JP2004310057A - 反射透過型の液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 本発明は、反射透過型の液晶表示装置において、反射部と透過部の境界に形成される段差により発生する転傾欠陥発生領域を縮小して、高開口率、高輝度の液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 本発明による反射透過型の液晶表示装置は、透過部と反射部で同一な光学的効果を得るために、透過部に対応してアレイ基板または、カラーフィルター基板に段差を形成する構造において、光漏れが発生する透過部と反射部の境界領域を実質的に小さくするために、ゲート配線とデータ配線とによって定義される画素領域は、四角形に内接する多角形の形状を有していてその周りの長さが前記四角形の周りの長さより小さい透過部及び反射部を含むことを特徴とする。
【選択図】 図10
Description
図示したように、反射透過型の液晶表示パネル10は、液晶層95を間にして、多数の画素Pが定義された上部基板80と下部基板60が離隔して構成される。
前記上部基板80の一面には、ブラックマトリックス84が形成されていて、ブラックマトリックス84の上部にはサブカラーフィルターを含むカラーフィルター層82が形成されていて、カラーフィルター層82の上部には共通電極86が形成されている。
前記下部基板60の画素領域Pには、反射電極(または、反射板)64と透明電極66とで構成された半透過電極と、スイッチング素子Tが構成されて、さらに、画素領域Pの一側と、これに平行ではない他側を通るゲート配線61とデータ配線62が形成される。
前記画素領域Pは、透過部Dと反射部Cとで定義されて、前記反射電極64は反射部Cに対応して構成されて、前記透明電極66は透過部Dに対応して構成される。この時、前記反射電極64は反射率の優れたアルミニウム(Al)または、アルミニウム合金で構成されて、前記透明電極66はインジウム−スズ−オキサイド(ITO)のように光の透過率が比較的に優れた透明導電性金属で構成される。
図2は、図1のII−II線に沿って切断して、従来例1による反射透過型の液晶表示装置の構成を概略的に示した断面図である。
図示したように、液晶層95を間にして、第1基板60と第2基板80が離隔して合着されて、第2基板80及び向かい合う第1基板60には、多数の画素領域Pが定義されている。
前記第1基板60に定義された画素領域Pの一側と、これと平行ではない他側を通り、相互に垂直に交差するゲート配線(図1の61)とデータ配線62が形成される。
前記第1基板60と向かい合う第2基板80の一面には、赤色、緑色、青色のサブカラーフィルター(図示せず、82a、82b)を含むカラーフィルター層82と、各サブカラーフィルター(図示せず、82a、82b)の間にブラックマトリックス84が構成されて、前記サブカラーフィルター(図示せず、82a、82b)とブラックマトリックス84の下部には、透明な共通電極86が構成される。
反射部Cに対応して反射電極64を形成して、透過部Dに対応して透明電極66を形成するが、一般的には、透過ホールHを含む反射電極64を透明電極66の上部または、下部に構成して、透過部Dと反射部Cが定義される。
この時、反射透過型の液晶表示装置で考慮すべきことは、透過部Dと反射部Cでの、色差を減らすと同時に、透過部Dと反射部Cでの光学的効果を同一にすることである。
従って、前記カラーフィルターを2回通過するので、液晶セルギャップの厚さをdとすると光は2dの距離を通過することになる。
すなわち、反射部Cの液晶層95を通過する時、光の位相遅延値は2d・Δn(nは液晶の屈折率)であって、透過部Dの液晶層95を通過する時、光の位相遅延値はd・Δnである。
結果的に、前記反射部Cと透過部Dに対応して光の位相遅延値が異なるので、反射部Cと透過部Dで同一な光学的効果を得れない。
これを解決するための方法として、従来は、前記透過部Dに対応して段差を形成して、透過部Dと反射部Cに対応する液晶セルの厚さの比が2d:dになる構成が提案された。
