JP2005097598A - Antistatic resin composition - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin molded product having excellent antistatic properties, independent of a process by which the product is molded, and having excellent mechanical strength. <P>SOLUTION: An antistatic resin composition comprises a thermoplastic resin (A) and at least one kind of an antistatic agent (B) having such a refractive index that a difference between itself and that of the component (A) is not more than 0.02, wherein the antistatic agent (B) is selected from a group comprising (B1) a polyether ester amide which is derived from a polyamide having a number-average molecular weight of 200-5,000 and an adduct of an alkylene oxide to a bisphenol having a number-average molecular weight of 300-5,000 and (B2) a block polymer having such a structure that polyolefin blocks and hydrophilic polymer blocks having a volume specific resistance of 1×10<SP>5</SP>to 1×10<SP>11</SP>Ω×cm are repeatedly and alternately bonded to each other through at least one kind of bond selected from a group comprising an ester bond, an amide bond, an ether bond, an imide bond, and a urethane bond. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、帯電防止性樹脂組成物に関し、さらに詳しくは、帯電防止性樹脂組成物および該組成物を成形してなる永久帯電防止性および機械強度に優れる樹脂成形品に関するものである。   The present invention relates to an antistatic resin composition, and more particularly to an antistatic resin composition and a resin molded article excellent in permanent antistatic properties and mechanical strength formed by molding the composition.

従来、熱可塑性樹脂に永久帯電防止性を付与する方法としては、ポリオキシアルキレン鎖を有するポリマーを添加する方法が知られている（例えば、特許文献１、２、３参照）。   Conventionally, as a method for imparting permanent antistatic property to a thermoplastic resin, a method of adding a polymer having a polyoxyalkylene chain is known (see, for example, Patent Documents 1, 2, and 3).

特開平０３−２５５１６１号公報Japanese Patent Laid-Open No. 03-255161 特開平０３−２５８８５０号公報Japanese Patent Laid-Open No. 03-258850 特開２００２−３２１３１４号公報JP 2002-321314 A

しかしながら、上記方法では成形方法によってはその成形体に帯電防止性が発現しない、機械強度が低下するという問題がある。
本発明は、成形方法に依存することなく永久帯電防止性に優れかつ機械強度にも優れる樹脂成形品を提供することを目的とするものである。 However, in the above method, depending on the molding method, there is a problem that the molded article does not exhibit antistatic properties and the mechanical strength is lowered.
An object of the present invention is to provide a resin molded article having excellent permanent antistatic properties and excellent mechanical strength without depending on a molding method.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果本発明に到達した。すなわち、本発明は、熱可塑性樹脂（Ａ）と、（Ａ）との屈折率差が０．０２以下である親水性鎖を有する帯電防止剤（Ｂ）からなる帯電防止性樹脂組成物；該組成物を成形してなる帯電防止性樹脂成形品；該成形品であるフィルムと、熱可塑性樹脂からなる基層フィルムを積層してなる多層フィルム；該成形品もしくは多層フィルムに塗装および／または印刷を施してなる成形物品；該成形品もしくは多層フィルム、または該成形物品からなる、ハウジング材、容器材、包装材、被覆材、床材またはテープ材である。   The inventors of the present invention have arrived at the present invention as a result of intensive studies to solve the above problems. That is, the present invention relates to an antistatic resin composition comprising a thermoplastic resin (A) and an antistatic agent (B) having a hydrophilic chain having a refractive index difference of 0.02 or less between the thermoplastic resin (A); Antistatic resin molded product formed by molding the composition; multilayer film formed by laminating a film as the molded product and a base film made of a thermoplastic resin; coating and / or printing on the molded product or the multilayer film A molded article formed; a housing material, a container material, a packaging material, a covering material, a floor material, or a tape material made of the molded article or multilayer film, or the molded article.

本発明の帯電防止性樹脂組成物を成形してなる樹脂成形品は、下記の効果を奏することから極めて有用である。
（１）永久帯電防止性および機械特性に優れる。
（２）優れた永久帯電防止性は、成形法（射出成形、押出フィルム成形または二軸延伸フィルム成形）に依存することがない。
（３）表面固有抵抗値と体積固有抵抗値の差が小さく、表面のみならず、厚さ方向にも優れた永久帯電防止性を有する。 A resin molded product obtained by molding the antistatic resin composition of the present invention is extremely useful because it exhibits the following effects.
(1) Excellent permanent antistatic properties and mechanical properties.
(2) Excellent permanent antistatic properties do not depend on the molding method (injection molding, extrusion film molding or biaxially stretched film molding).
(3) The difference between the surface specific resistance value and the volume specific resistance value is small, and it has excellent permanent antistatic properties not only on the surface but also in the thickness direction.

本発明における熱可塑性樹脂（Ａ）としては、例えばビニル樹脂（Ａ１）［例えばポリオレフィン樹脂（Ａ１１）、ポリアクリル樹脂（Ａ１２）およびポリスチレン樹脂（Ａ１３）］、ポリエステル樹脂（Ａ２）、ポリアミド樹脂（Ａ３）、ポリカーボネート樹脂（Ａ４）、ポリアセタール樹脂（Ａ５）、変性ポリフェニレンエーテル樹脂（Ａ６）、生分解性樹脂（Ａ７）およびこれらの２種以上の混合物が挙げられる。   As the thermoplastic resin (A) in the present invention, for example, vinyl resin (A1) [for example, polyolefin resin (A11), polyacrylic resin (A12) and polystyrene resin (A13)], polyester resin (A2), polyamide resin (A3) ), Polycarbonate resin (A4), polyacetal resin (A5), modified polyphenylene ether resin (A6), biodegradable resin (A7), and mixtures of two or more thereof.

これらのうち後述の帯電防止剤（Ｂ）の（Ａ）への分散のしやすさの観点から好ましいのは、（Ａ１）、（Ａ２）、（Ａ３）および（Ａ４）からなる群から選ばれる１種または２種以上、さらに好ましいのは（Ａ１）および／または（Ａ３）、とくに好ましいのは（Ａ１１）および／または（Ａ１３）である。   Of these, the antistatic agent (B) described later is preferably selected from the group consisting of (A1), (A2), (A3) and (A4) from the viewpoint of ease of dispersion in (A). One or more, more preferably (A1) and / or (A3), particularly preferably (A11) and / or (A13).

ビニル樹脂（Ａ１）は、エチレン性不飽和モノマーの１種または２種以上を重合（単独重合または共重合）したものであり、エチレン性不飽和モノマーには、下記（ａ１）〜（ａ７）が含まれる。   The vinyl resin (A1) is obtained by polymerization (homopolymerization or copolymerization) of one or more ethylenically unsaturated monomers. The ethylenically unsaturated monomers include the following (a1) to (a7). included.

（ａ１）不飽和炭化水素（以下、ＨＣと略記）
（ａ１１）脂肪族ＨＣ［炭素数（以下、Ｃと略記）２〜１８またはそれ以上］
アルケン、例えばエチレン、プロピレン、（イソ）ブテン、ペンテン、４−メチル−１−ペンテン、ヘプテン、ジイソブチレン、オクテン、ドデセン、オクタデセンおよびその他のα−オレフィン；ジエン、例えばブタジエン、イソプレン、１，４−ペンタジエン、１，６−ヘキサジエン、１，７−オクタジエンおよび１，１１−ドデカジエン
（ａ１２）脂環式ＨＣ（Ｃ４〜１８またはそれ以上）
（ジ）シクロアルケン、例えばシクロヘキセン、（ジ）シクロペンタジエン、ピネン、リモネン、インデン、ビニルシクロヘキセンおよびエチリデンビシクロヘプテン
（ａ１３）芳香族ＨＣ（Ｃ８〜２０またはそれ以上）
スチレン、その同族体、例えばα−メチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、フェニルスチレン、シクロヘキシルスチレン、ベンジルスチレン、ビニルトルエン、クロチルベンゼン、ポリビニル芳香族ＨＣ（例えばジビニルベンゼン、ジビニルトルエン、ジビニルキシレンおよびトリビニルベンゼン）、ビニルナフタレンおよびハロゲン化スチレン（例えばクロロスチレン）。 (A1) Unsaturated hydrocarbon (hereinafter abbreviated as HC)
(A11) Aliphatic HC [carbon number (hereinafter abbreviated as C) 2-18 or more]
Alkenes such as ethylene, propylene, (iso) butene, pentene, 4-methyl-1-pentene, heptene, diisobutylene, octene, dodecene, octadecene and other α-olefins; dienes such as butadiene, isoprene, 1,4- Pentadiene, 1,6-hexadiene, 1,7-octadiene and 1,11-dodecadiene (a12) alicyclic HC (C4-18 or more)
(Di) cycloalkenes such as cyclohexene, (di) cyclopentadiene, pinene, limonene, indene, vinylcyclohexene and ethylidenebicycloheptene (a13) aromatic HC (C8-20 or more)
Styrene, its homologues such as α-methyl styrene, 2,4-dimethyl styrene, ethyl styrene, isopropyl styrene, butyl styrene, phenyl styrene, cyclohexyl styrene, benzyl styrene, vinyl toluene, crotyl benzene, polyvinyl aromatic HC (for example Divinylbenzene, divinyltoluene, divinylxylene and trivinylbenzene), vinylnaphthalene and halogenated styrene (eg chlorostyrene).

（ａ２）アルキル（メタ）アクリレート
Ｃ１〜５０のアルキル基を有するもの、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、２−エチルヘキシル、ドデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシルおよびエイコシル（メタ）アクリレート。
（ａ３）カルボキシル基含有ビニルモノマー
（ａ３１）不飽和モノカルボン酸
Ｃ３〜１８の脂肪族、脂環式および芳香環含有のモノカルボン酸、例えば（メタ）アクリル、（イソ）クロトン、シクロヘキセンモノカルボンおよびケイ皮酸
（ａ３２）不飽和ジカルボン酸、およびそれらの無水物、例えば脂肪族のもの［Ｃ４〜１ ８、例えば（無水）マレイン、フマル、（無水）イタコン、（無水）シトラコン、メサコンおよびアリルマロン酸］、脂環式のもの［Ｃ７〜２４、例えば４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸］および芳香環含有のもの［Ｃ８〜２４、例えばフェニルマレイン酸］
（ａ３３）ジカルボン酸モノエステル
上記ジカルボン酸（ａ３２）のモノアルキル（Ｃ１〜８またはそれ以上）エステル、例えばマレイン、フマル、イタコンおよびシトラコン酸のモノアルキルエステル
（ａ３４）上記（ａ３１）、（ａ３２）および（ａ３３）の塩、例えばアルカリ金属（例えばリチウム、ナトリウムおよびカリウム）塩、アルカリ土類金属（例えばカルシウムおよびマグネシウム）塩、アンモニウム塩、アミン（Ｃ２〜２４）塩および４級アンモニウム（Ｃ４〜２４）塩 (A2) Alkyl (meth) acrylates having a C1-50 alkyl group, such as methyl, ethyl, propyl, butyl, 2-ethylhexyl, dodecyl, hexadecyl, heptadecyl and eicosyl (meth) acrylate.
(A3) Carboxyl group-containing vinyl monomer (a31) Unsaturated monocarboxylic acid C3-18 aliphatic, alicyclic and aromatic monocarboxylic acids such as (meth) acrylic, (iso) croton, cyclohexene monocarboxylic and Cinnamic acid (a32) unsaturated dicarboxylic acids and their anhydrides, such as aliphatic [C4-18, eg (anhydrous) malein, fumar, (anhydrous) itacone, (anhydrous) citracone, mesacone and allylmalonic acid ], Cycloaliphatic [C7-24, eg 4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid] and aromatic ring containing [C8-24, eg phenylmaleic acid]
(A33) dicarboxylic acid monoester monoalkyl (C1-8 or more) esters of the above dicarboxylic acid (a32), for example, monoalkyl esters of malee, fumarate, itacone and citraconic acid (a34) above (a31), (a32) And salts of (a33), such as alkali metal (eg lithium, sodium and potassium) salts, alkaline earth metal (eg calcium and magnesium) salts, ammonium salts, amine (C2-24) salts and quaternary ammonium (C4-24) )salt

（ａ４）カルボニル、エーテルおよび／またはイオウ含有不飽和モノマー
（ａ４１）不飽和エステル
（ａ４１１）カルボン酸（例えば脂肪族および芳香族のモノ−およびポリカルボン酸）の不飽和エステル［ビニル、イソプロペニル、（メタ）アリルおよびビニルフェニルエステル］
脂肪族不飽和エステル（Ｃ４〜１５）、例えばビニルエステル（例えばアセテート、プロピオネート、ブチレート、メトキシアセテートおよびベンゾエート）、イソプロペニルエステル（例えばアセテート）および（メタ）アリルエステル（例えばジアリルアジペート）；および芳香族不飽和エステル（Ｃ９〜２０）、例えばジアリルフタレート、メチル−４−ビニルベンゾエートおよびアセトキシスチレン (A4) carbonyl, ether and / or sulfur containing unsaturated monomers (a41) unsaturated esters (a411) unsaturated esters of carboxylic acids (eg aliphatic and aromatic mono- and polycarboxylic acids) [vinyl, isopropenyl, (Meth) allyl and vinyl phenyl ester]
Aliphatic unsaturated esters (C4-15), such as vinyl esters (eg acetate, propionate, butyrate, methoxyacetate and benzoate), isopropenyl esters (eg acetate) and (meth) allyl esters (eg diallyl adipate); and aromatics Unsaturated esters (C9-20) such as diallyl phthalate, methyl-4-vinylbenzoate and acetoxystyrene

（ａ４１２）不飽和カルボン酸エステル［上記（ａ２）以外の］
（ａ４１２１）直鎖、分岐もしくは脂環式Ｃ１〜２２（シクロ）アルキル基を有する、（メタ）アクリル酸以外の不飽和モノカルボン酸［上記（ａ３１）］ の（シクロ）アルキルエステル、シクロアルキル（メタ）アクリレートおよび不飽和ジカルボン酸［上記（ａ３２）］のジ（シクロ）アルキルエステル、例えばアルキル（イソ）クロトネート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、およびジアルキルフマレートおよびマレエート
（ａ４１２２）（ポリ）オキシアルキレン（Ｃ２〜４）基（重合度１〜３０）を有する不飽和カルボン酸［上記（ａ３１）および（ａ３２）］のエステル
例えば２価アルコール［例えばＣ２〜１２のアルキレングリコール］のモノ−およびジ（メタ）アクリレート［例えばヒドロキシエチル（メタ）アクリレート］、ポリエーテルジオール｛ポリアルキレングリコール〔分子量１０６〜数平均分子量［以下、Ｍｎと略記。特に断りのない限り測定はＧＰＣ（ゲルパーミエイションクロマトグラフィー）法による。ＧＰＣ装置：ＨＬＣ−８２２０、東ソー（株）製］１，０００〕、例えばポリエチレングリコール（Ｍｎ３００）およびポリプロピレングリコール（Ｍｎ５００）、および芳香環含有ポリオキシアルキレンジオール、例えばビスフェノールＡのエチレンオキシド（以下、ＥＯと略記）および／またはプロピレンオキシド（以下、ＰＯと略記）付加物｝のモノ−およびジ（メタ）アクリレート、前記ポリエーテルモノオール〔例えば１価アルコール、１価フェノール等の活性水素原子を１個有する開始剤にアルキレンオキシド（以下、ＡＯと略記）（例えばＣ２〜１２、例えばＥＯ、ＰＯ、１，２−、２，３−および１，４−ブチレンオキシド）を付加させた構造を有するポリオキシアルキレンモノオール、例えばポリオキシアルキレンアルキル（Ｃ１〜１８）エーテル［例えばメチルアルコールＥＯ（１０モル）付加物およびラウリルアルコールＥＯ（３０モル）付加物］〕の（メタ）アクリレート；およびこれらに相当する（イソ）クロトネート、フマレートおよびマレエート (A412) Unsaturated carboxylic acid ester [other than (a2) above]
(A4121) Unsaturated monocarboxylic acid other than (meth) acrylic acid having a linear, branched or alicyclic C1-22 (cyclo) alkyl group [above (a31)] (cyclo) alkyl ester, cycloalkyl ( Di (cyclo) alkyl esters of (meth) acrylates and unsaturated dicarboxylic acids [above (a32)], such as alkyl (iso) crotonates, cyclohexyl (meth) acrylates, and dialkyl fumarate and maleate (a4122) (poly) oxyalkylene ( C2-4) Esters of unsaturated carboxylic acids having a group (degree of polymerization 1-30) [above (a31) and (a32)] eg mono- and di (meta) of dihydric alcohols [eg C2-12 alkylene glycol] ) Acrylate [eg hydroxyethyl (meth) acrylate Rate, polyether diol {polyalkylene glycol [molecular weight 106 to number average molecular weight [hereinafter, abbreviated as Mn. Unless otherwise specified, the measurement is based on the GPC (gel permeation chromatography) method. GPC apparatus: HLC-8220, manufactured by Tosoh Corporation] 1,000], for example, polyethylene glycol (Mn300) and polypropylene glycol (Mn500), and aromatic ring-containing polyoxyalkylene diol, for example, ethylene oxide of bisphenol A (hereinafter referred to as EO) Abbreviation) and / or propylene oxide (hereinafter abbreviated as PO) adduct} mono- and di (meth) acrylates, polyether monools [for example, having one active hydrogen atom such as monohydric alcohol, monohydric phenol, etc. Polyoxyalkylene having a structure in which an alkylene oxide (hereinafter abbreviated as AO) (for example, C2-12, such as EO, PO, 1,2-, 2,3- and 1,4-butylene oxide) is added to an initiator Monools such as polyoxyalkylene alkyls (C1-18) ethers [such as methyl alcohol EO (10 moles) adduct and lauryl alcohol EO (30 moles) adduct] of] (meth) acrylate; and equivalent thereto (iso) crotonate, fumarate and maleate

（ａ４２）不飽和エーテル
（ａ４２１）脂肪族アルケニルおよびアルカジエニルエーテル（Ｃ３〜２０）
例えばビニルエーテル（以下、ＶＥと略記）、例えばアルキル（Ｃ１〜１０）ＶＥ（例えばメチル、エチル、プロピル、ブチルおよび２−エチルヘキシルＶＥ）；（ポリ）オキシアルキレン（Ｃ２〜４）基（重合度１〜３０）を有するアルケニルエーテル（ＶＥ等）、例えば（ポリ）アルコキシ（Ｃ１〜６）アルキル（Ｃ１〜４）ＶＥ（例えば２−メトキシエチルＶＥ、２−ブトキシエチルＶＥ、２−ブトキシ−２’−ビニロキシジエチルエーテルおよび２−エチルメルカプトエチルＶＥ）；メトキシブタジエン；および（メタ）アリルエーテル、例えばポリ（２〜４）（メタ）アリロキシアルカン（Ｃ２〜６）［例えばジ−、トリ−およびテトラ（メタ）アリロキシエタン、テトラ（メタ）アリロキシプロパンおよびテトラ（メタ）アリロキシブタン］
（ａ４２２）芳香族不飽和エーテル（Ｃ８〜２０）
フェニルＶＥおよびフェノキシスチレン
（ａ４２３）複素環式不飽和エーテル、例えば３，４−ジヒドロ−１，２−ピラン (A42) unsaturated ether (a421) aliphatic alkenyl and alkadienyl ether (C3-20)
For example, vinyl ether (hereinafter abbreviated as VE), for example, alkyl (C1-10) VE (for example, methyl, ethyl, propyl, butyl and 2-ethylhexyl VE); (poly) oxyalkylene (C2-4) group (degree of polymerization of 1 30), such as (poly) alkoxy (C1-6) alkyl (C1-4) VE (eg 2-methoxyethyl VE, 2-butoxyethyl VE, 2-butoxy-2′-vinyl) Methoxybutadiene; and (meth) allyl ethers such as poly (2-4) (meth) allyloxyalkanes (C2-6) [eg di-, tri- and tetra ( (Meth) allyloxyethane, tetra (meth) allyloxypropane and tetra (meth) allyloxy Shibutan]
(A422) Aromatic unsaturated ether (C8-20)
Phenyl VE and phenoxystyrene (a423) heterocyclic unsaturated ethers such as 3,4-dihydro-1,2-pyran

（ａ４３）ビニルケトン
例えば脂肪族ビニルケトン（Ｃ４〜２５）および芳香族ビニルケトン（Ｃ９〜２１）、例えばメチルビニル、エチルビニル、ジビニルおよびフェニルビニルケトン
（ａ４４）サルファイド結合含有モノマー（Ｃ４〜２０）
（ａ４２）に相当するサルファイド、例えばジビニルサルファイド、ｐ−ビニルジフェニルサルファイドおよびビニルエチルサルファイド (A43) Vinyl ketones, such as aliphatic vinyl ketones (C4-25) and aromatic vinyl ketones (C9-21), such as methyl vinyl, ethyl vinyl, divinyl and phenyl vinyl ketones (a44) monomers containing sulfide bonds (C4-20)
Sulfides corresponding to (a42), such as divinyl sulfide, p-vinyl diphenyl sulfide and vinyl ethyl sulfide

（ａ４５）スルホン基含有モノマー（Ｃ４〜２５）
（ａ４５１）不飽和スルホンおよびスルホキサイド
ビニルエチルスルホン、ジビニルスルホンおよびジビニルスルホキサイド
（ａ４５２）不飽和スルホン酸
例えばアルケンスルホン酸［例えばビニルスルホン酸および（メタ）アリルスルホン酸］、不飽和芳香族スルホン酸（例えばスチレンスルホン酸およびα−メチルスチレンスルホン酸）、スルホカルボン酸（例えばα−スルホアルカン酸およびスルホコハク酸）のアルケニルおよびアルキル（Ｃ１〜１８）アルケニルエステル［例えばメチルビニル、プロピル（メタ）アリルおよびステアリル（メタ）アリルスルホサクシネート、および（メタ）アリルスルホラウレート］、スルホ（ヒドロキシ）アルキル（メタ）アクリレートおよび相当する（メタ）アクリルアミド［例えばスルホエチルおよびスルホプロピル（メタ）アクリレート、３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロパンスルホン酸、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸および３−（メタ）アクリルアミド−２−ヒドロキシプロパンスルホン酸］ (A45) Sulfone group-containing monomer (C4-25)
(A451) Unsaturated sulfone and sulfoxide Vinylethyl sulfone, divinyl sulfone and divinyl sulfoxide (a452) Unsaturated sulfonic acid such as alkene sulfonic acid [eg vinyl sulfonic acid and (meth) allyl sulfonic acid], unsaturated aromatic sulfonic acid Alkenyl and alkyl (C1-18) alkenyl esters of sulfocarboxylic acids (eg α-sulfoalkanoic acids and sulfosuccinic acids) [eg methyl vinyl, propyl (meth) allyl and Stearyl (meth) allylsulfosuccinate, and (meth) allylsulfolaurate], sulfo (hydroxy) alkyl (meth) acrylates and corresponding (meth) acrylamides [eg sulfoe And sulfopropyl (meth) acrylate, 3- (meth) acryloyloxy-2-hydroxypropanesulfonic acid, 2- (meth) acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid and 3- (meth) acrylamide-2-hydroxypropanesulfone acid]

（ａ５）リン含有不飽和モノマー（Ｃ５〜３０）
（ａ５１）リン酸基含有不飽和モノマー、例えば（メタ）アクリロイロキシアルキル（Ｃ１〜２４）モノ−およびジホスフェート、例えば２−（メタ）アクリロイロキシエチルホスフェートおよびフェニル−２−（メタ）アクリロイロキシエチルホスフェート
（ａ５２）ホスホン酸基含有不飽和モノマー、例えば（メタ）アクリロイロキシアルカン（Ｃ１〜２４）ホスホン酸、例えば２−アクリロイルオキシエチルホスホン酸
（ａ５３）上記（ａ５１）および（ａ５２）の塩［前記（ａ３４）におけると同様の塩］ (A5) Phosphorus-containing unsaturated monomer (C5-30)
(A51) phosphate group-containing unsaturated monomers such as (meth) acryloyloxyalkyl (C1-24) mono- and diphosphates such as 2- (meth) acryloyloxyethyl phosphate and phenyl-2- (meth) acryl Leuoxyethyl phosphate (a52) phosphonic acid group-containing unsaturated monomers such as (meth) acryloyloxyalkane (C1-24) phosphonic acid such as 2-acryloyloxyethylphosphonic acid (a53) above (a51) and (a52) [Salts similar to those in (a34) above]

（ａ６）窒素含有モノマー
（ａ６１）アミド基含有モノマー
例えば（メタ）アクリルアミドモノマー（Ｃ３〜２０）、例えば（メタ）アクリルアミド［但し、後述の（ａ７）を除く］；Ｎ−アルキル（Ｃ１〜６）（メタ）アクリルアミド、例えばＮ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブチル（メタ）アクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−メチレン−ビス（メタ）アクリルアミド；Ｎ，Ｎ−ジアルキル（Ｃ１〜６）もしくはジアラルキル（Ｃ７〜１５）（メタ）アクリルアミド、例えばＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアクリルアミド；上記（メタ）アクリルアミドモノマーを除くアミド基含有ビニルモノマー（Ｃ４〜２０）、例えばメタアクリルホルムアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−ビニルアセトアミド、桂皮酸アミド、環状アミド（Ｎ−ビニルピロリドンなど）、４級アンモニウム基含有ビニルモノマー［例えばジメチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリルアミドなどの３級アミノ基含有ビニルモノマーの４級化物（メチルクロライド、ジメチル硫酸、ベンジルクロライド、ジメチルカーボネートなどの４級化剤を用いて４級化したもの）］ (A6) Nitrogen-containing monomer (a61) Amide group-containing monomer For example, (meth) acrylamide monomer (C3-20), such as (meth) acrylamide [except for (a7) described later]; N-alkyl (C1-6) (Meth) acrylamide, such as N-methyl (meth) acrylamide, N-butyl (meth) acrylamide, diacetone acrylamide, N, N′-methylene-bis (meth) acrylamide; N, N-dialkyl (C1-6) or Diaralkyl (C7-15) (meth) acrylamide, such as N, N-dimethylacrylamide, N, N-dibenzylacrylamide; Amide group-containing vinyl monomer (C4-20) excluding the above (meth) acrylamide monomer, such as methacrylformamide N-methyl-N-vinylacetoa Cinnamates, cyclic amides (N-vinylpyrrolidone, etc.), quaternary ammonium group-containing vinyl monomers [for example, tertiary amino group-containing vinyl monomers such as dimethylaminoethyl (meth) acrylamide, diethylaminoethyl (meth) acrylamide 4 Graded product (quaternized with a quaternizing agent such as methyl chloride, dimethyl sulfate, benzyl chloride, dimethyl carbonate)]

（ａ６２）（メタ）アクリレートモノマー（Ｃ５〜２０）
例えば１級、２級アミノ基含有（メタ）アクリレート、例えばアミノアルキル（Ｃ１〜６）（メタ）アクリレート［例えばアミノエチル（メタ）アクリレート］、アルキル（Ｃ１〜６）アミノアルキル（Ｃ１〜６）（メタ）アクリレート［例えばｔ−ブチルアミノエチルメタアクリレート］；３級アミノ基含有（メタ）アクリレート、例えばジアルキル（Ｃ１〜４）アミノアルキル（Ｃ１〜４）（メタ）アクリレート［例えばジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジ−ｔ−ブチルアミノエチルメタアクリレートおよびモルホリノエチル（メタ）アクリレート］；４級アンモニウム基含有（メタ）アクリレート、例えばジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレートなどの３級アミノ基含有（メタ）アクリレートの４級化物（前掲の４級化剤を用いて４級化したもの） (A62) (Meth) acrylate monomer (C5-20)
For example, primary and secondary amino group-containing (meth) acrylates such as aminoalkyl (C1-6) (meth) acrylate [eg aminoethyl (meth) acrylate], alkyl (C1-6) aminoalkyl (C1-6) ( (Meth) acrylate [eg t-butylaminoethyl methacrylate]; tertiary amino group-containing (meth) acrylate, eg dialkyl (C1-4) aminoalkyl (C1-4) (meth) acrylate [eg dimethylaminoethyl (meth) Acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, di-t-butylaminoethyl methacrylate and morpholinoethyl (meth) acrylate]; quaternary ammonium group-containing (meth) acrylate such as dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl Tertiary amino group-containing, such as meth) acrylate (meth) quaternized product of acrylate (those quaternized with supra quaternizing agent)

（ａ６３）複素環含有モノマー
例えばピリジン化合物（Ｃ７〜１４）、例えば４−ビニルピリジン、２−ビニルピリジン；イミダゾール化合物（Ｃ５〜１２）、例えばＮ−ビニルイミダゾール）；ピロール化合物（Ｃ６〜１３）、例えばＮ−ビニルピロール
（ａ６４）ニトリル基含有モノマー（Ｃ３〜１５）
例えば（メタ）アクリロニトリル、シアノスチレンおよびシアノアルキル（Ｃ１〜４）アクリレート
（ａ６５）その他の窒素含有モノマー
ニトロ基含有モノマー（Ｃ８〜１６）、例えばニトロスチレン (A63) Heterocycle-containing monomer such as pyridine compound (C7-14) such as 4-vinylpyridine, 2-vinylpyridine; imidazole compound (C5-12) such as N-vinylimidazole; pyrrole compound (C6-13), For example, N-vinylpyrrole (a64) nitrile group-containing monomer (C3-15)
For example (meth) acrylonitrile, cyanostyrene and cyanoalkyl (C1-4) acrylate (a65) and other nitrogen-containing monomers Nitro group-containing monomers (C8-16) such as nitrostyrene

（ａ７）水酸基含有モノマー
（ａ７１）スチレン系モノマー（Ｃ８〜１５）、例えばヒドロキシスチレン
（ａ７２）（メタ）アクリルアミド系モノマー（Ｃ４〜１０）、例えばＮ−メチロール（メタ）アクリルアミド
（ａ７３）不飽和カルボン酸エステル（Ｃ５〜１２）
ヒドロキシアルキル（Ｃ１〜６）（メタ）アクリレート［例えばヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート］；ポリ（ｎ＝２〜３０）オキシアルキレン（Ｃ２〜４）鎖を有する水酸基含有モノマー〔例えばポリオキシアルキレンモノ（メタ）アクリレート［例えばポリ（ｎ＝１０）オキシエチレンモノ（メタ）アクリレート］〕；ポリ（ｎ＝２〜３０）オキシアルキレン（Ｃ２〜４）不飽和カルボン酸（ジ）エステル［例えばポリ（ｎ＝１０）オキシエチレンマレイン酸（ジ）エステル］；ポリ（ｎ＝２〜３０）オキシアルキレン（Ｃ２〜４）（メタ）アリルエーテル、例えばポリ（ｎ＝１０）オキシエチレン（メタ）アリルエーテル (A7) Hydroxyl group-containing monomer (a71) Styrene monomer (C8-15) such as hydroxystyrene (a72) (meth) acrylamide monomer (C4-10) such as N-methylol (meth) acrylamide (a73) unsaturated carboxylic acid Acid ester (C5-12)
Hydroxyalkyl (C1-6) (meth) acrylate [for example, hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate]; hydroxyl-containing monomer having a poly (n = 2-30) oxyalkylene (C2-4) chain [ For example, polyoxyalkylene mono (meth) acrylate [for example, poly (n = 10) oxyethylene mono (meth) acrylate]]; poly (n = 2-30) oxyalkylene (C2-4) unsaturated carboxylic acid (di) ester [Eg poly (n = 10) oxyethylenemaleic acid (di) ester]; poly (n = 2-30) oxyalkylene (C2-4) (meth) allyl ether, eg poly (n = 10) oxyethylene (meta) ) Allyl ether

（ａ７４）アルコール（Ｃ３〜８）
例えば（メタ）アリルアルコール、クロチルアルコール、イソクロチルアルコール、１−ブテン−３−オールおよび２−ブテン−１，４−ジオール
（ａ７５）水酸基含有エーテル（Ｃ５〜２０）
例えばヒドロキシアルキル（Ｃ１〜６）アルケニル（Ｃ３〜６）エーテル、例えば２−ヒドロキシエチルプロペニルエーテル、多価アルコール（２価〜８価またはそれ以上でＣ２〜２０、例えばエチレングリコール、グリセリン、グルコースおよび蔗糖）の前記のもの）のアリルエーテル（例えば蔗糖アリルエーテル）。 (A74) Alcohol (C3-8)
For example, (meth) allyl alcohol, crotyl alcohol, isocrotyl alcohol, 1-buten-3-ol and 2-butene-1,4-diol (a75) hydroxyl group-containing ether (C5-20)
For example, hydroxyalkyl (C1-6) alkenyl (C3-6) ethers, such as 2-hydroxyethylpropenyl ether, polyhydric alcohols (divalent to octavalent or higher, C2-20, such as ethylene glycol, glycerin, glucose and sucrose ) Of allyl ethers such as sucrose allyl ether.

ポリオレフィン樹脂（Ａ１１）には、上記エチレン性不飽和モノマーのうち（ａ１１）のモノマーの（共）重合体、例えばポリエチレン（ＰＥ樹脂）、ポリプロピレン［（透明）ＰＰ樹脂］、エチレン−プロピレン共重合体［共重合比（重量比）＝９９．９／０．１〜０．１／９９．９］、エチレンおよび／またはプロピレンと他のα−オレフィン［Ｃ４〜１２］の１種以上との共重合体［共重合比（重量比）＝９９／１〜５／９５、ランダムおよび／またはブロック付加］や、（ａ１１）と（ａ４１１）のモノマーの共重合体、例えばエチレン／酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）［共重合比（重量比）＝９５／５〜６０／４０］、（ａ１１）と（ａ２）のモノマーの共重合体、例えばエチレン／エチルアクリレート共重合体（ＥＥＡ）［共重合比（重量比）＝９５／５〜６０／４０］、およびこれらの混合物が含まれる。
これらのうち後述する樹脂組成物（以下、単に樹脂組成物という）の成形性の観点から好ましいのは（ａ１１）のモノマーの（共）重合体、さらに好ましいのはポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体およびエチレンおよび／またはプロピレンとＣ４〜１２のα−オレフィンの１種以上との共重合体［共重合比（重量比）＝９０／１０〜１０／９０、ランダムおよび／またはブロック付加］である。 The polyolefin resin (A11) includes (co) polymers of the monomer (a11) among the ethylenically unsaturated monomers, such as polyethylene (PE resin), polypropylene [(transparent) PP resin], ethylene-propylene copolymer. [Copolymerization ratio (weight ratio) = 99.9 / 0.1 to 0.1 / 99.9], copolymerization of ethylene and / or propylene with one or more other α-olefins [C4-12] Copolymer [copolymerization ratio (weight ratio) = 99/1 to 5/95, random and / or block addition], copolymer of monomers of (a11) and (a411), for example, ethylene / vinyl acetate copolymer ( EVA) [copolymerization ratio (weight ratio) = 95 / 5-60 / 40], copolymer of monomers of (a11) and (a2), for example, ethylene / ethyl acrylate copolymer (EEA) [copolymerization The ratio (weight ratio) = 95 / 5-60 / 40], and mixtures thereof.
Among these, from the viewpoint of moldability of a resin composition described later (hereinafter simply referred to as a resin composition), a (co) polymer of the monomer (a11) is preferable, and polyethylene, polypropylene, and ethylene-propylene copolymer are more preferable. Polymer and copolymer of ethylene and / or propylene and one or more of C4-12 α-olefin [copolymerization ratio (weight ratio) = 90/10 to 10/90, random and / or block addition] is there.

（Ａ１１）のメルトフローレート（以下、ＭＦＲと略記）は、後述の成形品の樹脂物性および帯電防止性付与の観点から好ましくは０．５〜１５０、さらに好ましくは１〜１００である。（Ａ１１）のＭＦＲは、ＪＩＳ Ｋ７２１０（１９７６年）に準じて（ポリプロピレンの場合は、２３０℃、荷重２．１６ｋｇｆ、またポリエチレンの場合は、１９０℃、荷重２．１６ｋｇｆ）測定される。   The melt flow rate (hereinafter abbreviated as MFR) of (A11) is preferably from 0.5 to 150, more preferably from 1 to 100, from the viewpoint of imparting resin physical properties and antistatic properties to the molded product described later. The MFR of (A11) is measured according to JIS K7210 (1976) (in the case of polypropylene, 230 ° C., load 2.16 kgf, and in the case of polyethylene, 190 ° C., load 2.16 kgf).

ポリアクリル樹脂（Ａ１２）には、アクリルモノマー［例えば上記モノマー（ａ２）および（メタ）アクリロニトリル］の１種以上の（共）重合体［例えばポリメタアクリル酸メチル（ＰＭＭＡ樹脂）、ポリアクリル酸メチル（ＰＭＡＡ樹脂）およびポリ（メタ）アクリル酸ブチル］およびこれらのモノマーの１種以上と共重合可能な、上記モノマー（ａ１１）のうちのオレフィンと（ａ１３）を除くその他のビニルモノマーの１種以上との共重合体［アクリルモノマー／他のビニルモノマー共重合比（重量比）は、樹脂組成物の成形性および成形品の樹脂物性の観点から好ましくは５／９５〜９５／５、さらに好ましくは５０／５０〜９０／１０］が含まれる。   The polyacrylic resin (A12) includes one or more (co) polymers of acrylic monomers [for example, the above monomers (a2) and (meth) acrylonitrile] [for example, polymethyl methacrylate (PMMA resin), polymethyl acrylate. (PMAA resin) and poly (meth) butyl acrylate] and one or more of the above-mentioned monomers (a11) and other vinyl monomers excluding (a13) copolymerizable with one or more of these monomers [Acrylic monomer / other vinyl monomer copolymerization ratio (weight ratio) is preferably from 5/95 to 95/5, more preferably from the viewpoint of moldability of the resin composition and resin physical properties of the molded article. 50 / 50-90 / 10].

