JP2004356356A - 洗浄終了判定方法および洗浄装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】実験を繰り返すことなく洗浄処理の終了を見極め得る洗浄終了判定方法と、該洗浄終了判定方法を採用した洗浄装置とを提供する。
【解決手段】循環利用する洗浄液を用いて、被洗浄物に付着する付着物を取り除く洗浄装置１０において、前記洗浄液を洗浄する前の該洗浄液の汚染状態を示す信号を生成する第１のセンサ１１と、前記被洗浄物を洗浄した後の該洗浄液の汚染状態を示す信号を生成する第２のセンサ１３と、前記第１のセンサからの信号と前記第２のセンサからの信号との差を求め、求めた差が所定の閾値以下のとき、洗浄処理の終了と判定する終了判定部２０とを備える。
【選択図】 図１
【解決手段】循環利用する洗浄液を用いて、被洗浄物に付着する付着物を取り除く洗浄装置１０において、前記洗浄液を洗浄する前の該洗浄液の汚染状態を示す信号を生成する第１のセンサ１１と、前記被洗浄物を洗浄した後の該洗浄液の汚染状態を示す信号を生成する第２のセンサ１３と、前記第１のセンサからの信号と前記第２のセンサからの信号との差を求め、求めた差が所定の閾値以下のとき、洗浄処理の終了と判定する終了判定部２０とを備える。
【選択図】 図１
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置の製造において付着する付着物を洗浄する洗浄処理に関し、特に洗浄処理の洗浄終了判定方法と洗浄装置とに関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体集積回路や液晶表示回路などの半導体装置の製造工程で、パターン加工を施すべくレジストを用いたエッチング処理や、アッシングと称される灰化処理などで前記半導体装置（以降、単に被洗浄物と称す）に付着する付着物を洗浄する方法が特許文献１、特許文献２および特許文献３に開示されている。
特許文献１は、洗浄液で被洗浄物を洗浄することで発生する気体の濃度を測定し、該測定値と所定の値とを比較判定することにより洗浄処理の終了を判断することを開示しており、また特許文献２は循環利用する洗浄液で被洗浄物を洗浄し、被洗浄物から剥離した付着物の粒子数をカウントし、該カウント値と所定の値とを比較判定することにより、洗浄処理の終了を判断することを開示している。
【０００３】
更に、特許文献３は洗浄機能を有する気体を用いて被洗浄物を洗浄することで生じる過酸化水素濃度を測定し、該測定値と所定の値とを比較することにより、洗浄処理の終了を判定することを開示している。
【０００４】
【特許文献１】
特開平６−１６８９２９号公報
【特許文献２】
特開平１０−３２１５８９号公報
【特許文献３】
特開平８−２３６４９４号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、前記した洗浄処理における終了の判定方法は、測定値と、所定の値つまり洗浄終了のための基準値とを比較判定することにより洗浄処理の終了を判断する。
従って、前記基準値は、例えば付着物の量、付着物の成分、洗浄液の成分、洗浄液の温度および一括的に洗浄する被洗浄物の個数など、多種多様な条件に基づいて決定する必要があることから、様々な条件毎に基準値を決定するための多くのサンプルを用いて洗浄処理の終了を見極める実験を繰り返す必要があった。
【０００６】
従って、本発明の目的は、実験を繰り返すことなく洗浄処理の終了を見極め得る洗浄終了判定方法と、該洗浄終了判定方法を採用した洗浄装置とを提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、以上の点を解決するために、次の構成を採用する。
本発明の洗浄終了判定方法は、循環利用する前記洗浄液を用いて被洗浄物に付着する付着物を取り除く洗浄処理の終了を判定する方法であって、前記被洗浄物を洗浄液により洗浄する前後の該洗浄液の汚染状態の差を取得すること、取得した差が所定の閾値以下のとき、洗浄処理の終了と判定することを特徴とする。
【０００８】
本発明の洗浄終了判定方法は、循環利用する洗浄液を用いて被洗浄物に付着する付着物を取り除く洗浄処理の終了を判定する方法であって、前記被洗浄物を前記洗浄液により洗浄する前後の該洗浄液の汚染状態の差を取得すること、取得した差に変化が見られないとき、洗浄処理の終了と判定することを特徴とする。
【０００９】
前記汚染状態は、前記洗浄液に含まれる残渣物の量であることを特徴とする。
前記汚染状態は、前記洗浄液のｐＨ値であることを特徴とする。
前記汚染状態は、前記洗浄液の成分比であることを特徴とする。
【００１０】
本発明の洗浄装置は、循環利用する洗浄液を用いて、被洗浄物に付着する付着物を取り除く洗浄装置であって、前記被洗浄物を洗浄する前の該洗浄液の汚染状態を示す信号を生成する第１のセンサと、前記被洗浄物を洗浄した後の該洗浄液の汚染状態を示す信号を生成する第２のセンサと、前記第１のセンサからの信号と前記第２のセンサからの信号との差を求め、求めた差が所定の閾値以下のとき、洗浄処理の終了と判定する終了判定部と、を備えることを特徴とする。
【００１１】
本発明の洗浄装置は、循環利用する洗浄液を用いて、被洗浄物に付着する付着物を取り除く洗浄装置であって、前記被洗浄物を洗浄する前の該洗浄液の汚染状態を示す信号を出力する第１のセンサと、前記被洗浄物を洗浄した液の該洗浄液の汚染状態を示す信号を出力する第２のセンサと、前記第１のセンサからの信号と前記第２のセンサからの信号との差を求め、求めた差に変化が見られないとき、洗浄処理の終了と判定する終了判定部と、を備えることを特徴とする。
【００１２】
前記第１のセンサおよび前記第２のセンサは、前記洗浄液に含まれる残渣物の量を示す信号を出力することを特徴とする。
前記第１のセンサおよび前記第２のセンサは、前記洗浄液のｐＨ値を示す信号を出力することを特徴とする。
前記第１のセンサおよび前記第２のセンサは、前記洗浄液の成分比を示す信号を出力することを特徴とする。
【００１３】
前記第１のセンサおよび前記第２のセンサは、光源からの光の強さに基づいて汚染状態を示す信号を出力する測定装置であって、該測定装置は、前記光源を前記第１のセンサと前記第２のセンサとに共用するための光源共用部を備えることを特徴とする。
前記第１のセンサおよび前記第２のセンサは、光源からの光の強さに基づいて汚染状態を示す信号を出力する測定装置であって、該測定装置は、前記第１のセンサと前記第２のセンサとに前記光源を均等に分配する光源分配部を備えることを特徴とする。