図3は、図1のII−II線に沿って切断して、従来例2による反射透過型の液晶表示装置の構成を概略的に示した断面図である。
図示したように、液晶層95を間にして、第1基板60と第2基板80が離隔して合着されて、第2基板80及び向かい合う第1基板60には、多数の画素領域Pが定義される。
前記画素領域Pの一側と、これと平行ではない他側を通り、相互に垂直に交差するゲート配線(図示せず)とデータ配線62が形成される。
反射部Cに対応して反射電極64を形成して、透過部Dに対応して透明電極66を形成するが、一般的には、透過ホールHを含む反射電極64を透明電極66の上部または、下部に構成して、透過部Dと反射部Cが定義される。
前記透過部Dと反射部Cに対応する液晶層(液晶セル)の厚さを2d:dの比で構成すると、透過部Dと反射部Cでの位相遅延値は何れも2d・Δnになる。
ところが、前記従来例2の構成は、透過部Dと反射部Cの境界に対応して光漏れ現象が発生する短所がある。
図4は、従来による反射透過型の液晶表示装置用アレイ基板を構成する一画素を拡大して平面図であって、図5は、図4のV−V線に沿って切断した断面図である。
図示したように、基板60上に一方向へとゲート配線61が延長形成されて、これと垂直に交差する方向へデータ配線62が形成される。
前記ゲート配線61とデータ配線62の交差で定義される領域を画素領域Pと称して、ゲート配線61とデータ配線62の交差地点には、ゲート電極70、アクティブ層72、ソース電極74、ドレイン電極76を含む薄膜トランジスタTが構成される。
前記画素領域Pは、反射部Cと透過部Dで定義されて、前記反射部Cに対応して反射電極64を構成し、透過部Dに対応して透明電極66が構成される。
この時、図5に示したように、転傾欠陥領域が発生した境界領域Fは、段差の傾いている部分F1と、これから所定の角に曲げて延長された一部F2に該当する。
結果的に、3.2μmの幅で境界領域Fが示される。
従って、境界領域Fの面積Aは、A≒2X( L+W)X3.2μm2で計算される。(この場合、Lは透過部Dの長さ、Wは透過部Dの幅を示す。図4を参照)前記境界領域Fは、透過率が大きくなればなるほど大きくなり、10%に近い開口率の損失を誘発する。
従って、開口率及び転傾欠陥の減小を誘発する。
本発明の第2構成は、前記透過部の一部境界が、前記ゲート配線または、データ配線の上部に位置するようにして、透過部の周りの段差により発生する転傾欠陥発生領域を遮蔽することを特徴とする。
前述した第1構成及び第2構成は、段差を含む透過部と反射部の境界領域を縮小できて、それによる転傾欠陥発生領域を縮小し、開口率を改善すると同時に、高輝度及び転傾欠陥が具現できる長所がある。
前記薄膜トランジスタは、前記ゲート配線に連結されたゲート電極、アクティブ層、前記データ配線に連結されたソース電極、前記透明電極に連結されたドレイン電極を含む。前記反射部に対応する液晶層の厚さと、前記透過部に対応する液晶層の厚さの比は約1:2である。
図示したように、基板100上に一方向へ延長されたゲート配線102と、これと垂直に交差して画素領域Pを定義するデータ配線104を形成する。
この時、前記透過部Dは、従来の四角形の形ではない三角形の形で構成し、前記透過部Dと反射部Cとの境界領域Fが構成する長さがK+L+Wになるようにする。
これは、従来の2(W+L)より短い長さなので、従来と比べて反射部Cと透過部Dとの境界領域Fの段差により発生する転傾欠陥(disclination)が小さくなるため、それだけ表示領域の拡大ができるようになる。
図7は、実施例1の例2による反射透過型の液晶表示装置用アレイ基板の一画素を示した拡大平面図である。
図示したように、基板100上に一方向へ延長されたゲート配線102と、これとは垂直に交差して画素領域Pを定義するデータ配線104を形成する。