（Ａ１２）のＭＦＲは、成形品の樹脂物性の観点から好ましくは０．５〜１５０、さらに好ましくは１〜１００である。（Ａ１２）のＭＦＲは、ＪＩＳ Ｋ７２１０（１９７６年）に準じて［ポリアクリル樹脂（Ａ１２）の場合は２３０℃、荷重１．２ｋｇｆ］測定される。   The MFR of (A12) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoint of the resin physical properties of the molded product. The MFR of (A12) is measured according to JIS K7210 (1976) [230 ° C., load 1.2 kgf for polyacrylic resin (A12)].

ポリスチレン樹脂（Ａ１３）には、上記モノマー（ａ１３）単独または（ａ１３）と、（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリロニトリルおよびブタジエンからなる群から選ばれる少なくとも１種を構成単位とする共重合体が含まれる。
（Ａ１３）の具体例としては、ポリスチレン（ＰＳ樹脂）、ポリビニルトルエン、スチレン／アクリロニトリル共重合体（ＡＳ樹脂）［共重合比（重量比）＝７０／３０〜８０／２０］、スチレン／メタクリル酸メチル共重合体（ＭＳ樹脂）［共重合比（重量比）＝６０／４０〜９０／１０］、スチレン／ブタジエン共重合体（ＨＩＰＳ樹脂）［共重合比（重量比）＝６０／４０〜９５／５］、アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン共重合体［（透明）ＡＢＳ樹脂］［共重合比（重量比）＝（２０〜３０）／（５〜４０）／（４０〜７０）］、メタクリル酸メチル／ブタジエン／スチレン共重合体（ＭＢＳ樹脂）［共重合比（重量比）＝（２０〜３０）／（５〜４０）／（４０〜７０）］等が挙げられる。 For the polystyrene resin (A13), the monomer (a13) alone or a copolymer having at least one selected from the group consisting of (a13) and (meth) acrylic acid ester, (meth) acrylonitrile and butadiene as a structural unit Is included.
Specific examples of (A13) include polystyrene (PS resin), polyvinyltoluene, styrene / acrylonitrile copolymer (AS resin) [copolymerization ratio (weight ratio) = 70/30 to 80/20], styrene / methacrylic acid. Methyl copolymer (MS resin) [copolymerization ratio (weight ratio) = 60/40 to 90/10], styrene / butadiene copolymer (HIPS resin) [copolymerization ratio (weight ratio) = 60/40 to 95 / 5], acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer [(transparent) ABS resin] [copolymerization ratio (weight ratio) = (20-30) / (5-40) / (40-70)], methyl methacrylate / Butadiene / styrene copolymer (MBS resin) [copolymerization ratio (weight ratio) = (20-30) / (5-40) / (40-70)].

（Ａ１３）のＭＦＲは、成形品の樹脂物性および帯電防止性の観点から好ましくは０．５〜１５０、さらに好ましくは１〜１００である。（Ａ１３）のＭＦＲは、ＪＩＳ Ｋ７２１０（１９７６年）に準じて（ポリスチレン樹脂の場合は２３０℃、荷重１．２ｋｇｆ）測定される。   The MFR of (A13) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoint of the resin physical properties and antistatic properties of the molded product. The MFR of (A13) is measured according to JIS K7210 (1976) (in the case of polystyrene resin, 230 ° C., load 1.2 kgf).

ポリエステル樹脂（Ａ２）には、縮合ポリエステル、例えばＣ２〜４０のジカルボン酸（例えば脂肪族、脂環式および芳香環含有ジカルボン酸）および／またはこれらのエステル形成性誘導体（Ｃ１〜４のアルキルエステルおよび無水物等）とジオールとの縮合物、およびラクトンの開環重合物が含まれる。   Polyester resins (A2) include condensed polyesters such as C2-40 dicarboxylic acids (eg aliphatic, alicyclic and aromatic ring-containing dicarboxylic acids) and / or their ester-forming derivatives (C1-4 alkyl esters and Anhydrides) and diol condensation products, and lactone ring-opening polymers.

上記ジカルボン酸のうち、脂肪族ジカルボン酸としては、Ｃ２〜４０（好ましくは４〜２０、さらに好ましくは６〜１２）、例えばコハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカンジ酸およびドデカンジ酸が挙げられる。
脂環式ジカルボン酸としては、Ｃ５〜２０（好ましくは６〜１８、さらに好ましくは８〜１４）、例えば１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、ジシクロヘキシル−４，４’−ジカルボン酸およびショウノウ酸が挙げられる。
芳香環含有ジカルボン酸としては、Ｃ８〜２０（好ましくは８〜１６、さらに好ましくは８〜１４）、例えばオルト−、イソ−およびテレフタル酸、ナフタレン−２，６−および−２，７−ジカルボン酸、ジフェニル−４，４’ジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸、トリレンジカルボン酸、キシリレンジカルボン酸および５−スルホイソフタル酸アルカリ金属（例えばリチウム、ナトリウムおよびカリウム）塩が挙げられる。 Among the above dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids include C2-40 (preferably 4-20, more preferably 6-12), such as succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, Examples include sebacic acid, undecanedioic acid and dodecanedioic acid.
Alicyclic dicarboxylic acids include C5-20 (preferably 6-18, more preferably 8-14), such as 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, dicyclohexyl-4,4'-dicarboxylic acid and camphoric acid. .
Examples of aromatic ring-containing dicarboxylic acids include C8-20 (preferably 8-16, more preferably 8-14), such as ortho-, iso- and terephthalic acid, naphthalene-2,6- and -2,7-dicarboxylic acid. , Diphenyl-4,4′dicarboxylic acid, diphenoxyethanedicarboxylic acid, tolylene dicarboxylic acid, xylylene dicarboxylic acid and alkali metal 5-sulfoisophthalic acid (for example, lithium, sodium and potassium) salts.

上記ジオールには、２５０未満の水酸基当量（水酸基価に基づく、水酸基当りの分子量。以下、ＯＨ当量と略記）を有する低分子ジオールおよび少なくとも２５０、好ましくは２５０〜３，０００、さらに好ましくは３５０〜２，５００、とくに好ましくは４００〜２，０００のＯＨ当量を有するポリエーテルジオールが含まれる。
低分子ジオールとしては、脂肪族２価アルコール［Ｃ２〜１２（好ましくは２〜８、さらに好ましくは２〜６）のアルキレングリコール、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−および２，３−ブチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，２−、１，３−、１，４−、１，５−、１，６−、２，３−、２，４−、２，５−および３，４−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、２，２−、２，３−、２，４−、２，５−、３，３−および３，４−ジメチル−１，６−ヘキサンジオールおよび１，１２−ドデカンジオール］；脂環式２価アルコール［Ｃ５〜１２（好ましくは５〜１０、さらに好ましくは５〜８）、例えばシクロペンタン−１，２−および１，３−ジオール、シクロヘキサン−１，２−、１，３−および１，４−ジオール、ビス（ヒドロキシメチル）シクロヘキサンおよび水素添加ビスフェノールＡ］；および芳香環含有２価アルコール［Ｃ８〜２０、例えばキシリレングリコール、ビス（ヒドロキシメチル）ベンゼンおよびビス（ヒドロキシエチル）ベンゼン］が挙げられる。 The diol includes a low molecular weight diol having a hydroxyl equivalent weight of less than 250 (based on hydroxyl value, molecular weight per hydroxyl group; hereinafter abbreviated as OH equivalent) and at least 250, preferably 250 to 3,000, more preferably 350 to 3,000. Polyether diols having an OH equivalent weight of 2,500, particularly preferably 400 to 2,000 are included.
Low molecular diols include aliphatic dihydric alcohols [C2-12 (preferably 2-8, more preferably 2-6) alkylene glycols such as ethylene glycol, propylene glycol, 1,3- and 2,3-butylene. Glycol, 1,4-butanediol, 1,2-, 1,3-, 1,4-, 1,5-, 1,6-, 2,3-, 2,4-, 2,5- and 3 , 4-hexanediol, neopentyl glycol, 2,2-, 2,3-, 2,4-, 2,5-, 3,3- and 3,4-dimethyl-1,6-hexanediol and 1, 12-dodecanediol]; alicyclic dihydric alcohol [C5-12 (preferably 5-10, more preferably 5-8), such as cyclopentane-1,2- and 1,3-diol, cyclohexane-1, 2--1, 3- and 1,4-diol, bis (hydroxymethyl) cyclohexane and hydrogenated bisphenol A]; and aromatic ring-containing dihydric alcohols [C8-20, such as xylylene glycol, bis (hydroxymethyl) benzene and bis (hydroxyethyl) ) Benzene].

ポリエーテルジオールとしては、上記低分子ジオールのＡＯ（Ｃ２〜４、以下同じ）付加物、および２価フェノール［例えば単環フェノール（Ｃ６〜１６、例えばハイドロキノン、カテコール、レゾルシンおよびウルシオール）、縮合多環フェノール（Ｃ１０〜３０、例えばジヒドロキシナフタレンおよびビナフトール）およびビスフェノール（Ｃ１２〜１８、例えばビスフェノールＡ、−Ｆおよび−Ｓ）］のＡＯ付加物が挙げられる。   Examples of the polyether diol include AO (C2-4, the same applies hereinafter) adducts of the above low molecular diols, and dihydric phenols (for example, monocyclic phenols (C6-16, such as hydroquinone, catechol, resorcin and urushiol), AO adducts of cyclic phenols (C10-30, such as dihydroxynaphthalene and binaphthol) and bisphenols (C12-18, such as bisphenol A, -F and -S)].

上記ラクトンとしては、Ｃ６〜１２、例えばカプロラクトン、エナントラクトン、ラウロラクトンおよびウンデカノラクトンが挙げられる。   Examples of the lactone include C6-12, such as caprolactone, enanthlactone, laurolactone, and undecanolactone.

縮合ポリエステルのうち、脂肪族ポリエステルとしては、例えばポリブチレンアジペート、ポリエチレンアジペートおよびポリ−ε−カプロラクトン、脂環式ポリエステルとしては、例えばポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレート、および芳香環含有ポリエステルとしては、例えばポリエチレンテレフタレートおよびポリブチレンテレフタレートが挙げられる。   Among the condensed polyesters, examples of the aliphatic polyester include polybutylene adipate, polyethylene adipate and poly-ε-caprolactone, examples of the alicyclic polyester include polycyclohexanedimethylene terephthalate, and examples of the aromatic ring-containing polyester include polyethylene terephthalate. And polybutylene terephthalate.

ラクトンの開環重合物としては、例えば、アジピン酸、テレフタル酸、イソフタル酸またはセバシン酸を分子量調整剤としたカプロラクトンの各開環重合体、アジピン酸を分子量調整剤としたエナントラクトンの開環重合体およびアジピン酸を分子量調整剤としたウンデカノラクトンの開環重合体が挙げられる。   Examples of the ring-opening polymer of lactone include, for example, each ring-opening polymer of caprolactone using adipic acid, terephthalic acid, isophthalic acid or sebacic acid as a molecular weight regulator, and ring opening weight of enanthlactone using adipic acid as a molecular weight regulator. Examples include ring-opening polymers of undecanolactone using a combination and adipic acid as a molecular weight modifier.

（Ａ２）の固有粘度［η］は、成形品の樹脂物性および帯電防止性の観点から好ましくは０．１〜４、さらに好ましくは０．２〜３．５、とくに好ましくは０．３〜３である。［η］はポリマーの０．５重量％オルトクロロフェノール溶液について、２５℃でウベローデ１Ａ粘度計を用いて測定される。   The intrinsic viscosity [η] of (A2) is preferably 0.1 to 4, more preferably 0.2 to 3.5, particularly preferably 0.3 to 3 from the viewpoint of the resin physical properties and antistatic properties of the molded product. It is. [Η] is measured with a Ubbelohde 1A viscometer at 25 ° C. for a 0.5 wt% orthochlorophenol solution of the polymer.

ポリアミド樹脂（Ａ３）には、ラクタム開環重合体（Ａ３１）、アミノカルボン酸の自己重縮合体（Ａ３２）およびジアミンとジカルボン酸の脱水重縮合体（Ａ３３）、およびこれらの重（縮）合体を構成するモノマー単位が２種類以上である共重合ナイロンが含まれる。   The polyamide resin (A3) includes a lactam ring-opening polymer (A31), a self-polycondensation product of aminocarboxylic acid (A32), a dehydration polycondensation product of diamine and dicarboxylic acid (A33), and a poly (condensation) combination thereof. Copolymer nylon having two or more types of monomer units constituting is included.

（Ａ３１）を構成するラクタムとしては、Ｃ６〜１２、例えばカプロラクタム、エナントラクタム、ラウロラクタムおよびウンデカノラクタムが挙げられる。
（Ａ３１）としては、ナイロン４、ナイロン５、ナイロン６、ナイロン８およびナイロン１２が挙げられる。
（Ａ３２）を構成するアミノカルボン酸としては、Ｃ６〜１２、例えばω−アミノカプロン酸、ω−アミノエナント酸、ω−アミノカプリル酸、ω−アミノペラルゴン酸、ω−アミノカプリン酸、１１−アミノウンデカン酸および１２−アミノドデカン酸が挙げられる。
（Ａ３２）としては、アミノエナント酸の重縮合によるナイロン７、ω−アミノウンデカン酸の重縮合によるナイロン１１および１２−アミノドデカン酸の重縮合によるナイロン１２等が挙げられる。 Examples of the lactam constituting (A31) include C6-12, such as caprolactam, enantolactam, laurolactam, and undecanolactam.
(A31) includes nylon 4, nylon 5, nylon 6, nylon 8 and nylon 12.
As the aminocarboxylic acid constituting (A32), C6-12, for example, ω-aminocaproic acid, ω-aminoenanthic acid, ω-aminocaprylic acid, ω-aminopelargonic acid, ω-aminocapric acid, 11-aminoundecane And acid and 12-aminododecanoic acid.
Examples of (A32) include nylon 7 by polycondensation of aminoenanthic acid, nylon 11 by polycondensation of ω-aminoundecanoic acid, and nylon 12 by polycondensation of 12-aminododecanoic acid.

（Ａ３３）を構成するジカルボン酸としては、脂肪族ジカルボン酸、芳香（脂肪）族ジカルボン酸、脂環式ジカルボン酸、これらのアミド形成性誘導体［例えば酸無水物および低級（Ｃ１〜４）アルキルエステル］およびこれらの２種以上の混合物が挙げられる。   Examples of the dicarboxylic acid constituting (A33) include aliphatic dicarboxylic acids, aromatic (aliphatic) dicarboxylic acids, alicyclic dicarboxylic acids, amide-forming derivatives thereof [for example, acid anhydrides and lower (C1-4) alkyl esters. And a mixture of two or more thereof.

脂肪族ジカルボン酸としては、Ｃ４〜２０、例えばコハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカン二酸、ドデカン二酸、マレイン酸、フマル酸およびイタコン酸が挙げられる。
芳香（脂肪）族ジカルボン酸としては、Ｃ８〜２０、例えばオルト−、イソ−およびテレフタル酸、ナフタレン−２，６−および−２，７−ジカルボン酸、ジフェニル−４，４’ジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸および３−スルホイソフタル酸のアルカリ金属（例えばリチウム、ナトリウムおよびカリウム）塩が挙げられる。
脂環式ジカルボン酸としては、Ｃ５〜２０、例えばシクロプロパンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、シクロヘキセンジカルボン酸およびジシクロヘキシル−４，４’−ジカルボン酸が挙げられる。
アミド形成性誘導体のうち酸無水物としては、上記ジカルボン酸の無水物、例えば無水マレイン酸、無水イタコン酸および無水フタル酸が挙げられ、低級（Ｃ１〜４）アルキルエステルとしては上記ジカルボン酸の低級アルキルエステル、例えばアジピン酸ジメチルおよびオルト−、イソ−およびテレフタル酸ジメチルが挙げられる。 Aliphatic dicarboxylic acids include C4-20, such as succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, undecanedioic acid, dodecanedioic acid, maleic acid, fumaric acid and itaconic acid. Can be mentioned.
Aromatic (aliphatic) dicarboxylic acids include C8-20, such as ortho-, iso- and terephthalic acid, naphthalene-2,6- and -2,7-dicarboxylic acid, diphenyl-4,4'dicarboxylic acid, diphenoxy Mention may be made of alkali metal (eg lithium, sodium and potassium) salts of ethanedicarboxylic acid and 3-sulfoisophthalic acid.
Alicyclic dicarboxylic acids include C5-20, such as cyclopropanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, cyclohexenedicarboxylic acid, and dicyclohexyl-4,4′-dicarboxylic acid.
Among the amide-forming derivatives, examples of the acid anhydride include anhydrides of the above dicarboxylic acids, such as maleic anhydride, itaconic anhydride, and phthalic anhydride, and lower (C1-4) alkyl esters include those of the above dicarboxylic acids. Alkyl esters such as dimethyl adipate and ortho-, iso- and dimethyl terephthalate are mentioned.

（Ａ３３）を構成するジアミンとしては、脂肪族、脂環式および芳香（脂肪）族ジアミンが挙げられる。
脂肪族ジアミンとしては、Ｃ２〜２０、例えばエチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、１，１２−ドデカンジアミン、１，１８−オクタデカンジアミンおよび１，２０−エイコサンジアミンが挙げられる。
脂環式ジアミンとしては、Ｃ５〜２０、例えば１，４−シクロヘキシレンジアミン、イソホロンジアミン、４，４’−ジアミノシクロヘキシルメタンおよび２，２−ビス（４−アミノシクロヘキシル）プロパンが挙げられる。
芳香脂肪族ジアミンとしては、Ｃ７〜２０、例えばキシリレンジアミン、ビス（アミノエチル）ベンゼン、ビス（アミノプロピル）ベンゼンおよびビス（アミノブチル）ベンゼンが挙げられる。
芳香族ジアミンとしては、Ｃ６〜２０、例えばｐ−フェニレンジアミン、２，４−および２，６−トルイレンジアミンおよび２，２−ビス（４，４’−ジアミノフェニル）プロパンが挙げられる。 Examples of the diamine constituting (A33) include aliphatic, alicyclic and aromatic (aliphatic) diamines.
Aliphatic diamines include C2-20, such as ethylene diamine, propylene diamine, hexamethylene diamine, 1,12-dodecane diamine, 1,18-octadecane diamine, and 1,20-eicosane diamine.
Alicyclic diamines include C5-20, such as 1,4-cyclohexylenediamine, isophoronediamine, 4,4′-diaminocyclohexylmethane, and 2,2-bis (4-aminocyclohexyl) propane.
Examples of araliphatic diamines include C7-20, such as xylylenediamine, bis (aminoethyl) benzene, bis (aminopropyl) benzene and bis (aminobutyl) benzene.
Aromatic diamines include C6-20, such as p-phenylenediamine, 2,4- and 2,6-toluylenediamine and 2,2-bis (4,4'-diaminophenyl) propane.

（Ａ３３）としては、ヘキサンメチレンジアミンとアジピン酸の重縮合によるナイロン６６、ヘキサメチレンジアミンとセバシン酸の重縮合によるナイロン６１０、ヘキサメチレンジアミンとアゼライン酸の重縮合によるナイロン６９、ヘキサメチレンジアミンとドデカン二酸の重縮合によるナイロン６１２およびテトラメチレンジアミンとアジピン酸の重縮合によるナイロン４６が挙げられる。
また、共重合ナイロンとしては、ナイロン６／６６（ナイロン６とナイロン６６の共重合体）およびナイロン６／１２（ナイロン６とナイロン１２の共重合体）が挙げられる。 (A33) includes nylon 66 by polycondensation of hexanemethylenediamine and adipic acid, nylon 610 by polycondensation of hexamethylenediamine and sebacic acid, nylon 69 by polycondensation of hexamethylenediamine and azelaic acid, hexamethylenediamine and dodecane Nylon 612 by polycondensation of diacid and nylon 46 by polycondensation of tetramethylenediamine and adipic acid.
Examples of the copolymer nylon include nylon 6/66 (a copolymer of nylon 6 and nylon 66) and nylon 6/12 (a copolymer of nylon 6 and nylon 12).

上記（Ａ３）を構成するモノマー（アミド形成性モノマー）として例示したものは２種以上併用してもよい。これらのうち帯電防止性の観点から好ましいのは、カプロラクタム、１２−アミノドデカン酸およびアジピン酸／ヘキサメチレンジアミン、さらに好ましいのはカプロラクタムである。   Those exemplified as the monomer (amide-forming monomer) constituting the above (A3) may be used in combination of two or more. Of these, caprolactam, 12-aminododecanoic acid and adipic acid / hexamethylenediamine are preferable from the viewpoint of antistatic properties, and caprolactam is more preferable.

（Ａ３）の製造に際しては、分子量調整剤を使用してもよく、分子量調整剤としては、上記ジカルボン酸またはジアミンが挙げられる。
分子量調整剤としてのジカルボン酸のうち、ジアミンとの反応性の観点から好ましいのは脂肪族ジカルボン酸および芳香族ジカルボン酸、さらに好ましいのはアジピン酸、セバシン酸、テレフタル酸、イソフタル酸および３−スルホイソフタル酸ナトリウムである。
また、分子量調整剤としてのジアミンのうち、ジカルボン酸との反応性の観点から好ましいのはヘキサメチレンジアミンおよびデカメチレンジアミンである。
分子量調整剤の使用量は、アミド形成性モノマーと分子量調整剤合計の重量に基づいて成形品の帯電防止性および耐熱性の観点から好ましくは２〜８０％、さらに好ましくは４〜７５％である。 In the production of (A3), a molecular weight modifier may be used, and examples of the molecular weight modifier include the dicarboxylic acid or diamine.
Of the dicarboxylic acids as molecular weight modifiers, aliphatic dicarboxylic acids and aromatic dicarboxylic acids are preferred from the viewpoint of reactivity with diamines, and more preferred are adipic acid, sebacic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, and 3-sulfo. Sodium isophthalate.
Of the diamines as molecular weight regulators, hexamethylenediamine and decamethylenediamine are preferred from the viewpoint of reactivity with dicarboxylic acid.
The amount used of the molecular weight modifier is preferably 2 to 80%, more preferably 4 to 75% from the viewpoint of the antistatic property and heat resistance of the molded product based on the total weight of the amide-forming monomer and the molecular weight modifier. .

（Ａ３）のＭＦＲは、成形品の樹脂物性および帯電防止性の観点から好ましくは０．５〜１５０、さらに好ましくは１〜１００である。（Ａ３）のＭＦＲは、ＪＩＳ Ｋ７２１０（１９７６年）に準じて（ポリアミド樹脂の場合は、２３０℃、荷重０．３２５ｋｇｆ）測定される。   The MFR of (A3) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoint of the resin physical properties and antistatic properties of the molded product. The MFR of (A3) is measured according to JIS K7210 (1976) (in the case of polyamide resin, 230 ° C., load 0.325 kgf).

ポリカーボネート樹脂（Ａ４）には、ビスフェノール［Ｃ１２〜２０、例えばビスフェノールＡ、−Ｆおよび−Ｓが挙げられ、（Ｂ）の（Ａ４）に対する分散性の観点から好ましいのはビスフェノールＡ］系ポリカーボネート樹脂（例えば上記ビスフェノールとホスゲンまたは炭酸ジフェニルとの縮合物）、および該ポリカーボネート樹脂とＡＢＳ樹脂とのポリマーアロイ［ＰＣ／ＡＢＳ樹脂（ＰＣ／ＡＢＳ重量比＝９０／１０〜１０／９０）］が含まれる。
（Ａ４）のＭＦＲは、成形品の樹脂物性および帯電防止性の観点から好ましくは０．５〜１５０、さらに好ましくは１〜１００である。（Ａ４）のＭＦＲは、ＪＩＳ Ｋ７２１０（１９７６年）に準じて（ポリカーボネート樹脂の場合は２８０℃、荷重２．１６ｋｇｆ）測定される。 Examples of the polycarbonate resin (A4) include bisphenol [C12-20, for example, bisphenol A, -F and -S. From the viewpoint of dispersibility of (B) with respect to (A4), bisphenol A] -based polycarbonate resin ( For example, a condensate of the above bisphenol and phosgene or diphenyl carbonate) and a polymer alloy [PC / ABS resin (PC / ABS weight ratio = 90/10 to 10/90)] of the polycarbonate resin and ABS resin are included.
The MFR of (A4) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoint of the resin physical properties and antistatic properties of the molded product. The MFR of (A4) is measured according to JIS K7210 (1976) (in the case of polycarbonate resin, 280 ° C., load 2.16 kgf).

ポリアセタール樹脂（Ａ５）としては、ホルムアルデヒドまたはトリオキサンのホモポリマー（ポリオキシメチレンホモポリマー）、およびホルムアルデヒドまたはトリオキサンと環状エーテル［前記ＡＯ（ＥＯ、ＰＯ等）、ジオキソラン等］との共重合体（ポリオキシメチレン／ポリオキシエチレンコポリマー［例えばポリオキシメチレン／ポリオキシエチレン（重量比）＝９０／１０〜９９／１のブロック共重合体］等が挙げられる。
（Ａ５）のＭＦＲは、成形品の樹脂物性および帯電防止性の観点から好ましくは０．５〜１５０、より好ましくは１〜１００である。（Ａ５）のＭＦＲは、ＪＩＳ Ｋ７２１０（１９９４年）に準じて（ポリアセタール樹脂の場合は１９０℃、荷重２．１６ｋｇｆ）測定される。
（Ａ５）の固有粘度［η］は、成形品の樹脂物性および帯電防止性の観点から好ましくは０．１〜４、より好ましくは０．２〜３．５、とくに好ましくは０．３〜３である。 Examples of the polyacetal resin (A5) include formaldehyde or trioxane homopolymer (polyoxymethylene homopolymer), and a copolymer of formaldehyde or trioxane and a cyclic ether [the above-mentioned AO (EO, PO, etc.), dioxolane, etc.] (polyoxy). And methylene / polyoxyethylene copolymer [for example, polyoxymethylene / polyoxyethylene (weight ratio) = 90/10 to 99/1 block copolymer].
The MFR of (A5) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoint of the resin physical properties and antistatic properties of the molded product. The MFR of (A5) is measured according to JIS K7210 (1994) (in the case of polyacetal resin, 190 ° C., load 2.16 kgf).
The intrinsic viscosity [η] of (A5) is preferably from 0.1 to 4, more preferably from 0.2 to 3.5, particularly preferably from 0.3 to 3 from the viewpoint of the resin physical properties and antistatic properties of the molded product. It is.

変性ポリフェニレンエーテル樹脂（Ａ６）には、ポリフェニレンエーテル樹脂と、前記ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂およびポリオレフィン樹脂からなる群から選ばれる樹脂とのポリマーアロイが含まれる。
ポリフェニレンエーテル樹脂としては、例えばポリ（２，６−ジメチル−、ジエチル−およびジプロピル−１，４−フェニレン）エーテルおよびポリ（２−メチル−６−メチル−、２−メチル−６−プロピル−および２−エチル−６−プロピル−１，４−フェニレン）エーテルが挙げられる。 The modified polyphenylene ether resin (A6) includes a polymer alloy of a polyphenylene ether resin and a resin selected from the group consisting of the polystyrene resin, polyamide resin, and polyolefin resin.
Examples of polyphenylene ether resins include poly (2,6-dimethyl-, diethyl- and dipropyl-1,4-phenylene) ether and poly (2-methyl-6-methyl-, 2-methyl-6-propyl- and 2). -Ethyl-6-propyl-1,4-phenylene) ether.

（Ａ６）のうち、ポリフェニレンエーテル樹脂とポリスチレン樹脂とのポリマーアロイとしては、例えばノリル［ゼネラルエレクトリック（株）製］；ポリフェニレンエーテル樹脂とポリアミド樹脂とのポリマーアロイとしては、例えばノリルＧＴＹＸ［ゼネラルエレクトリック（株）製）］；ポリフェニレンエーテル樹脂とポリオレフィン樹脂としては、例えばノリルＰＰＸ［ゼネラルエレクトリック（株）製］が挙げられる。
（Ａ６）のＭＦＲは、成形品の樹脂物性および帯電防止性の観点から好ましくは０．５〜１５０、さらに好ましくは１〜１００である。ＭＦＲは、ＪＩＳ Ｋ７２１０（１９９４年）に準じて［（Ａ６）の場合は２８０℃、荷重５．０ｋｇｆ］測定される。 Among (A6), as a polymer alloy of polyphenylene ether resin and polystyrene resin, for example, Noryl [manufactured by General Electric Co., Ltd.]; As a polymer alloy of polyphenylene ether resin and polyamide resin, for example, Noryl GTYX [General Electric ( As a polyphenylene ether resin and a polyolefin resin, for example, Noryl PPX [manufactured by General Electric Co., Ltd.] can be mentioned.
The MFR of (A6) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoint of the resin physical properties and antistatic properties of the molded product. MFR is measured according to JIS K7210 (1994) [in the case of (A6), 280 degreeC, load 5.0kgf].

生分解性樹脂（Ａ７）には、ポリヒドロキシブチレート、ポリ乳酸、ポリカプロラクトン、ポリブチレンサクシネート、アジペート変性ポリブチレンサクシネート、カーボネート変性ポリブチレンサクシネート、テレフタレート変性ポリブチレンサクシネート、ポリエチレンサクシネート、およびポリビニルアルコール等が挙げられる。
（Ａ７）のうち、ポリヒドロキシブチレートとしては、例えばビオグリーン［三菱ガス化学（株）製）］；ポリ乳酸としては、例えばレイシア［三井化学（株）製］；ポリカプロラクトンとしては、例えばセルグリーン［ダイセル化学工業（株）製］；ポリブチレンサクシネートとしては、例えばビオノーレ［昭和高分子（株）製］；ポリエチレンサクシネートとしては、例えばルナーレＳＥ［日本触媒（株）製］；ポリビニルアルコールとしては、例えばポバール［クラレ（株）製］が挙げられる。 The biodegradable resin (A7) includes polyhydroxybutyrate, polylactic acid, polycaprolactone, polybutylene succinate, adipate-modified polybutylene succinate, carbonate-modified polybutylene succinate, terephthalate-modified polybutylene succinate, polyethylene succinate , And polyvinyl alcohol.
Among (A7), as polyhydroxybutyrate, for example, biogreen [manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.]]; as polylactic acid, for example, Laissia [manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.]; as polycaprolactone, for example, cell Green [Daicel Chemical Industries, Ltd.]; Polybutylene succinate, for example, Bionore [Showa Polymer Co., Ltd.]; Polyethylene succinate, for example, Lunare SE [manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.]; Polyvinyl alcohol For example, Poval [manufactured by Kuraray Co., Ltd.] can be mentioned.

（Ａ）との屈折率差が０．０２以下で、親水性鎖を有する帯電防止剤（Ｂ）には、ポリエーテルエステルアミド（Ｂ１）、ポリオレフィン（ｂ２１）のブロックと、体積固有抵抗値が１×１０5〜１×１０11Ω・ｃｍの親水性ポリマー（ｂ２２）のブロックとが、エステル結合、アミド結合、エーテル結合、イミド結合およびウレタン結合からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合を介して繰り返し交互に結合した構造を有するブロックポリマー（Ｂ２）、ポリエーテルアミドイミド（Ｂ３）、エピハロヒドリン／ＡＯ共重合体（Ｂ４）、ポリエーテルエステル（Ｂ５）、ポリエーテルウレタン（Ｂ６）、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート共重合体（Ｂ７）、ポリエーテル基含有エチレン／酢酸ビニル共重合体（エチレン／ビニルアルコール共重合体のＥＯ付加物）（Ｂ８）およびこれらの２種以上の混合物が含まれる。
これらのうち、帯電防止性の観点から好ましいのは（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｂ３）、（Ｂ４）および（Ｂ５）であり、さらに好ましいのは（Ｂ１）および（Ｂ２）である。
ここにおいて、親水性鎖とは、通常１×１０4〜１×１０12Ω・ｃｍ、好ましくは１×１０5〜１×１０11Ω・ｃｍの体積固有抵抗値を有するものを意味する。 The antistatic agent (B) having a refractive index difference with respect to (A) of 0.02 or less and having a hydrophilic chain has a block of polyetheresteramide (B1) and polyolefin (b21), and a volume resistivity value. 1 × 10 5 to 1 × 10 11 Ω · cm of the hydrophilic polymer (b22) block has at least one bond selected from the group consisting of an ester bond, an amide bond, an ether bond, an imide bond and a urethane bond. Block polymer (B2), polyether amide imide (B3), epihalohydrin / AO copolymer (B4), polyether ester (B5), polyether urethane (B6), methoxy polyethylene Glycol (meth) acrylate copolymer (B7), polyether group-containing ethylene / vinyl acetate copolymer (Eth EO adduct of a len / vinyl alcohol copolymer) (B8) and a mixture of two or more thereof.
Of these, (B1), (B2), (B3), (B4) and (B5) are preferable from the viewpoint of antistatic properties, and (B1) and (B2) are more preferable.
Here, the hydrophilic chain means one having a volume resistivity of usually 1 × 10 4 to 1 × 10 12 Ω · cm, preferably 1 × 10 5 to 1 × 10 11 Ω · cm.

（Ｂ１）としては、例えば特開平６−２８７５４７号公報および特公平４−５６９１号公報に記載のポリエーテルエステルアミドが使用できる。これらのうち耐熱性の観点から好ましいのは、Ｍｎの好ましい下限が２００、さらに好ましくは５００，Ｍｎの好ましい上限が５，０００、さらに好ましくは３，０００のポリアミド（ｂ１１）と、Ｍｎの好ましい下限が３００、さらに好ましくは５００、Ｍｎの好ましい上限が５，０００、さらに好ましくは４，０００のビスフェノールのＡＯ付加物（ｂ１２）とから誘導されるポリエーテルエステルアミドである。
（ｂ１１）としては、前記（Ａ３）として例示したものが挙げられ、（ｂ１１
）を構成するモノマーは２種以上併用してもよい。
これらのモノマーのうち帯電防止性の観点から好ましいのは、カプロラクタム、１２−アミノドデカン酸およびアジピン酸／ヘキサメチレンジアミンであり、さらに好ましいのはカプロラクタムである。 As (B1), for example, polyether ester amides described in JP-A-6-287547 and JP-B-4-5691 can be used. Of these, from the viewpoint of heat resistance, the preferred lower limit of Mn is 200, more preferably 500, the preferred upper limit of Mn is 5,000, more preferably 3,000, and the preferred lower limit of Mn. Is a polyether ester amide derived from an AO adduct (b12) of bisphenol having a preferred upper limit of 5,000, more preferably 4,000.
Examples of (b11) include those exemplified as the above (A3).
) May be used in combination of two or more.
Among these monomers, caprolactam, 12-aminododecanoic acid and adipic acid / hexamethylenediamine are preferable from the viewpoint of antistatic properties, and caprolactam is more preferable.

（ｂ１１）は、Ｃ４〜２０のジカルボン酸の１種以上を分子量調整剤として使用し、その存在下に上記アミド形成性モノマーを常法により開環重合あるいは重縮合させることによって得られる。
該Ｃ４〜２０のジカルボン酸としては、前記の（Ａ３）において例示したものが挙げられ、これらのうち帯電防止性の観点から好ましいのは脂肪族ジカルボン酸および芳香族ジカルボン酸、さらに好ましいのはアジピン酸、セバシン酸、テレフタル酸、イソフタル酸および３−スルホイソフタル酸ナトリウムである。 (B11) is obtained by using one or more of C4-20 dicarboxylic acids as molecular weight regulators and subjecting the amide-forming monomer to ring-opening polymerization or polycondensation in the presence thereof in the usual manner.
Examples of the C4-20 dicarboxylic acid include those exemplified in the above (A3). Among these, aliphatic dicarboxylic acids and aromatic dicarboxylic acids are preferable from the viewpoint of antistatic properties, and adipine is more preferable. Acids, sebacic acid, terephthalic acid, isophthalic acid and sodium 3-sulfoisophthalate.

上記分子量調整剤の使用量は、アミド形成性モノマーと分子量調整剤合計の重量に基づいて、成形品の樹脂の帯電防止性および耐熱性の観点から好ましくは２〜８０％、さらに好ましくは４〜７５％である。   The amount of the molecular weight modifier used is preferably 2 to 80%, more preferably 4 to 4 from the viewpoint of the antistatic property and heat resistance of the resin of the molded product based on the total weight of the amide-forming monomer and the molecular weight modifier. 75%.

（ｂ１２）を構成するビスフェノールとしては、前記（Ａ４）で例示したものが挙げられ、これらのうち（Ｂ）の（Ａ）に対する分散性の観点から好ましいのはビスフェノールＡである。
また、ビスフェノールに付加させるＡＯとしては、Ｃ２〜１２、例えばＥＯ、ＰＯ、１，２−、２，３−および１，４−ブチレンオキシド、Ｃ５〜１２のα−オレフィンのエポキシ化物、スチレンオキシドおよびエピハロヒドリン（例えばエピクロルヒドリンおよびエピブロモヒドリン）およびこれらの２種以上の混合物が挙げられる。これらのうち成形品の樹脂の帯電防止性の観点から好ましいのはＥＯである。 Examples of the bisphenol constituting (b12) include those exemplified in the above (A4). Among these, bisphenol A is preferable from the viewpoint of dispersibility of (B) with respect to (A).
As AO to be added to bisphenol, C2-12, for example, EO, PO, 1,2-, 2,3- and 1,4-butylene oxide, epoxidized product of C5-12 α-olefin, styrene oxide and And epihalohydrins (eg, epichlorohydrin and epibromohydrin) and mixtures of two or more thereof. Of these, EO is preferable from the viewpoint of the antistatic property of the resin of the molded product.

