JP2004536327A - ポリマーブレンド及びマイクロリソグラフィ用フォトレジスト組成物中でのそれらの使用 - Google Patents
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Abstract
(A)(a)少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含むフッ素含有コポリマーであって、少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物が多環式であることにより特徴付けられるものと、(b)保護された酸基を含有する分岐ポリマーであって、前記ポリマーが、線状主鎖セグメントに沿って化学的に結合された1つ以上の分岐セグメントを含むものと、(c)構造:−C(Rf)(Rf’)OH(式中、Rf及びRf’が、1〜約10個の炭素原子の、同一または異なるフルオロアルキル基であるか、または一緒になってnが2〜10である(CF2)nである。)を有する少なくとも1つのフルオロアルコール基を有するフルオロポリマーと、(d)ペルフルオロ(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)もしくはCX2=CY2(式中、X=FまたはCF3及びY=H)の非晶質ビニルホモポリマーまたはペルフルオロ(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)及びCX2=CY2の非晶質ビニルコポリマーと、(e)置換または非置換ビニルエーテルから調製されたニトリル/フルオロアルコール含有ポリマーと、からなる群から選択される少なくとも2つのポリマー、及び(B)少なくとも1つの光活性成分、を含むフォトレジスト組成物。
Description
【0001】
(発明の分野)
本発明は、光画像形成に関するものであり、特に、フォトレジスト(ポジ型として機能する、及び/またはネガ型として機能する)の使用に関する。本発明はまた、レジスト中のベース樹脂として及び可能性としては多くの他の適用に有用な高い紫外線透明性(特に短い波長、例えば、157nmにおいて)を有するポリマー組成物のブレンドに関する。
【0002】
(発明の背景)
ポリマー製品は、画像形成及び感光系の成分として、特に、Introduction to Microlithography,Second Edition、L.F.Thompson、C.G.Willson、及びM.J.Bowden著、American Chemical Society,Washington,DC,1994年、に記載されているような光画像形成系に用いられる。かかる系において、紫外線(UV)光または他の電磁放射線が、光活性成分を含有する材料に影響を与え、その材料の物理的または化学的変化を引き起こす。半導体デバイスの製造に有用な画像に加工され得る有用なまたは潜画像がそれによって生み出される。
【0003】
ポリマー製品それ自体が光活性であってもよいが、概して感光性組成物は、ポリマー製品のほかに1つ以上の光活性成分を含有する。電磁放射線(例えば、紫外線)に露光した時に、光活性成分が作用して、レオロジー状態、溶解度、表面の特徴、屈折率、色、電磁気特性または上記のトンプソンらの刊行物に記載されたような感光性組成物の他のかかる物理的または化学的特性を変化させる。
【0004】
半導体デバイスのサブミクロンのレベルでの非常に微細な特徴を画像形成するために、遠または極紫外線(UV)の電磁放射線が必要とされる。ポジ型として機能するレジストは概して、半導体製造に利用される。ノボラックポリマー及びジアゾナフトキノンを溶解抑性剤として用いる365nm(Iライン)の紫外線のリソグラフィは、約0.35〜0.30ミクロンの解像限界を有する最近確立されたチップ技術である。p−ヒドロキシスチレンポリマーを用いる248nmの遠紫外線のリソグラフィは周知であり、0.35〜0.18nmの解像限界を有する。波長減少によって低解像限界の低下するため(すなわち、193nmの画像形成について0.18〜0.12ミクロンの解像限界及び157nmの画像形成について約0.07ミクロンの解像限界)、より短い波長においても、将来のフォトリソグラフィにとって大きな推進力がある。193nmの露光波長(アルゴンフッ素(ArF)エキシマーレーザーから得られる)を用いるフォトリソグラフィは、0.18及び0.13μmのデザインルールを用いる将来のマイクロエレクトロニクス製造の有力な候補である。この非常に短い波長で十分な透明性及び他の必要とされる性質を有する適した材料を見いだすことができるとすれば、157nmの露光波長(フッ素エキシマーレーザーから得られる)を用いるフォトリソグラフィは、(193nmよりも)前記時期の更に先のマイクロリソグラフィの有力な候補である。193nm以下の波長での従来の近紫外線及び遠紫外線有機フォトレジストの不透明度は、これらの短い波長での単一層の方法でそれらを使用するのを妨げる。
【0005】
193nmでの画像形成に適したいくつかのレジスト組成物が周知である。例えば、シクロオレフィン−無水マレイン酸交互コポリマーを含むフォトレジスト組成物が、193nmでの半導体の画像形成に有用であることが示された(F.M.Houlihanら著、Macromolecules,30,6517−6534ページ(1997年)、T.Wallowら著、SPIE, Vol. 2724,355−364ページ、及びF.M.Houlihanら著、Journal of Photopolymer Science and Technology,10,No.3,511−520ページ(1997年)を参照のこと)。いくつかの出版物は、193nmのレジストに焦点を合わせている(すなわち、U.Okoroanyanwuら著、SPIE,Vol.3049,92−103ページ、R.Allenら著、SPIE, Vol. 2724, 334−343ページ、及びSemiconductor International、1997年9月、74−80ページ)。官能化ノルボルネンの付加重合体及び/またはROMP(開環複分解重合)を含む組成物が開示されている(例えば、B・F・グッドリッチに対するPCT公開第97/33198号(9/12/97))。ノルボルナジンのホモポリマー及び無水マレイン酸コポリマー及び193nmのリソグラフィでのそれらの使用が開示されている(J.Niu及びJ.Frechet著,Angew. Chem.Int.Ed.,37,No.5,(1998年)、667−670ページ)。193nmのリソグラフィに適しているフッ素化アルコール置換多環式エチレン性不飽和コモノマー及び二酸化硫黄のコポリマーが報告されている(H.Itoら著、“Synthesis and Evaluation of Alicyclic Backbone Polymers for 193 nm Lithography”,16章,ACS Symposium Series 706(Micro−and Nanopatterning Polymers)208−223ページ(1998年)、及びH.Itoら著、Abstract in Polymeric Materials Science and Engineering Division,American Chemical Society Meeting,77巻,ネバダ州、ラスベガスで1997年9月8−11日に開催されたFall Meeting)。この交互コポリマー中に二酸化硫黄から誘導される繰り返し単位が存在するので、それは、157nmでのこのポリマーの過度に高い吸収係数のために157nmのリソグラフィに適していない。
【0006】
芳香族部分に結合したフッ素化アルコール官能基を含有するフォトレジストが開示されている(K. J. Przybillaら著、“Hexafluoroacetone in Resist Chemistry: A Versatile New Concept for Materials for Deep UV Lithography”,SPIE Vol.1672,(1992年),500−512ページ)。248nmのリソグラフィには適しているが、これらのレジストは、それらに含有された芳香族官能価のために、193または157nmでのリソグラフィに不適当である(これらの波長での芳香族レジスト成分の過度に高い吸収係数による)。
【0007】
フルオロオレフィンモノマーと環状不飽和モノマーとのコポリマーが周知である(Daikin Industries,Ltd.に対する米国特許第5,177,166号及び5,229,473号)。これらの特許は、何れかの感光性組成物中でのこれらのコポリマーの使用を開示していない。特定のフッ素化オレフィンと特定のビニルエステルとのコポリマーが周知である。例えば、TFEとシクロヘキサンカルボキシレート、ビニルエステル、とのコポリマーが、周知である(Dainippon Ink and Chemicalsに対する日本特許出願第03281664号)。TFEとビニルアセテートなどのビニルエステルとのコポリマー、屈折率画像形成(例えば、ホログラフィー)用の感光性組成物中でのこれらのコポリマーの使用が周知である(DuPontに対する米国特許第4,963,471号)。
【0008】
官能基を含有するノルボルネンタイプのモノマーとエチレンとのコポリマーが以前に開示されており(B.F.Goodrichに対する公開第/56837)、官能基を含有するノルボルネンタイプのモノマーとビニルエーテル、ジエン、及びイソブチレンとのコポリマーも同様に開示されている(B.F. Goodrichに対するUS5,677,405号)。
【0009】
フッ素化アルコールコモノマーと他のコノモマーとの特定のコポリマーが、米国特許3,444,148号及び日本公開特許第62186907 A2号に報告されている。これらの特許は、膜または他の非感光性フィルムまたは繊維に関するものであり、感光性層(例えば、レジスト)中でのフッ素化アルコールコモノマーを教示していない。
【0010】
米国特許第5,655,627号には、シリコンウエハを、溶剤に溶かしたペンタフルオロプロピルメタクリレート−t−ブチルメタクリレートのコポリマーで被覆し、次いで193nmで露光し、二酸化炭素臨界液(critical fluid)で現像することによってネガ型トーンレジストを形成する方法が開示されている。
【0011】
193nm及び/または157nmでの光学透明性の他、耐プラズマエッチ性、及び塩基現像剤水溶液への溶解度を有する単一層フォトレジストの多くの要求条件を満たすレジスト組成物が更に必要とされている。
【0012】
(発明の概要)
第1の態様において、本発明は、
(A)(a)少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含むフッ素含有コポリマーであって、少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物が多環式であることにより特徴付けられるものと、
(b)保護された酸基を含有する分岐ポリマーであって、前記ポリマーが線状主鎖セグメントに沿って化学的に結合された1つ以上の分岐セグメントを含むものと、
(c)下記構造:
−C(Rf)(Rf’)OH
(式中、Rf及びRf’が、1〜約10個の炭素原子の、同一または異なるフルオロアルキル基であるか、または一緒になってnが2〜約10である(CF2)nである。)を有する少なくとも1つのフルオロアルコール基を有するフルオロポリマーと、
(d)ペルフルオロ(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)もしくはCX2=CY2(式中、X=FまたはCF3及びY=−H)の非晶質ビニルホモポリマーまたはペルフルオロ(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)及びCX2=CY2の非晶質ビニルコポリマーと、
(e)置換または非置換ビニルエーテルから調製されたニトリル/フルオロアルコール含有ポリマーと、からなる群から選択される少なくとも2つのポリマー、及び
(B)少なくとも1つの光活性成分、を含むフォトレジスト組成物を提供する。
【0013】
第2の態様において、本発明は、フォトレジスト画像を基板上に作製する方法であって、順に、
(X)フォトレジスト層を画像ごとに露光して画像形成及び非画像形成領域を形成する工程であって、前記フォトレジスト層が、
(A)上記の(a)−(e)から選択される少なくとも2つのポリマーと、
(B)光活性成分と、を含むフォトレジスト組成物から調製される工程と、
(Y)画像形成及び非画像形成領域を有する、露光されたフォトレジスト層を現像してレリーフ画像を基板上に形成する工程と、を含む方法を提供する。
【0014】
(好ましい実施態様の詳細な説明)
フォトレジスト要素は、支持体と、少なくともフォトレジスト層と、を含み、前記フォトレジスト層が、(A)(a)−(e)からなる群から選択される少なくとも2つのポリマーと、光活性成分と、を含むフォトレジスト組成物から作製される。
【0015】
前記ポリマーは、半導体リソグラフィ用のフォトレジスト組成物に有用である。特に、193nmより低い光吸収はこの発明の材料の主な特質であるので、それらは、この波長で特に有用であるはずである。前記ポリマーは、約157nmの波長で吸収係数が約5.0μm−1未満であり、典型的には約4.0μm−1未満であり、より典型的には、約3.5μm−1未満である。
【0016】
(ポリマー)
フッ素含有コポリマー(a)はが、少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含み、少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物が多環式であることにより特徴付けられるものである。コポリマー(a)が、(a1)少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含むフッ素含有コポリマーであって、少なくとも1つの他のエチレン性不飽和化合物が、多環式であり、少なくとも1つの他のエチレン性不飽和化合物がエチレン性不飽和炭素原子に共有結合で結合された少なくとも1個のフッ素原子を含有することにより特徴付けられるもの、及び
(a2)フッ素含有コポリマーであり、環構造内に含有される炭素原子に共有結合で結合されており、且つ、少なくとも1個の共有結合で結合された炭素原子によってエチレン性不飽和化合物の各エチレン性不飽和炭素原子から隔てられている、フッ素原子、ペルフルオロアルキル基、及びペルフルオロアルコキシ基の少なくとも1つを含有する少なくとも1つの多環式エチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含むフッ素含有コポリマー、からなる群から選択される。
【0017】
(a1)に開示された前記少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物が、
【0018】
【化2】
【0019】
からなる群から選択されてもよく、式中、m及びnの各々が0、1または2であり、pが少なくとも3の整数であり、a及びbが独立して1〜3であるが、ただし、b=2であるとき、a=1でないか、または逆もまた同様であり、
R1〜R14が同一または異なっており、各々が水素原子、ハロゲン原子、少なくとも1個のO、N、S、Pまたはハロゲン原子で任意に置換された1〜14個の炭素原子、典型的には1〜10個の炭素原子含有炭化水素基、例えば、第二または第三アルキルカルボン酸基またはカルボン酸エステル基などのカルボキシル基、を表し、
R15が、任意に1個以上のエーテル酸素を含有する、約4〜20個の炭素原子の飽和アルキル基であるが、ただし、炭素原子の、水素原子に対する比が0.58以上であり、
R16〜R21が各々、独立して水素原子、C1−C12アルキル、(CH2)qCO2A、CO2(CH2)qCO2AまたはCO2Aであり、qが1〜12であり、Aが水素または酸保護基であるが、ただし、R18〜R21の少なくとも1つがCO2Aである。
【0020】
この発明のコポリマー(及び前記コポリマーからなるフォトレジスト)の重要な特性は、多環式繰り返し単位と、フッ素を含有している同一または異なる繰り返し単位との、更に、芳香族官能価を含有しないコポリマー中のすべての繰り返し単位との、協働的な組合せである。コポリマーの多環式繰り返し単位の存在は、コポリマーがプラズマエッチング(例えば、反応性イオンエッチング)に対する高い耐性を有するために重要である。多環式繰り返し単位はまた、レジストフィルムの寸法安定性を維持するために重要である高いガラス転移温度を提供する傾向がある。フッ素を含有している繰り返し単位の存在は、コポリマーが高い光学的透明性を有するために、すなわち、極及び遠紫外線の低い光吸収を有するために、重要である。コポリマーの繰り返し単位に芳香族官能価の存在しないこともまた、ポリマーが高い光学的透明性を有するために必要とされる。
【0021】
この発明の特定の実施態様において、フッ素含有コポリマーは、環構造内に含有される炭素原子に共有結合で結合された、フッ素原子、ペルフルオロアルキル基、及びペルフルオロアルコキシ基、からなる群から選択される少なくとも1個の原子または基、を有する少なくとも1つの多環式エチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位からなる場合がある。フッ素原子、ペルフルオロアルキル基及びペルフルオロアルコキシ基は、かかる基がエチレン性不飽和炭素原子に直接に結合するときに金属触媒付加重合または複分解重合によって環式エチレン性不飽和化合物の重合を妨害する傾向がある。従って、少なくとも1個のフッ素原子、ペルフルオロアルキル基及びペルフルオロアルコキシ基が、少なくとも1個の共有結合で結合された炭素原子によってエチレン性不飽和化合物の各エチレン性不飽和炭素原子から隔てられていることは、かかるケースでは重要である。更に、前記原子及び/または基を直接に環に結合することが、望ましくない非フッ素化脂肪族炭素原子の存在を最小にする。
【0022】
この発明のコポリマーは驚くべきことに、半導体の適用のためにフォトレジスト組成物に必要な性質を与えるために重要である均合のとれた性質を有する。第1の、これらのコポリマーは、193nm及び157nmの波長を含めて、極及び遠紫外線の予想外に低い光吸収を有する。低い光吸収のコポリマーを有することは、高いフォトスピードレジストを調合するために重要であり、そこにおいて、紫外線の大部分が、光活性成分によって吸収され、コポリマー(レジストのマトリックス)による吸収のために失われない。第2に、この発明のフッ素含有ポリマーは望ましくは、非常に低いプラズマエッチ速度を示す。この後者の性質は、半導体製造に必要とされる高解像度精密レジストをもたらすのに重要である。これらの性質の適した値を同時に達成することは、157nmでの画像形成に特に重要である。この場合、超薄レジストが高解像度のために必要とされるが、これらの薄レジストは、にもかかわらず、高度に耐エッチ性であり、レジストは、画像形成基板の上に残っており、エッチングする間、下にある基板の領域を保護する。
【0023】
この発明の好ましい実施態様において、フォトレジスト組成物は、少なくとも1つの多環式コモノマー(すなわち、少なくとも2つの環を含むコモノマー、例えば、ノルボルネン)から誘導される繰り返し単位を含むコポリマーを含む。これは、3つの主な理由のために重要である。1)多環式モノマーが、概して十分な耐プラズマエッチ性を有するこれらの多環式モノマーの繰り返し単位からなるベースポリマーをもたらす、相対的に高い炭素対水素の比(C:H)を有する。2)重合した時に好ましくは完全に飽和され得る、多環式モノマーから誘導される繰り返し単位を有するポリマーは概して、良好な透明性の特性を有する。及び3)多環式モノマーから調製されたポリマーは通常、加工する間の改善された寸法安定性のために相対的に高いガラス転移温度を有する。エチレン性不飽和基が、ノルボルネンの場合のように多環式部分中に含有されてもよく、または1−アダマンタンカルボキシレートビニルエステルの場合のように多環式部分の側基であってもよい。高いC:H比を有する、多環式コモノマーから誘導される繰り返し単位からなるポリマーが、相対的に低いOhnishi数(O.N.)を有し、そこにおいて、O.N.=N/(Nc−No)
であり、Nがポリマーの繰り返し単位の酸素原子の数であり、Ncがポリマーの繰り返し単位の炭素原子の数であり、Noがポリマーの繰り返し単位の酸素原子の数である。ポリマーの反応性イオンエッチ(RIE)速度が、Ohnishi数(O.N.)の一次関数であることを記載する、Ohnishiらによって発見された経験的法則がある(J. Electrochem.Soc.,Solid−State Sci.Technol.,130, 143(1983年)。1つの実施例として、ポリ(ノルボルネン)は、式ポリ(C7H10)及びO.N.=17/7=2.42を有する。多環式部分及び相対的に小さい酸素含有官能価を有する主に炭素及び水素からなるポリマーは、相対的に低いO.N.を有し、Ohnishiの経験的法則によれば、相応する低い(近似的に線形の)RIE速度を有する。
【0024】
ポリマー技術の当業者に周知であるように、エチレン性不飽和化合物は、フリーラジカル重合を経て、エチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を有するポリマーをもたらす。特に、フリーラジカル重合を経る下記構造:
【0025】
【化3】
【0026】
を有するエチレン性不飽和化合物は、繰り返し単位:
【0027】
【化4】
【0028】
を有するポリマーをもたらし、式中、P、Q、S、及びTが独立して、H、F、Cl、Br、1〜14個の炭素原子を含有するアルキル基、アリール、6〜14個の炭素原子を含有するアラルキル基、または3〜14の炭素原子を含有するシクロアルキル基を表すことができるがそれらに制限されない。
【0029】
1つのエチレン性不飽和化合物だけが重合を経る場合、得られたポリマーはホモポリマーである。2つ以上の異なるエチレン性不飽和化合物が重合を経る場合、得られたポリマーはコポリマーである。
【0030】
エチレン性不飽和化合物及びそれらの相当する繰り返し単位のいくつかの代表的な実施例を以下に示す。
【0031】
【化5】
【0032】
以下の節において、この発明のフォトレジスト組成物は、それらの成分の部を用いて記載される。
【0033】
この発明のフォトレジストは、少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含むフッ素含有コポリマーを含み、少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物が多環式であり、少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物が、エチレン性不飽和炭素原子に共有結合で結合された少なくとも1個のフッ素原子を含有する。この発明のフッ素含有コポリマーに適している代表的なエチレン性不飽和化合物には、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、トリフルオロエチレン、ビニリデンフルオリド、ビニルフルオリド、ペルフルオロ−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)、ペルフルオロ−(2−メチレン−4−メチル−1,3−ジオキソラン、CF2=CFO(CF2)tCF=CF2(tが1または2である。)、及びRfOCF=CF2(Rfが1〜約10個の炭素原子の飽和フルオロアルキルである。)などがあるがこれらに制限されない。この発明のフッ素含有コポリマーは、上に記載したフッ素含有コポリマーを含めるがそれらに制限されない、任意の数の付加的なフッ素含有コモノマーからなってもよい。好ましいコモノマーは、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、トリフルオロエチレン及びRfOCF=CF2、Rfが1〜約10個の炭素原子の飽和フルオロアルキル基、である。より好ましいコモノマーは、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、及びRfOCF=CF2、Rfが1〜約10個の炭素原子の飽和フルオロアルキル基、である。最も好ましいコモノマーは、テトラフルオロエチレン及びクロロトリフルオロエチレンである。
【0034】
構造Hを有する代表的なコモノマーには、
【0035】
【化6】
【0036】
などがあるがそれらに制限されない。
【0037】
構造Iを有する代表的なコモノマーには、
【0038】
【化7】
【0039】
などがあるがそれらに制限されない。
【0040】
構造Jを有する代表的なコモノマーには、
【0041】
【化8】
【0042】
などがあるがそれらに制限されない。
【0043】
構造Kを有する代表的なコモノマーには、
【0044】
【化9】
【0045】
などがあるがそれらに制限されない。
【0046】
構造体Lを有する代表的なコモノマーには、