前記ゲート配線102とデータ配線104の交差地点には、前記ゲート配線102に連結されたゲート電極106と、前記データ配線104に連結されたソース電極110と、これとは離隔して構成されたドレイン電極112と、前記ゲート電極106とソース電極110及びドレイン電極112の間に構成されたアクティブ層108を含む薄膜トランジスタTを形成する。
この時、前記透過部Dと反射部Cとの境界領域Fは、前述した例1とは異なって、透過部Dの面積を広げるため、透過部Dの三角形の形のうち、一辺Kに当たる部分を丸く構成する。
図8は、本発明の実施例1の例3による反射透過型の液晶表示装置用アレイ基板の一画素を示した拡大平面図である。
図示したように、基板100上に一方向へ延長されたゲート配線102と、これとは垂直に交差して画素領域Pを定義するデータ配線104を形成する。
前記ゲート配線102とデータ配線104の交差地点には、前記ゲート配線102に連結されたゲート電極106と、前記データ配線104に連結されたソース電極110と、これとは離隔して構成されたドレイン電極112と、前記ゲート電極106とソース電極110及びドレイン電極112の間に構成されたアクティブ層108を含む薄膜トランジスタTを形成する。
この時、前記透過部Dの形を台形で構成する。
すなわち、透過部Dの縦の第1辺U1の長さは、従来と同一に構成するが、これとは平行な第2辺U2は、これよりは短く形成する。
このような構成または、従来の長方形の形と比べて、透過部Dと反射部Cとの境界領域(F;正確には境界の長さ)を縮められる構成であるので、転傾欠陥の発生領域を縮小する効果がある。
図9は、本発明の実施例2による反射透過型の液晶表示装置用アレイ基板の一画素を示した拡大平面図である。
この時、前記ゲート配線202とデータ配線214が垂直に交差して定義される領域を画素Pと称する。
前記ゲート配線202とデータ配線214の交差地点には、ゲート配線202に連結されるゲート電極204と、ゲート電極204の上部のアクティブ層208と、アクティブ層208の上部に位置して、前記データ配線214に連結されたソース電極216と、これとは所定間隔離隔されたドレイン電極218を含む薄膜トランジスタTを形成する。
前記画素Pは、透過部Dと反射部Cとで定義して、透過部Dに対応して透明電極226を構成し、反射部Cに対応して反射板(反射電極)222を構成する。
前述した構成は、前記透過部Dの片側境界が画素領域Pの上側を通るゲート配線202の上部に位置した構成を示したが、前記透過部Dは画素領域Pの下側を通るゲート配線202の上部に位置して構成してもよい。
図10は、図9のX−X線に沿って切断して、実施例2の第1構成によるアレイ基板を示した断面図である(図10の構成は、透過部に対応して下部基板に段差を構成した構造を示した)。
図示したように、液晶層230を間にして、画素Pが定義された第1基板(下部基板)200と第2基板(上部基板)300を離隔して構成する。
前記カラーフィルター層304の下部には、透明な共通電極306を形成する。
前記ゲート配線202とデータ配線214の交差地点には、ゲート電極204、アクティブ層208、オーミックコンタクト層210、ソース電極216及びドレイン電極218を含む薄膜トランジスタTを形成する。
前記薄膜トランジスタTが形成された基板200全面には、ベンゾシクロブテン(BCB)とアクリル系樹脂(Acryl)を含む透明な有機絶縁物質を塗布して第1保護膜220を形成する。
この時、前記ドレイン電極218に対して、前記透明電極226または、反射板(反射電極)222が接触するように構成したり、透明電極226及び反射板(反射電極)222が両方とも接触するように構成する。
この時、エッチングホール232の一辺が前記ゲート配線202の上部を通るようにして、エッチングホール232の段差Fにより発生する光漏れが 前記ゲート配線202により遮断されるようにする。
従って、遮断された段差程度の開口率が改善される長所がある。
この時、前記エッチングホール232を形成する工程で、前記ゲート絶縁膜206は、前記ゲート配線202をカバーして、前記反射板222を形成する工程の際、反射板222とゲート配線202が接触不良を防ぐ役割をする。