（ｂ１１）と（ｂ１２）の合計重量に基づく（ｂ１２）の割合は、成形品の樹脂の帯電防止性と耐熱性の観点から、好ましくは２０〜８０重量％、さらに好ましくは３０〜７０重量％である。   The proportion of (b12) based on the total weight of (b11) and (b12) is preferably 20 to 80% by weight, more preferably 30 to 70% by weight, from the viewpoint of antistatic properties and heat resistance of the resin of the molded product. It is.

ポリエーテルエステルアミド（Ｂ１）の製法としては、具体的には下記製法［１］、［２］および［３］が挙げられるが、特に限定されるものではない。
製法［１］：アミド形成性モノマーとジカルボン酸（分子量調整剤）を反応させて（ｂ１１）を形成させ、これに（ｂ１２）を加えて、高温（１６０〜２７０℃）、減圧下（０．０３〜３ｋＰａ）で重合反応を行う方法。
製法［２］：アミド形成性モノマーおよびジカルボン酸（分子量調整剤）と（ｂ１２）の一部を同時に反応槽に仕込み、水の存在下または非存在下に、高温（１６０〜２７０℃）、加圧（０．１〜１ＭＰａ）下で反応させることによって中間体を生成させ、その後減圧下（０．０３〜３ｋＰａ）で残りの（ｂ１２）との重合反応を行う方法。
製法［３］：（ｂ１２）の末端水酸基をアミノ基またはカルボキシル基に置換し、カルボキシル基またはアミノ基を末端に有するポリアミド（ｂ１１）と反応させる方法。
上記製法のうち、反応制御の観点から好ましいのは製法［１］である。 Specific examples of the production method of the polyetheresteramide (B1) include the following production methods [1], [2] and [3], but are not particularly limited.
Production method [1]: An amide-forming monomer and a dicarboxylic acid (molecular weight modifier) are reacted to form (b11), to which (b12) is added, at a high temperature (160 to 270 ° C.) under reduced pressure (0. 03 to 3 kPa).
Production method [2]: An amide-forming monomer and dicarboxylic acid (molecular weight modifier) and a part of (b12) are simultaneously charged into a reaction vessel, and heated at a high temperature (160 to 270 ° C.) in the presence or absence of water. A method in which an intermediate is formed by reacting under pressure (0.1 to 1 MPa), and then the remaining (b12) is subjected to a polymerization reaction under reduced pressure (0.03 to 3 kPa).
Production method [3]: A method in which the terminal hydroxyl group of (b12) is substituted with an amino group or a carboxyl group and reacted with a polyamide (b11) having a carboxyl group or an amino group at the terminal.
Of the above production methods, production method [1] is preferable from the viewpoint of reaction control.

上記製法［３］において、（ｂ１２）の末端水酸基をアミノ基に置換する方法としては、種々の方法、例えば水酸基をシアノアルキル化して得られる末端シアノアルキル基を還元してアミノ基とする方法［例えば、（ｂ１２）とアクリロニトリルを反応させ、得られるシアノエチル化物を水素添加する方法］が挙げられる。
また、上記（ｂ１２）の末端水酸基をカルボキシル基に置換する方法としては、例えば酸化剤で酸化する方法［例えば、（ｂ１２）の水酸基をクロム酸により酸化する方法］が挙げられる。 In the above production method [3], as a method for substituting the terminal hydroxyl group of (b12) with an amino group, various methods, for example, a method of reducing a terminal cyanoalkyl group obtained by cyanoalkylating a hydroxyl group to form an amino group [ For example, a method of reacting (b12) with acrylonitrile and hydrogenating the resulting cyanoethylated product] may be mentioned.
Examples of the method for substituting the terminal hydroxyl group of (b12) with a carboxyl group include a method of oxidizing with an oxidizing agent [for example, a method of oxidizing the hydroxyl group of (b12) with chromic acid].

製法［１］〜［３］における重合反応においては、エステル化触媒が使用できる。該触媒としては、例えばアンチモン触媒（例えば三酸化アンチモン）、スズ触媒（例えばモノブチルスズオキシド）、チタン触媒（例えばテトラブチルチタネート）、ジルコニウム触媒（例えばテトラブチルジルコネート）および酢酸金属塩触媒（例えば酢酸亜鉛および酢酸ジルコニル）が挙げられる。
該触媒の使用量は、（ｂ１１）と（ｂ１２）の合計重量に基づいて、反応性および、成形品の樹脂物性の観点から好ましくは０．１〜５％、さらに好ましくは０．２〜３％である。 In the polymerization reaction in the production methods [1] to [3], an esterification catalyst can be used. Examples of the catalyst include an antimony catalyst (for example, antimony trioxide), a tin catalyst (for example, monobutyltin oxide), a titanium catalyst (for example, tetrabutyltitanate), a zirconium catalyst (for example, tetrabutylzirconate), and a metal acetate catalyst (for example, acetic acid). Zinc and zirconyl acetate).
The amount of the catalyst used is preferably 0.1 to 5%, more preferably 0.2 to 3 based on the total weight of (b11) and (b12) from the viewpoints of reactivity and resin physical properties of the molded product. %.

（Ｂ１）の還元粘度［ηSP／Ｃ、Ｃ＝０．５重量％（ｍ−クレゾール溶液、２５℃）］は、（Ｂ１）の耐熱性と樹脂組成物の成形性の観点から好ましくは０．５〜４、さらに好ましくは０．６〜３である。 The reduced viscosity [η SP / C, C = 0.5 wt% (m-cresol solution, 25 ° C.)] of (B1) is preferably 0 from the viewpoint of the heat resistance of (B1) and the moldability of the resin composition. .5-4, more preferably 0.6-3.

ブロックポリマー（Ｂ２）としては、国際公開ＷＯ００／４７６５２号公報明細書に記載されているブロックポリマーが使用できる。
（Ｂ２）を構成するポリオレフィン（ｂ２１）のブロックには、ポリマーの両末端にカルボニル基（好ましくはカルボキシル基）を有するポリオレフィン（ｂ２１１）、水酸基を有するポリオレフィン（ｂ２１２）およびアミノ基を有するポリオレフィン（ｂ２１３）、並びに、ポリマーの片末端にカルボニル基（好ましくはカルボキシル基）を有するポリオレフィン（ｂ２１４）、水酸基を有するポリオレフィン（ｂ２１５）およびアミノ基を有するポリオレフィン（ｂ２１６）が含まれる。 As the block polymer (B2), a block polymer described in the specification of International Publication WO00 / 47652 can be used.
The block of the polyolefin (b21) constituting (B2) includes a polyolefin (b211) having a carbonyl group (preferably a carboxyl group) at both ends of the polymer, a polyolefin (b212) having a hydroxyl group, and a polyolefin having an amino group (b213). ), And a polyolefin (b214) having a carbonyl group (preferably a carboxyl group) at one end of the polymer, a polyolefin (b215) having a hydroxyl group, and a polyolefin (b216) having an amino group.

（ｂ２１１）としては、両末端が変性可能なポリオレフィンを好ましくは主成分（含量５０重量％以上、さらに好ましくは７５重量％以上、特に好ましくは８０〜１００重量％）とするポリオレフィン（ｂ２１０）の両末端にカルボニル基を導入したものが挙げられる。
（ｂ２１０）は、通常、両末端が変性可能なポリオレフィン、片末端が変性可能なポリオレフィンおよび変性可能な末端基を持たないポリオレフィンの混合物であるが、両末端が変性可能なポリオレフィンが主成分であるものが好ましい。 As (b211), both polyolefins (b210) having a polyolefin which can be modified at both ends as a main component (content 50% by weight or more, more preferably 75% by weight or more, particularly preferably 80 to 100% by weight) are used. Examples thereof include those having a carbonyl group introduced at the terminal.
(B210) is usually a mixture of a polyolefin that can be modified at both ends, a polyolefin that can be modified at one end, and a polyolefin that does not have a terminal group that can be modified, but the main component is a polyolefin that can be modified at both ends. Those are preferred.

（ｂ２１０）には、Ｃ２〜３０のオレフィンの１種または２種以上の混合物の（共）重合によって得られる低分子量ポリオレフィン［重合法ポリオレフィン］および高分子量ポリオレフィン［Ｃ２〜３０のオレフィンの（共）重合によって得られる高分子量のポリオレフィン］を熱減成して得られる低分子量ポリオレフィン［熱減成法ポリオレフィン］が含まれる。   (B210) includes a low molecular weight polyolefin [polymerized polyolefin] obtained by (co) polymerization of one or a mixture of two or more C2-30 olefins and a high molecular weight polyolefin [(co) olefin of C2-30 olefins]. Low molecular weight polyolefins obtained by thermal degradation of high molecular weight polyolefins obtained by polymerization] are included.

Ｃ２〜３０のオレフィンとしては、前記（ａ１１）として例示したもの、例えばエチレン、プロピレン、Ｃ４〜３０（好ましくは４〜１２、さらに好ましくは４〜１０）のα−オレフィン、およびＣ４〜３０（好ましくは４〜１８、さらに好ましくは４〜８）のジエンが挙げられる。
これらのうち（Ｂ）の、樹脂への混和性の観点から好ましいのは、Ｃ２〜１２のオレフィンおよび／またはＣ４〜８のジエン、さらに好ましいのはＣ２〜１０のオレフィンおよび／またはブタジエン、とくに好ましいのはエチレン、プロピレンおよび／またはブタジエンである。 Examples of the C2-30 olefin include those exemplified as the above (a11), for example, ethylene, propylene, C4-30 (preferably 4-12, more preferably 4-10) α-olefin, and C4-30 (preferably). Is a diene of 4 to 18, more preferably 4 to 8).
Of these, from the viewpoint of miscibility with the resin of (B), preferred are C2-12 olefins and / or C4-8 dienes, and more preferred are C2-10 olefins and / or butadienes. Is ethylene, propylene and / or butadiene.

［重合法ポリオレフィン］は、例えばラジカル触媒、金属酸化物触媒またはチーグラー−ナッタ触媒の存在下で上記オレフィンを（共）重合させる方法により容易に得ることができる。
ラジカル触媒としては、例えばジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルベンゾエート、デカノールパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、パーオキシ−ジ−カーボネートエステル、アゾ化合物およびγ−アルミナ担体に酸化モリブデンを付着させたものが挙げられる。
金属酸化物触媒としては、例えばシリカ−アルミナ担体に酸化クロムを付着させたものが挙げられる。
チーグラー−ナッタ触媒としては、（Ｃ2Ｈ5）3Ａｌ−ＴｉＣｌ4および（Ｃ2Ｈ5）3Ａｌ−ＴｉＣｌ3が挙げられる。
また、［熱減成法ポリオレフィン］は、例えば特開平３−６２８０４号公報記載
の方法により容易に得ることができる。
上記ポリオレフィンのうち、変性基であるカルボニル基の導入のしやすさ、および入手のしやすさの観点から［熱減成法ポリオレフィン］が好ましい。 [Polymerized polyolefin] can be easily obtained by a method of (co) polymerizing the olefin in the presence of, for example, a radical catalyst, a metal oxide catalyst or a Ziegler-Natta catalyst.
Examples of the radical catalyst include di-t-butyl peroxide, t-butyl benzoate, decanol peroxide, lauryl peroxide, peroxy-dicarbonate ester, azo compound, and molybdenum oxide attached to a γ-alumina carrier. Is mentioned.
As the metal oxide catalyst, for example, a silica-alumina support having chromium oxide attached thereto can be mentioned.
Ziegler-Natta catalysts include (C 2 H 5 ) 3 Al—TiCl 4 and (C 2 H 5 ) 3 Al—TiCl 3 .
[Thermal degradation polyolefin] can be easily obtained, for example, by the method described in JP-A-3-62804.
Of the above polyolefins, [thermally degraded polyolefin] is preferable from the viewpoint of easy introduction of a carbonyl group as a modifying group and availability.

（ｂ２１０）のＭｎは、成形品の樹脂の帯電防止性の観点から好ましくは８００〜２０，０００、さらに好ましくは１，０００〜１０，０００、とくに好ましくは１，２００〜６，０００である。
（ｂ２１０）中の二重結合の量は、成形品の樹脂の帯電防止性および外観の観点から好ましくは、Ｃ１，０００当たり１〜４０個、さらに好ましくは２〜３０個、特に好ましくは４〜２０個である。
１分子当たりの二重結合の平均数は、繰り返し構造の形成性および帯電防止性の観点から好ましくは、１．１〜５、さらに好ましくは１．３〜３、特に好ましくは１．５〜２．５、最も好ましくは１．８〜２．２である。
熱減成法によれば、Ｍｎが８００〜６，０００の範囲で、１分子当たりの平均末端二重結合数が１．５〜２の低分子量ポリオレフィンが容易に得られる〔例えば、村田勝英、牧野忠彦、日本化学会誌、１９２頁（１９７５）参照〕。 Mn of (b210) is preferably 800 to 20,000, more preferably 1,000 to 10,000, and particularly preferably 1,200 to 6,000 from the viewpoint of the antistatic property of the resin of the molded product.
The amount of double bonds in (b210) is preferably 1 to 40, more preferably 2 to 30, particularly preferably 4 to 1,000 per C1,000 from the viewpoint of the antistatic property and appearance of the resin of the molded product. There are 20 pieces.
The average number of double bonds per molecule is preferably from 1.1 to 5, more preferably from 1.3 to 3, particularly preferably from 1.5 to 2, from the viewpoints of repetitive structure formation and antistatic properties. .5, most preferably 1.8-2.2.
According to the thermal degradation method, a low-molecular-weight polyolefin having an average number of terminal double bonds per molecule of 1.5 to 2 can be easily obtained in a range of 800 to 6,000 [for example, Katsuhide Murata, See Tadahiko Makino, Journal of the Chemical Society of Japan, page 192 (1975)].

（ｂ２１０）のＭｎの測定条件は以下の通りである
装置 ：高温ゲルパーミエイションクロマトグラフィー
溶媒 ：オルトジクロロベンゼン
基準物質 ：ポリスチレン
サンプル濃度：３ｍｇ／ｍｌ
カラム固定相：ＰＬｇｅｌ ＭＩＸＥＤ−Ｂ
カラム温度 ：１３５℃ The measurement conditions of Mn in (b210) are as follows: Apparatus: High-temperature gel permeation chromatography solvent: Orthodichlorobenzene reference material: Polystyrene sample concentration: 3 mg / ml
Column stationary phase: PLgel MIXED-B
Column temperature: 135 ° C

カルボニル基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン（ｂ２１１）には、（ｂ２１０）の両末端をα、β−不飽和カルボン酸（無水物）［α，β−不飽和カルボン酸、該カルボン酸のアルキル（Ｃ１〜４）エステルまたはその無水物を意味する。以下同様。］で変性した構造を有するポリオレフィン（ｂ２１１１）、（ｂ２１１１）をラクタムまたはアミノカルボン酸で二次変性した構造を有するポリオレフィン（ｂ２１１２）、（ｂ２１０）を酸化またはヒドロホルミル化変性した構造を有するポリオレフィン（ｂ２１１３）、（ｂ２１１３）をラクタムまたはアミノカルボン酸で二次変性した構造を有するポリオレフィン（ｂ２１１４）およびこれらの２種以上の混合物が含まれる。   The polyolefin (b211) having a carbonyl group at both ends of the polymer has an α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) [α, β-unsaturated carboxylic acid, alkyl of the carboxylic acid at both ends of (b210). (C1-4) means an ester or an anhydride thereof. The same applies below. ] (B2111), a polyolefin (b2112) having a structure obtained by secondary modification of (b2111) with a lactam or an aminocarboxylic acid, and a polyolefin (b2113) having a structure obtained by oxidizing or hydroformylating (b210) ), Polyolefin (b2114) having a structure obtained by secondary modification of (b2113) with lactam or aminocarboxylic acid, and a mixture of two or more thereof.

（ｂ２１１１）は、（ｂ２１０）の両末端をα、β−不飽和カルボン酸（無水物）で変性することにより得られる。
α，β−不飽和カルボン酸（無水物）としては、Ｃ３〜１２のカルボン酸、例えばモノカルボン酸［例えば（メタ）アクリル酸］、ジカルボン酸（例えばマレイン酸、フマル酸、イタコン酸およびシトラコン酸）、それらのアルキル（Ｃ１〜４）エステル［例えば（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸ブチルおよびイタコン酸ジエチル］および無水物が挙げられる。
これらのうち（ｂ２１０）との反応性の観点から好ましいのは、ジカルボン酸、それらのアルキルエステルおよび無水物、さらに好ましいのはマレイン酸（無水物）およびフマル酸、特に好ましいのはマレイン酸（無水物）である。 (B2111) is obtained by modifying both ends of (b210) with α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride).
α, β-unsaturated carboxylic acids (anhydrides) include C3-12 carboxylic acids such as monocarboxylic acids [eg (meth) acrylic acid], dicarboxylic acids (eg maleic acid, fumaric acid, itaconic acid and citraconic acid) ), Their alkyl (C1-4) esters [eg methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate and diethyl itaconate] and anhydrides.
Of these, from the viewpoint of reactivity with (b210), dicarboxylic acids, their alkyl esters and anhydrides are preferred, maleic acid (anhydride) and fumaric acid are more preferred, and maleic acid (anhydride is particularly preferred). Thing).

α、β−不飽和カルボン酸（無水物）の使用量は、ポリオレフィン（ｂ２１０）の重量に基づき、繰り返し構造の形成性および帯電防止性の観点から好ましくは、０．５〜４０％、さらに好ましくは１〜３０％、特に好ましくは２〜２０％である。   The amount of α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) used is preferably from 0.5 to 40%, more preferably from the viewpoint of the formation of a repeating structure and antistatic properties, based on the weight of the polyolefin (b210). Is 1 to 30%, particularly preferably 2 to 20%.

α，β−不飽和カルボン酸（無水物）によるポリオレフィン（ｂ２１０）の変性は、例えば、（ｂ２１０）の末端二重結合に、溶液法または溶融法のいずれかの方法で、α，β−不飽和カルボン酸（無水物）を熱的に付加（エン反応）させることにより行うことができる。
溶液法としては、例えば炭化水素（例えばキシレンおよびトルエン）溶媒の存在下、（ｂ２１０）にα，β−不飽和カルボン酸（無水物）を加え、不活性ガス（例えば窒素、以下同じ。）雰囲気中１７０〜２３０℃で反応させる方法が挙げられる。
溶融法としては、例えば（ｂ２１０）を加熱溶融した後に、α，β−不飽和カルボン酸（無水物）を加え、不活性ガス雰囲気中１７０〜２３０℃で反応させる方法が挙げられる。
これらの方法のうち、反応の均一性の観点から好ましいのは溶液法である。 The modification of the polyolefin (b210) with an α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) can be carried out by, for example, converting the terminal double bond of (b210) to α, β-unsaturated by either a solution method or a melting method. It can be carried out by thermally adding (ene reaction) a saturated carboxylic acid (anhydride).
As the solution method, for example, an α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) is added to (b210) in the presence of a hydrocarbon (eg, xylene and toluene) solvent, and an inert gas (eg, nitrogen, the same applies hereinafter) atmosphere. The method of making it react at 170-230 degreeC inside is mentioned.
Examples of the melting method include a method in which (b210) is heated and melted, and then α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) is added and reacted at 170 to 230 ° C. in an inert gas atmosphere.
Among these methods, the solution method is preferable from the viewpoint of the uniformity of the reaction.

（ｂ２１１２）は、（ｂ２１１１）をラクタムまたはアミノカルボン酸で二次変性することにより得られる。
ラクタムとしては、Ｃ６〜１２（好ましくは６〜８、さらに好ましくは６）のラクタム、例えばカプロラクタム、エナントラクタム、ラウロラクタムおよびウンデカノラクタムが挙げられる。
アミノカルボン酸としては、Ｃ２〜１２（好ましくは４〜１２、さらに好ましくは６〜１２）のアミノカルボン酸、例えばアミノ酸（例えばグリシン、アラニン、バリン、ロイシン、イソロイシンおよびフェニルアラニン）、ω−アミノカプロン酸、ω−アミノエナント酸、ω−アミノカプリル酸、ω−アミノペルゴン酸、ω−アミノカプリン酸、１１−アミノウンデカン酸および１２−アミノドデカン酸が挙げられる。
これらのうち、二次変性の反応性の観点から好ましいのはグリシン、ロイシン、およびさらに好ましいのはカプロラクタム、ラウロラクタム、ω−アミノカプリル酸、１１−アミノウンデカン酸および１２−アミノドデカン酸、特に好ましいのはカプロラクタムおよび１２−アミノドデカン酸である。 (B2112) can be obtained by secondary modification of (b2111) with lactam or aminocarboxylic acid.
Lactams include C6-12 (preferably 6-8, more preferably 6) lactams such as caprolactam, enantolactam, laurolactam and undecanolactam.
As aminocarboxylic acids, C2-12 (preferably 4-12, more preferably 6-12) aminocarboxylic acids such as amino acids (eg glycine, alanine, valine, leucine, isoleucine and phenylalanine), ω-aminocaproic acid, ω-aminoenanthic acid, ω-aminocaprylic acid, ω-aminopergonic acid, ω-aminocapric acid, 11-aminoundecanoic acid and 12-aminododecanoic acid.
Of these, glycine, leucine, and more preferable caprolactam, laurolactam, ω-aminocaprylic acid, 11-aminoundecanoic acid, and 12-aminododecanoic acid are particularly preferable from the viewpoint of reactivity of secondary modification. Are caprolactam and 12-aminododecanoic acid.

ラクタムまたはアミノカルボン酸の使用量は、ポリオレフィン（ｂ２１１１）の重量に基づき、繰り返し構造の形成性および帯電防止性の観点から好ましくは０．５〜４０％、さらに好ましくは１〜３０％、特に好ましくは２〜２０％である。   The amount of lactam or aminocarboxylic acid to be used is preferably 0.5 to 40%, more preferably 1 to 30%, particularly preferably based on the weight of the polyolefin (b2111) from the viewpoint of the formation of a repeating structure and antistatic properties. Is 2 to 20%.

（ｂ２１１１）をラクタムで二次変性する方法としては、例えば（ｂ２１１１）を加熱溶融した後に、ラクタムを加え、不活性ガス雰囲気中１７０〜２３０℃で反応させる方法が挙げられる。
また、アミノカルボン酸で二次変性する方法としては、例えば（ｂ２１１１）を加熱溶融した後に、アミノカルボン酸を加え、不活性ガス雰囲気中１７０〜２３０℃で反応させる方法が挙げられる。 As a method for secondary modification of (b2111) with a lactam, for example, after heating and melting (b2111), a lactam is added and reacted at 170 to 230 ° C. in an inert gas atmosphere.
Moreover, as a method of carrying out secondary modification | denaturation by aminocarboxylic acid, after heating (b2111), for example, aminocarboxylic acid is added and the method of making it react at 170-230 degreeC in inert gas atmosphere is mentioned.

（ｂ２１１３）は、（ｂ２１０）を酸素および／またはオゾンにより酸化またはオキソ法によりヒドロホルミル化してカルボニル基を導入することにより得られる。酸化によるカルボニル基の導入は、例えば、米国特許第３，６９２，８７７号明細書記載の方法で行うことができる。ヒドロホルミル化によるカルボニル基の導入は、例えば、Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ、Ｖｏｌ．３１、５，９４３頁記載の方法で行うことができる。   (B2113) can be obtained by oxidizing (b210) with oxygen and / or ozone or hydroformylating with an oxo method to introduce a carbonyl group. The introduction of the carbonyl group by oxidation can be performed, for example, by the method described in US Pat. No. 3,692,877. The introduction of a carbonyl group by hydroformylation is described in, for example, Macromolecules, Vol. 31, 5, 943 page.

（ｂ２１１４）は、（ｂ２１１３）をラクタムまたはアミノカルボン酸で二次変性することにより得られる。
ラクタムおよびアミノカルボン酸としては、上記（ｂ２１１２）の説明で例示したものが挙げられ、（ｂ２１１３）の重量に基づくその使用量も同様である。 (B2114) can be obtained by secondary modification of (b2113) with lactam or aminocarboxylic acid.
Examples of the lactam and aminocarboxylic acid include those exemplified in the description of the above (b2112), and the use amount thereof based on the weight of (b2113) is also the same.

ポリマーの両末端にカルボニル基を有するポリオレフィン（ｂ２１１）のＭｎは、耐熱性および後述する親水性ポリマー（ｂ２２）との反応性の観点から、好ましい下限は８００、さらに好ましくは１，０００、とくに好ましくは２，５００、好ましい上限は２５，０００、さらに好ましくは２０，０００、とくに好ましくは１０，０００である。
また、（ｂ２１１）の酸価は、（ｂ２２）との反応性の観点から好ましくは４〜２８０（単位はｍｇＫＯＨ／ｇ。以下、数値のみを記載する。）、さらに好ましくは４〜１００、とくに好ましくは５〜５０である。 The Mn of the polyolefin (b211) having a carbonyl group at both ends of the polymer is preferably 800, more preferably 1,000, particularly preferably 1,000 from the viewpoint of heat resistance and reactivity with the hydrophilic polymer (b22) described later. Is 2,500, and the preferable upper limit is 25,000, more preferably 20,000, and particularly preferably 10,000.
The acid value of (b211) is preferably 4 to 280 (unit is mg KOH / g, hereinafter, only numerical values are described) from the viewpoint of reactivity with (b22), more preferably 4 to 100, particularly. Preferably it is 5-50.

（Ｂ２）を構成する、体積固有抵抗値が１×１０5〜１×１０11Ω・ｃｍの親水性ポリマー（ｂ２２）としては、ポリエーテル（ｂ２２１）、ポリエーテル含有親水性ポリマー（ｂ２２２）、カチオン性ポリマー（ｂ２２３）およびアニオン性ポリマー（ｂ２２４）が使用できる。
（ｂ２２１）としては、ポリエーテルジオール（ｂ２２１−１）およびポリエーテルジアミン（ｂ２２１−２）、およびこれらの変性物（ｂ２２１−３）が使用できる。（ｂ２２２）としては、ポリエーテルセグメント形成成分としてポリエーテルジオール（ｂ２２１−１）のセグメントを有するポリエーテルエステルアミド（ｂ２２２−１）、（ｂ２２１−１）のセグメントを有するポリエーテルアミドイミド（ｂ２２２−２）、（ｂ２２１−１）のセグメントを有するポリエーテルエステル（ｂ２２２−３）；（ｂ２２１−２）のセグメントを有するポリエーテルアミド（ｂ２２２−４）、および（ｂ２２１−１）または（ｂ２２１−２）のセグメントを有するポリエーテルウレタン（ｂ２２２−５）が使用できる。
（ｂ２２３）としては、非イオン性分子鎖（ｃ１）で隔てられた２〜８０個、好ましくは３〜６０個のカチオン性基（ｃ２）を分子内に有するカチオン性ポリマーが使用できる。
（ｂ２２４）としては、スルホ基を有するジカルボン酸（ｅ１）と、ジオール（ｂ２２０１）またはポリエーテル（ｂ２２１）とを必須構成単位とし、かつ分子内に２〜８０個、好ましくは３〜６０個のスルホ基を有するアニオン性ポリマーが使用できる。 As the hydrophilic polymer (b22) having a volume specific resistance value of 1 × 10 5 to 1 × 10 11 Ω · cm constituting (B2), polyether (b221), polyether-containing hydrophilic polymer (b222), Cationic polymer (b223) and anionic polymer (b224) can be used.
As (b221), polyether diol (b221-1), polyether diamine (b221-2), and modified products thereof (b221-3) can be used. As (b222), polyether ester amide (b222-1) having a segment of polyether diol (b221-1) as a polyether segment forming component, polyetheramide imide having a segment of (b221-1) (b222- 2), polyether ester (b222-3) having a segment of (b2211-1); polyetheramide (b222-4) having a segment of (b2211-2), and (b2211-1) or (b221-2) Polyether urethane (b222-5) having a segment of) can be used.
As (b223), a cationic polymer having 2 to 80, preferably 3 to 60, cationic groups (c2) separated by a nonionic molecular chain (c1) in the molecule can be used.
As (b224), dicarboxylic acid (e1) having a sulfo group and diol (b2201) or polyether (b221) are essential structural units, and 2 to 80, preferably 3 to 60 in the molecule. An anionic polymer having a sulfo group can be used.

ポリエーテル（ｂ２２１）のうち、ポリエーテルジオール（ｂ２２１−１）としては、ジオール（ｂ２２０１）または２価フェノール（ｂ２２０２）にＥＯを必須成分として含むＡＯ（Ｃ２〜１２）を付加反応させることにより得られる構造のもの、例えば下記の一般式で示されるものが挙げられる。

Ｈ(ＯＡ1)mＯ−Ｅ1−Ｏ(Ａ1Ｏ)m'Ｈ

式中、Ｅ1は（ｂ２２０１）または（ｂ２２０２）から水酸基を除いた残基を表し、Ａ1はＣ２〜４のアルキレン基；ｍおよびｍ’は１〜３００、好ましくは２〜２５０、さらに好ましくは１０〜１００の整数を表し、ｍとｍ’とは同一でも異なっていてもよい。また、ｍ個の（ＯＡ1）とｍ’個の（Ａ1Ｏ）とは同一でも異なっていてもよく、また、これらが２種以上のオキシアルキレン基で構成される場合の結合形式はランダムおよび／またはブロックのいずれでもよい。 Of the polyether (b221), the polyether diol (b221-1) is obtained by addition reaction of AO (C2-12) containing EO as an essential component in the diol (b2201) or dihydric phenol (b2202). For example, the structure shown by the following general formula is mentioned.

H (OA 1 ) m O—E 1 —O (A 1 O) m ′ H

In the formula, E 1 represents a residue obtained by removing a hydroxyl group from (b2201) or (b2202), A 1 is a C2-4 alkylene group; m and m ′ are 1 to 300, preferably 2 to 250, and more preferably. Represents an integer of 10 to 100, and m and m ′ may be the same or different. Further, m (OA 1 ) and m ′ (A 1 O) may be the same or different, and the bond form when these are composed of two or more oxyalkylene groups is random. And / or blocks.

ジオール（ｂ２２０１）としては、例えばＣ２〜１２（好ましくは２〜１０、さらに好ましくは２〜８）の２価アルコール（例えば脂肪族、脂環式および芳香脂肪族２価アルコール）およびＣ１〜１２の３級アミノ基含有ジオールが挙げられる。
脂肪族２価アルコールとしては、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコールおよび１，１２−ドデカンジオールが挙げられる。
脂環式２価アルコールとしては、例えば１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，４−シクロオクタンジオールおよび１，３−シクロペンタンジオールが挙げられる。
芳香脂肪族２価アルコールとしては、例えばキシリレンジオール、１−フェニル−１，２−エタンジオールおよび１，４−ビス（ヒドロキシエチル）ベンゼンが挙げられる。 Examples of the diol (b2201) include C2-12 (preferably 2-10, more preferably 2-8) dihydric alcohols (for example, aliphatic, alicyclic and araliphatic dihydric alcohols) and C1-12. A tertiary amino group-containing diol may be mentioned.
Examples of the aliphatic dihydric alcohol include ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol and 1,12-dodecanediol.
Examples of the alicyclic dihydric alcohol include 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclooctanediol, and 1,3-cyclopentanediol.
Examples of the araliphatic dihydric alcohol include xylylenediol, 1-phenyl-1,2-ethanediol and 1,4-bis (hydroxyethyl) benzene.

３級アミノ基含有ジオールとしては、脂肪族または脂環式１級モノアミン（Ｃ１〜１２、好ましくは２〜１０、さらに好ましくは２〜８）のビスヒドロキシアルキル（アルキル基のＣ１〜１２、好ましくは２〜１０、さらに好ましくは２〜８）化物および芳香（脂肪）族１級モノアミン（Ｃ６〜１２）のビスヒドロキシアルキル（アルキル基のＣ１〜１２）化物が挙げられる。
モノアミンのビスヒドロキシアルキル化物は、例えばモノアミンとＣ２〜４のＡＯ［例えばＥＯ、ＰＯおよびブチレンオキシド］とを反応させるか、モノアミンとＣ１〜１２のハロゲン化ヒドロキシアルキル（例えば２−ブロモエチルアルコールおよび３−クロロプロピルアルコール）とを反応させることにより容易に得ることができる。 Tertiary amino group-containing diols include aliphatic or alicyclic primary monoamines (C1-12, preferably 2-10, more preferably 2-8) bishydroxyalkyl (alkyl group C1-12, preferably 2-10, more preferably 2-8) and aromatic (aliphatic) primary monoamines (C6-12) bishydroxyalkyl (alkyl group C1-12) compounds.
Monoamine bishydroxyalkylates are obtained by reacting, for example, monoamines with C2-4 AO [eg EO, PO and butylene oxide], or monoamines with C1-12 halogenated hydroxyalkyl (eg 2-bromoethyl alcohol and 3 It can be easily obtained by reacting with (chloropropyl alcohol).

脂肪族１級モノアミンとしては、例えばメチルアミン、エチルアミン、１−および２−プロピルアミン、ｎ−およびｉ−アミルアミン、ヘキシルアミン、１，３−ジメチルブチルアミン、３，３−ジメチルブチルアミン、２−および３−アミノヘプタン、ヘプチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ウンデシルアミンおよびドデシルアミンが挙げられる。
脂環式１級モノアミンとしては、例えばシクロプロピルアミン、シクロペンチルアミンおよびシクロヘキシルアミンが挙げられる。
芳香（脂肪）族１級モノアミンとしては、例えばアニリンおよびベンジルアミンが挙げられる。 Examples of aliphatic primary monoamines include methylamine, ethylamine, 1- and 2-propylamine, n- and i-amylamine, hexylamine, 1,3-dimethylbutylamine, 3,3-dimethylbutylamine, 2- and 3 -Aminoheptane, heptylamine, nonylamine, decylamine, undecylamine and dodecylamine.
Examples of the alicyclic primary monoamine include cyclopropylamine, cyclopentylamine, and cyclohexylamine.
Examples of the aromatic (aliphatic) primary monoamine include aniline and benzylamine.

２価フェノール（ｂ２２０２）としては、Ｃ６〜１８（好ましくは８〜１８、さらに好ましくは１０〜１５）、例えば単環２価フェノール（例えばハイドロキノン、カテコール、レゾルシンおよびウルシオール）、ビスフェノール（例えばビスフェノールＡおよび−Ｆ）および縮合多環２価フェノール（例えばジヒドロキシナフタレンおよびビナフトール）が挙げられる。   Examples of the dihydric phenol (b2202) include C6-18 (preferably 8-18, more preferably 10-15), such as monocyclic dihydric phenol (for example, hydroquinone, catechol, resorcin and urushiol), bisphenol (for example, bisphenol A). And -F) and condensed polycyclic dihydric phenols such as dihydroxynaphthalene and binaphthol.

（ｂ２２０１）および（ｂ２２０２）のうち帯電防止性の観点から好ましいのは、２価アルコールおよび２価フェノール、さらに好ましいのは脂肪族２価アルコールおよびビスフェノール、とくに好ましいのはエチレングリコールおよびビスフェノールＡである。   Of (b2201) and (b2202), from the viewpoint of antistatic properties, preferred are dihydric alcohols and dihydric phenols, more preferred are aliphatic dihydric alcohols and bisphenols, and particularly preferred are ethylene glycol and bisphenol A. .

ジオール（ｂ２２０１）または２価フェノール（ｂ２２０２）に付加反応させるＡＯとしては、ＥＯ以外には例えばＣ３〜１２のＡＯ（例えばＰＯ、１，２−、１，４−、２，３−および１，３−ブチレンオキシドおよびこれらの２種以上の混合物）が挙げられるが、必要によりその他のＡＯおよび置換ＡＯを併用してもよい。
その他のＡＯおよび置換ＡＯとしては、例えばＣ５〜１２のα−オレフィンのエポキシ化物、スチレンオキシドおよびエピハロヒドリン（例えばエピクロルヒドリンおよびエピブロモヒドリン）が挙げられる。他のＡＯおよび置換ＡＯのそれぞれの使用量は、全ＡＯの重量に基づいて帯電防止性の観点から好ましくは３０％以下、さらに好ましくは０または２５％以下、特に好ましくは０または２０％以下である。 As AO to be subjected to addition reaction with diol (b2201) or dihydric phenol (b2202), in addition to EO, for example, C3-12 AO (for example, PO, 1,2-, 1,4-, 2,3- and 1, 3-butylene oxide and a mixture of two or more thereof), but other AO and substituted AO may be used in combination if necessary.
Examples of other AO and substituted AO include epoxidized C5-12 α-olefin, styrene oxide and epihalohydrin (for example, epichlorohydrin and epibromohydrin). The amount of each of other AO and substituted AO used is preferably 30% or less, more preferably 0 or 25%, particularly preferably 0 or 20% or less from the viewpoint of antistatic properties based on the weight of the total AO. is there.

ＡＯの付加モル数は、親水性ポリマー（ｂ２２）の体積固有抵抗値の観点から好ましくは、（ｂ２２０１）または（ｂ２２０２）の水酸基１個当り１〜３００モル、さらに好ましくは２〜２５０モル、特に好ましくは１０〜１００モルである。２種以上のＡＯを併用するときの結合形式はランダムおよび／またはブロックのいずれでもよい。   The number of added moles of AO is preferably 1 to 300 moles, more preferably 2 to 250 moles per hydroxyl group of (b2201) or (b2202), from the viewpoint of the volume resistivity value of the hydrophilic polymer (b22). Preferably it is 10-100 mol. When two or more kinds of AO are used in combination, the coupling form may be random and / or block.