【0047】
【化10】
【0048】
などがあるがそれらに制限されない。
【0049】
構造Mを有する代表的なコモノマーには、
【0050】
【化11】
【0051】
などがあるがそれらに制限されない。
【0052】
構造K、L及びMを有するコモノマーを含む本発明のコポリマーの全てが、フッ素化オレフィン及び式CH2=CHO2CR22のビニルエステルまたは式CH2=CHOCH2R22またはCH2=CHOR22のビニルエーテルを含むことを特徴とし、R22が約4〜20個の炭素原子の炭化水素基であり、高いC:H比が十分な耐プラズマエッチ性に相応するので、C:H比が相対的に高く、0.58より大きい。(これは、フッ素化オレフィン及び式CH2=CHO2CR23のビニルエステルまたは式CH2=CHOCH2R23またはCH2=CHOR23のビニルエーテルを含むコポリマー(R23が、0.58未満であり、相対的に低いC:H比を有する)と対照的である。R22及びR23が、アルキル、アリール、アラルキル及びシクロアルキルから選択される。
【0053】
構造Nを有する代表的なコモノマーには、
【0054】
【化12】
【0055】
式中、A = H,(CH3)3C,(CH3)3Si、などがあるがこれらに制限されない。
【0056】
第2の記載したコモノマーとして構造H−Nの少なくとも1つの不飽和化合物を有する上に記載した好ましい実施態様において、フッ素含有コポリマーが、カルボン酸及び保護酸基から選択される官能価を有する付加的なコモノマーから成らない場合(及びその場合に限り)、第2のコモノマーに制限条件がある。この場合、フッ素含有コポリマーは2つだけのコモノマーを有する(前記2つの記載したコモノマーを有し、付加的な記載していないコモノマーを有しない)。この場合、フッ素含有ポリマーからなるこの発明のフォトレジストが、以下により詳細に説明したように画像ごとに露光した時に現像可能であるように、少なくとも1つの不飽和化合物(すなわち、第2の記載したコモノマー)中に存在しているカルボン酸及び保護酸基から選択される十分な官能価が存在しなければならない。2つだけのコモノマーを有するフッ素含有コポリマーによるこれらの実施態様において、コポリマー中の2つのコモノマーのモル百分率は、フルオロモノマー(最初に記載したモノマー)及び第2のコモノマーについて、それぞれ、90%、10%〜10%、90%の範囲であってもよい。典型的には、2つのコモノマーのモル百分率は、フルオロモノマー(最初に記載したモノマー)及び第2のコモノマーについて、それぞれ、60%、40%〜40%、60%、の範囲である。
【0057】
この発明のフッ素含有コポリマーは、いくつかの実施態様について、前記2つの記載したコモノマー(すなわち、(i)エチレン性不飽和炭素原子に共有結合で結合された少なくとも1個のフッ素原子を含有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物、及び(II)構造H−Nの群から選択される少なくとも1つの不飽和化合物)の他に制限なしに任意の数の付加的なコモノマーからなってもよい。代表的な付加的なコモノマーには、アクリル酸、メタクリル酸、t−ブチルアクリレート、t−ブチルメタクリレート、t−アミルアクリレート、t−アミルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、エチレン、ビニルアセテート、イタコン酸、及びビニルアルコールなどが挙げられるがこれらに制限されない。フッ素含有コポリマーが2つの記載したコモノマーを有し、3つ以上のコモノマーからなるそれらの実施態様において、第2の記載したコモノマー(すなわち、(ii)構造H−Nの群から選択される少なくとも1つの不飽和化合物)のモル百分率は、約20モル%〜約80モル%、好ましくは約30モル%〜約70モル%、より好ましくは約40モル%〜約70モル%、最も好ましくは約50〜約70モル%の範囲である。前記コポリマーを構成する他の全てのコモノマーのモル百分率の合計は、第2の記載したコモノマーのモル百分率に加えられるときに100%になる計量を表す。第2の記載したコモノマー以外にコポリマー中に存在している他の全てのコモノマーのモル百分率の合計は大体、約80モル%〜約20モル%の範囲である。好ましくは、他の全てのコモノマーのモル百分率の合計は、約70モル%〜約30モル%の範囲である。より好ましくは、他の全てのコモノマーのモル百分率の合計は、約60モル%〜約30モル%の範囲であり、更により好ましくは、他の全てのコモノマーのモル百分率の合計は、約50モル%〜約30モル%の範囲である。フッ素含有ポリマーがターポリマーであるとき、フルオロモノマー(第1の記載したモノマー)の、付加的なコモノマーに対する適した比は大体、5:95〜95:5の範囲であってもよい。フッ素含有コポリマーが現像適性(developability)に必要な十分な量で酸基または保護酸基の官能価を有する付加的なコモノマーを含有するとき、官能価が、制限なしに第2の記載したコモノマーに存在しているか、または存在していなくてもよい。
【0058】
この発明のフォトレジスト組成物の、エチレン性不飽和炭素原子に結合した少なくとも1個のフッ素原子を有するコモノマーから誘導される繰り返し単位からなる、所定のフッ素含有コポリマーを、フリーラジカル重合によって調製することができる。ポリマーは、アゾ化合物または過酸化物など、フリーラジカル開始剤を用いて当業者に周知のバルク、溶液、懸濁または、乳化重合技術によって調製されてもよい。
【0059】
この発明のフォトレジスト組成物の、すべての環状コモノマーから誘導される繰り返し単位だけを含有しエチレン性不飽和炭素原子に結合した1個以上のフッ素原子を有するコモノマーから誘導される繰り返し単位の全く無い、所定のフッ素含有コポリマーもまた、フリーラジカル重合によって調製されてもよいが、更に、ビニル付加重合及び開環複分解重合(ROMP)など、他の重合方法によって調製されてもよい。後者の重合方法の両方とも、当業者には周知である。ニッケル及びパラジウム触媒を用いるビニル付加重合は、以下の文献で開示されている。1)Okoroanyanwu U.; Shimokawa, T.; Byers,J.D.; Willson, C.G.J.Mol.Catal.A:Chemical 1998,133,93、2)B.F.Goodrichに譲渡されたPCT WO 97/33198 (9/12/97)、3) Reinmuth,A.; Mathew,J.P.; Melia,J.; Risse, W.Macromol.Rapid Commun.1996,17,173、及び4)Breunig,S.; Risse,W.Makromol.Chem.1992,193,2915。開環複分解重合は、ルテニウム及びイリジウム触媒を用いる上の文献1)及び2)に開示されており、5)Schwab, P.; Grubbs, R.H.; Ziller,J.W.J.Am.Chem.Soc.1996,118,100、及び6)Schwab,P.; France,M.B.;Ziller,J.W.; Grubbs,R.H.Angew.Chem.Int.Ed.Engl.1995,34,2039にも開示されている。
【0060】
この発明のレジスト組成物の、フルオロモノマー(例えば、TFE)及び環状オレフィン(例えば、ノルボルネン)を含有する、フッ素含有ビポリマーのいくつかは、以下に示した構造:
【0061】
【化13】
【0062】
を有するがそれらに制限されない交互またはほぼ交互のビポリマーであるように思える。
【0063】
かかる場合、本発明は、これらの交互またはほぼ交互のコポリマーを含めるが、決して真正の交互コポリマー構造に限られない。
【0064】
これらのポリマーは、2000年3月20日に公開されたWO00/17712に記載されている。
【0065】
前記ポリマー(b)が、線状主鎖セグメントに沿って化学的に結合された1つ以上の分岐セグメントを含む、保護酸基含有分岐ポリマーである。前記分岐ポリマーを、少なくとも1つのエチレン性不飽和マクロマー成分及び少なくとも1つのエチレン性不飽和コモノマーのフリーラジカル付加重合中に形成することができる。エチレン性不飽和マクロマー成分は、数百〜40,000の数平均分子量(Mn)を有し、重合から得られた線状主鎖セグメントは、約2,000〜約500,000の数平均分子量(Mn)を有する。線状主鎖セグメントの、分岐セグメントに対する重量比は、約50/1〜約1/10の範囲内、好ましくは約80/20〜約60/40の範囲内である。典型的にはマクロマー成分は、500〜約40,000、より典型的には約1,000〜約15,000の数平均分子量(Mn)を有する。典型的にはかかるエチレン性不飽和マクロマー成分は、マクロマー成分を形成するために用いた約2〜約500モノマー単位、典型的には30〜200のモノマー単位に等しい数平均分子量(Mn)を有することがある。
【0066】
代表的な実施態様において、分岐ポリマーは、光酸発生剤との相溶性を増大させるために存在している相溶化基、すなわち、官能基25重量%〜100重量%、好ましくは約50重量%〜100重量%、より好ましくは約75重量%〜100重量%を含有する。イオン性光酸発生剤に適した相溶化基には、非親水性極性基と親水性極性基との両方があるがそれらに制限されない。適した非親水性極性基には、シアノ(−CN)及びニトロ(−NO2)などがあるがそれらに制限されない。適した親水性極性基には、ヒドロキシ(OH)、アミノフェノール(NH2)、アンモニウム、アミド、イミド、ウレタン、ウレイド、またはメルカプトなどのプロトン性基、またはカルボン酸(CO2H)、スルホン酸、スルフィン酸、リン酸、またはリン酸またはそれらの塩、などがあるがそれらに制限されない。好ましくは、相溶化基が、分岐セグメントに存在している。
【0067】
典型的には、保護酸基(以下に記載した)は、紫外線または他の化学線に露光し、引き続いて後露光べーキングした(すなわち、脱保護(deprotection)する間に)後にカルボン酸基を生じる。この発明の感光性組成物中に存在している分岐ポリマーは、典型的には、保護酸基含有モノマー単位約3重量%〜約40重量%、好ましくは約5%〜約50%、より好ましくは約5%〜約20%を含有する。かかる好ましい分岐ポリマーの分岐セグメントは典型的には、存在している保護酸基35%〜100%を含有する。かかる分岐ポリマーは完全に無保護である(全ての保護酸基が遊離酸基に変換される)とき、酸価が約20〜約500、好ましくは約30〜約330、より好ましくは約30〜約130、であり、同様に、エチレン性不飽和マクロマー成分は好ましくは酸価が約20〜約650、より好ましくは約90〜約300であり、遊離酸基の多数は分岐セグメントにある。
【0068】
本発明のこの態様の各感光性組成物は、保護酸基を含有する、くし型ポリマーとしても周知の、分岐ポリマーを含有する。分岐ポリマーは、線状主鎖セグメントに対して制限された重量比及び制限された分子量の、ポリマーアームとして周知の分岐セグメントを有する。好ましい実施態様において、保護酸基の多数が分岐セグメントに存在している。前記組成物はまた、組成物を放射エネルギーに、特に、電磁スペクトルの紫外領域の、特に遠または極紫外領域の放射エネルギーに反応性にする、光酸発生剤などの成分を含有する。
【0069】
特定の実施態様において、分岐ポリマーは、線状主鎖セグメントに沿って化学的に結合された1つ以上の分岐セグメントを含み、分岐ポリマーは、約500〜40,000の数平均分子量(Mn)を有する。分岐ポリマーは、分岐セグメントを少なくとも0.5重量%含有する。ポリマーアームとしても周知の分岐セグメントは典型的に、線状主鎖セグメントに沿って不規則に分散している。「ポリマーアーム」または分岐セグメントは、共有結合によって線状主鎖セグメントに結合している、少なくとも2つの反復モノマー単位のポリマーまたはオリゴマーである。分岐セグメント、またはポリマーアームを、マクロマー及びコモノマーの付加重合プロセスの間に、マクロマー成分として分岐ポリマー中に組み入れることができる。この発明について「マクロマー」は、末端エチレン性不飽和重合性基を含有する、数百〜約40,000の範囲の分子量のポリマー、コポリマーまたはオリゴマーである。好ましくはマクロマーは、エチレン基(ethylenic group)でエンドキャップされた線状ポリマーまたはコポリマーである。典型的には、分岐ポリマーは、1つ以上のポリマーアーム、好ましくは少なくとも2つのポリマーアームを有するコポリマーであり、重合プロセスで用いたマクロマー成分の約0.5〜約80重量%、好ましくは約5〜50重量%がマクロマーであることを特徴とする。典型的には、同じく重合プロセスでマクロマーとともに用いたコモノマー成分は、エチレン性不飽和マクロマーと共重合することができる単一エチレン基を含有する。
【0070】
エチレン性不飽和マクロマー及び分岐ポリマーの得られた分岐セグメント、及び/または分岐ポリマーの主鎖は、1個以上の保護酸基がそれに結合している場合がある。この発明について、「保護酸基」は、それが結合されるマクロマー及び/または分岐ポリマーの、水性環境中での溶解度、膨潤性、または分散性、を増強する遊離酸官能価を、脱保護された時にもたらす官能基を意味する。保護酸基はエチレン性不飽和マクロマー及び分岐ポリマーの得られた分岐セグメント、及び/または分岐ポリマーの主鎖に、それらの形成中にまたは後に、組み入れてもよい。マクロマー及び少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマーを用いる付加重合が分岐ポリマーを形成するために好ましいが、付加反応または縮合反応のどちらかを用いる分岐ポリマーの周知の全ての調製方法をこの発明において利用することができる。更に、予備形成した主鎖及び分岐セグメントまたはin situ重合セグメントのどちらかの使用もまた、この発明に適用できる。
【0071】
線状主鎖セグメントに結合した分岐セグメントを、米国特許第4,680,352号及び米国特許第4,694,054号の概要によって調製したエチレン性不飽和マクロマーから誘導することができる。マクロマーは、コバルト化合物を触媒連鎖移動剤として、特にコバルト(II)化合物を使用するフリーラジカル重合方法によって調製される。コバルト(II)化合物は、ペンタシアノコバルト(II)化合物または、ビシナルイミノヒドロキシイミノ化合物、ジヒドロキシイミノ化合物、ジアザジヒドロキシイミノジアルキルデカジエン、ジアザジヒドロキシイミノジアルキルウンデカジエン、テトラアザテトラアルキルシクロテトラデカテトラエン、テトラアザテトラアルキルシクロテドデカテトラエン、ビス(ジフルオロボリル)ジフェニルグリオキシマト、ビス(ジフルオロボリル)ジメチルグリオキシマト、N,N’−ビス(サリチリデン)エチレンジアミン、ジアルキルジアザ−ジオキソジアルキルドデカジエン、またはジアルキルジアザジオキソジアルキルトリデカジエン、のコバルト(II)キレートであってもよい。低分子量メタクリレートマクロマーはまた、米国特許第4,722,984号に開示されているようにペンタシアノコバルト(II)の触媒連鎖移動剤で調製されてもよい。
【0072】
この方法を用いる具体的なマクロマーは、アクリレートまたは他のビニルモノマーとのメタクリレートポリマーであり、前記ポリマーまたはコポリマーが、末端エチレン基及び親水性官能基を有する。マクロマーの調製に使用するための好ましいモノマー成分には、第三ブチルメタクリレート(tBMA)、第三ブチルアクリレート(tBA)、メチルメタクリレート(MMA)、エチルメタクリレート(EMA)、ブチルメタクリレート(BMA)、2−エチルヘキシルメタクリレート、メチルアクリレート(MA)、エチルアクリレート(EA)、ブチルアクリレート(BA)、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)、2−ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)、メタクリル酸(MA)、アクリル酸(AA)、エステル基が1〜18個の炭素原子を含有するアクリル酸及びメタクリル酸のエステル、アクリル酸及びメタクリル酸ニトリル及びアミド(例えば、アクリロニトリル)、グリシジルメタクリレート及びアクリレート、イタコン酸(IA)及びイタコン酸無水物(ITA)、半エステル及びイミド、マレイン酸及びマレイン酸無水物、半エステル及びイミド、アミノエチルメタクリレート、t−ブチルアミノエチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート、アミノエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチルアクリレート、アクリルアミド、N−t−オクチルアクリルアミド、ビニルメチルエーテル、スチレン(STY)、アルファ−メチルスチレン(AMS)、ビニルアセテート、ビニルクロリド、などがある。
【0073】
イタコン酸無水物(ITA,2−メチレンコハク酸無水物、CAS No. = 2170−03−8)は、それが、開環した時に3個になって二酸をもたらす、無水物の形の2個の活性官能基を有するので、分岐ポリマーに使用するために特に有利なコモノマーである。エチレン性不飽和部分が第1の官能基であり、それは、このコモノマーが例えばフリーラジカル重合によってコポリマーに組み入れられることを可能にする。無水物部分は、いろいろな他の官能基と反応して共有結合で結合された生成物をもたらすことができる第2の官能基である。無水物部分が反応することができる官能基の実施例は、エステル結合を形成するアルコール中のヒドロキシ基である。ITAの無水物部分とヒドロキシ基との反応時に、エステル結合と、第3の官能基である、遊離カルボン酸部分が形成される。カルボン酸官能基は、水性加工性をこの発明のレジストに付与するのに有用である。ヒドロキシ基を有するPAGが利用される場合、このタイプのエステル結合(または、アミドなどのような、他の共有結合結合)によってITAコモノマーなどからなる分岐ポリマーにPAG(または他の光活性成分)を共有結合する(束縛する)ことが、実施例のいくつかに示したように、可能である。
【0074】
分岐ポリマーは、いずれの従来の付加重合方法によって調製されてもよい。分岐ポリマー、またはくし型ポリマーは、1つ以上の相溶性エチレン性不飽和マクロマー成分及び1つ以上の相溶性の、従来のエチレン性不飽和コモノマー成分から調製されてもよい。好ましい付加重合性、エチレン性不飽和コモノマー成分は、アクリレート、メタクリレート及びスチレン系、並びにそれらの混合物である。適した付加重合性、エチレン性不飽和コモノマー成分には、第三ブチルメタクリレート(tBMA)、第三ブチルアクリレート(tBA)、メチルメタクリレート(MMA)、エチルメタクリレート(EMA)、ブチルメタクリレート(BMA)、2−エチルヘキシルメタクリレート、メチルアクリレート(MA)、エチルアクリレート(EA)、ブチルアクリレート(BA)、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)、2−ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)、メタクリル酸(MAA)、アクリル酸(AA)、アクリロニトリル(AN)、メタクリロニトリル(MAN)、イタコン酸(IA)及びイタコン酸無水物(ITA)、半エステル及びイミド、マレイン酸及びマレイン酸無水物、半エステル及びイミド、アミノエチルメタクリレート、t−ブチルアミノエチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート、アミノエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチルアクリレート、アクリルアミド、N−t−オクチルアクリルアミド、ビニルメチルエーテル、スチレン(S)、アルファ−メチルスチレン、ビニルアセテート、ビニルクロリド、などがある。共重合性モノマーの大部分は、アクリレートまたはスチレン系または、アクリレート及び他のビニルモノマーとこれらのモノマーとのコポリマーでなければならない。
【0075】
この発明の分岐ポリマーの各成分の線状主鎖セグメント及び/または分岐セグメントは、いろいろな官能基を含有してもよい。「官能基」は、直接の原子価結合によってまたは結合基によって主鎖セグメントまたは分岐セグメントに結合することができる何れかの部分であると考えられる。主鎖セグメントまたは分岐セグメントによって担持され得る官能基の具体例は、−COOR24、−OR24、−SR24(R24が水素、1〜12個の炭素原子を有するアルキル基、3〜12個の炭素原子のシクロアルキル基、6〜14個の炭素原子を有するアリール、アルカリールまたはアラルキル基、3〜12個の炭素原子を含有し、更にS、O、NまたはP原子を含有する複素環基であってもよい)、または−OR27(R27が1〜12個の炭素原子のアルキル、6〜14個の炭素原子を有するアリール、アルカリールまたはアラルキル基であってもよい)、−CN、−NR25R26または
【0076】
【化14】
【0077】
(式中、R25及びR26が水素、1〜12個の炭素原子を有するアルキル基、3〜12個の炭素原子を有するシクロアルキル基、6〜14個の炭素原子のアリール、アルカリール、アラルキル、−CH2OR28(R28が水素、1〜12個の炭素原子のアルキル、または3〜12個の炭素原子のシクロアルキル、6〜14個の炭素原子を有する、アリール、アルカリール、アラルキルである。)であってもよく、またはR25及びR26が全体として3〜12個の炭素原子を有すると共に少なくとも1つのS、N、OまたはPを含有する複素環を形成することができる)、
【0078】
【化15】
【0079】
(式中、R29、R30及びR31が水素、1〜12個の炭素原子のアルキルまたは3〜12個の炭素原子のシクロアルキル、6〜14個の炭素原子のアリール、アルカリール、アラルキル、または−COOR24であってもよく、または一緒になってR29、R30及び/またはR31が環状基を形成することができる)、−SO3H、ウレタン基、イソシアネートまたはブロックトイソシアネート基、ウレア基、オキシラン基、アジリジン基、キノンジアジド基、アゾ基、アジド基、ジアゾニウム基、アセチルアセトキシ基、−SiR32R33R34(R32、R33及びR34が1〜12個の炭素原子のアルキルまたは3〜12個の炭素原子のシクロアルキルであってもよい)または−OR35(R35が1〜12個の炭素原子のアルキルまたは3〜12個の炭素原子のシクロアルキル、6〜14個の炭素原子のアリール、アルカリールまたはアラルキルである。)、または−OSO3R36、−OPO2R36、−PO2R36、−PR36R37R38、−OPOR36、−SR36R37、または−N+R36R37R38基(R36、R37、及びR38が水素、1〜12個の炭素原子のアルキルまたは3〜12個の炭素原子のシクロアルキル、6〜14個の炭素原子のアリール、アルカリールまたはアラルキルであってもよい)、または前述の何れかの塩またはオニウム塩である。好ましい官能基は、−COON、−OH、−NH2、アミド基、ビニル基、ウレタン基、イソシアネート基、ブロックトイソシアネート基またはそれらの組合せ、である。官能基は、分岐ポリマー上の何れの場所に位置していてもよい。しかしながら、分岐ポリマー及びマクロマーの線状主鎖セグメントにバルクポリマーの特性を付与し、溶解度、反応性など、親水性のほかに物理的及び化学的機能性を分岐セグメントに付与するコモノマーを選択することが、時々、望ましい。
【0080】
この発明の特定の好ましい実施態様において、分岐ポリマーは、光酸発生剤と相溶性である官能基を含有し、前記官能基は、官能基の25〜100%が多数の保護酸基を含有する分岐ポリマーのセグメント中に存在しているように分散させられている。光酸発生剤と、前記多数の保護酸基を有するセグメント化分岐ポリマーとの増強された相溶性を有することが、相溶性を促進するこれらの官能基を有するこれらの分岐ポリマーからなるレジストの、より高いフォトスピード及びおそらくより高い解像度及び/または他の望ましい性質をもたらすので、これらの官能基が望ましい。トリアリールスルホニウム塩など、イオン性PAGについては、相溶性を促進する官能基には、極性非親水性基(例えば、ニトロまたはシアノ)及び極性親水性基(例えば、ヒドロキシ、カルボキシル)などがあるがこれらに制限されない。以下の構造IIIなどの非イオン性PAGについては、相溶性を付与する好ましい官能基は、上に記載した極性基ほど極性ではない。後者のケースについては、適した官能基には、かなり似た化学的及び物理的性質を非イオン性PAGの性質に付与する基を含めるがこれらに制限されない。2つの特定の実施例として、以下に示した構造IIIなど、芳香族及びペルフルオロアルキル官能基が、非イオン性PAGと分岐ポリマーと*の相溶性を促進するのに有効である。
【0081】