一般的に、前記保護膜220は、前記段差形成のため、多数のコーティング工程を通じて、望む高さに形成される。
このような複雑さを減らすため、前記下部基板200ではなく、上部基板300に段差を形成する構造を提案する。
図11は、図9のX−X線に沿って切断して、実施例2の第2構成によるアレイ基板を示した断面図である(図11の構成は、透過部に対応する上部基板に段差を構成した構造を示した)。
前記ゲート配線202とデータ配線214の交差地点には、ゲート電極204、アクティブ層208、オーミックコンタクト層210、ソース電極216及びドレイン電極218を含む薄膜トランジスタTを形成する。
前記薄膜トランジスタTが形成された基板200全面には、ベンゾシクロブテン(BCB)とアクリル系樹脂(Acryl)を含む透明な有機絶縁物質を塗布して第1保護膜220を形成する。
この時、前記ドレイン電極218に対して、前記透明電極226または、反射板(反射電極)222が接触するように構成したり、透明電極226及び反射板(反射電極)222が両方とも接触するように構成する。
前記バッファ層302により透過部Dと反射部Cに対応するカラーフィルター層304の厚さの比が2t:tの比で構成されて、これにより、透過部Dと反射部Cに対応する液晶セル230の厚さの比も2d:dの比で構成される。
このような構成は、前記透過部Dと反射部Cに対応する液晶セル230の厚さを異なるように構成して、透過部Dと反射部Cに対応して光学的効果を同一にすると同時に、カラーフィルターの色差を同一にする。
前述した構成のうち、特徴的なことは、前記透過部Dと反射部Cとの境界領域Fの一辺(すなわち、バッファ層の一辺)が前記ゲート配線202の上部を通るように構成する。
このような構成は、前記透過部Dと反射部Cとの境界領域Fの一部の段差が前記ゲート配線202により遮蔽されるので、段差により発生する転傾欠陥を減らすことができる。
図12は、本発明の実施例3による反射透過型の液晶表示装置用アレイ基板の構成を概略的に示した平面図である。
図示したように、基板200上に一方向へとゲート配線202を形成して、ゲート配線202と垂直にデータ配線214を形成する。
前記ゲート配線202とデータ配線214の交差地点には、ゲート配線202に連結されるゲート電極204と、ゲート電極204の上部のアクティブ層208と、アクティブ層208の上部に位置して、前記データ配線214と連結されたソース電極216と、これとは所定間隔離隔されたドレイン電極218を含む薄膜トランジスタTを形成する。
前記画素Pは、透過部Dと反射部Cとで定義して、透過部Dに対応して透明電極226を構成し、反射部Cに対応して反射板(反射電極)222を構成する。
このような構成は、従来より透過部Dと反射部Cとの境界領域Fの段差による転傾欠陥の発生領域を実質的に小さくして、開口領域を拡大できる長所がある。
図13は、図12のXI−XI線に沿って切断して、本発明の実施例3の第1構成によるアレイ基板を示した断面図である(図13は、エッチングホールを形成した後、保護層をさらに追加することを特徴とする)。
前記第1基板200の向かい合う一面には、ゲート配線(図示せず)とデータ配線214がゲート絶縁膜206を間にして垂直に(平面的な観点)交差するように形成する。
前記薄膜トランジスタTが形成された基板200全面には、ベンゾシクロブテン(BCB)とアクリル系樹脂(Acryl)を含む有機絶縁物質グループのうちから選択された一つをコーティングして第1保護膜220を形成する。
前記第1保護膜220をエッチングしたエッチングホール232を前記透過部Dに対応して構成する。
この時、エッチングホール232の片側段差Fは、前記データ配線214の上部に位置させる。
これをカバーするために、前記エッチングホール232が形成された第1保護膜220の上部に追加的に第2保護膜221をさらに構成する。
前記第2保護膜221は、前述した構成のように、第1保護膜と同一物質で形成するか、窒化シリコン(SiNX)と酸化シリコン(SiO2)を含む無機絶縁物質グループのうちから選択された一つで形成する。
