prepared. The interval between the two conductive glasses was regulated by Ti particles “TC450” which are conductive particles.

上記サンプルの透過率の測定には、日本分光株式会社製の“V570”(紫外可視分光光度計)を使用した。   For measurement of the transmittance of the sample, “V570” (ultraviolet visible spectrophotometer) manufactured by JASCO Corporation was used.

異方導電性の測定にあたっては、導電性ガラスの透明導電膜を直線状に除去して透明導電膜を分割した。その除去にあたっては、除去する以外の部分を除いてマスキングテープによりマスクした後、酸化亜鉛粉末と10質量%の塩酸水溶液とを作用させてマスクされていない透明導電膜をエッチング処理して除去した。直線状に除去した部分に対して直角に前記導電性材料を塗布しスライドガラスを押し当て、加圧し、それぞれの樹脂材料のメーカー推奨条件で硬化させた。導電性ガラスとスライドガラスとの間隔は前記のTi粒子" TC450" で規制した。そして、異方導電性の測定は、分割された透明導電膜の両端をテスターで測定することによって行った。   In measuring the anisotropic conductivity, the transparent conductive film of conductive glass was removed in a straight line to divide the transparent conductive film. In the removal, after masking with a masking tape except for a portion other than the portion to be removed, the unmasked transparent conductive film was removed by etching using a zinc oxide powder and a 10% by mass hydrochloric acid aqueous solution. The conductive material was applied perpendicularly to the portion removed in a straight line, pressed with a slide glass, pressurized, and cured under the conditions recommended by the manufacturer of each resin material. The interval between the conductive glass and the slide glass was regulated by the Ti particles “TC450”. And the anisotropic conductivity was measured by measuring both ends of the divided transparent conductive film with a tester.

上記のように測定した550nmの透過率、異方導電性を、導電性粒子としてのTi粒子の添加量(導電性材料中における導電性粒子としてのTi粒子の含有量)、用いた絶縁性材料の種別とともに表1に示す。ただし、表1への絶縁性材料の表示にあたっては、その商品名で示す。   550 nm transmittance and anisotropic conductivity measured as described above, addition amount of Ti particles as conductive particles (content of Ti particles as conductive particles in the conductive material), insulating material used It shows in Table 1 with the kind of. However, when the insulating material is displayed in Table 1, the product name is used.

Figure 2005100875
Figure 2005100875

表1に示すように、導電性材料としてTi粒子を添加することにより異方導電性が発現する。しかし、透光性評価の基準となる550nmの透過率は、透明絶縁性材料に対してTi粒子の添加量が多くなると低下するが、それでも、Tiの添加量が6体積%では、33.5%と高い透過率を有している。これに対して、不透明絶縁性材料であるSE737(商品名)に対してはTi粒子の添加量が少ない場合でも、当然のことながら、光の透過がなく、透光性は得られなかった。   As shown in Table 1, anisotropic conductivity is exhibited by adding Ti particles as a conductive material. However, the transmittance at 550 nm, which is a criterion for the evaluation of translucency, decreases with an increase in the amount of Ti particles added to the transparent insulating material. % And high transmittance. On the other hand, with respect to SE737 (trade name) which is an opaque insulating material, even when the addition amount of Ti particles is small, it is natural that no light is transmitted and translucency cannot be obtained.

実施例1
縦41mm、横67mmに切り出した前記参考例1の場合と同様の導電性ガラス板の横側片端から11. 75mm間隔、1. 75mm幅で透明導電膜を除去しパターンニングした。上記透明導電膜の部分的除去にあたっては、除去する部分を除いてマスキングテープによりマスクした後、酸化亜鉛粉末と10質量%の塩酸水溶液とを作用させてマスクされていない透明導電膜をエッチング処理して除去した。これを図1にあわせて説明すると、導電性ガラス板で構成される基板3上に透明導電膜で構成される第1の電極5.1〜5.5を形成したことになる。
Example 1
The transparent conductive film was removed at a distance of 1.75 mm and a width of 1.75 mm from the side edge of the same side of the conductive glass plate cut out to a length of 41 mm and a width of 67 mm, and patterned. In the partial removal of the transparent conductive film, after masking with a masking tape except for the portion to be removed, the transparent conductive film not masked is etched by applying zinc oxide powder and a 10% by mass hydrochloric acid aqueous solution. Removed. This will be described with reference to FIG. 1. The first electrodes 5.1 to 5.5 made of a transparent conductive film are formed on the substrate 3 made of a conductive glass plate.