ＡＯの付加反応は、例えばアルカリ触媒（例えば水酸化カリウムおよび水酸化ナトリウム）の存在下、１００〜２００℃、圧力０〜０．５ＭＰａＧの条件で行なうことができる。
ポリエーテルジオール（ｂ２２１−１）中のオキシアルキレン単位の含量は、（ｂ２２１−１）の重量に基づいて親水性ポリマー（ｂ２２）の体積固有抵抗値および（Ｂ）の（Ａ）への分散性の観点から好ましくは５〜９９．８％、さらに好ましくは８〜９９．６％、特に好ましくは１０〜９８％である。また、ポリオキシアルキレン鎖中のオキシエチレン単位の含量は、ポリオキシアルキレン鎖の重量に基づいて（ｂ２２）の体積固有抵抗値および（Ｂ）の（Ａ）への分散性の観点から好ましくは５〜１００％、さらに好ましくは１０〜１００％、特に好ましくは５０〜１００％、最も好ましくは６０〜１００％である。 The addition reaction of AO can be performed, for example, in the presence of an alkali catalyst (for example, potassium hydroxide and sodium hydroxide) at 100 to 200 ° C. and a pressure of 0 to 0.5 MPaG.
The content of oxyalkylene units in the polyether diol (b2211-1) is determined based on the weight specific value of the hydrophilic polymer (b22) and the dispersibility of (B) in (A) based on the weight of (b2211-1). From this viewpoint, it is preferably 5 to 99.8%, more preferably 8 to 99.6%, and particularly preferably 10 to 98%. The content of oxyethylene units in the polyoxyalkylene chain is preferably 5 from the viewpoint of the volume resistivity value of (b22) and the dispersibility of (B) in (A) based on the weight of the polyoxyalkylene chain. -100%, more preferably 10-100%, particularly preferably 50-100%, most preferably 60-100%.

ポリエーテルジアミン（ｂ２２１−２）としては、ポリエーテルジオール（ｂ２２１−１）の水酸基をアミノ基（１級または２級アミノ基）に変性した構造のもの、例えば、一般式：ＲＮＨ−Ａ2−(ＯＡ1)mＯ−Ｅ1−Ｏ(Ａ1Ｏ)m'−Ａ2−ＮＨＲで示されるものが挙げられる。従って、ポリオキシアルキレン鎖中のオキシエチレン単位の含量は（ｂ２２１−１）の場合と同じであり、（ｂ２２１−２）中のオキシアルキレン単位の含量は対応する（ｂ２２１−１）中のオキシアルキレン単位の含量と同じである。
上記式中の記号Ｅ1、Ａ1、ｍおよびｍ’は前記と同様であり、Ａ2はＣ２〜４のアルキレン基を表し、Ａ1とＡ2とは同じでも異なっていてもよい。ＲはＨまたはＣ１〜４（好ましくは１または２）のアルキル基を表す。
（ｂ２２１−２）は、（ｂ２２１−１）の両末端水酸基を種々の方法によりアミノ基に変えることにより、容易に得ることができる。
水酸基をアミノ基に変える方法としては、例えば（ｂ２２１−１）の水酸基をシアノアルキル化して得られる末端シアノアルキル基を還元してアミノ基とする方法［例えば、（ｂ２２１−１）とアクリロニトリルとを反応させ、得られるシアノエチル化物に水素添加する方法］、（ｂ２２１−１）とアミノカルボン酸またはラクタムとを反応させる方法、および（ｂ２２１−１）とハロゲン化アミンをアルカリ条件下で反応させる方法が挙げられる。 The polyether diamine (b221-2) has a structure in which the hydroxyl group of the polyether diol (b221-1) is modified to an amino group (primary or secondary amino group), for example, the general formula: RNH-A 2 — Examples include (OA 1 ) m O—E 1 —O (A 1 O) m ′ —A 2 —NHR. Therefore, the content of the oxyethylene unit in the polyoxyalkylene chain is the same as in the case of (b2211-1), and the content of the oxyalkylene unit in (b2211-2) is the corresponding oxyalkylene in (b2211-1) Same as unit content.
Symbols E 1 , A 1 , m and m ′ in the above formula are the same as described above, A 2 represents a C2-4 alkylene group, and A 1 and A 2 may be the same or different. R represents H or a C1-4 (preferably 1 or 2) alkyl group.
(B221-2) can be easily obtained by changing both terminal hydroxyl groups of (b2211-1) to amino groups by various methods.
As a method of changing a hydroxyl group to an amino group, for example, a method of reducing a terminal cyanoalkyl group obtained by cyanoalkylating the hydroxyl group of (b2211-1) to an amino group [for example, (b2211-1) and acrylonitrile A method of reacting and hydrogenating the resulting cyanoethylated product], a method of reacting (b221-1) with an aminocarboxylic acid or lactam, and a method of reacting (b221-1) with a halogenated amine under alkaline conditions. Can be mentioned.

（ｂ２２１−１）または（ｂ２２１−２）の変性物（ｂ２２１−３）としては、例えば（ｂ２２１−１）または（ｂ２２１−２）のアミノカルボン酸変性物（末端アミノ基）、同イソシアネート変性物（末端イソシアネート基）および同エポキシ変性物（末端エポキシ基）が挙げられる。   Examples of the modified product (b221-1) of (b2211-1) or (b221-2) include, for example, an aminocarboxylic acid modified product (terminal amino group) and an isocyanate modified product of (b221-1) or (b2211-2) (Terminal isocyanate group) and the same epoxy modified product (terminal epoxy group).

ポリエーテル（ｂ２２１）のＭｎは、耐熱性およびポリオレフィン（ｂ２１）のブロックとの反応性の観点から好ましくは１５０〜２０，０００、さらに好ましくは３００〜１８，０００、とくに好ましくは１，０００〜１５，０００、最も好ましくは１，２００〜８，０００である。   Mn of the polyether (b221) is preferably 150 to 20,000, more preferably 300 to 18,000, and particularly preferably 1,000 to 15 from the viewpoint of heat resistance and reactivity with the block of the polyolefin (b21). 1,000, most preferably 1,200 to 8,000.

ポリエーテル含有親水性ポリマー（ｂ２２２）としては、国際公開ＷＯ００／４７６５２号公報明細書に記載のポリエーテル含有親水性ポリマー（ｂ２）が挙げられる。   Examples of the polyether-containing hydrophilic polymer (b222) include the polyether-containing hydrophilic polymer (b2) described in WO 00/47652.

カチオン性ポリマー（ｂ２２３）は、非イオン性分子鎖（ｃ１）で隔てられた２〜８０個、好ましくは３〜６０個のカチオン性基（ｃ２）を分子内に有する。
（ｃ２）としては、４級アンモニウム塩およびホスホニウム塩を有する基が挙げられる。 The cationic polymer (b223) has 2 to 80, preferably 3 to 60, cationic groups (c2) in the molecule separated by a nonionic molecular chain (c1).
Examples of (c2) include groups having a quaternary ammonium salt and a phosphonium salt.

（ｃ２）の対アニオンとしては、Ｈａｍｍｅｔｔの酸度関数（−Ｈ0）が１２〜２０の超強酸のアニオン、およびその他のアニオンが挙げられる。超強酸としては、（１）プロトン酸（ｄ１）とルイス酸（ｄ２）との組み合わせから誘導される超強酸（四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸等）、（２）プロトン酸（過塩素酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸等）が挙げられる。
その他のアニオンとしては、例えばハロゲンイオン（Ｆ-、Ｃｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-等）、ＯＨ-、ＰＯ4 -、ＣＨ3ＯＳＯ4 -、Ｃ2Ｈ5ＯＳＯ4 -、ＣｌＯ4 -が挙げられる。 As the counter anion of (c2), Hammett acidity function (-H 0) super strong acid anions 12-20, and other anions. Examples of super strong acids include (1) super strong acids (tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, etc.) derived from a combination of protonic acid (d1) and Lewis acid (d2), and (2) protonic acid (peroxygen). Chloric acid, trifluoromethanesulfonic acid, pentafluoroethanesulfonic acid, etc.).
Examples of other anions include halogen ions (F − , Cl − , Br − , I − etc.), OH − , PO 4 − , CH 3 OSO 4 − , C 2 H 5 OSO 4 − , and ClO 4 −. It is done.

（ｄ１）の具体例としては、フッ化水素、塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素等が挙げられる。また、（ｄ２）の具体例としては、三フッ化ホウ素、五フッ化リン、五フッ化アンチモン、五フッ化ヒ素、五フッ化タンタル等が挙げられる。
（ｄ１）と（ｄ２）の組み合わせは任意であるが、これらの組み合わせから誘導される超強酸アニオンの好ましい例としては、ＢＦ4 -、ＰＦ6 -、ＳｂＦ6 -、ＡｓＦ6 -、ＴａＦ6 -、ＢＦ3Ｃｌ-、ＰＦ5Ｃｌ-、ＳｂＦ5Ｃｌ-、ＡｓＦ5Ｃｌ-、ＴａＦ5Ｃｌ-、ＢＦ3Ｂｒ-、ＰＦ5Ｂｒ-、ＳｂＦ5Ｂｒ-、ＡｓＦ5Ｂｒ-、ＴａＦ5Ｂｒ-、ＢＦ3Ｉ-、ＰＦ5Ｉ-、ＳｂＦ5Ｉ-、ＡｓＦ5Ｉ-およびＴａＦ5Ｉ-などが挙げられ、これらの２種以上の組み合わせでもよい。これらの対アニオンのうち耐熱性の観点から、好ましいのは超強酸のアニオン、さらに好ましいのはＢＦ4 -、ＰＦ6 -、ＢＦ3Ｃｌ-およびＰＦ5Ｃｌ-、特に好ましいのはＢＦ4 -およびＰＦ6 -である。 Specific examples of (d1) include hydrogen fluoride, hydrogen chloride, hydrogen bromide, hydrogen iodide and the like. Specific examples of (d2) include boron trifluoride, phosphorus pentafluoride, antimony pentafluoride, arsenic pentafluoride, and tantalum pentafluoride.
The combination of (d1) and (d2) is arbitrary, but preferred examples of superacid anions derived from these combinations include BF 4 − , PF 6 − , SbF 6 − , AsF 6 − and TaF 6 −. , BF 3 Cl − , PF 5 Cl − , SbF 5 Cl − , AsF 5 Cl − , TaF 5 Cl − , BF 3 Br − , PF 5 Br − , SbF 5 Br − , AsF 5 Br − , TaF 5 Br − BF 3 I − , PF 5 I − , SbF 5 I − , AsF 5 I − and TaF 5 I − and the like, and a combination of two or more of these may be used. Among these counter anions, from the viewpoint of heat resistance, an anion of a super strong acid is preferable, BF 4 − , PF 6 − , BF 3 Cl − and PF 5 Cl − are particularly preferable, and BF 4 − and are particularly preferable. PF 6 - is.

非イオン性分子鎖（ｃ１）としては、二価の炭化水素基、またはエーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル結合、エステル結合、イミノ結合、アミド結合、イミド結合、ウレタン結合、ウレア結合、カーボネート結合および／またはシロキシ結合を有する炭化水素基および窒素原子もしくは酸素原子を含む複素環構造を有する炭化水素基からなる群から選ばれる少なくとも１種の二価の有機基；並びにこれらの２種以上の併用が挙げられる。   The nonionic molecular chain (c1) includes a divalent hydrocarbon group, or an ether bond, a thioether bond, a carbonyl bond, an ester bond, an imino bond, an amide bond, an imide bond, a urethane bond, a urea bond, a carbonate bond, and / or Or at least one divalent organic group selected from the group consisting of a hydrocarbon group having a siloxy bond and a hydrocarbon group having a heterocyclic structure containing a nitrogen atom or an oxygen atom; and combinations of two or more thereof. It is done.

二価の炭化水素基としては、Ｃ１〜１８（好ましくは２〜８）の直鎖または分岐の脂肪族炭化水素基（アルキレン基、アルケニレン基等）、例えばエチレン、プロピレン、テトラメチレン、ヘキサメチレン、デカメチレン、ドデカメチレン、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンなど；Ｃ６〜２０の芳香族炭化水素基、例えば１，３−および１，４−フェニレン、２，４−および２，６−トリレン、４，４’−および２，４’−メチレンビスフェニレン、ｍ−およびｐ−キシリレン、α，α，α’，α’−テトラメチルキシリレン、ナフチレン等；Ｃ４〜１５の脂環式炭化水素基、例えばシクロヘキシレン、メチルシクロヘキシレン、４，４’−メチレンビスシクロヘキシレン、２，５−および／または２，６−ノルボルニレンなどが挙げられる。   Examples of the divalent hydrocarbon group include C1-18 (preferably 2-8) linear or branched aliphatic hydrocarbon groups (alkylene group, alkenylene group, etc.), such as ethylene, propylene, tetramethylene, hexamethylene, Decamethylene, dodecamethylene, 2,2,4-trimethylhexamethylene, etc .; C6-20 aromatic hydrocarbon groups such as 1,3- and 1,4-phenylene, 2,4- and 2,6-tolylene, 4 , 4′- and 2,4′-methylenebisphenylene, m- and p-xylylene, α, α, α ′, α′-tetramethylxylylene, naphthylene, etc .; C4-15 alicyclic hydrocarbon group, Examples include cyclohexylene, methylcyclohexylene, 4,4′-methylenebiscyclohexylene, 2,5- and / or 2,6-norbornylene. That.

エーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル結合、エステル結合、イミノ結合、アミド結合、イミド結合、ウレタン結合、ウレア結合、カーボネート結合および／またはシロキシ結合を有する二価の炭化水素基としては、（ポリ）オキシアルキレン基、例えば前記ポリエーテルジオール（ｂ２２−１）の残基［例えば−(ＯＡ1)m−Ｅ1−(Ａ1Ｏ)m'−（式中、Ｅ1、Ａ1、ｍおよびｍ’は前記と同様）］、および一般式−Ａ1−Ｏ−Ｅ1−で示されるモノエーテルジオールの残基（式中、Ｅ1、Ａ1は前記と同様）；上記に相当する（酸素原子がイオウ原子に置き換った）ポリチオエーテルの残基；ポリエステルおよび／またはポリアミドの残基、例えば下記一般式（１）〜（４）で示される基；ポリウレタンおよび／またはポリウレアの残基、例えば下記一般式（５）で示される基；ポリカーボネート［前記ジオール（ｂ２２０１）とホスゲンとから誘導される］の残基；ポリシロキサン（ポリオルガノシロキサン、例えばポリジメチルシロキサン）の残基などが挙げられる。 The divalent hydrocarbon group having an ether bond, thioether bond, carbonyl bond, ester bond, imino bond, amide bond, imide bond, urethane bond, urea bond, carbonate bond and / or siloxy bond includes (poly) oxyalkylene A group such as a residue of the polyether diol (b22-1) [eg-(OA 1 ) m -E 1- (A 1 O) m ' -(where E 1 , A 1 , m and m' are The same as above), and the residue of the monoether diol represented by the general formula -A 1 -O-E 1- (wherein E 1 and A 1 are the same as above); Residues of polythioethers (replaced by sulfur atoms); residues of polyesters and / or polyamides, eg groups of the following general formulas (1) to (4); polyurethanes and / or polyureas A group such as a group represented by the following general formula (5); a residue of polycarbonate [derived from the diol (b2201) and phosgene]; a residue of polysiloxane (polyorganosiloxane such as polydimethylsiloxane) Can be mentioned.

Figure 2005097598
Figure 2005097598

上記一般式（１）〜（５）中、Ｄは酸素原子またはイミノ基、Ｒ1はＣ１〜１１の炭化水素基、Ｒ2はカチオン性基と結合する二価の有機基、Ｅ2はジオールの残基（Ｄが酸素原子の場合）またはジアミンの残基（Ｄがイミノ基の場合）、Ｅ3はジカルボン酸の残基、Ｅ4は後述の有機ジイソシアネートの残基、ｕおよびｖは０または１、ｋは１〜２０の整数を表す。
Ｒ1には、ラクタムの残基（Ｄがイミノ基の場合）およびラクトンの残基（Ｄが酸素原子の場合）が含まれ、ラクタムとしては前記のもの、ラクトンとしては前記ラクタムに相当するラクトン（カプロラクトンなど）が挙げられる。
Ｒ2としては、Ｃ２〜１２の二価の炭化水素基、例えばアルキレン基、および前記（ポリ）オキシアルキレン基［−Ａ1−Ｏ−Ｅ1−、−(Ａ1Ｏ)m−Ｅ1−（ＯＡ1）m'−］が挙げられる。 In the general formulas (1) to (5), D is an oxygen atom or imino group, R 1 is a C 1-11 hydrocarbon group, R 2 is a divalent organic group bonded to a cationic group, and E 2 is a diol. Residues (when D is an oxygen atom) or diamine residues (when D is an imino group), E 3 is a dicarboxylic acid residue, E 4 is an organic diisocyanate residue described below, and u and v are 0 Or 1, k represents the integer of 1-20.
R 1 includes a lactam residue (when D is an imino group) and a lactone residue (when D is an oxygen atom), the lactam as described above, and the lactone as a lactone corresponding to the lactam. (Such as caprolactone).
R 2 includes a C 2-12 divalent hydrocarbon group such as an alkylene group, and the (poly) oxyalkylene group [—A 1 —O—E 1 —, — (A 1 O) m —E 1 —. (OA 1 ) m ′ −].

Ｅ2のうちジオールの残基としては、二価アルコール（例えば前述のようなＣ２〜１２の脂肪族、脂環族および芳香族二価アルコール）、これらのＡＯ（Ｃ２〜４）付加物（付加モル数１〜２０またはそれ以上）、二価フェノール（例えば前述のようなＣ６〜１８の二価フェノール）のＡＯ（Ｃ２〜４）付加物（付加モル数２〜２０またはそれ以上）、およびこれらの２種以上の混合物などのジオールからヒドロキシル基を除いた残基が挙げられる。 Among E 2 , diol residues include dihydric alcohols (for example, C2-12 aliphatic, alicyclic and aromatic dihydric alcohols as described above), and AO (C2-4) adducts (additions). 1 to 20 or more moles), AO (C2-4) adducts (2 to 20 or more moles added) of dihydric phenols (eg, C6-18 dihydric phenols as described above), and these And a residue obtained by removing a hydroxyl group from a diol, such as a mixture of two or more thereof.

Ｅ2のうちジアミンの残基としては、低分子量ジアミン、例えば前記ジイソシアネートに相当するジアミン：Ｃ２〜２０の脂肪族ジアミン（エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、１，１２−ドデカンジアミン等）、Ｃ６〜１５の脂環式ジアミン（１，４−シクロヘキシレンジアミン、イソホロンジアミン、４，４’−ジアミノシクロヘキシルメタン等）、Ｃ８〜１５の芳香脂肪族ジアミン（キシリレンジアミン等）、Ｃ６〜１５の芳香族ジアミン［ｐ−フェニレンジアミン、２，４−および２，６−トルエンジアミン、２，２−ビス（４，４’−ジアミノフェニル）プロパン等］、前記ポリエーテルジアミン（ｂ２２１−２）、およびこれらの２種以上の混合物などのジアミンからアミノ基を除いた残基が挙げられる。 Among E 2 , the diamine residue is a low molecular weight diamine, for example, a diamine corresponding to the diisocyanate: C2-20 aliphatic diamine (ethylenediamine, propylenediamine, hexamethylenediamine, 1,12-dodecanediamine, etc.), C6 -15 alicyclic diamine (1,4-cyclohexylenediamine, isophorone diamine, 4,4'-diaminocyclohexylmethane, etc.), C8-15 araliphatic diamine (xylylenediamine, etc.), C6-15 fragrance Group diamine [p-phenylenediamine, 2,4- and 2,6-toluenediamine, 2,2-bis (4,4′-diaminophenyl) propane, etc.], the polyether diamine (b221-2), and these A residue obtained by removing an amino group from a diamine, such as a mixture of two or more of The

Ｅ3としては、ジカルボン酸［Ｃ４〜１２の脂肪族ジカルボン酸（例えばコハク酸、アジピン酸、グルタル酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカン二酸、ドデカン二酸などの飽和ジカルボン酸、および前記不飽和ジカルボン酸）、Ｃ８〜１５の芳香族ジカルボン酸（フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等）、およびこれらの２種以上の混合物などのジカルボン酸からカルボキシル基を除いた残基が挙げられる。
Ｅ4は有機ジイソシアネート（例えば前述のような芳香族、脂肪族、脂環式および芳香脂肪族ジイソシアネート、これらの変性体、およびこれらの２種以上の混合物）からイソシアネート基を除いた残基が挙げられる。 E 3 may be a dicarboxylic acid [C4-12 aliphatic dicarboxylic acid (for example, succinic acid, adipic acid, glutaric acid, azelaic acid, sebacic acid, undecanedioic acid, dodecanedioic acid, etc.) Dicarboxylic acid), C8-15 aromatic dicarboxylic acid (phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, etc.), and residues obtained by removing the carboxyl group from dicarboxylic acids such as a mixture of two or more thereof.
E 4 is a residue obtained by removing an isocyanate group from an organic diisocyanate (for example, aromatic, aliphatic, alicyclic and araliphatic diisocyanates as described above, modified products thereof, and a mixture of two or more thereof). It is done.

上記有機ジイソシアネートとしては、Ｃ（ＮＣＯ基中の炭素を除く、以下同様）６〜２０の芳香族ジイソシアネート、Ｃ２〜１８の脂肪族ジイソシアネート、Ｃ４〜１５の脂環式ジイソシアネート、Ｃ８〜１５の芳香脂肪族ジイソシアネート、これらのジイソシアネートの変性体およびこれらの２種以上の混合物が使用できる。
上記芳香族ジイソシアネートの具体例としては、１，３−および１，４−フェニレンジイソシアネート、２，４−および２，６−トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、粗製ＴＤＩ、２，４’−および４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、４，４’−ジイソシアナトビフェニル、３，３’−ジメチル−４，４’−ジイソシアナトビフェニル、３，３’−ジメチル−４，４’−ジイソシアナトジフェニルメタン、１，５−ナフチレンジイソシアネートなどが挙げられる。
上記脂肪族ジイソシアネートの具体例としては、エチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、ドデカメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、２，６−ジイソシアナトメチルカプロエート、ビス（２−イソシアナトエチル）フマレート、ビス（２−イソシアナトエチル）カーボネート、２−イソシアナトエチル−２，６−ジイソシアナトヘキサノエートなどが挙げられる。 Examples of the organic diisocyanate include C (excluding carbon in the NCO group, the same shall apply hereinafter) 6-20 aromatic diisocyanate, C2-18 aliphatic diisocyanate, C4-15 alicyclic diisocyanate, C8-15 aromatic fat. Group diisocyanates, modified products of these diisocyanates, and mixtures of two or more thereof.
Specific examples of the aromatic diisocyanate include 1,3- and 1,4-phenylene diisocyanate, 2,4- and 2,6-tolylene diisocyanate (TDI), crude TDI, 2,4′- and 4,4. '-Diphenylmethane diisocyanate (MDI), 4,4'-diisocyanatobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diisocyanatobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diisocyanato Examples thereof include diphenylmethane and 1,5-naphthylene diisocyanate.
Specific examples of the aliphatic diisocyanate include ethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate (HDI), dodecamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, and 2,6-diisocyanatomethyl carbonate. Examples include proate, bis (2-isocyanatoethyl) fumarate, bis (2-isocyanatoethyl) carbonate, 2-isocyanatoethyl-2,6-diisocyanatohexanoate.

上記脂環式ジイソシアネートの具体例としては、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、ジシクロヘキシルメタン−４，４’−ジイソシアネート（水添ＭＤＩ）、シクロヘキシレンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート（水添ＴＤＩ）、ビス（２−イソシアナトエチル）−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボキシレート、２，５−又は２，６−ノルボルナンジイソシアネートなどが挙げられる。
上記芳香脂肪族ジイソシアネートの具体例としては、ｍ−またはｐ−キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、α，α，α’，α’−テトラメチルキシリレンジイソシアネート（ＴＭＸＤＩ）などが挙げられる。
また、上記ジイソシアネートの変性体としては、ウレタン変性体、ウレア変性体、カルボジイミド変性体及びウレトジオン変性体などが挙げられる。
これらのうち、好ましいのはＴＤＩ、ＭＤＩおよびＨＤＩ、特に好ましいのはＨＤＩである。 Specific examples of the alicyclic diisocyanate include isophorone diisocyanate (IPDI), dicyclohexylmethane-4,4′-diisocyanate (hydrogenated MDI), cyclohexylene diisocyanate, methylcyclohexylene diisocyanate (hydrogenated TDI), bis (2- And isocyanatoethyl) -4-cyclohexene-1,2-dicarboxylate, 2,5- or 2,6-norbornane diisocyanate.
Specific examples of the aromatic aliphatic diisocyanate include m- or p-xylylene diisocyanate (XDI), α, α, α ′, α′-tetramethylxylylene diisocyanate (TMXDI), and the like.
Examples of the modified diisocyanate include urethane-modified products, urea-modified products, carbodiimide-modified products, and uretdione-modified products.
Of these, TDI, MDI and HDI are preferred, and HDI is particularly preferred.

非イオン性分子鎖（ｃ１）の分子量は通常分子量２８〜Ｍｎ１０，０００、好ましくは３００〜５，０００である。これらの非イオン性分子鎖（ｃ１）のうち好ましいのは、二価の炭化水素基およびエーテル結合を有する二価の炭化水素基、さらに好ましいのはＣ１〜８のアルキレン基（ヘキサメチレン基等）、フェニレン基；並びに（ポリ）オキシアルキレン基、とくに好ましいのは（ポリ）オキシエチレン基、（ポリ）オキシプロピレン基である。   The molecular weight of the nonionic molecular chain (c1) is usually a molecular weight of 28 to Mn 10,000, preferably 300 to 5,000. Among these nonionic molecular chains (c1), a divalent hydrocarbon group and a divalent hydrocarbon group having an ether bond are preferable, and a C1-8 alkylene group (such as a hexamethylene group) is more preferable. , Phenylene groups; and (poly) oxyalkylene groups, particularly preferred are (poly) oxyethylene groups and (poly) oxypropylene groups.

カチオン性ポリマー（ｂ２２３）としては、例えば下記一般式（６）で示される繰り返し単位を有するものが挙げられる。   Examples of the cationic polymer (b223) include those having a repeating unit represented by the following general formula (6).

Figure 2005097598
Figure 2005097598

式中、Ｍは窒素原子またはリン原子、Ｊ-は対アニオン、ｄは２〜６０の整数、Ｌ1は非イオン性分子鎖（ｃ１）、Ｒ3、Ｒ4は一価の非イオン性有機基である。さらに、（ｂ２２３）は、下記一般式（７）または（８）で示されるように一般式（６）の隣接するＲ3および／またはＲ4がそれぞれ互いに結合して二価の非イオン性有機基（Ｌ3、Ｌ5）となりＭ+とともに環を形成していてもよい。 In the formula, M is a nitrogen atom or phosphorus atom, J − is a counter anion, d is an integer of 2 to 60, L 1 is a nonionic molecular chain (c1), R 3 and R 4 are monovalent nonionic organic compounds It is a group. Further, (b223) is a divalent nonionic organic compound in which adjacent R 3 and / or R 4 in the general formula (6) are bonded to each other as shown in the following general formula (7) or (8). It may become a group (L 3 , L 5 ) and may form a ring together with M + .

Figure 2005097598
Figure 2005097598

式中、Ｍは窒素原子またはリン原子、Ｌ2、Ｌ3、Ｌ4およびＬ5は二価の非イオン性分子鎖、Ｒ4、Ｒ4'は一価の非イオン性有機基、Ｊ-は対アニオン、ｅは１〜３０の整数である。 In the formula, M is a nitrogen atom or phosphorus atom, L 2 , L 3 , L 4 and L 5 are divalent nonionic molecular chains, R 4 and R 4 ′ are monovalent nonionic organic groups, J − Is a counter anion, and e is an integer of 1-30.

一般式（６）および（７）におけるＲ3、Ｒ4およびＲ4'としては、エーテル結合もしくはエステル結合を有していてもよい、Ｃ１〜２０の、脂肪族、脂環式および芳香族の一価炭化水素基［例えばばアルキル基（メチル基、エチル基、オクチル基、ドデシル基等）、アルケニル基（アリル基、１−ブテニル基、オレイル基等）、（置換）アラルキル基（ベンジル基、４−メチルベンジル基等）、脂環式炭化水素基（シクロヘキシル基等）、アルコキシ（Ｃ１〜１２）アルキル（Ｃ１〜２０）基（メトキシエチル基等）、アシロキシ（Ｃ１〜１２）アルキル（Ｃ１〜２０）基（アセトキシ基等）］等が挙げられる。
ｄは通常２〜６０またはそれ以上の整数で、帯電防止性および前記末端変性ポリオレフィン（ｂ２１１）〜（ｂ２１６）との反応性の観点から好ましくは３〜５０、さらに好ましくは５〜３０の整数である。 R 3 , R 4, and R 4 ′ in the general formulas (6) and (7) are C 1-20 aliphatic, alicyclic and aromatic which may have an ether bond or an ester bond. Monovalent hydrocarbon group [eg, alkyl group (methyl group, ethyl group, octyl group, dodecyl group, etc.), alkenyl group (allyl group, 1-butenyl group, oleyl group, etc.), (substituted) aralkyl group (benzyl group, 4-methylbenzyl group, etc.), alicyclic hydrocarbon group (cyclohexyl group, etc.), alkoxy (C1-12) alkyl (C1-20) group (methoxyethyl group, etc.), acyloxy (C1-12) alkyl (C1- 20) group (acetoxy group and the like)] and the like.
d is usually an integer of 2 to 60 or more, preferably 3 to 50, more preferably an integer of 5 to 30 from the viewpoint of antistatic properties and reactivity with the terminal-modified polyolefins (b211) to (b216). is there.

Ｌ1〜Ｌ5としては、前述のような非イオン性分子鎖（ｃ１）が挙げられる。 Examples of L 1 to L 5 include the nonionic molecular chain (c1) as described above.

カチオン性ポリマー（ｂ２２３）の好ましい例としては、一般式（６）または（８）の繰り返し単位を有するものである。さらに好ましい例としては、一般式（６）において、Ｒ3、Ｒ4がＣ１〜８のアルキル基、Ｌ1がポリエステルの残基［とくに好ましいのは一般式（２）中Ｒ2がＣ２〜４のアルキレン基、Ｄが酸素原子、ｋが１であるポリエステル］であるもの、および一般式（８）においてＬ2、Ｌ3およびＬ5がＣ２〜８のアルキレン基、Ｌ4がＣ２〜２０のアルキレン基であるものである。それらの具体例としては下記式（９）および（１０）で示される繰り返し単位を有するものが挙げられる。 Preferable examples of the cationic polymer (b223) are those having a repeating unit of the general formula (6) or (8). More preferable examples include those in the general formula (6), wherein R 3 and R 4 are C1-8 alkyl groups, and L 1 is a polyester residue [particular preference is given to R 2 in the general formula (2) being C2-4. An alkylene group, a polyester in which D is an oxygen atom and k is 1, and in formula (8), L 2 , L 3 and L 5 are C2-8 alkylene groups, and L 4 is C2-20. It is an alkylene group. Specific examples thereof include those having a repeating unit represented by the following formulas (9) and (10).

Figure 2005097598
Figure 2005097598

Figure 2005097598
Figure 2005097598

式（９）および（１０）中、Ｊ-は対アニオン、ｆは２〜１２の整数を表す。 In formulas (9) and (10), J − represents a counter anion, and f represents an integer of 2 to 12.

カチオン性ポリマー（ｂ３）の他の例としては、下記一般式（１１）で示される繰り返し単位を有するものが挙げられる。   Other examples of the cationic polymer (b3) include those having a repeating unit represented by the following general formula (11).

Figure 2005097598
Figure 2005097598

式（１１）中、Ａは三価の炭化水素基、Ｍ、Ｊ-、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ4'及びｄは前記と同じである。
三価の炭化水素基Ａとしては、Ｃ２〜２０の三価の脂肪族炭化水素基、例えば、−ＣＨ2（ＣＨ2）gＣＨ＜で示される基（ｇは０又は１〜１８の整数）、Ｃ６〜１２の３価の芳香族炭化水素基、例えば結合位置が１，３，５−、１，２，４−又は１，２，３−であるベンゼン環が挙げられる。
カチオン性基（ｃ２）としては、四級アンモニウム塩又はホスホニウム塩を有する基が挙げられる。四級アンモニウム塩を有する基としては二価の四級アンモニウム塩含有複素環基が好ましい。
二価の四級アンモニウム塩基含有複素環基としては、二価の三級アミノ基含有複素環基［例えば二価のイミダゾール環基（１，４−イミダゾレン基、２−フェニル−１，４−イミダゾレン基など）、二価のピペリジン環基（２，３−、３，４−又は２，６−ピペリジレン基）、二価の芳香複素環基（２，３−、２，４−、２，５−、２，６−、３，４−又は３，５−ピリジレン基、２，５−ピリミジニレン基、３，６−ピリダジニレン基、２，５−ピラジニレン基など）］が四級化された構造の基が挙げられる。 In formula (11), A is a trivalent hydrocarbon group, M, J − , R 3 , R 4 , R 4 ′ and d are the same as described above.
The trivalent hydrocarbon group A is a C2-20 trivalent aliphatic hydrocarbon group, for example, a group represented by —CH 2 (CH 2 ) g CH <(g is 0 or an integer of 1 to 18). , C6-12 trivalent aromatic hydrocarbon group, for example, a benzene ring in which the bonding position is 1,3,5-, 1,2,4- or 1,2,3-.
Examples of the cationic group (c2) include a group having a quaternary ammonium salt or a phosphonium salt. The group having a quaternary ammonium salt is preferably a divalent quaternary ammonium salt-containing heterocyclic group.
Examples of the divalent quaternary ammonium base-containing heterocyclic group include a divalent tertiary amino group-containing heterocyclic group [for example, a divalent imidazole ring group (1,4-imidazolene group, 2-phenyl-1,4-imidazolene). Group), divalent piperidine ring group (2,3-, 3,4- or 2,6-piperidylene group), divalent aromatic heterocyclic group (2,3-, 2,4-, 2,5). -, 2,6-, 3,4- or 3,5-pyridylene group, 2,5-pyrimidinylene group, 3,6-pyridazinylene group, 2,5-pyrazinylene group, etc.)] Groups.

カチオン性ポリマー（ｂ２２３）の末端構造はポリオレフィン（ｂ２１）のブロックとの反応性の観点から好ましいのはカルボニル基、水酸基またはアミノ基である。
（ｂ２２３）のＭｎは、帯電防止性および前記末端変性ポリオレフィン（ｂ２１１）〜（ｂ２１６）との反応性の観点から、好ましくは５００〜２０，０００、さらに好ましくは１，０００〜１５，０００、とくに好ましくは１，２００〜８，０００である。 The terminal structure of the cationic polymer (b223) is preferably a carbonyl group, a hydroxyl group or an amino group from the viewpoint of reactivity with the block of the polyolefin (b21).
Mn of (b223) is preferably 500 to 20,000, more preferably 1,000 to 15,000, particularly from the viewpoint of antistatic properties and reactivity with the terminal-modified polyolefins (b211) to (b216). Preferably, it is 1,200 to 8,000.

アニオン性ポリマー（ｂ２２４）は、スルホ基を有するジカルボン酸（ｅ１）と、ジオール（ｂ２２０１）またはポリエーテル（ｂ２２１）とを必須構成単位とし、かつ分子内に２〜８０個、好ましくは３〜６０個のスルホ基を有する。   The anionic polymer (b224) has a dicarboxylic acid (e1) having a sulfo group and a diol (b2201) or a polyether (b221) as essential structural units, and 2 to 80, preferably 3 to 60 in the molecule. Having one sulfo group.

（ｅ１）としては、スルホ基を有する芳香族ジカルボン酸、例えば５−スルホ−、２−スルホ−および４−スルホイソフタル酸、４−スルホ−２，６−ナフタレンジカルボン酸、およびこれらのエステル形成性誘導体［低級アルキル（Ｃ１〜４）エステル（メチルエステル、エチルエステル等）、酸無水物等］；スルホ基を有する脂肪族ジカルボン酸、例えばスルホコハク酸、そのエステル形成性誘導体［低級アルキル（Ｃ１〜４）エステル（メチルエステル、エチルエステル等）、酸無水物等］；およびこれらのスルホ基のみの塩〔アルカリ金属（リチウム、ナトリウム、カリウム等）塩、アルカリ土類金属（マグネシウム、カルシウム等）塩、アンモニウム塩、有機アミン塩［モノ−、ジ−およびトリ−アルキル（Ｃ１〜４）アミン（モノ−、ジ−およびトリエチルアミン等）、またはヒドロキシアルキル（Ｃ２〜４）基を有するアミン（モノ−、ジ−およびトリエタノールアミン、ジエチルエタノールアミン等）等］およびこれらアミンの四級アンモニウム塩等］；およびこれらの２種以上の併用が挙げられる。
これらのうち好ましいのはスルホ基を有する芳香族ジカルボン酸（塩）、さらに好ましいのは５−スルホイソフタル酸塩（とくに５−スルホイソフタル酸−ナトリウムおよび−カリウム）である。 (E1) includes aromatic dicarboxylic acids having a sulfo group, such as 5-sulfo-, 2-sulfo- and 4-sulfoisophthalic acid, 4-sulfo-2,6-naphthalenedicarboxylic acid, and ester forming properties thereof. Derivatives [lower alkyl (C1-4) esters (methyl esters, ethyl esters, etc.), acid anhydrides, etc.]; aliphatic dicarboxylic acids having a sulfo group, such as sulfosuccinic acid, ester-forming derivatives thereof [lower alkyl (C1-4 ) Esters (methyl esters, ethyl esters, etc.), acid anhydrides, etc.]; and salts of these sulfo groups only [alkali metal (lithium, sodium, potassium, etc.) salts, alkaline earth metal (magnesium, calcium, etc.) salts, Ammonium salts, organic amine salts [mono-, di- and tri-alkyl (C1-4) amines -, Di- and triethylamine, etc.), or amines having hydroxyalkyl (C2-4) groups (mono-, di- and triethanolamine, diethylethanolamine etc.) and the like, and quaternary ammonium salts of these amines etc.]; And a combination of two or more of these.
Of these, preferred are aromatic dicarboxylic acids (salts) having a sulfo group, and more preferred are 5-sulfoisophthalic acid salts (especially 5-sulfoisophthalic acid-sodium and -potassium).

