JP2005078034A - 無機配向膜の形成方法、無機配向膜、電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】均一な膜厚の無機配向膜をより簡便に形成する方法、かかる方法により形成された無機配向膜、電子デバイス用基板、信頼性の高い液晶パネルおよび電子機器を提供する。
【解決手段】基材１００上に、主として無機酸化物で構成される無機配向膜３Ａを形成する無機配向膜の形成方法であり、基材上に、無機酸化物前駆体と界面活性剤とを含む溶液を塗布して、塗膜を形成する第１の工程と、この塗膜を焼成することにより、無機酸化物前駆体を無機酸化物に変化させて、無機配向膜を得る第２の工程とを有することを特徴とする。かかる方法では、溶液の組成、濃度、成膜条件、焼成条件等を適宜設定し、無機配向膜を複数の細孔３０を有する構造（多孔質構造）とするのが好ましい。
【選択図】図２

Description

本発明は、無機配向膜の形成方法、無機配向膜、電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器に関するものである。

スクリーン上に画像を投影する投射型表示装置が知られている。この投射型表示装置では、その画像形成に主として液晶パネルが用いられている。
このような液晶パネルは、通常、液晶分子を一定方向に配向させるため、所定のプレチルト角が発現するように設定された配向膜を有している。これらの配向膜を製造するには、基板上に成膜されたポリイミド等の高分子化合物からなる薄膜を、レーヨン等の布で一方向に擦るラビング処理する方法等が知られている（例えば、特許文献１参照。）。

しかしながら、ポリイミド等の高分子化合物で構成された配向膜は、使用環境、使用時間等により、光劣化を生じることがあった。このような光劣化が起こると、配向膜、液晶層等の構成材料が分解し、その分解生成物が液晶の性能等に悪影響を及ぼすことがある。また、このラビング処理では静電気や埃が発生し、それにより信頼性等が低下するといった問題がある。
また、かかる問題点を解決し得る配向膜として、斜方蒸着法により形成した無機配向膜も開示されている（例えば、特許文献２参照。）。
ところが、斜方蒸着法による無機配向膜の形成では、大型の装置を必要とするとともに、均一な膜厚のものを得ることが極めて困難であるという問題がある。

特開平１０−１６１１３３号公報 特開２００３−１８６０１８号公報

本発明の目的は、均一な膜厚の無機配向膜をより簡便に形成し得る無機配向膜の形成方法、かかる無機配向膜の形成方法により形成された無機配向膜を提供すること、また、各種電子デバイスの構築に有用な電子デバイス用基板、信頼性の高い液晶パネルおよび電子機器を提供することにある。

このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の無機配向膜の形成方法は、基材上に、主として無機酸化物で構成される無機配向膜を形成する無機配向膜の形成方法であって、
前記基材上に、無機酸化物前駆体と界面活性剤とを含む溶液を塗布して、塗膜を形成する第１の工程と、
前記塗膜を焼成することにより、前記無機酸化物前駆体を前記無機酸化物に変化させて、前記無機配向膜を得る第２の工程とを有することを特徴とする。
これにより、均一な膜厚の無機配向膜を簡便に形成することができる。

本発明の無機配向膜の形成方法では、前記溶液中の前記無機酸化物前駆体の含有量は、１０〜５０ｗｔ％であることが好ましい。
これにより、より均一な膜厚の無機配向膜を形成することができる。
本発明の無機配向膜の形成方法では、前記界面活性剤は、前記第２の工程における前記塗膜の焼成の際に、その少なくとも一部が消失することが好ましい。
これにより、界面活性剤を除去する工程を省略することができ、製造工程の簡略化を図ることができる。

本発明の無機配向膜の形成方法では、前記溶液中の前記界面活性剤の含有量は、臨界ミセル濃度以下であることが好ましい。
これにより、溶液中でミセルが形成されることを防止しつつ、塗膜形成後には、比較的早期にミセル形成を生じさせることができる。
本発明の無機配向膜の形成方法では、前記第１の工程における塗布は、スピンコート法により行われることが好ましい。
スピンコート法によれば、均一な厚さの塗膜を、より容易かつ確実に形成することができる。

本発明の無機配向膜の形成方法では、前記第２の工程における焼成は、減圧状態で行われることが好ましい。
これにより、無機酸化物前駆体の反応や界面活性剤の除去等を促進させることができる。
本発明の無機配向膜の形成方法では、前記無機配向膜は、複数の細孔を有する構造をなしていることが好ましい。
これにより、例えば、液晶パネルに適用した場合には、液晶分子の配向制御を正確におこなうことができる。

本発明の無機配向膜の形成方法では、複数の前記細孔の軸は、ほぼ等しい方向を向いていることが好ましい。
これにより、例えば、液晶パネルに適用した場合には、液晶分子の配向制御を正確におこなうことができる。
本発明の無機配向膜の形成方法では、前記細孔の軸は、前記基材の前記無機配向膜が形成された面に対して、ほぼ垂直となっていることが好ましい。
かかる無機配向膜は、例えば、ＶＡ（Vertical Alignment）型の液晶パネルの構築に有用である。

本発明の無機配向膜の形成方法では、前記細孔の開口面積（平均）は、１０〜８０００ｎｍ^２であることが好ましい。
これにより、液晶分子の配向制御をより容易かつ確実に行うことができる。
本発明の無機配向膜の形成方法では、前記無機酸化物は、シリコン酸化物であることが好ましい。
シリコン酸化物は、誘電率が特に低く、かつ、高い光安定性を有する。

本発明の無機配向膜は、本発明の無機配向膜の形成方法により形成することを特徴とする。
これにより、耐光性に優れた配向膜を提供することができる。
本発明の電子デバイス用基板は、基板上に、電極と、本発明の無機配向膜とを備えることを特徴とする。
これにより、耐光性に優れた電子デバイス用基板を提供することができる。

本発明の液晶パネルは、本発明の無機配向膜と、液晶層とを備えることを特徴とする。
これにより、耐光性に優れた液晶パネルを提供することができる。
本発明の液晶パネルは、本発明の無機配向膜を一対備え、
一対の前記無機配向膜の間に、液晶層を備えることを特徴とする。
これにより、耐光性に優れた液晶パネルを提供することができる。
本発明の電子機器は、本発明の液晶パネルを備えることを特徴とする。
これにより、信頼性の高い電子機器を提供することができる。
本発明の電子機器は、本発明の液晶パネルを備えたライトバルブを有し、該ライトバルブを少なくとも１個用いて画像を投射することを特徴とする。
これにより、信頼性の高い電子機器を提供することができる。

本発明の電子機器は、画像を形成する赤色、緑色および青色に対応した３つのライトバルブと、光源と、該光源からの光を赤色、緑色および青色の光に分離し、前記各光を対応する前記ライトバルブに導く色分離光学系と、前記各画像を合成する色合成光学系と、前記合成された画像を投射する投射光学系とを有する電子機器であって、
前記ライトバルブは、本発明の液晶パネルを備えることを特徴とする。
これにより、信頼性の高い電子機器を提供することができる。