また、平均1次粒子径が20nmの高純度酸化チタン粉末をエチルセルロース中に分散させ、スクリーン印刷用のペーストを調製した。続いて、スクリーン印刷用のペーストをパターンニング済導電性ガラス上に塗布し、乾燥し、得られた乾燥物を500℃で30分間空気中で焼成して、基板上に厚さ10μmの多孔質酸化チタン膜を形成した。得られた酸化チタン膜は、基板上で除去されていない透明導電膜上に37mm×8mmのサイズで5箇所設置した。次に、この酸化チタン膜を備えた導電性ガラスをRu(4,4' −ジカルボキシル−2,2' −ビピリジン)2 (NCS)2 で表される増感色素溶液中に浸漬し、25℃で2日間色間素担持処理を行った。これを図1をあわせて説明すると、基板3上の第1の電極5.1〜5.5に酸化チタン膜からなる半導体層7.1〜7.5が被着され、その半導体層7.1〜7.5に増感色素が担持されたことになる。 Further, a high-purity titanium oxide powder having an average primary particle size of 20 nm was dispersed in ethyl cellulose to prepare a screen printing paste. Subsequently, a screen printing paste is applied onto the patterned conductive glass and dried, and the obtained dried product is baked in air at 500 ° C. for 30 minutes to form a porous 10 μm thick on the substrate. A titanium oxide film was formed. The obtained titanium oxide film was placed in five places with a size of 37 mm × 8 mm on the transparent conductive film not removed on the substrate. Next, the conductive glass provided with this titanium oxide film is immersed in a sensitizing dye solution represented by Ru (4,4′-dicarboxyl-2,2′-bipyridine) 2 (NCS) 2 , and 25 The intercolor support was carried out at 2 ° C. for 2 days. This will be described with reference to FIG. 1. Semiconductor layers 7.1 to 7.5 made of a titanium oxide film are deposited on the first electrodes 5.1 to 5.5 on the substrate 3, and the semiconductor layer 7. The sensitizing dye is supported on 1 to 7.5.

次に、前記と同様の導電性ガラス板に第1の電極の場合と同様のパターンを形成し、除去面をマスキングテープでマスクし5%−塩化白金酸/エタノール溶液を塗布、乾燥した後、400℃で15分間加熱処理して透明導電膜を部分的に除去することによって、導電性ガラス板で構成される基板21上に透明導電膜で構成される透光性を有する第2の電極11.1〜11.5を作製した。電解質注入孔は、光電変換素子モジュールを組立てたとき、第2の電極11.1〜11.5と向かい合う半導体層7.1〜7.5の角近傍の位置に設置した。   Next, the same pattern as in the case of the first electrode was formed on the same conductive glass plate as described above, the removal surface was masked with a masking tape, and a 5% -chloroplatinic acid / ethanol solution was applied and dried. The second electrode 11 having translucency composed of a transparent conductive film is formed on the substrate 21 composed of a conductive glass plate by partially removing the transparent conductive film by heat treatment at 400 ° C. for 15 minutes. .1 to 11.5 were prepared. When the photoelectric conversion element module was assembled, the electrolyte injection hole was installed at a position near the corner of the semiconductor layers 7.1 to 7.5 facing the second electrodes 11.1 to 11.5.

次に得られた第1の電極の半導体層7.1〜7.5の全体の周囲を、積水化学工業社製の樹脂ボール" ミクロパール" (商品名、30μm)を1質量%添加した" Three Bond1152" (商品名、前出)を封止材19として用いて塗布した。次に第1の電極5.1〜5.5の半導体層(酸化チタン膜)7.1〜7.5間の第2の電極11.1〜11.5との電気的接続部分に、" Three Bond1152" (商品名、前出)にTi粒子を4.3質量%添加した透光性導電性材料13を自動ディスペンサーで塗布した。この透光性導電性材料は前記参考例1で表1に示したように、550nmの透過率が24.9%で、異方導電性を有するものである。   Next, 1% by mass of resin ball “Micropearl” (trade name, 30 μm) manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. was added to the entire periphery of the obtained semiconductor layer 7.1 to 7.5 of the first electrode. Three Bond 1152 "(trade name, supra) was applied as a sealing material 19. Next, an electrical connection portion between the first electrodes 5.1 to 5.5 and the second electrodes 11.1 to 11.5 between the semiconductor layers (titanium oxide films) 7.1 to 7.5 is “ The translucent conductive material 13 in which 4.3% by mass of Ti particles were added to Three Bond 1152 "(trade name, supra) was applied by an automatic dispenser. As shown in Table 1 in Reference Example 1, this translucent conductive material has an anisotropic conductivity with a transmittance at 550 nm of 24.9%.