アニオン性ポリマー（ｂ２２４）を構成するジオール（ｂ２２０１）またはポリエーテル（ｂ２２１）のうち好ましいのは、Ｃ２〜１０のアルカンジオール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール（重合度２〜２０）、ビスフェノール（ビスフェノールＡ等）のＥＯ付加物（付加モル数２〜６０）およびこれらの２種以上の混合物である。
（ｂ２２４）のＭｎは、帯電防止性および前記末端変性ポリオレフィン（ｂ２１１）〜（ｂ２１６）との反応性の観点から、好ましくは５００〜２０，０００、さらに好ましくは１，０００〜１５，０００、とくに好ましくは１，２００〜８，０００である。
親水性ポリマー（ｂ２２）として上述したものは、２種以上を任意に併用してもよい。 Of the diol (b2201) or polyether (b221) constituting the anionic polymer (b224), C2-10 alkanediol, ethylene glycol, polyethylene glycol (degree of polymerization 2-20), bisphenol (bisphenol A, etc.) ) EO adduct (addition mole number 2 to 60) and a mixture of two or more thereof.
Mn of (b224) is preferably 500 to 20,000, more preferably 1,000 to 15,000, particularly from the viewpoint of antistatic properties and reactivity with the terminal-modified polyolefins (b211) to (b216). Preferably, it is 1,200 to 8,000.
As for the hydrophilic polymer (b22) described above, two or more kinds may be optionally used in combination.

（ｂ２２）の体積固有抵抗値（後述の方法で、２３℃、５０％ＲＨの雰囲気下で測定される値。単位Ω・ｃｍ）は成形品の樹脂の機械特性の観点から好ましい下限は１０5、さらに好ましくは１０6、とくに好ましくは１０7、成形品の樹脂の帯電防止性の観点から好ましい上限は１０11、さらに好ましくは１０10、とくに好ましくは１０9である。
（ｂ２２）のＭｎは、耐熱性およびポリオレフィン（ｂ２１）のブロックとの反応性の観点から好ましい下限は１５０、さらに好ましくは３００、とくに好ましくは１，０００、最も好ましくは１，２００、好ましい上限は２０，０００、さらに好ましくは１８，０００、とくに好ましくは１５，０００、最も好ましくは８，０００である。 The volume specific resistance value (b22) (value measured in an atmosphere of 23 ° C. and 50% RH by the method described later. Unit Ω · cm) is preferably 10 5 from the viewpoint of the mechanical properties of the resin of the molded product. More preferably, it is 10 6 , particularly preferably 10 7 , and the upper limit is preferably 10 11 , more preferably 10 10 , and particularly preferably 10 9 from the viewpoint of the antistatic property of the resin of the molded product.
Mn of (b22) is preferably 150 from the viewpoint of heat resistance and reactivity with the block of polyolefin (b21), more preferably 300, particularly preferably 1,000, most preferably 1,200, and preferred upper limit is 20,000, more preferably 18,000, particularly preferably 15,000, most preferably 8,000.

ブロックポリマー（Ｂ２）は、上記ポリオレフィン（ｂ２１）のブロックと、親水性ポリマー（ｂ２２）のブロックとが、エステル結合、アミド結合、エーテル結合、イミド結合およびウレタン結合からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合を介して繰り返し交互に結合した構造を有するものであり、これらのうち帯電防止性および透明性の観点から好ましいのは、（ｂ２２）がポリエーテル（ｂ２２１）であるブロックポリマー（Ｂ２１）、（ｂ２２）がカチオン性ポリマー（ｂ２２３）であるブロックポリマー（Ｂ２３）、（ｂ２２）がアニオン性ポリマー（ｂ２２４）であるブロックポリマー（Ｂ２４）である。   The block polymer (B2) is at least one selected from the group consisting of an ester bond, an amide bond, an ether bond, an imide bond and a urethane bond, in which the polyolefin (b21) block and the hydrophilic polymer (b22) block are included. The block polymer (B21) in which (b22) is a polyether (b221) is preferable from the viewpoint of antistatic properties and transparency. (B22) is a block polymer (B23) which is a cationic polymer (b223), and (b22) is a block polymer (B24) which is an anionic polymer (b224).

ブロックポリマー（Ｂ２１）は、下記一般式（１２）で示される繰り返し単位を有する。   The block polymer (B21) has a repeating unit represented by the following general formula (12).

Figure 2005097598
Figure 2005097598

式（１２）において、ｎは２〜５０（好ましくは３〜４０、さらに好ましくは４〜３０、特に好ましくは４〜３０）の整数；Ｒ5およびＲ6の一方はＨで他方はＨまたはメチル基；ｙは１５〜８００（好ましくは２０〜５００、さらに好ましくは３０〜４００）の整数；Ｅ1、Ａ1、ｍおよびｍ’は前記と同様であり；ＸおよびＸ’は、下記一般式（１３）、（１４）および対応する（１３’）、（１４’）から選ばれる基、すなわち、Ｘが一般式（１３）で示される基のとき、Ｘ’は一般式（１３’）で示される基であり、一般式（１４）と（１４’）についても同様の関係である。 In the formula (12), n is an integer of 2 to 50 (preferably 3 to 40, more preferably 4 to 30, particularly preferably 4 to 30); one of R 5 and R 6 is H and the other is H or methyl Group; y is an integer of 15 to 800 (preferably 20 to 500, more preferably 30 to 400); E 1 , A 1 , m and m ′ are as defined above; X and X ′ are represented by the following general formula (13), (14) and a corresponding group selected from (13 ′), (14 ′), that is, when X is a group represented by the general formula (13), X ′ is represented by the general formula (13 ′) It is a group shown, and the same relations apply to the general formulas (14) and (14 ′).

Figure 2005097598
Figure 2005097598

；一般式（１３）、（１４）および対応する（１３’）、（１４’）式において、Ｒは前記（ｂ２２２）において述べたものと同じでＨ又はＣ１〜４（好ましくは１または２）のアルキル基、Ｒ7はＣ２〜２２（好ましくは３〜１６、さらに好ましくは５〜１１）の２価の炭化水素基、Ｒ8はＨまたはＣ１〜１０（好ましくは１〜８、さらに好ましくは１〜６）のアルキル基；ｒは１〜２０（好ましくは１〜１５、さらに好ましくは１〜１０）の整数であり、ｕは０または１；Ｑ、Ｑ’、ＴおよびＴ’は次式で示される基 In the general formulas (13) and (14) and the corresponding formulas (13 ′) and (14 ′), R is the same as described in the above (b222) and H or C1-4 (preferably 1 or 2); R 7 is a C 2-22 (preferably 3-16, more preferably 5-11) divalent hydrocarbon group, R 8 is H or C 1-10 (preferably 1-8, more preferably 1-6) alkyl group; r is an integer of 1-20 (preferably 1-15, more preferably 1-10), u is 0 or 1; Q, Q ′, T and T ′ are represented by the following formulae: Group represented by

Figure 2005097598
Figure 2005097598

；上記の一般式（１５）、（１６）および対応する（１５’）、（１６’）式中、Ｒ9はＨまたはＣ１〜１０（好ましくは１〜８、さらに好ましくは１〜６）のアルキル基、Ｒ10はＨまたはメチル基、ｔはＲ10がメチル基のとき１、Ｈのとき０である。 In the general formulas (15), (16) and the corresponding (15 ′), (16 ′), R 9 is H or C1-10 (preferably 1-8, more preferably 1-6); An alkyl group, R 10 is H or a methyl group, t is 1 when R 10 is a methyl group, and 0 when H is H.

一般式（１２）で示される繰り返し単位中の｛ ｝内のポリエーテルセグメント｛(ＯＡ1)mＯ−Ｅ1−Ｏ(Ａ1Ｏ)m'｝は、前記ポリエーテルジオール（ｂ２２１−１）またはポリエーテルジアミン（ｂ２２１−２）に由来する構造であり、式中のＥ1、Ａ1、ｍおよびｍ’は前記と同様である。 The polyether segment {(OA 1 ) m O—E 1 —O (A 1 O) m ′ } in {} in the repeating unit represented by the general formula (12) is the polyether diol (b221-1) or a structure derived from polyether diamine (b221-2), E 1 in the formula, a 1, m and m 'are as defined above.

一般式（１２）において、Ｘが一般式（１３）で示される基、およびＸ’が一般式（１３’）で示される基であるブロックポリマーには、前記末端変性ポリオレフィン（ｂ２１１１）および／または（ｂ２１１２）と（ｂ２２１−１）とを重合反応させることにより得られる（Ｂ２１１）と、（ｂ２１１１）および／または（ｂ２１１２）と（ｂ２２１−２）とを重合反応させることにより得られる（Ｂ２１２）とが含まれる。
（Ｂ２１１）には（ｂ２１１１）と（ｂ２２１−１）とを組み合わせた（Ｂ２１１−１）、（ｂ２１１２）と（ｂ２２１−１）とを組み合わせた（Ｂ２１１−２）、および（Ｂ２１１−１）と（Ｂ２１１−２）の混合物が含まれる。また、同様に（Ｂ２１２）には（ｂ２１１１）と（ｂ２２１−２）とを組み合わせた（Ｂ２１２−１）、（ｂ２１１２）と（ｂ２２１−２）とを組み合わせた（Ｂ２１２−２）、および（Ｂ２１２−１）と（Ｂ２１２−２）の混合物が含まれる。 In the general formula (12), the terminal-modified polyolefin (b2111) and / or the block polymer in which X is a group represented by the general formula (13) and X ′ is a group represented by the general formula (13 ′) (B2112) obtained by polymerizing (b2112) and (b2211-1), and (b2111) and / or (b2112) and (b221-2) obtained by polymerizing (B212) And are included.
(B211) (B2111) in which (b2111) and (b2211-1) are combined, (B2112) in which (b2112) and (b221-1) are combined (B2111-2), and (B21-1) A mixture of (B211-2) is included. Similarly, (B212) is a combination of (b2111) and (b221-2) (B212-1), (b2112) and (b221-2) are combined (B212-2), and (B212). -1) and a mixture of (B212-2).

（Ｂ２１１）は、例えば（ｂ２１１１）および／または（ｂ２１１２）に、（ｂ２２１−１）を加えて減圧下、通常２００〜２５０℃で重合（重縮合）反応を行う方法、または、一軸もしくは二軸の押出機を用い、通常１６０〜２５０℃、滞留時間０．１〜２０分で重合する方法により製造することができる。
上記の重合反応では、種々の触媒、例えばアンチモン触媒（例えば三酸化アンチモン）；スズ触媒（例えばモノブチルスズオキシド）；チタン触媒（例えばテトラブチルチタネート）；ジルコニウム触媒（例えばテトラブチルジルコネート）；有機酸金属塩触媒［例えばジルコニウム有機酸塩（例えば酢酸ジルコニル）および酢酸亜鉛］；およびこれらの２種以上の混合物が挙げられる。これらのうち好ましいのは、ジルコニウム触媒およびジルコニウム有機酸塩、さらに好ましいのは酢酸ジルコニルである。
触媒の使用量は、（ｂ２１１１）および／または（ｂ２１１２）と（ｂ２２１−１）の合計重量に対して、好ましくは０．００１〜５％、さらに好ましくは０．０１〜３％である。 (B211) is, for example, a method in which (b2211-1) is added to (b2111) and / or (b2112) and a polymerization (polycondensation) reaction is usually performed at 200 to 250 ° C. under reduced pressure, or uniaxial or biaxial In general, it can be produced by a method of polymerizing at 160 to 250 ° C. and a residence time of 0.1 to 20 minutes.
In the above polymerization reaction, various catalysts such as antimony catalysts (eg antimony trioxide); tin catalysts (eg monobutyltin oxide); titanium catalysts (eg tetrabutyl titanate); zirconium catalysts (eg tetrabutylzirconate); organic acids Metal salt catalysts [eg zirconium organic acid salts (eg zirconyl acetate) and zinc acetate]; and mixtures of two or more thereof. Among these, a zirconium catalyst and a zirconium organic acid salt are preferable, and zirconyl acetate is more preferable.
The amount of the catalyst used is preferably 0.001 to 5%, more preferably 0.01 to 3%, based on the total weight of (b2111) and / or (b2112) and (b2211-1).

（Ｂ２１１）のうち、（Ｂ２１１−２）は（ｂ２１１１）を前記ラクタムもしくはアミノカルボン酸で二次変性した後に、（ｂ２２１−１）を加えて反応させてもよいし、（ｂ２１１１）とラクタムもしくはアミノカルボン酸を（ｂ２２１−１）の存在下反応させ、続いて（ｂ２２１−１）と反応させて製造してもよい。   Among (B211), (B2111) may be reacted with (b2111) after the secondary modification of (b2111) with the lactam or aminocarboxylic acid, or (b2111) and the lactam or An aminocarboxylic acid may be reacted in the presence of (b2211-1) and subsequently reacted with (b2211-1).

（Ｂ２１２）は、（Ｂ２１１）における（ｂ２１１１）および／または（ｂ２１１２）と（ｂ２２１−１）の組み合わせを、（ｂ２１１１）および／または（ｂ２１１２）と（ｂ２２１−２）の組み合わせに代える以外は（Ｂ２１１）と同様の方法で製造することができる。
また、（Ｂ２１２）のうち、（Ｂ２１２−２）は（ｂ２１１１）を前記ラクタムもしくはアミノカルボン酸で二次変性した後に、これと（ｂ２２１−２）とを反応させて製造してもよい。 (B212) is different from (B2111) except that the combination of (b2111) and / or (b2112) and (b221-1) is replaced with the combination of (b2111) and / or (b2112) and (b221-2) ( B211).
Moreover, (B212-2) among (B212) may be produced by reacting (b2111) with (b2111) after secondary modification of (b2111) with the lactam or aminocarboxylic acid.

一般式（１２）において、Ｘが一般式（１４）で示される基、およびＸ’が一般式（１４’）で示される基であるブロックポリマーには、（ｂ２１１３）（ｒ＝１の場合）および／または（ｂ２１１４）（ｒ≧２の場合）と（ｂ２２１−１）とを重合反応させることにより得られる（Ｂ２１３）と、（ｂ２１１３）および／または（ｂ２１１４）と（ｂ２２１−２）とを重合反応させることにより得られる（Ｂ２１４）とが含まれる。
（Ｂ２１３）には（ｂ２１１３）と（ｂ２２１−１）とを組み合わせた（Ｂ２１３−１）、（ｂ２１１４）と（ｂ２２１−１）とを組み合わせた（Ｂ２１３−２）、および（Ｂ２１３−１）と（Ｂ２１３−２）の混合物が含まれる。また、同様に（Ｂ２１４）には（ｂ２１１３）と（ｂ２２１−２）とを組み合わせた（Ｂ２１４−１）、（ｂ２１１４）と（ｂ２２１−２）とを組み合わせた（Ｂ２１４−２）、および（Ｂ２１４−１）と（Ｂ２１４−２）の混合物が含まれる。
（Ｂ２１３）および（Ｂ２１４）は（Ｂ２１１）や（Ｂ２１２）と同様の方法で製造することができる。 In the general formula (12), the block polymer in which X is a group represented by the general formula (14) and X ′ is a group represented by the general formula (14 ′) includes (b2113) (when r = 1) And / or (b2114) (in the case of r ≧ 2) and (b221-1) and (B213), (b2113) and / or (b2114) and (b2211-2) obtained by polymerization reaction (B214) obtained by a polymerization reaction.
(B213) is a combination of (B2113) and (b221-1), (B213-1), (b2114) and (b221-1) are combined (B213-2), and (B213-1) A mixture of (B213-2) is included. Similarly, (B214) is a combination of (B214-1) in which (b2113) and (b221-2) are combined with (B214-1), (B214-2) in which (b2114) is combined with (b221-2), and (B214). -1) and a mixture of (B214-2).
(B213) and (B214) can be produced in the same manner as (B211) and (B212).

ブロックポリマー（Ｂ２３）は、カチオン性ポリマー（ｂ２２３）のブロックを有するものであり、前記ポリオレフィン（ｂ２１）と（ｂ２２３）とが繰り返し交互に結合した構造を有する。（Ｂ２３）は前記（ｂ２１１）〜（ｂ２１３）と（ｂ２２３）との重合反応により得ることができ、上記（Ｂ２１）における、（ｂ２１１１）および／または（ｂ２１１２）と（ｂ２２１）との重合反応と同様の方法で製造することができる。また、必要により、（ｂ２２３）と（ｂ２２１）とを任意の割合（例えば１：９〜９：１の重量比）で併用することができる。
（Ｂ２３）中のカチオン性基（ｃ２）の含量は、帯電防止性の観点から（Ｂ２３）１分子当たり好ましくは２〜５００個、さらに好ましくは１０〜３００個、とくに好ましくは１５〜２５０個である。また、（ｃ２）１個当たりの（Ｂ２３）のＭｎは、帯電防止性の観点から好ましくは１２０〜３０，０００、さらに好ましくは２００〜６，０００、とくに好ましくは３００〜４，０００である。 The block polymer (B23) has a block of the cationic polymer (b223) and has a structure in which the polyolefins (b21) and (b223) are repeatedly and alternately bonded. (B23) can be obtained by the polymerization reaction of (b211) to (b213) and (b223), and the polymerization reaction of (b2111) and / or (b2112) and (b221) in (B21) above It can be manufactured by a similar method. Moreover, (b223) and (b221) can be used together in arbitrary ratios (for example, weight ratio of 1: 9-9: 1) as needed.
The content of the cationic group (c2) in (B23) is preferably 2 to 500, more preferably 10 to 300, and particularly preferably 15 to 250 per molecule from the viewpoint of antistatic properties (B23). is there. Further, the Mn of (B23) per (c2) is preferably 120 to 30,000, more preferably 200 to 6,000, and particularly preferably 300 to 4,000 from the viewpoint of antistatic properties.

ブロックポリマー（Ｂ２４）は、アニオン性ポリマー（ｂ２２４）のブロックを有するものであり、前記ポリオレフィン（ｂ２１）と（ｂ２２４）とが繰り返し交互に結合した構造を有する。（Ｂ２４）は前記（ｂ２１１）〜（ｂ２１３）と（ｂ２２４）との重合反応により得ることができ、上記（Ｂ２１）と同様の方法で製造することができる。また、必要により、（ｂ２２４）と（ｂ２２１）とを任意の割合（例えば１：９〜９：１の重量比）で併用してもよい。
（Ｂ２４）中のスルホ基の含量は、帯電防止性の観点から（Ｂ２４）１分子当たり好ましくは２〜５００個、さらに好ましくは１０〜３００個、とくに好ましくは１５〜２５０個である。また、スルホ基１個当たりの（Ｂ２４）のＭｎは、帯電防止性の観点から好ましくは１２０〜３０，０００、さらに好ましくは２００〜６，０００、とくに好ましくは３００〜４，０００である。 The block polymer (B24) has a block of the anionic polymer (b224), and has a structure in which the polyolefins (b21) and (b224) are repeatedly and alternately bonded. (B24) can be obtained by the polymerization reaction of (b211) to (b213) and (b224), and can be produced by the same method as (B21) above. Moreover, you may use together (b224) and (b221) by arbitrary ratios (for example, weight ratio of 1: 9-9: 1) as needed.
The content of the sulfo group in (B24) is preferably 2 to 500, more preferably 10 to 300, and particularly preferably 15 to 250 per molecule of (B24) from the viewpoint of antistatic properties. The Mn of (B24) per sulfo group is preferably 120 to 30,000, more preferably 200 to 6,000, and particularly preferably 300 to 4,000 from the viewpoint of antistatic properties.

ブロックポリマー（Ｂ２）を構成する（ｂ２２）の量は、帯電防止性の観点から好ましくは（ｂ２１）と（ｂ２２）との合計重量に基づいて２０〜９０％、さらに好ましくは２５〜８０％、特に好ましくは３０〜７０％である。   The amount of (b22) constituting the block polymer (B2) is preferably 20 to 90%, more preferably 25 to 80% based on the total weight of (b21) and (b22), from the viewpoint of antistatic properties. Especially preferably, it is 30 to 70%.

ブロックポリマー（Ｂ２）のＭｎは、帯電防止性および（Ｂ２）の（Ａ）への分散性の観点から好ましくは２，０００〜６０，０００、さらに好ましくは５，０００〜４０，０００、特に好ましくは８，０００〜３０，０００である。   Mn of the block polymer (B2) is preferably from 2,000 to 60,000, more preferably from 5,000 to 40,000, particularly preferably from the viewpoint of antistatic properties and dispersibility of (B2) in (A). Is 8,000-30,000.

（Ｂ２）の構造において、（ｂ２１）のブロックと、（ｂ２２）のブロックとの繰り返し単位の平均繰り返し数（Ｎｎ）は、帯電防止性および（Ｂ２）の（Ａ）への分散性の観点から好ましくは２〜５０、さらに好ましくは２．３〜３０、特に好ましくは２．７〜２０、最も好ましくは３〜１０である。
Ｎｎは、（Ｂ２）のＭｎおよび1Ｈ−ＮＭＲ分析によって求めることができる。
例えば、（ｂ２１１１）のブロックと（ｂ２２１−１）のブロックとが繰り返し交互に結合した構造を有する（Ｂ２１１）の場合は、1Ｈ−ＮＭＲ分析において、４．０〜４．１ｐｐｍのエステル結合｛−Ｃ（Ｃ＝Ｏ）−ＯＣＨ2−｝のプロトンに帰属されるシグナル、および３．２〜３．７ｐｐｍのポリエチレングリコールのプロトンに帰属されるシグナルが観測できることから、これらのプロトン積分値の比を求めて、この比とＭｎとからＮｎを求めることができる。 In the structure of (B2), the average repeating number (Nn) of the repeating units of the block (b21) and the block (b22) is from the viewpoint of antistatic properties and dispersibility of (B2) in (A). Preferably it is 2-50, More preferably, it is 2.3-30, Most preferably, it is 2.7-20, Most preferably, it is 3-10.
Nn can be determined by Mn and 1 H-NMR analysis of (B2).
For example, in the case of (B211) having a structure in which the blocks of (b2111) and the blocks of (b2211-1) are repeatedly bonded alternately, in 1 H-NMR analysis, 4.0 to 4.1 ppm ester bond { Since a signal attributed to protons of —C (C═O) —OCH 2 —} and a signal attributed to protons of polyethylene glycol of 3.2 to 3.7 ppm can be observed, the ratio of these proton integral values Nn can be obtained from this ratio and Mn.

（Ｂ２）の末端は、（ｂ２１）由来のカルボニル基、アミノ基および／または無変性ポリオレフィン末端（何ら変性がなされていないポリオレフィン末端、すなわち、アルキル基またはアルケニル基）、あるいは（ｂ２２）由来の水酸基および／またはアミノ基のいずれかである。これらのうち反応性の観点から末端として好ましいのはアミノ基、およびさらに好ましいのはカルボニル基および水酸基である。   The end of (B2) is a carbonyl group derived from (b21), an amino group and / or an unmodified polyolefin end (polyolefin end not modified at all, ie, an alkyl group or an alkenyl group), or a hydroxyl group derived from (b22) And / or any amino group. Among these, an amino group is preferable as a terminal from the viewpoint of reactivity, and a carbonyl group and a hydroxyl group are more preferable.

ポリエーテルアミドイミド（Ｂ３）としては、例えば特公平７−１１９３４２号公報および特開平０６−１７２６０９公報に記載のうち、ポリオキシエチレン鎖を有するポリエーテルアミドイミドが挙げられる。これらのうち耐熱性の観点から好ましいのは、カプロラクタム（ｂ３１）、アミノ基と反応して少なくとも１個のイミド環を形成しうる３価もしくは４価の芳香族ポリカルボン酸（ｂ３２）およびポリエチレングリコールもしくは少なくとも５０重量％のポリエチレングリコールとポリエチレングリコール以外のポリアルキレングリコールとの混合物（ｂ３３）から誘導され、（ｂ３３）の含有量が３０〜８５重量％、３０℃での還元粘度が１．５〜４であるポリエーテルアミドイミドである。   Examples of the polyether amide imide (B3) include polyether amide imides having a polyoxyethylene chain among those described in JP-B-7-119342 and JP-A-06-172609. Of these, caprolactam (b31), trivalent or tetravalent aromatic polycarboxylic acid (b32) capable of forming at least one imide ring by reacting with an amino group, and polyethylene glycol are preferable from the viewpoint of heat resistance. Alternatively, it is derived from a mixture (b33) of at least 50% by weight of polyethylene glycol and a polyalkylene glycol other than polyethylene glycol, the content of (b33) is 30 to 85% by weight, and the reduced viscosity at 30 ° C. is 1.5 to 4 is a polyetheramide imide.

（ｂ３２）には、芳香族ポリカルボン酸およびその酸無水物が含まれる。
３価の芳香族ポリカルボン酸（無水物）としては、Ｃ９〜１８、例えば１，２，４−トリメリット酸、１，２，５−ナフタレントリカルボン酸、２，６，７−ナフタレントリカルボン酸、３，３’，４−ジフェニルトリカルボン酸、ベンゾフェノン−３，３’，４−トリカルボン酸、ジフェニルスルホン−３，３’，４−トリカルボン酸、ジフェニルエーテル−３，３’，４−トリカルボン酸、およびこれらの酸無水物が挙げられる。
４価の芳香族ポリカルボン酸（無水物）としては、Ｃ１０〜２０、例えばピロメリット酸、ジフェニル−２，２’，３，３’−テトラカルボン酸、ベンゾフェノン−２，２’，３，３’−テトラカルボン酸、ジフェニルスルホン−２，２’，３，３’−テトラカルボン酸、ジフェニルエーテル−２，２’，３，３’−テトラカルボン酸、およびこれらの酸無水物が挙げられる。 (B32) includes aromatic polycarboxylic acids and acid anhydrides thereof.
Examples of the trivalent aromatic polycarboxylic acid (anhydride) include C9-18, such as 1,2,4-trimellitic acid, 1,2,5-naphthalenetricarboxylic acid, 2,6,7-naphthalenetricarboxylic acid, 3,3 ′, 4-diphenyltricarboxylic acid, benzophenone-3,3 ′, 4-tricarboxylic acid, diphenylsulfone-3,3 ′, 4-tricarboxylic acid, diphenylether-3,3 ′, 4-tricarboxylic acid, and these Of the acid anhydride.
As tetravalent aromatic polycarboxylic acid (anhydride), C10-20, for example, pyromellitic acid, diphenyl-2,2 ′, 3,3′-tetracarboxylic acid, benzophenone-2,2 ′, 3,3 Examples include '-tetracarboxylic acid, diphenylsulfone-2,2', 3,3'-tetracarboxylic acid, diphenyl ether-2,2 ', 3,3'-tetracarboxylic acid, and acid anhydrides thereof.

（ｂ３３）のうち、ポリエチレングリコールのＭｎは特に制限はないが、（Ｂ３）の帯電防止性付与および製造上の観点から好ましくは５００〜５，０００、さらに好ましくは８００〜３，０００である。   Among (b33), Mn of polyethylene glycol is not particularly limited, but is preferably 500 to 5,000, more preferably 800 to 3,000, from the viewpoint of imparting antistatic property to (B3) and production.

ポリエチレングリコール以外のポリアルキレン（アルキレンのＣ３〜１８）グリコールとしては、Ｍｎが５００〜５，０００の、例えばポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールおよび変性ポリアルキレングリコールが挙げられる。変性ポリアルキレングリコールとしては、Ｃ２〜１０のＡＯのうちの少なくとも２種の付加重合物（付加形式はランダムおよび／またはブロックのいずれでもよい）が挙げられる。
該ＡＯのうち、帯電防止性付与の観点から好ましいのはＥＯ、ＰＯ、１，３−プロピレンオキシド、２−メチル−１，３−プロピレンオキシド、２，２−ジメチル−１，３−プロピレンオキシド、１，５−ペンタメチレンオキシドおよび１，６−ヘキサメチレンオキシドである。 Examples of the polyalkylene (alkylene C3-18) glycol other than polyethylene glycol include polypropylene glycol, polytetramethylene glycol and modified polyalkylene glycol having a Mn of 500 to 5,000. Examples of the modified polyalkylene glycol include at least two addition polymers of C2-10 AO (addition form may be random and / or block).
Among the AOs, EO, PO, 1,3-propylene oxide, 2-methyl-1,3-propylene oxide, 2,2-dimethyl-1,3-propylene oxide, are preferable from the viewpoint of imparting antistatic properties. 1,5-pentamethylene oxide and 1,6-hexamethylene oxide.

（ｂ３２）と（ｂ３３）の反応における当量比は、通常０．９／１〜１．１／１、成形品の樹脂の機械特性の観点から好ましくは０．９５／１〜１．０５／１である。   The equivalent ratio in the reaction of (b32) and (b33) is usually 0.9 / 1 to 1.1 / 1, preferably 0.95 / 1 to 1.05 / 1 from the viewpoint of the mechanical properties of the resin of the molded product. It is.

（Ｂ３）を構成するポリアミドイミド含量は、（Ｂ３）の帯電防止性付与および成形品の樹脂の耐水性の観点から、好ましくは１５〜７０重量％、さらに好ましくは３０〜６５重量％である。
また、（Ｂ３）中のポリアミドイミド部分のＭｎは、（Ｂ３）の耐熱性および成形品の樹脂の機械的強度の観点から好ましい下限は５００、さらに好ましくは８００、好ましい上限は３，０００、さらに好ましくは２，０００である。 The content of polyamideimide constituting (B3) is preferably 15 to 70% by weight, more preferably 30 to 65% by weight, from the viewpoint of imparting antistatic properties to (B3) and water resistance of the resin of the molded product.
In addition, Mn of the polyamideimide moiety in (B3) is preferably 500, more preferably 800, and preferably 3000 in terms of the heat resistance of (B3) and the mechanical strength of the resin of the molded product. Preferably it is 2,000.

（Ｂ３）の製法としては次のような方法が挙げられるが、特に限定されるものではない。
即ち、（ｂ３１）、（ｂ３２）および（ｂ３３）を、（ｂ３２）と（ｂ３３）の当量比が通常０．９／１〜１．１／１（好ましくは０．９５／１〜１．０５／１）になる割合で、（ｂ３１）、（ｂ３２）および（ｂ３３）の合計重量に対して、帯電防止性の観点から、（ｂ３３）が好ましくは３０〜８５％、さらに好ましくは３５〜７０％となるように混合し、生成する重合体の水分含有率を０．１〜１重量％に保ちながら、通常１５０〜３００℃、好ましくは１８０〜２８０℃で重縮合させる方法である。
重縮合させる際には、反応温度を段階的に昇温させることもできる。この際、一部のカプロラクタムは未反応で残るが、成形品の樹脂の機械特性の観点から減圧下に留去して反応混合物から除いておくことが望ましい。未反応のカプロラクタムを除いた後の反応混合物は、必要に応じて減圧下（０．０３〜３ｋＰａ）、通常２００〜３００℃（好ましくは２３０〜２８０℃）で重合することによりさらに高分子量の重合体にすることができる。 Although the following method is mentioned as a manufacturing method of (B3), It does not specifically limit.
That is, (b31), (b32) and (b33) have an equivalent ratio of (b32) and (b33) of usually 0.9 / 1 to 1.1 / 1 (preferably 0.95 / 1 to 1.05). / B) is preferably 30 to 85%, more preferably 35 to 70 from the viewpoint of antistatic properties with respect to the total weight of (b31), (b32) and (b33). %, And the resulting polymer is polycondensed at 150 to 300 ° C., preferably 180 to 280 ° C. while maintaining the water content of the polymer at 0.1 to 1% by weight.
In the polycondensation, the reaction temperature can be raised stepwise. At this time, some caprolactam remains unreacted, but it is desirable to remove it from the reaction mixture by distilling it off under reduced pressure from the viewpoint of the mechanical properties of the resin of the molded product. The reaction mixture after removing unreacted caprolactam is further polymerized under a reduced pressure (0.03 to 3 kPa), usually at 200 to 300 ° C. (preferably 230 to 280 ° C.) as necessary, to further increase the molecular weight. Can be combined.

（Ｂ３）の還元粘度［ηSP／Ｃ、Ｃ＝０．５重量％（ｍ−クレゾール溶液、３０℃］は、樹脂組成物の成形性の観点から好ましくは１．５〜４、さらに好ましくは１．７〜３．５である。 The reduced viscosity [η SP / C, C = 0.5 wt% (m-cresol solution, 30 ° C.) of (B3) is preferably 1.5 to 4, more preferably from the viewpoint of moldability of the resin composition. 1.7-3.5.

エピハロヒドリン／ＡＯ共重合体（Ｂ４）としては、例えば特公平７−８４５６４号公報記載のうち、ポリオキシエチレン鎖を有するエピハロヒドリン／ＡＯ共重合体が挙げられる。
エピハロヒドリンとしては、例えばエピクロルヒドリン、エピブロモヒドリン、エピヨードヒドリンおよびエピフルオロヒドリンが挙げられ、反応性、コストの観点から好ましいのはエピクロルヒドリンである。
ＡＯとしては、Ｃ２〜４、例えばＥＯ、ＰＯおよびテトラヒドロフランが挙げられる。
（Ｂ４）には、エピハロヒドリンと、１，２−エポキシドモノマー［特にアルキル（Ｃ２〜４）グリシジルエーテル］およびＡＯ（特にＥＯおよびＰＯ）から選ばれる１種または２種以上からなるコモノマーとの共重合体も含まれる。
エピハロヒドリンとＡＯとの重量比は、通常５／９５〜９５／５、帯電防止性付与および（Ｂ４）の（Ａ）への分散性の観点から好ましくは１０／９０〜６０／４０である。ポリオキシアルキレン鎖中のオキシエチレン単位の含量は好ましくは５〜１００重量％、さらに好ましくは１０〜１００重量％である。
（Ｂ４）のうち、帯電防止性付与および成形品の樹脂の機械特性の観点からさらに好ましいのはエピクロルヒドリン／ＥＯ（重量比５０／５０）の共重合体である。 Examples of the epihalohydrin / AO copolymer (B4) include an epihalohydrin / AO copolymer having a polyoxyethylene chain in JP-B-7-84564.
Examples of the epihalohydrin include epichlorohydrin, epibromohydrin, epiiodohydrin, and epifluorohydrin. Epichlorohydrin is preferable from the viewpoint of reactivity and cost.
AO includes C2-4, such as EO, PO, and tetrahydrofuran.
(B4) includes an epihalohydrin and a co-polymer of 1,2-epoxide monomer [especially alkyl (C2-4) glycidyl ether] and a comonomer composed of one or more selected from AO (especially EO and PO) Mergers are also included.
The weight ratio of epihalohydrin to AO is preferably 5/95 to 95/5, preferably 10/90 to 60/40 from the viewpoint of imparting antistatic properties and dispersibility of (B4) in (A). The content of oxyethylene units in the polyoxyalkylene chain is preferably 5 to 100% by weight, more preferably 10 to 100% by weight.
Among (B4), a copolymer of epichlorohydrin / EO (weight ratio 50/50) is more preferable from the viewpoint of imparting antistatic properties and mechanical properties of the resin of the molded product.

（Ｂ４）の製造に際しては、種々の触媒、例えば、有機アルミニウム化合物［例えばトリエチルアルミニウム］、または重合性を向上させるために有機アルミニウム化合物に水を反応させた触媒を用いて塊状重合または溶液重合により容易に製造できる。水と有機アルミニウム化合物とのモル比は、重合性の観点から通常０．１／１〜１／１、好ましくは０．３／１〜０．７／１である。
（Ｂ４）のＭｎは成形性および成形品の樹脂の機械特性の観点から好ましい下限は３０，０００、さらに好ましくは６０，００、好ましい上限は１００，０００、さらに好ましくは９０，０００である。 In the production of (B4), various catalysts, for example, organoaluminum compounds [for example, triethylaluminum], or bulk polymerization or solution polymerization using a catalyst obtained by reacting water with an organoaluminum compound to improve polymerizability. Easy to manufacture. The molar ratio of water to the organoaluminum compound is usually 0.1 / 1 to 1/1, preferably 0.3 / 1 to 0.7 / 1, from the viewpoint of polymerizability.
The lower limit of Mn in (B4) is preferably 30,000, more preferably 60,00, and the upper limit is preferably 100,000, more preferably 90,000 from the viewpoints of moldability and the mechanical properties of the resin of the molded product.