以下、本発明の無機配向膜の形成方法、無機配向膜、電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器について、添付図面を参照しつつ詳細に説明する。
まず、本発明の無機配向膜の形成方法を説明する前に、本発明の液晶パネルについて説明する。
図１は、本発明の液晶パネルの第１実施形態を模式的に示す縦断面図、図２は、図１に示す液晶パネルが備える無機配向膜の構成を模式的に示す斜視図である。なお、図１では、シール材、配線等の記載は省略した。また、以下の説明では、図１中の上側を「上」、下側を「下」と言う。

図１に示すように、液晶パネル１Ａは、液晶層２と、無機配向膜３Ａ、４Ａと、透明導電膜５、６と、偏光膜７Ａ、８Ａと、基板９、１０とを有している。
このような構成において、基板９、透明導電膜５（電極）および無機配向膜３Ａにより、また、基板１０、透明導電膜６（電極）および無機配向膜４Ａにより、それぞれ、本発明の電子デバイス用基板が構成されている。

液晶層２は、主として液晶分子で構成されている。
液晶分子としては、例えば、フェニルシクロヘキサン誘導体、ビフェニル誘導体、ビフェニルシクロヘキサン誘導体、テルフェニル誘導体、フェニルエーテル誘導体、フェニルエステル誘導体、ビシクロヘキサン誘導体、アゾメチン誘導体、アゾキシ誘導体、ピリミジン誘導体、ジオキサン誘導体、キュバン誘導体、さらに、これらの誘導体に、モノフルオロ基、ジフルオロ基、トリフルオロ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基などのフッ素系置換基を導入したもの等が挙げられる。

このような液晶分子は、構築する液晶パネル１の種類に応じて、適宜選択される。
液晶層２の両面には、無機配向膜３Ａ、４Ａが配置されている。
また、無機配向膜３Ａは、後述するような透明導電膜５と基板９とからなる基材１００上に形成されており、無機配向膜４Ａは、後述するような透明導電膜６と基板１０とからなる基材１０１上に形成されている。
無機配向膜３Ａ、４Ａは、液晶層２を構成する液晶分子の（電圧無印加時における）配向状態を規制する機能を有している。
このような無機配向膜３Ａ、４Ａは、後述するような方法（本発明の無機配向膜の形成方法）により形成されるものである。

無機配向膜３Ａ、４Ａは、いずれも同様の構成であるため、以下では、無機配向膜３Ａを代表にして説明する。
本実施形態では、無機配向膜３Ａは、図２に示すように、複数の細孔３０を有する構成をなし、各細孔３０の軸は、基材１００の上面（無機配向膜３Ａが形成される面）に対して、ほぼ垂直となるように一軸配向している。

ここで、各細孔３０の軸が一軸配向しているとは、大多数の細孔３０の軸がほぼ等しい方向を向いていること（細孔３０の軸の平均的な方向が制御されていること）をいい、複数の細孔３０の中には、軸の方向が大多数のものと異なる方向を向いた細孔３０が含まれていてもよい。
なお、このような無機配向膜３Ａの表面を、例えばＸ線回折等により分析すると、細孔３０の配向分布が特定の方向で極大値を示すような結果が得られる。

細孔３０の平面形状は、例えば図２（Ａ）に示すようなヘキサゴナル形状、図２（Ｂ）に示すような菱形形状等をなしており、各細孔３０は、規則的に配列している。これにより、無機配向膜３Ａは、全体としてハニカム形状をなし、高い構造規則性を有している。
このような構成により、液晶層２を構成する液晶分子は、その長軸方向を各細孔３０の軸とほぼ平行となるように配向、すなわち、垂直配向（ホメオトロピック配向）し易くなる。したがって、このような構成の無機配向膜３Ａは、ＶＡ（Vertical Alignment）型の液晶パネルの構築に有用である。

また、無機配向膜３Ａが高い構造規則性を有することから、液晶分子の配向方向もより正確に一定方向（垂直方向）に揃うようになる。その結果、液晶パネル１の性能（特性）の向上を図ることができる。
細孔３０の開口面積（平均）は、特に限定されないが、１０〜８０００ｎｍ^２であるのが好ましく、１００〜５０００ｎｍ^２であるのがより好ましい。これにより、液晶分子の配向制御をより容易かつ確実に行うことができる。

このような無機配向膜３Ａは、主として無機酸化物で構成されている。一般に、無機材料は、有機材料に比べて、優れた化学的安定性（光安定性）を有している。このため、配向膜を無機材料（無機酸化物）で構成した配向膜は、従来のような有機材料で構成された配向膜に比べ、特に優れた耐光性を有するものとなる。
また、無機酸化物の誘電率は、比較的低い誘電率であるものが好ましい。これにより、液晶パネル１において画像の焼き付き等をより効果的に防止することができる。

このような無機酸化物としては、例えば、ＳｉＯ_２やＳｉＯ等のシリコン酸化物、ＭｇＯ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができるが、特に、シリコン酸化物が好ましい。シリコン酸化物は、誘電率が特に低く、かつ、高い光安定性を有する。
また、無機配向膜３Ａの平均厚さは、０．０２〜０．３μｍであるのが好ましく、０．０２〜０．０８μｍであるのがより好ましい。無機配向膜３Ａの厚さが薄過ぎると、液晶分子が直接、透明導電膜５、６に接触し、ショートするおそれがある。一方、無機配向膜３Ａの厚さが厚過ぎると、液晶パネル１の駆動電圧が高くなり、消費電力が大きくなる可能性がある。
このような無機配向膜３Ａの外表面（図１中上面）側には、透明導電膜５が配置されている。同様に、無機配向膜４Ａの外表面（図１中下面）側には、透明導電膜６が配置されている。

透明導電膜５、６は、これらの間で通電を行うことにより、液晶層２の液晶分子を駆動する（配向を変化させる）機能を有する。
透明導電膜５、６間での通電の制御は、透明導電膜５、６に接続された制御回路（図示せず）から供給する電流を制御することにより行われる。
透明導電膜５、６は、導電性を有しており、例えば、インジウムティンオキサイド（ＩＴＯ）、インジウムオキサイド（ＩＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ_２）等で構成されている。

透明導電膜５の外表面（図１中上面）側には、基板９が配置されている。同様に、透明導電膜６の外表面（図１中下面）側には、基板１０が配置されている。
基板９、１０は、前述した液晶層２、無機配向膜３Ａ、４Ａ、透明導電膜５、６、および後述する偏光膜７Ａ、８Ａを支持する機能を有している。
基板９、１０の構成材料としては、例えば、石英ガラスのような各種ガラス材料、ポリエチレンテレフタレートのような各種プラスチック材料等が挙げられるが、これらの中でも、特に、各種ガラス材料が好ましい。これにより、そり、たわみ等の生じにくい、より安定性に優れた液晶パネル１を得ることができる。

