JP2004536193A - 透明難燃性ポリカーボネート組成物 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】透明な難燃性枝分れポリカーボネート−ポリシロキサン組成物は、ポリカーボネート、短鎖ポリジオルガノシロキサン、枝分れ剤、及び臭素も塩素も含まない難燃剤を含み、短鎖ポリジオルガノシロキサンの量は約1重量%以下である。
Description
【0001】
本発明は、難燃性ポリカーボネート組成物に関し、さらに具体的には透明な難燃性ポリカーボネート組成物に関する。
【背景技術】
【0002】
ポリカーボネートは、耐衝撃性に優れ、高い熱変形温度と透明性を有するので、成形品の製造に広く用いられている。安全上の配慮から所定レベルの難燃性が必要とされる電子装置のハウジングなどの用途のため、難燃性グレードのポリカーボネートが開発されている。これらの難燃性ポリカーボネートは通例含臭素又は含塩素難燃剤を用いて製造される。近年、含臭素又は含塩素難燃剤による環境汚染についての懸念から、臭素又は塩素をほとんど或いは全く含まない透明ポリカーボネートに対するニーズが生じている。さらに、成形品の大型化及びプラスチック含量の増大に伴って、Underwriter’s Laboratory 5VA試験プロトコルに規定されるような一段と厳しい難燃性試験に合格することのできる難燃性グレードに対するニーズも存在する。
【0003】
米国特許第5449710号及び同第6184312号に教示されているように、ポリカーボネートの難燃性を向上させるためにシロキサン添加剤が使用されているが、用途によっては性能に問題を生ずることがある。シロキサン添加剤は成形品の表面に移行してその性能に影響を及ぼすことがある。シロキサン添加剤は成形品から揮発し、周囲の電気部品の性能に影響を及ぼすことがある。別の実施形態として、米国特許第3189662号、同第3419635号、同第4732949号及び同第5068302号には、シロキサン添加剤に付随する問題を解決する各種のポリカーボネート/シロキサンコポリマー構造が開示されている。さらに別の教示として、米国特許第6072011号には、ジメチルシロキサン単位45〜55個のブロック長をもつオイゲノール封鎖線状シロキサンを4〜8重量%含有するポリカーボネート/シロキサンコポリマーが開示されている。この材料は優れた加水分解安定性、低温延性を呈し、厚さ3mmで5V難燃性をもつが、透明ではない。
【特許文献1】
米国特許第5449710号
【特許文献2】
米国特許第6184312号
【特許文献3】
米国特許第3189662号
【特許文献4】
米国特許第3419635号
【特許文献5】
米国特許第4732949号
【特許文献6】
米国特許第5068302号
【特許文献7】
米国特許第6072011号
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【0004】
本発明者らは、短鎖オイゲノール封鎖シロキサンの量を劇的に下げることによって、さらに厳しいUL 5V評価を満足する透明な枝分れポリシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマーで、揮発性シロキサンも含臭素又は含塩素難燃剤も実質的に含まないものが得られるという予想外の知見を得た。
【0005】
本発明は、ジメチルシロキサン単位5〜15個のブロック長をもつオイゲノール封鎖シロキサンを1重量%未満含有する透明な枝分れポリシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマー組成物であって、厚さ約4mm以上でUL94 5V評価を有する組成物に関する。
【0006】
本発明は、ジメチルシロキサン単位5〜15個のブロック長をもつオイゲノール封鎖シロキサンを1重量%未満含有する枝分れポリシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマー組成物の製造方法にも関する。
【発明を実施するための最良の形態】
【0007】
本明細書中において、透明とは、ASTM D1003(その記載内容は援用によって本明細書の内容の一部をなす。)に従って厚さ3.2mmで測定して、約85%以上の透過率及び約5以下のヘイズを有することと定義される。
