JP2004337858A - 洗浄ノズル及び基板洗浄装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 洗浄ノズル7の混合部29の内壁部は平滑化処理が施された石英等で構成されて、石英は硬い材料であるので、混合部29における内壁部の削れを抑制することができるとともに、洗浄ノズル7からのパーティクルの発塵をも抑制することができる。さらに洗浄ノズル7は、ガス導入管15bの外側を、供給管15aが取り囲む構造で構成されているので、混合部29で気体Gと洗浄ノズル7の内壁面との接触部分が低減されて、パーティクルの発塵の抑制をより一層図ることができる。
【選択図】 図2
Description
T.Ohmori,et al.:Ultra Clean Technology 1,35(1990) S.A.Hoening:SEMI Tech. Symp. Proc.,Tokyo,p.G-I-I(1985) W.McDormotto,et al.:Microcontamination 9,33(1991)
前記混合部によって形成された前記ミストを吐出する洗浄ノズルであって、
前記洗浄ノズルの少なくとも混合部が石英であることを特徴とする。
前記混合部によって形成された前記ミストを吐出する洗浄ノズルであって、
前記洗浄ノズルの少なくとも混合部の内壁面が石英であることを特徴とする。
前記洗浄ノズルの少なくとも混合部の内壁面は、平滑度として表面の凹凸が0.3μm以下の範囲である滑らかな表面を有することを特徴とする。
前記洗浄ノズルの少なくとも混合部の内壁面は、平滑度として表面の凹凸が0.1μm以下の範囲である滑らかな表面を有することを特徴とする。
前記混合部は、気体を導入するガス導入管の外側を、洗浄液を供給する供給管が取り囲む構造で構成されていることを特徴とする。
前記洗浄ノズルの少なくとも混合部の内壁面は、エッチング処理で平滑化されたものであることを特徴とする。
前記混合部は、気体を導入するガス導入管、および洗浄液を供給する供給管から構成され、
前記ガス導入管は、円筒形の形状で構成されていることを特徴とする。
前記洗浄ノズルの本体は、円筒形の形状で構成されていることを特徴とする。
前記混合部は、気体を導入するガス導入管、および洗浄液を供給する供給管から構成され、
前記ガス導入管は、前記混合部まで直線状に延びていることを特徴とする。
前記混合部よりも前記ミストの吐出方向の下流側に先端部を有し、
少なくとも前記先端部の内壁面が滑らかな表面を有することを特徴とする。
請求項1から請求項10のいずれかに記載の洗浄ノズルを備えることを特徴とする。
S … 洗浄液
G … 気体
M … ミスト
1 … スピンチャック
3 … 回転軸
5 … 電動モータ
7 … 洗浄ノズル
15a … 供給管
15b … ガス導入管
17 … コントローラ
19 … 制御弁
21 … 超純水供給装置
23 … 制御弁
25 … 圧力調整器
27 … 気体供給装置
29 … 混合部
33 … 先端部
Claims (11)
- 洗浄液と加圧された気体とを混合してミストを形成する混合部を備え、
前記混合部によって形成された前記ミストを吐出する洗浄ノズルであって、
前記洗浄ノズルの少なくとも混合部が石英であることを特徴とする洗浄ノズル。 - 洗浄液と加圧された気体とを混合してミストを形成する混合部を備え、
前記混合部によって形成された前記ミストを吐出する洗浄ノズルであって、
前記洗浄ノズルの少なくとも混合部の内壁面が石英であることを特徴とする洗浄ノズル。 - 請求項2に記載の洗浄ノズルにおいて、
前記洗浄ノズルの少なくとも混合部の内壁面は、平滑度として表面の凹凸が0.3μm以下の範囲である滑らかな表面を有することを特徴とする洗浄ノズル。 - 請求項2に記載の洗浄ノズルにおいて、
前記洗浄ノズルの少なくとも混合部の内壁面は、平滑度として表面の凹凸が0.1μm以下の範囲である滑らかな表面を有することを特徴とする洗浄ノズル。 - 請求項1から請求項4のいずれかに記載の洗浄ノズルにおいて、
前記混合部は、気体を導入するガス導入管の外側を、洗浄液を供給する供給管が取り囲む構造で構成されていることを特徴とする洗浄ノズル。 - 請求項2から請求項4のいずれかに記載の洗浄ノズルにおいて、
前記洗浄ノズルの少なくとも混合部の内壁面は、エッチング処理で平滑化されたものであることを特徴とする洗浄ノズル。 - 請求項1から請求項6のいずれかに記載の洗浄ノズルにおいて、
前記混合部は、気体を導入するガス導入管、および洗浄液を供給する供給管から構成され、
前記ガス導入管は、円筒形の形状で構成されていることを特徴とする洗浄ノズル。 - 請求項1から請求項7のいずれかに記載の洗浄ノズルにおいて、
前記洗浄ノズルの本体は、円筒形の形状で構成されていることを特徴とする洗浄ノズル。 - 請求項1から請求項8のいずれかに記載の洗浄ノズルにおいて、
前記混合部は、気体を導入するガス導入管、および洗浄液を供給する供給管から構成され、
前記ガス導入管は、前記混合部まで直線状に延びていることを特徴とする洗浄ノズル。 - 請求項1から請求項9のいずれかに記載の洗浄ノズルにおいて、
前記混合部よりも前記ミストの吐出方向の下流側に先端部を有し、
少なくとも前記先端部の内壁面が滑らかな表面を有することを特徴とする洗浄ノズル。 - ミスト化した洗浄液を基板に供給して洗浄処理を施す基板洗浄装置において、
請求項1から請求項10のいずれかに記載の洗浄ノズルを備えることを特徴とする基板洗浄装置。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8026175B2 (en) | 2006-03-29 | 2011-09-27 | Fujitsu Semiconductor Limited | Cleaning apparatus of semiconductor substrate and method of manufacturing semiconductor device |
JP2019160958A (ja) * | 2018-03-12 | 2019-09-19 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
KR20210082852A (ko) * | 2019-12-26 | 2021-07-06 | 한희석 | 세척장치 |
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2004
- 2004-07-08 JP JP2004201984A patent/JP2004337858A/ja active Pending
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JP2019160958A (ja) * | 2018-03-12 | 2019-09-19 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
KR20210082852A (ko) * | 2019-12-26 | 2021-07-06 | 한희석 | 세척장치 |
KR102349123B1 (ko) * | 2019-12-26 | 2022-01-07 | 한희석 | 세척장치 |
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