いくつかの好ましい実施態様において、分岐ポリマーは、少なくとも60重量%のアクリレートであるアクリル/メタクリル/スチレン系コポリマーであり、第1の位置または第2の位置のどちらかに存在するメタクリレート繰り返し単位少なくとも60%を有し、第1の位置が、セグメントの1つ(すなわち、分岐セグメントまたは線状主鎖セグメント)であり、第2の位置が、第1の位置と異なるセグメントであり、アクリレート繰り返し単位の少なくとも60%が第2の位置に存在している。
【0082】
いくつかの実施態様において、分岐ポリマーは、エチレン性不飽和炭素原子に共有結合で結合された少なくとも1個のフッ素含有少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含むフッ素含有グラフトコポリマーである。少なくとも1個のフッ素原子を有する繰り返し単位は、線状ポリマー主鎖セグメント中かまたは分岐ポリマーセグメント中のどちらにあってもよく、好ましくは、それは、線状ポリマー主鎖セグメントにある。この発明のフッ素含有グラフトコポリマーに適している代表的なエチレン性不飽和化合物には、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、トリフルオロエチレン、ビニリデンフルオリド、ビニルフルオリド、及びRfOCF=CF2(Rfが1〜約10個の炭素原子の飽和ペルフルオロアルキル基である。)、などがあるがこれらに制限されない。この発明のフッ素含有コポリマーは、以下に記載したコポリマーを含めるがそれらに制限されない、任意の数の付加的なフッ素含有コモノマーからなってもよい。好ましいコモノマーは、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、トリフルオロエチレン及びRfOCF=CF2(Rfが1〜約10個の炭素原子の飽和ペルフルオロアルキル基である。)である。より好ましいコモノマーは、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、及びRfOCF=CF2(Rfが1〜約10個の炭素原子の飽和ペルフルオロアルキル基である。)である。最も好ましいコモノマーは、テトラフルオロエチレン及びクロロトリフルオロエチレンである。
【0083】
いくつかの好ましい実施態様において、フッ素含有グラフトコポリマーは更に、上記のポリマー(a)について示した構造からなる群から選択される少なくとも1つの不飽和化合物から誘導される繰り返し単位からなる。
【0084】
この発明の1つの実施態様において、PAGがフッ素含有グラフトコポリマーに共有結合されて(すなわち、束縛されて)フォトレジストをもたらす。
【0085】
いくつかの好ましい実施態様において、分岐ポリマーは、下記構造:
−C(Rf)(Rf’)OH
を有するフルオロアルコール官能基、を含有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含むフッ素含有コポリマーであり、式中、Rf及びRf’が、1〜10個の炭素原子の同一または異なるフルオロアルキル基であるか、または一緒になってnが2〜約10である(CF2)nである。
【0086】
この発明によるフルオロアルコール官能基を含有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含む所定のフッ素含有分岐コポリマーは、フルオロアルコール官能基の部分として存在するフルオロアルキル基を有することができる。これらのフルオロアルキル基は、Rf及びRfとして示され、それは、部分フッ素化アルキル基または完全フッ素化アルキル基(すなわち、ペルフルオロアルキル基)であってもよい。概して、Rf及びRfは、1〜10個の炭素原子の同一または異なるフルオロアルキル基であるか、または一緒になってnが2〜約10である(CF2)nである。(前の文で、用語「全体として(taken together)」は、Rf及びRfが別個の、不連続なフッ素化アルキル基ではなく、それらが一緒に、5員環の場合に以下に示すような環構造:
【0087】
【化16】
【0088】
を形成することを示す。)Rf及びRfが本発明によって制限なく、部分フッ素化アルキル基であってもよいが、ただし、フルオロアルコール官能基のヒドロキシル(−OH)に酸性度を与えるために十分なフッ素化度が存在していなければならず、水酸化ナトリウム水溶液またはテトラアルキルアンモニウムヒドロキシド水溶液など、塩基性媒体中でヒドロキシルの陽子が実質的に除去される。本発明による好ましいケースにおいて、ヒドロキシル基が以下のpKa値:5 < pKa < 11を有するようにフルオロアルコール官能基のフッ素化アルキル基中に十分なフッ素置換が存在している。好ましくは、Rf及びRfが独立して、1〜5個の炭素原子のペルフルオロアルキル基であり、最も好ましくは、Rf及びRfの両方が、トリフルオロメチルである(CF3)。好ましくは、この発明による各フッ素含有コポリマーの吸収係数が、157nmの波長で4.0μm−1より小さく、好ましくはこの波長で3.5μm−1より小さく、より好ましくは、この波長で3.0μm−1未満である。
【0089】
フルオロアルコール官能基を含有するこの発明のフッ素化ポリマー、フォトレジスト、及び方法は、下記構造:
−ZCH2C(Rf)(Rf)OH
を有することができ、式中、Rf及びRf’が、1〜10個の炭素原子の同一または異なるフルオロアルキル基であるか、または一緒になって(CF2)nであり、nが2〜約10であり、Zが、酸素、硫黄、窒素、リン、他のVA族の元素、及び他のVIA族の元素である。用語「他のVA族の元素」及び「他のVIA族の元素」によって、これらの用語は、これらの族の記載した元素(すなわち、酸素、硫黄、窒素、リン)以外の周期表のこれらの族の1つの他の何れかの元素を本明細書中では意味すると理解される。酸素が好ましいZ基である。
【0090】
本発明の範囲内の、フルオロアルコール官能基を含有する代表的なコモノマーのいくつかの具体的な、非制限的な実施例は、以下の通りである。
【0091】
【化17】
【0092】
ポリマー技術の当業者に周知であるように、エチレン性不飽和化合物がフリーラジカル重合を経てエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を有するポリマーをもたらす。具体的には、下記構造:
【0093】
【化18】
【0094】
を有するエチレン性不飽和化合物は、コポリマー(a1)に関して上に記載される。
【0095】
少なくとも1個のフルオロアルコール基を有するフルオロポリマー(c)が、
(c1)構造:−C(Rf)(Rf’)OH
を有するフルオロアルコール官能基、を含有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含むフッ素含有ポリマーであって、式中、Rf及びRf’が、上に記載した通りである、フッ素含有ポリマーと、
(c2)少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含むフッ素含有コポリマーであって、少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物が環式または多環式であり、且つ、少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物が、エチレン性不飽和炭素原子に共有結合で結合された少なくとも1個のフッ素原子を含有し、且つ、少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物が、下記:
−C(Rf)(Rf’)OH
を有するフルオロアルコール官能基からなり、式中、Rf及びRf’が、上に記載した通りである、フッ素含有コポリマーと、
(c3)フッ素含有コポリマーであって、
(i)2個のエチレン性不飽和炭素原子に共有結合で結合された少なくとも3個のフッ素原子を含有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位、及び
(ii)構造:−C(Rf)(Rf’)OH
を有するフルオロアルコール官能基からなるエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位であって、式中、Rf及びRf’が、上に記載した通りである、繰り返し単位、を含むフッ素含有コポリマーと、
(c4)下記構造:
−ZCH2C(Rf)(Rf’)OH
を有するフルオロアルコール官能基を含有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含むフッ素含有コポリマーであって、式中、Rf及びRf’が、上に記載した通りであり、Zが元素周期表(CAS版)のVA族、及び他のVIA族から選択される元素であり、典型的にはXが、硫黄、酸素、窒素またはリン元素である、フッ素含有コポリマーと、
(c5)下記構造:
【0096】
【化19】
【0097】
[式中、R40、R41、R42、及びR43の各々が独立して、水素原子、ハロゲン原子、1〜10個の炭素原子含有炭化水素基、1〜12個の炭素原子を有する、O、S、N、Pまたはハロゲンで置換された置換炭化水素基、例えば、アルコキシ基、カルボン酸、カルボン酸エステル基または下記構造:
−C(Rf)(Rf’)OR44
を含有する官能基であり、式中、Rf及びRf’が上に記載した通りであり、R44が水素原子または酸−または塩基不安定保護基であり、vが前記ポリマー中の繰り返し単位の数であり、wが0〜4であり、前記繰り返し単位の少なくとも1つは、R40、R41、R42、及びR43の少なくとも1つが構造C(Rf)(Rf’)OR44を含有する構造を有し、例えば、R40、R41、及びR42が水素原子であり、R43がCH2OCH2C(CF3)2OCH2CO2C(CH3)3であるか(CH2CO2C(CH3)3が酸−または塩基不安定保護基である。)、またはR43がOCH2C(CF3)2OCH2CO2C(CH3)3である(OCH2CO2C(CH3)3が酸−または塩基不安定保護基である。]を有するフッ素含有ポリマーと、(c6)ポリマーであって、
(i)構造:−C(Rf)(Rf’)OH
を有するフルオロアルコール官能基を含有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位であって、式中、Rf及びRf’が、上に記載した通りである、繰り返し単位と、
(ii)下記構造:
(H)(R45)C=C(R46)(CN)
を有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位であって、式中、R45が水素原子またはCN基であり、R46がC1−C8アルキル基、水素原子、またはCO2R47基であり、式中、R47がC1−C8アルキル基または水素原子である、繰り返し単位と、を含むポリマーと、からなる群から選択される。
【0098】
フルオロポリマーまたはコポリマーは、コポリマー(b)に関して前に記載した、フルオロアルコール基の一部分として存在するフルオロアルキルを有することができるフルオロアルコール官能基を含有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位(以下に記載した)を含む。これらのフルオロアルキル基は、上に記載したようにRf及びRfとして示される。
【0099】
ポリマー技術の当業者に周知であるように、エチレン性不飽和化合物がフリーラジカル重合を経てエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を有するポリマーをもたらす。具体的には、下記構造:
【0100】
【化20】
【0101】
を有するエチレン性不飽和化合物が、コポリマー(a1)に関して上に記載される。
【0102】
この発明による各フッ素含有コポリマーの吸収係数は、157nmの波長で4.0μm−1より小さく、好ましくはこの波長で3.5μm−1より小さく、より好ましくはこの波長で3.0μm−1より小さく、更により好ましくは、この波長で2.5μm−1未満である。
【0103】
フルオロアルコール官能基を含有するこの発明のフッ素化ポリマー、フォトレジスト、及び方法は、下記構造:
−ZCH2C(Rf)(Rf)OH
式中、Rf及びRfが上に記載した通りであり、Zが上に記載した通りである。
【0104】
本発明の範囲内の、フルオロアルコール官能基を含有する、代表的なコモノマーのいくつかの具体的な、非制限的な実施例を以下に示す。
【0105】
【化21】
【0106】
初期に架橋した後、続いて開裂され得る(例えば、強酸に暴露した時に)いろいろな二官能化合物はまた、この発明のコポリマー中のコモノマーとして有用である。具体的な、非制限的な実施例として、二官能性コモノマーNB−F−OMOMO−F−NBが、この発明のコポリマー中のコモノマーとして望ましい。この、及び似た二官能性コモノマーは、この発明のフォトレジスト組成物のコポリマー成分中に存在しているとき、より高分子量であり低架橋材料であるコポリマーをもたらすことができる。二官能性モノマーからなるこれらのコポリマーを組み入れる、フォトレジスト組成物は、露光した時(以下に説明したように、強酸を光化学的に生成する)、二官能基の開裂が結果として生じ、従って分子量のきわめて著しい低下があり、その因子が非常に改善された現像及びと画像形成特性(例えば、改善されたコントラスト)をもたらすことができるので、改善された現像及びと画像形成特性を有することができる。これらのフルオロアルコール基及びそれらの実施態様は、上記のように及び2000年4月28日に出願されたPCT/US00/11539号により詳細に記載されている。
【0107】
ニトリル/フルオロアルコールポリマー中に存在しているニトリル官能価の少なくとも一部分が、下記構造:
(H)(R48)C=C(R49)(CN)
を有する、少なくとも1個のニトリル基を有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位の組み込みにより生じ、式中、R48が水素原子またはシアノ基(CN)であり、R49が、1〜約8個の炭素原子のアルキル基、CO2R50基(R50が1〜約8個の炭素原子のアルキル基)、または水素原子である。アクリロニトリル、メタクリロニトリル、フマロニトリル(トランス−1,2−ジシアノエチレン)及びマレオニトリル(シス−1,2−ジシアノエチレン)が好ましい。アクリロニトリルが最も好ましい。
【0108】
ニトリル/フルオロアルコールポリマーは典型的には、約10〜約60モルパーセントのニトリル/フルオロアルコールポリマー中に存在しているフルオロアルコール官能基を含有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位と、約20〜約80モルパーセントのポリマー中に存在している少なくとも1個のニトリル基を含有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位と、を有することを特徴とする。低い吸収係数を達成することに関してニトリル/フルオロアルコールポリマーは典型的には、45モルパーセント以下で、及び、更により典型的には、30モルパーセント以下でポリマー中に存在しているフルオロアルコール官能基を含有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を有し、前記ポリマーの残部の少なくとも一部分をなすニトリル基を含有する繰り返し単位の相対的に少量を有することを特徴とする。
【0109】
1つの実施態様において、前記ポリマーは、少なくとも1個の保護官能基を含有する。少なくとも1個の保護官能基の官能基は、典型的には、酸性官能基及び塩基性官能基からなる群から選択される。保護官能基の官能基の非制限的な実施例は、カルボン酸及びフルオロアルコールである。
【0110】
別の実施態様において、ニトリル/フルオロアルコールポリマーが、脂肪族多環式官能価を含有することができる。この実施態様において、脂肪族多環式官能価を含有するニトリル/フルオロアルコールポリマーの繰り返し単位のパーセンテージは、約1〜約70モルパーセントの範囲であり、好ましくは約10〜約55モルパーセントの範囲であり、より典型的には約20〜約45モルパーセントの範囲である。
【0111】
ニトリル/フルオロアルコールポリマーは、本明細書中に具体的に言及及び参照した官能基以外に付加的な官能基を含有することができるが、ただし、好ましくは、芳香族官能価がニトリル/フルオロアルコールポリマー中に存在していない。これらのポリマー中の芳香族官能価の存在は、それらの透明性を減じ、これらの波長で画像形成される層に使用するために適している深い及び遠紫外線領域に非常に強く吸収性であるという結果をもたらすことがわかった。
【0112】
いくつかの実施態様において、ポリマーは、線状主鎖セグメントに沿って化学的に結合された1つ以上の分岐セグメントを含む分岐ポリマーである。分岐ポリマーを、少なくとも1つのエチレン性不飽和マクロマー成分及び少なくとも1つのエチレン性不飽和コモノマーのフリーラジカル付加重合の間に形成することができる。分岐ポリマーは、何れの従来の付加重合方法によって調製されてもよい。分岐ポリマー、またはくし型ポリマーは、1つ以上の相溶性エチレン性不飽和マクロマー成分及び1つ以上の相溶性、従来のエチレン性不飽和マクロマー成分及び1つ以上の相溶性の、従来のエチレン性不飽和モノマー成分から調製されてもよい。典型的には付加重合性の、エチレン性不飽和モノマー成分は、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、フマロニトリル、マレオニトリル、保護及び/または非保護不飽和フルオロアルコール、及び保護及び/または非保護不飽和カルボン酸である。分岐ポリマーのこのタイプの構造及び作製方法、上に記載したポリマータイプ(b)として記載され、WO00/25178に記載されている通りである。
【0113】
少なくとも1つのフルオロアルコールを有するフルオロポリマーは更に、エチレン、アルファ−オレフィン、1,1’−二置換オレフィン、ビニルアルコール、ビニルエーテル、及び1,3−ジエン、からなる群から選択されるスペーサー基を更に含んでもよい。
【0114】
前記ポリマー(d)が、ペルフルオロ(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)もしくはCX2=CY2(式中、X=FまはCF3及びY=−H)の非晶質ビニルホモポリマーまたはペルフルオロ(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)及びCX2=CY2の非晶質ビニルコポリマー、を含み、前記ホモポリマーまたはコポリマーが任意に、1つ以上のコモノマーCR51R52=CR53R54を含有し、式中、R51、Rup 52、R53の各々が独立して、HまたはFから選択され、R54が、−F、−CF3、−OR55(R55がCnF2n+1、n=1〜3)、−OH(R53=Hであるとき)、及びCl(R51、R52、及びR53=Fであるとき)からなる群から選択される。前記ポリマー(d)が、1:2〜2:1比のCH2=CHCF3とCF2=CF2、1:2〜2:1比のCH2=CHFとCF2=CFCl、1:2〜2:1比のCH2=CHF及びCClH=CF2、任意の比のペルフルオロ(2−メチレン−4−メチル−1,3−ジオキソラン)とペルフルオロ(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)、任意の比のペルフルオロ(2−メチレン−4−メチル−1,3−ジオキソラン)と非晶質ビニリデンフルオリド、の非晶質ビニルコポリマー、、及びペルフルオロ(2−メチレン−4−メチル−1,3−ジオキソラン)のホモポリマー、を付加的に含んでもよい。
【0115】
これらのポリマーを、フルオロポリマーの当業者に周知の重合方法によって作製した。前記モノマー、不活性液(CF2ClCCl2F、CF3CFHCFHCF2CF3、または二酸化炭素など)、HFPOダイマーペルオキシド1またはPerkadox登録商標16Nなどの可溶性フリーラジカル開始剤を冷却オートクレーブ中に密封し、次に、
【0116】
【化22】
【0117】
を、重合を開始するのに適切な時に加熱することによって、前記ポリマーの全てを作製した。HFPOダイマーペルオキシド1については、室温(〜25℃)が便利な重合温度であるが、Perkadox登録商標については、60〜90℃の温度を用いることができる。モノマー及び重合温度に応じて、圧力は、大気圧〜500psi以上に変化することができる。次に、不溶解性沈殿物として形成されるとき濾過によって、または反応混合物に可溶性であるとき蒸発または沈殿によって、ポリマーを単離することができる。多くの場合、見掛けの乾燥ポリマーは、まだ相当な溶剤及び/未反応モノマーを保持し、好ましくは窒素ブリード下の真空オーブン内で更に乾燥されなければならない。前記ポリマーの多くはまた、脱イオン水、過硫酸アンモニウムまたはVazo登録商標56 WSPなどの開始剤、モノマー、アンモニウムペルフルオロオクタノエートなどの界面活性剤またはメチルセルロースなどの分散剤を冷却オートクレーブ中に密封し、加熱して重合を開始することによって引き起こされる水性乳化重合によって、作製されてもよい。前記ポリマーは、形成された何れのエマルジョンをも分解し、濾過し、乾燥させることによって、単離され得る。全ての場合において、酸素を反応混合物から取り除くのがよい。クロロホルムなどの連鎖移動剤を添加して分子量を低めてもよい。
【0118】
置換または非置換ビニルエーテルから調製されたニトリル/フルオロアルコール含有ポリマー(e)が、
(e1)ポリマーであって、
(i)下記構造:
CH2=CHO−R56
を有する、ビニルエーテル官能基を含む少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位であって、式中、R56が、1〜約20個の炭素原子の置換または非置換アルキル、アリール、アラルキルまたはアルカリール基、またはS、O、NまたはP原子で置換された前記基である、繰り返し単位と、
(ii)下記構造:
(H)(R57)C=C(R58)(CN)
を有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位であって、式中、R57が水素原子またはシアノ基であり、R58が、1〜約8個の炭素原子のアルキル基、CO2R59基(R59が1〜約8個の炭素原子のアルキル基)、または水素原子である、繰り返し単位と、
(iii)酸基を含む少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位と、を含むポリマーと、
(e2)ポリマーであって、
(i)下記構造:
C(R60)(R61)=C(R62)−O−D−C(Rf)(Rf’)OH
を有する、ビニルエーテル官能基及びフルオロアルコール官能基を含む少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位であって、式中、R60、R61、及びR62が独立して、水素原子、1〜約3個の炭素原子のアルキル基であり、Dが、前記ビニルエーテル官能基を酸素原子を介してフルオロアルコール官能基の炭素原子に結合する少なくとも1個の原子であり、
Rf及びRf’が、上に記載した通りである、繰り返し単位と、
(ii)下記構造:
(H)(R57)C=C(R58)(CN)
を有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位であって、
(H)(R57)C=C(R58)(CN)
式中、R57が水素原子またはシアノ基であり、R58が、1〜約8個の炭素原子のアルキル基、CO2R59基(R59が1〜約8個の炭素原子のアルキル基である。)、または水素原子である、繰り返し単位と、
(iii)酸基を含む少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位と、を含む。
【0119】
フルオロアルコール基及び実施態様は、上記のポリマー(c6)について、より詳細に記載される。本発明の範囲内の、フルオロアルコール官能基を含有する(上に示した)一般化構造式に含まれるビニルエーテルモノマーのいくつかの具体的な、非制限的な実施例を以下に示す。
【0120】
【化23】
【0121】
ニトリル基及びそれらの実施態様、ニトリル及びフルオロアルコール基で作製された線状及び分岐ポリマー及びそれらの実施態様もまた、上記のポリマー(c6)について、より詳細に記載及び参照される。
【0122】
これらのポリマーは、全組成物(固形分)の重量に対して、約10〜約99.5重量%の量で存在していてもよい。
【0123】
(光活性成分(PAC))
ポリマーブレンド中のポリマーが光活性ではない場合、この発明の組成物は、フッ素含有ポリマーに化学結合していない光活性成分(PAC)を含有してもよく、すなわち光活性成分は、組成物中の別個の成分である。光活性成分は通常、化学線に露光した時に酸または塩基のどちらかを生じる化合物である。酸が、化学線に露光した時に生じる場合、PACは光酸発生剤(PAG)と呼ばれる。塩基が、化学線に露光した時に生じる場合、PACは光塩基発生剤(PBG)と呼ばれる。
【0124】