【0008】
ポリジオルガノシロキサン/ポリカーボネートブロックコポリマーは当技術分野で周知であり、例えば米国特許第3189662号、同第3419634号、同第4732949号及び同第5068302号(これらの開示内容は援用によって本明細書の内容の一部をなす。)には、ポリカーボネートブロックとポリシロキサンブロックとを含む樹脂並びにポリカーボネート−ポリシロキサンブロックコポリマーの製造方法が開示されている。
【0009】
ポリカーボネートブロック
本発明の組成物中のポリカーボネートブロックは次の式Iの繰返し単位を含む。
【0010】
【化1】
【0011】
式中、Ra及びRbは各々一価炭化水素基であって同一でも異なるものでもよく、p及びqは各々独立に0〜4の整数であり、Xaは以下の式の基のいずれかである。
【0012】
【化2】
【0013】
式中、Rc及びRdは各々独立に水素原子又は一価線状もしくは環状炭化水素基であり、Reは二価炭化水素基である。
【0014】
ポリカーボネートブロックは、ビスフェノールのようなジヒドロキシ化合物と、ホスゲン、ハロホルメート、カーボネート又はカーボネートエステルのようなカーボネート前駆体とを一般に酸受容体及び分子量調節剤の存在下で反応させることによって製造することができる。ブロックコポリマーは、米国特許第3154008号に開示されているようなエステル交換反応など、当技術分野で公知の他のポリカーボネート製造方法で製造することもできる。
【0015】
有用な重合方法には、界面重合、溶融重合、再分配などがある。
【0016】
本明細書中で用いる「ジヒドロキシ化合物」という用語には、例えば次の式IIのビスフェノール化合物が包含される。
【0017】
【化3】
【0018】
式中、Ra及びRbは各々一価炭化水素基であって同一でも異なるものでもよく、p及びqは各々独立に0〜4の整数であり、Xaは以下の式の基のいずれかである。
【0019】
【化4】
【0020】
式中、Rc及びRdは各々独立に水素原子又は一価線状もしくは環状炭化水素基であり、Reは二価炭化水素基である。
【0021】
適当なジヒドロキシ化合物の具体例を幾つか挙げると、米国特許第4217438号(その開示内容は援用によって本明細書の内容の一部をなす。)に化合物名又は式(一般式又は特定の式)で開示されているジヒドロキシ置換芳香族炭化水素がある。式(II)で表される種類のビスフェノール化合物の具体例の非包括的なリストには、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(以下、「ビスフェノールA」又は「BPA」という。)、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)オクタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)n−ブタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)フェニルメタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−1−メチルフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−t−ブチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンのようなビス(ヒドロキシアリール)アルカン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロペンタン、及び1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンのようなビス(ヒドロキシアリール)シクロアルカンがある。
【0022】
ホモポリマーよりもカーボネートコポリマーを用いることが望まれる場合、2種以上の異なるジヒドロキシ化合物、或いはジヒドロキシ化合物とグリコール又はヒドロキシもしくは酸末端ポリエステル又は二塩基酸又はヒドロキシ酸とのコポリマーを使用することもできる。ポリアリーレート及びポリエステル−カーボネート樹脂又はそのブレンドも使用できる。
【0023】
シロキサンブロック