【００１４】
【発明の実施の形態】
〈具体例１〉
以下、本発明の実施形態を図を用いて詳細に説明する。
本発明の洗浄装置１０は、図１に示されているように、循環利用される洗浄液に含まれる塵片（パーティクル）の量を測定する第１のセンサ１１と、該第１のセンサ１１で測定された後の洗浄液が供給され、被洗浄物である半導体装置を洗浄するための洗浄槽１２と、該洗浄槽１２から排出された洗浄液に含まれるパーティクルの量を測定する第２のセンサ１３と、該センサで測定された洗浄液を廃棄または循環利用するための三方弁１４と、該三方弁１４の制御により循環利用すべき洗浄液を備蓄するタンク１５と、該タンク１５の洗浄液を圧送するためのポンプ１６と、該ポンプ１６により圧送される洗浄液に含まれるパーティクルを濾過するためのフィルタ１７と、該フィルタ１７を経た洗浄のパーティクルを希釈すべく新規な洗浄液を備蓄する洗浄液供給タンク１８とを備え、これらの各構成が循環パイプで接続されている。
更に本発明の洗浄装置１０は、第１のセンサ１１および第２のセンサ１３のそれぞれから出力される信号に基づいて洗浄処理の終了を判定する終了判定部２０を備える。
【００１５】
前記洗浄液は、例えば、商品名「ＳＴ−１０６」（東京応化工業株式会社製）などの薬液である。該薬液の温度を適宜調整する温度調整部を洗浄装置１０に設けることにより、洗浄効率の向上を図ることができる。
第１のセンサ１１および第２のセンサ１３は、共に所定量の洗浄液に含まれるパーティクルの量を測定し、測定量に対応させて電気的な信号で出力する機能を有しており、例えば洗浄液に含まれるパーティクル量の増加に伴い、出力する信号レベル（信号強度）が低減する。
洗浄槽１２は、洗浄液で洗浄すべき半導体装置を収容するための槽であり、収容する半導体装置の数は、一つでも複数でもよく、収容する半導体装置の一部、または全体が洗浄液に浸される。この洗浄槽１２内の洗浄液を流動させる流動部を洗浄槽１２に設けることにより、洗浄効果を向上させることができる。また、洗浄槽１２内に浸された半導体装置を揺動させる揺動部を洗浄槽１２に設けることにより、同様な効果を得ることができる。
洗浄槽１２は、前記した半導体装置を洗浄液に浸すバス式に限ることなく、洗浄液を半導体装置にスプレーするスプレー式でもよい。
【００１６】
フィルタ１７は、洗浄液で半導体装置を洗浄することにより、該半導体装置から剥離する付着物、つまりパターンニングで用いたレジスト片や、アッシングと称される灰化処理で生成される物質片などを除去する機能を有する。このフィルタ１７で除去しきれない微塵がパーティクルとして循環利用する洗浄液に含まれており、該パーティクルの量を示す信号が前記した第１のセンサ１１および第２のセンサ１３により出力される。
【００１７】
洗浄液供給タンク１８は新規な洗浄液を備蓄しており、該タンク１８の洗浄液をパーティクルを含む洗浄液に供給することにより、単位量あたりのパーティクル量を低減することができ、パーティクルで汚染された洗浄液の汚染状態を改善することができる。
タンク１５、ポンプ１６、フィルタ１７および洗浄液供給タンク１８のそれぞれは、洗浄液のパーティクル数をカウントする第１のセンサ１１から洗浄槽１２で洗浄された洗浄液のパーティクル数をカウントする第２のセンサ１３までの間以外であれば、循環利用のためのパイプ間の何れの箇所に配置してもよい。
終了判定部２０は、第１のセンサ１１から出力される信号強度と第２のセンサ１３から出力される信号強度との差を求める比較部２１と、該比較部２１で求めた信号強度の差が所定の閾値以下のとき、洗浄処理の終了と判定する判定部２２とで構成されている。
【００１８】
次に、本発明の洗浄装置１０の動作を説明する。
タンク１５に保持される循環利用される洗浄液が、ポンプ１６によりフィルタ１７を介して圧送される。このとき、圧送される洗浄液に洗浄液供給タンク１８で保持する新規な洗浄液が供給される。この供給される新規な洗浄液により、循環利用される洗浄液の汚染状態が改善、つまり単位量あたりに含まれるパーティクル量の濃度が希釈される。この循環利用される洗浄液に対し、第１のセンサ１１は該洗浄液に含まれるパーティクルを示す信号（パーティクルの量の増加に伴い信号強度が低減する信号）を終了判定部２０へ出力する。第１のセンサ１１を経た洗浄液は、被洗浄物としての半導体装置を収容した洗浄槽１２へ注がれる。洗浄槽１２に収容された半導体装置が洗浄液にさらされることにより、該半導体装置に付着する付着物が剥離する。剥離した付着物はパーティクルとして洗浄液に含まれており、該洗浄液が洗浄槽１２の排出口から排出され、第２のセンサ１３を介して三方弁１４に送られる。三方弁１４に送られた洗浄液は、該三方弁の制御により、廃棄処分されるべく廃液処理装置（図示せず）へ送られるか、もしくは再利用するためのタンク１５へ送られる。
第２のセンサ１３は、洗浄槽１２から排出された洗浄液に含まれるパーティクルの量を示す信号（パーティクル量の増加に伴い信号強度が低減する信号）を終了判定部２０へ出力する。
【００１９】
次に、第１のセンサ１１からの信号と第２のセンサ１３からの信号とを受ける終了判定部２０の動作を図２のフローと図３の信号強度を示すグラフとに沿って説明する。
終了判定部２０は、各センサ１１および１３からの信号を取得する（ステップＳ１１）。第１のセンサ１１からの信号強度を時系列に示すグラフが図３（ａ）に示されている。図３（ａ）のグラフに示されているように、該洗浄時間の経過に伴い、循環利用される洗浄液の信号強度が次第に低減した後、ある期間を過ぎると一定の強度を保持する。
【００２０】
一方、第２のセンサ１３からの信号強度を時系列に示すグラフが図３（ｂ）に示されている。図３（ｂ）のグラフに示されているように、洗浄時間の経過に伴い、図３（ａ）のグラフより急激に信号強度が低減する。これは、第１のセンサ１１からの信号は、循環利用される洗浄液をフィルタ１７で濾し、かつ新規な洗浄液で希釈した後のパーティクルの量を示しているのに対し、第２のセンサ１３からの信号は、濾過も希釈もされていない洗浄直後の洗浄液に含まれるパーティクルの量を示しているからである。また、図３（ｂ）のグラフが次第に上昇するのは、前回測定した単位量あたりのパーティクル量よりも、付着物が半導体装置から洗浄されつつも濾過され希釈されたことにより今回測定した単位量あたりのパーティクル量が低減したことにより、洗浄液の汚染状態が改善されているからである。この汚染状態が所定の状態まで改善されたところで希釈を中止すると、フィルタ１７の濾過規格よりも微細なパーティクルが含まれる洗浄液で洗浄処理が行われる。このとき、半導体装置から洗浄すべき付着物が取り除かれていれば、該洗浄液を循環利用しても、新たなパーティクルが発生しないので汚染状態が変化することがない。よって、単位量あたりのパーティクル量が一定となり、第２のセンサ１３からの信号強度は一定の値となる。