ポリエーテルエステル（Ｂ５）としては、例えば、特公昭５８−１９６９６号公報記載のうち、ポリオキシアルキレン鎖を有するポリエーテルエステルが挙げられる。
(Ｂ５)は、ポリエーテルジオールまたはコポリエーテルジオールからなるセグメントを有するポリエステルであり、例えば前記ポリエーテルエステルアミド（Ｂ１）またはポリエーテルアミドイミド（Ｂ３）の構成成分として例示した（ｂ１２）および（ｂ３３）の１種以上と、（Ｂ１）の構成成分として例示したジカルボン酸もしくはこれらのエステル形成性誘導体［例えば低級（Ｃ１〜４）アルキルエステルおよび酸無水物］の１種以上との重縮合反応、あるいは上記ジオール成分とポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等とのエステル交換反応により得ることができる。
（Ｂ５）のポリエーテルセグメント含量は、（Ｂ５）の帯電防止性付与および樹脂組成物の成形性の観点から好ましくは３０〜７０重量％、さらに好ましくは４０〜６０重量％であり、（Ｂ５）の融点［測定は示差走査熱量測定法（以下、ＤＳＣ法と略記）による］は耐熱性の観点から好ましくは１００℃以上、さらに好ましくは１２０〜２１０℃である。ポリオキシアルキレン鎖中のオキシエチレン単位の含量は好ましくは５〜１００重量％、さらに好ましくは１０〜１００重量％である。 Examples of the polyether ester (B5) include polyether esters having a polyoxyalkylene chain described in JP-B-58-19696.
(B5) is a polyester having a segment composed of a polyether diol or a copolyether diol. For example, (b12) and (b33) exemplified as the constituent components of the polyether ester amide (B1) or the polyether amide imide (B3). And a polycondensation reaction of one or more of the dicarboxylic acids exemplified as the constituent of (B1) or their ester-forming derivatives [for example, lower (C1-4) alkyl esters and acid anhydrides], Alternatively, it can be obtained by an ester exchange reaction between the diol component and polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, or the like.
The polyether segment content of (B5) is preferably 30 to 70% by weight, more preferably 40 to 60% by weight from the viewpoint of imparting antistatic properties to (B5) and moldability of the resin composition, and (B5) The melting point of [measurement by differential scanning calorimetry (hereinafter abbreviated as DSC method)] is preferably 100 ° C. or higher, more preferably 120 to 210 ° C. from the viewpoint of heat resistance. The content of oxyethylene units in the polyoxyalkylene chain is preferably 5 to 100% by weight, more preferably 10 to 100% by weight.

ポリエーテルウレタン（Ｂ６）としては、有機ジイソシアネートと、ポリエーテルジオール（ｂ２２１−１）又はポリエーテルジアミン（ｂ２２１−２）及び必要により鎖伸長剤とから構成される。
（Ｂ６）の具体例としては、例えば特公昭４７−３５３００号、特開昭６２−２３６８５４号、特公平３−２９６５６５号各公報に記載のものが挙げられる。
（Ｂ６）のポリエーテルセグメント含量は、（Ｂ６）の帯電防止性付与および樹脂組成物の成形性の観点から好ましくは３０〜７０重量％、さらに好ましくは４０〜６０重量％であり、（Ｂ６）の融点［測定はＤＳＣ法による］は耐熱性の観点から好ましくは１００℃以上、さらに好ましくは１２０〜２１０℃である。ポリオキシアルキレン鎖中のオキシエチレン単位の含量は好ましくは５〜１００重量％、さらに好ましくは１０〜１００重量％である。 The polyether urethane (B6) is composed of an organic diisocyanate, a polyether diol (b221-1) or a polyether diamine (b221-2) and, if necessary, a chain extender.
Specific examples of (B6) include those described in JP-B-47-35300, JP-A-62-236854, and JP-B-3-296565.
The polyether segment content of (B6) is preferably 30 to 70% by weight, more preferably 40 to 60% by weight from the viewpoint of imparting antistatic properties to (B6) and moldability of the resin composition, (B6) The melting point of [measured by DSC method] is preferably 100 ° C. or higher, more preferably 120 to 210 ° C. from the viewpoint of heat resistance. The content of oxyethylene units in the polyoxyalkylene chain is preferably 5 to 100% by weight, more preferably 10 to 100% by weight.

前記熱可塑性樹脂（Ａ）と親水性鎖を有する帯電防止剤（Ｂ）との屈折率の差は０．０２以下、好ましくは０．０１以下、さらに好ましくは０〜０．００５、とくに好ましくは０〜０．００３である。（Ａ）と（Ｂ）との屈折率の差が０．０２を超えると後述の成形品（フィルムを含む）の透明性が悪くなる。
（Ｂ１）〜（Ｂ８）は、上記屈折率についての（Ａ）と（Ｂ）の関係を満足するものであれば、それぞれ１種単独でも２種以上を任意に併用してもいずれでもよい。なお、本発明において、（Ａ）と（Ｂ）との屈折率の差とは、（Ａ）と（Ｂ）との屈折率の差の絶対値を意味するものとし、以下同様である。 The difference in refractive index between the thermoplastic resin (A) and the antistatic agent (B) having a hydrophilic chain is 0.02 or less, preferably 0.01 or less, more preferably 0 to 0.005, particularly preferably. 0-0.003. When the difference in refractive index between (A) and (B) exceeds 0.02, transparency of a molded product (including a film) described later is deteriorated.
As long as (B1) to (B8) satisfy the relationship between (A) and (B) for the refractive index, each may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, the difference in refractive index between (A) and (B) means the absolute value of the difference in refractive index between (A) and (B), and so on.

（Ａ）と（Ｂ）の屈折率は、理論式からの計算または予め（Ａ）もしくは（Ｂ）を構成するモノマーを重合して得られた樹脂の屈折率をＪＩＳ Ｋ７１０５（１９８１年）に準じて測定することにより求められる。本発明における屈折率はアッベ屈折計で測定される値である。   The refractive index of (A) and (B) is calculated from the theoretical formula or the refractive index of the resin obtained by polymerizing the monomer constituting (A) or (B) in advance is in accordance with JIS K7105 (1981). It is obtained by measuring. The refractive index in the present invention is a value measured with an Abbe refractometer.

（Ａ）の屈折率は、（Ｂ）の屈折率との差の観点から好ましくは１．４８０〜１．５５０であり、該範囲の屈折率を有する（Ａ）のうち同様の観点から好ましいのは前記（Ａ１）、（Ａ２）、（Ａ３）および（Ａ４）からなる群から選ばれる１種または２種以上の熱可塑性樹脂である。
また、（Ｂ）のうち（Ｂ１）の屈折率は、（Ａ）の屈折率との差の観点から好ましくは１．５２０〜１．５４０、（Ｂ２）の屈折率は、同様の観点から好ましくは１．４９８〜１．５１５である。
屈折率の差が０．０２以下である、（Ａ）と（Ｂ）の組み合わせのうち、（Ｂ）と（Ａ）との屈折率の差の観点から好ましいのは、（Ｂ）と上記屈折率を有する（Ａ）との組み合わせ、および上記屈折率を有する（Ｂ１）および／または（Ｂ２）と（Ａ）との組み合わせ、さらに好ましいのは上記屈折率を有する（Ｂ１）および／または（Ｂ２）と上記屈折率を有する（Ａ）との組み合わせである。 The refractive index of (A) is preferably 1.480 to 1.550 from the viewpoint of the difference from the refractive index of (B), and is preferable from the same viewpoint among (A) having a refractive index in this range. Is one or more thermoplastic resins selected from the group consisting of (A1), (A2), (A3) and (A4).
Further, among (B), the refractive index of (B1) is preferably 1.520 to 1.540 from the viewpoint of the difference from the refractive index of (A), and the refractive index of (B2) is preferably from the same viewpoint. Is 1.498 to 1.515.
Of the combinations of (A) and (B) in which the difference in refractive index is 0.02 or less, (B) and the above-mentioned refraction are preferable from the viewpoint of the difference in refractive index between (B) and (A). In combination with (A) having a refractive index, and (B1) and / or (B2) having (A) with the above refractive index, and more preferably (B1) and / or (B2) having the above refractive index. ) And (A) having the above refractive index.

（Ａ）と（Ｂ）との屈折率差を０．０２以下とするためには、（Ａ）の屈折率に対応して（Ｂ）の屈折率を調整することが必要となるが、調整に際しては帯電防止性とのバランスを考慮する必要がある。通常帯電防止性と屈折率は相反する関係にあり、（Ｂ）の帯電防止性を維持したまま所望の屈折率とすることは容易ではない。
本発明における（Ｂ）の帯電防止性と屈折率の調整方法には下記の方法が含まれる。
（１）高屈折率（１．５１０〜１．５５０またはそれ以上）を有する（Ａ）に（Ｂ）を適用する方法
（Ｂ）のうち比較的高い屈折率を有する（Ｂ１）を用いる。（Ｂ１）の屈折率を高めに調整する場合は、（Ｂ１）の有する帯電防止付与性を損なわない範囲で（Ｂ１）中の親水性部分である（ｂ１２）の割合を減らし、逆に（Ｂ１）の屈折率を低めに調整する場合は、成形品の耐水性を損なわない範囲で（ｂ１２）の割合を増やすことにより調整できる。
また、（Ｂ１）の屈折率を低めに調整する場合は比較的低い屈折率を有する（Ｂ２）を併用することにより調整することもできる。
（２）低屈折率（１．４８０またはそれ以下〜１．５１０未満）を有する（Ａ）に（Ｂ）を適用す方法
（Ｂ）のうち比較的低い屈折率を有する（Ｂ２）を用いる。（Ｂ２）の屈折率を高めに調整する場合は、（Ｂ２）の有する帯電防止付与性を損なわない範囲で（Ｂ２）中の親水性部分である（ｂ２２）の割合を減らす、または（Ｂ２）中の親水性部分である（ｂ２２）として高親水性のカチオン性ポリマー（ｂ２２３）もしくはアニオン性ポリマー（ｂ２２４）を少ない割合で用いることにより調整できる。
また、（Ｂ２）の屈折率を高めに調整する場合は比較的高い屈折率を有する（Ｂ１）を併用することにより調整することもできる。 In order to make the refractive index difference between (A) and (B) 0.02 or less, it is necessary to adjust the refractive index of (B) corresponding to the refractive index of (A). In this case, it is necessary to consider the balance with antistatic properties. Usually, the antistatic property and the refractive index are in a contradictory relationship, and it is not easy to obtain a desired refractive index while maintaining the antistatic property of (B).
The method for adjusting the antistatic property and refractive index of (B) in the present invention includes the following methods.
(1) Method of applying (B) to (A) having a high refractive index (1.510 to 1.550 or more) (B1) having a relatively high refractive index among (B) is used. When the refractive index of (B1) is adjusted to be high, the ratio of (b12) which is a hydrophilic portion in (B1) is reduced within a range that does not impair the antistatic property of (B1), and conversely (B1 ) Can be adjusted by increasing the proportion of (b12) within a range not impairing the water resistance of the molded product.
Moreover, when adjusting the refractive index of (B1) low, it can also adjust by using together (B2) which has a comparatively low refractive index.
(2) Method of applying (B) to (A) having a low refractive index (1.480 or less to less than 1.510) (B2) having a relatively low refractive index among (B) is used. When the refractive index of (B2) is adjusted to be high, the ratio of (b22) which is a hydrophilic portion in (B2) is reduced within a range that does not impair the antistatic property that (B2) has, or (B2) It can be adjusted by using a highly hydrophilic cationic polymer (b223) or anionic polymer (b224) in a small proportion as the hydrophilic part (b22) in the inside.
Moreover, when adjusting the refractive index of (B2) high, it can also adjust by using (B1) which has a comparatively high refractive index together.

本発明の帯電防止性樹脂組成物は上記（Ａ）と（Ｂ）からなる。（Ａ）と（Ｂ）の合計重量に基づく（Ｂ）の割合は要求される性能に応じて種々変えることができるが、十分な帯電防止性の観点から好ましい下限は１％、さらに好ましくは１．５％、成形品の樹脂の機械特性の観点から好ましい上限は５０％、さらに好ましくは３０％である。   The antistatic resin composition of the present invention comprises the above (A) and (B). Although the ratio of (B) based on the total weight of (A) and (B) can be variously changed according to the required performance, the preferable lower limit is 1%, more preferably 1 from the viewpoint of sufficient antistatic properties. From the viewpoint of the mechanical properties of the resin of the molded product, 0.5%, the upper limit is preferably 50%, more preferably 30%.

剪断速度１０3ｓ-1でキャピラリーから押し出された本発明の帯電防止性樹脂組成物の表面を走査型電子顕微鏡で観察して得られる（Ｂ）の数平均粒子径は、（Ｂ）の（Ａ）への分散性および帯電防止性の観点から好ましくは０．０５〜１μｍ、さらに好ましくは０．１〜０．５μｍである。該数平均粒子径は以下のようにして求められる。
樹脂組成物を２００〜２８０℃［（Ａ）の種類により測定温度が異なり、例えば、ＰＥ樹脂では２００℃、ＰＰ樹脂およびＡＢＳ樹脂では２３０℃、ＰＭＭＡ樹脂では２２０℃、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂では２８０℃］に温度調整した後、キャピログラフ［加熱されたポリマーがバレル内からキャピラリー（口径１ｍｍ、長さ１０ｍｍ）を通して流出するときの溶融ポリマーの特性（例えば溶融粘度、溶融弾性および溶融張力）を測定する装置、例えば（株）東洋精機製作所製の１Ｂ型］を用いて剪断速度１０3ｓ-1でキャピラリーから押し出される樹脂組成物を取り出し、室温まで急冷した後、その樹脂組成物表面における（Ｂ）の分散状態を走査型電子顕微鏡で観察する。
分散した（Ｂ）の数平均粒子径は撮影した写真について目視または画像解析装置によって求める。適当な範囲（例えば１０μｍ×１０μｍ）の中でＮ個の粒子について下記の計算式から粒子径ｄＬm（ｍ＝１、２、３、・・・、Ｎ）が得られたとき、その分散した（Ｂ）の数平均粒子径Ｄは、Ｄ＝（ΣｄＬm）／Ｎにより算出する。

粒子径ｄＬm＝（第ｍ番目の粒子の最大長径＋第ｍ番目の粒子の最小短径）×
（１／２）

Ｄの値は小さいほど（Ｂ）の（Ａ）への分散性または（Ａ）と（Ｂ）の相溶性が良好であることを示す。 The number average particle diameter of (B) obtained by observing the surface of the antistatic resin composition of the present invention extruded from the capillary at a shear rate of 10 3 s −1 with a scanning electron microscope is (B) ( From the viewpoint of dispersibility in A) and antistatic properties, the thickness is preferably 0.05 to 1 μm, more preferably 0.1 to 0.5 μm. The number average particle diameter is determined as follows.
200-280 ° C. [Measurement temperature varies depending on the type of (A), for example, 200 ° C. for PE resin, 230 ° C. for PP resin and ABS resin, 220 ° C. for PMMA resin, and 280 for polycarbonate (PC) resin. After the temperature is adjusted to [° C.], the properties of the molten polymer (for example, melt viscosity, melt elasticity and melt tension) when the heated polymer flows out from the barrel through the capillary (caliber 1 mm, length 10 mm) are measured. The resin composition extruded from the capillary at a shear rate of 10 3 s −1 is taken out using an apparatus, for example, model 1B manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd., rapidly cooled to room temperature, and (B) on the surface of the resin composition The dispersion state is observed with a scanning electron microscope.
The number average particle diameter of the dispersed (B) is obtained visually or by an image analyzer with respect to the photograph taken. When the particle diameter dL m (m = 1, 2, 3,..., N) was obtained from the following calculation formula for N particles within an appropriate range (for example, 10 μm × 10 μm), the particles were dispersed. The number average particle diameter D of (B) is calculated by D = (ΣdL m ) / N.

Particle diameter dL m = (maximum major axis of mth particle + minimum minor axis of mth particle) ×
(1/2)

The smaller the value of D, the better the dispersibility of (B) in (A) or the compatibility of (A) and (B).

本発明の樹脂組成物には、成形品の樹脂の帯電防止性をさらに向上させる目的等の必要により本発明の効果を阻害しない範囲で、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の塩（Ｃ１）、界面活性剤（Ｃ２）、相溶化剤（Ｃ３）およびその他の樹脂用添加剤（Ｃ４）からなる群から選ばれる少なくとも１種の添加剤（Ｃ）を含有させてもよい。
（Ｃ）の合計含有量は、（Ａ）と（Ｂ）の合計重量に基づいて通常４０％以下、成形品の樹脂の機械特性の観点から好ましくは０．００１〜３０％、さらに好ましくは０．０１〜２５％、特に好ましくは０．２〜２０％、最も好ましくは０．５〜１０％である。］ The resin composition of the present invention includes an alkali metal or alkaline earth metal salt (C1), an interface within a range that does not impair the effects of the present invention if necessary for the purpose of further improving the antistatic properties of the resin of the molded product. You may contain the at least 1 sort (s) of additive (C) chosen from the group which consists of an activator (C2), a compatibilizing agent (C3), and the other additive (C4) for resin.
The total content of (C) is usually 40% or less based on the total weight of (A) and (B), preferably from 0.001 to 30%, more preferably 0 from the viewpoint of the mechanical properties of the resin of the molded product. 0.01 to 25%, particularly preferably 0.2 to 20%, and most preferably 0.5 to 10%. ]

（Ｃ１）としては、アルカリ金属（例えばリチウム、ナトリウムおよびカリウム、以下同じ）またはアルカリ土類金属（例えばマグネシウムおよびカルシウム、以下同じ）の有機酸［例えばＣ１〜１２のモノ−およびジカルボン酸（例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸およびコハク酸）、Ｃ１〜２０のスルホン酸（例えばメタンスルホン酸およびｐ−トルエンスルホン酸）およびチオシアン酸］塩および無機酸［例えばハロゲン化水素酸（例えば塩酸および臭化水素酸）、過塩素酸、硫酸、硝酸およびリン酸］塩が挙げられる。   (C1) may be an organic acid of an alkali metal (for example, lithium, sodium and potassium, the same shall apply hereinafter) or an alkaline earth metal (for example, magnesium and calcium, the same shall apply hereinafter) [for example C1-12 mono- and dicarboxylic acid (for example formic acid). , Acetic acid, propionic acid, oxalic acid and succinic acid), C1-20 sulfonic acids (eg methanesulfonic acid and p-toluenesulfonic acid) and thiocyanic acid] salts and inorganic acids [eg hydrohalic acids (eg hydrochloric acid and odors) Hydrochloric acid), perchloric acid, sulfuric acid, nitric acid and phosphoric acid] salts.

（Ｃ１）の具体例としては、例えばハライド（例えば塩化リチウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、臭化リチウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、臭化カルシウム、臭化マグネシウム、過塩素酸リチウム、過塩素酸ナトリウムおよび過塩素酸カリウム）、酢酸リチウム、硫酸カリウム、燐酸カリウムおよびチオシアン酸カリウムが挙げられる。
上記（Ｃ１）のうち帯電防止性の観点から好ましいのは、ハライド（さらに好ましいのは塩化リチウム、塩化ナトリウム、塩化カリウムおよび過塩素酸カリウム）および酢酸塩（さらに好ましいのは酢酸カリウム）である。
（Ｃ１）の使用量は、（Ａ）と（Ｂ）の合計重量に基づいて、通常５％以下、樹脂表面に析出せず良好な外観と帯電防止性を成形品に与えるとの観点から、好ましくは０．００１〜３％、さらに好ましくは０．０１〜２．５％、とくに好ましくは０．１〜２％、最も好ましくは０．１５〜１％である。
（Ｃ１）を含有させる方法としては、成形品の透明性を損なわないために（Ｂ）中に予め分散させておくことが好ましく、（Ｂ）の製造時に（Ｃ１）を含有させておく方法がさらに好ましい。（Ｃ１）を（Ｂ）の製造時に含有させるタイミングは特に限定はなく、重合前、重合中および重合後のいずれでもよいが重合前の原料に含有させるのが好ましい。 Specific examples of (C1) include halides (for example, lithium chloride, sodium chloride, potassium chloride, calcium chloride, magnesium chloride, lithium bromide, sodium bromide, potassium bromide, calcium bromide, magnesium bromide, perchlorine). Lithium acetate, sodium perchlorate and potassium perchlorate), lithium acetate, potassium sulfate, potassium phosphate and potassium thiocyanate.
Of the above (C1), halide (more preferably lithium chloride, sodium chloride, potassium chloride and potassium perchlorate) and acetate (more preferably potassium acetate) are preferable from the viewpoint of antistatic properties.
The amount of (C1) used is usually 5% or less, based on the total weight of (A) and (B), from the viewpoint of giving good appearance and antistatic properties to the molded product without precipitating on the resin surface. Preferably it is 0.001 to 3%, More preferably, it is 0.01 to 2.5%, Especially preferably, it is 0.1 to 2%, Most preferably, it is 0.15 to 1%.
As a method of containing (C1), it is preferable to disperse in (B) in advance so as not to impair the transparency of the molded product, and a method of containing (C1) during the production of (B). Further preferred. There is no particular limitation on the timing at which (C1) is contained during the production of (B), and it may be any before, during or after polymerization, but is preferably contained in the raw material before polymerization.

（Ｃ２）としては、非イオン性、アニオン性、カチオン性および両性の界面活性剤が挙げられる。
非イオン性界面活性剤としては、例えばＥＯ付加型非イオン性界面活性剤［例えば高級アルコール（Ｃ８〜１８、以下同じ）、高級脂肪酸（Ｃ８〜２４、以下同じ）または高級アルキルアミン（Ｃ８〜２４）のＥＯ付加物（分子量１５８〜Ｍｎ２００，０００）；グリコールのＥＯ付加物であるポリアルキレングリコール（分子量１５０〜Ｍｎ６，０００）の高級脂肪酸エステル；多価アルコール（Ｃ２〜１８の２価〜８価またはそれ以上、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ペンタエリスリトールおよびソルビタン）高級脂肪酸エステルのＥＯ付加物（分子量２５０〜Ｍｎ３０，０００）；高級脂肪酸アミドのＥＯ付加物（分子量２００〜Ｍｎ３０，０００）；および多価アルコール（前記のもの）アルキル（Ｃ３〜６０）エーテルのＥＯ付加物（分子量１２０〜Ｍｎ３０，０００）］、および多価アルコ−ル（Ｃ３〜６０）型非イオン性界面活性剤［例えば多価アルコールの脂肪酸（Ｃ３〜６０）エステル、多価アルコールのアルキル（Ｃ３〜６０）エーテルおよび脂肪酸（Ｃ３〜６０）アルカノールアミド］が挙げられる。 (C2) includes nonionic, anionic, cationic and amphoteric surfactants.
Nonionic surfactants include, for example, EO addition type nonionic surfactants [for example, higher alcohol (C8-18, the same hereinafter), higher fatty acid (C8-24, same hereinafter) or higher alkylamine (C8-24). ) EO adduct (molecular weight 158 to Mn 200,000); higher fatty acid ester of polyalkylene glycol (molecular weight 150 to Mn 6,000) which is an EO adduct of glycol; polyhydric alcohol (C2-18 divalent to octavalent) Or higher, eg, ethylene glycol, propylene glycol, glycerin, pentaerythritol and sorbitan) EO adducts of higher fatty acid esters (molecular weight 250-Mn 30,000); EO adducts of higher fatty acid amides (molecular weight 200-Mn 30,000); And polyhydric alcohols (as above) alkyl EO adduct of C3-60) ether (molecular weight 120-Mn30,000)], and polyhydric alcohol (C3-60) type nonionic surfactant [for example, fatty acid (C3-60) ester of polyhydric alcohol , Alkyl (C3-60) ethers and fatty acids (C3-60) alkanolamides of polyhydric alcohols].

アニオン性界面活性剤としては、前記（Ｃ１）を除く化合物、例えばカルボン酸（例えばＣ８〜２２の飽和または不飽和脂肪酸およびエーテルカルボン酸）またはその塩；硫酸エステル塩〔例えば高級アルコール硫酸エステル塩（例えばＣ８〜１８の脂肪族アルコールの硫酸エステル塩）および高級アルキルエーテル硫酸エステル塩［例えばＣ８〜１８の脂肪族アルコールのＥＯ（１〜１０モル）付加物の硫酸エステル塩］〕；スルホン酸塩［Ｃ１０〜２０、例えばアルキルベンゼンスルホン酸塩（例えばドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム）、アルキルスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、スルホコハク酸ジアルキルエステル型、ハイドロカーボン（例えばアルカン、α−オレフィン）スルホン酸塩およびイゲポンＴ型］；およびリン酸エステル塩［例えば高級アルコール（Ｃ８〜６０）ＥＯ付加物リン酸エステル塩およびアルキル（Ｃ４〜６０）フェノールＥＯ付加物リン酸エステル塩］が挙げられる。
上記の塩としては、例えばアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、アルキルアミン（Ｃ１〜２０）塩およびアルカノールアミン（Ｃ２〜１２、例えばモノ−、ジ−およびトリエタノールアミン）塩が挙げられる。 Examples of the anionic surfactant include compounds other than the above (C1), such as carboxylic acids (for example, C8-22 saturated or unsaturated fatty acids and ether carboxylic acids) or salts thereof; sulfate salts [for example, higher alcohol sulfate salts ( For example, sulfate esters of C8-18 aliphatic alcohols) and higher alkyl ether sulfate esters [eg sulfate esters of EO (1-10 mol) adducts of C8-18 aliphatic alcohols]]; sulfonates [ C10-20, such as alkyl benzene sulfonates (eg sodium dodecylbenzene sulfonate), alkyl sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, dialkyl ester sulfosuccinates, hydrocarbon (eg alkane, α-olefin) sulfonates and Igepon T type] And phosphoric acid ester salts [e.g. higher alcohol (C8~60) EO adduct phosphoric acid ester salts and alkyl (C4~60) phenol EO adduct phosphoric acid ester salts], and.
Examples of the salts include alkali metal salts, alkaline earth metal salts, ammonium salts, alkylamine (C1-20) salts, and alkanolamine (C2-12, such as mono-, di-, and triethanolamine) salts. It is done.

カチオン性界面活性剤としては、第４級アンモニウム塩型［例えばテトラアルキル（Ｃ４〜１００）アンモニウム塩（例えばラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ジデシルジメチルアンモニウムクロライド、ジオクチルジメチルアンモニウムブロマイドおよびステアリルトリメチルアンモニウムブロマイド）、トリアルキル（Ｃ３〜８０）ベンジルアンモニウム塩（例えばラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライド（塩化ベンザルコニウム）、アルキル（Ｃ２〜６０）ピリジニウム塩（例えばセチルピリジニウムクロライド）、ポリオキシアルキレン（Ｃ２〜４）トリアルキルアンモニウム塩（例えばポリオキシエチレントリメチルアンモニウムクロライド）およびサパミン型第４級アンモニウム塩（例えばステアラミドエチルジエチルメチルアンモニウムメトサルフェート）］；およびアミン塩型［例えば高級脂肪族アミン（Ｃ１２〜６０、例えばラウリルアミン、ステアリルアミン、セチルアミン、硬化牛脂アミンおよびロジンアミン）の無機酸（例えば塩酸、硫酸、硝酸およびリン酸）塩または有機酸（Ｃ２〜２２、例えば酢酸、プロピオン酸、ラウリル酸、オレイン酸、安息香酸、コハク酸、アジピン酸およびアゼライン酸）塩、脂肪族アミン（Ｃ１〜３０）のＥＯ付加物などの無機酸（上記のもの）塩または有機酸（上記のもの）塩および３級アミン（Ｃ３〜３０、例えばトリエタノールアミンモノステアレートおよびステアラミドエチルジエチルメチルエタノールアミン）の無機酸（上記のもの）塩または有機酸（上記のもの）塩］が挙げられる。   Cationic surfactants include quaternary ammonium salt types [eg, tetraalkyl (C4-100) ammonium salts (eg, lauryltrimethylammonium chloride, didecyldimethylammonium chloride, dioctyldimethylammonium bromide and stearyltrimethylammonium bromide), Alkyl (C3-80) benzylammonium salts (eg lauryldimethylbenzylammonium chloride (benzalkonium chloride), alkyl (C2-60) pyridinium salts (eg cetylpyridinium chloride), polyoxyalkylene (C2-4) trialkylammonium salts (Eg, polyoxyethylenetrimethylammonium chloride) and sapamine type quaternary ammonium salts (eg, stearamide ester) Rudiethylmethyl ammonium methosulfate)]; and amine salt forms [eg higher aliphatic amines (C12-60, eg laurylamine, stearylamine, cetylamine, hardened tallow amine and rosinamine) inorganic acids (eg hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid and Phosphoric acid) salts or organic acids (C2-22, eg acetic acid, propionic acid, lauric acid, oleic acid, benzoic acid, succinic acid, adipic acid and azelaic acid) salts, EO adducts of aliphatic amines (C1-30) Inorganic acids (above) or organic acids (above) and tertiary amines (C3-30, eg triethanolamine monostearate and stearamide ethyl diethyl methylethanolamine) Or salt of organic acid (above)].

両性界面活性剤としては、アミノ酸型両性界面活性剤［例えば高級アルキルアミン（Ｃ８〜２４）のプロピオン酸ナトリウム］、ベタイン型両性界面活性剤［例えばアルキル（Ｃ１２〜１８）ジメチルベタイン］、硫酸エステル塩型両性界面活性剤［例えば高級アルキルアミン（Ｃ８〜２４）の硫酸エステルナトリウム塩およびヒドロキシエチルイミダゾリン硫酸エステルナトリウム塩］、スルホン酸塩型両性界面活性剤（例えばペンタデシルスルホタウリンおよびイミダゾリンスルホン酸）およびリン酸エステル塩型両性界面活性剤［例えばグリセリン高級脂肪酸（Ｃ８〜２４）エステル化物のリン酸エステルアミン塩］が挙げられる。   Examples of amphoteric surfactants include amino acid type amphoteric surfactants [for example, higher alkylamine (C8-24) sodium propionate], betaine type amphoteric surfactants [for example, alkyl (C12-18) dimethylbetaine], sulfate ester salts Type amphoteric surfactants [e.g. sulfate sodium salt of higher alkylamine (C8-24) and hydroxyethyl imidazoline sulfate sodium salt], sulfonate type amphoteric surfactants (e.g. pentadecyl sulfotaurine and imidazoline sulfonic acid) and Examples thereof include phosphate ester type amphoteric surfactants [for example, phosphate ester amine salts of glycerin higher fatty acid (C8-24) esterified products].

これらの（Ｃ２）は単独でも２種以上を併用してもいずれでもよい。
これらのうち成形品の樹脂の耐熱性および帯電防止性の観点から好ましいのは、アニオン性界面活性剤、さらに好ましいのはスルホン酸塩、とくに好ましいのはアルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルスルホン酸塩およびパラフィンスルホン酸塩である。 These (C2) may be used alone or in combination of two or more.
Of these, anionic surfactants are preferred from the viewpoint of heat resistance and antistatic properties of the resin of the molded article, more preferred are sulfonates, and particularly preferred are alkylbenzene sulfonates, alkyl sulfonates and paraffins. Sulfonate.

（Ｃ２）の使用量は、（Ａ）と（Ｂ）の合計重量に基づいて、通常１５％以下、フィルム表面に析出せず良好な外観と帯電防止性を成形品に与えるとの観点から、好ましくは０．００１〜１２％、さらに好ましくは０．０１〜１０％、とくに好ましくは０．１〜８％である。
（Ｃ２）を含有させる方法としては特に限定はないが、樹脂組成物中に効果的に分散させるためには、（Ｂ）中に予め含有させておくことが好ましい。（Ｃ２）を（Ｂ）中に予め含有させる場合、（Ｂ）の製造（重合）時に含有させておくのが好ましく、含有させるタイミングは特に制限なく、重合前、重合中および重合後のいずれでもよいが重合前の原料に含有させるのが好ましい。 The amount of (C2) used is usually 15% or less, based on the total weight of (A) and (B), from the viewpoint of giving good appearance and antistatic properties to the molded product without depositing on the film surface, Preferably it is 0.001 to 12%, more preferably 0.01 to 10%, and particularly preferably 0.1 to 8%.
The method for containing (C2) is not particularly limited, but it is preferably contained in advance in (B) for effective dispersion in the resin composition. When (C2) is previously contained in (B), it is preferably contained during the production (polymerization) of (B), and the timing of inclusion is not particularly limited, and may be any before, during or after polymerization. Although it is good, it is preferable to make it contain in the raw material before superposition | polymerization.

（Ｃ３）としては、例えばカルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、ヒドロキシル基およびポリオキシアルキレン基からなる群より選ばれる少なくとも１種の極性基を有する変性ビニル（共）重合体（例えば特開平３−２５８８５０号公報に記載のもの）、スルホ基を有する変性ビニル（共）重合体（例えば特開平６−３４５９２７号公報に記載のもの）およびポリオレフィン部分と芳香族ビニル重合体部分とを有するブロック（共）重合体（例えば特開平６−３４５９２７号公報に記載のもの）が挙げられる。
これらの（Ｃ３）は単独でも２種以上併用してもよいが、成形品の透明性の観点から、（Ａ）および（Ｂ）との屈折率差は好ましくは０．０１以下、さらに好ましくは０．００８以下、とくに好ましくは０．００５以下である。
（Ｃ３）の使用量は、（Ａ）と（Ｂ）の合計重量に基づいて、通常１５％以下、（Ａ）と（Ｂ）の相溶性および成形品の機械特性の観点から好ましくは０．１〜１２％、さらに好ましくは１〜１０％、とくに好ましくは１．５〜８％である。 Examples of (C3) include a modified vinyl (co) polymer having at least one polar group selected from the group consisting of a carboxyl group, an epoxy group, an amino group, a hydroxyl group and a polyoxyalkylene group (for example, JP-A-3- 258850), modified vinyl (co) polymers having sulfo groups (for example, those described in JP-A-6-345927), and blocks having polyolefin moieties and aromatic vinyl polymer moieties (copolymers). ) Polymers (for example, those described in JP-A-6-345927).
These (C3) s may be used alone or in combination of two or more, but from the viewpoint of the transparency of the molded product, the difference in refractive index from (A) and (B) is preferably 0.01 or less, more preferably 0.008 or less, particularly preferably 0.005 or less.
The amount of (C3) used is usually 15% or less based on the total weight of (A) and (B), and preferably from the viewpoint of the compatibility of (A) and (B) and the mechanical properties of the molded product. It is 1 to 12%, more preferably 1 to 10%, particularly preferably 1.5 to 8%.

（Ｃ４）としては、核剤（Ｃ４１）、滑剤（Ｃ４２）、可塑剤（Ｃ４３）、離型剤（Ｃ４４）、酸化防止剤（Ｃ４５）、難燃剤（Ｃ４６）、紫外線吸収剤（Ｃ４７）および抗菌剤（Ｃ４８）からなる群から選ばれる少なくとも１種が挙げられる。   (C4) includes nucleating agent (C41), lubricant (C42), plasticizer (C43), mold release agent (C44), antioxidant (C45), flame retardant (C46), ultraviolet absorber (C47) and The at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of an antibacterial agent (C48) is mentioned.

（Ｃ４１）としては、有機系核剤［例えば１，３，２，４−ジ−ベンジリデン−ソルビトール、アルミニウム−モノ−ヒドロキシ−ジ−ｐ−ｔ−ブチルベンゾエート、ソジウム−ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ホスフェートおよび安息香酸ナトリウム］および無機系核剤（例えばグラファイト、カーボンブラック、酸化マグネシウム、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、タルク、カオリン、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酸化亜鉛、アルミナ、硫酸バリウムおよび硫酸カルシウム）が挙げられる。
（Ｃ４２）としては、ワックス（例えばカルナバロウワックス、パラフィンワックスおよびポリオレフィンワックス）、高級脂肪酸（Ｃ８〜２４、例えばステアリン酸、オレイン酸、リノール酸およびリノレン酸）、高級アルコール（Ｃ８〜１８、例えばステアリルアルコール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、セチルアルコール、セトステアリルアルコールおよびベヘニルアルコール）および高級脂肪酸アミド（Ｃ８〜２４、例えばステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、リノール酸アミドおよびリノレン酸アミド）が挙げられる。 (C41) includes organic nucleating agents [for example, 1,3,2,4-di-benzylidene-sorbitol, aluminum-mono-hydroxy-di-pt-butylbenzoate, sodium-bis (4-tert-butyl Phenyl) phosphate and sodium benzoate] and inorganic nucleating agents (eg graphite, carbon black, magnesium oxide, calcium silicate, magnesium silicate, talc, kaolin, calcium carbonate, magnesium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, zinc oxide, alumina, Barium sulfate and calcium sulfate).
(C42) include waxes (eg carnauba wax, paraffin wax and polyolefin wax), higher fatty acids (C8-24, eg stearic acid, oleic acid, linoleic acid and linolenic acid), higher alcohols (C8-18, eg stearyl alcohol). , Lauryl alcohol, myristyl alcohol, cetyl alcohol, cetostearyl alcohol and behenyl alcohol) and higher fatty acid amides (C8-24, such as stearamide, oleic amide, linoleic amide and linolenic amide).