この発明に適した光酸発生剤には、1)スルホニウム塩(構造I)、2)ヨードニウム塩(構造II)、及び3)構造IIIなど、ヒドロキサム酸エステル、などがあるがそれらに制限されない。
【0125】
【化24】
【0126】
構造I−IIにおいて、R1−R3が独立して、置換または非置換アリールまたは置換または非置換C1−C20アルキルアリール(アラルキル)である。代表的なアリール基には、フェニル及びナフチルなどがあるがこれらに制限されない。適した置換基には、ヒドロキシル(−OH)及びC1−C20アルキルオキシ(例えば、C10H21O)などがあるがこれらに制限されない。構造I−IIのアニオンX−は、SbF6 −(ヘキサフルオロアンチモネート)、CF3SO3 −(トリフルオロメチルスルホネート=トリフレート)、及びC4F9SO3 −(ペルフルオロブチルスルホネート)、であってもよいがこれらに制限されない。
【0127】
(溶解抑性剤)(Dissolution Inhibitor)
いろいろな溶解抑性剤を、この発明において利用することができる。理想的には、遠及び極紫外線レジスト(例えば、193nmレジスト)の溶解抑性剤(Dis)は、DI添加剤を含むレジスト組成物の溶解抑制、耐プラズマエッチ性、及び接着性の性質など、多数の材料の要求を満たすように設計/選択される。いくつかの溶解抑制化合物もまた、レジスト組成物中の可塑剤として役立つ。
【0128】
(他の成分)
この発明の組成物は、任意の付加的な成分を含有する。添加され得る付加的な成分の実施例には、解像度増強剤、接着性促進剤、残留物の低減剤(residue reducers)、コーティング助剤、可塑剤、及びTg(ガラス転移温度)調節剤などがあるがそれらに制限されない。架橋剤もまた、ネガ型として機能するレジスト組成物中に存在していてもよい。いくつかの代表的な架橋剤には、4,4’−ジアジドジフェニルスルフィド及び3,3’−ジアジドジフェニルスルホン、などのビス−アジドなどがある。典型的には、少なくとも1つの架橋剤を含有するネガ型として機能する組成物はまた、紫外線に露光した時に生成される反応性種(例えば、ニトレン)と反応して、現像剤溶液中に可溶性でなく、分散または実質的に膨潤しない架橋ポリマーを製造することができる適した官能価(例えば、不飽和C=C結合)を含有する。
【0129】
(フォトレジスト画像の形成方法)
フォトレジスト画像を基板上に作製する方法が、順に、
(X)フォトレジスト層を画像ごとに露光して画像形成及び非画像形成領域を形成する工程であって、前記フォトレジスト層が、
(A)(a)〜(e)からなる群から選択される少なくとも2つのポリマーと、
(B)光活性成分と、を含むフォトレジスト組成物から調製される、工程と、(Y)画像形成及び非画像形成領域を有する、露光されたフォトレジスト層を現像してレリーフ画像を基板上に形成する工程と、を含む。
【0130】
(画像に従った露光)
フォトレジスト層を作製するために、フォトレジスト組成物を基板上に適用し、乾燥させて溶剤を除去した。そのように形成されたフォトレジスト層は、電磁スペクトルの紫外領域に、特にそれらの波長<365nmに感受性である。この発明のレジスト組成物の画像に従った露光を、365nm、248nm、193nm、157nm、及びより低い波長を含めるがそれらに制限されない多くの異なる紫外線の波長で行うことができる。画像に従った露光は好ましくは、248nm、193nm、157nm、またはより低い波長の紫外線で行われ、好ましくはそれは、193nm、157nm、あるいはより低い波長の紫外線で行われ、最も好ましくは、それは157nmあるいはより低い波長の紫外線で行われる。画像に従った露光を、レーザーあるいは同等のデバイスによってデジタルにあるいはフォトマスクを用いて非デジタルに、のどちらかで行うことができる。レーザーによるデジタル画像形成が好ましい。この発明の組成物のデジタル画像形成の適したレーザーデバイスには、193nmの紫外線出力を有するアルゴン−フッ素エキシマーレーザー、248nmの紫外線出力を有するクリプトン−フッ素エキシマーレーザー、157nmの出力を有するフッ素(F2)レーザー、などがあるがそれらに制限されない。上に記載したように、画像に従った露光の、より低波長の紫外線の使用は、より高い解像度(より低い解像限界)に相当し、より低波長(例えば、193nm、あるいは157メートル、あるいはより低く)の使用は、より高波長(例えば、248nm以上)の使用より概して好ましい。
【0131】
(現像)
この発明のレジスト組成物中の成分は、紫外線に画像ごとに露光した後の現像のために十分な官能価を含有しなくてはならない。好ましくは、官能価は、水酸化ナトリウム溶液、水酸化カリウム溶液、あるいは水酸化アンモニウム溶液などの塩基性現像剤を用いて現像水溶液が可能であるように、酸あるいは保護酸である。
【0132】
例えば、この発明のレジスト組成物中のポリマー(c)は典型的には、下記構造単位:
−C(Rf)(Rf’)OH
の少なくとも1つのフルオロアルコール含有モノマーからなるする酸含有材料であり、式中、
−C(Rf)(Rf’)OH
【0133】
Rf及びRfが1〜10個の炭素原子の同一あるいは異なるフルオロアルキル基であるか、または一緒になって(CF2)nであり、nが2〜10である。酸性フルオロアルコール基の量は、アルカリ性現像剤水溶液の良好な現像のために必要とされる量を最適にすることによって、所与の組成物について定量される。加工可能なフォトレジスト水溶液が基板にコートされるかまたは他の方法で適用されて画像ごとに紫外線に露光されるとき、バインダー材料が、露光時に少なくとも部分的に脱保護されてフォトレジスト(あるいは他の光画像形成性コーティング組成物)をアルカリ性現像剤水溶液中で加工可能にするのに十分な酸基(例えば、フルオロアルコール基)及び/あるいは保護酸基を含有するのがよいことを、フォトレジスト組成物の現像が必要とすることがある。ポジ型として機能するフォトレジスト層の場合に、フォトレジスト層は、紫外線に露光される部分の現像中に除去されるが、0.262Nの水酸化テトラメチルアンモニウムを含有する完全水溶液などのアルカリ性水溶液によって現像中に、露光されない部分において実質的に影響されない(通常、120秒以下、25℃での現像)。ネガ型として機能するフォトレジスト層の場合に、フォトレジスト層は、紫外線に露光されない部分の現像中に除去されるが、臨界液あるいは有機溶剤のどちらかを用いて現像中に、露光部分において実質的に影響されない。
【0134】
本明細書中で用いる場合の、臨界液は、その臨界温度の付近あるいはより高い温度に加熱されてその臨界圧力の付近あるいはより高い圧力まで圧縮される1つ以上の物質である。この発明の臨界液は、前記液の臨界温度より15℃超、低い温度であり、前記液の臨界圧力より少なくとも5気圧超、低い圧力である。二酸化炭素が、本発明の臨界液のために用いられてもよい。いろいろな有機溶剤もまた、この発明の現像剤として用いることができる。これらには、ハロゲン化溶剤及び非ハロゲン化溶剤などがあるがそれらに制限されない。ハロゲン化溶剤が代表的であり、フッ素化溶剤が、より代表的である。
【0135】
(基板)
この発明に使用された基板は、実例として、ケイ素、酸化ケイ素、窒化ケイ素、あるいは半導性製造に用いられるいろいろな他の材料であってもよい。
【0136】
(実施例)
(用語集)
【0137】
【表1】
【0138】
【表2】
【0139】
【化25】
【0140】
【表3】
【0141】
(実施例1)
TFE/NB−F−OH/tBAターポリマーの合成
NB−F−OHの合成は、次の通りであった。
機械撹拌機、添加漏斗及び窒素入口を備えた乾燥丸底フラスコを窒素で洗い流し、95%の水素化ナトリウム19.7g(0,78モル)及び無水DMFを500mL、充填した。撹拌した混合物を5℃に冷却し、温度が15℃より低いままであるように、exo−5−ノルボルネン−2−olを80.1g(0.728モル)、滴下した。得られた混合物を、1/2時間撹拌した。HFIBO(131g、0.728モル)を室温で滴下した。得られた混合物を、室温で一晩、撹拌した。メタノール(40mL)を添加し、DMFの大部分を、減圧下、回転式蒸発器で除去した。残留物を200mLの水で処理し、pHが約8.0になるまで、氷酢酸を添加した。混合物の水溶液を、3 × 150mLのエーテルで抽出した。混合エーテル抽出物を、3 × 150mLの水及び150mLのブラインで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、回転式蒸発器で油に濃縮した。0.15−0.20トールでのKugelrohr蒸留及び30−60℃のポット温度により、生成物190.1(90%)を生じた。up1H NMR (δCD2Cl2) 1.10−1.30(m,1H),1.50(d,1H),1.55−1.65(m,1H),1.70(s,1H), 1.75(d,1H),2.70(s,1H),2.85(s,1H),3.90(d, 1H),5.95(s,1H),6.25(s,1H)。同様に調製した別の試料を、元素分析にかけた。C11H12F6O2についての計算値。C、45.53;H、4.17;F、39.28。結果。C、44.98;H、4.22;F、38.25。NB−F−OHの合成は、2000年、11月9日に公開されたPCT国際出願第2000067072号に記載されている。
【0142】
200mLのステンレス鋼オートクレーブに、上に記載したように作製したNB−F−OH48.7g(0.168モル)を充填した。tert−ブチルアクリレート(tBA、アルドリッチケミカルカンパニー)1.54g(0.012モル)、1,1,2−トリクロロトリフルオロエタンを75mL及びPerkadox登録商標16を0.6g。容器を閉じ、冷却し、排気し、窒素で数回パージした。次に、それに、テトラフルオロエチレン(TFE)42g(0.42モル)を充填した。オートクレーブを約18時間、50℃で容器内容物と共にに撹拌し、294psi〜271psiの圧力変化をもたらした。容器を室温に冷却し、1気圧に脱気した。容器内容物を、1,1,2−トリクロロトリフルオロエタンを用いてすすぎ洗いをして除去し、透明な溶液を生じた。この溶液を過剰なヘキサンにゆっくりと添加し、白いポリマー沈殿物を生じ、真空オーブン内で一晩、乾燥させた。収量は11.3g(12%)であった。GPC分析: Mn = 7300、Mw = 10300、Mw/Mn = 1.41。DSC分析:135℃のTgが第二加熱で観察された。フッ素NMRスペクトルは、−75.6ppm(CF3)及び−95〜−125ppm(CF2)でピークを示し、それぞれ、NB−F−OH及びTFEの混入を裏づけた。ポリマーを炭素NMRによって分析し、適切なピークの積分によって、39モル%のTFE、42モル%のNB−F−OH及び18モル%のtBAを含有するのがわかった。分析結果:C、43.75;H、3.92;F、40.45。
【0143】
(実施例2)
TFE、NB−F−OH及びtert−ブチルアクリレートのターポリマーを、以下の手順を用いて調製した。約270mLの容量の金属製圧力容器に、71.05gのNB−F−OH、0.64gのtert−ブチルアクリレート及び25mLの1,1,2−トリクロロトリフルオロエタンを充填した。容器を閉じ、約−15℃に冷却し、窒素で400psiに加圧し、数回、脱気した。反応装置を50℃に加熱し、内圧力が340psiに達するまで、TFEを添加した。1,1,2−トリクロロトリフルオロエタンで100mLに希釈したNB−F−OH75.5g及びtert−ブチルアクリレート9.39gの溶液を、12時間、0.10mL/分の速度で反応装置内にポンプで送った。前記モノマー原料溶液の開始と同時に、1,1,2−トリフルオロトリクロロエタンで75mLに稀釈した、6.3gのPerkadox登録商標16N及び30〜35mLの酢酸メチルの溶液を、6分間、2.0mL/分の速度で、次いで、8時間、0.08mL/分の速度で反応装置内にポンプで送った。必要に応じてTFEを添加することによって内圧力を340psiに維持した。16時間の反応時間の後に、容器を室温に冷却し、1気圧に脱気した。回収したポリマー溶液を、撹拌しながらゆっくりと過剰なヘキサンを添加した。沈殿物を濾過し、ヘキサンで洗浄し、真空オーブン内で乾燥させた。得られた固体を、THF及び1,1,2−トリクロロ−トリフルオロエタンの混合物中に溶解し、ゆっくりと過剰なヘキサンに添加した。沈殿物を濾過し、ヘキサンで洗浄し、一晩、真空オーブン内で乾燥させ、白色のポリマー47.5gを生じた。その13C NMRスペクトルから、ポリマー組成物は、35% のTFE、42%のNB−F−OH及び22%のtBAであることがわかった。DSC:Tg = 151℃。 GPC:Mn = 6200、Mw = 9300、Mw/Mn = 1.50。分析結果:C、44.71;H、4.01;F、39.38。
【0144】
(実施例3)
NB−Me−F−OHのホモポリマーを、以下の手順を用いて調製した。
窒素下、アリルパラジウム錯体[(η3−MeCHCHCH2)PdCl]2を0.19g(0.49mmol)及び0.34g(0.98mmol)の銀ヘキサフルオロアンチモネートをクロロベンゼン(40mL)中に懸濁した。得られた混合物を、30分間、室温で撹拌した。次に、それを濾過して沈殿AgClを除去し、更に10mLのクロロベンゼンを添加した。得られた溶液を、NB−Me−F−OH15.0g(49.0mmol)に添加した。得られた反応混合物を、室温で3日間、撹拌した。未精製生成物ポリマーを、ヘキサン中で沈殿によって単離した。この材料をアセトン中で取り上げ、10重量%溶液を生じ、0.2μmのテフロン登録商標フィルターを通して濾過し、次に、アセトン濾液を乾燥状態に濃縮し、付加共重合体7.8gをもたらした。GPC:Mn = 6387; Mw = 9104; Mw/Mn = 1.43。分析結果: C、46.28;H、4.81;F、34.22。ポリマーの1H NMR(CD2Cl2)は、以下に示した飽和ビニル−付加重合体と一致していた。
【0145】
【化26】
【0146】
(実施例4)
NB−F−OH/NB−F−O−t−BuAcコポリマーを、以下の手順を用いてポリマー改質によって合成した。
機械撹拌機、添加漏斗及び還流凝縮器を有する500mLの丸底フラスコに、ヘキサフルオロイソプロパノール基0.185モルを含有すると計算されたNB−F−OHビニル付加単独重合体53.6g、アセトニトリル200mL及び炭酸カリウム30.6g(0.222モル)を充填した。この混合物を0.5時間還流した。tert−ブチルブロモアセテート(10.8g、0.055モル)を滴下し、得られた混合物を3時間、還流した。混合物を室温に冷却し、300mLのアセトンを添加することによって希釈した。次に、混合物を濾過し、約200mLの容量まで真空下で濃縮した。濃縮混合物を、5.4Lの1.0%HCl水溶液中にゆっくりと注いだ。得られた沈殿物を濾過し、水で洗浄した。次いで、沈殿物を、200mLのアセトン中に溶解し、この溶液に、5mLの水及び3mLの36%HCl水溶液の溶液に添加した。得られた溶液はわずかに曇っていた。それを、水5.4L中に注いだ。沈殿物を数回、水で洗浄し、乾燥させてNB−F−OH/NB−FO−t−BuAcコポリマー44.0gをもたらした。19F NMR(δアセトン−d6)−73.1(NB−F−O−t−BuAc由来の単位に帰属されたs)、−75.4(NB−F−OH由来の単位に帰属されたs)スペクトルを積分することによって、ポリマーの組成は、64%のNB−F−OH及び36%のNB−F−O−t−BuAcであることがわかった。ポリマーの試料を、2−ヘプタノンに溶かした5%溶液からスピンコートした。157nmでの吸収係数を測定すると、47.2nmのフィルム厚さで3.15μm−1及び45.7nmのフィルム厚さで2.70μm−1であった。
【0147】
(実施例5)
NB−Me−F−OH/NB−Me−F−O−t−BuAcコポリマーを以下の手順を用いるポリマー改質によって合成した。
実施例4を繰り返したが、次の点が異なっていた。NB−Me−F−OHビニル付加単独重合体をNB−F−OHビニル付加単独重合体の代わりに用い、NB−Me−F−OH/NB−Me−F−O−t−BuAcコポリマーを合成した。19F NMR(δアセトン−d6)−73.2(NB−F−O−t−BuAc由来の単位に帰属されたs)、−75.3(NB−Me−F−OH由来の単位に帰属されたs)。スペクトルを積分することによって、ポリマーの組成は、68%のNB−Me−F−OH及び32%のNB−Me−F−O−t−BuAcであることがわかった。
【0148】
(実施例6)
3/1ポリマーブレンドの、以下の調合物を調製し、磁気的に撹拌した。
【0149】
【表4】
【0150】
スピンコーティングを、直径4インチタイプ「P」、<100>方位(orientation)、シリコンウエハ上でBrewer Science Inc.モデル−100CBコンビネーションスピンコータ/ホットプレートを用いて行った。 現像を、Litho Tech Japan Co. レジスト現像アナライザ(モデル−790)で行った。
【0151】
ウエハを作製するために、ヘキサメチルジ−シラザン(HMDS)プライマー5mLを堆積し、10秒間、5000rpm でスピンした。次いで、上記の溶液1−3mLを、0.45μmのPTFEシリンジフィルターを通して濾過した後、堆積させ、60秒間、2500rpmでスピンし、60秒間、120℃で焼き付けた。
【0152】
248nmの画像形成を行うために、248nmでのエネルギーの約30%を通過させる248nm干渉フィルタを通してORIEL モデル−82421ソーラーシミュレーター(1000ワット)からの広帯域紫外線を通過させることによって得られた光に、被覆ウエハを露光した。露光時間は、5秒であり、7.5mJ/cm2の非減衰線量を提供した。いろいろな中性光学濃度(neutral optical density)の18位置を有するマスクを用いることによって、いろいろな露光線量を生成した。露光後に、露光したウエハを60秒間、100℃で焼き付けた。ウエハを、60秒間、水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)水溶液(シプリー LDD−26W現像剤、 0.26N TMAH溶液)中で現像し、ポジ画像パターンを提供した。
【0153】
(実施例7)
1/1ポリマーブレンドの、以下の調合物を調製し、機械的に撹拌した。
【0154】
【表5】
【0155】
加工を実施例6の場合と同様に行ったが、ただし、露光は10秒間であり、15mJ/cm2の非減衰線量を提供した。ポジ画像パターンが得られた。
【0156】
(実施例8)
1/3ポリマーブレンドの、以下の調合物を調製し、機械的に撹拌した。
【0157】
【表6】
【0158】
加工を実施例6の場合と同様に行ったが、ただし、露光は10秒間であり、15mJ/cm2の非減衰線量を提供した。ポジ画像パターンが得られた。
(発明の分野)
本発明は、光画像形成に関するものであり、特に、フォトレジスト(ポジ型として機能する、及び/またはネガ型として機能する)の使用に関する。本発明はまた、レジスト中のベース樹脂として及び可能性としては多くの他の適用に有用な高い紫外線透明性(特に短い波長、例えば、157nmにおいて)を有するポリマー組成物のブレンドに関する。
【0002】
(発明の背景)
ポリマー製品は、画像形成及び感光系の成分として、特に、Introduction to Microlithography,Second Edition、L.F.Thompson、C.G.Willson、及びM.J.Bowden著、American Chemical Society,Washington,DC,1994年、に記載されているような光画像形成系に用いられる。かかる系において、紫外線(UV)光または他の電磁放射線が、光活性成分を含有する材料に影響を与え、その材料の物理的または化学的変化を引き起こす。半導体デバイスの製造に有用な画像に加工され得る有用なまたは潜画像がそれによって生み出される。
【0003】
ポリマー製品それ自体が光活性であってもよいが、概して感光性組成物は、ポリマー製品のほかに1つ以上の光活性成分を含有する。電磁放射線(例えば、紫外線)に露光した時に、光活性成分が作用して、レオロジー状態、溶解度、表面の特徴、屈折率、色、電磁気特性または上記のトンプソンらの刊行物に記載されたような感光性組成物の他のかかる物理的または化学的特性を変化させる。
【0004】
半導体デバイスのサブミクロンのレベルでの非常に微細な特徴を画像形成するために、遠または極紫外線(UV)の電磁放射線が必要とされる。ポジ型として機能するレジストは概して、半導体製造に利用される。ノボラックポリマー及びジアゾナフトキノンを溶解抑性剤として用いる365nm(Iライン)の紫外線のリソグラフィは、約0.35〜0.30ミクロンの解像限界を有する最近確立されたチップ技術である。p−ヒドロキシスチレンポリマーを用いる248nmの遠紫外線のリソグラフィは周知であり、0.35〜0.18nmの解像限界を有する。波長減少によって低解像限界の低下するため(すなわち、193nmの画像形成について0.18〜0.12ミクロンの解像限界及び157nmの画像形成について約0.07ミクロンの解像限界)、より短い波長においても、将来のフォトリソグラフィにとって大きな推進力がある。193nmの露光波長(アルゴンフッ素(ArF)エキシマーレーザーから得られる)を用いるフォトリソグラフィは、0.18及び0.13μmのデザインルールを用いる将来のマイクロエレクトロニクス製造の有力な候補である。この非常に短い波長で十分な透明性及び他の必要とされる性質を有する適した材料を見いだすことができるとすれば、157nmの露光波長(フッ素エキシマーレーザーから得られる)を用いるフォトリソグラフィは、(193nmよりも)前記時期の更に先のマイクロリソグラフィの有力な候補である。193nm以下の波長での従来の近紫外線及び遠紫外線有機フォトレジストの不透明度は、これらの短い波長での単一層の方法でそれらを使用するのを妨げる。
【0005】
193nmでの画像形成に適したいくつかのレジスト組成物が周知である。例えば、シクロオレフィン−無水マレイン酸交互コポリマーを含むフォトレジスト組成物が、193nmでの半導体の画像形成に有用であることが示された(F.M.Houlihanら著、Macromolecules,30,6517−6534ページ(1997年)、T.Wallowら著、SPIE, Vol. 2724,355−364ページ、及びF.M.Houlihanら著、Journal of Photopolymer Science and Technology,10,No.3,511−520ページ(1997年)を参照のこと)。いくつかの出版物は、193nmのレジストに焦点を合わせている(すなわち、U.Okoroanyanwuら著、SPIE,Vol.3049,92−103ページ、R.Allenら著、SPIE, Vol. 2724, 334−343ページ、及びSemiconductor International、1997年9月、74−80ページ)。官能化ノルボルネンの付加重合体及び/またはROMP(開環複分解重合)を含む組成物が開示されている(例えば、B・F・グッドリッチに対するPCT公開第97/33198号(9/12/97))。ノルボルナジンのホモポリマー及び無水マレイン酸コポリマー及び193nmのリソグラフィでのそれらの使用が開示されている(J.Niu及びJ.Frechet著,Angew. Chem.Int.Ed.,37,No.5,(1998年)、667−670ページ)。193nmのリソグラフィに適しているフッ素化アルコール置換多環式エチレン性不飽和コモノマー及び二酸化硫黄のコポリマーが報告されている(H.Itoら著、“Synthesis and Evaluation of Alicyclic Backbone Polymers for 193 nm Lithography”,16章,ACS Symposium Series 706(Micro−and Nanopatterning Polymers)208−223ページ(1998年)、及びH.Itoら著、Abstract in Polymeric Materials Science and Engineering Division,American Chemical Society Meeting,77巻,ネバダ州、ラスベガスで1997年9月8−11日に開催されたFall Meeting)。この交互コポリマー中に二酸化硫黄から誘導される繰り返し単位が存在するので、それは、157nmでのこのポリマーの過度に高い吸収係数のために157nmのリソグラフィに適していない。
【0006】
芳香族部分に結合したフッ素化アルコール官能基を含有するフォトレジストが開示されている(K. J. Przybillaら著、“Hexafluoroacetone in Resist Chemistry: A Versatile New Concept for Materials for Deep UV Lithography”,SPIE Vol.1672,(1992年),500−512ページ)。248nmのリソグラフィには適しているが、これらのレジストは、それらに含有された芳香族官能価のために、193または157nmでのリソグラフィに不適当である(これらの波長での芳香族レジスト成分の過度に高い吸収係数による)。