【００２１】
受信した信号が、終了判定部２０の比較部２１へ送られ、該比較部２１は、第１のセンサ１１からの信号強度と第２のセンサ１３からの信号強度との差を算出する（ステップＳ１２）。この算出結果を時間経過で示すグラフが図３（ｃ）に示されている。
求めた信号強度の差が比較部２１から判定部２２へ送られ、該判定部２２は、図３（ｃ）のａ′に示されているように、求めた信号強度の差と予め保持する閾値とを比較し、信号強度差が閾値以下であるか否かを判定し（ステップＳ１３）、この判定で信号強度差が閾値以下であるとき、図３（ｃ）のｂ′に示す時間で洗浄処理の終了と判断する（ステップＳ１４）。一方、判定部２２は、求めた差が所定の閾値以上のとき、洗浄処理の継続と判断する（ステップＳ１４）。
判定部２２での判定結果が図示しない制御部に送られ、該制御部は判定結果に基づいて洗浄処理の継続制御か洗浄処理の終了制御かの何れか一方の制御を行う。
【００２２】
本発明の洗浄装置１０によれば、洗浄液で半導体装置を洗浄する前後で、該洗浄液に含まれるパーティクルの量を示す信号の差を求め、求めた差が所定の閾値以下であるとき、洗浄処理の終了と判定することから、使用する洗浄液の成分や、洗浄液の温度毎にサンプルを用意して洗浄処理の終了を見極めるための実験を行う必要がないことから、経済的であり効率的である。
【００２３】
〈具体例２〉
具体例１では、閾値を用いて終了判定を行ったが、閾値を用いず終了判定を行う具体例２の洗浄装置３０を説明する。
具体例２の洗浄装置３０の構成は、図４に示されているように、具体例１と同じ第１のセンサ１１と、洗浄槽１２と、第２のセンサ１３と、三方弁１４と、タンク１５と、ポンプ１６と、フィルタ１７と、洗浄液供給タンク１８と、具体例１の終了判定部２０に代わる終了判定部３１とで構成されている。
終了判定部３１の構成以外は、前記した具体例１と同じであることから、同じ構成の説明は割愛し、具体例２の特徴である終了判定部３１を説明する。
【００２４】
具体例２の終了判定部３１は、第１のセンサ１１からの信号強度と第２のセンサ１３からの信号強度との差を求める比較部３２と、該比較部３２で求めた差に変化が見られないとき、洗浄処理の終了と判定する判定部３３とを備える。
比較部３２は、前記した具体例１と同じ機能であり、図３（ａ）のグラフで示される信号強度と、図３（ｂ）のグラフで示される信号強度と差を算出し、図３（ｃ）のグラフで示される算出結果が判定部３３へ出力される。
判定部３３は、比較部３２からの差に対する時間変化を求める。すなわち、所定の時間Ｔ１における信号強度をＤ１、そこからΔＴ時間経過した信号強度をＤ２とすると、ΔＴでの信号強度の変化量ｄＤ１は、次の式で表すことができる。
ｄＤ１＝（Ｄ２−Ｄ１）／（ΔＴ）
【００２５】
ｄＤ１の値は、ΔＴ時間における信号強度差の変化量を示しており、ｄＤ１が大きければ、ΔＴ時間における信号強度差の変化量が大きくなり、ｄＤ１が小さければ、ΔＴ時間における信号強度差の変化量が小さい。判定部３３は、この変化量が０のとき、つまり信号強度差の変化がなくなったとき、洗浄処理の終了と判定する。すなわち、図７のグラフに示すように、第１のセンサ１１から出力するパーティクルの量を示す信号強度と、第２のセンサ１３から出力するパーティクルの量を示す信号強度との差に変化が見られないとき、洗浄処理の終了（図７のｂ′に対応）と判定する。
【００２６】
前記した具体例２の洗浄装置３０によれば、洗浄液で半導体装置を洗浄する前後で、該洗浄液に含まれるパーティクルの量を示す信号の差を求め、求めた差に変化が見られないとき、洗浄処理の終了と判定することから、付着物の量、付着物の成分、洗浄液の成分、洗浄液の温度、および洗浄物の個数など多種多様な条件毎にサンプルを用意して、洗浄処理の終了を見極めるための実験を行う必要がなく、経済的かつ効率的である。
【００２７】
〈具体例３〉
前記した具体例の第１のセンサ１１および第２のセンサ１３は、洗浄液に含まれる単位量あたりのパーティクル量を示す信号を出力したが、これに代えて例えば、洗浄液の過酸化水素水の濃度、つまりｐＨ値を示す信号を出力するセンサを用いる構成であってもよい。
例えば、半導体装置に付着する付着物が鉄であり、洗浄液が硫酸であるとき、鉄は硫酸と反応する。この時の反応式は、以下のように書き表すことができる。
Ｆｅ＋Ｈ２ＳＯ４（液中では、２Ｈ＋＋ＳＯ４ −２） → ＦｅＳＯ４＋Ｈ２
つまり、鉄と硫酸が反応した場合、水素が発生し、液中のＨ＋濃度（ｐＨ）が減少する。
従って、洗浄前のｐＨ値を示す信号強度と洗浄後のｐＨ値を示す信号強度との差を求め、該信号強度差が所定の閾値以下のとき、または該信号強度差に変化が見られないとき、洗浄処理の終了と判断する。これにより、多くのサンプルを用意して実験を行い、洗浄処理の終了を見極める必要がなく、実験のための費用と時間とを低減することができ、経済的であり効率的である。
【００２８】
〈具体例４〉
更に、前記したｐＨ値を示す信号に基づいて終了を判定する以外に、洗浄液の成分を示す信号に基づいて、洗浄処理の終了を判定してもよい。洗浄液の成分を検出するセンサが特開平６−３３１５４１号公報に開示されている。該センサは、洗浄液に照射した光源の透過光強度信号から各波長の光の吸光度を演算するとともに、演算した各波長の光の吸光度と多量解析法により予め求めた検量線式に基づいて洗浄液の成分を測定する。具体例４の洗浄装置は、被洗浄物を洗浄する前の洗浄液の成分を測定する第１のセンサと、洗浄した後の洗浄液の成分を検出する第２のセンサとの光源を共用する測定装置４０を備えることを特徴とする。
測定装置４０以外の構成は、前記した具体例と同じであることからその説明を割愛し、本発明の測定装置４０の特徴を示すブロック図を用いて、該測定装置を説明する。
【００２９】
測定装置４０は、図５に示されているように第１のセンサ４１と、第２のセンサ４２と、各センサ４１および４２に供給する光源を発生する光源部４３と、該光源部４３からの光源を第１のセンサ４１および第２のセンサ４２で共用するための共用部４４とを備える。光源部４３からの光源の光路４６は、プリズムやミラーや光ファイバーなどにより形成され、該光路４６が光源部４３からの光を各センサに設けられた受光部４７もしくは４８に向かって定められている。