前述した構成は、前記エッチングホール232が形成された第1保護膜220の上部に追加的に第2保護膜221をさらに形成して、前記エッチングホール232により露出されたデータ配線214が前記反射板222と接触する不良を防ぐ長所がある。
図14は、図12のXI−XI線に沿って切断して、本発明の実施例2の第2構成によるアレイ基板を示した断面図である(図14は、エッチングホールを形成する前、保護層をさらに追加することを特徴とする)。
前記第1基板200の向かい合う一面には、ゲート配線(図示せず)とデータ配線214がゲート絶縁膜206を間にして垂直に(平面的な観点)交差するように形成する。
前記ゲート配線(図12の202)とデータ配線(図12の214)の交差地点には、前記ゲート配線(図示せず)と連結されたゲート電極204、アクティブ層208、オーミックコンタクト層210と、前記データ配線214に連結されたソース電極216と、これとは所定間隔離隔されたドレイン電極218を含む薄膜トランジスタTを形成する。
前記第1保護膜219の上部に、ベンゾシクロブテン(BCB)とアクリル系樹脂(Acryl)を含む透明な有機絶縁物質を塗布して第2保護膜220を形成する。
前記第2保護膜220をエッチングして、透過部Dに対応するエッチングホール232を形成する。
前記第2保護膜220の上部の反射部Cに対応して反射板222を形成して、同反射板222の上部の透過分Dに対応して前記第3保護膜224を間にして透明電極226を構成する。
前述した構成は、前記エッチングホール232の一辺が前記データ配線214の上部を通るようにして、エッチングホール232の段差Fにより発生する光漏れが前記データ配線214により遮断されるようにする。
図15と図16に示したように、基板200の一方向へとゲート配線202を構成して、ゲート配線202と垂直に交差して画素Pを定義するデータ配線214を形成する。
前記ゲート配線202とデータ配線214の交差地点には、ゲート電極204、アクティブ層208、ソース電極216及びドレイン電極218を含む薄膜トランジスタTを構成する。
このような構成は、前述したように、前記透過部Dに対応してエッチングホール(図示せず)を形成したり、反射部Cに対応した上部基板(図示せず)にバッファ層(図示せず)を形成して、透過部Dと反射部Cに対応する液晶(図示せず)セルギャップ比が異なるように構成できる。
このような構成は、従来とは異なり前記四角形の形の透過部Dの枠領域Fのうち、一辺だけが前記反射部と境界を構成していて、枠領域Fの残りの三辺はゲート配線202及びデータ配線214の上部を通るように構成したために、透過部Dの枠領域Fの段差(下部基板の場合には、エッチングホールによる段差、上部基板の場合には、バッファ層の段差)により発生する転傾欠陥を著しく減らせる構成である。
図17と図18に示したように、基板200の一方向へとゲート配線202を構成して、ゲート配線202と垂直に交差して画素Pを定義するデータ配線214を構成する。
前記ゲート配線202とデータ配線214の交差地点には、ゲート電極204、アクティブ層208、ソース電極216及びドレイン電極218を含む薄膜トランジスタTを構成する。
このような構成は、前述したように、前記透過部Dに対応してエッチングホール(図示せず)を形成したり、反射部Cに対応した上部基板(図示せず)にバッファ層(図示せず)を形成して、透過部Dと反射部Cに対応する液晶(図示せず)セルギャップ比が異なるように構成できる。
このような構成において、図17は反射部Cが画素Pの左側に垂直に位置しており、図18は反射部Cの位置が画素Pの右側に垂直に位置することを示している。
202:ゲート配線
204:ゲート電極
208:アクティブ層
210:オーミックコンタクト層
214:データ配線
216:ソース電極
218:ドレイン電極
220:第1保護膜
222:反射板
224:第2保護膜
226:透明画素電極
232:エッチングホール
300:第2基板