基板９の外表面（図１中上面）側には、偏光膜（偏光板、偏光フィルム）７Ａが配置されている。同様に、基板１０の外表面（図１中下面）側には、偏光膜（偏光板、偏光フィルム）８Ａが配置されている。
偏光膜７Ａ、８Ａの構成材料としては、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）等が挙げられる。また、偏光膜としては、前記材料にヨウ素をドープしたもの等を用いてもよい。

偏光膜としては、例えば、上記材料で構成された膜を一軸方向に延伸したものを用いることができる。
このような偏光膜７Ａ、８Ａを配置することにより、通電量の調節による光の透過率の制御をより確実に行うことができる。
偏光膜７Ａ、８Ａの偏光軸の方向は、通常、無機配向膜３Ａ、４Ａの配向方向（実施形態では、電圧印加時）に応じて決定される。

次に、本発明の無機配向膜の形成方法について説明する。
本発明の無機配向膜の形成方法は、基材１００上に、無機酸化物前駆体と界面活性剤とを含む溶液を塗布して、塗膜を形成する第１の工程［１］と、塗膜を焼成（加熱・乾燥）することにより、無機化合物前駆体を無機化合物に変化させて、無機配向膜３Ａを得る第２の工程［２］とを有している。

かかる方法により、前述したような構成（構造）の無機配向膜３Ａが形成される原理は、次のようなものである。
すなわち、まず、工程［１］の後、基材１００上に形成された塗膜中では、溶媒の蒸発に伴い、界面活性剤の濃度が臨界ミセル濃度を超え、界面活性剤のミセル形成（自己集合）が始まる。

このとき、用いる界面活性剤の種類を選択しておくことにより、基材１００の無機配向膜３Ａを形成する面に対して、ほぼ垂直に柱状（ロッド状）のミセルが形成される。そして、このミセルと無機酸化物前駆体や無機酸化物中間体との自己組織化が生じ、これらの集合物がミセルの表面に形成される。換言すれば、基材１００上に、ミセルを鋳型として、無機酸化物前駆体や無機酸化物中間体の集合物が形成される。
なお、この状態では、無機酸化物前駆体の反応は、未だ進行していないために半固体状態となっている。そこで、次工程［２］において、塗膜に焼成を施すことにより、無機酸化物前駆体の反応を進行させ、固化（硬化）させる。

次に、工程［２］において、塗膜を焼成すると、無機酸化物前駆体の反応（例えば、加水分解反応、重合反応、縮合反応等）により、無機酸化物前駆体が無機酸化物に変化するとともに、界面活性剤の一部または全部が消失して、複数の細孔３０を有する構造（多孔質構造）の無機配向膜３Ａが得られる。
以下、各工程［１］、［２］毎に、それぞれ説明する。

［１］塗膜の形成工程（第１の工程）
塗膜の形成に用いられる溶液（塗布液）は、無機酸化物前駆体と界面活性剤とを、溶媒に溶解してなるものである。
無機酸化物前駆体としては、目的とする無機酸化物の種類に応じて適宜選択され、特に限定されないが、例えば、メトキシド、エトキシド、プロポキシド、イソプロポキシド、ブトキシドのようなアルコキシド、ギ酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、硝酸塩のような有機酸または無機酸の塩、ハロゲン化物、またはこれらの水和物等を用いることができる。
また、これらの化合物は、α−またはβ−ジケトン類、α−またはβ−ケト酸類、α−またはβ−アミノアルコール等とキレート形成しているものであってもよい。

なお、目的とする無機酸化物がシリコン酸化物の場合、無機酸化物前駆体としては、エトキシテトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）やテトラメトキシシランが好適である。
溶液中の無機酸化物前駆体の含有量（濃度）は、特に限定されないが、１０〜５０ｗｔ％であるのが好ましく、２０〜４０ｗｔ％であるのがより好ましい。無機酸化物前駆体の含有量が少な過ぎると、十分な膜厚の無機配向膜３Ａを得ることが困難となり、その強度が低下するおそれがある。一方、無機酸化物前駆体の含有量が多過ぎると、溶液の粘度が上昇し、均一な膜厚の塗膜の形成が困難となるおそれがある。

界面活性剤としては、非イオン性（ノニオン性）界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両イオン性界面活性剤のいずれも使用可能であるが、特に、非イオン性界面活性剤が好適である。非イオン性界面活性剤は、前述した無機酸化物前駆体との反応性が低いことから好ましい。
また、界面活性剤は、次工程［２］の焼成により、比較的容易に消失するようなものであるのが好ましい。これにより、界面活性剤を除去する工程を省略することができ、製造工程の簡略化を図ることができる。

このようなことから、界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルのようなポリエチレングリコール系界面活性剤（非イオン性界面活性剤）が好適である。
溶液中の界面活性剤の含有量（濃度）は、臨界ミセル濃度以下であるのが好ましく、臨界ミセル濃度の８０％〜９０％であるのがより好ましい。界面活性剤の含有量を前記範囲とすることにより、溶液中でミセルが形成されることを防止しつつ、塗膜形成後には、比較的早期にミセル形成を生じさせることができる。

なお、界面活性剤の種類（特に、分子鎖長）を選択することにより、細孔３０のサイズ（開口面積等）を適宜設定することができる。
また、前記溶液中には、無機酸化物前駆体の反応を促進するために、触媒を添加することが好ましい。
この触媒には、例えば、塩酸、硝酸、ホウ酸のような鉱酸（無機酸）、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸のような有機酸等の酸触媒、トリエタールアミン、トリエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、アンモニア、ホスフィン等の塩基触媒等を用いることができる。

なお、形成されるミセルのサイズを大きくするために、前記溶液中には、必要に応じて、メシチレンのような添加物を添加することもできる。
用いる溶媒としては、媒質との反応性に乏しく、かつ、これを溶解可能なものであれば、いかなるものも使用可能である。
溶媒の具体例としては、例えば、水、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノールのようなアルコール類、エチレングリコール、トリメチレングリコールのようなグリコール類、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、アセチルアセトン、イソホロンのようなケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸ベンジルのようなエステル類、メトキシエタノール、エトキシエタノールのようなエーテルアルコール類、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドのような酸アミド類、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類等が挙げられ、これを単独または混合溶媒として用いることができる。

このような溶液を基材１００上に塗布する方法としては、例えば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、ペンリソグラフィー法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェット印刷法等の各種塗布法を用いることができるが、これらの中でも、スピンコート法を用いるのが好ましい。
スピンコート法によれば、均一な厚さの塗膜を、より容易かつ確実に形成することができる。また、基材１００の回転速度を変化させるという簡単な方法で、塗膜の厚さの制御を行うことができるという利点もある。

［２］ 塗膜の焼成工程（第２の工程）
塗膜の焼成は、例えば焼成炉内で、塗膜が形成された基材１００を焼成することにより行われる。
この焼成は、焼成炉内を減圧とした状態（減圧状態）で行うのが好ましい。これにより、無機酸化物前駆体の反応や界面活性剤の除去等を促進させることができる。