受光部４７および４８は、光源が洗浄液を透過する吸光度を測定し、その測定値を図示しない演算部に出力する。測定値に基づいて演算部は演算を行い、演算結果を洗浄液の成分を示す信号として前記した具体例の終了判定部へ出力する。
【００３０】
共用部４４は、光源部４３からの光、つまり光路が第１のセンサ４１の受光部４７もしくは第２のセンサ４２の受光部４８の何れか一方へ向かうように選択的に切り替えるべく、例えば光路を制御可能なミラーやプリズムなどにより光の反射角度を調整したり、光源を受け入れた光ファイバーの出力端を、何れか一方の受光部へ光路が向かうように向きを変えたりする機能を有する。これにより、第１のセンサ４１の受光部４７、もしくは第２のセンサ４２の受光部４８へ光路を選択的に変更することができることから、センサ毎に光源部を設ける必要がなく、測定装置４０の簡素化を図ることができる。
更に、第１のセンサ４１および第２のセンサ４２は同じ光源を用いて測定を行うことから、光源の違いで生じる光強度の差を補正する必要がなく、洗浄前の洗浄液と洗浄後の洗浄液との成分差を正確に測定することができる。
【００３１】
前記したように、第１のセンサ４１と第２のセンサ４２で光源を共有する共用部４４を設けた測定装置を洗浄装置に備えることにより、洗浄前の洗浄液と洗浄後の洗浄液との成分差を正確に測定することができることから、該測定結果に基づいて終了判定を正確に行うことができる。
【００３２】
〈具体例５〉
次に、光源を共用する共用部４４に代えて光源を均等に分配する分配部５１を設けた測定装置５０を図を用いて説明する。
測定装置５０は、図６に示されているように、第１のセンサ４１と、第２のセンサ４２と、各センサ４１および４２に供給する光源を発生する光源部４３と、該光源部４３からの光源を第１のセンサ４１および第２のセンサ４２に分配するための分配部５１とを備える。
【００３３】
分配部５１は、光源部４３からの光源の光路４９を第１のセンサ４１の受光部４７と第２のセンサ４２の受光部とに分配すべく、例えば光ファイバー内を伝送する光を分岐するためのプリズムや、半透過型プリズムに照射されて分岐した光の光路を変えるためのミラーなどで構成される。
分配部５１は、光源部４３からの光源の光路４９上に設けられており、分配部５１は、前記光源を均等に分配し、図６に示されているように分配された一方の光路４９′を第１のセンサ４１の受光部４７へ向かって定め、分配された他方の光路４９″を第２のセンサ４２の受光部４８へ向かって定める。
これにより、センサ毎に光源部を設けなくてもよく、測定装置４０の簡素化を図ることができる。また、光源の違いで生じる光強度の差を補正する必要がなく、洗浄前の洗浄液と洗浄後の洗浄液との成分差を正確に測定することができる。更に、光源からの光を分光することにより、各センサ４１および４２に継続的に光源を供給することができることから、連続的に洗浄液の成分を測定することができる。
【００３４】
前記したように、第１のセンサ４１および第２のセンサ４２へ光源を均等に分配する分配部５１を設けた測定装置を洗浄装置に備えることにより、洗浄前の洗浄液と洗浄後の洗浄液との成分差を正確かつ連続的に測定することができることから、該測定結果に基づいて終了判定を正確、かつ速やかに行うことができる。
【００３５】
前記した具体例の各センサから出力される信号強度は、図３（ａ）および図３（ｂ）に示したように、洗浄液の汚染状態の悪化に伴って信号強度が低減する例で説明したが、これに限ることなく、例えば図８（ａ）および図８（ｂ）に示すように、各センサは、汚染状態の悪化に伴って信号強度が増大するような信号を出力してもよく、該各センサからの信号を受ける終了判定部の比較部は、図８（ｃ）に示されているように、汚染状態の悪化に伴って増大する信号強度に基づいて、その差を取得してもよい。
【００３６】
【発明の効果】
本発明の洗浄終了判定方法および洗浄装置によれば、被洗浄物に付着する付着物を洗浄する前の洗浄液の汚染状態を示す信号と、洗浄後の洗浄液の汚染状態を示す信号との差を求め、求めた差が所定の閾値以下のとき、もしくは求めた差に変化が見られないとき、洗浄処理の終了と判定することにより、様々な条件を再現するための多くのサンプルを用意して実験を行い、洗浄処理の終了を見極める必要がないことから、実験のための費用と時間とを低減することができ、経済的かつ作業効率を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】具体例１の洗浄装置を示すブロック図である。
【図２】終了判定部の動作フローを示す図である。
【図３】（ａ）第１のセンサから出力される信号強度を示すグラフである。
（ｂ）第２のセンサから出力される信号強度を示すグラフである。
（ｃ）信号強度差の時間変化を示すグラフである。
【図４】具体例２の洗浄装置を示すブロック図である。
【図５】具体例４の測定装置の特徴を示すブロック図である。
【図６】具体例５の測定装置の特徴を示すブロック図である。
【図７】信号強度差の時間微分を示すグラフである。
【図８】（ａ）汚染状態の悪化に伴って信号強度が増大する第１のセンサから出力される信号強度を示すグラフである。
（ｂ）汚染状態の悪化に伴って信号強度が増大する第２のセンサから出力される信号強度を示すグラフである。
（ｃ）汚染状態の悪化に伴って信号強度が増大する信号強度の差を時間変化と共に示したグラフである。
【符号の説明】
１０ 洗浄装置
１１ 第１のセンサ
１２ 洗浄槽
１３ 第２のセンサ
１４ 三方弁
１５ タンク
１６ ポンプ
１７ フィルタ
１８ 洗浄液供給タンク
２０ 終了判定部
２１ 比較部
２２ 判定部
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置の製造において付着する付着物を洗浄する洗浄処理に関し、特に洗浄処理の洗浄終了判定方法と洗浄装置とに関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体集積回路や液晶表示回路などの半導体装置の製造工程で、パターン加工を施すべくレジストを用いたエッチング処理や、アッシングと称される灰化処理などで前記半導体装置（以降、単に被洗浄物と称す）に付着する付着物を洗浄する方法が特許文献１、特許文献２および特許文献３に開示されている。
特許文献１は、洗浄液で被洗浄物を洗浄することで発生する気体の濃度を測定し、該測定値と所定の値とを比較判定することにより洗浄処理の終了を判断することを開示しており、また特許文献２は循環利用する洗浄液で被洗浄物を洗浄し、被洗浄物から剥離した付着物の粒子数をカウントし、該カウント値と所定の値とを比較判定することにより、洗浄処理の終了を判断することを開示している。