そして、上記塗布の際、各第1の電極間にはギャップ15.2、15.3、15.4、15.5が残るようにした。次にこの第1の電極5.1〜5.5を有する基板3と第2の電極11.1〜11.5を有する基板21とを図1の構造となるように張り合わせて封止と直列接続とを行った。この際、基板21には第2の電極間にギャップ17.1、17.2、17.3、17.4が残るようにし、かつ基板3側のギャップ15.2〜15.5も維持されるように注意した。   In the application, gaps 15.2, 15.3, 15.4, and 15.5 remained between the first electrodes. Next, the substrate 3 having the first electrodes 5.1 to 5.5 and the substrate 21 having the second electrodes 11.1 to 11.5 are laminated to form the structure of FIG. Connected and made. At this time, gaps 17.1, 17.2, 17.3, and 17.4 are left between the second electrodes on the substrate 21, and the gaps 15.2 to 15.5 on the substrate 3 side are also maintained. I was careful.

透光性導電性材料や封止材に使用されている" Three Bond1152" の硬化は、100℃で60分間加熱することによって行い、この間、第1の電極5と第2の電極11とがずれないようにバチ型クリップを使い加圧静置した。透光性導電性材料13と封止材19に同じ樹脂を用いるので、同一条件で同時に硬化することができた。また、封止材の周囲をバリアン社製のエポキシ樹脂" トールシール" (商品名)で覆うことによって光電変換素子モジュールの強度を高めた。   “Three Bond 1152” used for the light-transmitting conductive material and the sealing material is cured by heating at 100 ° C. for 60 minutes. During this time, the first electrode 5 and the second electrode 11 are displaced. It was left to pressurize using a bee-type clip. Since the same resin is used for the translucent conductive material 13 and the sealing material 19, it can be cured simultaneously under the same conditions. Further, the strength of the photoelectric conversion element module was increased by covering the periphery of the sealing material with an epoxy resin “Tall Seal” (trade name) manufactured by Varian.

硬化後、各光電変換素子の電解質注入孔から電解質を減圧注入法により酸化チタン膜で構成される半導体層7と第2の電極11との間に注入した。電解質としては、0.5mol/Lのテトラプロピルアンモニウムアイオダイド、0.01mol/Lのヨウ化リチウム、0.01mol/Lのヨウ素、0.9mol/Lの4−tert−ブチルピリジンを含むγ−ブチロラクトン溶液を用いた。電解質注入後、電解質注入孔の周囲に付着した電解質をアルコールでよく拭いた。シリコーン粘着付きイミドテープで電解質注入孔を封止した後、厚さ0.3mmのカバーガラスを" Eセット" (商品名、前出)を用いてシリコーン粘着テープ上を被覆接着した。以上のようにして、本実施例の5直列光電変換素子モジュールを作製した。   After curing, the electrolyte was injected between the semiconductor layer 7 composed of the titanium oxide film and the second electrode 11 from the electrolyte injection hole of each photoelectric conversion element by a reduced pressure injection method. As an electrolyte, γ-containing 0.5 mol / L tetrapropylammonium iodide, 0.01 mol / L lithium iodide, 0.01 mol / L iodine, 0.9 mol / L 4-tert-butylpyridine. A butyrolactone solution was used. After the electrolyte injection, the electrolyte attached around the electrolyte injection hole was thoroughly wiped with alcohol. After sealing the electrolyte injection hole with an imide tape with silicone adhesive, a cover glass having a thickness of 0.3 mm was coated and adhered onto the silicone adhesive tape using “E set” (trade name, supra). As described above, the 5-series photoelectric conversion element module of this example was manufactured.

このように作製した5光電変換素子モジュールにソーラーシミュレータで擬似太陽光(10mW/cm2 、AM1.5)を照射し、光電流−電圧特性を測定した。その結果、開放端電圧3017mV、短絡電流1.077mA、形状因子0.588、最大出力1.91mWの特性を得た。そして、この光電変換素子モジュールは、電極間の接続部も含め透光性を有していた。 The five photoelectric conversion element modules thus produced were irradiated with simulated sunlight (10 mW / cm 2 , AM1.5) using a solar simulator, and the photocurrent-voltage characteristics were measured. As a result, the characteristics of an open end voltage of 3017 mV, a short circuit current of 1.077 mA, a form factor of 0.588, and a maximum output of 1.91 mW were obtained. And this photoelectric conversion element module had translucency also including the connection part between electrodes.