減圧の程度、すなわち、焼成炉内（焼成雰囲気）の圧力は、１Ｐａ以下であるのが好ましく、５×１０^−１Ｐａ以下であるのがより好ましい。これにより、前記効果をより向上させることができる。
焼成の温度（焼成温度）は、無機酸化物前駆体の種類等によっても若干異なり、特に限定されないが、３００℃以下であるのが好ましく、２００℃以下であるのがより好ましく、１００〜２００℃であるのがさらに好ましい。焼成温度が低過ぎると、無機酸化物の反応が効率よく進行しないおそれがある。一方、焼成温度が高過ぎると、得られる無機配向膜３Ａのメソポーラス構造の破壊、基材１００の変形等が生じるおそれがある。

また、焼成の時間（焼成時間）も、特に限定されないが、前記焼成温度で焼成を行う場合、１〜１８０分であるのが好ましく、３０〜１２０分であるのがより好ましい。これにより、無機酸化物前駆体の反応を十分に進行させることができる。
このようにして得られた無機配向膜３Ａの細孔３０内には、界面活性剤の一部が残っていてもよい。

なお、細孔３０内に界面活性剤が残存した場合には、例えば、紫外光照射による酸化分解、オゾン水による酸化分解、溶剤による抽出、超臨界状態の流体による抽出等の処理により、残存する界面活性剤をほぼ完全に除去することもできる。
以上のような本発明の無機配向膜の形成方法では、塗膜の形成に用いる溶液（塗布液）の組成、濃度等、塗膜の焼成時の各種条件を適宜設定することにより、所望の形状（構成）の無機配向膜３Ａを得ることができる。

また、本発明の無機配向膜の形成方法によれば、蒸着装置やスパッタ装置のような大掛かりな設備を必要とせず、極めて容易に無機配向膜３Ａを形成することができる。これにより、無機配向膜３Ａの形成に要する時間やコストの低減を図ることができる。
また、本発明の無機配向膜の形成方法によれば、均一な膜厚の無機配向膜３Ａを簡便に得ることができる。
以上、無機配向膜３Ａを形成する場合について説明したが、無機配向膜４Ａを形成する場合についても同様である。

次に、本発明の液晶パネルの第２実施形態について説明する。
図３は、本発明の液晶パネルの第２実施形態を模式的に示す縦断面図である。なお、図３では、シール材、配線等の記載は省略した。また、以下の説明では、図３中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
以下、図３に示す液晶パネル１Ｂについて、前記第１実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。

図３に示すように、液晶パネル（ＴＦＴ液晶パネル）１Ｂは、ＴＦＴ基板（液晶駆動基板）１７と、ＴＦＴ基板１７に接合された無機配向膜３Ｂと、液晶パネル用対向基板１２と、液晶パネル用対向基板１２に接合された無機配向膜４Ｂと、無機配向膜３Ｂと無機配向膜４Ｂとの空隙に封入された液晶よりなる液晶層２と、ＴＦＴ基板（液晶駆動基板）１７の外表面（上面）側に接合された偏光膜７Ｂと、液晶パネル用対向基板１２の外表面（下面）側に接合された偏光膜８Ｂとを有している。

このような構成において、ＴＦＴ基板１７と無機配向膜３Ｂとにより、また、液晶パネル用対向基板１２と無機配向膜４Ｂとにより、それぞれ、本発明の電子デバイス用基板が構成されている。
なお、無機配向膜３Ｂ、４Ｂは、前記第１実施形態で説明した無機配向膜３Ａ、４Ａと同様の方法（本発明の無機配向膜の形成方法）で形成されたものであり、偏光膜７Ｂ、８Ｂは、前記第１実施形態で説明した偏光膜７Ａ、８Ａと同様なものである。

液晶パネル用対向基板１２は、マイクロレンズ基板１１と、かかるマイクロレンズ基板１１の表層１１４上に設けられ、開口１３１が形成されたブラックマトリックス１３と、表層１１４上にブラックマトリックス１３を覆うように設けられた透明導電膜（共通電極）１４とを有している。
マイクロレンズ基板１１は、凹曲面を有する複数（多数）の凹部（マイクロレンズ用凹部）１１２が設けられたマイクロレンズ用凹部付き基板（第１の基板）１１１と、かかるマイクロレンズ用凹部付き基板１１１の凹部１１２が設けられた面に樹脂層（接着剤層）１１５を介して接合された表層（第２の基板）１１４とを有しており、また、樹脂層１１５では、凹部１１２内に充填された樹脂によりマイクロレンズ１１３が形成されている。

マイクロレンズ用凹部付き基板１１１は、平板状の母材（透明基板）より製造され、その表面には、複数（多数）の凹部１１２が形成されている。凹部１１２は、例えば、マスクを用いた、ドライエッチング法、ウェットエッチング法等により形成することができる。
このマイクロレンズ用凹部付き基板１１１は、例えば、ガラス等で構成されている。

前記母材の熱膨張係数は、ガラス基板１７１の熱膨張係数とほぼ等しいもの（例えば両者の熱膨張係数の比が１／１０〜１０程度）であることが好ましい。これにより、得られる液晶パネルでは、温度が変化したときに二者の熱膨張係数が違うことにより生じるそり、たわみ、剥離等が防止される。
かかる観点からは、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１と、ガラス基板１７１とは、同種類の材質で構成されていることが好ましい。これにより、温度変化時の熱膨張係数の相違によるそり、たわみ、剥離等が効果的に防止される。

特に、マイクロレンズ基板１１を高温ポリシリコンのＴＦＴ液晶パネルに用いる場合には、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１は、石英ガラスで構成されていることが好ましい。ＴＦＴ液晶パネルは、液晶駆動基板としてＴＦＴ基板を有している。かかるＴＦＴ基板には、製造時の環境により特性が変化しにくい石英ガラスが好ましく用いられる。このため、これに対応させて、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１を石英ガラスで構成することにより、そり、たわみ等の生じにくい、安定性に優れたＴＦＴ液晶パネルを得ることができる。

マイクロレンズ用凹部付き基板１１１の上面には、凹部１１２を覆う樹脂層（接着剤層）１１５が設けられている。
凹部１１２内には、樹脂層１１５の構成材料が充填されることにより、マイクロレンズ１１３が形成されている。
樹脂層１１５は、例えば、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１の構成材料の屈折率よりも高い屈折率の樹脂（接着剤）で構成することができ、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリルエポキシ系のような紫外線硬化樹脂等で好適に構成することができる。

樹脂層１１５の上面には、平板状の表層１１４が設けられている。
表層（ガラス層）１１４は、例えばガラスで構成することができる。この場合、表層１１４の熱膨張係数は、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１の熱膨張係数とほぼ等しいもの（例えば両者の熱膨張係数の比が１／１０〜１０程度）とすることが好ましい。これにより、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１と表層１１４の熱膨張係数の相違により生じるそり、たわみ、剥離等が防止される。このような効果は、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１と表層１１４とを同種類の材料で構成すると、より効果的に得られる。