（Ｃ４３）としては、芳香族カルボン酸エステル［例えばフタル酸エステル（例えばジオクチルフタレートおよびジブチルフタレート）］、脂肪族モノカルボン酸エステル［例えばメチルアセチルリシノレートおよびトリエチレングリコールジベンゾエート］、脂肪族ジカルボン酸エステル［例えばジ（２−エチルヘキシル）アジペートおよびアジピン酸−プロピレングリコール系ポリエステル（Ｍｎ２００〜２０００）］、脂肪族トリカルボン酸エステル［例えばクエン酸エステル（例えばクエン酸トリエチル）］、リン酸トリエステル［例えばトリフェニルホスフェート］および石油樹脂が挙げられる。
（Ｃ４４）としては、高級脂肪酸（上記のもの）の低級（Ｃ１〜４）アルコールエステル（例えばステアリン酸ブチル）、脂肪酸（Ｃ２〜１８）の多価（２価〜４価またはそれ以上）アルコールエステル（例えば硬化ヒマシ油）、脂肪酸（Ｃ２〜１８）のグリコール（Ｃ２〜８）エステル（例えばエチレングリコールモノステアレート）および流動パラフィンが挙げられる。 (C43) includes aromatic carboxylic acid esters [for example, phthalic acid esters (for example, dioctyl phthalate and dibutyl phthalate)], aliphatic monocarboxylic acid esters [for example, methyl acetyl ricinoleate and triethylene glycol dibenzoate], aliphatic dicarboxylic acids Esters [eg di (2-ethylhexyl) adipate and adipic acid-propylene glycol based polyesters (Mn 200-2000)], aliphatic tricarboxylic esters [eg citrate esters (eg triethyl citrate)], phosphate triesters [eg tri Phenyl phosphate] and petroleum resins.
(C44) includes lower fatty acid (C1-4) alcohol ester (for example, butyl stearate) of higher fatty acid (above), polyvalent (divalent to tetravalent or higher) alcohol ester of fatty acid (C2-18) (E.g. hydrogenated castor oil), glycol (C2-8) esters of fatty acids (C2-18) (e.g. ethylene glycol monostearate) and liquid paraffin.

（Ｃ４５）としては、フェノール系〔例えば単環フェノール［例えば２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾールおよびブチル化ヒドロキシアニソール］、ビスフェノール［例えば２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル）−６−ｔ−ブチルフェノールおよび４，４’−チオビス（３−メチル）−６−ｔ−ブチルフェノール］および多環フェノール［例えば１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼンおよび１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン］〕；硫黄系〔例えばジラウリル３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル３，３’−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリルβ，β’−チオジブチレートおよびジラウリルサルファイド〕；リン系〔例えばトリフェニルホスファイト、トリイソデシルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、４，４’−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニルジトリデシル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（オクタデシルホスファイト）、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイトおよびジイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト〕；およびアミン系〔例えばオクチル化ジフェニルアミン、Ｎ−ｎ−ブチル−ｐ−アミノフェノール、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−α−ナフチルアミン、フェニル−β−ナフチルアミンおよびフェノチアジン〕が挙げられる。   (C45) includes phenolic [for example, monocyclic phenol [for example, 2,6-di-t-butyl-p-cresol and butylated hydroxyanisole], bisphenol [for example, 2,2′-methylenebis (4-methyl-6). -T-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl) -6-t-butylphenol and 4,4'-thiobis (3-methyl) -6-t-butylphenol] and polycyclic phenols [eg 1, 3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene and 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-t -Butylphenyl) butane]]; sulfur-based [eg dilauryl 3,3′-thiodipropionate, distearyl 3,3′-thiodipropionate Lauryl stearyl 3,3′-thiodipropionate, dimyristyl 3,3′-thiodipropionate, distearyl β, β′-thiodibutyrate and dilauryl sulfide]; phosphorus systems [eg triphenyl phosphite, Triisodecyl phosphite, diphenylisodecyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, 2,2-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) Octyl phosphite, 4,4′-butylidene-bis (3-methyl-6-tert-butylphenylditridecyl) phosphite, cyclic neopentanetetrayl bis (octadecyl phosphite), cyclic neopentane tetrayl bis ( 2,6-di-tert-butyl-4-methyl Phenyl) phosphite, cyclic neopentanetetraylbis (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite and diisodecylpentaerythritol diphosphite]; and amine systems [eg octylated diphenylamine, Nn-butyl- p-aminophenol, N, N-diisopropyl-p-phenylenediamine, N, N-bis (1-ethyl-3-methylpentyl) -p-phenylenediamine, N, N-diphenyl-p-phenylenediamine, N- Phenyl-α-naphthylamine, phenyl-β-naphthylamine and phenothiazine].

（Ｃ４６）としては、有機難燃剤〔例えば含窒素系［例えば尿素化合物、グアニジン化合物およびトリアジン化合物（例えばメラミンおよびグアナミン）の塩（例えば無機酸（前記のもの）塩、シアヌール酸塩およびイソシアヌール酸塩）］、含硫黄系〔例えば硫酸エステル、有機スルホン酸、スルファミン酸、有機スルファミン酸、およびそれらの塩、エステルおよびアミド〕、含珪素系（例えばポリオルガノシロキサン）および含リン系［例えばリン酸エステル（例えばトリクレジルホスフェート）］〕および無機難燃剤〔例えば三酸化アンチモン、水酸化マグネシウム、ホウ酸亜鉛、メタホウ酸バリウム、水酸化アルミニウム、赤リンおよびポリリン酸アンモニム〕が挙げられる。   (C46) includes organic flame retardants [for example, nitrogen-containing [for example, urea compounds, guanidine compounds and triazine compounds (for example, melamine and guanamine) salts (for example, inorganic acid (the foregoing) salts), cyanurate and isocyanuric acid] Salt)], sulfur-containing systems [for example, sulfates, organic sulfonic acids, sulfamic acids, organic sulfamic acids, and salts, esters, and amides thereof], silicon-containing systems (for example, polyorganosiloxane) and phosphorus-containing systems [for example, phosphoric acid Esters (eg tricresyl phosphate)]] and inorganic flame retardants [eg antimony trioxide, magnesium hydroxide, zinc borate, barium metaborate, aluminum hydroxide, red phosphorus and ammonium polyphosphate].

（Ｃ４７）としては、ベンゾトリアゾール系［例えば２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールおよび２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール］、ベンゾフェノン系［例えば２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノンおよび２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン］、サリチレート系［例えばフェニルサリチレートおよびエチレングリコールモノサリチレート］およびアクリレート系［例えば２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３’１−ジフェニルアクリレート］が挙げられる。   (C47) includes benzotriazole-based [eg 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole and 2- (2′-hydroxy-4′-octoxyphenyl) benzotriazole], benzophenone-based [ For example 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone and 2,2′-dihydroxy-4-methoxybenzophenone], salicylate systems [eg phenyl salicylate and ethylene glycol monosalicylate] and acrylate systems [eg 2-ethylhexyl-2- Cyano-3,3′1-diphenyl acrylate].

（Ｃ４８）としては、安息香酸、パラオキシ安息香酸エステル、ソルビン酸、ハロゲン化フェノール（例えば２，４，６−トリブロモフェノールナトリウム塩）、有機ヨウ素（例えば４−クロロフェニル−３−ヨードプロパギルホルマール）、ニトリル（例えば２，４，５，６−テトラクロロイソフタロニトリル）、チオシアノ（例えばメチレンビスチアノシアネート）、Ｎ−ハロアルキルチオイミド（例えばＮ−テトラクロロエチル−チオ−テトラヒドロフタルイミド）、銅剤（例えば８−オキシキノリン銅）、ベンズイミダゾール（例えば２−４−チアゾリルベンズイミダゾール）、ベンゾチアゾール（例えば２−チオシアノメチルチオベンゾチアゾール）、トリハロアリル（例えば３−ブロモ−２，３−ジヨード−２−プロペニルエチルカルボナート）、トリアゾール（例えばアザコナゾール）、有機窒素硫黄化合物（例えばスラオフ３９）、４級アンモニウム化合物（例えばトリメトキシシリル−プロピルオクタデシルアンモニウムクロライド）およびピリジン系化合物［例えば２，３，５，６−チトクロロ−４−（メチルスルホニル）−ピリジン］が挙げられる。   (C48) includes benzoic acid, paraoxybenzoic acid ester, sorbic acid, halogenated phenol (for example, 2,4,6-tribromophenol sodium salt), organic iodine (for example, 4-chlorophenyl-3-iodopropargyl formal) , Nitriles (eg 2,4,5,6-tetrachloroisophthalonitrile), thiocyano (eg methylene bisthianocyanate), N-haloalkylthioimides (eg N-tetrachloroethyl-thio-tetrahydrophthalimide), copper agents (eg 8-oxyquinoline copper), benzimidazole (eg 2-4-thiazolylbenzimidazole), benzothiazole (eg 2-thiocyanomethylthiobenzothiazole), trihaloallyl (eg 3-bromo-2,3-diiodo-2-yl) Propenyl ethyl Carbonates), triazoles (eg azaconazole), organic nitrogen sulfur compounds (eg Suraoff 39), quaternary ammonium compounds (eg trimethoxysilyl-propyloctadecyl ammonium chloride) and pyridine-based compounds [eg 2,3,5,6-cytochloro- 4- (methylsulfonyl) -pyridine].

（Ｃ４）の使用量は、（Ａ）と（Ｂ）の合計重量に基づいて、（Ｃ４１）、（Ｃ４２）および（Ｃ４４）はそれぞれ通常１０％以下、好ましくは１〜１０％；（Ｃ４３）および（Ｃ４６）はそれぞれ通常２０％以下、好ましくは１〜１０％；（Ｃ４５）および（Ｃ４７）は通常５％以下、好ましくは０．１〜３％；（Ｃ４８）は通常３％以下、好ましくは０．０５〜１％である。   The amount of (C4) used is usually based on the total weight of (A) and (B), (C41), (C42) and (C44) are each usually 10% or less, preferably 1 to 10%; (C43) And (C46) is usually 20% or less, preferably 1 to 10%; (C45) and (C47) are usually 5% or less, preferably 0.1 to 3%; (C48) is usually 3% or less, preferably Is 0.05 to 1%.

本発明の成形品は上記樹脂組成物を、例えば下記の工程に従って成形することにより得られる。ここにおいて成形品には厚み２００μｍ以下のフィルムと、厚み２００μｍを超える成形物が含まれ、該フィルムには後述の多層フィルムも含まれる。
１．成形品の製造（例えば射出成形の場合）
＜１＞（Ａ）、（Ｂ）および必要により加えられる添加剤（Ｃ）の混合工程；
＜２＞射出成形工程
射出成形品の製造工程について以下にさらに詳細に説明する。
＜１＞混合工程
本発明の樹脂組成物の混合方法は、特に限定されないが、例えば（１）（Ａ）、（Ｂ）および必要により（Ｃ）をタンブルミキサー、リボンブレンダーまたはヘンシェルミキサー等でドライブレンドして混合する方法、（２）上記の各成分を上記の方法でドライブレンドした後、押出機で溶融混合（通常２００〜２８０℃）してペレット化する方法、（３）（Ａ）と（Ｂ）とのマスターバッチ樹脂組成物を押出機による溶融混合（２００〜２８０℃）で予め作成しておき［マスターバッチ樹脂組成物中の（Ｂ）の含有量は好ましくは３０〜７０重量％］、該マスターバッチ、（Ａ）および必要により（Ｃ）を上記混合機でドライブレンドして混合する方法が挙げられる。
これらの方法のうち、（Ｂ）の（Ａ）への分散性の観点から好ましいのは（２）および（３）、とくに好ましいのは（２）の方法である。本発明の樹脂組成物では（Ａ）と（Ｂ）が相溶性に優れることから、（１）の方法でも良好な射出成形品を得ることができる。
＜２＞射出成形工程
射出成形方法については、特に限定はなく、オス型、メス型で構成される金型の隙間に溶融した樹脂を圧力をかけて押し込み、冷却固化させて成形品を得る、種々の射出成形方法（例えば射出成形法、ガスアシスト成形法、射出圧縮成形法および射出ブロー成形法）を用いることができる。
射出成形時に発泡剤（例えば塩化メチル、ブタン、炭酸ガスおよびアゾビスイソブチロニトリル）を添加することにより成形品中に発泡層を形成させることもできる。 The molded article of the present invention can be obtained by molding the above resin composition, for example, according to the following steps. Here, the molded product includes a film having a thickness of 200 μm or less and a molded product having a thickness exceeding 200 μm, and the film includes a multilayer film described later.
1. Manufacture of molded products (for example, injection molding)
<1> A mixing step of (A), (B) and, if necessary, an additive (C);
<2> Injection molding process The manufacturing process of an injection molded product will be described in more detail below.
<1> Mixing Step The method for mixing the resin composition of the present invention is not particularly limited. For example, (1) (A), (B) and, if necessary, (C) are dried with a tumble mixer, ribbon blender, Henschel mixer or the like. A method of blending and mixing, (2) A method of dry blending each of the above components by the above method, and then melt-mixing with an extruder (usually 200 to 280 ° C.) to pelletize, (3) (A) and A master batch resin composition with (B) is prepared in advance by melt mixing (200 to 280 ° C.) using an extruder [the content of (B) in the master batch resin composition is preferably 30 to 70 wt% ], The master batch, (A) and, if necessary, (C) may be dry blended with the above mixer and mixed.
Among these methods, the methods (2) and (3) are preferable from the viewpoint of dispersibility of (B) into (A), and the method (2) is particularly preferable. In the resin composition of the present invention, since (A) and (B) are excellent in compatibility, a good injection molded product can be obtained even by the method (1).
<2> Injection molding process The injection molding method is not particularly limited, and a molten resin is pressed into a gap between molds composed of a male mold and a female mold, and a molded product is obtained by cooling and solidifying. Various injection molding methods (eg, injection molding, gas assist molding, injection compression molding, and injection blow molding) can be used.
A foaming layer can also be formed in a molded article by adding a foaming agent (for example, methyl chloride, butane, carbon dioxide and azobisisobutyronitrile) at the time of injection molding.

２．フィルムの製造
＜１＞（Ａ）、（Ｂ）および必要により加えられる（Ｃ）の混合工程；
＜２＞製膜工程；
＜３＞ロール等による冷却工程；
＜４＞延伸工程（必要に応じて行われる）
また、熱可塑性樹脂からなるフィルムおよび／または本発明の樹脂組成物からなるフィルムを基層とし、本発明の樹脂組成物からなるフィルムを表層として積層して成形した多層フィルムとすることもできる。 2. Production of film <1> Mixing step of (A), (B) and (C) optionally added;
<2> Film forming step;
<3> Cooling step using rolls or the like;
<4> Stretching step (performed as necessary)
Moreover, it can also be set as the multilayer film formed by laminating | stacking the film which consists of a film consisting of a thermoplastic resin and / or the film which consists of the resin composition of this invention as a base layer, and the film which consists of the resin composition of this invention as a surface layer.

積層する場合は、表層フィルムを基層の片面または両面に積層してよく、両面に積層する場合の表層樹脂の種類はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、基層の表裏面のそれぞれにおいて樹脂の種類の異なるフィルムを多層（２〜６層またはそれ以上）に積層してもよい。また、基層は、熱可塑樹脂フィルム−本発明の樹脂組成物からなるフィルムの単位が繰り返される多層フィルムであってもよい。
また、表層および基層のいずれかまたは両方が発泡層または発泡層と非発泡層からなる多層フィルムや、表層および基層の少なくとも一層が一軸または多軸に延伸されている多層フィルムであってもよい。 When laminating, the surface layer film may be laminated on one side or both sides of the base layer, and the type of the surface layer resin when laminating on both sides may be the same or different, and the type of resin on each of the front and back sides of the base layer Different films may be laminated in multiple layers (2-6 layers or more). The base layer may be a multilayer film in which a unit of a film made of a thermoplastic resin film-the resin composition of the present invention is repeated.
Alternatively, either or both of the surface layer and the base layer may be a foamed layer or a multilayer film composed of a foamed layer and a non-foamed layer, or a multilayer film in which at least one of the surface layer and the base layer is stretched uniaxially or multiaxially.

フィルム製造工程について以下にさらに詳細に説明する。
＜１＞混合工程
上記１．成形品の製造における＜１＞混合工程に同じく（１）〜（３）の方法が挙げられ、これらの方法のうち好ましい方法も同様である。本発明の樹脂組成物では（Ａ）と（Ｂ）が相溶性に優れることから、該（１）の方法でも良好なフィルムを得ることができる。 The film production process will be described in more detail below.
<1> Mixing step The methods (1) to (3) are also included in the <1> mixing step in the production of a molded product, and preferred methods among these methods are also the same. In the resin composition of the present invention, since (A) and (B) are excellent in compatibility, a good film can be obtained even by the method (1).

＜２＞製膜工程
製膜方法については、特に限定はなく、種々の製膜方法（例えば押出成形法、インフレーション法およびチューブラー法）を用いることができる。
いずれの方法においても、共押出が可能なダイスから樹脂組成物を積層した状態で押出して製膜するか、基層に表層をラミネートするかまたは表層と基層を接着剤もしくは接着層を用いて貼り合わせる等を行い、多層フィルムとしてもよい。
製膜時に発泡剤（前記に同じ。）を添加することによりフィルム中に発泡層を形成させることもできる。 <2> Film-forming step The film-forming method is not particularly limited, and various film-forming methods (for example, an extrusion molding method, an inflation method, and a tubular method) can be used.
In either method, the resin composition is laminated from a die that can be co-extruded to form a film, or a surface layer is laminated to the base layer, or the surface layer and the base layer are bonded together using an adhesive or an adhesive layer. It is good also as a multilayer film.
A foamed layer can be formed in the film by adding a foaming agent (same as above) during film formation.

共押出では、例えば樹脂組成物の温度はその加熱流動温度８５〜２８０℃とし、ダイスの温度は１８０〜２８０℃とするのが好ましい。
基層に表層をラミネートする場合は、例えば各層を積層した後に加熱圧着してもよいし、予めそれぞれの接合面を加熱装置によって加熱した後に接合して圧着してもよい。
貼り合わせる方法において使用される接着剤は、特に限定されないが、例えばエチレン−酢酸ビニル共重合体およびメタアクリル酸メチル重合体エラストマー〔例えば商品名：タフプレンおよびタフテック［いずれも旭化成工業（株）製］〕等の接着剤が好ましい。 In the coextrusion, for example, the temperature of the resin composition is preferably 85 to 280 ° C., and the die temperature is preferably 180 to 280 ° C.
In the case of laminating the surface layer on the base layer, for example, the layers may be laminated and then thermocompression bonded, or the respective bonding surfaces may be preliminarily heated with a heating device and then bonded and pressure bonded.
The adhesive used in the laminating method is not particularly limited. For example, an ethylene-vinyl acetate copolymer and a methyl methacrylate polymer elastomer [for example, trade names: Tuffprene and Tuftec [both manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.] ] Is preferred.

＜３＞ロール等による冷却工程
冷却方法については、例えば、ロールとの接触によって冷却する方法（例えば押出成形法のとき）および空気を吹き付け冷却する方法（例えばインフレーション法およびチューブラー法のとき）を用いることができる。 <3> Cooling step with rolls etc. As for the cooling method, for example, a method of cooling by contact with a roll (for example, extrusion method) and a method of cooling by blowing air (for example, an inflation method and a tubular method) are used. Can be used.

＜４＞延伸工程
延伸方法としては、例えば予め無延伸のフィルムを製膜した後、別工程で延伸する方法（例えばロールの周速度の差を利用して延伸する方法およびテンター法）と、フィルムの生産工程に延伸工程が含まれるような方法（例えばインフレーション法およびチューブラー法）を挙げることができる。 <4> Stretching step As a stretching method, for example, after forming a non-stretched film in advance, a method of stretching in a separate step (for example, a method of stretching using a difference in peripheral speed of rolls and a tenter method) and a film Examples of the production process include a stretching process (for example, an inflation method and a tubular method).

延伸倍率は、いずれの延伸方法においても帯電防止性の観点から、一軸延伸の場合は好ましくは２〜２０倍、二軸延伸の場合は好ましくはそれぞれの方向に２〜１５倍である。本発明の帯電防止性樹脂フィルムは延伸工程を経ることで、さらに優れた帯電防止性を発現させることができる。   In any stretching method, the stretching ratio is preferably 2 to 20 times in the case of uniaxial stretching, and preferably 2 to 15 times in each direction in the case of biaxial stretching, from the viewpoint of antistatic properties. The antistatic resin film of the present invention can exhibit further excellent antistatic properties through the stretching step.

また、本発明の帯電防止性樹脂フィルムには、用途（例えばフィルムへの印刷および他の物へのフィルムの接着）、目的（例えば印刷インキの定着性やフィルムの接着性の改良）に応じて、コロナ処理や火炎処理等の表面処理を行うこともできる。
該表面処理をする面は、帯電防止性の表層の面であっても、帯電防止性表層が積層されていない（片側積層の場合）裏面側（基層表面）であってもよい。 In addition, the antistatic resin film of the present invention can be used in accordance with the application (for example, printing on a film and adhesion of the film to other objects) and the purpose (for example, improvement of fixing property of printing ink or adhesion of the film). Surface treatment such as corona treatment and flame treatment can also be performed.
The surface to be surface-treated may be the surface of the antistatic surface layer or the back surface side (base layer surface) where the antistatic surface layer is not laminated (in the case of one-side lamination).

本発明の帯電防止性樹脂成形品のヘーズ（透明性を示す指標）は、透明性の観点から好ましくは２０％以下、さらに好ましくは０〜１０％、とくに好ましくは０〜５％以下である。
ヘーズはＪＩＳ Ｋ７１０５−１９８１の方法により測定することができる。該測定に用いられる装置としては、例えば、日本電色工業（株）製ＮＤ−３００Ａが挙げられる。 The haze (index indicating transparency) of the antistatic resin molded product of the present invention is preferably 20% or less, more preferably 0 to 10%, particularly preferably 0 to 5% or less from the viewpoint of transparency.
Haze can be measured by the method of JIS K7105-1981. As an apparatus used for this measurement, Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. ND-300A is mentioned, for example.

本発明の帯電防止性樹脂組成物から得られる成形品は、優れた機械特性および永久帯電防止性を有すると共に、良好な塗装性および印刷性を有する。
該成形品を塗装する方法としては、エアスプレー法、エアレススプレー法、静電スプレー法、浸漬法、ローラー法、刷毛塗り法等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
塗料としては、ポリエステルメラミン、エポキシメラミン、アクリルメラミンおよびアクリルウレタン樹脂塗料等の種々の塗料が挙げられる。
塗装膜厚（乾燥後膜厚）は、目的に応じて適宜選択することができるが塗膜物性の観点から好ましくは１０〜５０μｍ、さらに好ましくは１５〜４０μｍである。
また、該成形品に印刷する方法としては、種々の印刷法、例えばグラビア印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷およびオフセット印刷が挙げられる。
印刷インキとしてはプラスチックの印刷に通常用いられるものが挙げられる。 The molded product obtained from the antistatic resin composition of the present invention has excellent mechanical properties and permanent antistatic properties, as well as good paintability and printability.
Examples of the method for coating the molded product include, but are not limited to, an air spray method, an airless spray method, an electrostatic spray method, a dipping method, a roller method, and a brush coating method.
Examples of the paint include various paints such as polyester melamine, epoxy melamine, acrylic melamine, and acrylic urethane resin paint.
Although a coating film thickness (film thickness after drying) can be appropriately selected according to the purpose, it is preferably 10 to 50 μm, more preferably 15 to 40 μm from the viewpoint of physical properties of the coating film.
Examples of the method for printing on the molded product include various printing methods such as gravure printing, flexographic printing, screen printing, and offset printing.
Examples of the printing ink include those usually used for printing plastics.

以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、以下において部は重量部、％は重量％を示す。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further, this invention is not limited to this. In the following, “part” means “part by weight” and “%” means “% by weight”.

製造例１［ポリエーテルエステルアミド（Ｂ１−１）の製造］
３Ｌステンレス製オートクレーブに、ε−カプロラクタム６６．９部、アジピン酸３３．１部、酸化防止剤［商品名：イルガノックス１０１０、チバスペシャリティーケミカルズ（株）製、以下同じ］０．３部および水６部を仕込み、オートクレーブ内を窒素置換後、２２０℃で加圧（０．３〜０．５ＭＰａ）密閉下４時間加熱撹拌し、両末端にカルボキシル基を有する酸価３７４のポリアミド９６部を得た。
次にＭｎ５００のポリエチレングリコール１６０部および酢酸ジルコニル０．５部を加え、２４５℃、０．１３ｋＰａ以下の減圧下で５時間重合させて粘稠なポリマーを得た。
このポリマ−をベルト上にストランド状で取り出し、ペレット化することによってポリエーテルエステルアミド（Ｂ１−１）を得た。（Ｂ１−１）の屈折率は１．５０５であった。 Production Example 1 [Production of polyetheresteramide (B1-1)]
In a 3 L stainless steel autoclave, 66.9 parts of ε-caprolactam, 33.1 parts of adipic acid, antioxidant [trade name: Irganox 1010, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., hereinafter the same] 0.3 part and water 6 parts were charged and the autoclave was purged with nitrogen, and then heated and stirred at 220 ° C. under pressure (0.3 to 0.5 MPa) for 4 hours to obtain 96 parts of polyamide having an acid value of 374 having carboxyl groups at both ends. It was.
Next, 160 parts of polyethylene glycol of Mn500 and 0.5 part of zirconyl acetate were added and polymerized at 245 ° C. under reduced pressure of 0.13 kPa or less for 5 hours to obtain a viscous polymer.
The polymer was taken out as a strand on a belt and pelletized to obtain a polyether ester amide (B1-1). The refractive index of (B1-1) was 1.505.

製造例２［ポリエーテルエステルアミド（Ｂ１−２）の製造］
製造例１のポリアミドの製造において、ε−カプロラクタム６６．９部、アジピン酸３３．１部に代えて、ε−カプロラクタム８３．５部、テレフタル酸１６．５部を用いた以外は製造例１と同様にして、両末端にカルボキシル基を有する酸価１１２のポリアミド９６部を得た。
次に、製造例１においてＭｎ５００のポリエチレングリコール１６０部に代えてＭｎ１，５００のビスフェノールＡのＥＯ付加物１４４部を用いた以外は製造例１と同様にしてポリエーテルエステルアミド（Ｂ１−２）を得た。（Ｂ１−２）の屈折率は１．５１２であった。 Production Example 2 [Production of polyetheresteramide (B1-2)]
In the production of the polyamide of Production Example 1, in place of 66.9 parts of ε-caprolactam and 33.1 parts of adipic acid, 83.5 parts of ε-caprolactam and 16.5 parts of terephthalic acid were used. In the same manner, 96 parts of polyamide having an acid value of 112 having carboxyl groups at both ends was obtained.
Next, polyether ester amide (B1-2) was prepared in the same manner as in Production Example 1 except that 144 parts of Mn 1,500 bisphenol A EO adduct was used instead of 160 parts of Mn 500 polyethylene glycol. Obtained. The refractive index of (B1-2) was 1.512.

製造例３［ポリエーテルエステルアミド（Ｂ１−３）の製造］
製造例１のポリアミドの製造において、ε−カプロラクタム６６．９部、アジピン酸３３．１部に代えて、ε−カプロラクタム６７．１部、テレフタル酸３２．９部を用いた以外は製造例１と同様にして、両末端にカルボキシル基を有する酸価２２５のポリアミド９６部を得た。
次に、製造例１においてＭｎ５００のポリエチレングリコール１６０部に代えてＭｎ３００のビスフェノールＡのＥＯ付加物５７．６部を用いた以外は製造例１と同様にしてポリエーテルエステルアミド（Ｂ１−３）を得た。（Ｂ１−３）の屈折率は１．５２６であった。 Production Example 3 [Production of polyetheresteramide (B1-3)]
In the production of the polyamide of Production Example 1, in place of 66.9 parts of ε-caprolactam and 33.1 parts of adipic acid, 67.1 parts of ε-caprolactam and 32.9 parts of terephthalic acid were used. In the same manner, 96 parts of polyamide having an acid value of 225 having carboxyl groups at both ends was obtained.
Next, polyether ester amide (B1-3) was prepared in the same manner as in Production Example 1 except that 57.6 parts of an EO adduct of bisphenol A of Mn300 was used instead of 160 parts of polyethylene glycol of Mn500 in Production Example 1. Obtained. The refractive index of (B1-3) was 1.526.

製造例４［ポリエーテルエステルアミド（Ｂ１−４）の製造］
製造例１のポリアミドの製造において、ε−カプロラクタム６６．９部、アジピン酸３３．１部に代えて、１２−アミノドデカン酸９１．９部、テレフタル酸８．１部を用いた以外は製造例１と同様にして、両末端にカルボキシル基を有する酸価５６．１のポリアミド９６部を得た。
次に、製造例１においてＭｎ５００のポリエチレングリコール１６０部に代えてＭｎ３，５００のビスフェノールＡのＥＯ付加物１６８部を用いた以外は製造例１と同様にして、ポリエーテルエステルアミド（Ｂ１−４）を得た。（Ｂ１−４）の屈折率は１．５０８であった。 Production Example 4 [Production of Polyetheresteramide (B1-4)]
Production Example 1 except that 61.9 parts of ε-caprolactam and 33.1 parts of adipic acid were used instead of 91.9 parts of 12-aminododecanoic acid and 8.1 parts of terephthalic acid in the production of polyamide of Production Example 1. In the same manner as in Example 1, 96 parts of polyamide having an acid value of 56.1 having carboxyl groups at both ends was obtained.
Next, polyether ester amide (B1-4) was prepared in the same manner as in Production Example 1 except that 168 parts of EO adduct of bisphenol A of Mn 3,500 was used instead of 160 parts of polyethylene glycol of Mn 500 in Production Example 1. Got. The refractive index of (B1-4) was 1.508.

製造例５［ポリエーテルエステルアミド（Ｂ１−５）の製造］
製造例１のポリアミドの製造において、ε−カプロラクタム６６．９部、アジピン酸３３．１部に代えて、ε−カプロラクタム９４．５部、テレフタル酸５．５部を用いた以外は製造例１と同様にして、両末端にカルボキシル基を有する酸価３７．４のポリアミド９６部を得た。
次に、製造例１においてＭｎ５００のポリエチレングリコール１６０部に代えてＭｎ５，０００のビスフェノールＡのＥＯ付加物１６０部を用いた以外は製造例１と同様にして、ポリエーテルエステルアミド（Ｂ１−５）を得た。（Ｂ１−５）の屈折率は１．５１１であった。 Production Example 5 [Production of Polyetheresteramide (B1-5)]
In the production of the polyamide of Production Example 1, in place of 66.9 parts of ε-caprolactam and 33.1 parts of adipic acid, 94.5 parts of ε-caprolactam and 5.5 parts of terephthalic acid were used. In the same manner, 96 parts of polyamide having an acid value of 37.4 having carboxyl groups at both ends was obtained.
Next, polyether ester amide (B1-5) was prepared in the same manner as in Production Example 1 except that 160 parts of Mn500 polyethylene glycol was used instead of 160 parts of Mn500 polyethylene glycol. Got. The refractive index of (B1-5) was 1.511.

製造例６［ポリエーテルエステルアミド（Ｂ１−６）の製造］
製造例１のポリアミドの製造において、ε−カプロラクタム６６．９部、アジピン酸３３．１部に代えて、１２−アミノドデカン酸９６．７部、テレフタル酸３．３部を用いた以外は製造例１と同様にして、両末端にカルボキシル基を有する酸価２２．４のポリアミド９６部を得た。
次に、製造例１においてＭｎ５００のポリエチレングリコール１６０部に代えてＭｎ４，０００のビスフェノールＡのＥＯ付加物７６．８部を用いた以外は製造例１と同様にして、ポリエーテルエステルアミド（Ｂ１−６）を得た。（Ｂ１−６）の屈折率は１．５１９であった。
Production Example 6 [Production of Polyetheresteramide (B1-6)]
Production Example 1 except that in the production of polyamide of Production Example 1, 66.7 parts of ε-caprolactam and 33.1 parts of adipic acid were used, 96.7 parts of 12-aminododecanoic acid and 3.3 parts of terephthalic acid were used. In the same manner as in Example 1, 96 parts of polyamide having an acid value of 22.4 having carboxyl groups at both ends was obtained.
Next, in the same manner as in Production Example 1 except that 76.8 parts of an EO adduct of bisphenol A of Mn 4,000 was used instead of 160 parts of polyethylene glycol of Mn 500, polyether ester amide (B1- 6) was obtained. The refractive index of (B1-6) was 1.519.

製造例７［酸変性ポリプロピレン（ｂ２１−１）、二次変性ポリプロピレン（ｂ２１−２）の製造］
熱減成法［２３℃における密度０．９０ｇ／ｃｍ3、ＭＦＲ６．０ｇ／１０分のエチレン／プロピレン（ランダム付加）共重合体（エチレン含量２％）を４１０±０．１℃で熱減成］で得られた低分子量エチレン／プロピレンランダム共重合体（Ｍｎ３，５００、密度０．８９ｇ／ｃｍ3、Ｃ１，０００当たりの二重結合量７．１個、１分子当たりの二重結合の平均数１．８、両末端変性可能なポリオレフィンの含有量９０％）９５部と無水マレイン酸１０部とキシレン３０部とを、窒素ガス雰囲気（密閉）下、２００℃で溶融し、２００℃、２０時間反応を行った。
その後、過剰の無水マレイン酸とキシレンを減圧下、２００℃、３時間で留去して、酸変性ポリプロピレン（ｂ２１−１）を得た。（ｂ２１−１）の酸価は２７．２、Ｍｎは３，７００であった。
（ｂ２１−１）６６部と１２−アミノドデカン酸３４部を窒素ガス雰囲気下、２００℃で溶融し、２００℃、３時間、１．３ｋＰａ以下の減圧下、反応を行い、酸二次変性ポリプロピレン（ｂ２１−２）を得た。（ｂ２１−２）の酸価は１７．７、Ｍｎは５，７００であった。 Production Example 7 [Production of acid-modified polypropylene (b21-1) and secondary-modified polypropylene (b21-2)]
Thermal degradation method [Thermal degradation of ethylene / propylene (random addition) copolymer (ethylene content 2%) at a density of 0.90 g / cm 3 at 23 ° C. and MFR 6.0 g / 10 min at 410 ± 0.1 ° C. Low molecular weight ethylene / propylene random copolymer (Mn 3,500, density 0.89 g / cm 3 , 7.1 double bond amount per 1,000 C, average double bond per molecule) (Number 1.8, content of polyolefin which can be modified at both ends 90%) 95 parts, maleic anhydride 10 parts and xylene 30 parts were melted at 200 ° C. in a nitrogen gas atmosphere (sealed), Time reaction was performed.
Then, excess maleic anhydride and xylene were distilled off under reduced pressure at 200 ° C. for 3 hours to obtain acid-modified polypropylene (b21-1). The acid value of (b21-1) was 27.2, and Mn was 3,700.
(B21-1) 66 parts and 34 parts of 12-aminododecanoic acid were melted at 200 ° C. in a nitrogen gas atmosphere, reacted at 200 ° C. for 3 hours under reduced pressure of 1.3 kPa or less, and acid secondary modified polypropylene. (B21-2) was obtained. The acid value of (b21-2) was 17.7, and Mn was 5,700.

製造例８［カチオン性ポリマー（ｂ２２−１）（親水性ポリマー）の製造］
ガラス製オートクレーブにＮ−メチルジエタノールアミン４１部、アジピン酸４９部および酢酸ジルコニル０．３部を仕込み、窒素置換後、２時間かけて２２０℃まで昇温し、１時間かけて０．１３ｋＰａまで減圧してポリエステル化反応を行わせた。反応終了後、５０℃まで冷却し、メタノール１００部を加えて溶解した。撹拌しながら反応容器中の温度を１２０℃に保ち、炭酸ジメチル３１部を３時間かけて徐々に滴下し、同温度で６時間熟成させた。室温まで冷却後、６０％ヘキサフルオロリン酸水溶液１００部を加え、室温で１時間撹拌した。次いで溶剤を減圧留去し、４級アンモニウム基を平均１２個有するカチオン性ポリマー（ｂ２２−１）（水酸基価３０．１、酸価０．５、体積固有抵抗値１×１０5Ω・ｃｍ）を得た。 Production Example 8 [Production of Cationic Polymer (b22-1) (Hydrophilic Polymer)]
A glass autoclave was charged with 41 parts of N-methyldiethanolamine, 49 parts of adipic acid and 0.3 part of zirconyl acetate. After purging with nitrogen, the temperature was raised to 220 ° C. over 2 hours and reduced to 0.13 kPa over 1 hour. The polyesterification reaction was performed. After completion of the reaction, the reaction mixture was cooled to 50 ° C. and dissolved by adding 100 parts of methanol. While stirring, the temperature in the reaction vessel was kept at 120 ° C., 31 parts of dimethyl carbonate was gradually added dropwise over 3 hours, and aged at the same temperature for 6 hours. After cooling to room temperature, 100 parts of a 60% hexafluorophosphoric acid aqueous solution was added and stirred at room temperature for 1 hour. Subsequently, the solvent was distilled off under reduced pressure, and a cationic polymer (b22-1) having an average of 12 quaternary ammonium groups (hydroxyl value 30.1, acid value 0.5, volume resistivity 1 × 10 5 Ω · cm) Got.

製造例９［ブロックポリマー（Ｂ２−１）の製造］
ステンレス製オートクレーブに、（ｂ２１−２）６３．０部、（ｂ２２−１）３７．０部、酸化防止剤０．３部および酢酸ジルコニル０．５部を加え、２３０℃、０．１３ｋＰａ以下の減圧下の条件で４時間重合させ粘稠なポリマーを得た。このポリマ−をベルト上にストランド状で取り出し、ペレット化することによってブロックポリマー（Ｂ２−１）を得た。（Ｂ２−１）の屈折率は１．５０１であった。 Production Example 9 [Production of block polymer (B2-1)]
To a stainless steel autoclave, 63.0 parts of (b21-2), 37.0 parts of (b22-1), 0.3 part of antioxidant and 0.5 part of zirconyl acetate were added, and 230 ° C. and 0.13 kPa or less. Polymerization was performed for 4 hours under reduced pressure to obtain a viscous polymer. The polymer was taken out as a strand on the belt and pelletized to obtain a block polymer (B2-1). The refractive index of (B2-1) was 1.501.