304:カラーフィルター層
306:透明共通電極
Claims (20)
- 向かい合って離隔された第1基板及び第2基板と;
前記第1基板の内部面に形成されるゲート配線と;
前記ゲート配線と交差して画素領域を定義するデータ配線と;
前記ゲート配線とデータ配線に連結される薄膜トランジスタと;
前記薄膜トランジスタの上部に形成されて、前記透過部に対応するエッチングホールを有する保護膜と;
前記保護膜の上部に形成されて、前記反射部に対応する反射層と;
前記保護膜の上部に形成されて、前記画素領域に対応する透明電極と;
前記第2基板の内部面に構成されたカラーフィルター層と;
前記カラーフィルター層の下部に構成された共通電極と;
前記透明電極と共通電極の間に介在された液晶層と;を含んでなり、前記ゲート配線とデータ配線とによって定義される画素領域は、四角形に内接する多角形の形を有していてその周りの長さが前記四角形の周りの長さより小さい透過部及び反射部を含むことを特徴とする反射透過型の液晶表示装置。 - 前記透過部の面積は、前記四角形の面積の1/2より大きく、前記四角形の面積より小さいことを特徴とする請求項1に記載の反射透過型の液晶表示装置。
- 前記透過部は直角三角形または、台形のうちの一つの形であることを特徴とする請求項1に記載の反射透過型の液晶表示装置。
- 前記薄膜トランジスタは、前記ゲート配線に連結されたゲート電極、アクティブ層、前記データ配線に連結されたソース電極、前記透明電極に連結されたドレイン電極を含むことを特徴とする請求項1に記載の反射透過型の液晶表示装置。
- 向かい合って離隔された第1基板及び第2基板と;
前記第1基板の内部面に形成されるゲート配線と;
前記ゲート配線と交差して画素領域を定義するデータ配線と;
前記ゲート配線とデータ配線に連結される薄膜トランジスタと;
前記薄膜トランジスタの上部に形成されて、前記透過部に対応するエッチングホールを有する保護膜と;
前記保護膜の上部に形成されて、前記反射部に対応する反射層と;
前記保護膜の上部に形成されて、前記画素領域に対応する透明電極と;
前記第2基板の内部面に形成されて、前記反射部に対応するバッファ層と;
前記バッファ層の下部に構成されたカラーフィルター層と;
前記カラーフィルター層の下部に構成された共通電極と;
前記透明電極と共通電極の間に介在された液晶層と;を含んでなり、前記ゲート配線とデータ配線とによって定義される画素領域は、四角形に内接する多角形の形状を有していてその周りの長さが前記四角形の周りの長さより小さい透過部及び反射部を含むことを特徴とする反射透過型の液晶表示装置。 - 前記透過部の面積は、前記四角形の面積の1/2より大きく、前記四角形の面積より小さいことを特徴とする請求項5に記載の反射透過型の液晶表示装置。
- 前記透過部は直角三角形または、台形のうちの一つの形であることを特徴とする請求項5に記載の反射透過型の液晶表示装置。
- 前記薄膜トランジスタは、前記ゲート配線に連結されたゲート電極、アクティブ層、前記データ配線に連結されたソース電極、前記透明電極に連結されたドレイン電極を含むことを特徴とする請求項5に記載の反射透過型の液晶表示装置。
- 前記反射部に対応するカラーフィルター層の厚さと、前記透過部に対応するカラーフィルター層の厚さの比は約1:2であることを特徴とする請求項5に記載の反射透過型の液晶表示装置。
- 向かい合って離隔された第1基板及び第2基板と;
前記第1基板の内部面に形成される多数のゲート配線と;
前記多数のゲート配線と交差して、透過部及び反射部を含む画素領域を定義する多数のデータ配線と;
前記ゲート配線とデータ配線に連結される薄膜トランジスタと;
前記薄膜トランジスタの上部に形成されて、前記透過部に対応するエッチングホールを有する保護膜と;
前記保護膜の上部に形成されて、前記反射部に対応する反射層と;
前記保護膜の上部に形成されて、前記画素領域に対応する透明電極と;
前記第2基板の内部面に構成されたカラーフィルター層と;
前記カラーフィルター層の下部に構成された共通電極と;