表層１１４の厚さは、マイクロレンズ基板１１が液晶パネルに用いられる場合、必要な光学特性を得る観点からは、通常、５〜１０００μｍ程度とされ、より好ましくは１０〜１５０μｍ程度とされる。
なお、表層（バリア層）１１４は、例えばセラミックスで構成することもできる。なお、セラミックスとしては、例えば、ＡｌＮ、ＳｉＮ、ＴｉＮ、ＢＮ等の窒化物系セラミックス、Ａｌ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２等の酸化物系セラミックス、ＷＣ、ＴｉＣ、ＺｒＣ、ＴａＣ等の炭化物系セラミックスなどが挙げられる。表層１１４をセラミックスで構成する場合、表層１１４の厚さは、特に限定されないが、２０ｎｍ〜２０μｍ程度とすることが好ましく、４０ｎｍ〜１μｍ程度とすることがより好ましい。
なお、このような表層１１４は、必要に応じて省略することができる。

ブラックマトリックス１３は、遮光機能を有し、例えば、Ｃｒ、Ａｌ、Ａｌ合金、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｔｉ等の金属、カーボンやチタン等を分散した樹脂等で構成されている。
透明導電膜１４は、導電性を有し、例えば、インジウムティンオキサイド（ＩＴＯ）、インジウムオキサイド（ＩＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ_２）等で構成されている。
ＴＦＴ基板１７は、液晶層２の液晶を駆動する基板であり、ガラス基板１７１と、かかるガラス基板１７１上に設けられ、マトリックス状（行列状）に配設された複数（多数）の画素電極１７２と、各画素電極１７２に対応する複数（多数）の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１７３とを有している。

ガラス基板１７１は、前述したような理由から、石英ガラスで構成されていることが好ましい。
画素電極１７２は、透明導電膜（共通電極）１４との間で充放電を行うことにより、液晶層２の液晶を駆動する。この画素電極１７２は、例えば、前述した透明導電膜１４と同様の材料で構成されている。

薄膜トランジスタ１７３は、近傍の対応する画素電極１７２に接続されている。また、薄膜トランジスタ１７３は、図示しない制御回路に接続され、画素電極１７２へ供給する電流を制御する。これにより、画素電極１７２の充放電が制御される。
無機配向膜３Ｂは、ＴＦＴ基板１７の画素電極１７２と接合しており、無機配向膜４Ｂは、液晶パネル用対向基板１２の透明導電膜１４と接合している。

液晶層２は液晶分子を含有しており、画素電極１７２の充放電に対応して、かかる液晶分子、すなわち液晶の配向が変化する。
このような液晶パネル１Ｂでは、通常、１個のマイクロレンズ１１３と、かかるマイクロレンズ１１３の光軸Ｑに対応したブラックマトリックス１３の１個の開口１３１と、１個の画素電極１７２と、かかる画素電極１７２に接続された１個の薄膜トランジスタ１７３とが、１画素に対応している。

液晶パネル用対向基板１２側から入射した入射光Ｌは、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１を通り、マイクロレンズ１１３を通過する際に集光されつつ、樹脂層１１５、表層１１４、ブラックマトリックス１３の開口１３１、透明導電膜１４、液晶層２、画素電極１７２、ガラス基板１７１を透過する。このとき、マイクロレンズ基板１１の入射側に偏光膜８Ｂが設けられているため、入射光Ｌが液晶層２を透過する際に、入射光Ｌは直線偏光となっている。その際、この入射光Ｌの偏光方向は、液晶層２の液晶分子の配向状態に対応して制御される。したがって、液晶パネル１Ｂを透過した入射光Ｌを偏光膜７Ｂに透過させることにより、出射光の輝度を制御することができる。

このように、液晶パネル１Ｂは、マイクロレンズ１１３を有しており、しかも、マイクロレンズ１１３を通過した入射光Ｌは、集光されてブラックマトリックス１３の開口１３１を通過する。一方、ブラックマトリックス１３の開口１３１が形成されていない部分では、入射光Ｌは遮光される。したがって、液晶パネル１Ｂでは、画素以外の部分から不要光が漏洩することが防止され、かつ、画素部分での入射光Ｌの減衰が抑制される。このため、液晶パネル１Ｂは、画素部で高い光の透過率を有する。

この液晶パネル１Ｂは、例えば、公知の方法により製造されたＴＦＴ基板１７と液晶パネル用対向基板１２とに、それぞれ、無機配向膜３Ｂ、４Ｂを形成し、その後、シール材（図示せず）を介して両者を接合し、次いで、これにより形成された空隙部の封入孔（図示せず）から液晶を空隙部内に注入し、次いで、かかる封入孔を塞ぐことにより製造することができる。

なお、上記液晶パネル１Ｂでは、液晶駆動基板としてＴＦＴ基板を用いたが、液晶駆動基板にＴＦＴ基板以外の他の液晶駆動基板、例えば、ＴＦＤ基板、ＳＴＮ基板などを用いてもよい。
次に、前述したような液晶パネル１Ａを備える本発明の電子機器（液晶表示装置）について、図４〜図６に示す実施形態に基づき、詳細に説明する。

図４は、本発明の電子機器を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
この図において、パーソナルコンピュータ１１００は、キーボード１１０２を備えた本体部１１０４と、表示ユニット１１０６とにより構成され、表示ユニット１１０６は、本体部１１０４に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。
このパーソナルコンピュータ１１００においては、表示ユニット１１０６が、前述の液晶パネル１Ａと、図示しないバックライトとを備えている。バックライトからの光を液晶パネル１Ａに透過させることにより画像（情報）を表示し得るものである。

図５は、本発明の電子機器を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）の構成を示す斜視図である。
この図において、携帯電話機１２００は、複数の操作ボタン１２０２、受話口１２０４および送話口１２０６とともに、前述の液晶パネル１Ａと、図示しないバックライトとを備えている。

図６は、本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。なお、この図には、外部機器との接続についても簡易的に示されている。
ここで、通常のカメラは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ１３００は、被写体の光像をＣＣＤ（Charge Coupled Device）などの撮像素子により光電変換して撮像信号（画像信号）を生成する。

ディジタルスチルカメラ１３００におけるケース（ボディー）１３０２の背面には、前述の液晶パネル１Ａと、図示しないバックライトとが設けられ、ＣＣＤによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、液晶パネル１Ａは、被写体を電子画像として表示するファインダとして機能する。
ケースの内部には、回路基板１３０８が設置されている。この回路基板１３０８は、撮像信号を格納（記憶）し得るメモリが設置されている。

また、ケース１３０２の正面側（図示の構成では裏面側）には、光学レンズ（撮像光学系）やＣＣＤなどを含む受光ユニット１３０４が設けられている。
撮影者が液晶パネル１Ａに表示された被写体像を確認し、シャッタボタン１３０６を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板１３０８のメモリに転送・格納される。