【0007】
フルオロオレフィンモノマーと環状不飽和モノマーとのコポリマーが周知である(Daikin Industries,Ltd.に対する米国特許第5,177,166号及び5,229,473号)。これらの特許は、何れかの感光性組成物中でのこれらのコポリマーの使用を開示していない。特定のフッ素化オレフィンと特定のビニルエステルとのコポリマーが周知である。例えば、TFEとシクロヘキサンカルボキシレート、ビニルエステル、とのコポリマーが、周知である(Dainippon Ink and Chemicalsに対する日本特許出願第03281664号)。TFEとビニルアセテートなどのビニルエステルとのコポリマー、屈折率画像形成(例えば、ホログラフィー)用の感光性組成物中でのこれらのコポリマーの使用が周知である(DuPontに対する米国特許第4,963,471号)。
【0008】
官能基を含有するノルボルネンタイプのモノマーとエチレンとのコポリマーが以前に開示されており(B.F.Goodrichに対する公開第/56837)、官能基を含有するノルボルネンタイプのモノマーとビニルエーテル、ジエン、及びイソブチレンとのコポリマーも同様に開示されている(B.F. Goodrichに対するUS5,677,405号)。
【0009】
フッ素化アルコールコモノマーと他のコノモマーとの特定のコポリマーが、米国特許3,444,148号及び日本公開特許第62186907 A2号に報告されている。これらの特許は、膜または他の非感光性フィルムまたは繊維に関するものであり、感光性層(例えば、レジスト)中でのフッ素化アルコールコモノマーを教示していない。
【0010】
米国特許第5,655,627号には、シリコンウエハを、溶剤に溶かしたペンタフルオロプロピルメタクリレート−t−ブチルメタクリレートのコポリマーで被覆し、次いで193nmで露光し、二酸化炭素臨界液(critical fluid)で現像することによってネガ型トーンレジストを形成する方法が開示されている。
【0011】
193nm及び/または157nmでの光学透明性の他、耐プラズマエッチ性、及び塩基現像剤水溶液への溶解度を有する単一層フォトレジストの多くの要求条件を満たすレジスト組成物が更に必要とされている。
【0012】
(発明の概要)
第1の態様において、本発明は、
(A)(a)少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含むフッ素含有コポリマーであって、少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物が多環式であることにより特徴付けられるものと、
(b)保護された酸基を含有する分岐ポリマーであって、前記ポリマーが線状主鎖セグメントに沿って化学的に結合された1つ以上の分岐セグメントを含むものと、
(c)下記構造:
−C(Rf)(Rf’)OH
(式中、Rf及びRf’が、1〜約10個の炭素原子の、同一または異なるフルオロアルキル基であるか、または一緒になってnが2〜約10である(CF2)nである。)を有する少なくとも1つのフルオロアルコール基を有するフルオロポリマーと、
(d)ペルフルオロ(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)もしくはCX2=CY2(式中、X=FまたはCF3及びY=−H)の非晶質ビニルホモポリマーまたはペルフルオロ(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)及びCX2=CY2の非晶質ビニルコポリマーと、
(e)置換または非置換ビニルエーテルから調製されたニトリル/フルオロアルコール含有ポリマーと、からなる群から選択される少なくとも2つのポリマー、及び
(B)少なくとも1つの光活性成分、を含むフォトレジスト組成物を提供する。
【0013】
第2の態様において、本発明は、フォトレジスト画像を基板上に作製する方法であって、順に、
(X)フォトレジスト層を画像ごとに露光して画像形成及び非画像形成領域を形成する工程であって、前記フォトレジスト層が、
(A)上記の(a)−(e)から選択される少なくとも2つのポリマーと、
(B)光活性成分と、を含むフォトレジスト組成物から調製される工程と、
(Y)画像形成及び非画像形成領域を有する、露光されたフォトレジスト層を現像してレリーフ画像を基板上に形成する工程と、を含む方法を提供する。
【0014】
(好ましい実施態様の詳細な説明)
フォトレジスト要素は、支持体と、少なくともフォトレジスト層と、を含み、前記フォトレジスト層が、(A)(a)−(e)からなる群から選択される少なくとも2つのポリマーと、光活性成分と、を含むフォトレジスト組成物から作製される。
【0015】
前記ポリマーは、半導体リソグラフィ用のフォトレジスト組成物に有用である。特に、193nmより低い光吸収はこの発明の材料の主な特質であるので、それらは、この波長で特に有用であるはずである。前記ポリマーは、約157nmの波長で吸収係数が約5.0μm−1未満であり、典型的には約4.0μm−1未満であり、より典型的には、約3.5μm−1未満である。
【0016】
(ポリマー)
フッ素含有コポリマー(a)はが、少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含み、少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物が多環式であることにより特徴付けられるものである。コポリマー(a)が、(a1)少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含むフッ素含有コポリマーであって、少なくとも1つの他のエチレン性不飽和化合物が、多環式であり、少なくとも1つの他のエチレン性不飽和化合物がエチレン性不飽和炭素原子に共有結合で結合された少なくとも1個のフッ素原子を含有することにより特徴付けられるもの、及び
(a2)フッ素含有コポリマーであり、環構造内に含有される炭素原子に共有結合で結合されており、且つ、少なくとも1個の共有結合で結合された炭素原子によってエチレン性不飽和化合物の各エチレン性不飽和炭素原子から隔てられている、フッ素原子、ペルフルオロアルキル基、及びペルフルオロアルコキシ基の少なくとも1つを含有する少なくとも1つの多環式エチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含むフッ素含有コポリマー、からなる群から選択される。
【0017】
(a1)に開示された前記少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物が、
【0018】
【化2】
【0019】
からなる群から選択されてもよく、式中、m及びnの各々が0、1または2であり、pが少なくとも3の整数であり、a及びbが独立して1〜3であるが、ただし、b=2であるとき、a=1でないか、または逆もまた同様であり、
R1〜R14が同一または異なっており、各々が水素原子、ハロゲン原子、少なくとも1個のO、N、S、Pまたはハロゲン原子で任意に置換された1〜14個の炭素原子、典型的には1〜10個の炭素原子含有炭化水素基、例えば、第二または第三アルキルカルボン酸基またはカルボン酸エステル基などのカルボキシル基、を表し、
R15が、任意に1個以上のエーテル酸素を含有する、約4〜20個の炭素原子の飽和アルキル基であるが、ただし、炭素原子の、水素原子に対する比が0.58以上であり、
R16〜R21が各々、独立して水素原子、C1−C12アルキル、(CH2)qCO2A、CO2(CH2)qCO2AまたはCO2Aであり、qが1〜12であり、Aが水素または酸保護基であるが、ただし、R18〜R21の少なくとも1つがCO2Aである。
【0020】
この発明のコポリマー(及び前記コポリマーからなるフォトレジスト)の重要な特性は、多環式繰り返し単位と、フッ素を含有している同一または異なる繰り返し単位との、更に、芳香族官能価を含有しないコポリマー中のすべての繰り返し単位との、協働的な組合せである。コポリマーの多環式繰り返し単位の存在は、コポリマーがプラズマエッチング(例えば、反応性イオンエッチング)に対する高い耐性を有するために重要である。多環式繰り返し単位はまた、レジストフィルムの寸法安定性を維持するために重要である高いガラス転移温度を提供する傾向がある。フッ素を含有している繰り返し単位の存在は、コポリマーが高い光学的透明性を有するために、すなわち、極及び遠紫外線の低い光吸収を有するために、重要である。コポリマーの繰り返し単位に芳香族官能価の存在しないこともまた、ポリマーが高い光学的透明性を有するために必要とされる。
【0021】
この発明の特定の実施態様において、フッ素含有コポリマーは、環構造内に含有される炭素原子に共有結合で結合された、フッ素原子、ペルフルオロアルキル基、及びペルフルオロアルコキシ基、からなる群から選択される少なくとも1個の原子または基、を有する少なくとも1つの多環式エチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位からなる場合がある。フッ素原子、ペルフルオロアルキル基及びペルフルオロアルコキシ基は、かかる基がエチレン性不飽和炭素原子に直接に結合するときに金属触媒付加重合または複分解重合によって環式エチレン性不飽和化合物の重合を妨害する傾向がある。従って、少なくとも1個のフッ素原子、ペルフルオロアルキル基及びペルフルオロアルコキシ基が、少なくとも1個の共有結合で結合された炭素原子によってエチレン性不飽和化合物の各エチレン性不飽和炭素原子から隔てられていることは、かかるケースでは重要である。更に、前記原子及び/または基を直接に環に結合することが、望ましくない非フッ素化脂肪族炭素原子の存在を最小にする。
【0022】
この発明のコポリマーは驚くべきことに、半導体の適用のためにフォトレジスト組成物に必要な性質を与えるために重要である均合のとれた性質を有する。第1の、これらのコポリマーは、193nm及び157nmの波長を含めて、極及び遠紫外線の予想外に低い光吸収を有する。低い光吸収のコポリマーを有することは、高いフォトスピードレジストを調合するために重要であり、そこにおいて、紫外線の大部分が、光活性成分によって吸収され、コポリマー(レジストのマトリックス)による吸収のために失われない。第2に、この発明のフッ素含有ポリマーは望ましくは、非常に低いプラズマエッチ速度を示す。この後者の性質は、半導体製造に必要とされる高解像度精密レジストをもたらすのに重要である。これらの性質の適した値を同時に達成することは、157nmでの画像形成に特に重要である。この場合、超薄レジストが高解像度のために必要とされるが、これらの薄レジストは、にもかかわらず、高度に耐エッチ性であり、レジストは、画像形成基板の上に残っており、エッチングする間、下にある基板の領域を保護する。
【0023】
この発明の好ましい実施態様において、フォトレジスト組成物は、少なくとも1つの多環式コモノマー(すなわち、少なくとも2つの環を含むコモノマー、例えば、ノルボルネン)から誘導される繰り返し単位を含むコポリマーを含む。これは、3つの主な理由のために重要である。1)多環式モノマーが、概して十分な耐プラズマエッチ性を有するこれらの多環式モノマーの繰り返し単位からなるベースポリマーをもたらす、相対的に高い炭素対水素の比(C:H)を有する。2)重合した時に好ましくは完全に飽和され得る、多環式モノマーから誘導される繰り返し単位を有するポリマーは概して、良好な透明性の特性を有する。及び3)多環式モノマーから調製されたポリマーは通常、加工する間の改善された寸法安定性のために相対的に高いガラス転移温度を有する。エチレン性不飽和基が、ノルボルネンの場合のように多環式部分中に含有されてもよく、または1−アダマンタンカルボキシレートビニルエステルの場合のように多環式部分の側基であってもよい。高いC:H比を有する、多環式コモノマーから誘導される繰り返し単位からなるポリマーが、相対的に低いOhnishi数(O.N.)を有し、そこにおいて、O.N.=N/(Nc−No)
であり、Nがポリマーの繰り返し単位の酸素原子の数であり、Ncがポリマーの繰り返し単位の炭素原子の数であり、Noがポリマーの繰り返し単位の酸素原子の数である。ポリマーの反応性イオンエッチ(RIE)速度が、Ohnishi数(O.N.)の一次関数であることを記載する、Ohnishiらによって発見された経験的法則がある(J. Electrochem.Soc.,Solid−State Sci.Technol.,130, 143(1983年)。1つの実施例として、ポリ(ノルボルネン)は、式ポリ(C7H10)及びO.N.=17/7=2.42を有する。多環式部分及び相対的に小さい酸素含有官能価を有する主に炭素及び水素からなるポリマーは、相対的に低いO.N.を有し、Ohnishiの経験的法則によれば、相応する低い(近似的に線形の)RIE速度を有する。
【0024】
ポリマー技術の当業者に周知であるように、エチレン性不飽和化合物は、フリーラジカル重合を経て、エチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を有するポリマーをもたらす。特に、フリーラジカル重合を経る下記構造:
【0025】
【化3】
【0026】
を有するエチレン性不飽和化合物は、繰り返し単位:
【0027】
【化4】
【0028】
を有するポリマーをもたらし、式中、P、Q、S、及びTが独立して、H、F、Cl、Br、1〜14個の炭素原子を含有するアルキル基、アリール、6〜14個の炭素原子を含有するアラルキル基、または3〜14の炭素原子を含有するシクロアルキル基を表すことができるがそれらに制限されない。
【0029】
1つのエチレン性不飽和化合物だけが重合を経る場合、得られたポリマーはホモポリマーである。2つ以上の異なるエチレン性不飽和化合物が重合を経る場合、得られたポリマーはコポリマーである。
【0030】
エチレン性不飽和化合物及びそれらの相当する繰り返し単位のいくつかの代表的な実施例を以下に示す。
【0031】
【化5】
【0032】
以下の節において、この発明のフォトレジスト組成物は、それらの成分の部を用いて記載される。
【0033】
この発明のフォトレジストは、少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含むフッ素含有コポリマーを含み、少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物が多環式であり、少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物が、エチレン性不飽和炭素原子に共有結合で結合された少なくとも1個のフッ素原子を含有する。この発明のフッ素含有コポリマーに適している代表的なエチレン性不飽和化合物には、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、トリフルオロエチレン、ビニリデンフルオリド、ビニルフルオリド、ペルフルオロ−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)、ペルフルオロ−(2−メチレン−4−メチル−1,3−ジオキソラン、CF2=CFO(CF2)tCF=CF2(tが1または2である。)、及びRfOCF=CF2(Rfが1〜約10個の炭素原子の飽和フルオロアルキルである。)などがあるがこれらに制限されない。この発明のフッ素含有コポリマーは、上に記載したフッ素含有コポリマーを含めるがそれらに制限されない、任意の数の付加的なフッ素含有コモノマーからなってもよい。好ましいコモノマーは、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、トリフルオロエチレン及びRfOCF=CF2、Rfが1〜約10個の炭素原子の飽和フルオロアルキル基、である。より好ましいコモノマーは、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、及びRfOCF=CF2、Rfが1〜約10個の炭素原子の飽和フルオロアルキル基、である。最も好ましいコモノマーは、テトラフルオロエチレン及びクロロトリフルオロエチレンである。
【0034】
構造Hを有する代表的なコモノマーには、
【0035】
【化6】
【0036】
などがあるがそれらに制限されない。
【0037】
構造Iを有する代表的なコモノマーには、
【0038】
【化7】
【0039】
などがあるがそれらに制限されない。
【0040】
構造Jを有する代表的なコモノマーには、
【0041】
【化8】
【0042】
などがあるがそれらに制限されない。
【0043】
構造Kを有する代表的なコモノマーには、
【0044】
【化9】
【0045】
などがあるがそれらに制限されない。
【0046】
構造体Lを有する代表的なコモノマーには、
【0047】
【化10】
【0048】
などがあるがそれらに制限されない。
【0049】
構造Mを有する代表的なコモノマーには、
【0050】
【化11】
【0051】
などがあるがそれらに制限されない。
【0052】
構造K、L及びMを有するコモノマーを含む本発明のコポリマーの全てが、フッ素化オレフィン及び式CH2=CHO2CR22のビニルエステルまたは式CH2=CHOCH2R22またはCH2=CHOR22のビニルエーテルを含むことを特徴とし、R22が約4〜20個の炭素原子の炭化水素基であり、高いC:H比が十分な耐プラズマエッチ性に相応するので、C:H比が相対的に高く、0.58より大きい。(これは、フッ素化オレフィン及び式CH2=CHO2CR23のビニルエステルまたは式CH2=CHOCH2R23またはCH2=CHOR23のビニルエーテルを含むコポリマー(R23が、0.58未満であり、相対的に低いC:H比を有する)と対照的である。R22及びR23が、アルキル、アリール、アラルキル及びシクロアルキルから選択される。
【0053】
構造Nを有する代表的なコモノマーには、
【0054】
【化12】
【0055】
式中、A = H,(CH3)3C,(CH3)3Si、などがあるがこれらに制限されない。
【0056】
第2の記載したコモノマーとして構造H−Nの少なくとも1つの不飽和化合物を有する上に記載した好ましい実施態様において、フッ素含有コポリマーが、カルボン酸及び保護酸基から選択される官能価を有する付加的なコモノマーから成らない場合(及びその場合に限り)、第2のコモノマーに制限条件がある。この場合、フッ素含有コポリマーは2つだけのコモノマーを有する(前記2つの記載したコモノマーを有し、付加的な記載していないコモノマーを有しない)。この場合、フッ素含有ポリマーからなるこの発明のフォトレジストが、以下により詳細に説明したように画像ごとに露光した時に現像可能であるように、少なくとも1つの不飽和化合物(すなわち、第2の記載したコモノマー)中に存在しているカルボン酸及び保護酸基から選択される十分な官能価が存在しなければならない。2つだけのコモノマーを有するフッ素含有コポリマーによるこれらの実施態様において、コポリマー中の2つのコモノマーのモル百分率は、フルオロモノマー(最初に記載したモノマー)及び第2のコモノマーについて、それぞれ、90%、10%〜10%、90%の範囲であってもよい。典型的には、2つのコモノマーのモル百分率は、フルオロモノマー(最初に記載したモノマー)及び第2のコモノマーについて、それぞれ、60%、40%〜40%、60%、の範囲である。
【0057】
この発明のフッ素含有コポリマーは、いくつかの実施態様について、前記2つの記載したコモノマー(すなわち、(i)エチレン性不飽和炭素原子に共有結合で結合された少なくとも1個のフッ素原子を含有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物、及び(II)構造H−Nの群から選択される少なくとも1つの不飽和化合物)の他に制限なしに任意の数の付加的なコモノマーからなってもよい。代表的な付加的なコモノマーには、アクリル酸、メタクリル酸、t−ブチルアクリレート、t−ブチルメタクリレート、t−アミルアクリレート、t−アミルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、エチレン、ビニルアセテート、イタコン酸、及びビニルアルコールなどが挙げられるがこれらに制限されない。フッ素含有コポリマーが2つの記載したコモノマーを有し、3つ以上のコモノマーからなるそれらの実施態様において、第2の記載したコモノマー(すなわち、(ii)構造H−Nの群から選択される少なくとも1つの不飽和化合物)のモル百分率は、約20モル%〜約80モル%、好ましくは約30モル%〜約70モル%、より好ましくは約40モル%〜約70モル%、最も好ましくは約50〜約70モル%の範囲である。前記コポリマーを構成する他の全てのコモノマーのモル百分率の合計は、第2の記載したコモノマーのモル百分率に加えられるときに100%になる計量を表す。第2の記載したコモノマー以外にコポリマー中に存在している他の全てのコモノマーのモル百分率の合計は大体、約80モル%〜約20モル%の範囲である。好ましくは、他の全てのコモノマーのモル百分率の合計は、約70モル%〜約30モル%の範囲である。より好ましくは、他の全てのコモノマーのモル百分率の合計は、約60モル%〜約30モル%の範囲であり、更により好ましくは、他の全てのコモノマーのモル百分率の合計は、約50モル%〜約30モル%の範囲である。フッ素含有ポリマーがターポリマーであるとき、フルオロモノマー(第1の記載したモノマー)の、付加的なコモノマーに対する適した比は大体、5:95〜95:5の範囲であってもよい。フッ素含有コポリマーが現像適性(developability)に必要な十分な量で酸基または保護酸基の官能価を有する付加的なコモノマーを含有するとき、官能価が、制限なしに第2の記載したコモノマーに存在しているか、または存在していなくてもよい。
【0058】
この発明のフォトレジスト組成物の、エチレン性不飽和炭素原子に結合した少なくとも1個のフッ素原子を有するコモノマーから誘導される繰り返し単位からなる、所定のフッ素含有コポリマーを、フリーラジカル重合によって調製することができる。ポリマーは、アゾ化合物または過酸化物など、フリーラジカル開始剤を用いて当業者に周知のバルク、溶液、懸濁または、乳化重合技術によって調製されてもよい。
【0059】
この発明のフォトレジスト組成物の、すべての環状コモノマーから誘導される繰り返し単位だけを含有しエチレン性不飽和炭素原子に結合した1個以上のフッ素原子を有するコモノマーから誘導される繰り返し単位の全く無い、所定のフッ素含有コポリマーもまた、フリーラジカル重合によって調製されてもよいが、更に、ビニル付加重合及び開環複分解重合(ROMP)など、他の重合方法によって調製されてもよい。後者の重合方法の両方とも、当業者には周知である。ニッケル及びパラジウム触媒を用いるビニル付加重合は、以下の文献で開示されている。1)Okoroanyanwu U.; Shimokawa, T.; Byers,J.D.; Willson, C.G.J.Mol.Catal.A:Chemical 1998,133,93、2)B.F.Goodrichに譲渡されたPCT WO 97/33198 (9/12/97)、3) Reinmuth,A.; Mathew,J.P.; Melia,J.; Risse, W.Macromol.Rapid Commun.1996,17,173、及び4)Breunig,S.; Risse,W.Makromol.Chem.1992,193,2915。開環複分解重合は、ルテニウム及びイリジウム触媒を用いる上の文献1)及び2)に開示されており、5)Schwab, P.; Grubbs, R.H.; Ziller,J.W.J.Am.Chem.Soc.1996,118,100、及び6)Schwab,P.; France,M.B.;Ziller,J.W.; Grubbs,R.H.Angew.Chem.Int.Ed.Engl.1995,34,2039にも開示されている。
【0060】
この発明のレジスト組成物の、フルオロモノマー(例えば、TFE)及び環状オレフィン(例えば、ノルボルネン)を含有する、フッ素含有ビポリマーのいくつかは、以下に示した構造:
【0061】
【化13】
【0062】
を有するがそれらに制限されない交互またはほぼ交互のビポリマーであるように思える。
【0063】
かかる場合、本発明は、これらの交互またはほぼ交互のコポリマーを含めるが、決して真正の交互コポリマー構造に限られない。
【0064】
これらのポリマーは、2000年3月20日に公開されたWO00/17712に記載されている。
【0065】