本発明の枝分れコポリマーの製造に用いられるシロキサンブロックはビスフェノールシロキサンとして特徴付けられる。これらのビスフェノールシロキサンの製造は、以下の図式に従い、アルケニル置換基含有フェノールへのポリジオルガノシロキサンの付加反応によって行う。
【0024】
【化5】
【0025】
式中、R1及びR2は各々独立にヒドロカルビルであり、Dは約5〜20の整数である。一実施形態では、R1はメチルであり、R2はメチル又はフェニルであり、Dは約5〜15である。
【0026】
ビスフェノールシロキサンの製造方法の骨子は、Vaughnの米国特許第3419635号(1968年12月)に記載されている。例えば、プロセスはVaughnの上記米国特許の実施例8に例示されており、触媒量のクロロ白金酸−アルコール錯体の存在下、90〜115℃でアリルフェノールに水素末端ポリジメチルシロキサンを付加させることが記載されている。
【0027】
一実施形態では、ポリシロキサンブロックは、R1及びR2がメチルで、Yがフェノール置換基のオルト位に位置するメトキシであるビスフェノールポリシロキサンから製造される。これらは、好適には白金又は白金化合物を触媒とする反応において、水素末端ポリシロキサンを2モル当量のオイゲール(すなわち4−アリル−2−メトキシフェノール)に付加させることによって容易に製造される。
【0028】
上記図式に示すアリルフェノール類も周知の化合物であり、その製造方法と併せて、Tarbell,Chemical Reviews 27,495ff(1940)に記載されている。一実施形態では、アリルフェノールはオイゲール、すなわち4−アリル−2−メトキシフェノールであるが、その理由はオイゲノールが合成品又は天然物として容易に入手でき、好適な反応性をもつビスフェノールポリシロキサンが得られるからである。
【0029】
ポリシロキサンブロック及び任意成分たる塩系難燃剤は、4mmでUL94 5V評価を達成するのに有効な量で存在する。一実施形態では、ポリシロキサンブロックは1重量%未満の量で存在する。第二の実施形態では、その量は樹脂全体の重量を基準にして約0.25〜0.75重量%である。さらに第三の実施形態では、その量は約0.5重量%である。
【0030】
枝分れ剤
本発明の枝分れコポリマーは重合時に枝分れ剤を添加することによって製造される。枝分れ剤は当技術分野で周知であって、3個以上の官能基を有する多官能性有機化合物があり、該官能基としてはヒドロキシル、カルボキシル、無水カルボン酸、カルボン酸塩化物又はこれらの組合せが挙げられる。
【0031】
具体例には、トリメリト酸、無水トリメリト酸、トリメリト酸トリクロライド、トリス−p−ヒドロキシフェニルエタン(「THPE」)、イサチンビスフェノール、トリスフェノールTC(1,3,5−トリス((p−ヒドロキシフェニル)イソプロピル)ベンゼン)、トリスフェノールPA(4(4(1,1−ビス(p−ヒドロキシフェニル)エチル)α,α−ジメチルベンジル)フェノール)、トリメシン酸及びベンゾフェノンテトラカルボン酸がある。
【0032】
枝分れ剤は約0.05〜2.0重量%のレベルで添加し得る。
【0033】
任意成分としての難燃剤
本発明の組成物は、不揮発性シロキサン難燃剤、無機プロトン酸及び炭素原子数1以上の有機ブレンステッド酸のアルカリ金属塩又はアルカリ土類金属塩を始めとする塩系難燃剤を含んでいてもよい。一実施形態では、塩系難燃剤は、ジフェニルスルホン−3−スルホン酸カリウム(KSS)、ペルフルオロブタンスルホン酸カリウム(KPFBS)及びこれらの1種以上を含む組合せからなる群から選択されるスルホン酸塩である。
【0034】
塩系難燃剤は、樹脂全体の重量を基準にして約0.01〜1.0重量%の量で使用し得る。一実施形態では、塩系難燃剤はKPFBSであり、KPFBSの量は樹脂全体の重量を基準にして約0.05〜0.12重量%である。第二の実施形態では、塩系難燃剤はKSSであり、その量は樹脂全体の重量を基準にして約0.35重量%以下である。
【0035】
任意成分としての添加剤
本発明の組成物は、この種の樹脂組成物に通常配合される各種添加剤を含んでいてもよい。かかる添加剤には、例えば熱安定剤、酸化防止剤、光安定剤、可塑剤、帯電防止剤、離型剤、追加の樹脂、発泡剤などがある。
【0036】