【０００３】
更に、特許文献３は洗浄機能を有する気体を用いて被洗浄物を洗浄することで生じる過酸化水素濃度を測定し、該測定値と所定の値とを比較することにより、洗浄処理の終了を判定することを開示している。
【０００４】
【特許文献１】
特開平６−１６８９２９号公報
【特許文献２】
特開平１０−３２１５８９号公報
【特許文献３】
特開平８−２３６４９４号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、前記した洗浄処理における終了の判定方法は、測定値と、所定の値つまり洗浄終了のための基準値とを比較判定することにより洗浄処理の終了を判断する。
従って、前記基準値は、例えば付着物の量、付着物の成分、洗浄液の成分、洗浄液の温度および一括的に洗浄する被洗浄物の個数など、多種多様な条件に基づいて決定する必要があることから、様々な条件毎に基準値を決定するための多くのサンプルを用いて洗浄処理の終了を見極める実験を繰り返す必要があった。
【０００６】
従って、本発明の目的は、実験を繰り返すことなく洗浄処理の終了を見極め得る洗浄終了判定方法と、該洗浄終了判定方法を採用した洗浄装置とを提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、以上の点を解決するために、次の構成を採用する。
本発明の洗浄終了判定方法は、循環利用する前記洗浄液を用いて被洗浄物に付着する付着物を取り除く洗浄処理の終了を判定する方法であって、前記被洗浄物を洗浄液により洗浄する前後の該洗浄液の汚染状態の差を取得すること、取得した差が所定の閾値以下のとき、洗浄処理の終了と判定することを特徴とする。
【０００８】
本発明の洗浄終了判定方法は、循環利用する洗浄液を用いて被洗浄物に付着する付着物を取り除く洗浄処理の終了を判定する方法であって、前記被洗浄物を前記洗浄液により洗浄する前後の該洗浄液の汚染状態の差を取得すること、取得した差に変化が見られないとき、洗浄処理の終了と判定することを特徴とする。
【０００９】
前記汚染状態は、前記洗浄液に含まれる残渣物の量であることを特徴とする。
前記汚染状態は、前記洗浄液のｐＨ値であることを特徴とする。
前記汚染状態は、前記洗浄液の成分比であることを特徴とする。
【００１０】
本発明の洗浄装置は、循環利用する洗浄液を用いて、被洗浄物に付着する付着物を取り除く洗浄装置であって、前記被洗浄物を洗浄する前の該洗浄液の汚染状態を示す信号を生成する第１のセンサと、前記被洗浄物を洗浄した後の該洗浄液の汚染状態を示す信号を生成する第２のセンサと、前記第１のセンサからの信号と前記第２のセンサからの信号との差を求め、求めた差が所定の閾値以下のとき、洗浄処理の終了と判定する終了判定部と、を備えることを特徴とする。
【００１１】
本発明の洗浄装置は、循環利用する洗浄液を用いて、被洗浄物に付着する付着物を取り除く洗浄装置であって、前記被洗浄物を洗浄する前の該洗浄液の汚染状態を示す信号を出力する第１のセンサと、前記被洗浄物を洗浄した液の該洗浄液の汚染状態を示す信号を出力する第２のセンサと、前記第１のセンサからの信号と前記第２のセンサからの信号との差を求め、求めた差に変化が見られないとき、洗浄処理の終了と判定する終了判定部と、を備えることを特徴とする。
【００１２】
前記第１のセンサおよび前記第２のセンサは、前記洗浄液に含まれる残渣物の量を示す信号を出力することを特徴とする。
前記第１のセンサおよび前記第２のセンサは、前記洗浄液のｐＨ値を示す信号を出力することを特徴とする。
前記第１のセンサおよび前記第２のセンサは、前記洗浄液の成分比を示す信号を出力することを特徴とする。
【００１３】
前記第１のセンサおよび前記第２のセンサは、光源からの光の強さに基づいて汚染状態を示す信号を出力する測定装置であって、該測定装置は、前記光源を前記第１のセンサと前記第２のセンサとに共用するための光源共用部を備えることを特徴とする。
前記第１のセンサおよび前記第２のセンサは、光源からの光の強さに基づいて汚染状態を示す信号を出力する測定装置であって、該測定装置は、前記第１のセンサと前記第２のセンサとに前記光源を均等に分配する光源分配部を備えることを特徴とする。
【００１４】
【発明の実施の形態】
〈具体例１〉
以下、本発明の実施形態を図を用いて詳細に説明する。
本発明の洗浄装置１０は、図１に示されているように、循環利用される洗浄液に含まれる塵片（パーティクル）の量を測定する第１のセンサ１１と、該第１のセンサ１１で測定された後の洗浄液が供給され、被洗浄物である半導体装置を洗浄するための洗浄槽１２と、該洗浄槽１２から排出された洗浄液に含まれるパーティクルの量を測定する第２のセンサ１３と、該センサで測定された洗浄液を廃棄または循環利用するための三方弁１４と、該三方弁１４の制御により循環利用すべき洗浄液を備蓄するタンク１５と、該タンク１５の洗浄液を圧送するためのポンプ１６と、該ポンプ１６により圧送される洗浄液に含まれるパーティクルを濾過するためのフィルタ１７と、該フィルタ１７を経た洗浄のパーティクルを希釈すべく新規な洗浄液を備蓄する洗浄液供給タンク１８とを備え、これらの各構成が循環パイプで接続されている。
更に本発明の洗浄装置１０は、第１のセンサ１１および第２のセンサ１３のそれぞれから出力される信号に基づいて洗浄処理の終了を判定する終了判定部２０を備える。
【００１５】
前記洗浄液は、例えば、商品名「ＳＴ−１０６」（東京応化工業株式会社製）などの薬液である。該薬液の温度を適宜調整する温度調整部を洗浄装置１０に設けることにより、洗浄効率の向上を図ることができる。
第１のセンサ１１および第２のセンサ１３は、共に所定量の洗浄液に含まれるパーティクルの量を測定し、測定量に対応させて電気的な信号で出力する機能を有しており、例えば洗浄液に含まれるパーティクル量の増加に伴い、出力する信号レベル（信号強度）が低減する。
洗浄槽１２は、洗浄液で洗浄すべき半導体装置を収容するための槽であり、収容する半導体装置の数は、一つでも複数でもよく、収容する半導体装置の一部、または全体が洗浄液に浸される。この洗浄槽１２内の洗浄液を流動させる流動部を洗浄槽１２に設けることにより、洗浄効果を向上させることができる。また、洗浄槽１２内に浸された半導体装置を揺動させる揺動部を洗浄槽１２に設けることにより、同様な効果を得ることができる。
洗浄槽１２は、前記した半導体装置を洗浄液に浸すバス式に限ることなく、洗浄液を半導体装置にスプレーするスプレー式でもよい。