実施例2
実施例1と同様の手順で2直列光電変換素子モジュールを2個作製した。ただし、封止材19の周囲は "トールシール" (商品名、前出)で覆うことはしなかった。得られた2個の2直列光電変換素子モジュールについて、実施例1と同様に光電流−電圧特性を測定したところ、開放端電圧1249mV、短絡電流1.12mA、形状因子0.573、最大出力0.80mWの光電変換素子モジュールと開放端電圧1253mV、短絡電流1.13mA、形状因子0.591、最大出力0.84mWの光電変換素子モジュールとであった。
Example 2
Two 2-series photoelectric conversion element modules were produced in the same procedure as in Example 1. However, the periphery of the sealing material 19 was not covered with “Tall Seal” (trade name, mentioned above). For the two obtained two-series photoelectric conversion element modules, the photocurrent-voltage characteristics were measured in the same manner as in Example 1. As a result, the open circuit voltage was 1249 mV, the short circuit current was 1.12 mA, the form factor was 0.573, and the maximum output was 0. It was a photoelectric conversion element module of .80 mW, an open end voltage of 1253 mV, a short circuit current of 1.13 mA, a form factor of 0.591, and a maximum output of 0.84 mW.

これらの光電変換素子モジュールのうちの一方の光電変換素子モジュールの電気的接続部5.2aと他方の光電変換素子モジュールの電気的接続部11.1aとを図3の構造となるように透光性導電性材料13で接続して4直列光電変換素子モジュールを得た。上記透光性導電性材料は" Eセット" (商品名、前出)にTi粒子を6.0体積%添加したものであり、この透光性導電性材料は、前記参考例1で表1に示したように、550nmの透過率が33.5%であり、異方導電性を有していた。   The photoelectric connection element 5.2a of one photoelectric conversion element module of these photoelectric conversion element modules and the electric connection part 11.1a of the other photoelectric conversion element module are transmitted so as to have the structure of FIG. 4 series photoelectric conversion element module was obtained by connecting with conductive conductive material 13. The translucent conductive material is obtained by adding 6.0% by volume of Ti particles to “E set” (trade name, supra). This translucent conductive material is shown in Table 1 in Reference Example 1. As shown in Fig. 5, the transmittance at 550 nm was 33.5%, and it had anisotropic conductivity.

この4直列光電変換素子モジュールについて、実施例1と同様に光電流−電圧特性を測定したところ、開放端電圧2409mV、短絡電流1.12mA、形状因子0.601、最大出力1.62mWであった。そして、この実施例2の光電変換素子モジュールも、電極間の接続部を含み透光性を有していた。   When the photocurrent-voltage characteristics of this 4-series photoelectric conversion element module were measured in the same manner as in Example 1, the open-circuit voltage was 2409 mV, the short-circuit current was 1.12 mA, the form factor was 0.601, and the maximum output was 1.62 mW. . And the photoelectric conversion element module of this Example 2 was also translucent including the connection part between electrodes.

実施例3
王子トービ社製のインジウム−錫複合酸化物(ITO)が被着されたポリエチレンナフタレート(PEN)フィルム(厚さ125μm、表面抵抗10Ω/□のITO/PENフィルム)を50mm角に切り出し、塩酸主体のエッチング液で図6に示すようなITOパターンからなる第1の電極5.1〜5.5を上記フィルムからなる基板3上に形成した。図6において、15.1〜15.6は基板3上に形成された第1の電極5.1〜5.5を分離するためのギャップである。次に、ハーキュレス社製のエチルセルロース" N300" (商品名)1質量%をエタノールに溶かしたバインダー溶液を調製した。このバインダー溶液24gに日本アエロジル社製の酸化チタン" P25" (商品名)6gを投入し、遊星型ボールミルにかけて、酸化チタンの分散液を調製した。この分散液中の酸化チタンの含有量は20質量%になるように調製した。この酸化チタンの分散液を電極5.1〜5.5の上にマスクを用いて図7に示すように摺り切りで塗布し、乾燥させて縦40mm、横8mmの酸化チタン膜からなる半導体層7.1〜7.5を形成した。次に、プレス機で半導体層7.1〜7.5に1枚あたり60MPaの圧力を加えて、半導体層を構成する酸化チタン膜の厚みを10μmに圧縮した。圧力を加えるとき、プレス機のプレス面にフッ素樹脂コートを施し、酸化チタン膜とプレス面との離型性を良くした。
Example 3
A polyethylene naphthalate (PEN) film (ITO / PEN film having a thickness of 125 μm and a surface resistance of 10Ω / □) coated with indium-tin composite oxide (ITO) manufactured by Oji Tobi Co., Ltd. First electrodes 5.1 to 5.5 made of an ITO pattern as shown in FIG. 6 were formed on the substrate 3 made of the film. In FIG. 6, 15.1 to 15.6 are gaps for separating the first electrodes 5.1 to 5.5 formed on the substrate 3. Next, a binder solution was prepared by dissolving 1% by mass of ethyl cellulose “N300” (trade name) manufactured by Hercules in ethanol. 6 g of titanium oxide “P25” (trade name) manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd. was added to 24 g of this binder solution, and the mixture was applied to a planetary ball mill to prepare a titanium oxide dispersion. The dispersion was prepared so that the content of titanium oxide was 20% by mass. The titanium oxide dispersion liquid is applied on the electrodes 5.1 to 5.5 by using a mask as shown in FIG. 7 and dried to form a semiconductor layer made of a titanium oxide film having a length of 40 mm and a width of 8 mm. 7.1-7.5 were formed. Next, a pressure of 60 MPa was applied to each of the semiconductor layers 7.1 to 7.5 with a press machine to compress the thickness of the titanium oxide film constituting the semiconductor layer to 10 μm. When pressure was applied, the press surface of the press machine was coated with a fluororesin to improve the releasability between the titanium oxide film and the press surface.