かかる添加剤はプラスチックコンパウンディング技術で公知であり、例えば約0.01〜0.1重量部の熱安定剤、約0.01〜0.2重量部の酸化防止剤、約0.1〜0.7重量部の光安定剤、約0.5〜3重量部の可塑剤、約0.1〜3重量部の帯電防止剤、及び約0.1〜1重量部の離型剤が挙げられる。以上の添加剤量は樹脂組成物100重量部を基準にした量である。
【0037】
熱安定剤の具体例には、トリフェニルホスファイト、トリス−(2,6−ジメチルフェニル)ホスファイト、トリス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、トリス(混成モノ−及びジ−ノニルフェニル)ホスファイト、ジメチルベンゼンホスホネート及びトリメチルホスフェートがある。酸化防止剤の具体例には、オクタデシル−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート及びペンタエリトリチル−テトラキス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]がある。光安定剤の具体例には、2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−5−tert−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール及び2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノンがある。可塑剤の具体例には、ジオクチル−4,5−エポキシ−ヘキサヒドロフタレート、トリス(オクトキシカルボニルエチル)イソシアヌレート、トリステアリン及びエポキシ化大豆油がある。帯電防止剤の具体例には、グリセロールモノステアレート、ステアリルスルホン酸ナトリウム及びドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムがある。離型剤の具体例には、ペンタエリトリトールテトラステアレート、ステアリン酸ステアリル、蜜蝋、モンタンワックス及びパラフィンワックスがある。上述の添加剤の任意の組合せも使用できる。かかる添加剤は、組成物製造のための諸成分の混合の際の適当な段階で混合すればよい。
【0038】
製造
ビスフェノールポリシロキサン、ビスフェノールのようなジヒドロキシ化合物及び枝分れ剤からの本発明の枝分れポリカーボネート/シロキサンブロックコポリマーへの転化は、米国特許第3635895号及び同第4001184号(これらの開示内容は援用によって本明細書の内容の一部をなす。)に記載されているような枝分れポリカーボネートの公知の製造方法で行うことができる。あらゆる種類のポリカーボネート末端基が本発明の技術的範囲に属すると思料される。
【0039】
一実施形態では、透明難燃性ポリカーボネート組成物は次の手順で製造し得る。ポリシロキサンと芳香族又は脂肪族ジヒドロキシ化合物と有機溶剤と水と末端封鎖剤と第三アミンを反応容器に仕込む。反応混合物を激しく撹拌し、苛性アルカリ水溶液を添加してpHを約8〜11に維持しながら、ホスゲンを溶液に吹き込む。
【0040】
反応が完結したら、水層から有機層を分離し、希塩酸で洗浄し、次いで脱イオン水で洗浄する。溶剤を例えば水蒸気沈殿又は貧溶媒沈殿によって除去し、ポリマーを乾燥する。
【0041】
本発明の組成物及び任意成分の添加剤は、あらゆる公知の混合法を用いてコンパウンディングし得る。一実施形態では、原料を別々の供給系から溶融混合装置(押出機など)の供給部に直接添加する。溶融混合段階では、諸成分を通例単軸押出機又は二軸押出機で溶融混練し、ペレットとして押出す。
【0042】
本発明の組成物は、その主要な特性である透明性、耐熱性、靱性、UV安定性、難燃性が必要とされるあらゆる用途に使用できる。成形品は押出又は射出成形によって製造することができる。
【実施例】
【0043】
本発明を以下の非限定的な実施例によってさらに例示する。すべての実施例において、特記しない限り、量はすべて樹脂全体の重量を基準とした重量%である。
【0044】
D10流体の製造