また、このディジタルスチルカメラ１３００においては、ケース１３０２の側面に、ビデオ信号出力端子１３１２と、データ通信用の入出力端子１３１４とが設けられている。そして、図示のように、ビデオ信号出力端子１３１２にはテレビモニタ１４３０が、データ通信用の入出力端子１３１４にはパーソナルコンピュータ１４４０が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、回路基板１３０８のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ１４３０や、パーソナルコンピュータ１４４０に出力される構成になっている。

次に、本発明の電子機器の一例として、上記液晶パネル１Ｂを用いた電子機器（液晶プロジェクター）について説明する。
図７は、本発明の電子機器（投射型表示装置）の光学系を模式的に示す図である。
同図に示すように、投射型表示装置３００は、光源３０１と、複数のインテグレータレンズを備えた照明光学系と、複数のダイクロイックミラー等を備えた色分離光学系（導光光学系）と、赤色に対応した（赤色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレイ）２４と、緑色に対応した（緑色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレイ）２５と、青色に対応した（青色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレイ）２６と、赤色光のみを反射するダイクロイックミラー面２１１および青色光のみを反射するダイクロイックミラー面２１２が形成されたダイクロイックプリズム（色合成光学系）２１と、投射レンズ（投射光学系）２２とを有している。

また、照明光学系は、インテグレータレンズ３０２および３０３を有している。色分離光学系は、ミラー３０４、３０６、３０９、青色光および緑色光を反射する（赤色光のみを透過する）ダイクロイックミラー３０５、緑色光のみを反射するダイクロイックミラー３０７、青色光のみを反射するダイクロイックミラー（または青色光を反射するミラー）３０８、集光レンズ３１０、３１１、３１２、３１３および３１４とを有している。

液晶ライトバルブ２５は、前述した液晶パネル１Ｂを備えている。液晶ライトバルブ２４および２６も、液晶ライトバルブ２５と同様の構成となっている。これら液晶ライトバルブ２４、２５および２６が備えている液晶パネル１Ｂは、図示しない駆動回路にそれぞれ接続されている。
なお、投射型表示装置３００では、ダイクロイックプリズム２１と投射レンズ２２とで、光学ブロック２０が構成されている。また、この光学ブロック２０と、ダイクロイックプリズム２１に対して固定的に設置された液晶ライトバルブ２４、２５および２６とで、表示ユニット２３が構成されている。

以下、投射型表示装置３００の作用を説明する。
光源３０１から出射された白色光（白色光束）は、インテグレータレンズ３０２および３０３を透過する。この白色光の光強度（輝度分布）は、インテグレータレンズ３０２および３０３により均一にされる。光源３０１から出射される白色光は、その光強度が比較的大きいものであるのが好ましい。これにより、スクリーン３２０上に形成される画像をより鮮明なものとすることができる。また、投射型表示装置３００では、耐光性に優れた液晶パネル１Ｂを用いているため、光源３０１から出射される光の強度が大きい場合であっても、優れた長期安定性が得られる。

インテグレータレンズ３０２および３０３を透過した白色光は、ミラー３０４で図７中左側に反射し、その反射光のうちの青色光（Ｂ）および緑色光（Ｇ）は、それぞれダイクロイックミラー３０５で図７中下側に反射し、赤色光（Ｒ）は、ダイクロイックミラー３０５を透過する。
ダイクロイックミラー３０５を透過した赤色光は、ミラー３０６で図７中下側に反射し、その反射光は、集光レンズ３１０により整形され、赤色用の液晶ライトバルブ２４に入射する。

ダイクロイックミラー３０５で反射した青色光および緑色光のうちの緑色光は、ダイクロイックミラー３０７で図７中左側に反射し、青色光は、ダイクロイックミラー３０７を透過する。
ダイクロイックミラー３０７で反射した緑色光は、集光レンズ３１１により整形され、緑色用の液晶ライトバルブ２５に入射する。

また、ダイクロイックミラー３０７を透過した青色光は、ダイクロイックミラー（またはミラー）３０８で図７中左側に反射し、その反射光は、ミラー３０９で図７中上側に反射する。前記青色光は、集光レンズ３１２、３１３および３１４により整形され、青色用の液晶ライトバルブ２６に入射する。
このように、光源３０１から出射された白色光は、色分離光学系により、赤色、緑色および青色の三原色に色分離され、それぞれ、対応する液晶ライトバルブに導かれ、入射する。

この際、液晶ライトバルブ２４が有する液晶パネル１Ｂの各画素（薄膜トランジスタ１７３とこれに接続された画素電極１７２）は、赤色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路（駆動手段）により、スイッチング制御（オン／オフ）、すなわち変調される。
同様に、緑色光および青色光は、それぞれ、液晶ライトバルブ２５および２６に入射し、それぞれの液晶パネル１Ｂで変調され、これにより緑色用の画像および青色用の画像が形成される。この際、液晶ライトバルブ２５が有する液晶パネル１Ｂの各画素は、緑色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路によりスイッチング制御され、液晶ライトバルブ２６が有する液晶パネル１Ｂの各画素は、青色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路によりスイッチング制御される。

これにより赤色光、緑色光および青色光は、それぞれ、液晶ライトバルブ２４、２５および２６で変調され、赤色用の画像、緑色用の画像および青色用の画像がそれぞれ形成される。
前記液晶ライトバルブ２４により形成された赤色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ２４からの赤色光は、面２１３からダイクロイックプリズム２１に入射し、ダイクロイックミラー面２１１で図７中左側に反射し、ダイクロイックミラー面２１２を透過して、出射面２１６から出射する。

また、前記液晶ライトバルブ２５により形成された緑色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ２５からの緑色光は、面２１４からダイクロイックプリズム２１に入射し、ダイクロイックミラー面２１１および２１２をそれぞれ透過して、出射面２１６から出射する。
また、前記液晶ライトバルブ２６により形成された青色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ２６からの青色光は、面２１５からダイクロイックプリズム２１に入射し、ダイクロイックミラー面２１２で図７中左側に反射し、ダイクロイックミラー面２１１を透過して、出射面２１６から出射する。

このように、前記液晶ライトバルブ２４、２５および２６からの各色の光、すなわち液晶ライトバルブ２４、２５および２６により形成された各画像は、ダイクロイックプリズム２１により合成され、これによりカラーの画像が形成される。この画像は、投射レンズ２２により、所定の位置に設置されているスクリーン３２０上に投影（拡大投射）される。

なお、本発明の電子機器は、図４のパーソナルコンピュータ（モバイル型パーソナルコンピュータ）、図５の携帯電話機、図６のディジタルスチルカメラ、図７の投射型表示装置の他にも、例えば、テレビや、ビデオカメラ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳（通信機能付も含む）、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニタ、電子双眼鏡、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器（例えば金融機関のキャッシュディスペンサー、自動券売機）、医療機器（例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電表示装置、超音波診断装置、内視鏡用表示装置）、魚群探知機、各種測定機器、計器類（例えば、車両、航空機、船舶の計器類）、フライトシュミレータなどが挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部、モニタ部として、前述した本発明の液晶パネルが適用可能なことは言うまでもない。