前記ポリマー(b)が、線状主鎖セグメントに沿って化学的に結合された1つ以上の分岐セグメントを含む、保護酸基含有分岐ポリマーである。前記分岐ポリマーを、少なくとも1つのエチレン性不飽和マクロマー成分及び少なくとも1つのエチレン性不飽和コモノマーのフリーラジカル付加重合中に形成することができる。エチレン性不飽和マクロマー成分は、数百〜40,000の数平均分子量(Mn)を有し、重合から得られた線状主鎖セグメントは、約2,000〜約500,000の数平均分子量(Mn)を有する。線状主鎖セグメントの、分岐セグメントに対する重量比は、約50/1〜約1/10の範囲内、好ましくは約80/20〜約60/40の範囲内である。典型的にはマクロマー成分は、500〜約40,000、より典型的には約1,000〜約15,000の数平均分子量(Mn)を有する。典型的にはかかるエチレン性不飽和マクロマー成分は、マクロマー成分を形成するために用いた約2〜約500モノマー単位、典型的には30〜200のモノマー単位に等しい数平均分子量(Mn)を有することがある。
【0066】
代表的な実施態様において、分岐ポリマーは、光酸発生剤との相溶性を増大させるために存在している相溶化基、すなわち、官能基25重量%〜100重量%、好ましくは約50重量%〜100重量%、より好ましくは約75重量%〜100重量%を含有する。イオン性光酸発生剤に適した相溶化基には、非親水性極性基と親水性極性基との両方があるがそれらに制限されない。適した非親水性極性基には、シアノ(−CN)及びニトロ(−NO2)などがあるがそれらに制限されない。適した親水性極性基には、ヒドロキシ(OH)、アミノフェノール(NH2)、アンモニウム、アミド、イミド、ウレタン、ウレイド、またはメルカプトなどのプロトン性基、またはカルボン酸(CO2H)、スルホン酸、スルフィン酸、リン酸、またはリン酸またはそれらの塩、などがあるがそれらに制限されない。好ましくは、相溶化基が、分岐セグメントに存在している。
【0067】
典型的には、保護酸基(以下に記載した)は、紫外線または他の化学線に露光し、引き続いて後露光べーキングした(すなわち、脱保護(deprotection)する間に)後にカルボン酸基を生じる。この発明の感光性組成物中に存在している分岐ポリマーは、典型的には、保護酸基含有モノマー単位約3重量%〜約40重量%、好ましくは約5%〜約50%、より好ましくは約5%〜約20%を含有する。かかる好ましい分岐ポリマーの分岐セグメントは典型的には、存在している保護酸基35%〜100%を含有する。かかる分岐ポリマーは完全に無保護である(全ての保護酸基が遊離酸基に変換される)とき、酸価が約20〜約500、好ましくは約30〜約330、より好ましくは約30〜約130、であり、同様に、エチレン性不飽和マクロマー成分は好ましくは酸価が約20〜約650、より好ましくは約90〜約300であり、遊離酸基の多数は分岐セグメントにある。
【0068】
本発明のこの態様の各感光性組成物は、保護酸基を含有する、くし型ポリマーとしても周知の、分岐ポリマーを含有する。分岐ポリマーは、線状主鎖セグメントに対して制限された重量比及び制限された分子量の、ポリマーアームとして周知の分岐セグメントを有する。好ましい実施態様において、保護酸基の多数が分岐セグメントに存在している。前記組成物はまた、組成物を放射エネルギーに、特に、電磁スペクトルの紫外領域の、特に遠または極紫外領域の放射エネルギーに反応性にする、光酸発生剤などの成分を含有する。
【0069】
特定の実施態様において、分岐ポリマーは、線状主鎖セグメントに沿って化学的に結合された1つ以上の分岐セグメントを含み、分岐ポリマーは、約500〜40,000の数平均分子量(Mn)を有する。分岐ポリマーは、分岐セグメントを少なくとも0.5重量%含有する。ポリマーアームとしても周知の分岐セグメントは典型的に、線状主鎖セグメントに沿って不規則に分散している。「ポリマーアーム」または分岐セグメントは、共有結合によって線状主鎖セグメントに結合している、少なくとも2つの反復モノマー単位のポリマーまたはオリゴマーである。分岐セグメント、またはポリマーアームを、マクロマー及びコモノマーの付加重合プロセスの間に、マクロマー成分として分岐ポリマー中に組み入れることができる。この発明について「マクロマー」は、末端エチレン性不飽和重合性基を含有する、数百〜約40,000の範囲の分子量のポリマー、コポリマーまたはオリゴマーである。好ましくはマクロマーは、エチレン基(ethylenic group)でエンドキャップされた線状ポリマーまたはコポリマーである。典型的には、分岐ポリマーは、1つ以上のポリマーアーム、好ましくは少なくとも2つのポリマーアームを有するコポリマーであり、重合プロセスで用いたマクロマー成分の約0.5〜約80重量%、好ましくは約5〜50重量%がマクロマーであることを特徴とする。典型的には、同じく重合プロセスでマクロマーとともに用いたコモノマー成分は、エチレン性不飽和マクロマーと共重合することができる単一エチレン基を含有する。
【0070】
エチレン性不飽和マクロマー及び分岐ポリマーの得られた分岐セグメント、及び/または分岐ポリマーの主鎖は、1個以上の保護酸基がそれに結合している場合がある。この発明について、「保護酸基」は、それが結合されるマクロマー及び/または分岐ポリマーの、水性環境中での溶解度、膨潤性、または分散性、を増強する遊離酸官能価を、脱保護された時にもたらす官能基を意味する。保護酸基はエチレン性不飽和マクロマー及び分岐ポリマーの得られた分岐セグメント、及び/または分岐ポリマーの主鎖に、それらの形成中にまたは後に、組み入れてもよい。マクロマー及び少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマーを用いる付加重合が分岐ポリマーを形成するために好ましいが、付加反応または縮合反応のどちらかを用いる分岐ポリマーの周知の全ての調製方法をこの発明において利用することができる。更に、予備形成した主鎖及び分岐セグメントまたはin situ重合セグメントのどちらかの使用もまた、この発明に適用できる。
【0071】
線状主鎖セグメントに結合した分岐セグメントを、米国特許第4,680,352号及び米国特許第4,694,054号の概要によって調製したエチレン性不飽和マクロマーから誘導することができる。マクロマーは、コバルト化合物を触媒連鎖移動剤として、特にコバルト(II)化合物を使用するフリーラジカル重合方法によって調製される。コバルト(II)化合物は、ペンタシアノコバルト(II)化合物または、ビシナルイミノヒドロキシイミノ化合物、ジヒドロキシイミノ化合物、ジアザジヒドロキシイミノジアルキルデカジエン、ジアザジヒドロキシイミノジアルキルウンデカジエン、テトラアザテトラアルキルシクロテトラデカテトラエン、テトラアザテトラアルキルシクロテドデカテトラエン、ビス(ジフルオロボリル)ジフェニルグリオキシマト、ビス(ジフルオロボリル)ジメチルグリオキシマト、N,N’−ビス(サリチリデン)エチレンジアミン、ジアルキルジアザ−ジオキソジアルキルドデカジエン、またはジアルキルジアザジオキソジアルキルトリデカジエン、のコバルト(II)キレートであってもよい。低分子量メタクリレートマクロマーはまた、米国特許第4,722,984号に開示されているようにペンタシアノコバルト(II)の触媒連鎖移動剤で調製されてもよい。
【0072】
この方法を用いる具体的なマクロマーは、アクリレートまたは他のビニルモノマーとのメタクリレートポリマーであり、前記ポリマーまたはコポリマーが、末端エチレン基及び親水性官能基を有する。マクロマーの調製に使用するための好ましいモノマー成分には、第三ブチルメタクリレート(tBMA)、第三ブチルアクリレート(tBA)、メチルメタクリレート(MMA)、エチルメタクリレート(EMA)、ブチルメタクリレート(BMA)、2−エチルヘキシルメタクリレート、メチルアクリレート(MA)、エチルアクリレート(EA)、ブチルアクリレート(BA)、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)、2−ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)、メタクリル酸(MA)、アクリル酸(AA)、エステル基が1〜18個の炭素原子を含有するアクリル酸及びメタクリル酸のエステル、アクリル酸及びメタクリル酸ニトリル及びアミド(例えば、アクリロニトリル)、グリシジルメタクリレート及びアクリレート、イタコン酸(IA)及びイタコン酸無水物(ITA)、半エステル及びイミド、マレイン酸及びマレイン酸無水物、半エステル及びイミド、アミノエチルメタクリレート、t−ブチルアミノエチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート、アミノエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチルアクリレート、アクリルアミド、N−t−オクチルアクリルアミド、ビニルメチルエーテル、スチレン(STY)、アルファ−メチルスチレン(AMS)、ビニルアセテート、ビニルクロリド、などがある。
【0073】
イタコン酸無水物(ITA,2−メチレンコハク酸無水物、CAS No. = 2170−03−8)は、それが、開環した時に3個になって二酸をもたらす、無水物の形の2個の活性官能基を有するので、分岐ポリマーに使用するために特に有利なコモノマーである。エチレン性不飽和部分が第1の官能基であり、それは、このコモノマーが例えばフリーラジカル重合によってコポリマーに組み入れられることを可能にする。無水物部分は、いろいろな他の官能基と反応して共有結合で結合された生成物をもたらすことができる第2の官能基である。無水物部分が反応することができる官能基の実施例は、エステル結合を形成するアルコール中のヒドロキシ基である。ITAの無水物部分とヒドロキシ基との反応時に、エステル結合と、第3の官能基である、遊離カルボン酸部分が形成される。カルボン酸官能基は、水性加工性をこの発明のレジストに付与するのに有用である。ヒドロキシ基を有するPAGが利用される場合、このタイプのエステル結合(または、アミドなどのような、他の共有結合結合)によってITAコモノマーなどからなる分岐ポリマーにPAG(または他の光活性成分)を共有結合する(束縛する)ことが、実施例のいくつかに示したように、可能である。
【0074】
分岐ポリマーは、いずれの従来の付加重合方法によって調製されてもよい。分岐ポリマー、またはくし型ポリマーは、1つ以上の相溶性エチレン性不飽和マクロマー成分及び1つ以上の相溶性の、従来のエチレン性不飽和コモノマー成分から調製されてもよい。好ましい付加重合性、エチレン性不飽和コモノマー成分は、アクリレート、メタクリレート及びスチレン系、並びにそれらの混合物である。適した付加重合性、エチレン性不飽和コモノマー成分には、第三ブチルメタクリレート(tBMA)、第三ブチルアクリレート(tBA)、メチルメタクリレート(MMA)、エチルメタクリレート(EMA)、ブチルメタクリレート(BMA)、2−エチルヘキシルメタクリレート、メチルアクリレート(MA)、エチルアクリレート(EA)、ブチルアクリレート(BA)、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)、2−ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)、メタクリル酸(MAA)、アクリル酸(AA)、アクリロニトリル(AN)、メタクリロニトリル(MAN)、イタコン酸(IA)及びイタコン酸無水物(ITA)、半エステル及びイミド、マレイン酸及びマレイン酸無水物、半エステル及びイミド、アミノエチルメタクリレート、t−ブチルアミノエチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート、アミノエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチルアクリレート、アクリルアミド、N−t−オクチルアクリルアミド、ビニルメチルエーテル、スチレン(S)、アルファ−メチルスチレン、ビニルアセテート、ビニルクロリド、などがある。共重合性モノマーの大部分は、アクリレートまたはスチレン系または、アクリレート及び他のビニルモノマーとこれらのモノマーとのコポリマーでなければならない。
【0075】
この発明の分岐ポリマーの各成分の線状主鎖セグメント及び/または分岐セグメントは、いろいろな官能基を含有してもよい。「官能基」は、直接の原子価結合によってまたは結合基によって主鎖セグメントまたは分岐セグメントに結合することができる何れかの部分であると考えられる。主鎖セグメントまたは分岐セグメントによって担持され得る官能基の具体例は、−COOR24、−OR24、−SR24(R24が水素、1〜12個の炭素原子を有するアルキル基、3〜12個の炭素原子のシクロアルキル基、6〜14個の炭素原子を有するアリール、アルカリールまたはアラルキル基、3〜12個の炭素原子を含有し、更にS、O、NまたはP原子を含有する複素環基であってもよい)、または−OR27(R27が1〜12個の炭素原子のアルキル、6〜14個の炭素原子を有するアリール、アルカリールまたはアラルキル基であってもよい)、−CN、−NR25R26または
【0076】
【化14】
【0077】
(式中、R25及びR26が水素、1〜12個の炭素原子を有するアルキル基、3〜12個の炭素原子を有するシクロアルキル基、6〜14個の炭素原子のアリール、アルカリール、アラルキル、−CH2OR28(R28が水素、1〜12個の炭素原子のアルキル、または3〜12個の炭素原子のシクロアルキル、6〜14個の炭素原子を有する、アリール、アルカリール、アラルキルである。)であってもよく、またはR25及びR26が全体として3〜12個の炭素原子を有すると共に少なくとも1つのS、N、OまたはPを含有する複素環を形成することができる)、
【0078】
【化15】
【0079】
(式中、R29、R30及びR31が水素、1〜12個の炭素原子のアルキルまたは3〜12個の炭素原子のシクロアルキル、6〜14個の炭素原子のアリール、アルカリール、アラルキル、または−COOR24であってもよく、または一緒になってR29、R30及び/またはR31が環状基を形成することができる)、−SO3H、ウレタン基、イソシアネートまたはブロックトイソシアネート基、ウレア基、オキシラン基、アジリジン基、キノンジアジド基、アゾ基、アジド基、ジアゾニウム基、アセチルアセトキシ基、−SiR32R33R34(R32、R33及びR34が1〜12個の炭素原子のアルキルまたは3〜12個の炭素原子のシクロアルキルであってもよい)または−OR35(R35が1〜12個の炭素原子のアルキルまたは3〜12個の炭素原子のシクロアルキル、6〜14個の炭素原子のアリール、アルカリールまたはアラルキルである。)、または−OSO3R36、−OPO2R36、−PO2R36、−PR36R37R38、−OPOR36、−SR36R37、または−N+R36R37R38基(R36、R37、及びR38が水素、1〜12個の炭素原子のアルキルまたは3〜12個の炭素原子のシクロアルキル、6〜14個の炭素原子のアリール、アルカリールまたはアラルキルであってもよい)、または前述の何れかの塩またはオニウム塩である。好ましい官能基は、−COON、−OH、−NH2、アミド基、ビニル基、ウレタン基、イソシアネート基、ブロックトイソシアネート基またはそれらの組合せ、である。官能基は、分岐ポリマー上の何れの場所に位置していてもよい。しかしながら、分岐ポリマー及びマクロマーの線状主鎖セグメントにバルクポリマーの特性を付与し、溶解度、反応性など、親水性のほかに物理的及び化学的機能性を分岐セグメントに付与するコモノマーを選択することが、時々、望ましい。
【0080】
この発明の特定の好ましい実施態様において、分岐ポリマーは、光酸発生剤と相溶性である官能基を含有し、前記官能基は、官能基の25〜100%が多数の保護酸基を含有する分岐ポリマーのセグメント中に存在しているように分散させられている。光酸発生剤と、前記多数の保護酸基を有するセグメント化分岐ポリマーとの増強された相溶性を有することが、相溶性を促進するこれらの官能基を有するこれらの分岐ポリマーからなるレジストの、より高いフォトスピード及びおそらくより高い解像度及び/または他の望ましい性質をもたらすので、これらの官能基が望ましい。トリアリールスルホニウム塩など、イオン性PAGについては、相溶性を促進する官能基には、極性非親水性基(例えば、ニトロまたはシアノ)及び極性親水性基(例えば、ヒドロキシ、カルボキシル)などがあるがこれらに制限されない。以下の構造IIIなどの非イオン性PAGについては、相溶性を付与する好ましい官能基は、上に記載した極性基ほど極性ではない。後者のケースについては、適した官能基には、かなり似た化学的及び物理的性質を非イオン性PAGの性質に付与する基を含めるがこれらに制限されない。2つの特定の実施例として、以下に示した構造IIIなど、芳香族及びペルフルオロアルキル官能基が、非イオン性PAGと分岐ポリマーと*の相溶性を促進するのに有効である。
【0081】
いくつかの好ましい実施態様において、分岐ポリマーは、少なくとも60重量%のアクリレートであるアクリル/メタクリル/スチレン系コポリマーであり、第1の位置または第2の位置のどちらかに存在するメタクリレート繰り返し単位少なくとも60%を有し、第1の位置が、セグメントの1つ(すなわち、分岐セグメントまたは線状主鎖セグメント)であり、第2の位置が、第1の位置と異なるセグメントであり、アクリレート繰り返し単位の少なくとも60%が第2の位置に存在している。
【0082】
いくつかの実施態様において、分岐ポリマーは、エチレン性不飽和炭素原子に共有結合で結合された少なくとも1個のフッ素含有少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含むフッ素含有グラフトコポリマーである。少なくとも1個のフッ素原子を有する繰り返し単位は、線状ポリマー主鎖セグメント中かまたは分岐ポリマーセグメント中のどちらにあってもよく、好ましくは、それは、線状ポリマー主鎖セグメントにある。この発明のフッ素含有グラフトコポリマーに適している代表的なエチレン性不飽和化合物には、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、トリフルオロエチレン、ビニリデンフルオリド、ビニルフルオリド、及びRfOCF=CF2(Rfが1〜約10個の炭素原子の飽和ペルフルオロアルキル基である。)、などがあるがこれらに制限されない。この発明のフッ素含有コポリマーは、以下に記載したコポリマーを含めるがそれらに制限されない、任意の数の付加的なフッ素含有コモノマーからなってもよい。好ましいコモノマーは、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、トリフルオロエチレン及びRfOCF=CF2(Rfが1〜約10個の炭素原子の飽和ペルフルオロアルキル基である。)である。より好ましいコモノマーは、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、及びRfOCF=CF2(Rfが1〜約10個の炭素原子の飽和ペルフルオロアルキル基である。)である。最も好ましいコモノマーは、テトラフルオロエチレン及びクロロトリフルオロエチレンである。
【0083】
いくつかの好ましい実施態様において、フッ素含有グラフトコポリマーは更に、上記のポリマー(a)について示した構造からなる群から選択される少なくとも1つの不飽和化合物から誘導される繰り返し単位からなる。
【0084】
この発明の1つの実施態様において、PAGがフッ素含有グラフトコポリマーに共有結合されて(すなわち、束縛されて)フォトレジストをもたらす。
【0085】
いくつかの好ましい実施態様において、分岐ポリマーは、下記構造:
−C(Rf)(Rf’)OH
を有するフルオロアルコール官能基、を含有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含むフッ素含有コポリマーであり、式中、Rf及びRf’が、1〜10個の炭素原子の同一または異なるフルオロアルキル基であるか、または一緒になってnが2〜約10である(CF2)nである。
【0086】
この発明によるフルオロアルコール官能基を含有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含む所定のフッ素含有分岐コポリマーは、フルオロアルコール官能基の部分として存在するフルオロアルキル基を有することができる。これらのフルオロアルキル基は、Rf及びRfとして示され、それは、部分フッ素化アルキル基または完全フッ素化アルキル基(すなわち、ペルフルオロアルキル基)であってもよい。概して、Rf及びRfは、1〜10個の炭素原子の同一または異なるフルオロアルキル基であるか、または一緒になってnが2〜約10である(CF2)nである。(前の文で、用語「全体として(taken together)」は、Rf及びRfが別個の、不連続なフッ素化アルキル基ではなく、それらが一緒に、5員環の場合に以下に示すような環構造:
【0087】
【化16】
【0088】
を形成することを示す。)Rf及びRfが本発明によって制限なく、部分フッ素化アルキル基であってもよいが、ただし、フルオロアルコール官能基のヒドロキシル(−OH)に酸性度を与えるために十分なフッ素化度が存在していなければならず、水酸化ナトリウム水溶液またはテトラアルキルアンモニウムヒドロキシド水溶液など、塩基性媒体中でヒドロキシルの陽子が実質的に除去される。本発明による好ましいケースにおいて、ヒドロキシル基が以下のpKa値:5 < pKa < 11を有するようにフルオロアルコール官能基のフッ素化アルキル基中に十分なフッ素置換が存在している。好ましくは、Rf及びRfが独立して、1〜5個の炭素原子のペルフルオロアルキル基であり、最も好ましくは、Rf及びRfの両方が、トリフルオロメチルである(CF3)。好ましくは、この発明による各フッ素含有コポリマーの吸収係数が、157nmの波長で4.0μm−1より小さく、好ましくはこの波長で3.5μm−1より小さく、より好ましくは、この波長で3.0μm−1未満である。
【0089】
フルオロアルコール官能基を含有するこの発明のフッ素化ポリマー、フォトレジスト、及び方法は、下記構造:
−ZCH2C(Rf)(Rf)OH
を有することができ、式中、Rf及びRf’が、1〜10個の炭素原子の同一または異なるフルオロアルキル基であるか、または一緒になって(CF2)nであり、nが2〜約10であり、Zが、酸素、硫黄、窒素、リン、他のVA族の元素、及び他のVIA族の元素である。用語「他のVA族の元素」及び「他のVIA族の元素」によって、これらの用語は、これらの族の記載した元素(すなわち、酸素、硫黄、窒素、リン)以外の周期表のこれらの族の1つの他の何れかの元素を本明細書中では意味すると理解される。酸素が好ましいZ基である。
【0090】
本発明の範囲内の、フルオロアルコール官能基を含有する代表的なコモノマーのいくつかの具体的な、非制限的な実施例は、以下の通りである。
【0091】
【化17】
【0092】
ポリマー技術の当業者に周知であるように、エチレン性不飽和化合物がフリーラジカル重合を経てエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を有するポリマーをもたらす。具体的には、下記構造:
【0093】
【化18】
【0094】
を有するエチレン性不飽和化合物は、コポリマー(a1)に関して上に記載される。
【0095】
少なくとも1個のフルオロアルコール基を有するフルオロポリマー(c)が、
(c1)構造:−C(Rf)(Rf’)OH
を有するフルオロアルコール官能基、を含有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含むフッ素含有ポリマーであって、式中、Rf及びRf’が、上に記載した通りである、フッ素含有ポリマーと、
(c2)少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含むフッ素含有コポリマーであって、少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物が環式または多環式であり、且つ、少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物が、エチレン性不飽和炭素原子に共有結合で結合された少なくとも1個のフッ素原子を含有し、且つ、少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物が、下記:
−C(Rf)(Rf’)OH
を有するフルオロアルコール官能基からなり、式中、Rf及びRf’が、上に記載した通りである、フッ素含有コポリマーと、
(c3)フッ素含有コポリマーであって、
(i)2個のエチレン性不飽和炭素原子に共有結合で結合された少なくとも3個のフッ素原子を含有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位、及び
(ii)構造:−C(Rf)(Rf’)OH
を有するフルオロアルコール官能基からなるエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位であって、式中、Rf及びRf’が、上に記載した通りである、繰り返し単位、を含むフッ素含有コポリマーと、
(c4)下記構造:
−ZCH2C(Rf)(Rf’)OH
を有するフルオロアルコール官能基を含有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含むフッ素含有コポリマーであって、式中、Rf及びRf’が、上に記載した通りであり、Zが元素周期表(CAS版)のVA族、及び他のVIA族から選択される元素であり、典型的にはXが、硫黄、酸素、窒素またはリン元素である、フッ素含有コポリマーと、
(c5)下記構造:
【0096】
【化19】
【0097】
[式中、R40、R41、R42、及びR43の各々が独立して、水素原子、ハロゲン原子、1〜10個の炭素原子含有炭化水素基、1〜12個の炭素原子を有する、O、S、N、Pまたはハロゲンで置換された置換炭化水素基、例えば、アルコキシ基、カルボン酸、カルボン酸エステル基または下記構造:
−C(Rf)(Rf’)OR44
を含有する官能基であり、式中、Rf及びRf’が上に記載した通りであり、R44が水素原子または酸−または塩基不安定保護基であり、vが前記ポリマー中の繰り返し単位の数であり、wが0〜4であり、前記繰り返し単位の少なくとも1つは、R40、R41、R42、及びR43の少なくとも1つが構造C(Rf)(Rf’)OR44を含有する構造を有し、例えば、R40、R41、及びR42が水素原子であり、R43がCH2OCH2C(CF3)2OCH2CO2C(CH3)3であるか(CH2CO2C(CH3)3が酸−または塩基不安定保護基である。)、またはR43がOCH2C(CF3)2OCH2CO2C(CH3)3である(OCH2CO2C(CH3)3が酸−または塩基不安定保護基である。]を有するフッ素含有ポリマーと、(c6)ポリマーであって、
(i)構造:−C(Rf)(Rf’)OH
を有するフルオロアルコール官能基を含有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位であって、式中、Rf及びRf’が、上に記載した通りである、繰り返し単位と、
(ii)下記構造:
(H)(R45)C=C(R46)(CN)
を有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位であって、式中、R45が水素原子またはCN基であり、R46がC1−C8アルキル基、水素原子、またはCO2R47基であり、式中、R47がC1−C8アルキル基または水素原子である、繰り返し単位と、を含むポリマーと、からなる群から選択される。
【0098】
フルオロポリマーまたはコポリマーは、コポリマー(b)に関して前に記載した、フルオロアルコール基の一部分として存在するフルオロアルキルを有することができるフルオロアルコール官能基を含有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位(以下に記載した)を含む。これらのフルオロアルキル基は、上に記載したようにRf及びRfとして示される。
【0099】
ポリマー技術の当業者に周知であるように、エチレン性不飽和化合物がフリーラジカル重合を経てエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を有するポリマーをもたらす。具体的には、下記構造:
【0100】
【化20】
【0101】
を有するエチレン性不飽和化合物が、コポリマー(a1)に関して上に記載される。
【0102】
この発明による各フッ素含有コポリマーの吸収係数は、157nmの波長で4.0μm−1より小さく、好ましくはこの波長で3.5μm−1より小さく、より好ましくはこの波長で3.0μm−1より小さく、更により好ましくは、この波長で2.5μm−1未満である。
【0103】
フルオロアルコール官能基を含有するこの発明のフッ素化ポリマー、フォトレジスト、及び方法は、下記構造:
−ZCH2C(Rf)(Rf)OH
式中、Rf及びRfが上に記載した通りであり、Zが上に記載した通りである。
【0104】
本発明の範囲内の、フルオロアルコール官能基を含有する、代表的なコモノマーのいくつかの具体的な、非制限的な実施例を以下に示す。
【0105】
【化21】
【0106】
初期に架橋した後、続いて開裂され得る(例えば、強酸に暴露した時に)いろいろな二官能化合物はまた、この発明のコポリマー中のコモノマーとして有用である。具体的な、非制限的な実施例として、二官能性コモノマーNB−F−OMOMO−F−NBが、この発明のコポリマー中のコモノマーとして望ましい。この、及び似た二官能性コモノマーは、この発明のフォトレジスト組成物のコポリマー成分中に存在しているとき、より高分子量であり低架橋材料であるコポリマーをもたらすことができる。二官能性モノマーからなるこれらのコポリマーを組み入れる、フォトレジスト組成物は、露光した時(以下に説明したように、強酸を光化学的に生成する)、二官能基の開裂が結果として生じ、従って分子量のきわめて著しい低下があり、その因子が非常に改善された現像及びと画像形成特性(例えば、改善されたコントラスト)をもたらすことができるので、改善された現像及びと画像形成特性を有することができる。これらのフルオロアルコール基及びそれらの実施態様は、上記のように及び2000年4月28日に出願されたPCT/US00/11539号により詳細に記載されている。
【0107】
ニトリル/フルオロアルコールポリマー中に存在しているニトリル官能価の少なくとも一部分が、下記構造:
(H)(R48)C=C(R49)(CN)
を有する、少なくとも1個のニトリル基を有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位の組み込みにより生じ、式中、R48が水素原子またはシアノ基(CN)であり、R49が、1〜約8個の炭素原子のアルキル基、CO2R50基(R50が1〜約8個の炭素原子のアルキル基)、または水素原子である。アクリロニトリル、メタクリロニトリル、フマロニトリル(トランス−1,2−ジシアノエチレン)及びマレオニトリル(シス−1,2−ジシアノエチレン)が好ましい。アクリロニトリルが最も好ましい。
【0108】
ニトリル/フルオロアルコールポリマーは典型的には、約10〜約60モルパーセントのニトリル/フルオロアルコールポリマー中に存在しているフルオロアルコール官能基を含有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位と、約20〜約80モルパーセントのポリマー中に存在している少なくとも1個のニトリル基を含有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位と、を有することを特徴とする。低い吸収係数を達成することに関してニトリル/フルオロアルコールポリマーは典型的には、45モルパーセント以下で、及び、更により典型的には、30モルパーセント以下でポリマー中に存在しているフルオロアルコール官能基を含有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を有し、前記ポリマーの残部の少なくとも一部分をなすニトリル基を含有する繰り返し単位の相対的に少量を有することを特徴とする。
【0109】
1つの実施態様において、前記ポリマーは、少なくとも1個の保護官能基を含有する。少なくとも1個の保護官能基の官能基は、典型的には、酸性官能基及び塩基性官能基からなる群から選択される。保護官能基の官能基の非制限的な実施例は、カルボン酸及びフルオロアルコールである。
【0110】
別の実施態様において、ニトリル/フルオロアルコールポリマーが、脂肪族多環式官能価を含有することができる。この実施態様において、脂肪族多環式官能価を含有するニトリル/フルオロアルコールポリマーの繰り返し単位のパーセンテージは、約1〜約70モルパーセントの範囲であり、好ましくは約10〜約55モルパーセントの範囲であり、より典型的には約20〜約45モルパーセントの範囲である。
【0111】
ニトリル/フルオロアルコールポリマーは、本明細書中に具体的に言及及び参照した官能基以外に付加的な官能基を含有することができるが、ただし、好ましくは、芳香族官能価がニトリル/フルオロアルコールポリマー中に存在していない。これらのポリマー中の芳香族官能価の存在は、それらの透明性を減じ、これらの波長で画像形成される層に使用するために適している深い及び遠紫外線領域に非常に強く吸収性であるという結果をもたらすことがわかった。
【0112】
いくつかの実施態様において、ポリマーは、線状主鎖セグメントに沿って化学的に結合された1つ以上の分岐セグメントを含む分岐ポリマーである。分岐ポリマーを、少なくとも1つのエチレン性不飽和マクロマー成分及び少なくとも1つのエチレン性不飽和コモノマーのフリーラジカル付加重合の間に形成することができる。分岐ポリマーは、何れの従来の付加重合方法によって調製されてもよい。分岐ポリマー、またはくし型ポリマーは、1つ以上の相溶性エチレン性不飽和マクロマー成分及び1つ以上の相溶性、従来のエチレン性不飽和マクロマー成分及び1つ以上の相溶性の、従来のエチレン性不飽和モノマー成分から調製されてもよい。典型的には付加重合性の、エチレン性不飽和モノマー成分は、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、フマロニトリル、マレオニトリル、保護及び/または非保護不飽和フルオロアルコール、及び保護及び/または非保護不飽和カルボン酸である。分岐ポリマーのこのタイプの構造及び作製方法、上に記載したポリマータイプ(b)として記載され、WO00/25178に記載されている通りである。
【0113】
少なくとも1つのフルオロアルコールを有するフルオロポリマーは更に、エチレン、アルファ−オレフィン、1,1’−二置換オレフィン、ビニルアルコール、ビニルエーテル、及び1,3−ジエン、からなる群から選択されるスペーサー基を更に含んでもよい。
【0114】
前記ポリマー(d)が、ペルフルオロ(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)もしくはCX2=CY2(式中、X=FまはCF3及びY=−H)の非晶質ビニルホモポリマーまたはペルフルオロ(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)及びCX2=CY2の非晶質ビニルコポリマー、を含み、前記ホモポリマーまたはコポリマーが任意に、1つ以上のコモノマーCR51R52=CR53R54を含有し、式中、R51、Rup 52、R53の各々が独立して、HまたはFから選択され、R54が、−F、−CF3、−OR55(R55がCnF2n+1、n=1〜3)、−OH(R53=Hであるとき)、及びCl(R51、R52、及びR53=Fであるとき)からなる群から選択される。前記ポリマー(d)が、1:2〜2:1比のCH2=CHCF3とCF2=CF2、1:2〜2:1比のCH2=CHFとCF2=CFCl、1:2〜2:1比のCH2=CHF及びCClH=CF2、任意の比のペルフルオロ(2−メチレン−4−メチル−1,3−ジオキソラン)とペルフルオロ(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)、任意の比のペルフルオロ(2−メチレン−4−メチル−1,3−ジオキソラン)と非晶質ビニリデンフルオリド、の非晶質ビニルコポリマー、、及びペルフルオロ(2−メチレン−4−メチル−1,3−ジオキソラン)のホモポリマー、を付加的に含んでもよい。
【0115】
これらのポリマーを、フルオロポリマーの当業者に周知の重合方法によって作製した。前記モノマー、不活性液(CF2ClCCl2F、CF3CFHCFHCF2CF3、または二酸化炭素など)、HFPOダイマーペルオキシド1またはPerkadox登録商標16Nなどの可溶性フリーラジカル開始剤を冷却オートクレーブ中に密封し、次に、
【0116】
【化22】
【0117】
を、重合を開始するのに適切な時に加熱することによって、前記ポリマーの全てを作製した。HFPOダイマーペルオキシド1については、室温(〜25℃)が便利な重合温度であるが、Perkadox登録商標については、60〜90℃の温度を用いることができる。モノマー及び重合温度に応じて、圧力は、大気圧〜500psi以上に変化することができる。次に、不溶解性沈殿物として形成されるとき濾過によって、または反応混合物に可溶性であるとき蒸発または沈殿によって、ポリマーを単離することができる。多くの場合、見掛けの乾燥ポリマーは、まだ相当な溶剤及び/未反応モノマーを保持し、好ましくは窒素ブリード下の真空オーブン内で更に乾燥されなければならない。前記ポリマーの多くはまた、脱イオン水、過硫酸アンモニウムまたはVazo登録商標56 WSPなどの開始剤、モノマー、アンモニウムペルフルオロオクタノエートなどの界面活性剤またはメチルセルロースなどの分散剤を冷却オートクレーブ中に密封し、加熱して重合を開始することによって引き起こされる水性乳化重合によって、作製されてもよい。前記ポリマーは、形成された何れのエマルジョンをも分解し、濾過し、乾燥させることによって、単離され得る。全ての場合において、酸素を反応混合物から取り除くのがよい。クロロホルムなどの連鎖移動剤を添加して分子量を低めてもよい。
【0118】
置換または非置換ビニルエーテルから調製されたニトリル/フルオロアルコール含有ポリマー(e)が、
(e1)ポリマーであって、
(i)下記構造:
CH2=CHO−R56
を有する、ビニルエーテル官能基を含む少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位であって、式中、R56が、1〜約20個の炭素原子の置換または非置換アルキル、アリール、アラルキルまたはアルカリール基、またはS、O、NまたはP原子で置換された前記基である、繰り返し単位と、
(ii)下記構造:
(H)(R57)C=C(R58)(CN)
を有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位であって、式中、R57が水素原子またはシアノ基であり、R58が、1〜約8個の炭素原子のアルキル基、CO2R59基(R59が1〜約8個の炭素原子のアルキル基)、または水素原子である、繰り返し単位と、
(iii)酸基を含む少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位と、を含むポリマーと、
(e2)ポリマーであって、
(i)下記構造:
C(R60)(R61)=C(R62)−O−D−C(Rf)(Rf’)OH
を有する、ビニルエーテル官能基及びフルオロアルコール官能基を含む少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位であって、式中、R60、R61、及びR62が独立して、水素原子、1〜約3個の炭素原子のアルキル基であり、Dが、前記ビニルエーテル官能基を酸素原子を介してフルオロアルコール官能基の炭素原子に結合する少なくとも1個の原子であり、
Rf及びRf’が、上に記載した通りである、繰り返し単位と、
(ii)下記構造:
(H)(R57)C=C(R58)(CN)
を有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位であって、
(H)(R57)C=C(R58)(CN)
式中、R57が水素原子またはシアノ基であり、R58が、1〜約8個の炭素原子のアルキル基、CO2R59基(R59が1〜約8個の炭素原子のアルキル基である。)、または水素原子である、繰り返し単位と、
(iii)酸基を含む少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位と、を含む。
【0119】
フルオロアルコール基及び実施態様は、上記のポリマー(c6)について、より詳細に記載される。本発明の範囲内の、フルオロアルコール官能基を含有する(上に示した)一般化構造式に含まれるビニルエーテルモノマーのいくつかの具体的な、非制限的な実施例を以下に示す。
【0120】
【化23】
【0121】
ニトリル基及びそれらの実施態様、ニトリル及びフルオロアルコール基で作製された線状及び分岐ポリマー及びそれらの実施態様もまた、上記のポリマー(c6)について、より詳細に記載及び参照される。
【0122】
これらのポリマーは、全組成物(固形分)の重量に対して、約10〜約99.5重量%の量で存在していてもよい。
【0123】
(光活性成分(PAC))
ポリマーブレンド中のポリマーが光活性ではない場合、この発明の組成物は、フッ素含有ポリマーに化学結合していない光活性成分(PAC)を含有してもよく、すなわち光活性成分は、組成物中の別個の成分である。光活性成分は通常、化学線に露光した時に酸または塩基のどちらかを生じる化合物である。酸が、化学線に露光した時に生じる場合、PACは光酸発生剤(PAG)と呼ばれる。塩基が、化学線に露光した時に生じる場合、PACは光塩基発生剤(PBG)と呼ばれる。
【0124】
この発明に適した光酸発生剤には、1)スルホニウム塩(構造I)、2)ヨードニウム塩(構造II)、及び3)構造IIIなど、ヒドロキサム酸エステル、などがあるがそれらに制限されない。
【0125】
【化24】
【0126】
構造I−IIにおいて、R1−R3が独立して、置換または非置換アリールまたは置換または非置換C1−C20アルキルアリール(アラルキル)である。代表的なアリール基には、フェニル及びナフチルなどがあるがこれらに制限されない。適した置換基には、ヒドロキシル(−OH)及びC1−C20アルキルオキシ(例えば、C10H21O)などがあるがこれらに制限されない。構造I−IIのアニオンX−は、SbF6 −(ヘキサフルオロアンチモネート)、CF3SO3 −(トリフルオロメチルスルホネート=トリフレート)、及びC4F9SO3 −(ペルフルオロブチルスルホネート)、であってもよいがこれらに制限されない。
【0127】
(溶解抑性剤)(Dissolution Inhibitor)
いろいろな溶解抑性剤を、この発明において利用することができる。理想的には、遠及び極紫外線レジスト(例えば、193nmレジスト)の溶解抑性剤(Dis)は、DI添加剤を含むレジスト組成物の溶解抑制、耐プラズマエッチ性、及び接着性の性質など、多数の材料の要求を満たすように設計/選択される。いくつかの溶解抑制化合物もまた、レジスト組成物中の可塑剤として役立つ。
【0128】
(他の成分)
この発明の組成物は、任意の付加的な成分を含有する。添加され得る付加的な成分の実施例には、解像度増強剤、接着性促進剤、残留物の低減剤(residue reducers)、コーティング助剤、可塑剤、及びTg(ガラス転移温度)調節剤などがあるがそれらに制限されない。架橋剤もまた、ネガ型として機能するレジスト組成物中に存在していてもよい。いくつかの代表的な架橋剤には、4,4’−ジアジドジフェニルスルフィド及び3,3’−ジアジドジフェニルスルホン、などのビス−アジドなどがある。典型的には、少なくとも1つの架橋剤を含有するネガ型として機能する組成物はまた、紫外線に露光した時に生成される反応性種(例えば、ニトレン)と反応して、現像剤溶液中に可溶性でなく、分散または実質的に膨潤しない架橋ポリマーを製造することができる適した官能価(例えば、不飽和C=C結合)を含有する。
【0129】
(フォトレジスト画像の形成方法)
フォトレジスト画像を基板上に作製する方法が、順に、
(X)フォトレジスト層を画像ごとに露光して画像形成及び非画像形成領域を形成する工程であって、前記フォトレジスト層が、
(A)(a)〜(e)からなる群から選択される少なくとも2つのポリマーと、
(B)光活性成分と、を含むフォトレジスト組成物から調製される、工程と、(Y)画像形成及び非画像形成領域を有する、露光されたフォトレジスト層を現像してレリーフ画像を基板上に形成する工程と、を含む。
【0130】
(画像に従った露光)
フォトレジスト層を作製するために、フォトレジスト組成物を基板上に適用し、乾燥させて溶剤を除去した。そのように形成されたフォトレジスト層は、電磁スペクトルの紫外領域に、特にそれらの波長<365nmに感受性である。この発明のレジスト組成物の画像に従った露光を、365nm、248nm、193nm、157nm、及びより低い波長を含めるがそれらに制限されない多くの異なる紫外線の波長で行うことができる。画像に従った露光は好ましくは、248nm、193nm、157nm、またはより低い波長の紫外線で行われ、好ましくはそれは、193nm、157nm、あるいはより低い波長の紫外線で行われ、最も好ましくは、それは157nmあるいはより低い波長の紫外線で行われる。画像に従った露光を、レーザーあるいは同等のデバイスによってデジタルにあるいはフォトマスクを用いて非デジタルに、のどちらかで行うことができる。レーザーによるデジタル画像形成が好ましい。この発明の組成物のデジタル画像形成の適したレーザーデバイスには、193nmの紫外線出力を有するアルゴン−フッ素エキシマーレーザー、248nmの紫外線出力を有するクリプトン−フッ素エキシマーレーザー、157nmの出力を有するフッ素(F2)レーザー、などがあるがそれらに制限されない。上に記載したように、画像に従った露光の、より低波長の紫外線の使用は、より高い解像度(より低い解像限界)に相当し、より低波長(例えば、193nm、あるいは157メートル、あるいはより低く)の使用は、より高波長(例えば、248nm以上)の使用より概して好ましい。
【0131】
(現像)
この発明のレジスト組成物中の成分は、紫外線に画像ごとに露光した後の現像のために十分な官能価を含有しなくてはならない。好ましくは、官能価は、水酸化ナトリウム溶液、水酸化カリウム溶液、あるいは水酸化アンモニウム溶液などの塩基性現像剤を用いて現像水溶液が可能であるように、酸あるいは保護酸である。
【0132】
例えば、この発明のレジスト組成物中のポリマー(c)は典型的には、下記構造単位:
−C(Rf)(Rf’)OH
の少なくとも1つのフルオロアルコール含有モノマーからなるする酸含有材料であり、式中、
−C(Rf)(Rf’)OH
【0133】
Rf及びRfが1〜10個の炭素原子の同一あるいは異なるフルオロアルキル基であるか、または一緒になって(CF2)nであり、nが2〜10である。酸性フルオロアルコール基の量は、アルカリ性現像剤水溶液の良好な現像のために必要とされる量を最適にすることによって、所与の組成物について定量される。加工可能なフォトレジスト水溶液が基板にコートされるかまたは他の方法で適用されて画像ごとに紫外線に露光されるとき、バインダー材料が、露光時に少なくとも部分的に脱保護されてフォトレジスト(あるいは他の光画像形成性コーティング組成物)をアルカリ性現像剤水溶液中で加工可能にするのに十分な酸基(例えば、フルオロアルコール基)及び/あるいは保護酸基を含有するのがよいことを、フォトレジスト組成物の現像が必要とすることがある。ポジ型として機能するフォトレジスト層の場合に、フォトレジスト層は、紫外線に露光される部分の現像中に除去されるが、0.262Nの水酸化テトラメチルアンモニウムを含有する完全水溶液などのアルカリ性水溶液によって現像中に、露光されない部分において実質的に影響されない(通常、120秒以下、25℃での現像)。ネガ型として機能するフォトレジスト層の場合に、フォトレジスト層は、紫外線に露光されない部分の現像中に除去されるが、臨界液あるいは有機溶剤のどちらかを用いて現像中に、露光部分において実質的に影響されない。
【0134】
本明細書中で用いる場合の、臨界液は、その臨界温度の付近あるいはより高い温度に加熱されてその臨界圧力の付近あるいはより高い圧力まで圧縮される1つ以上の物質である。この発明の臨界液は、前記液の臨界温度より15℃超、低い温度であり、前記液の臨界圧力より少なくとも5気圧超、低い圧力である。二酸化炭素が、本発明の臨界液のために用いられてもよい。いろいろな有機溶剤もまた、この発明の現像剤として用いることができる。これらには、ハロゲン化溶剤及び非ハロゲン化溶剤などがあるがそれらに制限されない。ハロゲン化溶剤が代表的であり、フッ素化溶剤が、より代表的である。
【0135】
(基板)
この発明に使用された基板は、実例として、ケイ素、酸化ケイ素、窒化ケイ素、あるいは半導性製造に用いられるいろいろな他の材料であってもよい。
【0136】
(実施例)
(用語集)
【0137】
【表1】
【0138】
【表2】
【0139】
【化25】
【0140】
【表3】
【0141】
(実施例1)
TFE/NB−F−OH/tBAターポリマーの合成
NB−F−OHの合成は、次の通りであった。