この酸化チタン膜を備えたITO/PENフィルムを、[Ru(4,4'−ジカルボキシル−2,2'−ビピリジン)2(NCS)2]ビス−テトラブチルアンモニウムで表される増感色素を3×10-4mol/dm3含むアセトニトリル/t−ブチルアルコール混合溶液(混合体積比=50/50)に10時間浸漬 して半導体層7.1〜7.5への色素担持処理を行なった。 An ITO / PEN film provided with this titanium oxide film is coated with a sensitizing dye represented by [Ru (4,4′-dicarboxyl-2,2′-bipyridine) 2 (NCS) 2 ] bis-tetrabutylammonium. It was immersed in an acetonitrile / t-butyl alcohol mixed solution (mixed volume ratio = 50/50) containing 3 × 10 −4 mol / dm 3 for 10 hours to carry the dye carrying treatment to the semiconductor layers 7.1 to 7.5. .

次に、前記と同様の王子トービ社製ITO/PENフィルムを50mm角に切り出し、塩酸主体のエッチング液で図8に示すようなITOパターンを形成した。このITOパターン上にマスクを用いて膜厚5nmの白金を成膜して、基板21上に第2の電極11.1〜11.5を形成した。なお、図8において、17.1〜17.6は基板21上に形成された第2の電極11.1〜11.5を分離するためのギャップである。   Next, the same ITO / PEN film manufactured by Oji Tobi Co., Ltd. was cut into a 50 mm square, and an ITO pattern as shown in FIG. 8 was formed with an etching solution mainly composed of hydrochloric acid. A 5 nm-thick platinum film was formed on the ITO pattern using a mask to form second electrodes 11.1 to 11.5 on the substrate 21. In FIG. 8, 17.1 to 17.6 are gaps for separating the second electrodes 11.1 to 11.5 formed on the substrate 21.

また、光電変換素子モジュールを構成する光電変換素子の数だけ(本実施例では5つ)の電解質注入孔23.1〜23.5(直径0.5mmの円形)を第2の電極11.1〜11.5を形成したITO/PENフィルムに設けた。この電解質注入孔23.1〜23.5は、光電変換素子モジュールを組立てたとき、第2の電極11.1〜11.5と向かい合う半導体層7.1〜7.5の角近傍の位置に配置するように設けておいた。また、外部端子も所定の位置に取り付けた(図示せず。)。   In addition, electrolyte injection holes 23.1 to 23.5 (circular shape having a diameter of 0.5 mm) corresponding to the number of photoelectric conversion elements constituting the photoelectric conversion element module (five in this embodiment) are formed as the second electrode 11.1. ˜11.5 was formed on the ITO / PEN film. The electrolyte injection holes 23.1 to 23.5 are located at positions near the corners of the semiconductor layers 7.1 to 7.5 facing the second electrodes 11.1 to 11.5 when the photoelectric conversion element module is assembled. It was provided to be placed. The external terminals were also attached at predetermined positions (not shown).