本例では、1分子当りのMe2SiO単位数が約10個の重合度を有するオイゲノール封鎖ポリメチルシロキサン流体(以下、D10流体)を製造する。12Lのフラスコ中で、オクタメチルシクロテトラシロキサン(8.3kg、28.0モル)、テトラメチルジシロキサン(1.7kg、12.3モル)及びFiltrol 20(172g、1重量%、Harshaw/Filtrol Clay Products)を混合し、45℃で2時間加熱する。次いで、温度を100℃に上げ、混合物を5時間迅速に撹拌する。混合物を放冷し、次いでセライト濾過助剤のプラグに通して濾過する。粗生成物に、オイゲノール(3.9kg、23.6モル)とKarstedt白金触媒(3.0g、白金100ppm)の混合物を約40g/minの速度で添加する。赤外スペクトルにおけるシロキサン水素の消失によって反応の完結をモニターする。200℃、1.5Torrで操作する薄膜降下式エバポレーターによって反応生成物から揮発分を除去する。単離したポリシロキサン材料は、シロキサン単位数約10個の重合度をもつ淡褐色オイルであり、それ以上精製せずに使用する。
【0045】
樹脂A(ポリシロキサン存在せず)
100L攪拌式反応容器に、ビスフェノールA(8969g、39.3モル)及び1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフェニル)エタン(30g、0.10モル、以下「THPE」という。)を、塩化メチレン(40L)、水(23L)、トリエチルアミン(70ml)、グルコン酸ナトリウム(17g)及びp−クミルフェノール(376g、4.5モル%)と共に仕込む。次の段階で、50%苛性アルカリ溶液の制御された添加によってpHを約10.0〜10.5に維持しながら、ホスゲン(4582g、46.3モル)を150g/minの速度で加える。
【0046】
反応が完結したら、得られたポリマー溶液をブライン層から分離し、23Lの塩化メチレンを追加して希釈し、希塩酸溶液で洗浄し、滴定可能な塩素レベルが3ppm未満になるまで水で洗浄する。ポリマーをスチーム沈殿により白色粒子として単離し、乾燥する。
【0047】
樹脂B(約1重量%のポリシロキサンが存在)
100L攪拌式反応容器に、ビスフェノールA(8969g、39.3モル)、D10流体(上で調製、88g、0.21モル)及びTHPE(30g、0.10モル)を、塩化メチレン(40L)、水(23L)、トリエチルアミン(70ml)、グルコン酸ナトリウム(17g)及びp−クミルフェノール(376g、4.5モル%)と共に仕込む。次の段階で、50%苛性アルカリ溶液の制御された添加によってpHを約10.0〜10.5に維持しながら、ホスゲン(4582g、46.3モル)を150g/minの速度で加える。
【0048】
反応が完結したら、得られたポリマー溶液をブライン層から分離し、23Lの塩化メチレンを追加して希釈し、希塩酸溶液で洗浄し、滴定可能な塩素レベルが3ppm未満になるまで水洗する。水蒸気沈殿によってポリマーを白色粒子として単離し、乾燥する。
【0049】
樹脂C(約3重量%のポリシロキサンが存在)
100L攪拌式反応容器に、ビスフェノールA(8969g、39.3モル)、D10流体(上で調製、254g、0.63モル)及びTHPE(30g、0.10モル)を、塩化メチレン(40L)、水(23L)、トリエチルアミン(70ml)、グルコン酸ナトリウム(17g)及びp−クミルフェノール(376g、4.5モル%)と共に仕込む。次の段階で、50%苛性アルカリ溶液の制御された添加によってpHを約10.0〜10.5に維持しながら、ホスゲン(4582g、46.3モル)を150g/minの速度で加える。
【0050】
反応が完結したら、得られたポリマー溶液をブライン層から分離し、23Lの塩化メチレンを追加して希釈し、希塩酸溶液で洗浄し、滴定可能な塩素レベルが3ppm未満になるまで水洗する。水蒸気沈殿によってポリマーを白色粒子として単離し、乾燥する。
【0051】
試験樹脂D(約5重量%のポリシロキサンが存在)
100L攪拌式反応容器に、ビスフェノールA(8969g、39.3モル)、D10流体(上で調製、440g、1.05モル)及びTHPE(30g、0.10モル)を、塩化メチレン(40L)、水(23L)、トリエチルアミン(70ml)、グルコン酸ナトリウム(17g)及びp−クミルフェノール(376g、4.5モル%)と共に仕込む。次の段階で、50%苛性アルカリ溶液の制御された添加によってpHを約10.0〜10.5に維持しながら、ホスゲン(4582g、46.3モル)を150g/minの速度で加える。
【0052】