前記透明電極と共通電極の間に介在された液晶層と;を含んでなり、前記ゲート配線とデータ配線とによって定義される画素領域に含まれる透過部と反射部の境界領域は、前記多数のゲート配線と前記多数のデータ配線のうちの一つと重なることを特徴とする反射透過型の液晶表示装置。 - 前記透過部は、第1辺ないし第4辺を含む四角形の形であって、前記第1辺及び第3辺は相互に平行であり、第2辺及び第4辺も相互に平行であり、前記第1辺はゲート配線と重なり、前記第2辺及び第4辺は前記データ配線と重なることを特徴とする請求項10に記載の反射透過型の液晶表示装置。
- 前記透過部は、第1辺ないし第4辺を含む四角形の形であって、前記第1辺及び第3辺は相互に平行であり、第2辺及び第4辺も相互に平行であり、前記第1辺はデータ配線と重なり、前記第2辺及び第4辺は前記ゲート配線と重なることを特徴とする請求項10に記載の反射透過型の液晶表示装置。
- 前記透過部は、第1辺ないし第4辺を含む四角形の形であって、前記第1辺及び第3辺は相互に平行であり、第2辺及び第4辺も相互に平行であり、前記第1辺はゲート配線と重なり、前記第2辺は前記データ配線と重なることを特徴とする請求項10に記載の反射透過型の液晶表示装置。
- 前記薄膜トランジスタは、前記ゲート配線に連結されたゲート電極、アクティブ層、前記データ配線に連結されたソース電極、前記透明電極に連結されたドレイン電極を含むことを特徴とする請求項10に記載の反射透過型の液晶表示装置。
- 向かい合って離隔された第1基板及び第2基板と;
前記第1基板の内部面に形成される多数のゲート配線と;
前記多数のゲート配線と交差して、透過部及び反射部を含む画素領域を定義する多数のデータ配線と;
前記ゲート配線とデータ配線に連結される薄膜トランジスタと;
前記薄膜トランジスタの上部に形成されて、前記透過部に対応するエッチングホールを有する保護膜と;
前記保護膜の上部に形成されて、前記反射部に対応する反射層と;
前記保護膜の上部に形成されて、前記画素領域に対応する透明電極と;
前記第2基板の内部面に形成されて、前記反射部に対応するバッファ層と;
前記バッファ層の下部に構成されたカラーフィルター層と;
前記カラーフィルター層の下部に構成された共通電極と;
前記透明電極と共通電極の間に介在された液晶層と;を含んでなり、前記ゲート配線とデータ配線とによって定義される画素領域に含まれる透過部と反射部の境界領域は、前記多数のゲート配線と前記多数のデータ配線のうちの一つと重なることを特徴とする反射透過型の液晶表示装置。 - 前記透過部は、第1辺ないし第4辺を含む四角形の形であって、前記第1辺及び第3辺は相互に平行であり、第2辺及び第4辺も相互に平行であり、前記第1辺はゲート配線と重なり、前記第2辺及び第4辺は前記データ配線と重なることを特徴とする請求項15に記載の反射透過型の液晶表示装置。
- 前記透過部は、第1辺ないし第4辺を含む四角形の形であって、前記第1辺及び第3辺は相互に平行であり、第2辺及び第4辺も相互に平行であり、前記第1辺はデータ配線と重なり、前記第2辺及び第4辺は前記ゲート配線と重なることを特徴とする請求項15に記載の反射透過型の液晶表示装置。
- 前記透過部は、第1辺ないし第4辺を含む四角形の形であって、前記第1辺及び第3辺は相互に平行であり、第2辺及び第4辺も相互に平行であり、前記第1辺はゲート配線と重なり、前記第2辺は前記データ配線と重なることを特徴とする請求項15に記載の反射透過型の液晶表示装置。
- 前記薄膜トランジスタは、前記ゲート配線に連結されたゲート電極、アクティブ層、前記データ配線に連結されたソース電極、前記透明電極に連結されたドレイン電極を含むことを特徴とする請求項15に記載の反射透過型の液晶表示装置。
- 前記反射部に対応するカラーフィルター層の厚さと、前記透過部に対応するカラーフィルター層の厚さの比は約1:2であることを特徴とする請求項15に記載の反射透過型の液晶表示装置。
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