以上、本発明の無機配向膜の形成方法、無機配向膜、電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。
例えば、本発明の無機配向膜の形成方法では、任意の目的の工程が１または２以上追加されてもよい。また、例えば、本発明の電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器では、各部の構成は、同様の機能を発揮する任意の構成のものに置換することができ、また、任意の構成を付加することもできる。

また、前記実施形態では、無機配向膜が有する複数の細孔が、基材の無機配向膜が形成された面に対してほぼ垂直をなす構成のものについて示したが、各細孔は、前記面に対して所定の角度傾斜しているものであってもよく、ほぼ平行となっているものであってもよい。このような構成の無機配向膜は、その形成方法における各種条件（例えば、界面活性剤の種類、成膜条件、焼成条件等）を適宜設定することにより形成することができる。

なお、各細孔が基材の無機配向膜が形成された面に対してほぼ平行となっている構成の無機配向膜は、ＴＮ（Twist Nematic）型の液晶パネルの構築に有用である。また、かかる無機配向膜では、その表面に細孔を形成する壁部が露出し、規則正しいグルーブ形状が形成されるので、かかる無機配向膜を用いることにより、液晶分子にプレチルトを発現させることもできる。
また、前記実施形態では、投射型表示装置（電子機器）は、３個の液晶パネルを有するものであり、これらの全てに本発明の液晶パネルを適用したものについて説明したが、少なくともこれらのうち１個が、本発明の液晶パネルであればよい。この場合、少なくとも、青色用の液晶ライトバルブに用いられる液晶パネルに本発明を適用するのが好ましい。

［液晶パネルの製造］
以下のようにして、図３に示すような液晶パネルを製造した。
（実施例１）
まず、以下のようにして、マイクロレンズ基板を製造した。
厚さ約１．２ｍｍの未加工の石英ガラス基板（透明基板）を母材として用意し、これを８５℃の洗浄液（硫酸と過酸化水素水との混合液）に浸漬して洗浄を行い、その表面を清浄化した。
その後、この石英ガラス基板の表面および裏面に、ＣＶＤ法により、厚さ０．４μｍの多結晶シリコンの膜を形成した。

次に、形成した多結晶シリコン膜に、形成する凹部に対応した開口を形成した。
これは、次のようにして行った。まず、多結晶シリコン膜上に、形成する凹部のパターンを有するレジスト層を形成した。次に、多結晶シリコン膜に対してＣＦガスによるドライエッチングを行ない、開口を形成した。次に、前記レジスト層を除去した。
次に、石英ガラス基板をエッチング液（１０ｗｔ％フッ酸＋１０ｗｔ％グリセリンの混合水溶液）に１２０分間浸漬してウエットエッチング（エッチング温度３０℃）を行い、石英ガラス基板上に凹部を形成した。

その後、石英ガラス基板を、１５ｗｔ％テトラメチル水酸化アンモニウム水溶液に５分間浸漬して、表面および裏面に形成した多結晶シリコン膜を除去することにより、マイクロレンズ用凹部付き基板を得た。
次に、かかるマイクロレンズ用凹部付き基板の凹部が形成された面に、紫外線（ＵＶ）硬化型アクリル系の光学接着剤（屈折率１．６０）を気泡なく塗布し、次いで、かかる光学接着剤に石英ガラス製のカバーガラス（表層）を接合し、次いで、かかる光学接着剤に紫外線を照射して光学接着剤を硬化させ、積層体を得た。
その後、カバーガラスを厚さ５０μｍに研削、研磨して、マイクロレンズ基板を得た。
なお、得られたマイクロレンズ基板では、樹脂層の厚みは１２μｍであった。

以上のようにして得られたマイクロレンズ基板について、スパッタリング法およびフォトリソグラフィー法を用いて、カバーガラスのマイクロレンズに対応した位置に開口が設けられた厚さ０．１６μｍの遮光膜（Ｃｒ膜）、すなわち、ブラックマトリックスを形成した。さらに、ブラックマトリックス上に厚さ０．１５μｍのＩＴＯ膜（透明導電膜）をスパッタリング法により形成し、液晶パネル用対向基板を製造した。

このようにして得られた液晶パネル用対向基板の透明導電膜上に無機配向膜を、以下のようにして形成した。
まず、無機酸化物前駆体としてテトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）、触媒として塩酸および界面活性剤としてポリオキシエチレン（１０）ヘキサデシルエーテル（Ｃ_１６Ｈ_３３（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_１０ＯＨ）を、エタノール／水混合溶媒に混合して、塗布液を調製した。
なお、テトラエトキシシランの含有量は、３５ｗｔ％とし、ポリオキシエチレン（１０）セチルエーテルの含有量は、臨界ミセル濃度の８５％とした。

次に、この塗布液を、液晶パネル用対向基板の透明導電膜上に、スピンコート法により塗布して、塗膜を形成した。
なお、基板の回転速度は、３５００ｒｐｍ、回転時間は、３０秒とした。
次に、塗膜が形成された液晶パネル用対向基板を、焼成炉内に入れて、下記の焼成条件で塗膜を焼成した。これにより、主としてＳｉＯ_２で構成された無機配向膜（平均厚さ：０．０６μｍ）を得た。

焼成条件：焼成炉内の圧力１０^−３Ｐａ、温度１５０℃、時間４５分
無機配向膜の表面の状態をＸ線回折分析した結果、ヘキサゴナル構造の細孔構造を有すること（無機配向膜が図２（Ａ）に示すような構成であること）が確認された。また、細孔の開口面積（平均）は、３００ｎｍ^２であった。
別途、ＴＦＴ基板（石英ガラス製）の表面にも、上記と同様にして、無機配向膜（平均厚さ：０．０５μｍ）を形成した。
無機配向膜が形成された液晶パネル用対向基板と、無機配向膜が形成されたＴＦＴ基板とを、シール材を介して接合した。

次に、無機配向膜−無機配向膜間に形成された空隙部の封入孔から液晶を空隙部内に注入し、次いで、かかる封入孔を塞いだ。形成された液晶層の厚さは、約３μｍであった。
その後、液晶パネル用対向基板の外表面側と、ＴＦＴ基板の外表面側とに、それぞれ、偏光膜を接合することにより、図３に示すような構造のＴＦＴ液晶パネルを製造した。偏光膜としては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）で構成された膜を一軸方向に延伸したものを用いた。

（実施例２）
無機酸化物前駆体としてテトラメトキシシランを用いた以外は、前記実施例１と同様にして液晶パネルを製造した。
（実施例３）
界面活性剤としてポリオキシエチレン（１０）ドデシルエーテル（Ｃ₁₂Ｈ₂₅（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₀ＯＨ）を用いた以外は、前記実施例１と同様にして液晶パネルを製造した。