機械撹拌機、添加漏斗及び窒素入口を備えた乾燥丸底フラスコを窒素で洗い流し、95%の水素化ナトリウム19.7g(0,78モル)及び無水DMFを500mL、充填した。撹拌した混合物を5℃に冷却し、温度が15℃より低いままであるように、exo−5−ノルボルネン−2−olを80.1g(0.728モル)、滴下した。得られた混合物を、1/2時間撹拌した。HFIBO(131g、0.728モル)を室温で滴下した。得られた混合物を、室温で一晩、撹拌した。メタノール(40mL)を添加し、DMFの大部分を、減圧下、回転式蒸発器で除去した。残留物を200mLの水で処理し、pHが約8.0になるまで、氷酢酸を添加した。混合物の水溶液を、3 × 150mLのエーテルで抽出した。混合エーテル抽出物を、3 × 150mLの水及び150mLのブラインで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、回転式蒸発器で油に濃縮した。0.15−0.20トールでのKugelrohr蒸留及び30−60℃のポット温度により、生成物190.1(90%)を生じた。up1H NMR (δCD2Cl2) 1.10−1.30(m,1H),1.50(d,1H),1.55−1.65(m,1H),1.70(s,1H), 1.75(d,1H),2.70(s,1H),2.85(s,1H),3.90(d, 1H),5.95(s,1H),6.25(s,1H)。同様に調製した別の試料を、元素分析にかけた。C11H12F6O2についての計算値。C、45.53;H、4.17;F、39.28。結果。C、44.98;H、4.22;F、38.25。NB−F−OHの合成は、2000年、11月9日に公開されたPCT国際出願第2000067072号に記載されている。
【0142】
200mLのステンレス鋼オートクレーブに、上に記載したように作製したNB−F−OH48.7g(0.168モル)を充填した。tert−ブチルアクリレート(tBA、アルドリッチケミカルカンパニー)1.54g(0.012モル)、1,1,2−トリクロロトリフルオロエタンを75mL及びPerkadox登録商標16を0.6g。容器を閉じ、冷却し、排気し、窒素で数回パージした。次に、それに、テトラフルオロエチレン(TFE)42g(0.42モル)を充填した。オートクレーブを約18時間、50℃で容器内容物と共にに撹拌し、294psi〜271psiの圧力変化をもたらした。容器を室温に冷却し、1気圧に脱気した。容器内容物を、1,1,2−トリクロロトリフルオロエタンを用いてすすぎ洗いをして除去し、透明な溶液を生じた。この溶液を過剰なヘキサンにゆっくりと添加し、白いポリマー沈殿物を生じ、真空オーブン内で一晩、乾燥させた。収量は11.3g(12%)であった。GPC分析: Mn = 7300、Mw = 10300、Mw/Mn = 1.41。DSC分析:135℃のTgが第二加熱で観察された。フッ素NMRスペクトルは、−75.6ppm(CF3)及び−95〜−125ppm(CF2)でピークを示し、それぞれ、NB−F−OH及びTFEの混入を裏づけた。ポリマーを炭素NMRによって分析し、適切なピークの積分によって、39モル%のTFE、42モル%のNB−F−OH及び18モル%のtBAを含有するのがわかった。分析結果:C、43.75;H、3.92;F、40.45。
【0143】
(実施例2)
TFE、NB−F−OH及びtert−ブチルアクリレートのターポリマーを、以下の手順を用いて調製した。約270mLの容量の金属製圧力容器に、71.05gのNB−F−OH、0.64gのtert−ブチルアクリレート及び25mLの1,1,2−トリクロロトリフルオロエタンを充填した。容器を閉じ、約−15℃に冷却し、窒素で400psiに加圧し、数回、脱気した。反応装置を50℃に加熱し、内圧力が340psiに達するまで、TFEを添加した。1,1,2−トリクロロトリフルオロエタンで100mLに希釈したNB−F−OH75.5g及びtert−ブチルアクリレート9.39gの溶液を、12時間、0.10mL/分の速度で反応装置内にポンプで送った。前記モノマー原料溶液の開始と同時に、1,1,2−トリフルオロトリクロロエタンで75mLに稀釈した、6.3gのPerkadox登録商標16N及び30〜35mLの酢酸メチルの溶液を、6分間、2.0mL/分の速度で、次いで、8時間、0.08mL/分の速度で反応装置内にポンプで送った。必要に応じてTFEを添加することによって内圧力を340psiに維持した。16時間の反応時間の後に、容器を室温に冷却し、1気圧に脱気した。回収したポリマー溶液を、撹拌しながらゆっくりと過剰なヘキサンを添加した。沈殿物を濾過し、ヘキサンで洗浄し、真空オーブン内で乾燥させた。得られた固体を、THF及び1,1,2−トリクロロ−トリフルオロエタンの混合物中に溶解し、ゆっくりと過剰なヘキサンに添加した。沈殿物を濾過し、ヘキサンで洗浄し、一晩、真空オーブン内で乾燥させ、白色のポリマー47.5gを生じた。その13C NMRスペクトルから、ポリマー組成物は、35% のTFE、42%のNB−F−OH及び22%のtBAであることがわかった。DSC:Tg = 151℃。 GPC:Mn = 6200、Mw = 9300、Mw/Mn = 1.50。分析結果:C、44.71;H、4.01;F、39.38。
【0144】
(実施例3)
NB−Me−F−OHのホモポリマーを、以下の手順を用いて調製した。
窒素下、アリルパラジウム錯体[(η3−MeCHCHCH2)PdCl]2を0.19g(0.49mmol)及び0.34g(0.98mmol)の銀ヘキサフルオロアンチモネートをクロロベンゼン(40mL)中に懸濁した。得られた混合物を、30分間、室温で撹拌した。次に、それを濾過して沈殿AgClを除去し、更に10mLのクロロベンゼンを添加した。得られた溶液を、NB−Me−F−OH15.0g(49.0mmol)に添加した。得られた反応混合物を、室温で3日間、撹拌した。未精製生成物ポリマーを、ヘキサン中で沈殿によって単離した。この材料をアセトン中で取り上げ、10重量%溶液を生じ、0.2μmのテフロン登録商標フィルターを通して濾過し、次に、アセトン濾液を乾燥状態に濃縮し、付加共重合体7.8gをもたらした。GPC:Mn = 6387; Mw = 9104; Mw/Mn = 1.43。分析結果: C、46.28;H、4.81;F、34.22。ポリマーの1H NMR(CD2Cl2)は、以下に示した飽和ビニル−付加重合体と一致していた。
【0145】
【化26】
【0146】
(実施例4)
NB−F−OH/NB−F−O−t−BuAcコポリマーを、以下の手順を用いてポリマー改質によって合成した。
機械撹拌機、添加漏斗及び還流凝縮器を有する500mLの丸底フラスコに、ヘキサフルオロイソプロパノール基0.185モルを含有すると計算されたNB−F−OHビニル付加単独重合体53.6g、アセトニトリル200mL及び炭酸カリウム30.6g(0.222モル)を充填した。この混合物を0.5時間還流した。tert−ブチルブロモアセテート(10.8g、0.055モル)を滴下し、得られた混合物を3時間、還流した。混合物を室温に冷却し、300mLのアセトンを添加することによって希釈した。次に、混合物を濾過し、約200mLの容量まで真空下で濃縮した。濃縮混合物を、5.4Lの1.0%HCl水溶液中にゆっくりと注いだ。得られた沈殿物を濾過し、水で洗浄した。次いで、沈殿物を、200mLのアセトン中に溶解し、この溶液に、5mLの水及び3mLの36%HCl水溶液の溶液に添加した。得られた溶液はわずかに曇っていた。それを、水5.4L中に注いだ。沈殿物を数回、水で洗浄し、乾燥させてNB−F−OH/NB−FO−t−BuAcコポリマー44.0gをもたらした。19F NMR(δアセトン−d6)−73.1(NB−F−O−t−BuAc由来の単位に帰属されたs)、−75.4(NB−F−OH由来の単位に帰属されたs)スペクトルを積分することによって、ポリマーの組成は、64%のNB−F−OH及び36%のNB−F−O−t−BuAcであることがわかった。ポリマーの試料を、2−ヘプタノンに溶かした5%溶液からスピンコートした。157nmでの吸収係数を測定すると、47.2nmのフィルム厚さで3.15μm−1及び45.7nmのフィルム厚さで2.70μm−1であった。
【0147】
(実施例5)
NB−Me−F−OH/NB−Me−F−O−t−BuAcコポリマーを以下の手順を用いるポリマー改質によって合成した。
実施例4を繰り返したが、次の点が異なっていた。NB−Me−F−OHビニル付加単独重合体をNB−F−OHビニル付加単独重合体の代わりに用い、NB−Me−F−OH/NB−Me−F−O−t−BuAcコポリマーを合成した。19F NMR(δアセトン−d6)−73.2(NB−F−O−t−BuAc由来の単位に帰属されたs)、−75.3(NB−Me−F−OH由来の単位に帰属されたs)。スペクトルを積分することによって、ポリマーの組成は、68%のNB−Me−F−OH及び32%のNB−Me−F−O−t−BuAcであることがわかった。
【0148】
(実施例6)
3/1ポリマーブレンドの、以下の調合物を調製し、磁気的に撹拌した。
【0149】
【表4】
【0150】
スピンコーティングを、直径4インチタイプ「P」、<100>方位(orientation)、シリコンウエハ上でBrewer Science Inc.モデル−100CBコンビネーションスピンコータ/ホットプレートを用いて行った。 現像を、Litho Tech Japan Co. レジスト現像アナライザ(モデル−790)で行った。
【0151】
ウエハを作製するために、ヘキサメチルジ−シラザン(HMDS)プライマー5mLを堆積し、10秒間、5000rpm でスピンした。次いで、上記の溶液1−3mLを、0.45μmのPTFEシリンジフィルターを通して濾過した後、堆積させ、60秒間、2500rpmでスピンし、60秒間、120℃で焼き付けた。
【0152】
248nmの画像形成を行うために、248nmでのエネルギーの約30%を通過させる248nm干渉フィルタを通してORIEL モデル−82421ソーラーシミュレーター(1000ワット)からの広帯域紫外線を通過させることによって得られた光に、被覆ウエハを露光した。露光時間は、5秒であり、7.5mJ/cm2の非減衰線量を提供した。いろいろな中性光学濃度(neutral optical density)の18位置を有するマスクを用いることによって、いろいろな露光線量を生成した。露光後に、露光したウエハを60秒間、100℃で焼き付けた。ウエハを、60秒間、水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)水溶液(シプリー LDD−26W現像剤、 0.26N TMAH溶液)中で現像し、ポジ画像パターンを提供した。
【0153】
(実施例7)
1/1ポリマーブレンドの、以下の調合物を調製し、機械的に撹拌した。
【0154】
【表5】
【0155】
加工を実施例6の場合と同様に行ったが、ただし、露光は10秒間であり、15mJ/cm2の非減衰線量を提供した。ポジ画像パターンが得られた。
【0156】
(実施例8)
1/3ポリマーブレンドの、以下の調合物を調製し、機械的に撹拌した。
【0157】
【表6】
【0158】
加工を実施例6の場合と同様に行ったが、ただし、露光は10秒間であり、15mJ/cm2の非減衰線量を提供した。ポジ画像パターンが得られた。
Claims (17)
- (A)(a)少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含むフッ素含有コポリマーであって、少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物が多環式であることにより特徴付けられるものと、
(b)保護された酸基を含有する分岐ポリマーであって、前記ポリマーが線状主鎖セグメントに沿って化学的に結合された1つ以上の分岐セグメントを含むものと、
(c)下記構造:
−C(Rf)(Rf’)OH
(式中、Rf及びRf’が、1〜約10個の炭素原子の、同一または異なるフルオロアルキル基であるか、または一緒になってnが2から約10である(CF2)nである。)
を有する少なくとも1つのフルオロアルコール基を有するフルオロポリマーと、 (d)ペルフルオロ(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)もしくはCX2=CY2(式中、X=FまたはCF3及びY=−H)の非晶質ビニルホモポリマーまたはペルフルオロ(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)及びCX2=CY2の非晶質ビニルコポリマーと、
(e)置換または非置換ビニルエーテルから調製されたニトリル/フルオロアルコール含有ポリマーと、からなる群から選択される少なくとも2つのポリマー、及び
(B)少なくとも1つの光活性成分
を含むことを特徴とするフォトレジスト組成物。 - 前記ポリマーの吸収係数が、約157nmの波長で約5.0μm−1未満であることを特徴とする請求項1に記載のフォトレジスト組成物。
- 前記ポリマーの吸収係数が、約157nmの波長で約4.0μm−1未満であることを特徴とする請求項1に記載のフォトレジスト組成物。
- 前記ポリマーの吸収係数が、約157nmの波長で約3.5μm−1未満であることを特徴とする請求項1に記載のフォトレジスト組成物。
- 前記ポリマー(a)が少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含むフッ素含有コポリマーであって、前記少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物が多環式であり、少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物がエチレン性不飽和炭素原子に共有結合で結合された少なくとも1つのフッ素原子を含有することにより特徴付けられるものであることを特徴とする請求項1に記載のフォトレジスト組成物。
- 前記ポリマー(a)が、フッ素原子、ペルフルオロアルキル基、及びペルフルオロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1個の原子または基を有する少なくとも1つの多環式エチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含むフッ素含有コポリマーであって、前記少なくとも1個の原子または基が、環構造内に含有される炭素原子に共有結合で結合されており、且つ、少なくとも1個の共有結合で結合された炭素原子によって前記エチレン性不飽和化合物の各エチレン性不飽和炭素原子から隔てられていることにより特徴付けられているものであることを特徴とする請求項1に記載のフォトレジスト組成物。
- 前記ポリマー(b)が、保護された酸基を含有する分岐ポリマーであり、前記ポリマーが線状主鎖セグメントに沿って化学的に結合された1つ以上の分岐セグメントを含むことを特徴とする請求項1に記載のフォトレジスト組成物。
- 前記ポリマー(c)が、
(c1)構造:
−C(Rf)(Rf’)OH
(式中、Rf及びRf’が、1〜約10個の炭素原子の、同一または異なるフルオロアルキル基であるか、または一緒になって、nが2〜約10である(CF2)nである。)
を有するフルオロアルコール官能基を含有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含む、フッ素含有ポリマーと、
(c2)少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含むフッ素含有コポリマーであって、少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物が環式または多環式であり、少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物が、エチレン性不飽和炭素原子に共有結合された少なくとも1個のフッ素原子を含有し、且つ、少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物が、下記構造:
−C(Rf)(Rf’)OH
(式中、Rf及びRf’が、1〜約10個の炭素原子の、同一または異なるフルオロアルキル基であるか、または一緒になって、nが2〜10である(CF2)nである。)
を有するフルオロアルコール官能基からなることによって特徴付けられるものと、
(c3)(i)2個のエチレン性不飽和炭素原子に共有結合された少なくとも3個のフッ素原子を含有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位、及び
(ii)下記構造:
−C(Rf)(Rf’)OH
(式中、Rf及びRf’が、1〜約10個の炭素原子の、同一または異なるフルオロアルキル基であるか、または一緒になって、nが2〜10である(CF2)nである。)
を有するフルオロアルコール官能基からなるエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含む、
フッ素含有コポリマーと、
(c4)下記構造:
−ZCH2C(Rf)(Rf’)OH
(式中、Rf及びRf’が、1〜約10個の炭素原子の、同一または異なるフルオロアルキル基であるか、または一緒になって、nが2〜10である(CF2)nであり、Zが元素の周期律表のVA族またはVIA族からの元素である。)
を有するフルオロアルコール官能基を含有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含む、フッ素含有コポリマー、と、
(c5)下記構造:
−C(Rf)(Rf’)OR44
(式中、Rf及びRf’が、1〜10個の炭素原子の、同一または異なるフルオロアルキル基であるか、または一緒になってnが2〜10である(CF2)nである。)、R44が水素原子または酸もしくは塩基に不安定な保護基であり、vが前記ポリマー中の繰り返し単位の数であり、wが0〜4であり、前記繰り返し単位の少なくとも1つは、R40、R41、R42、及びR43の少なくとも1つが構造C(Rf)(Rf’)OR44を含有する構造を有する。]
を含むフッ素含有ポリマーと、
(c6) (i)下記構造:
−C(Rf)(Rf’)OH
(式中、Rf及びRf’が、1〜約10個の炭素原子の、同一または異なるフルオロアルキル基であるか、または一緒になってnが2〜約10である(CF2)nである。)を有するフルオロアルコール官能基を含有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される、繰り返し単位と、
(iii)下記構造:
(H)(R45)C=C(R46)(CN)
を有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位であって、式中、R45が水素原子またはCN基であり、R46がC1−C8アルキル基または水素原子、またはCO2R47基(式中、R47がC1−C8アルキル基または水素原子である。)である繰り返し単位とを含むポリマーと、
からなる群から選択されることを特徴とする請求項1に記載のフォトレジスト化合物。 - 前記ポリマー(c)が、エチレン、アルファ−オレフィン、1,1’−二置換オレフィン、ビニルアルコール、ビニルエーテル、及び1,3−ジエンからなる群から選択されるスペーサー基を更に含むことを特徴とする請求項8に記載のフォトレジスト組成物。
- 前記ポリマー(d)が、1つ以上のコモノマーCR51R52=CR53R54であって、式中、R51、R52、R53の各々が独立して、HまたはFから選択され、R54が、−F、−CF3、−OR55(R55がCnF2n+1であり、n=1〜3である。)、−OH(R53=Hのとき。)、及びCl(R51、R52、及びR53=Fのとき)からなる群から選択されるものをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のフォトレジスト組成物。
- 前記ポリマー(d)が、1:2〜2:1比のCH2=CHCF3とCF2=CF2、1:2〜2:1比のCH2=CHFとCF2=CFCl、1:2〜2:1比のCH2=CHFとCClH=CF2、任意の比のペルフルオロ(2−メチレン−4−メチル−1,3−ジオキソラン)とペルフルオロ(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)、任意の比のペルフルオロ(2−メチレン−4−メチル−1,3−ジオキソラン)と非晶質ビニリデンフルオリド、からなる群から選択される非晶質ビニルコポリマー、及びペルフルオロ(2−メチレン−4−メチル−1,3−ジオキソラン)のホモポリマー、を更に含むことを特徴とする請求項1に記載のフォトレジスト組成物。
- 前記ポリマー(e)が、
(e1)(i)ビニルエーテル官能基を含み、下記構造:
CH2=CHO−R56
(式中、R56が、1〜約20個の炭素原子の置換または非置換アルキル、アリール、アラルキルまたはアルカリール基である。)を有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位と、
(ii)下記構造:
(H)(R57)C=C(R58)(CN)
[式中、R57が水素原子またはシアノ基であり、R58が、炭素原子1〜約8個の範囲のアルキル基、CO2R59基(R59が炭素原子1〜約8個の範囲のアルキル基である。)、または水素原子である。)を有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位と、
(iii)酸基を含む少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位と、
を含むポリマーと、
(e2)(i)ビニルエーテル官能基及びフルオロアルコール官能基を含み、下記構造:
C(R60)(R61)=C(R62)−O−D−C(Rf)(Rf’)OH
(式中、R60、R61、及びR62が独立して、水素原子、炭素原子1〜約3個の範囲のアルキル基であり、Dが、前記ビニルエーテル官能基を、酸素原子を介して、フルオロアルコール官能基の炭素原子に結合する少なくとも1個の原子であり、Rf及びRf’が、1〜約10個の炭素原子を含有する同一または異なるフルオロアルキル基であるか、または一緒になってnが2〜約10の整数である(CF2)nである。)
を有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される、繰り返し単位と、
(ii)下記構造:
(H)(R57)C=C(R58)(CN)
(式中、R57が水素原子またはシアノ基であり、R58が、炭素原子1〜約8個の範囲のアルキル基、CO2R59基(R59が炭素原子1〜約8個の範囲のアルキル基である。)、または水素原子である。)
を有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位と、
(iii)酸基を含む少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位と、
を含むポリマーと、
からなる群から選択されることを特徴とする請求項1に記載のフォトレジスト組成物。 - 前記光活性成分が、(a)〜(e)からなる群から選択される前記ポリマーに化学的に結合されていることを特徴とする請求項1に記載のフォトレジスト組成物。
- フォトレジスト画像を基板上に作製する方法であって、順に、
(X)前記フォトレジスト層を画像ごとに露光して画像形成及び非画像形成領域を形成する工程であって、前記フォトレジスト層が、
(A)(a)少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含むフッ素含有コポリマーであって、少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物が多環式であることにより特徴付けられるものと、
(b)保護された酸基を含有する分岐ポリマーであって、前記ポリマーが線状主鎖セグメントに沿って化学的に結合された1つ以上の分岐セグメントを含むものと、
(c)下記構造:
−C(Rf)(Rf’)OH
(式中、Rf及びRf’が、1〜約10個の炭素原子の、同一または異なるフルオロアルキル基であるか、または一緒になってnが1から約10である(CF2)nである。)
を有する少なくとも1つのフルオロアルコールを有するフルオロポリマーと、
(d)ペルフルオロ(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)もしくはCX2=CY2(式中、X=FまたはCF3及びY=−H)の非晶質ビニルホモポリマーまたはペルフルオロ(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)及びCX2=CY2の非晶質ビニルコポリマーと、
(e)置換または非置換ビニルエーテルから調製されたニトリル/フルオロアルコール含有ポリマーと、からなる群から選択される少なくとも2つのポリマー、及び
(B)光活性成分を含むフォトレジスト組成物から調整される工程と、
(Y)画像形成及び非画像形成領域を有する、露光されたフォトレジスト層を現像してレリーフ画像を前記基板上に形成する工程と
を含むことを特徴とする方法。 - 前記ポリマーの吸収係数が、約157nmの波長で約5.0μm−1未満であることを特徴とする請求項14に記載の方法。
- 前記ポリマーの吸収係数が、約157nmの波長で約4.0μm−1未満であることを特徴とする請求項14に記載の方法。
- 前記ポリマーの吸収係数が、約157nmの波長で約3.5μm−1未満であることを特徴とする請求項14に記載の方法。
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