【００１６】
フィルタ１７は、洗浄液で半導体装置を洗浄することにより、該半導体装置から剥離する付着物、つまりパターンニングで用いたレジスト片や、アッシングと称される灰化処理で生成される物質片などを除去する機能を有する。このフィルタ１７で除去しきれない微塵がパーティクルとして循環利用する洗浄液に含まれており、該パーティクルの量を示す信号が前記した第１のセンサ１１および第２のセンサ１３により出力される。
【００１７】
洗浄液供給タンク１８は新規な洗浄液を備蓄しており、該タンク１８の洗浄液をパーティクルを含む洗浄液に供給することにより、単位量あたりのパーティクル量を低減することができ、パーティクルで汚染された洗浄液の汚染状態を改善することができる。
タンク１５、ポンプ１６、フィルタ１７および洗浄液供給タンク１８のそれぞれは、洗浄液のパーティクル数をカウントする第１のセンサ１１から洗浄槽１２で洗浄された洗浄液のパーティクル数をカウントする第２のセンサ１３までの間以外であれば、循環利用のためのパイプ間の何れの箇所に配置してもよい。
終了判定部２０は、第１のセンサ１１から出力される信号強度と第２のセンサ１３から出力される信号強度との差を求める比較部２１と、該比較部２１で求めた信号強度の差が所定の閾値以下のとき、洗浄処理の終了と判定する判定部２２とで構成されている。
【００１８】
次に、本発明の洗浄装置１０の動作を説明する。
タンク１５に保持される循環利用される洗浄液が、ポンプ１６によりフィルタ１７を介して圧送される。このとき、圧送される洗浄液に洗浄液供給タンク１８で保持する新規な洗浄液が供給される。この供給される新規な洗浄液により、循環利用される洗浄液の汚染状態が改善、つまり単位量あたりに含まれるパーティクル量の濃度が希釈される。この循環利用される洗浄液に対し、第１のセンサ１１は該洗浄液に含まれるパーティクルを示す信号（パーティクルの量の増加に伴い信号強度が低減する信号）を終了判定部２０へ出力する。第１のセンサ１１を経た洗浄液は、被洗浄物としての半導体装置を収容した洗浄槽１２へ注がれる。洗浄槽１２に収容された半導体装置が洗浄液にさらされることにより、該半導体装置に付着する付着物が剥離する。剥離した付着物はパーティクルとして洗浄液に含まれており、該洗浄液が洗浄槽１２の排出口から排出され、第２のセンサ１３を介して三方弁１４に送られる。三方弁１４に送られた洗浄液は、該三方弁の制御により、廃棄処分されるべく廃液処理装置（図示せず）へ送られるか、もしくは再利用するためのタンク１５へ送られる。
第２のセンサ１３は、洗浄槽１２から排出された洗浄液に含まれるパーティクルの量を示す信号（パーティクル量の増加に伴い信号強度が低減する信号）を終了判定部２０へ出力する。
【００１９】
次に、第１のセンサ１１からの信号と第２のセンサ１３からの信号とを受ける終了判定部２０の動作を図２のフローと図３の信号強度を示すグラフとに沿って説明する。
終了判定部２０は、各センサ１１および１３からの信号を取得する（ステップＳ１１）。第１のセンサ１１からの信号強度を時系列に示すグラフが図３（ａ）に示されている。図３（ａ）のグラフに示されているように、該洗浄時間の経過に伴い、循環利用される洗浄液の信号強度が次第に低減した後、ある期間を過ぎると一定の強度を保持する。
【００２０】
一方、第２のセンサ１３からの信号強度を時系列に示すグラフが図３（ｂ）に示されている。図３（ｂ）のグラフに示されているように、洗浄時間の経過に伴い、図３（ａ）のグラフより急激に信号強度が低減する。これは、第１のセンサ１１からの信号は、循環利用される洗浄液をフィルタ１７で濾し、かつ新規な洗浄液で希釈した後のパーティクルの量を示しているのに対し、第２のセンサ１３からの信号は、濾過も希釈もされていない洗浄直後の洗浄液に含まれるパーティクルの量を示しているからである。また、図３（ｂ）のグラフが次第に上昇するのは、前回測定した単位量あたりのパーティクル量よりも、付着物が半導体装置から洗浄されつつも濾過され希釈されたことにより今回測定した単位量あたりのパーティクル量が低減したことにより、洗浄液の汚染状態が改善されているからである。この汚染状態が所定の状態まで改善されたところで希釈を中止すると、フィルタ１７の濾過規格よりも微細なパーティクルが含まれる洗浄液で洗浄処理が行われる。このとき、半導体装置から洗浄すべき付着物が取り除かれていれば、該洗浄液を循環利用しても、新たなパーティクルが発生しないので汚染状態が変化することがない。よって、単位量あたりのパーティクル量が一定となり、第２のセンサ１３からの信号強度は一定の値となる。
【００２１】
受信した信号が、終了判定部２０の比較部２１へ送られ、該比較部２１は、第１のセンサ１１からの信号強度と第２のセンサ１３からの信号強度との差を算出する（ステップＳ１２）。この算出結果を時間経過で示すグラフが図３（ｃ）に示されている。
求めた信号強度の差が比較部２１から判定部２２へ送られ、該判定部２２は、図３（ｃ）のａ′に示されているように、求めた信号強度の差と予め保持する閾値とを比較し、信号強度差が閾値以下であるか否かを判定し（ステップＳ１３）、この判定で信号強度差が閾値以下であるとき、図３（ｃ）のｂ′に示す時間で洗浄処理の終了と判断する（ステップＳ１４）。一方、判定部２２は、求めた差が所定の閾値以上のとき、洗浄処理の継続と判断する（ステップＳ１４）。
判定部２２での判定結果が図示しない制御部に送られ、該制御部は判定結果に基づいて洗浄処理の継続制御か洗浄処理の終了制御かの何れか一方の制御を行う。
【００２２】
本発明の洗浄装置１０によれば、洗浄液で半導体装置を洗浄する前後で、該洗浄液に含まれるパーティクルの量を示す信号の差を求め、求めた差が所定の閾値以下であるとき、洗浄処理の終了と判定することから、使用する洗浄液の成分や、洗浄液の温度毎にサンプルを用意して洗浄処理の終了を見極めるための実験を行う必要がないことから、経済的であり効率的である。
【００２３】
〈具体例２〉
具体例１では、閾値を用いて終了判定を行ったが、閾値を用いず終了判定を行う具体例２の洗浄装置３０を説明する。
具体例２の洗浄装置３０の構成は、図４に示されているように、具体例１と同じ第１のセンサ１１と、洗浄槽１２と、第２のセンサ１３と、三方弁１４と、タンク１５と、ポンプ１６と、フィルタ１７と、洗浄液供給タンク１８と、具体例１の終了判定部２０に代わる終了判定部３１とで構成されている。
終了判定部３１の構成以外は、前記した具体例１と同じであることから、同じ構成の説明は割愛し、具体例２の特徴である終了判定部３１を説明する。
【００２４】