次に、図7に示すように半導体層(酸化チタン膜)7.1〜7.5が形成されたITO/PENフィルムに、封止材19として "Three Bond1152" (商品名、前出)を自動ディスペンサーで図9に示すように半導体層7.1〜7.5を取り囲んで塗布した。次に、基板3となるITO/PENフィルムの可撓性のために半導体層7.1〜7.5が第2の電極11.1〜11.5の白金と接触して部分的に短絡することを防ぐため、半導体層7.1〜7.5と第2の電極11.1〜11.5との間にポリブチレンテレフタレート製の不織布を配置した(図示せず)。続いて、各光電変換素子を電気的に直列接続するために、図10に示す部分に、" Three Bond1152" (商品名、前出)にTi粒子を4.3%添加した透光性導電性材料13.1〜13.4を塗布した。そして、これらの第1の電極5.1〜5.5および半導体層7.1〜7.5が形成された基板3に図8に示すパターニングされた第2の電極を有する基板21を、その第2の電極11.1〜11.5と基板3の半導体層7.1〜7.5とが向かい合うように張り合わせて封止と直列接続とを行った。このとき、外部端子としてニッケル箔を所定の位置に配置した(図示せず)。透光性導電性材料13と封止材19の樹脂成分の硬化は、100℃で60分間加熱することで行い、この間、第1の電極と第2の電極とがずれないように、2枚の厚板ガラスで挟み、バチ型クリップを使い加圧静置した。透光性導電性材料13.1〜13.4は、前記表1に示すように、550nmの透過率が24.9%であり、異方導電性を有していることから、必ずしも図10に示す部分にのみに塗布されている必要は無く、透光性導電性材料13.1と13.3および13.2と13.4は連続していてもよい。   Next, as shown in FIG. 7, “Three Bond 1152” (trade name, supra) is used as the sealing material 19 on the ITO / PEN film on which the semiconductor layers (titanium oxide films) 7.1 to 7.5 are formed. As shown in FIG. 9, the semiconductor layers 7.1 to 7.5 were surrounded and applied by an automatic dispenser. Next, due to the flexibility of the ITO / PEN film to be the substrate 3, the semiconductor layers 7.1 to 7.5 are in contact with the platinum of the second electrodes 11.1 to 11.5 and partially short-circuited. In order to prevent this, a non-woven fabric made of polybutylene terephthalate was disposed between the semiconductor layers 7.1 to 7.5 and the second electrodes 11.1 to 11.5 (not shown). Subsequently, in order to electrically connect each photoelectric conversion element in series, a translucent conductive material obtained by adding 4.3% of Ti particles to “Three Bond 1152” (trade name, the above) in the portion shown in FIG. Materials 13.1 to 13.4 were applied. Then, a substrate 21 having the patterned second electrode shown in FIG. 8 is formed on the substrate 3 on which the first electrodes 5.1 to 5.5 and the semiconductor layers 7.1 to 7.5 are formed. The second electrodes 11.1 to 11.5 and the semiconductor layers 7.1 to 7.5 of the substrate 3 were bonded so as to face each other, and sealing and series connection were performed. At this time, nickel foil was arranged at a predetermined position as an external terminal (not shown). The resin components of the light-transmitting conductive material 13 and the sealing material 19 are cured by heating at 100 ° C. for 60 minutes. During this time, two sheets are used so that the first electrode and the second electrode do not shift. Were sandwiched between thick plate glasses and left to stand under pressure using a bee-type clip. As shown in Table 1, the translucent conductive materials 13.1 to 13.4 have a transmittance of 24.9% at 550 nm and have anisotropic conductivity. The light-transmitting conductive materials 13.1 and 13.3 and 13.2 and 13.4 may be continuous.

シリコーン接着剤の硬化後、各光電変換素子の電解質注入孔から電解質を減圧注入法により第1の電極5.1〜5.5の半導体層7.1〜7.5と第2の電極11.1〜11.5との間に注入した。電解質としては、0.5mol/dm3 のヨウ化リチウムと0.05mol/dm3 のヨウ素、0.5mol/dm3 の4−tert−ブチルピリジンを含む3−メトキシプロピオニトリル溶液を用いた。電解質注入後、電解質注入孔の周囲に付着した電解質をアルコールで拭き取った。シリコーン粘着テープで電解質注入孔を封止した後、積水化学工業社製の一液性紫外線硬化型樹脂" フォトレックA―780" (商品名)でシリコーン粘着テープを被覆した。このようにして作製した光電変換素子モジュールをハネウェル社製のポリクロロ三フッ化エチレンフィルム" アクラー" (商品名)で外部端子を取り出せるようにした状態でラミネート加工を施した。以上のようにして、本実施例の光電変換素子モジュールを作製した。 After the silicone adhesive is cured, the electrolyte is injected from the electrolyte injection hole of each photoelectric conversion element, and the semiconductor layers 7.1 to 7.5 of the first electrodes 5.1 to 5.5 and the second electrode 11. Between 1 and 11.5. As the electrolyte, 0.5 mol / dm 3 of lithium iodide and 0.05 mol / dm 3 of iodine, was used 3-methoxy propionitrile solution containing 4-tert-butylpyridine 0.5 mol / dm 3. After the electrolyte injection, the electrolyte attached around the electrolyte injection hole was wiped off with alcohol. After the electrolyte injection hole was sealed with a silicone adhesive tape, the silicone adhesive tape was covered with a one-pack ultraviolet curable resin “Photorec A-780” (trade name) manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. The thus produced photoelectric conversion element module was laminated in such a state that an external terminal could be taken out with a polychlorotrifluoride ethylene film “Akler” (trade name) manufactured by Honeywell. As described above, the photoelectric conversion element module of this example was manufactured.