反応が完結したら、得られたポリマー溶液をブライン層から分離し、23Lの塩化メチレンを追加して希釈し、希塩酸溶液で洗浄し、滴定可能な塩素レベルが3ppm未満になるまで水洗する。水蒸気沈殿によってポリマーを白色粒子として単離し、乾燥する。
【0053】
試験樹脂E(約0.5重量%のポリシロキサンが存在)
100L攪拌式反応容器に、ビスフェノールA(8969g、39.3モル)、D10流体(上で調製、44g、0.105モル)及びTHPE(30g、0.10モル)を、塩化メチレン(40L)、水(23L)、トリエチルアミン(70ml)、グルコン酸ナトリウム(17g)及びp−クミルフェノール(376g、4.5モル%)と共に仕込む。次の段階で、50%苛性アルカリ溶液の制御された添加によってpHを約10.0〜10.5に維持しながら、ホスゲン(4582g、46.3モル)を150g/minの速度で加える。
【0054】
反応が完結したら、得られたポリマー溶液をブライン層から分離し、23Lの塩化メチレンを追加して希釈し、希塩酸溶液で洗浄し、滴定可能な塩素レベルが3ppm未満になるまで水洗する。水蒸気沈殿によってポリマーを白色粒子として単離し、乾燥する。
【0055】
試験樹脂F(線状コポリマー、枝分れなし)
100L攪拌式反応容器に、ビスフェノールA(8969g、39.3モル)とD10流体(上記で調製、44g、0.105モル)を、塩化メチレン(40L)、水(23L)、トリエチルアミン(70ml)、グルコン酸ナトリウム(17g)及びp−クミルフェノール(376g、4.5モル%)と共に仕込む。次の段階で、50%苛性アルカリ溶液の制御された添加によってpHを約10.0〜10.5に維持しながら、ホスゲン(4582g、46.3モル)を150g/minの速度で加える。
【0056】
反応が完結したら、得られたポリマー溶液をブライン層から分離し、23Lの塩化メチレンを追加して希釈し、希塩酸溶液で洗浄し、滴定可能な塩素レベルが3ppm未満になるまで水洗する。水蒸気沈殿によってポリマーを白色粒子として単離し、乾燥する。
【0057】
実施例では、樹脂100部、ペルフルオロブタンスルホン酸カリウム(KPFBS)0.08部、環状オクタフェニルテトラシロキサン0.05部及びペンタエリトリトールテトラステアレート0.35部という処方で樹脂をコンパウンディングする。コンパウンディングとペレット化は二軸押出機を用いて行う。ペレット化した樹脂を235℃で4時間乾燥し、燃焼試験用の12.7mm×1.27mm×4mm短冊状試験片に射出成形する。
【0058】
UL試験
UL94 V0の接炎では、高さ20mmの炎を各試料に10秒間2回にわたって接炎する。以下に述べる基準を満たす場合には、難燃性熱可塑性樹脂はUL94 V0難燃性クラスに分類される。即ち、5本1組の試料について、すべての試料が接炎後に燃焼し続けてもよい。5本の試料に10回接炎した後の燃焼時間の合計が50秒以内でなければならず、個々の燃焼時間が10秒以内でなければならない。すべての試料について、燃焼粒子を滴下したり、完全に燃え尽きたり、赤熱燃焼を含めた燃焼が30秒を超えるものがあってはならない。UL94 V1難燃性クラスの分類では、燃焼時間が30秒以内でなければらなず、かつ5本の試料に10回接炎したときの燃焼時間の合計が250秒以内でなければならない。赤熱燃焼が60秒を超えて続いてはならない。その他の基準は上記と同じである。上記のUL94 V1としての分類基準を満たすが、燃焼粒子の滴下が起こる場合、その物質はUL94 V2難燃性クラスに分類される。
【0059】
5Vの接炎では、青色炎心高さが40mmである高さ127mmの炎を5秒間、5回試料に接炎する。接炎と次の接炎とは5秒の間隔をあける。物質がUL94 5V難燃性クラスに分類されるのは、最後の接炎後、試料の燃焼時間又は赤熱燃焼時間が60秒を超えない場合である。燃焼粒子の滴下も非燃焼粒子の滴下も、完全な燃焼も起こってはならない。
【0060】
厚さ4mmの短冊状燃焼試験片でのUL−94試験の結果を実施例の処方と併せて次の表に示す。
【0061】
【表1】
【0062】
実施例1及び実施例2から分かるように、ポリシロキサンレベルが約0.5重量%と比較的低い枝分れポリカーボネート−ポリシロキサンコポリマーは、ハロゲン化ポリカーボネート及び臭素及び/又は塩素含有難燃剤が存在しなくても、透明性を保持したまま優れた難燃性を与える。シロキサンを含まない又は高レベルのシロキサンを含む比較例は、UL 5V試験及びUL V0試験いずれも不合格であり、枝分れのない比較例はUL 5V試験に不合格である。