製造例１０［ブロックポリマー（Ｂ２−２）の製造］
製造例９において（ｂ２１−２）６３．０部、（ｂ２２−１）３７．０部に代えて、（ｂ２１−２）７６．０部、Ｍｎ２，０００、体積固有抵抗値２×１０11Ω・ｃｍのポリテトラメチレングリコール２４．０部を用いた以外は、製造例９と同様にして、ブロックポリマー（Ｂ２−２）を得た。（Ｂ２−２）の屈折率は１．４８５であった。 Production Example 10 [Production of block polymer (B2-2)]
Instead of (b21-2) 63.0 parts and (b22-1) 37.0 parts in Production Example 9, (b21-2) 76.0 parts, Mn 2,000, volume resistivity 2 × 10 11 Ω A block polymer (B2-2) was obtained in the same manner as in Production Example 9, except that 24.0 parts of cm polytetramethylene glycol was used. The refractive index of (B2-2) was 1.485.

製造例１１［アニオン性ポリマー（ｂ２２−２）（親水性ポリマー）の製造］
Ｍｎ３００のポリエチレングリコール６７部と５−スルホイソフタル酸ジメチルエステルのナトリウム塩４９部およびジブチルスズオキシド０．２部を反応容器に仕込み、０．６７ｋＰａの減圧下で１９０℃まで昇温し、メタノールを留去しながら６時間エステル交換反応を行い、１分子内にスルホン酸ナトリウム塩基を平均５個有するアニオン性ポリマー（ｂ２２−２）（水酸基価２９．６、酸価０．４、体積固有抵抗値２×１０6Ω・ｃｍ）を得た。 Production Example 11 [Production of anionic polymer (b22-2) (hydrophilic polymer)]
A reaction vessel was charged with 67 parts of polyethylene glycol Mn300, 49 parts of sodium salt of 5-sulfoisophthalic acid dimethyl ester and 0.2 part of dibutyltin oxide, the temperature was raised to 190 ° C. under a reduced pressure of 0.67 kPa, and methanol was distilled off. An anionic polymer (b22-2) having an average of 5 sodium sulfonate bases in one molecule (hydroxyl value 29.6, acid value 0.4, volume resistivity 2 × 10 6 Ω · cm).

製造例１２［ブロックポリマー（Ｂ２−３）の製造］
製造例９において（ｂ２１−２）６３．０部、（ｂ２２−１）３７．０部に代えて、（ｂ２１−２）６２．６部、（ｂ２２−２）３７．４部を用いた以外は、製造例９と同様にして、ブロックポリマー（Ｂ２−３）を得た。（Ｂ２−３）の屈折率は１．４８１であった。 Production Example 12 [Production of block polymer (B2-3)]
In Production Example 9, instead of (b21-2) 63.0 parts and (b22-1) 37.0 parts, (b21-2) 62.6 parts and (b22-2) 37.4 parts were used. Produced a block polymer (B2-3) in the same manner as in Production Example 9. The refractive index of (B2-3) was 1.481.

製造例１３［ブロックポリマー（Ｂ２−４）の製造］
製造例９において（ｂ２１−２）６３．０部、（ｂ２２−１）３７．０部に代えて、（ｂ２１−２）９２．３部、Ｍｎ５００、体積固有抵抗値２×１０10Ω・ｃｍのビスフェノールＡのＰＯ付加物７．７部を用いた以外は、製造例９と同様にして、ブロックポリマー（Ｂ２−４）を得た。（Ｂ２−４）の屈折率は１．４８８であった。 Production Example 13 [Production of block polymer (B2-4)]
Instead of (b21-2) 63.0 parts and (b22-1) 37.0 parts in Production Example 9, (b21-2) 92.3 parts, Mn500, volume resistivity 2 × 10 10 Ω · cm A block polymer (B2-4) was obtained in the same manner as in Production Example 9, except that 7.7 parts of the PO adduct of bisphenol A was used. The refractive index of (B2-4) was 1.488.

製造例１４［ブロックポリマー（Ｂ２−５）の製造］
製造例９において（ｂ２１−２）６３．０部、（ｂ２２−１）３７．０部に代えて、（ｂ２１−２）７６．０部、Ｍｎ２，０００、体積固有抵抗値１×１０7Ω・ｃｍのポリエチレングリコール２４．０部を用いた以外は、製造例９と同様にして、ブロックポリマー（Ｂ２−５）を得た。（Ｂ２−５）の屈折率は１．４９２であった。 Production Example 14 [Production of block polymer (B2-5)]
Instead of (b21-2) 63.0 parts and (b22-1) 37.0 parts in Production Example 9, (b21-2) 76.0 parts, Mn 2,000, volume resistivity 1 × 10 7 Ω A block polymer (B2-5) was obtained in the same manner as in Production Example 9 except that 24.0 parts of polyethylene glycol of cm was used. The refractive index of (B2-5) was 1.492.

製造例１５［ブロックポリマー（Ｂ２−６）の製造］
製造例９において（ｂ２１−２）６３．０部、（ｂ２２−１）３７．０部に代えて、（ｂ２１−２）６６．５部、Ｍｎ３，２００、体積固有抵抗値２×１０9Ω・ｃｍのポリプロピレングリコール３３．５部を用いた以外は、製造例９と同様にして、ブロックポリマー（Ｂ２−６）を得た。（Ｂ２−６）の屈折率は１．４７９であった。 Production Example 15 [Production of block polymer (B2-6)]
In Production Example 9, instead of (b21-2) 63.0 parts and (b22-1) 37.0 parts, (b21-2) 66.5 parts, Mn 3,200, volume resistivity 2 × 10 9 Ω A block polymer (B2-6) was obtained in the same manner as in Production Example 9 except that 33.5 parts of cm polypropylene glycol was used. The refractive index of (B2-6) was 1.479.

製造例１６［ブロックポリマー（Ｂ２−７）の製造］
製造例９において（ｂ２１−２）６３．０部、（ｂ２２−１）３７．０部に代えて、（ｂ２１−２）８６．０部、Ｍｎ１，０００、体積固有抵抗値２×１０8Ω・ｃｍのビスフェノールＡのＥＯ付加物３３．５部を用いた以外は、製造例９と同様にして、ブロックポリマー（Ｂ２−７）を得た。（Ｂ２−７）の屈折率は１．４９５であった。
製造例１７［ブロックポリマー（Ｂ２−８）の製造］
製造例９において（ｂ２１−２）６３．０部、（ｂ２２−１）３７．０部に代えて、（ｂ２１−２）６０．０部、Ｍｎ３，２００、体積固有抵抗値３×１０8Ω・ｃｍのポリエチレングリコール３３部を用いた以外は、製造例９と同様にして、ブロックポリマー（Ｂ２−８）を得た。（Ｂ２−８）の屈折率は１．４９２であった。
製造例１８［ブロックポリマー（Ｂ２−９）の製造］
製造例７において（ｂ２１−１）６６部、１２−アミノドデカン酸３４部に代えて、（ｂ２１−１）２５部、１２−アミノドデカン酸７５部を用いた以外は製造例７と同様にして、二次変性ポリプロピレン（ｂ２１−３）を得た。（ｂ２１−３）の酸価は１６．０、Ｍｎは、６，８００であった。
製造例９において（ｂ２１−２）６３．０部、（ｂ２２−１）３７．０部に代えて、（ｂ２１−３）７１部、Ｍｎ２，０００、体積固有抵抗値３×１０8Ω・ｃｍのポリエチレングリコール２２部、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム７部を用いた以外は製造例９と同様にして、ブロックポリマー（Ｂ２−９）を得た。（Ｂ２−９）の屈折率は、１．４９８であった。 Production Example 16 [Production of block polymer (B2-7)]
Instead of (b21-2) 63.0 parts and (b22-1) 37.0 parts in Production Example 9, (b21-2) 86.0 parts, Mn 1,000, volume resistivity 2 × 10 8 Ω A block polymer (B2-7) was obtained in the same manner as in Production Example 9 except that 33.5 parts of an EO adduct of cm bisphenol A was used. The refractive index of (B2-7) was 1.495.
Production Example 17 [Production of block polymer (B2-8)]
Instead of (b21-2) 63.0 parts and (b22-1) 37.0 parts in Production Example 9, (b21-2) 60.0 parts, Mn 3,200, volume resistivity 3 × 10 8 Ω A block polymer (B2-8) was obtained in the same manner as in Production Example 9 except that 33 parts of cm polyethylene glycol was used. The refractive index of (B2-8) was 1.492.
Production Example 18 [Production of block polymer (B2-9)]
In Production Example 7, instead of 66 parts of (b21-1) and 34 parts of 12-aminododecanoic acid, the same procedure as in Production Example 7 was carried out except that 25 parts of (b21-1) and 75 parts of 12-aminododecanoic acid were used. Secondary modified polypropylene (b21-3) was obtained. The acid value of (b21-3) was 16.0, and Mn was 6,800.
Instead of (b21-2) 63.0 parts and (b22-1) 37.0 parts in Production Example 9, (b21-3) 71 parts, Mn 2,000, volume resistivity 3 × 10 8 Ω · cm A block polymer (B2-9) was obtained in the same manner as in Production Example 9, except that 22 parts of polyethylene glycol and 7 parts of sodium dodecylbenzenesulfonate were used. The refractive index of (B2-9) was 1.498.

製造例１９［カチオン性ポリマー（ｂ２２−３）（親水性ポリマー）の製造］
製造例８においてＮ−メチルジエタノールアミン４１部、アジピン酸４９部に代えて、Ｎ−メチルジエタノールアミン４１部、アジピン酸５５部を用いた以外は、製造例８と同様にして、４級アンモニウム基を平均６個有するカチオン性ポリマー（ｂ２２−３）（水酸基価１４．８、酸価１．４、体積固有抵抗値１×１０5Ω・ｃｍ）を得た。 Production Example 19 [Production of Cationic Polymer (b22-3) (Hydrophilic Polymer)]
In Production Example 8, 41 parts of N-methyldiethanolamine and 49 parts of adipic acid were used, but 41 parts of N-methyldiethanolamine and 55 parts of adipic acid were used. Six cationic polymers (b22-3) (hydroxyl value 14.8, acid value 1.4, volume resistivity 1 × 10 5 Ω · cm) were obtained.

製造例２０［ブロックポリマー（Ｂ２−１０）の製造］
製造例９において（ｂ２１−２）６３．０部、（ｂ２２−１）３７．０部に代えて、（ｂ２１−３）５５．０部、（ｂ２２−３）４５．０部を用いた以外は、製造例９と同様にして、ブロックポリマー（Ｂ２−１０）を得た。（Ｂ２−１０）の屈折率は１．５０９であった。 Production Example 20 [Production of block polymer (B2-10)]
In Production Example 9, (b21-3) 53.0 parts, (b22-3) 45.0 parts were used instead of (b21-2) 63.0 parts and (b22-1) 37.0 parts. Produced a block polymer (B2-10) in the same manner as in Production Example 9. The refractive index of (B2-10) was 1.509.

製造例２１［ポリエーテルエステルアミド（Ｂ１−７）の製造］
製造例１のポリアミドの製造において、ε−カプロラクタム６６．９部、アジピン酸３３．１部に代えて、ε−カプロラクタム９１．８部、テレフタル酸８．２部を用いた以外は製造例１と同様にして、両末端にカルボキシル基を有する酸価５６．２のポリアミド９６部を得た。
次に、製造例１においてＭｎ５００のポリエチレングリコール２４０部に代えてＭｎ３００のビスフェノールＡのＥＯ付加物１０部、Ｍｎ１，５００のビスフェノールＡのＥＯ付加物１０部を用いた以外は製造例１と同様にしてポリエーテルエステルアミド（Ｂ１−７）を得た。（Ｂ１−７）の屈折率は１．５４０であった。 Production Example 21 [Production of Polyetheresteramide (B1-7)]
In the production of the polyamide of Production Example 1, in place of 66.9 parts of ε-caprolactam and 33.1 parts of adipic acid, 91.8 parts of ε-caprolactam and 8.2 parts of terephthalic acid were used. In the same manner, 96 parts of polyamide having an acid value of 56.2 having carboxyl groups at both ends was obtained.
Next, in the same manner as in Production Example 1 except that 10 parts of EO adduct of bisphenol A of Mn300 and 10 parts of EO of bisphenol A of Mn1,500 were used instead of 240 parts of polyethylene glycol of Mn500 in Production Example 1. Thus, polyetheresteramide (B1-7) was obtained. The refractive index of (B1-7) was 1.540.

製造例２２［変性ビニル共重合体（Ｃ３１）の製造］
撹拌機、還流冷却器、滴下ロート２本、温度計および窒素ガス吹き込み口を備えたフラスコにジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）２３５部を仕込んだ。滴下ロート１には、アクリロニトリル１６部、スチレン８１部およびグリシジルメタクリレート４部、滴下ロート２にはアゾビスイソブチロニトリル１部とＤＭＦ６部を仕込んだ。撹拌してフラスコ内の液温を８０℃にし、窒素通気下、液温を８０℃に保ったまま、滴下ロート１および２よりそれぞれ内容物を２時間かけて滴下した。すべての内容物を滴下終了後、さらに５時間、８０℃で撹拌を継続した。溶剤および未反応モノマーを減圧留去して、相溶化剤であるスチレン−アクリロニトリル−グリシジルメタクリレート共重合体［変性ビニル共重合体（Ｃ３１）］を得た。（Ｃ３１）のＭｎは３９，０００、ガラス転移点（Ｔｇ）は１１０℃であった。 Production Example 22 [Production of Modified Vinyl Copolymer (C31)]
A flask equipped with a stirrer, reflux condenser, two dropping funnels, a thermometer and a nitrogen gas inlet was charged with 235 parts of dimethylformamide (DMF). The dropping funnel 1 was charged with 16 parts of acrylonitrile, 81 parts of styrene and 4 parts of glycidyl methacrylate, and the dropping funnel 2 was charged with 1 part of azobisisobutyronitrile and 6 parts of DMF. The contents were dropped from the dropping funnels 1 and 2 over 2 hours while stirring to bring the liquid temperature in the flask to 80 ° C. and keeping the liquid temperature at 80 ° C. under nitrogen flow. Stirring was continued at 80 ° C. for a further 5 hours after the completion of the dropwise addition of all contents. The solvent and unreacted monomer were distilled off under reduced pressure to obtain a styrene-acrylonitrile-glycidyl methacrylate copolymer [modified vinyl copolymer (C31)] as a compatibilizing agent. Mn of (C31) was 39,000, and the glass transition point (Tg) was 110 ° C.

製造例２３［変性ビニル共重合体（Ｃ３２）の製造］
熱減成法（熱減成条件：後述のＰＰ樹脂Ａ−２を窒素ガス通気下、３５０℃×２時間熱処理）で得られた低分子量ポリプロピレン（Ｍｎ１２，０００、密度０．８９ｇ／ｃｍ3）９５部と無水マレイン酸５部とを窒素雰囲気下１８０℃で溶融し、次いで、これにジクミルパーオキサイド１．５部を溶かしたキシレン５０％溶液を１５分かけて滴下した後、１時間反応を行った。その後、溶剤を減圧留去して、相溶化剤である変性ビニル共重合体（Ｃ３２）を得た。（Ｃ３２）の酸価は２５．７、Ｍｎは１５，０００であった。 Production Example 23 [Production of Modified Vinyl Copolymer (C32)]
Low molecular weight polypropylene (Mn 12,000, density 0.89 g / cm 3 ) obtained by thermal degradation method (thermal degradation condition: PP resin A-2 described later, heat treated at 350 ° C. for 2 hours under nitrogen gas flow) 95 parts and 5 parts of maleic anhydride were melted at 180 ° C. in a nitrogen atmosphere, and then a 50% solution of xylene in which 1.5 parts of dicumyl peroxide was dissolved was added dropwise over 15 minutes, followed by reaction for 1 hour. Went. Thereafter, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a modified vinyl copolymer (C32) as a compatibilizer. The acid value of (C32) was 25.7, and Mn was 15,000.

実施例１〜２７、比較例１〜６
表１、２に示す処方に従って、各成分をヘンシェルミキサーで３分間ブレンドした後、ベント付き２軸押出機にて、Ａ−１、Ａ−３、Ａ−６、Ａ−８、Ａ−１０使用時は２３０℃、Ａ−２、Ａ−９使用時は２２０℃、Ａ−４、Ａ−７使用時は２００℃、Ａ−５使用時は１６０℃で、１００ｒｐｍ、滞留時間５分の条件で溶融混練して樹脂組成物（実施例１〜２７、比較例１〜６）を得た。 Examples 1-27, Comparative Examples 1-6
In accordance with the formulation shown in Tables 1 and 2, after blending each component for 3 minutes with a Henschel mixer, using A-1, A-3, A-6, A-8, A-10 in a twin screw extruder with a vent 230 ° C when using A-2 and A-9, 200 ° C when using A-4 and A-7, 160 ° C when using A-5, 100 rpm, and 5 minutes residence time The resin composition (Examples 1-27, Comparative Examples 1-6) was obtained by melt-kneading.

Figure 2005097598
Figure 2005097598
Figure 2005097598
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（注）
Ａ−１：ＡＢＳ樹脂 ［商品名：セビアン−Ｖ ３２０、ダイセルポリマー（株）
製、屈折率は１．５１９］
Ａ−２：ＰＰ樹脂 ［商品名：チッソポリプロ Ｋ１００８、チッソ（株）製、
屈折率は１．４９９］
Ａ−３：ＨＩＰＳ樹脂［商品名：トーヨースチロールＨＩ Ｈ４５０、東洋スチレ
ン（株）製、屈折率は１．５３５］
Ａ−４：ＰＭＭＡ樹脂［商品名：アクリペットＶＨ、三菱レイヨン（株）製、屈折
率は１．４９０］
Ａ−５：ポリアセタール樹脂［商品名：ジュラコン Ｍ９０Ｓ、ポリプラスチック ス（株）製、屈折率は１．４８０］
Ａ−６：ナイロン樹脂［商品名：ウベナイロン １０１３Ｂ、宇部興産（株）製、 屈折率は１．５３０］
Ａ−７：ＰＥ樹脂 ［商品名：ジェイレクス Ｅ７８０、日本ポリオレフィン（
株）製、屈折率は１．５００］
Ａ−８：透明ＡＢＳ樹脂［商品名：テクノＡＢＳ ８１０、テクノポリマー（株）
製、屈折率は１．５１８］
Ａ−９：透明ＰＰ樹脂［商品名：サンアロマーＰＭ８６３Ｖ、サンアロマー（株）
製、屈折率は１．５００］
Ａ−１０：ＰＣ／ＡＢＳ樹脂［商品名：ユーピロンＭＢ１８００、三菱エンジニア
リングプラスチックス（株）製、屈折率は１．５５０］
Ｂ−３：グリセリンモノステアレート［屈折率は１．４９１］
Ｃ１：塩化リチウム
Ｃ２：ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
Ｃ１、Ｃ２は、帯電防止剤（Ｂ）製造の際、ビスフェノールＡのＡＯ付加物またはポリエチレングリコールの使用時に、同時に添加、使用した。 (note)
A-1: ABS resin [Brand name: Ceviane-V 320, Daicel Polymer Co., Ltd.]
Made, refractive index 1.519]
A-2: PP resin [Brand name: Chisso Polypro K1008, manufactured by Chisso Corporation,
Refractive index is 1.499]
A-3: HIPS resin [trade name: Toyo Styrol HI H450, Toyo Styre
Made by Co., Ltd., refractive index 1.535]
A-4: PMMA resin [Brand name: Acripet VH, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., Refraction
The rate is 1.490]
A-5: Polyacetal resin [Brand name: Duracon M90S, manufactured by Polyplastics Co., Ltd., refractive index is 1.480]
A-6: Nylon resin [Brand name: Ube Nylon 1013B, manufactured by Ube Industries, Ltd., refractive index is 1.530]
A-7: PE resin [Brand name: JEREX E780, Nippon Polyolefin (
Co., Ltd., refractive index 1.500]
A-8: Transparent ABS resin [trade name: Techno ABS 810, Techno Polymer Co., Ltd.
Made, refractive index 1.518]
A-9: Transparent PP resin [Brand name: Sun Allomer PM863V, Sun Allomer Co., Ltd.
Made, refractive index 1.500]
A-10: PC / ABS resin [Brand name: Iupilon MB1800, Mitsubishi Engineer
Made by Ring Plastics, refractive index is 1.550]
B-3: Glycerol monostearate [refractive index is 1.491]
C1: Lithium chloride C2: Sodium dodecylbenzenesulfonate C1 and C2 were added and used at the same time when the antistatic agent (B) was produced, when the AO adduct of bisphenol A or polyethylene glycol was used.

［成形］
上記で得られた樹脂組成物について、それぞれ射出成形、押出フィルム成形および二軸延伸フィルム成形を下記の条件で行った。
（１）射出成形
射出成形機［ＰＳ４０Ｅ５ＡＳＥ、日精樹脂工業（株）製］を用い、シリンダー温度２３０℃（Ａ−１、Ａ−３、Ａ−６、Ａ−８、Ａ−１０使用時）、２２０℃（Ａ−２、Ａ−９使用時）、２００℃（Ａ−４、Ａ−７使用時）または１６０℃（Ａ−５使用時）、金型温度５０℃で試験片を作成した。
（２）押出フィルム成形
Ｔ型ダイを備えた押出成形機［ラボプラストミル２Ｄ２０Ｃ型、（株）東洋精機製作所製］を用い、（１）と同じシリンダー温度条件で溶融押出し、２０℃の冷却ロールで急冷することにより厚さ１０μｍと２００μｍの押出フィルムとした。
（３）二軸延伸フィルム成形
実施例４、１１、１４〜１６、１９〜２１、比較例２
上記（２）において得られた２００μｍの押出フィルムを１５５℃に加熱したバッチ式延伸装置で延伸し、厚さ２０μｍの二軸延伸フィルムとした。 [Molding]
About the resin composition obtained above, injection molding, extrusion film molding, and biaxially stretched film molding were performed under the following conditions, respectively.
(1) Injection molding Using an injection molding machine [PS40E5ASE, manufactured by Nissei Plastic Industry Co., Ltd.], a cylinder temperature of 230 ° C. (when using A-1, A-3, A-6, A-8, A-10), Test pieces were prepared at 220 ° C. (when using A-2 and A-9), 200 ° C. (when using A-4 and A-7) or 160 ° C. (when using A-5), and a mold temperature of 50 ° C.
(2) Extruded film molding Using an extrusion molding machine equipped with a T-shaped die [Laboplast Mill 2D20C type, manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd.], melt-extruded under the same cylinder temperature conditions as in (1), and a 20 ° C cooling roll The extruded films were 10 μm and 200 μm thick by being rapidly cooled.
(3) Biaxially stretched film molding Examples 4, 11, 14-16, 19-21, Comparative Example 2
The 200 μm extruded film obtained in the above (2) was stretched with a batch stretching apparatus heated to 155 ° C. to obtain a biaxially stretched film having a thickness of 20 μm.

［性能試験］
上記得られた射出成形品またはフィルムについて、下記の試験法に基づき性能評価した。結果を表３に示す。
［１］機械特性
（１）衝撃強度：射出成形品について、ＡＳＴＭ Ｄ２５６（１９８４年）（ノッチ付、３．２ｍｍ厚）Ｍｅｔｈｏｄ Ａにて測定
（２）曲げ弾性率：射出成形品について、ＡＳＴＭ Ｄ７９０（１９８４年）試験片（１０×４×１００ｍｍ）、支点間距離６４ｍｍにて測定。
（３）引張強度：２００μｍの押出フィルムについて、引張強度を測定し、機械特性を評価する。
［２］帯電防止性［ＡＳＴＭ Ｄ２５７（１９８４年）に準拠］
（１）表面固有抵抗値：射出成形品、および、厚さ１０μｍと２００μｍの押出フィルムおよび厚さ２０μｍの二軸延伸フィルムからそれぞれ切り出したフィルム（１００×１００ｍｍ）を試験片に用い、該試験片を２３℃、湿度５０％ＲＨの条件で４８時間静置後、超絶縁計［アドバンテスト（株）製、以下同じ。］により同条件の雰囲気下で測定する。
（２）水洗後の表面固有抵抗値
（１）と同様の試験片を、２３℃のイオン交換水１００ｍｌを用い１００ｍｌ／分の流量で斜めに立て掛けた試験片を水洗した後、循風乾燥機内８０℃で３時間乾燥する。該水洗−乾燥の操作を１０回繰り返した後、該試験片を２３℃、湿度５０％ＲＨの条件で４８時間静置後、超絶縁計により同条件の雰囲気下で測定する。
（３）体積固有抵抗値：表面固有抵抗値と同様の試験片を用い、同様の方法により測定する［ＡＳＴＭ Ｄ２５７に準拠］。
［３］相溶性
樹脂組成物について、キャピログラフ［（株）東洋精機製作所製の１Ｂ型］を用い、Ａ−１、Ａ−３、Ａ−６、Ａ−８、Ａ−１０使用時は２３０℃、Ａ−２、Ａ−９使用時は２２０℃、Ａ−４、Ａ−７使用時は２００℃、Ａ−５使用時は１６０℃で温調下、剪断速度１０3ｓ-1でキャピラリー（口径１ｍｍ、長さ１０ｍｍ）から押し出される樹脂を取り出し室温に急冷する。該樹脂組成物表面における分散状態を走査型電子顕微鏡で観察し、前記の方法で（Ｂ）の数平均粒子径を算出して、（Ａ）と（Ｂ）との相溶性を評価する。
［４］透明性［ＪＩＳ Ｋ７１０５−１９８１に準拠］
実施例２２〜２５、比較例４、５の射出成形品、および厚さ１０μｍと２００μｍの押出フィルムについてヘーズを測定し、透明性を評価する。 [performance test]
About the obtained injection molded product or film, performance evaluation was performed based on the following test method. The results are shown in Table 3.
[1] Mechanical properties (1) Impact strength: ASTM D256 (1984) (with notch, 3.2 mm thickness) measured by Method A for injection molded products (2) Flexural modulus: ASTM D790 for injection molded products (1984) Measured with a test piece (10 × 4 × 100 mm) and a fulcrum distance of 64 mm.
(3) Tensile strength: For a 200 μm extruded film, the tensile strength is measured and the mechanical properties are evaluated.
[2] Antistatic properties [Conforms to ASTM D257 (1984)]
(1) Surface specific resistance value: An injection molded product, and a film (100 × 100 mm) cut from an extruded film having a thickness of 10 μm and a thickness of 200 μm and a biaxially stretched film having a thickness of 20 μm are used as the test piece. For 24 hours under conditions of 23 ° C. and humidity 50% RH, followed by super insulation meter [manufactured by Advantest Corporation, the same shall apply hereinafter. ] Under the same conditions.
(2) Surface specific resistance value after washing with water After washing a test piece similar to that in (1) with 100 ml of ion exchange water at 23 ° C. at a flow rate of 100 ml / min. Dry at 80 ° C. for 3 hours. After the operation of washing with water and drying was repeated 10 times, the test piece was allowed to stand for 48 hours under the conditions of 23 ° C. and humidity 50% RH, and then measured with a superinsulator in an atmosphere of the same conditions.
(3) Volume resistivity: Measured by the same method using a test piece similar to the surface resistivity [based on ASTM D257].
[3] Compatibility About the resin composition, a capillograph [1B type manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd.] is used, and 230 ° C. when A-1, A-3, A-6, A-8, A-10 is used. When using A-2, A-9, the capillary temperature is 220 ° C., when using A-4, A-7, 200 ° C., when using A-5, 160 ° C., and at a shear rate of 10 3 s −1. The resin extruded from the 1 mm diameter and 10 mm length) is taken out and rapidly cooled to room temperature. The dispersion state on the surface of the resin composition is observed with a scanning electron microscope, the number average particle diameter of (B) is calculated by the above-described method, and the compatibility between (A) and (B) is evaluated.
[4] Transparency [conforms to JIS K7105-1981]
Transparency is evaluated by measuring haze for the injection molded products of Examples 22 to 25, Comparative Examples 4 and 5, and extruded films having thicknesses of 10 μm and 200 μm.

Figure 2005097598
Figure 2005097598

表３から明らかなように、本発明の樹脂組成物または該樹脂組成物を成形してなる成形品（実施例１〜２７）は、比較の樹脂組成物または該樹脂組成物を成形してなる成形品（比較例１〜６）と比較して、機械特性、帯電防止性、相溶性および透明性すべてにおいて優れている。
また、本発明の樹脂組成物は、異なる成形法（射出成形、押出フィルム成形および二軸延伸フィルム成形）で成形しても、いずれも良好な帯電防止性を発現する表面固有抵抗値を示す。
また、本発明の成形品の帯電防止性は、水洗しても表面固有抵抗値にほとんど変化はなく、半永久的に効果が持続することがわかる。
さらに、本発明の樹脂組成物にアルカリ金属塩または界面活性剤を添加した場合に得られる成形品は、特に優れた性能（永久帯電防止性を発現する表面固有抵抗値）を発揮することがわかる。 As is apparent from Table 3, the resin composition of the present invention or a molded product formed by molding the resin composition (Examples 1 to 27) is formed by molding a comparative resin composition or the resin composition. Compared with molded articles (Comparative Examples 1 to 6), they are excellent in all of mechanical properties, antistatic properties, compatibility and transparency.
Moreover, even if the resin composition of the present invention is molded by different molding methods (injection molding, extrusion film molding, and biaxially stretched film molding), the resin composition exhibits a surface specific resistance value that exhibits good antistatic properties.
In addition, it can be seen that the antistatic property of the molded article of the present invention has almost no change in the surface resistivity even when washed with water, and the effect is maintained semipermanently.
Furthermore, it can be seen that the molded product obtained when an alkali metal salt or a surfactant is added to the resin composition of the present invention exhibits particularly excellent performance (surface specific resistance value that exhibits permanent antistatic properties). .

本発明の帯電防止性樹脂組成物は、帯電防止剤の分散性に優れ、該組成物を成形してなる成形品は、帯電防止性、透明性および機械強度に優れることから、家電（プロジェクションテレビの枠等）・ＯＡ機器、ゲーム機器および事務機器等用のハウジング材、ＩＣトレー等の各種プラスチック容器材、各種フィルム等の包装材、保護フィルム等の被覆材、人工芝、マットおよびシート等の床材、半導体製造プロセス用等のテープ材等、帯電防止性を必要とする各種材料として極めて有用である。   The antistatic resin composition of the present invention is excellent in dispersibility of an antistatic agent, and a molded product obtained by molding the composition is excellent in antistatic property, transparency and mechanical strength.・ Housing materials for OA equipment, game equipment and office equipment, various plastic container materials such as IC trays, packaging materials such as various films, covering materials such as protective films, artificial grass, mats and sheets, etc. It is extremely useful as various materials that require antistatic properties, such as flooring materials and tape materials for semiconductor manufacturing processes.

Claims (18)

熱可塑性樹脂（Ａ）と、（Ａ）との屈折率差が０．０２以下である親水性鎖を有する帯電防止剤（Ｂ）からなる帯電防止性樹脂組成物。 An antistatic resin composition comprising an antistatic agent (B) having a hydrophilic chain having a refractive index difference between the thermoplastic resin (A) and (A) of 0.02 or less. （Ｂ）が、下記の（Ｂ１）および（Ｂ２）からなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項１記載の帯電防止性樹脂組成物。
（Ｂ１）：数平均分子量２００〜５，０００のポリアミド（ｂ１１）と数平均分子量３００〜５，０００のビスフェノールのアルキレンオキシド付加物（ｂ１２）とから誘導されるポリエーテルエステルアミド
（Ｂ２）：ポリオレフィン（ｂ２１）のブロックと、体積固有抵抗値が１×１０5〜１×１０11Ω・ｃｍの親水性ポリマー（ｂ２２）のブロックとがエステル結合、アミド結合、エーテル結合、イミド結合およびウレタン結合からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合を介して繰り返し交互に結合した構造を有するブロックポリマー The antistatic resin composition according to claim 1, wherein (B) is at least one selected from the group consisting of the following (B1) and (B2).
(B1): Polyether ester amide derived from polyamide (b11) having a number average molecular weight of 200 to 5,000 and an alkylene oxide adduct (b12) of bisphenol having a number average molecular weight of 300 to 5,000 (B2): Polyolefin The block of (b21) and the block of the hydrophilic polymer (b22) having a volume resistivity of 1 × 10 5 to 1 × 10 11 Ω · cm are composed of ester bond, amide bond, ether bond, imide bond and urethane bond. A block polymer having a structure in which they are alternately and repeatedly bonded via at least one bond selected from the group consisting of （Ａ）と（Ｂ）との屈折率差が０．００５以下である請求項１または２記載の組成物。 The composition according to claim 1 or 2, wherein the difference in refractive index between (A) and (B) is 0.005 or less. （Ａ）が１．４８０〜１．５５０の屈折率を有する請求項１〜３のいずれか記載の組成物。 The composition according to claim 1, wherein (A) has a refractive index of 1.480 to 1.550. （Ｂ１）が１．５２０〜１．５４０および／または（Ｂ２）が１．４９８〜１．５１５の屈折率を有する請求項２〜４のいずれか記載の組成物。 The composition according to any one of claims 2 to 4, wherein (B1) has a refractive index of 1.520 to 1.540 and / or (B2) has a refractive index of 1.498 to 1.515. （Ａ）が、ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂およびポリカーボネート樹脂からなる群から選ばれる１種または２種以上の熱可塑性樹脂である請求項１〜５のいずれか記載の組成物。 The composition according to any one of claims 1 to 5, wherein (A) is one or more thermoplastic resins selected from the group consisting of vinyl resins, polyester resins, polyamide resins and polycarbonate resins. （Ａ）と（Ｂ）の重量比が９９／１〜５０／５０である請求項１〜６のいずれか記載の組成物。 The composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the weight ratio of (A) to (B) is 99/1 to 50/50. さらに、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の塩、界面活性剤、相溶化剤およびその他の樹脂用添加剤からなる群から選ばれる少なくとも１種の添加剤（Ｃ）を含有させてなる請求項１〜７のいずれか記載の組成物。 Furthermore, at least one additive (C) selected from the group consisting of an alkali metal or alkaline earth metal salt, a surfactant, a compatibilizing agent and other additives for resin is contained. 8. The composition according to any one of 7 above. （Ａ）が４５〜９９重量％および（Ｂ）が０．５〜５０重量％含有されてなる請求項１〜８のいずれか記載の組成物。 The composition according to any one of claims 1 to 8, wherein (A) is contained in an amount of 45 to 99% by weight and (B) is contained in an amount of 0.5 to 50% by weight. 剪断速度１０3ｓ-1でキャピラリーから押し出された組成物の表面を走査型電子顕微鏡で観察した（Ｂ）が０．０５〜１μｍの数平均粒子径を有する請求項１〜９のいずれか記載の組成物。 The surface of the composition extruded from the capillary at a shear rate of 10 3 s -1 is observed with a scanning electron microscope, and (B) has a number average particle diameter of 0.05 to 1 µm. Composition. 請求項１〜１０のいずれか記載の組成物用である、下記の（Ｂ１）および（Ｂ２）からなる群から選ばれる少なくとも１種の帯電防止剤（Ｂ）。
（Ｂ１）：数平均分子量２００〜５，０００のポリアミド（ｂ１１）と数平均分子量３００〜５，０００のビスフェノールのアルキレンオキシド付加物（ｂ１２）とから誘導されるポリエーテルエステルアミド
（Ｂ２）：ポリオレフィン（ｂ２１）のブロックと、体積固有抵抗値が１×１０5〜１×１０11Ω・ｃｍの親水性ポリマー（ｂ２２）のブロックとがエステル結合、アミド結合、エーテル結合、イミド結合およびウレタン結合からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合を介して繰り返し交互に結合した構造を有するブロックポリマー At least one antistatic agent (B) selected from the group consisting of the following (B1) and (B2), which is for the composition according to any one of claims 1 to 10.
(B1): Polyether ester amide derived from polyamide (b11) having a number average molecular weight of 200 to 5,000 and an alkylene oxide adduct (b12) of bisphenol having a number average molecular weight of 300 to 5,000 (B2): Polyolefin The block of (b21) and the block of the hydrophilic polymer (b22) having a volume resistivity of 1 × 10 5 to 1 × 10 11 Ω · cm are composed of ester bond, amide bond, ether bond, imide bond and urethane bond. A block polymer having a structure in which they are alternately and repeatedly bonded via at least one bond selected from the group consisting of 請求項１〜１０のいずれか記載の組成物を成形してなる帯電防止性樹脂成形品。 The antistatic resin molded product formed by shape | molding the composition in any one of Claims 1-10. ヘーズが２０％以下である請求項１２記載の成形品。 The molded product according to claim 12, wherein the haze is 20% or less. ヘーズが０〜１０％である請求項１２または１３記載の成形品。 The molded article according to claim 12 or 13, wherein the haze is 0 to 10%. 成形品がフィルムである請求項１２〜１４のいずれか記載の成形品。 The molded article according to any one of claims 12 to 14, wherein the molded article is a film. 請求項１５記載のフィルムと、熱可塑性樹脂（Ａ）からなる基層フィルムを積層してなる多層フィルム。 The multilayer film formed by laminating | stacking the film of Claim 15, and the base layer film which consists of a thermoplastic resin (A). 請求項１２〜１６のいずれか記載の成形品もしくは多層フィルムに塗装および／または印刷を施してなる成形物品。 A molded article obtained by coating and / or printing the molded article or multilayer film according to any one of claims 12 to 16. 請求項１２〜１６のいずれか記載の成形品もしくは多層フィルム、または請求項１７記載の成形物品からなる、ハウジング材、容器材、包装材、被覆材、床材またはテープ材。 A housing material, a container material, a packaging material, a covering material, a floor material, or a tape material comprising the molded article or multilayer film according to any one of claims 12 to 16, or the molded article according to claim 17.
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