この実施例3の光電変換素子モジュールについて、実施例1と同様に光電流−電圧特性を測定したところ、開放端電圧3200mV、短絡電流0.577mA、形状因子0.540、最大出力1.00mWであった。また、この実施例3の光電変換素子モジュールも、その接続部を含め透光性を有していた。   The photoelectric current-voltage characteristics of the photoelectric conversion element module of Example 3 were measured in the same manner as in Example 1. As a result, the open-end voltage was 3200 mV, the short-circuit current was 0.577 mA, the form factor was 0.540, and the maximum output was 1.00 mW. there were. In addition, the photoelectric conversion element module of Example 3 also had translucency including the connecting portion.

本発明の光電変換素子モジュールの第1実施形態を概略的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematically 1st Embodiment of the photoelectric conversion element module of this invention. 本発明の光電変換素子モジュールの第2実施形態を概略的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows 2nd Embodiment of the photoelectric conversion element module of this invention roughly. 本発明の光電変換素子モジュールの第3実施形態を概略的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematically 3rd Embodiment of the photoelectric conversion element module of this invention. 本発明の光電変換素子モジュールの第4実施形態を概略的に示す断面図であり、図5のA−A′線で切断した図に相当する。It is sectional drawing which shows schematically 4th Embodiment of the photoelectric conversion element module of this invention, and is equivalent to the figure cut | disconnected by the AA 'line of FIG. 図4に示す本発明の第4実施形態の光電変換素子モジュールを入射光方向の反対側から見た平面図である。It is the top view which looked at the photoelectric conversion element module of 4th Embodiment of this invention shown in FIG. 4 from the opposite side of the incident light direction. 本発明の第4実施形態の光電変換素子モジュールの製造工程中において、一方の基板上に第1の電極を形成した状態を概略的に示す平面図である。It is a top view which shows roughly the state which formed the 1st electrode on one board | substrate in the manufacturing process of the photoelectric conversion element module of 4th Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態の光電変換素子モジュールの製造工程中において、第1の電極上に半導体層を被着させた状態を概略的に示す平面図である。It is a top view which shows roughly the state which adhered the semiconductor layer on the 1st electrode in the manufacturing process of the photoelectric conversion element module of 4th Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態の光電変換素子モジュールの製造工程中において、他方の基板上に第2の電極を形成した状態を概略的に示す平面図である。It is a top view which shows roughly the state which formed the 2nd electrode on the other board | substrate in the manufacturing process of the photoelectric conversion element module of 4th Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態の光電変換素子モジュールの製造工程中において、半導体層が被着された第1の電極を備えた一方の基板に封止材を配置した状態を概略的に示す平面図である。The top view which shows roughly the state which has arrange | positioned the sealing material to one board | substrate provided with the 1st electrode with which the semiconductor layer was adhered in the manufacturing process of the photoelectric conversion element module of 4th Embodiment of this invention. It is. 本発明の第4実施形態の光電変換素子モジュールの製造工程中において、半導体層が被着された第1の電極を備えた一方の基板に封止材を配置した後、透光性導電性材料を配置した状態を概略的に示す平面図である。In the manufacturing process of the photoelectric conversion element module according to the fourth embodiment of the present invention, after the sealing material is disposed on the one substrate provided with the first electrode to which the semiconductor layer is attached, the translucent conductive material It is a top view which shows roughly the state which has arrange | positioned.