（実施例４）
界面活性剤としてポリオキシエチレン（１０）テトラデシルエーテル（Ｃ₁₄Ｈ₂₉（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₀ＯＨ）を用いた以外は、前記実施例１と同様にして液晶パネルを製造した。
（実施例５）
界面活性剤としてポリオキシエチレン（１０）ステアリルエーテル（Ｃ₁₈Ｈ₃₇（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₀ＯＨ）を用いた以外は、前記実施例１と同様にして液晶パネルを製造した。
（実施例６）
界面活性剤としてポリオキシエチレン（２０）ヘキサデシルエーテル（Ｃ₁₆Ｈ₃₃（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₂₀ＯＨ）を用いた以外は、前記実施例１と同様にして液晶パネルを製造した。

［評価］
上記各実施例で製造したＴＦＴ液晶パネルを用いて、図７に示すような構造の液晶プロジェクター（電子機器）を組み立て、駆動させたところ、鮮明な投射画像が得られた。
さらに、各液晶プロジェクターを、５０００時間連続駆動させた場合であっても、投射画像に大きな変化は認められなかった。
また、本発明の液晶パネルを備えたパーソナルコンピュータ、携帯電話機、ディジタルスチルカメラを作製して、同様の評価を行ったところ、同様の結果が得られた。

本発明の液晶パネルの第１実施形態を模式的に示す縦断面図である。 図１に示す液晶パネルが備える無機配向膜の構成を模式的に示す斜視図である。 本発明の液晶パネルの第２実施形態を模式的に示す縦断面図である。 本発明の電子機器を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。 本発明の電子機器を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）の構成を示す斜視図である。 本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。 本発明の電子機器を適用した投射型表示装置の光学系を模式的に示す図である。

符号の説明

１Ａ、１Ｂ……液晶パネル ２……液晶層 ３Ａ、３Ｂ……無機配向膜 ３０……細孔 ４Ａ、４Ｂ……無機配向膜 ５……透明導電膜 ６……透明導電膜 ７Ａ、７Ｂ……偏光膜 ８Ａ、８Ｂ……偏光膜 ９……基板 １０……基板 １００……基材 １０１……基材 ２００……電子デバイス用基板 １１……マイクロレンズ基板 １１１……マイクロレンズ用凹部付き基板 １１２……凹部 １１３……マイクロレンズ １１４……表層 １１５……樹脂層 １２……液晶パネル用対向基板 １３……ブラックマトリックス １３１……開口 １４……透明導電膜 １７……ＴＦＴ基板 １７１……ガラス基板 １７２……画素電極 １７３……薄膜トランジスタ １１００‥‥パーソナルコンピュータ １１０２‥‥キーボード １１０４‥‥本体部 １１０６‥‥表示ユニット １２００‥‥携帯電話機 １２０２‥‥操作ボタン １２０４‥‥受話口 １２０６‥‥送話口 １３００‥‥ディジタルスチルカメラ １３０２‥‥ケース（ボディー） １３０４‥‥受光ユニット １３０６‥‥シャッタボタン １３０８‥‥回路基板 １３１２‥‥ビデオ信号出力端子 １３１４‥‥データ通信用の入出力端子 １４３０‥‥テレビモニタ １４４０‥‥パーソナルコンピュータ ３００……投射型表示装置 ３０１……光源 ３０２、３０３……インテグレータレンズ ３０４、３０６、３０９……ミラー ３０５、３０７、３０８……ダイクロイックミラー ３１０〜３１４……集光レンズ ３２０……スクリーン ２０……光学ブロック ２１……ダイクロイックプリズム ２１１、２１２……ダイクロイックミラー面 ２１３〜２１５……面 ２１６……出射面 ２２……投射レンズ ２３……表示ユニット ２４〜２６……液晶ライトバルブ

Claims (18)

1. 基材上に、主として無機酸化物で構成される無機配向膜を形成する無機配向膜の形成方法であって、
   前記基材上に、無機酸化物前駆体と界面活性剤とを含む溶液を塗布して、塗膜を形成する第１の工程と、
   前記塗膜を焼成することにより、前記無機酸化物前駆体を前記無機酸化物に変化させて、前記無機配向膜を得る第２の工程とを有することを特徴とする無機配向膜の形成方法。
2. 前記溶液中の前記無機酸化物前駆体の含有量は、１０〜５０ｗｔ％である請求項１に記載の無機配向膜の形成方法。
3. 前記界面活性剤は、前記第２の工程における前記塗膜の焼成の際に、その少なくとも一部が消失する請求項１または２に記載の無機配向膜の形成方法。
4. 前記溶液中の前記界面活性剤の含有量は、臨界ミセル濃度以下である請求項１ないし３のいずれかに記載の無機配向膜の形成方法。
5. 前記第１の工程における塗布は、スピンコート法により行われる請求項１ないし４のいずれかに記載の無機配向膜の形成方法。
6. 前記第２の工程における焼成は、減圧状態で行われる請求項１ないし５のいずれかに記載の無機配向膜の形成方法。
7. 前記無機配向膜は、複数の細孔を有する構造をなしている請求項１ないし６のいずれかに記載の無機配向膜の形成方法。
8. 複数の前記細孔の軸は、ほぼ等しい方向を向いている請求項７に記載の無機配向膜の形成方法。
9. 前記細孔の軸は、前記基材の前記無機配向膜が形成された面に対して、ほぼ垂直となっている請求項７または８に記載の無機配向膜の形成方法。
10. 前記細孔の開口面積（平均）は、１０〜８０００ｎｍ^２である請求項７ないし９に記載の無機配向膜の形成方法。
11. 前記無機酸化物は、シリコン酸化物である請求項１ないし１０のいずれかに記載の無機配向膜の形成方法。
12. 請求項１ないし１１のいずれかに記載の無機配向膜の形成方法により形成することを特徴とする無機配向膜。
13. 基板上に、電極と、請求項１２に記載の無機配向膜とを備えることを特徴とする電子デバイス用基板。
14. 請求項１２に記載の無機配向膜と、液晶層とを備えることを特徴とする液晶パネル。
15. 請求項１２に記載の無機配向膜を一対備え、
    一対の前記無機配向膜の間に、液晶層を備えることを特徴とする液晶パネル。
16. 請求項１４または１５に記載の液晶パネルを備えることを特徴とする電子機器。
17. 請求項１４または１５に記載の液晶パネルを備えたライトバルブを有し、該ライトバルブを少なくとも１個用いて画像を投射することを特徴とする電子機器。
18. 画像を形成する赤色、緑色および青色に対応した３つのライトバルブと、光源と、該光源からの光を赤色、緑色および青色の光に分離し、前記各光を対応する前記ライトバルブに導く色分離光学系と、前記各画像を合成する色合成光学系と、前記合成された画像を投射する投射光学系とを有する電子機器であって、
    前記ライトバルブは、請求項１４または１５に記載の液晶パネルを備えることを特徴とする電子機器。
    
    

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