具体例２の終了判定部３１は、第１のセンサ１１からの信号強度と第２のセンサ１３からの信号強度との差を求める比較部３２と、該比較部３２で求めた差に変化が見られないとき、洗浄処理の終了と判定する判定部３３とを備える。
比較部３２は、前記した具体例１と同じ機能であり、図３（ａ）のグラフで示される信号強度と、図３（ｂ）のグラフで示される信号強度と差を算出し、図３（ｃ）のグラフで示される算出結果が判定部３３へ出力される。
判定部３３は、比較部３２からの差に対する時間変化を求める。すなわち、所定の時間Ｔ１における信号強度をＤ１、そこからΔＴ時間経過した信号強度をＤ２とすると、ΔＴでの信号強度の変化量ｄＤ１は、次の式で表すことができる。
ｄＤ１＝（Ｄ２−Ｄ１）／（ΔＴ）
【００２５】
ｄＤ１の値は、ΔＴ時間における信号強度差の変化量を示しており、ｄＤ１が大きければ、ΔＴ時間における信号強度差の変化量が大きくなり、ｄＤ１が小さければ、ΔＴ時間における信号強度差の変化量が小さい。判定部３３は、この変化量が０のとき、つまり信号強度差の変化がなくなったとき、洗浄処理の終了と判定する。すなわち、図７のグラフに示すように、第１のセンサ１１から出力するパーティクルの量を示す信号強度と、第２のセンサ１３から出力するパーティクルの量を示す信号強度との差に変化が見られないとき、洗浄処理の終了（図７のｂ′に対応）と判定する。
【００２６】
前記した具体例２の洗浄装置３０によれば、洗浄液で半導体装置を洗浄する前後で、該洗浄液に含まれるパーティクルの量を示す信号の差を求め、求めた差に変化が見られないとき、洗浄処理の終了と判定することから、付着物の量、付着物の成分、洗浄液の成分、洗浄液の温度、および洗浄物の個数など多種多様な条件毎にサンプルを用意して、洗浄処理の終了を見極めるための実験を行う必要がなく、経済的かつ効率的である。
【００２７】
〈具体例３〉
前記した具体例の第１のセンサ１１および第２のセンサ１３は、洗浄液に含まれる単位量あたりのパーティクル量を示す信号を出力したが、これに代えて例えば、洗浄液の過酸化水素水の濃度、つまりｐＨ値を示す信号を出力するセンサを用いる構成であってもよい。
例えば、半導体装置に付着する付着物が鉄であり、洗浄液が硫酸であるとき、鉄は硫酸と反応する。この時の反応式は、以下のように書き表すことができる。
Ｆｅ＋Ｈ２ＳＯ４（液中では、２Ｈ＋＋ＳＯ４ −２） → ＦｅＳＯ４＋Ｈ２
つまり、鉄と硫酸が反応した場合、水素が発生し、液中のＨ＋濃度（ｐＨ）が減少する。
従って、洗浄前のｐＨ値を示す信号強度と洗浄後のｐＨ値を示す信号強度との差を求め、該信号強度差が所定の閾値以下のとき、または該信号強度差に変化が見られないとき、洗浄処理の終了と判断する。これにより、多くのサンプルを用意して実験を行い、洗浄処理の終了を見極める必要がなく、実験のための費用と時間とを低減することができ、経済的であり効率的である。
【００２８】
〈具体例４〉
更に、前記したｐＨ値を示す信号に基づいて終了を判定する以外に、洗浄液の成分を示す信号に基づいて、洗浄処理の終了を判定してもよい。洗浄液の成分を検出するセンサが特開平６−３３１５４１号公報に開示されている。該センサは、洗浄液に照射した光源の透過光強度信号から各波長の光の吸光度を演算するとともに、演算した各波長の光の吸光度と多量解析法により予め求めた検量線式に基づいて洗浄液の成分を測定する。具体例４の洗浄装置は、被洗浄物を洗浄する前の洗浄液の成分を測定する第１のセンサと、洗浄した後の洗浄液の成分を検出する第２のセンサとの光源を共用する測定装置４０を備えることを特徴とする。
測定装置４０以外の構成は、前記した具体例と同じであることからその説明を割愛し、本発明の測定装置４０の特徴を示すブロック図を用いて、該測定装置を説明する。
【００２９】
測定装置４０は、図５に示されているように第１のセンサ４１と、第２のセンサ４２と、各センサ４１および４２に供給する光源を発生する光源部４３と、該光源部４３からの光源を第１のセンサ４１および第２のセンサ４２で共用するための共用部４４とを備える。光源部４３からの光源の光路４６は、プリズムやミラーや光ファイバーなどにより形成され、該光路４６が光源部４３からの光を各センサに設けられた受光部４７もしくは４８に向かって定められている。
受光部４７および４８は、光源が洗浄液を透過する吸光度を測定し、その測定値を図示しない演算部に出力する。測定値に基づいて演算部は演算を行い、演算結果を洗浄液の成分を示す信号として前記した具体例の終了判定部へ出力する。
【００３０】
共用部４４は、光源部４３からの光、つまり光路が第１のセンサ４１の受光部４７もしくは第２のセンサ４２の受光部４８の何れか一方へ向かうように選択的に切り替えるべく、例えば光路を制御可能なミラーやプリズムなどにより光の反射角度を調整したり、光源を受け入れた光ファイバーの出力端を、何れか一方の受光部へ光路が向かうように向きを変えたりする機能を有する。これにより、第１のセンサ４１の受光部４７、もしくは第２のセンサ４２の受光部４８へ光路を選択的に変更することができることから、センサ毎に光源部を設ける必要がなく、測定装置４０の簡素化を図ることができる。
更に、第１のセンサ４１および第２のセンサ４２は同じ光源を用いて測定を行うことから、光源の違いで生じる光強度の差を補正する必要がなく、洗浄前の洗浄液と洗浄後の洗浄液との成分差を正確に測定することができる。
【００３１】
前記したように、第１のセンサ４１と第２のセンサ４２で光源を共有する共用部４４を設けた測定装置を洗浄装置に備えることにより、洗浄前の洗浄液と洗浄後の洗浄液との成分差を正確に測定することができることから、該測定結果に基づいて終了判定を正確に行うことができる。
【００３２】
〈具体例５〉
次に、光源を共用する共用部４４に代えて光源を均等に分配する分配部５１を設けた測定装置５０を図を用いて説明する。
測定装置５０は、図６に示されているように、第１のセンサ４１と、第２のセンサ４２と、各センサ４１および４２に供給する光源を発生する光源部４３と、該光源部４３からの光源を第１のセンサ４１および第２のセンサ４２に分配するための分配部５１とを備える。
【００３３】
分配部５１は、光源部４３からの光源の光路４９を第１のセンサ４１の受光部４７と第２のセンサ４２の受光部とに分配すべく、例えば光ファイバー内を伝送する光を分岐するためのプリズムや、半透過型プリズムに照射されて分岐した光の光路を変えるためのミラーなどで構成される。