符号の説明Explanation of symbols

1 光電変換素子モジュール
2(2.1〜2.5) 光電変換素子
3 基板
5(5.1〜5.5) 第1の電極
5a(5.1a〜5.5a) 電気的接続部
7(7.1〜7.5) 半導体層
9(9.1〜9.5) 電解質
11(11.1〜11.5) 第2の電極
11a(11.1a〜11.5a) 電気的接続部
13(13.1〜13.4) 透光性導電性材料
15(15.1〜15.6) 第1の電極のギャップ
17(17.1〜17.6) 第2の電極のギャップ
19 封止材
21 基板
23(23.1〜23.5) 電解質注入孔
25(25.1〜25.5) 電解質注入孔の封止材
27 入射光
28 外部端子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Photoelectric conversion element module 2 (2.1-2.5) Photoelectric conversion element 3 Board | substrate 5 (5.1-5.5) 1st electrode 5a (5.1a-5.5a) Electrical connection part 7 ( 7.1 to 7.5) Semiconductor layer 9 (9.1 to 9.5) Electrolyte 11 (11.1 to 11.5) Second electrode 11a (11.1a to 11.5a) Electrical connection 13 (13.1 to 13.4) Translucent conductive material 15 (15.1 to 15.6) First electrode gap 17 (17.1 to 17.6) Second electrode gap 19 Sealing Material 21 Substrate 23 (23.1 to 23.5) Electrolyte injection hole 25 (25.1 to 25.5) Electrolyte injection hole sealing material 27 Incident light 28 External terminal

Claims (8)

増感色素を担持した半導体層が被着された第1の電極と、前記第1の電極の半導体層と対峙する第2の電極と、前記第1の電極の半導体層と前記第2の電極との間に配置された電解質とを備えた光電変換素子を複数含む光電変換素子モジュールであって、隣接する光電変換素子のうちの一方の光電変換素子の第1の電極と他方の光電変換素子の第2の電極とが、透明絶縁性材料中に導電性粒子を1〜15体積%含んだ透光性導電性材料により電気的に接続されていることを特徴とする光電変換素子モジュール。   A first electrode on which a semiconductor layer carrying a sensitizing dye is deposited, a second electrode facing the semiconductor layer of the first electrode, a semiconductor layer of the first electrode, and the second electrode A photoelectric conversion element module including a plurality of photoelectric conversion elements each including an electrolyte disposed between the first electrode and the other photoelectric conversion element of one of the adjacent photoelectric conversion elements The photoelectric conversion element module, wherein the second electrode is electrically connected by a translucent conductive material containing 1 to 15% by volume of conductive particles in a transparent insulating material. 前記透光性導電性材料が、550nmにおける透過率が0.1%以上60%以下であることを特徴とする請求項1記載の光電変換素子モジュール。   2. The photoelectric conversion element module according to claim 1, wherein the translucent conductive material has a transmittance at 550 nm of 0.1% to 60%. 隣接する光電変換素子の電解質が透光性導電性材料によって分離されていることを特徴とする請求項1または2記載の光電変換素子モジュール。   The photoelectric conversion element module according to claim 1 or 2, wherein an electrolyte of an adjacent photoelectric conversion element is separated by a translucent conductive material. 前記導電性粒子が、少なくとも金属導体を含む微粒子である請求項1〜3のいずれかに記載の光電変換素子モジュール。   The photoelectric conversion element module according to claim 1, wherein the conductive particles are fine particles containing at least a metal conductor. 前記導電性粒子が、少なくともAu、Pt、Ag、Cu、Al、Ni、Zn、Ti、W、Cr、Moのいずれかを含む微粒子である請求項1〜3のいずれかに記載の光電変換素子モジュール。   The photoelectric conversion element according to claim 1, wherein the conductive particles are fine particles containing at least one of Au, Pt, Ag, Cu, Al, Ni, Zn, Ti, W, Cr, and Mo. module. 前記導電性粒子が、少なくともPt、Ni、Ti、Wのいずれかを含む微粒子である請求項1〜3のいずれかに記載の光電変換素子モジュール。   The photoelectric conversion element module according to claim 1, wherein the conductive particles are fine particles containing at least one of Pt, Ni, Ti, and W. 前記透明絶縁性材料が、少なくともシリコーン樹脂、アクリル樹脂、アイオノマー樹脂、エポキシ樹脂、オレフィン樹脂、ブチルゴム、熱硬化オレフィン樹脂、フッ素を含む樹脂のいずれかからなる請求項1〜6のいずれかに記載の光電変換素子モジュール。   The said transparent insulating material consists of at least any one of a silicone resin, an acrylic resin, an ionomer resin, an epoxy resin, an olefin resin, a butyl rubber, a thermosetting olefin resin, and a fluorine-containing resin. Photoelectric conversion element module. 前記透明絶縁性材料が、少なくともシリコーン樹脂、アイオノマー樹脂、オレフィン樹脂、熱硬化オレフィン樹脂のいずれかからなる請求項1〜6のいずれかに記載の光電変換素子モジュール。   The photoelectric conversion element module according to any one of claims 1 to 6, wherein the transparent insulating material comprises at least one of a silicone resin, an ionomer resin, an olefin resin, and a thermosetting olefin resin.
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