Claims (17)
- a)次式の繰返し単位を有するポリカーボネートブロック、
b)次式の繰返し又は反復ポリシロキサン単位、
c)ヒドロキシル、カルボキシル、カルボン酸無水物、カルボン酸塩化物及びこれらの混合物からなる群から選択される官能基を3個以上有する多官能性有機枝分れ剤、
d)難燃剤
を含んでなり、ポリシロキサン単位が組成物全体の重量を基準にして約1重量%以下の量で存在する、透明な難燃性枝分れポリカーボネート−ポリシロキサンブロックコポリマー組成物。 - 前記ポリシロキサンが当該組成物全体の重量を基準にして約0.25〜0.75重量%の量で存在する、請求項1記載の組成物。
- 前記ポリシロキサンが当該組成物全体の重量を基準にして約0.25〜0.50重量%の量で存在する、請求項2記載の組成物。
- 前記繰返し又は反復ポリシロキサン単位のD値が約5〜20であり、当該組成物が約4mm以上の厚さにおいてUV94 5Vの難燃性評価を有する、請求項1記載の組成物。
- 前記難燃剤が無機プロトン酸のアルカリ金属塩、無機プロトン酸のアルカリ土類金属塩、有機ブレンステッド酸のアルカリ金属塩、有機ブレンステッド酸のアルカリ土類金属塩からなる群から選択される材料を含む、請求項1記載の組成物。
- 前記難燃剤がペルフルオロブタンスルホン酸カリウムを含む、請求項5記載の組成物。
- 前記難燃剤が当該組成物全体の重量を基準にして約0.05〜0.2重量%の量で存在する、請求項1記載の組成物。
- さらに熱安定剤、酸化防止剤、光安定剤、可塑剤、帯電防止剤、離型剤、追加の樹脂、発泡剤又はこれらの組合せの1種以上を含む、請求項1記載の組成物。
- 前記多官能性有機化合物がトリメリト酸、無水トリメリト酸、トリメリト酸トリクロライド、トリス−p−ヒドロキシフェニルエタン、イサチンビスフェノール、トリスフェノールTC(1,3,5−トリス((p−ヒドロキシフェニル)イソプロピル)ベンゼン)、トリスフェノールPA(4(4(1,1−ビス(p−ヒドロキシフェニル)エチル)−α,α−ジメチルベンジル)フェノール)、トリメシン酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項1記載の組成物。
- 請求項1記載の組成物から製造される物品。
- 熱可塑性ランダム枝分れポリカーボネート−ポリシロキサンブロックコポリマー組成物の製造方法であって、
a)反応容器に、
i)二価フェノール、
ii)次式の繰返し又は反復ポリシロキサン単位、
iii)水、
iv)ヒドロキシル、カルボキシル、カルボン酸無水物、カルボン酸塩化物及びこれらの混合物からなる群から選択される官能基を3個以上有する枝分れ剤としての多官能性有機化合物、
v)触媒量の触媒
を仕込み、有機相と水相とを有する不均質反応混合物を形成し、
b)二相間の接触を促すため反応混合物を攪拌し、
c)反応混合物にカーボネート前駆体を加え、
d)二価フェノールと枝分れ剤とポリシロキサンジオールを共重合する
ことを含んでなる方法。 - 前記二価フェノールがビスフェノールAである、請求項11記載の方法。
- 前記触媒がトリエチルアミンである、請求項11記載の方法。
- 前記カーボネート前駆体がホスゲンである、請求項11記載の方法。
- 前記繰返し又は反復ポリシロキサン単位のD値が約5〜15である、請求項11記載の方法。
- さらに、前記熱可塑性ランダム枝分れポリカーボネート−ポリシロキサンブロックコポリマー組成物に、無機プロトン酸のアルカリ金属塩、無機プロトン酸のアルカリ土類金属塩、有機ブレンステッド酸のアルカリ金属塩、有機ブレンステッド酸のアルカリ土類金属塩からなる群から選択される塩系難燃剤を配合することを含む、請求項11記載の方法。
- さらに、前記熱可塑性ランダム枝分れポリカーボネート−ポリシロキサンブロックコポリマー組成物に、熱安定剤、酸化防止剤、光安定剤、可塑剤、帯電防止剤、離型剤、追加の樹脂、発泡剤又はこれらの組合せの1種以上を配合することを含む、請求項11記載の方法。
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