分配部５１は、光源部４３からの光源の光路４９上に設けられており、分配部５１は、前記光源を均等に分配し、図６に示されているように分配された一方の光路４９′を第１のセンサ４１の受光部４７へ向かって定め、分配された他方の光路４９″を第２のセンサ４２の受光部４８へ向かって定める。
これにより、センサ毎に光源部を設けなくてもよく、測定装置４０の簡素化を図ることができる。また、光源の違いで生じる光強度の差を補正する必要がなく、洗浄前の洗浄液と洗浄後の洗浄液との成分差を正確に測定することができる。更に、光源からの光を分光することにより、各センサ４１および４２に継続的に光源を供給することができることから、連続的に洗浄液の成分を測定することができる。
【００３４】
前記したように、第１のセンサ４１および第２のセンサ４２へ光源を均等に分配する分配部５１を設けた測定装置を洗浄装置に備えることにより、洗浄前の洗浄液と洗浄後の洗浄液との成分差を正確かつ連続的に測定することができることから、該測定結果に基づいて終了判定を正確、かつ速やかに行うことができる。
【００３５】
前記した具体例の各センサから出力される信号強度は、図３（ａ）および図３（ｂ）に示したように、洗浄液の汚染状態の悪化に伴って信号強度が低減する例で説明したが、これに限ることなく、例えば図８（ａ）および図８（ｂ）に示すように、各センサは、汚染状態の悪化に伴って信号強度が増大するような信号を出力してもよく、該各センサからの信号を受ける終了判定部の比較部は、図８（ｃ）に示されているように、汚染状態の悪化に伴って増大する信号強度に基づいて、その差を取得してもよい。
【００３６】
【発明の効果】
本発明の洗浄終了判定方法および洗浄装置によれば、被洗浄物に付着する付着物を洗浄する前の洗浄液の汚染状態を示す信号と、洗浄後の洗浄液の汚染状態を示す信号との差を求め、求めた差が所定の閾値以下のとき、もしくは求めた差に変化が見られないとき、洗浄処理の終了と判定することにより、様々な条件を再現するための多くのサンプルを用意して実験を行い、洗浄処理の終了を見極める必要がないことから、実験のための費用と時間とを低減することができ、経済的かつ作業効率を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】具体例１の洗浄装置を示すブロック図である。
【図２】終了判定部の動作フローを示す図である。
【図３】（ａ）第１のセンサから出力される信号強度を示すグラフである。
（ｂ）第２のセンサから出力される信号強度を示すグラフである。
（ｃ）信号強度差の時間変化を示すグラフである。
【図４】具体例２の洗浄装置を示すブロック図である。
【図５】具体例４の測定装置の特徴を示すブロック図である。
【図６】具体例５の測定装置の特徴を示すブロック図である。
【図７】信号強度差の時間微分を示すグラフである。
【図８】（ａ）汚染状態の悪化に伴って信号強度が増大する第１のセンサから出力される信号強度を示すグラフである。
（ｂ）汚染状態の悪化に伴って信号強度が増大する第２のセンサから出力される信号強度を示すグラフである。
（ｃ）汚染状態の悪化に伴って信号強度が増大する信号強度の差を時間変化と共に示したグラフである。
【符号の説明】
１０ 洗浄装置
１１ 第１のセンサ
１２ 洗浄槽
１３ 第２のセンサ
１４ 三方弁
１５ タンク
１６ ポンプ
１７ フィルタ
１８ 洗浄液供給タンク
２０ 終了判定部
２１ 比較部
２２ 判定部
Claims (12)
- 循環利用する洗浄液を用いて被洗浄物に付着する付着物を取り除く洗浄処理の終了を判定する方法において、
前記被洗浄物を前記洗浄液により洗浄する前後の該洗浄液の汚染状態の差を取得すること、
取得した差が所定の閾値以下のとき、洗浄処理の終了と判定することを特徴とする洗浄終了判定方法。 - 循環利用する洗浄液を用いて被洗浄物に付着する付着物を取り除く洗浄処理の終了を判定する方法において、
前記被洗浄物を前記洗浄液により洗浄する前後の該洗浄液の汚染状態の差を取得すること、
取得した差に変化が見られないとき、洗浄処理の終了と判定することを特徴とする洗浄終了判定方法。 - 前記汚染状態は、前記洗浄液に含まれる残渣物の量であることを特徴とする請求項１および請求項２記載の洗浄終了判定方法。
- 前記汚染状態は、前記洗浄液のｐＨ値であることを特徴とする請求項１および請求項２記載の洗浄終了判定方法。
- 前記汚染状態は、前記洗浄液の成分比であることを特徴とする請求項１および請求項２記載の洗浄終了判定方法。
- 循環利用する洗浄液を用いて、被洗浄物に付着する付着物を取り除く洗浄装置において、
前記被洗浄物を洗浄する前の該洗浄液の汚染状態を示す信号を生成する第１のセンサと、
前記被洗浄物を洗浄した後の該洗浄液の汚染状態を示す信号を生成する第２のセンサと、
前記第１のセンサからの信号と前記第２のセンサからの信号との差を求め、求めた差が所定の閾値以下のとき、洗浄処理の終了と判定する終了判定部と、を備えることを特徴とする洗浄装置。 - 循環利用する洗浄液を用いて、被洗浄物に付着する付着物を取り除く洗浄装置において、
前記被洗浄物を洗浄する前の該洗浄液の汚染状態を示す信号を出力する第１のセンサと、
前記被洗浄物を洗浄した液の該洗浄液の汚染状態を示す信号を出力する第２のセンサと、
前記第１のセンサからの信号と前記第２のセンサからの信号との差を求め、求めた差に変化が見られないとき、洗浄処理の終了と判定する終了判定部と、を備えることを特徴とする洗浄装置。 - 前記第１のセンサおよび前記第２のセンサは、前記洗浄液に含まれる残渣物の量を示す信号を出力することを特徴とする請求項６および請求項７記載の洗浄装置。
- 前記第１のセンサおよび前記第２のセンサは、前記洗浄液のｐＨ値を示す信号を出力することを特徴とする請求項６および請求項７記載の洗浄装置。
- 前記第１のセンサおよび前記第２のセンサは、前記洗浄液の成分比を示す信号を出力することを特徴とする請求項６および請求項７記載の洗浄装置。
- 前記第１のセンサおよび前記第２のセンサは、光源からの光の強さに基づいて汚染状態を示す信号を出力する測定装置であって、
該測定装置は、前記光源を前記第１のセンサと前記第２のセンサとに共用するための光源共用部を備えることを特徴とする請求項６および請求項７記載の洗浄装置。 - 前記第１のセンサおよび前記第２のセンサは、光源からの光の強さに基づいて汚染状態を示す信号を出力する測定装置であって、
該測定装置は、前記第１のセンサと前記第２のセンサとに前記光源を均等に分配する光源分配部を備えることを特徴とする請求項６および請求項７記載の洗浄装置。
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